JPH04280413A - アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 - Google Patents

アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法

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JPH04280413A
JPH04280413A JP3067870A JP6787091A JPH04280413A JP H04280413 A JPH04280413 A JP H04280413A JP 3067870 A JP3067870 A JP 3067870A JP 6787091 A JP6787091 A JP 6787091A JP H04280413 A JPH04280413 A JP H04280413A
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foil
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electrolytic capacitor
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Manabu Kazuhara
学 数原
Atsushi Koike
小池 厚
Kazuyuki Adachi
安達 和幸
Haruo Jinbo
神保 晴男
Eiji Endo
栄治 遠藤
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Asahi Glass Co Ltd
Elna Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアルミニウム電解コンデ
ンサ用電極箔の製造方法に関し、さらに詳しく言えば、
エッチング箔に良質な酸化皮膜を形成し、コンデンサの
陽極箔の単位面積当りの静電容量を増加させるようにし
たもので、特に低圧用に好適なアルミニウム電解コンデ
ンサ用電極箔の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、アルミニウム電解コンデンサは
、アルミニウム箔からなる陽極用電極箔と陰極用電極箔
とをセパレータを介して巻回してなるコンデンサ素子を
有し、同コンデンサ素子に電解液を含浸させ、外装ケー
ス内に封入した構造とされている。
【0003】ところで、陽極用電極箔はアルミニウム箔
の表面を粗面化して表面積を拡大するエッチング工程と
、同工程により得られたエッチング箔の表面に酸化皮膜
を形成する化成工程とを経て製造される。
【0004】上記エッチング工程において、アルミニウ
ム箔は塩化物を含む水溶液中でその表面が電気化学的に
溶解されて粗面化され、しかる後、硝酸、蓚酸、燐酸な
どにて脱塩素処理され、水洗後乾燥して巻き取られて次
の化成工程に移される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】陽極用電極箔の単位面
積当りの静電容量は、その値が大きい程、コンデンサ自
体を小型化することができるため、単位面積当りの静電
容量を増大させるための研究が種々行なわれている。
【0006】その方法としては、おおよそ次の2法が知
られている。すなわち、第1の方法はエッチング箔の表
面積の拡大率を大きくする方法であり、第2の方法は化
成によりエッチング箔上にムラのない均一な酸化アルミ
ニウム(Al2O3)の皮膜を形成させる方法である。
【0007】ここで、後者である第2の方法をさらに展
開すると、同法は(a)酸化アルミニウムの皮膜を効率
よく化成させることを目的とする方法と、(b)もっぱ
ら化成後の漏れ電流特性の向上を図ることを目的とする
方法とに分けられる。
【0008】上記(a)においては、100V以下の低
圧用電極の場合、エッチングの後処理もしくは化成の前
処理として、400〜600℃の大気中で数分間熱処理
してエッチング箔上に酸化皮膜を形成する熱酸化を行な
ってから、本化成するようにしている。
【0009】これに対して、上記(b)では例えば特開
昭62−17185号公報で説明されているように、エ
ッチング箔を燐酸を含む水溶液で処理し、次に高温にて
箔表面に熱酸化皮膜を形成した後、酸またはアルカリ溶
液にて処理し、その熱酸化皮膜の一部を残留させてから
化成するようにしている。
【0010】しかしながら、上記(a)(b)の方法で
は、ともに単位面積当りの静電容量をアップさせること
、および化成電力の低減化が未だ不十分である。
【0011】また、酸化アルミニウムの皮膜を均一に形
成するための他の方法として、中高圧用箔については化
成前に熱水処理することが行なわれているが、水和処理
の皮膜は一般に厚いため、同方法を低圧用箔に適用して
も静電容量が増大しないばかりか、却って箔強度の低下
が起こり好ましい結果が得られない。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来の欠点
を解消するためになされたもので、その構成上の特徴は
、アルミニウム箔の表面を粗面化し、脱塩素処理を行な
ったエッチング箔を、乾燥せずにそのままもしくは乾燥
させた後に、温水中に浸漬して水和処理を行ない、乾燥
させて箔表面の水分を除去した後、水和アルミナを熱分
解させた上で、上記エッチング箔の表面に酸化皮膜を形
成する化成処理を行なうことにある。
【0013】この場合、上記水和処理における温水温度
は40〜98℃、好ましくは60〜90℃であり、かつ
、その処理時間は0.3〜30分、好ましくは0.5〜
5分である。
【0014】また、上記熱分解の温度は230〜550
℃、好ましくは350〜500℃であり、かつ、その処
理時間は0.03〜20時間、好ましくは0.5〜15
時間とされる。
【0015】
【作用】温水中に浸漬させる水和処理により、アルミニ
ウム表面に水和アルミナ(水酸化アルミニウム)が形成
される。この水和アルミナは乾燥後に熱分解されること
により、良質の酸化アルミニウムに改質される。
【0016】そして、以後の通常の化成処理により、良
質な皮膜を有する複合酸化皮膜が形成される。
【0017】このように本発明によれば、予めエッチン
グ箔表面に良質な酸化アルミニウムが形成されているた
め、化成皮膜形成時の電力消費が低減される。
【0018】また、薄くて耐電圧を有する緻密な複合酸
化皮膜が形成されるため、単位面積当りの静電容量が増
大するとともに、コンデンサの駆動用電解液との反応が
非常に少なくなり、特に漏れ電流の安定したコンデンサ
が得られる。
【0019】
【実施例】以下、本発明の実施例およびそれと比較する
上での比較例について説明する。 《実施例1》(A)エッチング工程;純度99.9%、
厚み90μmのアルミニウム箔を塩酸10%、燐酸0.
5%および硝酸0.5%の水溶液からなる温度30℃の
エッチング液中に浸漬し、正弦波交流電流で電流密度0
.25A/平方cm、電気量120C/平方cmのエッ
チングを行なった。 (B)脱塩素処理;5%硝酸水溶液(液温40℃)中に
1分間浸漬した。 (C)温水処理;40℃の温水中に30分間浸漬した。 (D)熱処理;乾燥させて箔表面の水分を除去した後、
520℃の窒素ガス中で2時間熱処理した。 《実施例2》(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;50℃の温水中に15分間浸漬した。 (D)熱処理;乾燥させて箔表面の水分を除去した後、
400℃の窒素ガス中で12時間熱処理した。 《実施例3》(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;60℃の温水中に7分間浸漬した。 (D)熱処理;乾燥させて箔表面の水分を除去した後、
400℃の水素ガスと窒素ガスの混合ガス中で15時間
熱処理した。 《実施例4》(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;70℃の温水中に3分間浸漬した。 (D)熱処理;乾燥させて箔表面の水分を除去した後、
350℃のアルゴンガス中で15時間熱処理した。 《実施例5》(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;80℃の温水中に2分間浸漬した。 (D)熱処理;乾燥させて箔表面の水分を除去した後、
250℃の窒素ガスと酸素ガスの混合ガス中で20時間
熱処理した。 《実施例6》(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;80℃の温水中に2分間浸漬した。 (D)熱処理;乾燥させて箔表面の水分を除去した後、
250℃の窒素ガスと酸素ガスの混合ガス中で0.5時
間熱処理した。 《実施例7》(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;80℃の温水中に2分間浸漬した。 (D)熱処理;乾燥させて箔表面の水分を除去した後、
250℃の窒素ガスと酸素ガスの混合ガス中で0.03
時間熱処理した。 《実施例8》(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;90℃の温水中に1分間浸漬した。 (D)熱処理;乾燥させて箔表面の水分を除去した後、
450℃の大気中で15時間熱処理した。 《実施例9》(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;98℃の温水中に0.5分間浸漬した
。 (D)熱処理;乾燥させて箔表面の水分を除去した後、
500℃の大気中で4時間熱処理した。 〈比較例1〉(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;90℃の温水中に2分間浸漬した。 (D)熱処理;なし。 〈比較例2〉(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;なし。 (D)熱処理;なし。 〈比較例3〉(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)温水処理;なし。 (D)熱処理;500℃の窒素ガス中で4時間熱処理し
た。 〈比較例4〉(A)エッチング工程;実施例1に同じ。 (B)脱塩素処理;実施例1に同じ。 (C)燐酸処理;0.3%燐酸水溶液(液温40℃)に
1分間浸漬した。 (D)熱処理;600℃の大気中で1分間熱処理した。 (E)溶解処理;1%の水酸化ナトリウム水溶液(液温
25℃)に2分間浸漬した。
【0020】上記実施例1〜9および比較例1〜4で得
られた各エッチング箔を5%アジピン酸水溶液(液温8
5℃)中で35Vの化成電圧を印加して化成を行ない、
それらの単位面積当りの静電容量(μF/平方cm)と
、化成に要した電気量(クーロン/平方cm)を測定し
た結果を表1に示す。
【0021】次に、これらの各エッチング箔を陽極箔に
用い、セパレータを介して陰極箔とともに巻回した後、
電解液を含浸させ外装ケース内に封入して、定格25V
・1000μFのアルミニウム電解コンデンサを製作し
た。なお、電解液にはアジピン酸アンモニウム10%、
水10%、そしてエチレングリコール80%のものを用
いた。
【0022】このようにして製作した各コンデンサにつ
いて、85℃の高温貯蔵試験を1000時間行なった後
に漏れ電流(μA)を測定した。その結果を表1に併せ
て示す。
【0023】
【表1】
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
従来に比べて静電容量が約3〜20%高められる。また
、化成電力が低減できるとともに、漏れ電流が少なく、
しかもその特性の安定した電極箔が製造される。
【0025】したがって、アルミニウム電解コンデンサ
の小型化およびコストダウン、さらには長寿命化に寄与
するところ大である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】アルミニウム箔の表面を粗面化し、脱塩素
    処理を行なったエッチング箔を、温水中に浸漬して水和
    処理を行ない、乾燥させて箔表面の水分を除去した後、
    水和アルミナを熱分解させた上で、上記エッチング箔の
    表面に酸化皮膜を形成する化成処理を行なうことを特徴
    とするアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
  2. 【請求項2】上記水和処理における温水温度は40〜9
    8℃であり、かつ、その処理時間は0.3〜30分であ
    る請求項1に記載のアルミニウム電解コンデンサ用電極
    箔の製造方法。
  3. 【請求項3】上記熱分解の温度は230〜550℃であ
    り、かつ、その処理時間は0.03〜20時間である請
    求項1に記載のアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の
    製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022044932A1 (ja) * 2020-08-27 2022-03-03 パナソニックIpマネジメント株式会社 電解コンデンサ用電極箔、電解コンデンサ、電解コンデンサ用電極箔の製造方法および電解コンデンサの製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2022044932A1 (ja) * 2020-08-27 2022-03-03 パナソニックIpマネジメント株式会社 電解コンデンサ用電極箔、電解コンデンサ、電解コンデンサ用電極箔の製造方法および電解コンデンサの製造方法

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