JP2585005Y2 - 半導体ウエハ用バスケット - Google Patents

半導体ウエハ用バスケット

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JP2585005Y2
JP2585005Y2 JP1992044404U JP4440492U JP2585005Y2 JP 2585005 Y2 JP2585005 Y2 JP 2585005Y2 JP 1992044404 U JP1992044404 U JP 1992044404U JP 4440492 U JP4440492 U JP 4440492U JP 2585005 Y2 JP2585005 Y2 JP 2585005Y2
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株式会社柿崎製作所
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Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は、多数の半導体ウエハを
所定ピッチ毎に並列状に整列して収納させ、洗浄やエッ
チングおよび乾燥等の処理を行う半導体ウエハ用バスケ
ツトに関し、特に大径の半導体ウエハに適する半導体ウ
エハ用バスケツトに関する。
【0002】
【従来の技術】この種の半導体ウエハ用バスケツトとし
ては、例えば本件出願人が先に提案した実公平2−25
233号に開示されているものがある。このバスケツト
Aは、図5乃至図7で示すように全体が弗素樹脂材で一
体成型され、長手方向に沿って平行する両側壁1,3の
両端部間を短手方向に沿う支持板13,14で各々連結
すると共に、当該両側壁1,3の下方にはウエハWを担
持する台部5,6が内側へ対向状に各々突設され、上下
が開口された箱形に形成されている。上記両側壁1,3
の内面には、ウエハWが挿入される縦方向へ延在する多
数のリブ2,4が当該両側壁1,3の長手方向へ所定ピ
ッチ毎に並列状に設けられ、これらリブ2,4の間には
両側壁1,3の内外を連通させる縦長のスリット7,8
が穿設されている。また、上記台部5,6の傾斜上面5
a,6aにも上記リブ2,4に連続して内向き傾斜状に
延在するリブ9,10が突設され、これらリブ9,10
の間にも両側壁1,3の内外を連通させる縦長のスリッ
ト11,12が各々穿設され、上記スリット7とスリッ
ト11またスリット8とスリット12はウエハWの挿入
方向に沿って各々上下に整合状態で配設されている。
【0003】上記のバスケツトAにウエハWを収納する
際には、ウエハWをリブ2,4の間に挿入させると、落
下しながらこれに連続するリブ9,10の間に達した当
該ウエハWの下方縁部が上記台部5,6の傾斜上面5
a,6aに担持される。このようにしてバスケツトA内
へ収納された多数のウエハWは、上記リブ2,4および
リブ9,10によって間隔が保持され、整列状態で隔置
されると共に、上記スリット7,8およびスリット1
1,12によって処理液の流通や液切れが良くなって均
一で良好な処理を行うことができる。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】ところが、この種の半
導体ウエハは近年の著しい技術革新によって大径のもの
の製造が可能になり、また出来るだけ大径の半導体ウエ
ハを造ってこれからチップを切り出すようにしたほうが
生産効率が高く経済的である等の理由から次第に大径化
し、最近では直径8インチのものも規格化されている。
この大径化に伴って半導体ウエハは重量が増し、割れや
変形を防止するために厚みも増してくるので、これに適
合するようにバスケツトの形状も大きくしなければなら
ないことは勿論であるが、それだけに止どまらずバスケ
ツトは今迄以上に均一で良好な処理が可能なものを要求
されるので、上記した従来構造のバスケツトを単に形状
だけ大きくしただけでは十分に対応できなくなる。
【0005】例えば、大径ウエハを上記した従来構造の
バスケットAに収納した場合に、ウエハWの下方縁部を
担持する台部5,6の傾斜上面5a,6aはウエハ重量
の増加によって今迄以上に大きな落下時の衝撃と荷重を
受ける。ところが、この傾斜上面5a,6aはスリット
11,12により中間部が切り欠かれているので受圧面
積が少なく、このために単位面積当たり大きな荷重を受
けると共に、特にスリット11,12の口縁部はウエハ
Wの縁部によって大きな落下衝撃を受ける。このため
に、ウエハWの出し入れを頻繁に繰り返すうちにこれを
担持する傾斜上面5a,6aが凹んだり、スリット1
1,12の口縁部が損傷したり、ウエハWが刺さり込ん
だりしてウエハWの出し入れが不能となる恐れがあると
共に、削り取られた微細な破片が処理液中に混入してウ
エハWに付着したり処理液を汚染させて当該ウエハWの
性能を著しく低下させて使用不能にさせる。
【0006】また従来構造のバスケットAでは、上記ス
リット7とスリット11またスリット8とスリット12
が、各々ウエハWの挿入方向に沿って各々整合状態で上
下に配設されているので、厚いウエハWを隣接する各リ
ブ2,2間と各リブ9,9間および各リブ4,4間と各
リブ10,10間に各々挿入されると、当該ウエハWで
全ての各スリット7,8,11,12の一部が今迄以上
に内側から閉塞され、処理液の流動が悪くなってしまう
ことになる。特に厚みを増加した大径ウエハの場合に
は、液切れを良くするため最も重要な下部側の各スリッ
ト11,12がその厚み増加分だけ塞がれるので、ここ
に処理液が滞留し易くなって均一で良好な処理を行う上
できわめて好ましくなかった。しかし、これを防ぐため
に各リブ間のピッチを大きくして間隔を広げると、ウエ
ハWの収納枚数が少なくなって処理能力が低下すると共
に、各リブ間でウエハWが揺動する遊び空間が大きくな
って隣接するウエハWが相互に接触して損傷する恐れも
あるので、むやみにピッチを大きくすることはできな
い。
【0007】更に、上記した各スリット7,8,11,
12のうちで特に台部5,6に穿設された傾斜状のスリ
ット11,12は、上下方向へ連通されて最後の液切れ
を行う極めて重要な個所であり、このスリット11,1
2が上記のようにウエハWで閉塞されたり、落下したウ
エハWの衝撃等でスリット11,12の口縁部が損傷し
て滑面が毛羽立つた状態になると、この部分で処理液の
澱みを生じて均一な処理ができなくなる。そこで本考案
では、これらの課題を解決して大径で重量や厚みの増加
したウエハに適合し得る半導体ウエハ用バスケットの提
供を目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ために本考案の半導体ウエハ用バスケットでは、内面に
ウエハの挿入溝を形成する縦方向に延在した多数のリブ
が長手方向へ所定ピッチ毎に並列状に設けられた両側壁
と、この両側壁の両端部間を各々連結する左右の支持板
と、両側壁の下方に位置して当該両側壁の内側へ対向状
に各々突設された脚台部とで上下が開口する箱形に形成
され、上記の各リブを含む両側壁は上部側がほぼ垂直状
で下部側は内側へ傾斜状に延在されると共に、当該各リ
ブが終端する両側壁の下端部には挿入されたウエハの下
方縁部を担持する第1の受台部が形成され、この第1の
受台部の斜め下方には当該受台部の傾斜面の延長線上に
沿った傾斜状をした第2の受台部が上記脚台部の上面に
形成され、この第2の受台部には担持したウエハを隔置
させる間隔保持部材が上記リブと整合する所定ピッチ毎
に並列状に配置され、この間隔保持部材は平坦な傾斜面
上に突設された位置決め突起で形成されると共に、当該
位置決め突起は基部側が大径で先端部を小径にした円錐
台形状とし、上記した第1の受台部と第2の受台部との
間には幅広な開放窓孔が穿設された構成とする。 また、
本考案の他の半導体ウエハ用バスケットでは、間隔保持
部材に用いる位置決め突起を、望ましくは基部側が大径
で先端部を小径にした円錐台形状にすると共に、隣接す
る各位置決め突起の基部側相互間が形成する間隔を、隣
接する各リブの相互間が形成する間隔より僅かに狭くし
た構成とする。
【0009】
【実施例】以下に、本考案を図1乃至図4で図示の実施
例に基づいて詳細に説明する。このバスケツト30は、
長手方向に沿って平行する両側壁31,32と、この両
側壁31,32の両端部間を各々連結する左右の支持板
33,34と、両側壁31,32の下方に位置して当該
両側壁31,32の内側へ対向状に設けられた脚台部3
7,38とで上下が開口する箱形に形成され、全体が弗
素樹脂材で一体成型されている。このバスケツト30に
は、収納されされたウエハWの下方縁部を担持するため
に傾斜状をした受台部が設けられているが、この受台部
は上記した両側壁31,32の下端部に形成された第1
の受台部35A,36Aと、上記した脚台部37,38
の上面に形成された第2の受台部35B,36Bとで構
成されている。
【0010】上記両側壁31,32の内面には、隣接相
互間にウエハWの挿入溝41,42を形成する縦方向へ
延在した多数のリブ39,40が当該両側壁31,32
の長手方向へ所定ピッチ毎に並列状に設けられ、この挿
入溝41,42の背部にはバスケツト30の内外を連通
させる縦長のスリット41a,42aが穿設されてい
る。また、上記両側壁31,32と各リブ39,40は
上部側がほぼ垂直状で下部側は内側へ傾斜状に延在され
ていると共に、各リブ39,40は互いに対向状に突設
されている。またこれらの各リブ39,40は、中間部
において隣接する相互間が補強リブ43,44によって
連結され、当該各リブ39,40は上記した第1の受台
部35A,36Aに終端部分が連結されている。
【0011】次に、上記した第1の受台部35A,36
Aと第2の受台部35B,36Bとの間にはバスケツト
30の内外を連通させる幅広な開放窓孔45,46が穿
設され、一部は適宜数の補強リブ45a,46aによっ
て連結されている。また、第2の受台部35B,36B
には担持したウエハWの下方縁部を係止して隔置させる
間隔保持部材としての位置決め突起47,48が設けら
れている。この位置決め突起47,48は、上記各リブ
39,40の延長線上に整合する態様で所定ピッチ毎に
並列状に配設されており、当該位置決め突起47,48
は円錐台形状で隣接する位置決め突起の基部側相互間に
形成される間隔が、上記各リブ39,40の隣接相互間
の間隔よりも僅かに狭くなるようにしている。尚、上記
した第1の受台部35A,36Aと第2の受台部35
B,36BはウエハWの外周面に適合する円弧状面に形
成されている。
【0012】上記のバスケツト30にウエハWを収納す
る際に、ウエハWをリブ39,40の隣接相互間に形成
された挿入溝41,42に挿入させると、ウエハWは上
記リブ39,40および位置決め突起47,48によっ
て隣接相互間の間隔が保持された整列状態で隔置され、
その下方縁部は第1の受台部35A,36Aおよび第2
の受台部35B,36Bの傾斜状をした内面によってそ
れぞれ担持される。このように第1の受台部35A,3
6Aと第2の受台部35B,36BとによってウエハW
の下方縁部を2点で担持すると、ウエハWの挿入時に落
下衝撃が側壁31,32側と脚台部37,38側とに分
散されるので、大径で重量があるウエハWであっても落
下衝撃による当該ウエハWの破損や損傷およびバスケツ
ト30の損傷や変形を軽減させることができる。また、
挿入されたウエハWの下方縁部は点接触状態で2点支持
されると共に、その中間部にはバスケツト30の内外を
連通させる幅広な開放窓孔45,46が穿設されている
ので、大径で厚みのあるウエハWであっても洗浄液その
他の処理液に対する液切れを良くすることができる。更
に、バスケツト30内の各ウエハWは上部側はリブ3
9,40により下部側は位置決め突起47,48によっ
てそれぞれ所定間隔に隔置されるようにしたので、従来
構造のバスケツトに比べてウエハWの挿入が容易で且つ
間隔保持を確実にすることができる。すなわち、リブ3
9,40と位置決め突起47,48との隣接相互間が形
成する挿通幅は、従来構造の一連のリブの場合のように
一定ではなく異なった所望幅に設定させることができる
ので、例えば上記実施例のようにリブ39,40側では
ウエハWの挿入が容易で且つ挿入されたウエハWによる
スリット41,42の閉塞を少なくするために上部側が
揺動可能なように挿通幅を広くし、位置決め突起47,
48側では揺動した隣接するウエハW相互が接触しない
ように挿通幅を狭くして間隔保持を計ることができる。
【0013】尚、本考案は上記した実施例に限定される
ものではなく、要旨の範囲内において各種の変形を採り
得るものであって、例えば上記した開放窓孔45,46
間の補強リブ45a,46aは省略することができる。
更に、上記した挿入溝41,42の背部にスリット41
a,42aを穿設しないで全面を側壁にして有底の挿入
溝によるバスケツト構造とすることもできる。
【0014】
【考案の効果】上記した実施例でも明らかなように、本
考案による半導体ウエハ用バスケットでは次のような効
果を奏する。このバスケツトでは、収納されるウエハの
下方縁部を第1の受台部と第2の受台部の傾斜状をした
内面によってそれぞれ担持して挿入時の落下衝撃を側壁
側と脚台部側とに分散されるようにしたので、大径で重
量のあるウエハであっても落下衝撃によるウエハの破損
や損傷およびバスケツトの損傷や変形を軽減させること
ができる。また、挿入されたウエハの下方縁部は点接触
状態で2点支持されると共に、その中間部にはバスケツ
トの内外を連通させる幅広な開放窓孔が穿設されている
ので、大径で厚みのあるウエハであっても洗浄液などの
処理液が滞留が防止されて液切れを良くすることができ
る。更に、収納されたウエハは上部側が側壁のリブで下
部側は当該リブとは分離形成された脚台部側の間隔保持
部材によってそれぞれ間隔保持された整列状態で隔置さ
れるので、従来構造の一連のリブの場合のようにウエハ
の挿入される挿通幅が一定に規制されずに、ウエハの挿
入並びに当該ウエハに対する処理液の流動に適した所望
の挿通幅に個別に設定させることができる。特に、脚台
部側の間隔保持部材は平坦な傾斜面上に突設された位置
決め突起で形成されると共に、当該位置決め突起は基部
側が大径で先端側を小径にした円錐状としたことによっ
て、一定幅の溝で形成された間隔保持部材と比べて洗浄
液などの処理液が滞留が防止されて液切れを良くするこ
とができる。更に、隣接する各位置決め突起の基部側相
互間が形成する間隔を、側壁の各リブの相互間が形成す
る間隔より僅かに狭くする形態を採ると、当該位置決め
突起によって隣接するウエハ相互が接触しないように間
隔を保持させると共に、それより挿通幅を広くしたリブ
側ではウエハの挿入が容易で且つウエハによるスリット
の閉塞を少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の実施例による半導体ウエハ用バスケッ
トの一部を破断して示す要部斜視図。
【図2】同バスケットの全体を示す平面図。
【図3】同バスケットの全体を示す正面図。
【図4】図2のB−C線に沿った縦断面図。
【図5】従来例による半導体ウエハ用バスケットの全体
斜視図。
【図6】同バスケットの正面図。
【図7】図6のB−B線に沿った縦断面図。
【符号の説明】
30 バスケツト 31,32 側壁 33,34 支持板 35A,36A
第1の受台部 35B,36B 第2の受台部 37,38 脚台
部 39,40 リブ 41,42 挿入
溝 43,44 補強リブ 45,46 開放
窓孔 47,48 位置決め突起 W ウエハ

Claims (3)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内面にウエハの挿入溝を形成する縦方
    向に延在した多数のリブが長手方向へ所定ピッチ毎に並
    列状に設けられた両側壁と、この両側壁の両端部間を各
    々連結する左右の支持板と、両側壁の下方に位置して当
    該両側壁の内側へ対向状に各々突設された脚台部とで上
    下が開口する箱形に形成され、上記の各リブを含む両側
    壁は上部側がほぼ垂直状で下部側は内側へ傾斜状に延在
    されると共に、当該各リブが終端する両側壁の下端部に
    は挿入されたウエハの下方縁部を担持する第1の受台部
    が形成され、この第1の受台部の斜め下方には当該受台
    部の傾斜面の延長線上に沿った傾斜状をした第2の受台
    部が上記脚台部の上面に形成され、この第2の受台部に
    は担持したウエハを隔置させる間隔保持部材が上記リブ
    と整合する所定ピッチ毎に並列状に配置され、この間隔
    保持部材は平坦な傾斜面上に突設された位置決め突起で
    形成されると共に、当該位置決め突起は基部側が大径で
    先端部を小径にした円錐台形状とし、上記した第1の受
    台部と第2の受台部との間には幅広な開放窓孔が穿設さ
    れていることを特徴とした半導体ウエハ用バスケット。
  2. 【請求項2】 内面にウエハの挿入溝を形成する縦方
    向に延在した多数のリブが長手方向へ所定ピッチ毎に並
    列状に設けられた両側壁と、この両側壁の両端部間を各
    々連結する左右の支持板と、両側壁の下方に位置して当
    該両側壁の内側へ対向状に各々突設された脚台部とで上
    下が開口する箱形に形成され、上記の各リブを含む両側
    壁は上部側がほぼ垂直状で下部側は内側へ傾斜状に延在
    されると共に、当該各リブが終端する両側壁の下端部に
    は挿入されたウエハの下方縁部を担持する第1の受台部
    が形成され、この第1の受台部の斜め下方には当該受台
    部の傾斜面の延長線上に沿った傾斜状をした第2の受台
    部が上記脚台部の上面に形成され、この第2の受台部に
    は担持したウエハを隔置させる間隔保持部材が上記リブ
    と整合する所定ピッチ毎に並列状に配置され、この間隔
    保持部材は平坦な傾斜面上に突設された位置決め突起で
    形成されると共に、隣接する各位置決め突起の基部側相
    互間が形成する間隔を、上記した隣接する各リブの相互
    間が形成する間隔より僅かに狭くし、上記した第1の受
    台部と第2の受台部との間には幅広な開放窓孔が穿設さ
    れていることを特徴とした半導体ウエハ用バスケット
  3. 【請求項3】 上記位置決め突起は、基部側が大径で
    先端部を小径にした円錐台形状とした請求項2に記載の
    半導体ウエハ用バスケット。
JP1992044404U 1992-06-04 1992-06-04 半導体ウエハ用バスケット Expired - Lifetime JP2585005Y2 (ja)

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