JPH04276644A - 半導体ウエハ用バスケット - Google Patents

半導体ウエハ用バスケット

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JPH04276644A
JPH04276644A JP3062357A JP6235791A JPH04276644A JP H04276644 A JPH04276644 A JP H04276644A JP 3062357 A JP3062357 A JP 3062357A JP 6235791 A JP6235791 A JP 6235791A JP H04276644 A JPH04276644 A JP H04276644A
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JP
Japan
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wafer
basket
side walls
ribs
lower edge
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JP3062357A
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Takemi Kakizaki
柿崎 武美
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Miraial Co Ltd
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Kakizaki Seisakusho Co Ltd
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、多数の半導体ウエハを
所定ピッチ毎に並列状に整列して収納させ、洗浄やエッ
チングおよび乾燥等の処理を行う半導体ウエハ用バスケ
ツトに関し、特に大径の半導体ウエハに適する半導体ウ
エハ用バスケツトに関する。
【0002】
【従来の技術】この種の半導体ウエハ用バスケツトとし
ては、例えば本件出願人が先に提案した実公平2−25
233号に開示されているものがある。このバスケツト
Aは、図5乃至図7で示すように全体が弗素樹脂材で一
体成型され、長手方向に沿って平行する両側壁1,3の
両端部間を短手方向に沿う支持板13,14で各々連結
すると共に、当該両側壁1,3の下方にはウエハWを担
持する台部5,6が内側へ対向状に各々突設され、上下
が開口された箱形に形成されている。上記両側壁1,3
の内面には、ウエハWが挿入される縦方向へ延在する多
数のリブ2,4が当該両側壁1,3の長手方向へ所定ピ
ッチ毎に並列状に設けられ、これらリブ2,4の間には
両側壁1,3の内外を連通させる縦長のスリット7,8
が穿設されている。また、上記台部5,6の傾斜上面5
a,6aにも上記リブ2,4に連続して内向き傾斜状に
延在するリブ9,10が突設され、これらリブ9,10
の間にも両側壁1,3の内外を連通させる縦長のスリッ
ト11,12が各々穿設され、上記スリット7とスリッ
ト11またスリット8とスリット12はウエハWの挿入
方向に沿って各々上下に整合状態で配設されている。
【0003】上記のバスケツトAにウエハWを収納する
際には、ウエハWをリブ2,4の間に挿入させると、落
下しながらこれに連続するリブ9,10の間に達した当
該ウエハWの下方縁部が上記台部5,6の傾斜上面5a
,6aに担持される。このようにしてバスケツトA内へ
収納された多数のウエハWは、上記リブ2,4およびリ
ブ9,10によって間隔が保持され、整列状態で隔置さ
れると共に、上記スリット7,8およびスリット11,
12によって処理液の流通や液切れが良くなって均一で
良好な処理を行うことができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この種の半
導体ウエハは近年の著しい技術革新によって大径のもの
の製造が可能になり、また出来るだけ大径の半導体ウエ
ハを造ってこれからチップを切り出すようにしたほうが
生産効率が高く経済的である等の理由から次第に大径化
し、最近では直径8インチのものも規格化されている。 この大径化に伴って半導体ウエハは重量が増し、割れや
変形を防止するために厚みも増してくるので、これに適
合するようにバスケツトの形状も大きくしなければなら
ないことは勿論であるが、それだけに止どまらずバスケ
ツトは今迄以上に均一で良好な処理が可能なものを要求
されるので、上記した従来構造のバスケツトを単に形状
だけ大きくしただけでは十分に対応できなくなる。
【0005】例えば、大径ウエハを上記した従来構造の
バスケットAに収納した場合に、ウエハWの下方縁部を
担持する台部5,6の傾斜上面5a,6aはウエハ重量
の増加によって今迄以上に大きな落下時の衝撃と荷重を
受ける。ところが、この傾斜上面5a,6aはスリット
11,12により中間部が切り欠かれているので受圧面
積が少なく、このために単位面積当たり大きな荷重を受
けると共に、特にスリット11,12の口縁部はウエハ
Wの縁部によって大きな落下衝撃を受ける。このために
、ウエハWの出し入れを頻繁に繰り返すうちにこれを担
持する傾斜上面5a,6aが凹んだり、スリット11,
12の口縁部が損傷したり、ウエハWが刺さり込んだり
してウエハWの出し入れが不能となる恐れがあると共に
、削り取られた微細な破片が処理液中に混入してウエハ
Wに付着したり処理液を汚染させて当該ウエハWの性能
を著しく低下させて使用不能にさせる。
【0006】また従来構造のバスケットAでは、上記ス
リット7とスリット11またスリット8とスリット12
が、各々ウエハWの挿入方向に沿って各々整合状態で上
下に配設されているので、厚いウエハWを隣接する各リ
ブ2,2間と各リブ9,9間および各リブ4,4間と各
リブ10,10間に各々挿入されると、当該ウエハWで
全ての各スリット7,8,11,12の一部が今迄以上
に内側から閉塞され、処理液の流動が悪くなってしまう
ことになる。しかし、これを防ぐために各リブ間のピッ
チを大きくして間隔を広げると、ウエハWの収納枚数が
少なくなって処理能力が低下すると共に、各リブ間でウ
エハWが揺動する遊び空間が大きくなって隣接するウエ
ハWが相互に接触して損傷する恐れもあるので、むやみ
にピッチを大きくすることはできない。
【0007】更に、上記した各スリット7,8,11,
12のうちで特に台部5,6に穿設された傾斜状のスリ
ット11,12は、上下方向へ連通されて最後の液切れ
を行う極めて重要な個所であり、このスリット11,1
2が上記のようにウエハWで閉塞されたり、落下したウ
エハWの衝撃等でスリット11,12の口縁部が損傷し
て滑面が毛羽立つた状態になると、この部分で処理液の
澱みを生じて均一な処理ができなくなる。そこで本発明
では、これらの課題を解決して大径で重量や厚みの増加
したウエハに適合し得る半導体ウエハ用バスケットの提
供を目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、長手方
向に沿って平行する両側壁と、この両側壁の両端部間を
各々連結する左右の支持板と、両側壁の下方に連続状態
で延在されると共に、当該両側壁の内側へ対向状に各々
突設されてウエハの下方縁部を担持する内面が傾斜状の
受台部を備えた上下が開口する箱形のバスケツトに形成
され、上記両側壁の内面にはウエハの挿入通路を形成す
る縦方向へ延在した多数のリブが当該両側壁の長手方向
へ所定ピッチ毎に並列状に設けられ、これらの各リブ間
にはバスケツトの内外を連通させる縦長の上部スリット
が穿設されており、当該各リブを含む両側壁は上部側が
ほぼ垂直状で下部側は内側へ傾斜状に延在されて各リブ
は上記受台部との連結部分で終端されており、上記受台
部には上記上部スリットの延長線上で挿入されたウエハ
の下方縁部を担持する傾斜状担持面が形成され、当該傾
斜状担持面の両側にはバスケツトの内外を連通させる傾
斜状の下部スリットと、ウエハの下方縁部に係合して隔
置させる間隔保持部材とが各々上記リブの延長線上に整
合する態様で所定ピッチ毎に並列状に配設されている半
導体ウエハ用バスケットである。また本発明の他の要旨
は、上記した間隔保持部材の隣接相互間が形成する挿通
幅に対して上記した上部スリットの幅を広く形成した半
導体ウエハ用バスケットである。
【0009】
【実施例】以下に、本発明を図1乃至図4で図示の実施
例に基づいて詳細に説明する。このバスケツト30は、
長手方向に沿って平行する両側壁31,32と、この両
側壁31,32の両端部間を各々連結する左右の支持板
33,34と、両側壁31,32の下方に連続状態で延
在されると共に、当該両側壁31,32内側へ対向状に
各々突設されたウエハWを下方縁部を担持する傾斜状の
受台部35,36と、この受台部35,36の下方に設
けられた脚部37,38とで上下が開口する箱形に形成
され、全体が弗素樹脂材で一体成型されている。
【0010】上記両側壁31,32の内面には、隣接相
互間でウエハWの挿入通路を形成する縦方向へ延在した
多数のリブ39,40が当該両側壁31,32の長手方
向へ所定ピッチ毎に並列状に設けられ、これらリブ39
,40の間にはバスケツト30の内外を連通させる縦長
の上部スリット41,42が穿設されている。また、上
記両側壁31,32と各リブ39,40は上部側がほぼ
垂直状で下部側は内側へ傾斜状に延在されていると共に
、各リブ39,40は互いに対向状に突設されている。 またこれらの各リブ39,40は、中間部において隣接
する相互間が補強リブ43,44によって連結され、当
該各リブ39,40は上記受台部35,36との連結部
分のところで終端されている。
【0011】次に、上記受台部35,36にはバスケツ
ト30の内外を連通させる短尺で傾斜状をした各下部ス
リット45,46と、ウエハWを係止して隔置させる間
隔保持部材としての位置決め突起47,48とが設けら
れている。上記下部スリット45,46と位置決め突起
47,48は、上記各リブ39,40の延長線上に整合
する態様で所定ピッチ毎に並列状に配設されており、当
該位置決め突起47,48は円錐台形状で隣接する位置
決め突起の基部側相互間に形成される間隔が、上記各リ
ブ39,40の隣接相互間の間隔よりも僅かに狭くなる
ようにしている。また、上記下部スリット45,46の
隣接相互間から位置決め突起47,48の隣接相互間に
渡って形成された傾斜状担持面35a,36aはウエハ
Wの外周面に適合する円弧状面に形成されている。
【0012】上記のバスケツト30にウエハWを収納す
る際に、ウエハWをリブ39,40の隣接相互間に形成
された上部スリット41,42に挿入させると、落下し
たウエハWは下方縁部を受台部35,36の傾斜状担持
面35a,36aによって担持される。この傾斜状担持
面35a,36aは開口部がなくて広い受圧面積を有し
ているので、ウエハWの落下衝撃による損傷や変形が少
ない。またバスケツト30内に収納された多数のウエハ
Wは、両面に各々係合する上記リブ39,40および位
置決め突起47,48の隣接相互間で間隔が保持されて
整列状態で隔置されるが、当該リブ39,40と位置決
め突起47,48との隣接相互間が形成する挿通幅は、
従来構造の一連のリブの場合のように一定ではなく異な
った所望幅に設定させることができる。従って、例えば
上記実施例のようにリブ39,40側ではウエハWの挿
入が容易で且つ挿入されたウエハWによる上部スリット
41,42の閉塞を少なくするために上部側が揺動可能
なように挿通幅を広くし、位置決め突起47,48側で
は揺動した隣接するウエハW相互が接触しないように挿
通幅を狭くして間隔保持を計るようにすることができる
。尚、上記した位置決め突起47,48の代わりに、リ
ブ39,40とは分離された短尺のリブを間隔保持部材
とするようにしても良い。更に、上記した下部スリット
45,46は上部スリット41,42と整合しないよう
に配設され、ウエハWを担持する傾斜状担持面35a,
36aの両側に開口されているので、ウエハWによって
全く閉塞されることがなく然も当該ウエハWの両面に対
して効果的に処理液を流動させることができる。
【0013】
【発明の効果】上記した実施例でも明らかなように、本
発明による半導体ウエハ用バスケットでは次のような効
果を奏する。このバスケツトでは、収納されるウエハの
下方縁部を受台部に形成された開口部のない広い受圧面
積の傾斜状担持面によって担持するようにしているので
、ウエハの落下衝撃による損傷や変形が少ない。またバ
スケツトに収納されたウエハは、上部側の両面に各々係
合するリブと、当該リブと分離形成された下部側の両面
に各々係合する位置決め突起または短尺のリブによる間
隔保持部材の隣接相互間で間隔保持されて整列状態で隔
置されるので、従来構造の一連のリブの場合のようにウ
エハの挿入される挿通幅が一定に規制されずに、ウエハ
の挿入並びに当該ウエハに対する処理液の流動に適した
所望の挿通幅に個別に設定させることができる。従って
、例えばリブ間の挿通幅を広く間隔保持部材間の挿通幅
を狭く設定し、ウエハの挿入が容易で且つリブ間に形成
された上部スリットの閉塞を少なくするようにウエハの
上部側が揺動可能にすると共に、隣接するウエハ相互が
接触しないように当該間隔保持部材間でウエハの下部側
の揺動を規制することができる。更に、受台部に形成さ
れた下部スリットはリブ間に形成された上部スリットと
整合しないように配設され、この受台部の下部スリット
はウエハを担持する傾斜状担持面の両側に開口されてい
るので、ウエハによって全く閉塞されることがなく然も
当該ウエハの両面に対して効果的に処理液を流動させる
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例による半導体ウエハ用バスケッ
トの一部を破断して示す要部斜視図。
【図2】同バスケットの全体を示す平面図。
【図3】同バスケットの全体を示す正面図。
【図4】図2のB−C線に沿った縦断面図。
【図5】従来例による半導体ウエハ用バスケットの全体
斜視図。
【図6】同バスケットの正面図。
【図7】図6のB−B線に沿った縦断面図。
【符号の説明】
30  バスケツト                
  31,32  側壁33,34  支持板    
            35,36  受台部 35a,36a  傾斜状担持面      37,3
8  脚部39,40  リブ           
       41,42  上部スリット 43,44  補強リブ              
45,46  下部スリット

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  長手方向に沿って平行する両側壁と、
    この両側壁の両端部間を各々連結する左右の支持板と、
    両側壁の下方に連続状態で延在されると共に、当該両側
    壁の内側へ対向状に各々突設されてウエハの下方縁部を
    担持する内面が傾斜状の受台部を備えた上下が開口する
    箱形のバスケツトに形成され、上記両側壁の内面にはウ
    エハの挿入通路を形成する縦方向へ延在した多数のリブ
    が当該両側壁の長手方向へ所定ピッチ毎に並列状に設け
    られ、これらの各リブ間にはバスケツトの内外を連通さ
    せる縦長の上部スリットが穿設されており、当該各リブ
    を含む両側壁は上部側がほぼ垂直状で下部側は内側へ傾
    斜状に延在されて各リブは上記受台部との連結部分で終
    端されており、上記受台部には上記上部スリットの延長
    線上で挿入されたウエハの下方縁部を担持する傾斜状担
    持面が形成され、当該傾斜状担持面の両側にはバスケツ
    トの内外を連通させる傾斜状の下部スリットと、ウエハ
    の下方縁部に係合して隔置させる間隔保持部材とが各々
    上記リブの延長線上に整合する態様で所定ピッチ毎に並
    列状に配設されていることを特徴とした半導体ウエハ用
    バスケット。
  2. 【請求項2】  上記した間隔保持部材の隣接相互間が
    形成する挿通幅に対して上記した上部スリットの幅を広
    く形成した請求項1に記載した半導体ウエハ用バスケッ
    ト。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH07307323A (ja) * 1994-05-10 1995-11-21 Nec Yamaguchi Ltd ウェット処理用キャリア
JP2007019238A (ja) * 2005-07-07 2007-01-25 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH07307323A (ja) * 1994-05-10 1995-11-21 Nec Yamaguchi Ltd ウェット処理用キャリア
JP2007019238A (ja) * 2005-07-07 2007-01-25 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置

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