JPH04276913A - 圧電基板 - Google Patents
圧電基板Info
- Publication number
- JPH04276913A JPH04276913A JP3839691A JP3839691A JPH04276913A JP H04276913 A JPH04276913 A JP H04276913A JP 3839691 A JP3839691 A JP 3839691A JP 3839691 A JP3839691 A JP 3839691A JP H04276913 A JPH04276913 A JP H04276913A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- electrode film
- piezoelectric substrate
- piezoelectric
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 38
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 16
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 230000006355 external stress Effects 0.000 abstract description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 229910000792 Monel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は圧電基板に関し、特に
たとえばセラミックフィルタなどの圧電部品の製造に用
いられる、圧電基板に関する。
たとえばセラミックフィルタなどの圧電部品の製造に用
いられる、圧電基板に関する。
【0002】
【従来の技術】図12を参照して、従来の圧電基板1は
、その母基板2の両主面に、略1〜2μm程度の薄膜状
のAg層を蒸着することによって電極膜3を形成してい
た。
、その母基板2の両主面に、略1〜2μm程度の薄膜状
のAg層を蒸着することによって電極膜3を形成してい
た。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような圧電基板1
を用いて圧電部品を製造するには、圧電基板1を積み重
ねてカセットに入れ、順次加工していくという工法が用
いられることが多い。このとき、電極膜3は、略1〜2
μm程度の薄膜状のAg層を蒸着して形成される軟らか
いものであるため、電極膜3の表面に塵やごみが付着し
外力が加わることによって、電極膜3の表面に外傷が形
成され、また圧電基板1自体に外部応力が加わることに
よって断線することがある。
を用いて圧電部品を製造するには、圧電基板1を積み重
ねてカセットに入れ、順次加工していくという工法が用
いられることが多い。このとき、電極膜3は、略1〜2
μm程度の薄膜状のAg層を蒸着して形成される軟らか
いものであるため、電極膜3の表面に塵やごみが付着し
外力が加わることによって、電極膜3の表面に外傷が形
成され、また圧電基板1自体に外部応力が加わることに
よって断線することがある。
【0004】したがって、この発明の主たる目的は、断
線しない、圧電基板を提供することである。
線しない、圧電基板を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明は、その主面上
に形成される電極膜を含みかつ圧電部品を製造するため
に用いられる圧電基板において、電極膜がニッケルまた
はその合金からなる第1層および銀からなる第2層の積
層構造を含むことを特徴とする、圧電基板である。
に形成される電極膜を含みかつ圧電部品を製造するため
に用いられる圧電基板において、電極膜がニッケルまた
はその合金からなる第1層および銀からなる第2層の積
層構造を含むことを特徴とする、圧電基板である。
【0006】
【作用】電極膜は、硬くかつ高靱性を有するニッケルま
たはその合金(モネル等)の第1層を含んでいる。した
がって、圧電部品の製造工程において、電極膜の表面に
塵やごみが付着し外力が加わっても、硬い第1層を含ん
でいるため、電極膜が断線するような外傷は形成されな
い。また、圧電基板自体に外部応力が加わっても、高靱
性を有する第1層を含んでいるため、電極膜は破断せず
、断線することはない。
たはその合金(モネル等)の第1層を含んでいる。した
がって、圧電部品の製造工程において、電極膜の表面に
塵やごみが付着し外力が加わっても、硬い第1層を含ん
でいるため、電極膜が断線するような外傷は形成されな
い。また、圧電基板自体に外部応力が加わっても、高靱
性を有する第1層を含んでいるため、電極膜は破断せず
、断線することはない。
【0007】
【発明の効果】この発明によれば、電極膜が、硬くかつ
高靱性を有する第1層と第2層との積層構造であるので
、断線を防止でき、そのような圧電基板を用いた圧電部
品の良品率すなわち信頼性を向上できる。この発明の上
述の目的,その他の目的,特徴および利点は、図面を参
照して行う以下の実施例の詳細な説明から一層明らかと
なろう。
高靱性を有する第1層と第2層との積層構造であるので
、断線を防止でき、そのような圧電基板を用いた圧電部
品の良品率すなわち信頼性を向上できる。この発明の上
述の目的,その他の目的,特徴および利点は、図面を参
照して行う以下の実施例の詳細な説明から一層明らかと
なろう。
【0008】
【実施例】まず、図1を参照して、圧電基板10はたと
えばセラミックなどからなる母基板12を含む。母基板
12の上下両主面には、図3にも示すように、それぞれ
電極膜14が形成される。電極膜14は、下層にNi層
16、上層にAg層18を含む2層構造に形成される。
えばセラミックなどからなる母基板12を含む。母基板
12の上下両主面には、図3にも示すように、それぞれ
電極膜14が形成される。電極膜14は、下層にNi層
16、上層にAg層18を含む2層構造に形成される。
【0009】圧電基板10を製造するには、まず、図2
に示すように、母基板12の上下両主面の端部を除いて
、たとえばスパッタリングによってNi層16が形成さ
れる。そして、図3に示すように、Ni層16の上面に
、同様にスパッタリングによってAg層18が形成され
る。このように形成される圧電基板10を用いて圧電部
品(図示せず)を製造するには、その後、分極を行い、
上述の電極膜14をエッチングして必要な電極を形成し
、最後にチップ状にカッティングするという周知の一連
の製造工程を経る。
に示すように、母基板12の上下両主面の端部を除いて
、たとえばスパッタリングによってNi層16が形成さ
れる。そして、図3に示すように、Ni層16の上面に
、同様にスパッタリングによってAg層18が形成され
る。このように形成される圧電基板10を用いて圧電部
品(図示せず)を製造するには、その後、分極を行い、
上述の電極膜14をエッチングして必要な電極を形成し
、最後にチップ状にカッティングするという周知の一連
の製造工程を経る。
【0010】この圧電基板10では、電極膜14に含ま
れるNi層16は、硬くかつ高い靱性(tenacit
y)を有するので、たとえば圧電部品の製造工程などに
おいて、電極膜14の表面に塵やごみが付着し外力が加
わっても、電極膜14が断線するような外傷は形成され
ない。 また、圧電基板10自体に外部応力が加わっても、電極
膜14は破断せず、断線することはない。また、Ni層
16の上にAg層18を形成することにより、Ni層1
6の欠点、すなわち固有抵抗が大きくまた半田付け性も
劣るという欠点を補う。
れるNi層16は、硬くかつ高い靱性(tenacit
y)を有するので、たとえば圧電部品の製造工程などに
おいて、電極膜14の表面に塵やごみが付着し外力が加
わっても、電極膜14が断線するような外傷は形成され
ない。 また、圧電基板10自体に外部応力が加わっても、電極
膜14は破断せず、断線することはない。また、Ni層
16の上にAg層18を形成することにより、Ni層1
6の欠点、すなわち固有抵抗が大きくまた半田付け性も
劣るという欠点を補う。
【0011】また、図4を参照して、この発明の他の実
施例の圧電基板20は母基板12を含む。母基板12の
上下両主面には、図7にも示すように、それぞれ電極膜
22が形成される。電極膜22は、下層にNi層24、
上層にAg層26を含む2層構造に形成される。圧電基
板20を製造するには、まず、図5に示すように、母基
板12の全面にたとえば無電解めっきによってNi層2
4を形成する。そして、図6に示すように、母基板12
の上下両主面のNi層24上には、その端部を除いて、
たとえば蒸着によってAg層26を形成する。そして、
図7に示すように、端面研磨を施して母基板12の端面
のNi層24を除去する。なお、この端面研磨は、後の
工程で分極するために必要とされる工程である。
施例の圧電基板20は母基板12を含む。母基板12の
上下両主面には、図7にも示すように、それぞれ電極膜
22が形成される。電極膜22は、下層にNi層24、
上層にAg層26を含む2層構造に形成される。圧電基
板20を製造するには、まず、図5に示すように、母基
板12の全面にたとえば無電解めっきによってNi層2
4を形成する。そして、図6に示すように、母基板12
の上下両主面のNi層24上には、その端部を除いて、
たとえば蒸着によってAg層26を形成する。そして、
図7に示すように、端面研磨を施して母基板12の端面
のNi層24を除去する。なお、この端面研磨は、後の
工程で分極するために必要とされる工程である。
【0012】この実施例においても、下層にNi層24
、上層にAg層26が形成されているため、先の実施例
と同様の効果が得られる。さらに、図8を参照して、こ
の発明のその他の実施例の圧電基板30は母基板12を
含む。母基板12の上下両主面には、図11にも示すよ
うに、それぞれ電極膜32が形成される。電極膜32は
、下層にCu層34、中間層にNi層36、上層にAg
層38を含む3層構造に形成される。
、上層にAg層26が形成されているため、先の実施例
と同様の効果が得られる。さらに、図8を参照して、こ
の発明のその他の実施例の圧電基板30は母基板12を
含む。母基板12の上下両主面には、図11にも示すよ
うに、それぞれ電極膜32が形成される。電極膜32は
、下層にCu層34、中間層にNi層36、上層にAg
層38を含む3層構造に形成される。
【0013】圧電基板30を製造するには、まず、図9
に示すように、母基板12の上下両主面の端部を除いて
、たとえば蒸着によってCu層34が形成される。そし
て、図10に示すように、Cu層34の上には、たとえ
ば無電解めっきによってNi層36が形成され、さらに
Ni層36の上には、たとえば蒸着によってAg層38
が形成される。
に示すように、母基板12の上下両主面の端部を除いて
、たとえば蒸着によってCu層34が形成される。そし
て、図10に示すように、Cu層34の上には、たとえ
ば無電解めっきによってNi層36が形成され、さらに
Ni層36の上には、たとえば蒸着によってAg層38
が形成される。
【0014】この実施例においても、中間層にNi層3
6、上層にAg層が形成されているため、上述の実施例
と同様の効果が得られる。また、下層にCu層34が形
成されているため、その上に形成されるNi層36に、
無電解めっきによるめっきむらなどが生じるのを防止で
きる。なお、上述の各実施例では第1層としてNi層を
用いたが、モネル等のNi合金層を用いてもよい。
6、上層にAg層が形成されているため、上述の実施例
と同様の効果が得られる。また、下層にCu層34が形
成されているため、その上に形成されるNi層36に、
無電解めっきによるめっきむらなどが生じるのを防止で
きる。なお、上述の各実施例では第1層としてNi層を
用いたが、モネル等のNi合金層を用いてもよい。
【0015】また、Ni層,Ni合金層,Ag層および
Cu層は、それぞれスパッタリング,無電解めっきまた
は蒸着のうちいずれの方法で形成されてもよい。
Cu層は、それぞれスパッタリング,無電解めっきまた
は蒸着のうちいずれの方法で形成されてもよい。
【図1】この発明の一実施例を示す斜視図である。
【図2】図1の実施例の製造工程において下層のNi層
を形成した状態を示す断面図である。
を形成した状態を示す断面図である。
【図3】図1の実施例を示す断面図である。
【図4】この発明の他の実施例を示す斜視図である。
【図5】図4の実施例の製造工程において下層のNi層
を形成した状態を示す断面図である。
を形成した状態を示す断面図である。
【図6】図4の実施例の製造工程において上層のAg層
を形成した状態を示す断面図である。
を形成した状態を示す断面図である。
【図7】図4の実施例を示す断面図である。
【図8】この発明のその他の実施例を示す斜視図である
。
。
【図9】図8の実施例の製造工程において下層のCu層
を形成した状態を示す断面図である。
を形成した状態を示す断面図である。
【図10】図8の実施例の製造工程において中間層のN
i層を形成した状態を示す断面図である。
i層を形成した状態を示す断面図である。
【図11】図8の実施例を示す断面図である。
【図12】従来技術を示す断面図である。
10,20,30 …圧電基板
12 …母基板14,22
,32 …電極膜 16,24,36 …Ni層 18,26,38 …Ag層
,32 …電極膜 16,24,36 …Ni層 18,26,38 …Ag層
Claims (1)
- 【請求項1】その主面上に形成される電極膜を含みかつ
圧電部品を製造するために用いられる圧電基板において
、前記電極膜がニッケルまたはその合金からなる第1層
および銀からなる第2層の積層構造を含むことを特徴と
する、圧電基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3839691A JPH04276913A (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | 圧電基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3839691A JPH04276913A (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | 圧電基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04276913A true JPH04276913A (ja) | 1992-10-02 |
Family
ID=12524130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3839691A Withdrawn JPH04276913A (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | 圧電基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04276913A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0585058U (ja) * | 1992-04-20 | 1993-11-16 | 株式会社豊田中央研究所 | セラミック圧電素子 |
-
1991
- 1991-03-05 JP JP3839691A patent/JPH04276913A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0585058U (ja) * | 1992-04-20 | 1993-11-16 | 株式会社豊田中央研究所 | セラミック圧電素子 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11145619B2 (en) | Electrical connecting structure having nano-twins copper and method of forming the same | |
TW200803681A (en) | Process for producing circuit board | |
KR20030045138A (ko) | 물리적 증기 증착 타겟/백플레이트 조립체 및 물리적 증기증착 타겟/백플레이트 조립체를 형성하는 방법 | |
JP2001028462A (ja) | 熱電素子及び熱電素子の製造方法 | |
US4774127A (en) | Fabrication of a multilayer conductive pattern on a dielectric substrate | |
JPH06268112A (ja) | 半導体装置、及びその製造方法 | |
JPH04276913A (ja) | 圧電基板 | |
JP2004091830A (ja) | 金属マスクとその製造方法 | |
US6839243B2 (en) | Electronic component and method of producing the same | |
US3483610A (en) | Thermocompression bonding of foil leads | |
JP2016040944A (ja) | 高い耐電力性及び高い導電性を有するメタライジング層 | |
JP2931297B1 (ja) | フレキシブル基板の製造方法 | |
JP3128165B2 (ja) | 化合物半導体素子の電極形成方法 | |
JPS6038823A (ja) | 半導体装置 | |
JP2005322881A (ja) | 半導体レーザ素子 | |
JP2891488B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPS6235361A (ja) | フオトマスク材料 | |
JPS637929Y2 (ja) | ||
JP3082356B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS6350879B2 (ja) | ||
JP3336802B2 (ja) | リードフレーム用クラッド材とリードフレームの製造方法 | |
JPS6233442A (ja) | 配線の形成方法 | |
KR19980063683A (ko) | 압전세라믹 전자부품 및 그 제조방법 | |
JPH04146685A (ja) | 修復パッド及びその製造方法 | |
JPS61216105A (ja) | 磁気ヘツド |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |