JPH04278207A

JPH04278207A - 磁気ヘッド用部材

Info

Publication number: JPH04278207A
Application number: JP3990691A
Authority: JP
Inventors: Kumio Nako; 久美男名古; Hiroshi Sakakima; 博榊間; Keita Ihara; 井原　慶太
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1991-03-06
Filing date: 1991-03-06
Publication date: 1992-10-02

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気録画再生装置（Ｖ
ＴＲ）、磁気録音再生装置等の磁気記録再生装置におけ
る磁気ヘッドに用いられる磁気ヘッド用部材に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】近年の磁気記録分野における高密度記録
化の要求に対して、高保磁力媒体に対応した高性能磁気
ヘッドの開発が進められている。高密度記録を達成する
ためには、磁気ヘッドのトラック幅やギャップ長を極力
小さく設定し、高い飽和磁束密度と高透磁率を有する磁
気ヘッドを作製することが必要となってきた。

【０００３】このような要求に対し、バルク部材やリボ
ン薄帯から切削加工によってトラック幅を形成する場合
、狭トラックになるほど困難になるため、トラック幅相
当の厚さの軟磁性膜を基板上にスパッタ法あるいは蒸着
法により形成したトラック幅の狭い磁気ヘッドを作製す
る方法が提供されている。

【０００４】また、軟磁性膜としては、従来のパーマロ
イ、センダスト、Ｃｏ基非晶質材料では飽和磁束密度に
限界があるため、高飽和磁束密度を有する軟磁性膜の研
究開発が盛んに行なわれている。その一つとしてＦｅ−
Ｎ膜が研究されている。しかし、このＦｅ−Ｎ膜は３５
０℃以上の熱処理で軟磁気特性が急激に劣化し、軟磁気
特性の熱的安定性に課題があることが知られている。そ
こで、このＦｅ−Ｎ膜の熱安定性の向上を図る試みとし
て、Ｆｅ−Ｎ膜にＺｒ、Ｔｉを数原子％微量添加した膜
（日本応用磁気学会誌　　Ｖｏｌ．１４　　Ｎｏ．２　
　２５７−２６０（１９９０））、あるいは、Ｆｅ−Ｎ
膜にＺｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｎｂ等を添加した合金膜におい
て、特定の組成範囲で良好な軟磁気特性が得られること
が報告されている（特開平２−２７５６０５号公報）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、バルク材料
とは異なり、基板上に形成した薄膜である上記のような
Ｆｅ−Ｎ膜にＺｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｎｂ等を添加した合金
膜の軟磁気特性、およびその熱的安定性は、前記Ｚｒ、
Ｈｆ、Ｔｉ、Ｎｂ等の添加量の違いによる組成範囲で決
まるものではない。基板温度等の作製条件により、同一
組成の膜においても、膜構造が異なると、異なった磁気
特性を示し、再現性が得られないという問題を生じる。（軟磁性膜においては、同一組成の膜であっても、膜の
金属組織により異なった軟磁気特性を示すことは、セン
ダスト膜等では研究され、周知のことである。）また、
スパッタ法あるいは蒸着法により基板上に軟磁性膜を形
成する場合、軟磁性膜と基板の熱膨張係数の差に起因し
て軟磁性膜に内部応力が生じ、逆磁歪効果によって歪が
入り、これを磁気ヘッドとして使用する場合、磁気ヘッ
ドの出力特性を劣化させるという問題がある。また、同
じ原因で生じる軟磁性膜の内部応力により、以降の磁気
ヘッド加工工程に於ける基板間の接着、ガラスモールド
、ギャップ形成等を困難にしている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、前述の問題点
を解決し、磁気ヘッドとしたときに優れた出力特性を示
し、かつ磁気ヘッド加工工程を容易に出来る磁気ヘッド
用部材を提供するものである。本発明者は、各種基板と
該基板上に形成したＦｅ−Ｍ−Ｎ膜（ただし、Ｍは、Ｔ
ａ、Ｔａ−Ｚｒ、Ｔａ−Ｈｆ、Ｔａ−Ｎｂ、Ｎｂ、Ｎｂ
−Ｚｒ、Ｎｂ−Ｈｆ、Ｈｆ、Ｈｆ−Ｚｒである。）から
成る磁気ヘッド用部材について研究を行なったところ、
前記基板として熱膨張係数が１１０〜１３５×１０−７
／ｄｅｇの非磁性または磁性基板を、また、前記軟磁性
膜としてα−Ｆｅの微結晶とＭの窒化物微粒子（ただし
、Ｍは、Ｔａ、Ｔａ−Ｚｒ、Ｔａ−Ｈｆ、Ｔａ−Ｎｂ、
Ｎｂ、Ｎｂ−Ｚｒ、Ｎｂ−Ｈｆ、Ｈｆ、Ｈｆ−Ｚｒであ
る。）が混在した微細組織から成る複合材料であるとき
に、高飽和磁束密度と高透磁率を有し、かつ磁気ヘッド
加工工程における、磁気特性の劣化がなく、基板間の接
着、ガラスモールド、ギャップ形成等を容易にすること
が出来、磁気ヘッド加工工程に適した磁気ヘッド用部材
が得られるという事実を見いだし請求項１の発明に至っ
た。特に、α−Ｆｅの微結晶とＭの窒化物微粒子（ただ
し、Ｍは、Ｔａ、Ｔａ−Ｚｒ、Ｔａ−Ｈｆ、Ｔａ−Ｎｂ
、Ｎｂ、Ｎｂ−Ｚｒ、Ｎｂ−Ｈｆ、Ｈｆ、Ｈｆ−Ｚｒで
ある。）が混在した微細組織から成る軟磁性膜中のα−
ＦｅがＭまたは、Ｎ（窒素）あるいはＭの窒化物を固溶
し、Ｆｅの格子を膨張させた微結晶であるとき、更に優
れた軟磁気特性を呈するという事実を見いだし請求項２
の発明に至った。また、請求項１または２のいずれかに
記載のＦｅの微結晶の平均粒径が１００Å以下、Ｍの窒
化物微粒子の平均粒径が５０Å以下であるとき、更に優
れた軟磁気特性を呈するという事実を見いだし請求項３
の発明に至った。

【０００７】更に、請求項１〜３のいずれかに記載の軟
磁性膜に添加物元素としてＣｒ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｙ
、Ａｌ、Ｂ、Ｃｅ、Ｃｕ、Ｏ元素の少なくとも１種の元
素を０．１〜６原子％含む系の軟磁性膜は、更に優れた
耐食性、耐摩耗性と軟磁気特性の熱的安定性を併せ持つ
という事実を見いだし請求項４の発明に至った。

【０００８】また、請求項１〜４のいずれかに記載の軟
磁性膜の膜厚が０．２〜１０μｍであるとき、低周波か
ら高周波まで優れた透磁率を示す磁気ヘッド用部材が得
られるという事実を見いだし請求項５の発明に至った。更に、請求項１〜４のいずれかに記載の軟磁性膜がＳｉ
Ｏ２等の非磁性膜との積層構造から成り、前記非磁性膜
の各層の膜厚が数百〜数千Å、各層の軟磁性膜の膜厚が
０．２〜１０μｍであり、総膜厚１〜４０μｍであると
き高周波帯域で更に優れた高透磁率を示す磁気ヘッド用
部材が得られるという事実を見いだし請求項６の発明に
至った。また、基板としてフェライトを使用した請求項
１〜６に記載の磁気ヘッド用部材を用いた磁気ヘッドは
、優れた加工性とヘッド特性を示すことから請求項７の
発明に至った。

【０００９】

【作用】請求項１の発明の構成によれば、α−Ｆｅの微
結晶とＭの窒化物微粒子（ただし、ＭはＴａ、Ｔａ−Ｚ
ｒ、Ｔａ−Ｈｆ、Ｔａ−Ｎｂ、Ｎｂ、Ｎｂ−Ｚｒ、Ｎｂ
−Ｈｆ、Ｈｆ、Ｈｆ−Ｚｒである。）が混在した微細組
織から成る複合材料である軟磁性膜を熱膨張係数が１１
０〜１３５×１０−７／ｄｅｇの非磁性または磁性基板
上に形成した磁気ヘッド用部材であるから、高飽和磁束
密度と高透磁率を有し、かつ磁気ヘッド加工工程におけ
る、磁気特性の劣化がなく、基板間の接着、ガラスモー
ルド、ギャップ形成等を容易にすることが出来る。請求
項２の発明の構成によれば、α−Ｆｅの微結晶とＭの窒
化物微粒子（ただし、Ｍは、Ｔａ、Ｔａ−Ｚｒ、Ｔａ−
Ｈｆ、Ｔａ−Ｎｂ、Ｎｂ、Ｎｂ−Ｚｒ、Ｎｂ−Ｈｆ、Ｈ
ｆ、Ｈｆ−Ｚｒである。）が混在した微細組織から成る
軟磁性膜中のα−ＦｅがＭまたは、ＮあるいはＭの窒化
物を固溶し、Ｆｅの格子を膨張させた微結晶であるから
、更に優れた軟磁気特性を呈する磁気ヘッド用部材であ
る。請求項３の発明の構成によれば、請求項１または２
のいずれかに記載のＦｅの微結晶の平均粒径が１００Å
以下、Ｍの窒化物微粒子の平均粒径が５０Å以下である
から、特に優れた軟磁気特性を呈する磁気ヘッド用部材
である。請求項４の発明の構成によれば、請求項１〜３
のいずれかに記載の軟磁性膜に添加物元素としてＣｒ、
Ｒｕ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｙ、Ａｌ、Ｂ、Ｃｅ、Ｃｕ、Ｏ元素
の少なくとも１種の元素を０．１〜６原子％含む系の軟
磁性膜であるから、更に優れた耐食性、耐摩耗性と軟磁
気特性の熱的安定性を併せ持つことが出来る。また、請
求項５の発明の構成によれば、請求項１〜４のいずれか
に記載の軟磁性膜の膜厚が０．２〜１０μｍである磁気
ヘッド用部材であるから、低周波から高周波まで優れた
透磁率を呈することが出来る。請求項６の発明の構成に
よれば、請求項１〜４のいずれかに記載の軟磁性膜がＳ
ｉＯ２等の非磁性膜との積層構造から成り、前記非磁性
膜の各層の膜厚が数百〜数千Å、各層の軟磁性膜の膜厚
が０．２〜１０μｍであり、総膜厚１〜４０μｍである
から、高周波帯域で更に優れた高透磁率を示す磁気ヘッ
ド用部材である。請求項７の発明の構成によれば、請求
項１〜６のいずれかに記載の軟磁性膜が、フェライト基
板上に形成されたものであるから、ＭＩＧヘッド、フェ
ライトとの複合型ヘッド等に適した磁気ヘッド用部材で
ある。

【００１０】

【実施例】（実施例１）ＦｅＴａ（Ｆｅ８７原子％、Ｔ
ａ１３原子％）のターゲットを用い、Ａｒガス中にＮ２
ガスを導入し、Ｎ２分圧対全圧比（ＰＮ２／Ｐｔｏｔａ
ｌ）０〜１０％の範囲で反応性スパッタ法により、熱膨
張係数１１５×１０−７／ｄｅｇの非磁性セラミックス
基板上に膜厚２μｍの軟磁性膜を形成し、真空中、無磁
界中で５００℃の温度で１時間の熱処理を施すことによ
り、磁気ヘッド用部材を作製した。これらの磁気ヘッド
用部材の保磁力Ｈｃ、１ＭＨｚの実効透磁率μｅｆｆ及
び飽和磁束密度Ｂｓを測定した結果を（表１）に示す。

【００１１】

【表１】

【００１２】表１より、Ｎ２分圧対全圧比２．５％で形
成したときに、良好な軟磁性（低保磁力、高透磁率）と
高飽和磁束密度を示すことが分かる。

【００１３】（図１）にＮ２分圧対全圧比０〜１０％の
範囲で形成した、前記軟磁性膜のＸ線回折図形を示す。（図１）中に示す○はα−Ｆｅの回折ピーク、△はＴａ
Ｎの回折ピークである。（図１）より、Ｎ２分圧対全圧
比０％で形成した膜は、粒成長した結晶質相である。Ｎ
２分圧対全圧比１．７％で形成した膜は、α−Ｆｅの微
結晶以外の回折ピークも観測され、不均一な結晶粒形態
になっている。Ｎ２分圧対全圧比１０％で形成した膜は
、ＴａＮの回折ピークが観測されると共に、α−Ｆｅの
微結晶以外の回折ピークも観測され、不均一な結晶組織
になっている。Ｎ２分圧対全圧比２．５％で形成した、
良好な軟磁性と高飽和磁束密度を示す膜は、α−Ｆｅの
微結晶とＴａの窒化物（ＴａＮ）微粒子が混在した微細
組織から成る複合材料であることが分かる。

【００１４】また、α−Ｆｅの微結晶とＴａの窒化物（
ＴａＮ）微粒子が混在した微細組織から成る複合材料で
ある軟磁性膜において、特に、α−ＦｅがＴａまたは、
Ｎ（窒素）あるいはＴａの窒化物を固溶し、Ｆｅの格子
を膨張させた微結晶であるときに（このときの（１１０
）面間隔は、２．０３５５Åであった。α−Ｆｅの（１
１０）面間隔は、２．０２６８Åである。）良好な軟磁
性を示した。

【００１５】（実施例２）良好な軟磁性（Ｈｃは０．１
Ｏｅ、１ＭＨｚのμｅｆｆは１００００）と高飽和磁束
密度Ｂｓ１．６Ｔ）を示す、α−Ｆｅの微結晶とＴａの
窒化物微粒子が混在した微細組織から成る複合材料であ
る軟磁性膜の微細組織の観察を透過型電子顕微鏡（ＴＥ
Ｍ）により行なった。膜の形成方法は、（実施例１）と
同様の方法であり、熱処理は真空中、無磁界中で５５０
℃の温度で１時間行なった。

【００１６】ＴＥＭにより、電子線回折像を調べた結果
、α−Ｆｅの回折線およびＴａＮの回折線が観測された
。またα−Ｆｅの（１１０）回折線およびＴａＮの（１
１１）回折線からとった暗視野像からα−Ｆｅの微結晶
の平均粒径が約５０Å、ＴａＮの微粒子の平均粒径が約
２０Åであることが分かった。同様のＴＥＭ観察の結果
から、α−Ｆｅの微結晶の平均粒径が１００Å以下、Ｔ
ａの窒化物微粒子の平均粒径が５０Å以下であるときに
、優れた軟磁気特性を示す磁気ヘッド用部材となること
が確認された。

【００１７】（実施例３）１００〜１６５×１０−７／
ｄｅｇの範囲で熱膨張係数の異なる非磁性基板を準備し
、その表面上に膜厚２μｍのα−Ｆｅの微結晶とＴａの
窒化物微粒子が混在した微細組織から成る複合材料であ
る軟磁性膜（実施例２に示した膜）を形成した。熱処理
は真空中、無磁界中で５５０℃の温度で１時間行なった
。熱処理を施した、成膜済み基板のたわみ量を測定し、（
数１）の式を用いて算出した膜の内部応力を室温、５５
０℃間の基板の熱膨張係数に対してプロットした結果を
（図２）に実線で示す。

【００１８】

【数１】

【００１９】ここで、σは膜の内部応力、Ｅｓは基板の
ヤング率、νｓは基板のポアソン比、Ｄは基板厚、ｄは
膜厚、ｌは膜の長さ、δは成膜済み基板のたわみ量であ
る。また、（数２）の式を用いて算出した膜の熱応力と
室温、５５０℃間の基板の熱膨張係数の関係を（図２）
に破線で示した。

【００２０】

【数２】

【００２１】ここで、σＴＨＥは膜の熱応力、Ｅｆは膜
のヤング率、νｆは膜のポアソン比、αｆは膜の熱膨張
係数、αｓは基板の熱膨張係数、Ｔ１は膜及び基板から
成る系の上昇温度（この場合５５０℃）、Ｔ０は室温で
ある。（図２）より、実線と破線がよく一致していることから
、膜の内部応力は熱応力に起因しているものであること
が分かる。また、基板の熱膨張係数が１１０〜１３５×
１０−７／ｄｅｇの範囲にあるとき、膜の内部応力の絶
対値は２×１０９ｄｙｎｅ／ｃｍ２以下の小さな値を示
している。基板の熱膨張係数が１１０〜１３５×１０−
７／ｄｅｇの非磁性または磁性基板を用いた本発明の磁
気ヘッド用部材は、高飽和磁束密度と高透磁率を有し、
かつ磁気ヘッド加工工程における、磁気特性の劣化がな
く、基板間の接着、ガラスモールド、ギャップ形成等を
容易にすることが出来ることを確認した。

【００２２】（実施例４）熱膨張係数１１５×１０−７
／ｄｅｇの非磁性セラミックス基板上にα−Ｆｅの微結
晶とＴａの窒化物微粒子が混在した微細組織から成る複
合材料である軟磁性膜を膜厚０．１〜２０μｍの範囲で
形成し、真空中、静磁界中で５５０℃の温度で１時間の
熱処理を行なった。これらの膜の各周波数における磁化
困難軸方向の複素透磁率の実数部μ′を測定し、膜厚に
対してプロットした結果を（図３）に示す。１ＭＨｚに
おけるμ′は膜厚２〜５μｍ付近で極大値を示し、低膜
厚側、高膜厚側で減少する傾向を示す。そして、周波数
の増加と共に、μ′が極大値を示す膜厚が低膜厚側にシ
フトする傾向を示す。膜厚が０．２μｍ以下になると、
１ＭＨｚ以上の高周波帯域におけるμ′が１０００以下
の低い値を示し、また、膜厚が１０μｍ以上になると、
５ＭＨｚ以上の高周波帯域におけるμ′が１０００以下
の低い値を示し、ビデオテープレコーダー等に用いる磁
気ヘッド用部材としては不適である。従って、ビデオテ
ープレコーダー等に用いる磁気ヘッド用部材としては、
軟磁性膜の膜厚が０．２〜１０μｍであるときに優れた
特性を示す。また、熱膨張係数が１２０×１０−７／ｄ
ｅｇのセラミックス基板上に、膜厚が０．２〜１０μｍ
の前記軟磁性膜と膜厚２０００ÅのＳｉＯ２膜とを交互
に積層し、トラック幅に相当する総膜厚１〜４０μｍの
積層膜を形成した磁気ヘッド用部材を用いた磁気ヘッド
は、優れた出力特性を示した。

【００２３】なお、（実施例１）〜（実施例４）におい
ては、磁気ヘッド用部材の軟磁性膜としてα−Ｆｅの微
結晶とＴａの窒化物微粒子が混在した微細組織から成る
複合材料を用いた場合について説明したが、軟磁性膜と
して、α−Ｆｅの微結晶、あるいはα−ＦｅがＭまたは
、Ｎ（窒素）あるいはＭの窒化物を固溶し、Ｆｅの格子
を膨張させた微結晶とＭの窒化物微粒子（ただし、Ｍは
Ｔａ、Ｔａ−Ｚｒ、Ｔａ−Ｈｆ、Ｔａ−Ｎｂ、Ｎｂ、Ｎ
ｂ−Ｚｒ、Ｎｂ−Ｈｆ、Ｈｆ、Ｈｆ−Ｚｒ）が混在した
微細組織から成る複合材料であっても、同様の効果を有
する。また、前記軟磁性膜に添加物元素としてＣｒ、Ｒ
ｕ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｙ、Ａｌ、Ｂ、Ｃｅ、Ｃｕ、Ｏ元素の
少なくとも１種の元素を０．１〜６原子％含む系の軟磁
性膜においては、更に優れた耐食性、耐摩耗性と軟磁気
特性の熱的安定性を併せ持つことが出来た。

【００２４】なお、本実施例においては、磁気ヘッド用
部材の基板として非磁性基板を用いた場合について説明
したが、基板としてＭｎ−Ｚｎフェライト等の磁性基板
であっても同様の効果を有した。

【００２５】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、高飽和磁束密
度と高透磁率を有し、かつ磁気ヘッド加工工程に適した
磁気ヘッド用部材を提供することが出来、本発明の磁気
ヘッド用部材を使用する磁気ヘッドは、基板間の接着、
ガラスモールド、ギャップ形成等の磁気ヘッド加工工程
における磁気特性の劣化がなく、優れた出力特性を示す
。　　請求項２または３の発明によれば、請求項１の発
明による磁気ヘッド用部材よりも、更に優れた軟磁気特
性を有する磁気ヘッド用部材を提供することが出来る。

【００２６】請求項４の発明によれば、請求項１〜３の
発明による磁気ヘッド用部材よりも、更に優れた耐食性
、耐摩耗性と軟磁気特性の熱的安定性を併せ持つ磁気ヘ
ッド用部材を提供することが出来る。

【００２７】請求項５の発明によれば、請求項１〜４の
いずれかに記載の軟磁性膜の膜厚が０．２〜１０μｍで
ある磁気ヘッド用部材であるから、低周波から高周波ま
で優れた透磁率を呈し、本発明の磁気ヘッド用部材を使
用する磁気ヘッドは、優れた再生出力を得ることが出来
る。

【００２８】請求項６の発明によれば、請求項１〜４の
いずれかに記載の軟磁性膜がＳｉＯ２等の非磁性膜との
積層構造から成り、前記非磁性膜の各層の膜厚が数百〜
数千Å、各層の軟磁性膜の膜厚が０．２〜１０μｍであ
り、総膜厚１〜４０μｍであるから、高周波帯域で更に
優れた再生出力を示す磁気ヘッドを作製することが出来
る。

【００２９】請求項７の発明によれば、請求項１〜６の
いずれかに記載の軟磁性膜がフェライト基板上に形成さ
れた磁気ヘッド用部材であるから、本発明の磁気ヘッド
用部材を用いてＭＩＧヘッド、フェライトとの複合型ヘ
ッド等を作製した場合、優れたヘッド特性を示す。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例で作成した軟磁性膜のＸ線回折
図である。

【図２】軟磁性膜の内部応力と基板の熱膨張係数との関
係を示す図である。

【図３】軟磁性膜の各周波数における磁化困難軸方向の
複素透磁率の実数部μ′と膜厚との関係を示す図である
。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　基板と前記基板上に形成した軟磁性膜
から成る磁気ヘッド用部材において、前記基板として熱
膨張係数が１１０〜１３５×１０−７／ｄｅｇの非磁性
または磁性基板を、また、前記軟磁性膜としてα−Ｆｅ
の微結晶とＭの窒化物微粒子（ただし、Ｍは、Ｔａ、Ｔ
ａ−Ｚｒ、Ｔａ−Ｈｆ、Ｔａ−Ｎｂ、Ｎｂ、Ｎｂ−Ｚｒ
、Ｎｂ−Ｈｆ、Ｈｆ、Ｈｆ−Ｚｒ）が混在した微細組織
から成る複合材料である軟磁性膜を用いることを特徴と
する磁気ヘッド用部材。
【請求項２】　　請求項１に記載のα−ＦｅがＭまたは
、Ｎ（窒素）、あるいはＭの窒化物を固溶し、Ｆｅの格
子を膨張させた微結晶であることを特徴とする磁気ヘッ
ド用部材。
【請求項３】　　請求項１または２のいずれかに記載の
Ｆｅの微結晶の平均粒径が１００Å以下、Ｍの窒化物微
粒子の平均粒径が５０Å以下であることを特徴とする磁
気ヘッド用部材。
【請求項４】　　請求項１〜３のいずれかに記載の軟磁
性膜に添加物元素としてＣｒ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｙ、
Ａｌ、Ｂ、Ｃｅ、Ｃｕ、Ｏ元素の少なくとも１種の元素
を０．１〜６原子％含有することを特徴とする磁気ヘッ
ド用部材。
【請求項５】　　請求項１〜４のいずれかに記載の軟磁
性膜の膜厚が０．２〜１０μｍであることを特徴とする
磁気ヘッド用部材。
【請求項６】　　請求項１〜４のいずれかに記載の軟磁
性膜がＳｉＯ２等の非磁性膜との積層構造になっており
、前記非磁性膜の各層の膜厚が数百〜数千Å、各層の軟
磁性膜の膜厚が０．２〜１０μｍであり、総膜厚１〜４
０μｍであることを特徴とする磁気ヘッド用部材。
【請求項７】　　請求項１に記載の基板がＭＩＧヘッド
、あるいはフェライトとの複合型ヘッド等に用いられる
フェライトであることを特徴とする磁気ヘッド用部材。