JPH04275715A - 弾性表面波装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、弾性表面波装置に関
するもので、特に、誘電体基板上に圧電薄膜が形成され
た圧電基板を用いる弾性表面波装置に関するものである
。

【０００２】

【従来の技術】この発明にとって興味ある弾性表面波装
置として次のような構造のものがある。

【０００３】すなわち、誘電体基板としてガラス基板が
用いられ、その上に圧電薄膜としてのＺｎＯ薄膜が形成
された圧電基板が用いられる。ガラス基板とＺｎＯ薄膜
との界面上には、たとえばアルミニウムからなるインタ
ディジタルトランスデューサが設けられる。このような
構造の弾性表面波装置は、通常、圧電基板における弾性
表面波の発生および伝搬を妨げないように空隙を形成し
て、樹脂によってモールドされる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
構造の弾性表面波装置には、以下に述べるような問題が
あった。

【０００５】すなわち、ガラス基板を構成するガラスは
、引張強度が小さく、機械的衝撃、または端子取付のた
めの半田付けによる熱ストレスにより、クラックが発生
しやすい。

【０００６】また、ガラス基板の、ＺｎＯ薄膜が形成さ
れた面とは逆の面は、バルク波の発生を防止するため、
サンドブラストにより荒らされなければならず、そのた
めの工程が煩雑である。

【０００７】なお、引張強度の低いガラス基板の代わり
に、このような強度の高いアルミナ基板を用いることも
考えられるが、ＺｎＯ／アルミナ構造では、弾性表面波
の速度分散性が大きく、設計どおりのフィルタ特性を得
ることができない。

【０００８】それゆえに、この発明の目的は、圧電基板
として誘電体基板上に圧電薄膜が形成されたものを用い
る弾性表面波装置において、上述したような問題を解決
しようとすることである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この発明は、誘電体基板
上に圧電薄膜が形成され、前記誘電体基板と前記圧電薄
膜との界面上にインタディジタルトランスデューサが設
けられた、弾性表面波装置に向けられるものであって、
上述した技術的課題を解決するため、前記誘電体基板と
して、アルミナ基板上にガラスをλ以上３λ以下（λ：
波長）の厚みでコーティングしたものを用いることを特
徴としている。

【００１０】

【作用】この発明によれば、ガラスのコーティングによ
り平滑な表面を与え、速度分散性に関しては、アルミナ
基板の影響を受けない。また、ガラスの強度不足は、ア
ルミナ基板によって補償される。

【００１１】なお、この発明において、コーティングさ
れるガラスの厚みを、λ以上３λ以下（λ：波長）の範
囲に選んだのは、λ未満であると、アルミナ基板の影響
が大きく現われ、たとえばフィルタに適用した場合、所
望のフィルタ特性を得ることができず、他方、３λを超
えると、誘電体基板としてガラス基板を用いた従来の場
合と同様、ガラスの低い引張強度に起因する問題が顕著
に現われてくるからである。

【００１２】

【発明の効果】したがって、この発明によれば、誘電体
基板として、ガラスを所定の厚みでコーティングしたア
ルミナ基板を用いているので、従来のガラス基板を用い
た場合に比べて、強度が増し、クラック発生が防止され
る。また、所定の厚みのガラスコーティングにより、速
度分散性に関しては、アルミナ基板の影響を受けない。 そのため、信頼性の高い弾性表面波装置を提供すること
ができる。

【００１３】また、ガラスをコーティングする前のアル
ミナ基板の表面粗さをある程度大きくすることにより、
ガラス基板を用いた従来においてバルク波を抑制するた
めに行なわれていたサンドブラスト工程が不要になる。 そのため、製造工程数の低減を図ることができる。

【００１４】

【実施例】図１は、この発明の一実施例による弾性表面
波装置を示す斜視図である。図１には、より特定的には
弾性表面波フィルタ１が示されている。

【００１５】この弾性表面波フィルタ１は、圧電基板と
して、誘電体基板２に圧電薄膜となるＺｎＯ薄膜３が形
成されたものを用いており、誘電体基板２とＺｎＯ薄膜
３との界面上には、いずれか一方が入力側となりいずれ
か他方が出力側となるインタディジタルトランスデュー
サ４および５が設けられている。

【００１６】この発明の特徴は、誘電体基板２の材質お
よび構造にある。すなわち、誘電体基板２として、アル
ミナ基板６上にガラス７をλ以上３λ以下（λ：波長）
の厚みでコーティングしたものが用いられる。アルミナ
基板６にガラス７をコーティングするため、通常、グレ
ーズ処理と呼ばれる処理が実施される。このようなグレ
ーズ処理を施す前のアルミナ基板６の表面８は、ある程
度荒らされておくことが好ましい。

【００１７】この実施例では、インタディジタルトラン
スデューサ４および５の各々の引出し部９，１０，１１
，１２は、それぞれ、スルーホール電極１３，１４，１
５，１６に電気的に接続され、これらスルーホール電極
１３〜１６を介して外部との電気的接続が達成されるよ
うにされている。なお、スルーホール電極１３〜１６は
、半円筒状のものとして図示されているが、これは、弾
性表面波フィルタ１の製造方法に起因している。すなわ
ち、チップ状の弾性表面波フィルタ１は、実際には、多
数の弾性表面波フィルタ１を形成した親基板を切断する
ことによって得られるもので、このような親基板の段階
では、スルーホール電極１３〜１６は、円筒状をなして
いる。親基板からの切断は、このような円筒状のスルー
ホール電極を２分割するように行なわれるため、切断に
よって得られた弾性表面波フィルタ１には、半円筒状の
スルーホール電極１３〜１６が形成されることになる。

【００１８】このように、スルーホール電極１３〜１６
が形成されていると、半田付けにより引出し部９〜１２
のそれぞれに端子を取付けるための工程が不要となり、
弾性表面波フィルタ１の製造の能率を高めることができ
る。

【００１９】弾性表面波フィルタ１は、たとえば、次の
ような手順で作製されることができる。すなわち、まず
、アルミナ基板６が用意され、その上に、グレーズ処理
によりガラス７のコーティングが施される。次いで、イ
ンタディジタルトランスデューサ４および５が、アルミ
ニウムを蒸着した後、フォトリソグラフィ技術を用いて
パターン加工することにより、ガラス７上に形成される
。次に、スルーホール電極１３〜１６が形成されるとと
もに、ＺｎＯ薄膜３がインタディジタルトランスデュー
サ４および５を覆うように形成される。なお、スルーホ
ール電極１３〜１６の形成とＺｎＯ薄膜３の形成との順
序が逆にされてもよい。

【００２０】弾性表面波フィルタ１は、従来の場合と同
様、樹脂外装が施されてもよいが、好ましくは、図２に
示すように、樹脂外装に代えて、アルミナからなるキャ
ップ１７をパッケージング部材の一部として用いてもよ
い。キャップ１７は、その下面に凹部１８を有し、イン
タディジタルトランスデューサ４および５（図１）と接
触しないようにされながら、誘電体基板２に対してたと
えばエポキシ樹脂により接着される。

【００２１】このように、アルミナからなるキャップ１
７を用いることにより、このキャップ１７とアルミナ基
板６とによって外装を構成することができる。キャップ
１７は、アルミナ基板６と同じアルミナから構成される
ので、膨張係数が小さくかつアルミナ基板６と同じであ
るため、高い信頼性をもって誘電体基板２に接合される
ことができる。また、アルミナ基板６を外装の一部とし
て機能させることができるので、パッケージングされた
弾性表面波フィルタ１の低背化を図ることができる。

【００２２】図３は、上述した弾性表面波フィルタ１に
よって得られる周波数特性の一例を示す図である。この
図には、ガラス７の厚みが８０μｍ（λ＝４７μｍ）と
された場合を示している。この図からわかるように、フ
ィルタとして必要な通過帯域特性が得られている。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例による弾性表面波フィルタ
１を示す斜視図である。

【図２】図１に示した弾性表面波フィルタ１にキャップ
１７を取付けた状態を示す斜視図である。

【図３】図１に示した弾性表面波フィルタ１によって得
られた周波数特性の一例を示す図である。

【符号の説明】

１　　弾性表面波フィルタ（弾性表面波装置）２　　誘
電体基板 ３　　ＺｎＯ薄膜（圧電薄膜） ４，５　　インタディジタルトランスデューサ６　　ア
ルミナ基板 ７　　ガラス

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　誘電体基板上に圧電薄膜が形成され、
   前記誘電体基板と前記圧電薄膜との界面上にインタディ
   ジタルトランスデューサが設けられた、弾性表面波装置
   において、前記誘電体基板として、アルミナ基板上にガ
   ラスをλ以上３λ以下（λ：波長）の厚みでコーティン
   グしたものを用いることを特徴とする、弾性表面波装置
   。