JPH04274199A - マイクロ波放射器 - Google Patents

マイクロ波放射器

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JPH04274199A
JPH04274199A JP3258824A JP25882491A JPH04274199A JP H04274199 A JPH04274199 A JP H04274199A JP 3258824 A JP3258824 A JP 3258824A JP 25882491 A JP25882491 A JP 25882491A JP H04274199 A JPH04274199 A JP H04274199A
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JP
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microwave
dielectric
waveguide
window
plasma
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JP3258824A
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Michael Heinemann
ミヒャエル ハイネマン
Zeder Bernhard
ベルンハルト ゼーダー
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Roehm GmbH Darmstadt
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Roehm GmbH Darmstadt
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    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32192Microwave generated discharge
    • H01J37/32211Means for coupling power to the plasma
    • H01J37/32229Waveguides
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    • H01J37/32192Microwave generated discharge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q13/00Waveguide horns or mouths; Slot antennas; Leaky-waveguide antennas; Equivalent structures causing radiation along the transmission path of a guided wave
    • H01Q13/20Non-resonant leaky-waveguide or transmission-line antennas; Equivalent structures causing radiation along the transmission path of a guided wave
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    • H01Q19/00Combinations of primary active antenna elements and units with secondary devices, e.g. with quasi-optical devices, for giving the antenna a desired directional characteristic
    • H01Q19/06Combinations of primary active antenna elements and units with secondary devices, e.g. with quasi-optical devices, for giving the antenna a desired directional characteristic using refracting or diffracting devices, e.g. lens
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の波長の長さ伸張
部(Laengenausdehnung)を有する放
射領域を発生させるための、特に均一な低圧プラズマを
形成するためのマイクロ波放射器に関する。放射領域と
は、マイクロ波ビームが放出する平面領域である。
【0002】
【従来の技術】欧州特許公開第335675号明細書か
ら、複数の波長の長さ伸張部にわたって均一なプラズマ
を発生させるマイクロ波放射器が公知である。該放射器
はマイクロ波放射源と、金属製のマイクロ波導波管と、
複数の波長の長さ伸張部を有しかつ該導波管からのマイ
クロ波ビームを放出する窓とを有する。導波管から出す
るマイクロ波ビームをできるだけ大きな放射面に分配す
るためには、ビームの放出口を一連の個々の開口に分配
するかまたはその幅を放射源からの距離が増大するに伴
い大きくすることができる。どちらの装置も十分に均一
なビームを発生しない。それにもかかわらず均一なプラ
ズマを発生させるためには、放出口からかなり長い距離
をおいて、たとえば石英ガラスからなる円筒または半円
筒体の形に形成された、マイクロ波を透過する隔壁が設
けられる。隔壁の内部には、空気がプラズマを形成しな
い圧力で存在する。放出口から隔壁までの距離が長いた
めに、放射器は著しい大きさを有し、該大きさはプラズ
マを発生するためになお著しく大きな真空装置を必要と
する。このようにして、プラズマは、たとえば連続的に
走行する基板を処理するのに好ましいように局在化およ
び制限されない。
【0003】比較的広い幅にマイクロ波ビームを分配す
るもう1つの原理は、西独国特許出願公開第31479
86号明細書から公知である。この場合には、ビームを
表面導波管に導き、該導波管からビームをビーム透過性
窓を通して空室に入射させる。均一なビームを得るため
には、多くの放射源と表面導波管が必要である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、マイ
クロ波放射器をできるだけ小さく構成し、かつ高い均一
性と同時に複数の波長の伸張部にわたって放射領域の正
確な局在化および制限を達成することであった。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記課題は、マイクロ波
放射源と、誘電体が充填された金属製のマイクロ波導波
管と、複数の波長の長さ伸張部を有しかつマイクロ波ビ
ームを放出する窓とを有する形式の、複数の波長の長さ
伸張部を有する放射領域を発生させるマイクロ波放射器
から出発し、誘電体を包囲する導波管の横断面もしくは
窓の周辺の誘電体が、マイクロ波放射源からの距離が増
加するに伴い漸進的に減少しかつ/または誘電体の誘電
率が増大することにより解決される。
【0006】
【実施例】次に、図面1〜6を参照して本発明を説明す
る。
【0007】放出窓の周辺の減少する横断面は、誘電体
の内部の電界強度を、放出窓を透過したマイクロ波ビー
ムの放射にもかかわらず該放出窓の全長さにわたって実
質的に一定に維持する効果を有する。この目的のために
、横断面の減少は、放射出力の電界強度への作用が放出
窓の長さにわたってまさに補償されるように設計する。
【0008】誘電体がガス状である場合は、該誘電体は
導波管の壁により制限される。この場合は、導波管の横
断面積は誘電体の横断面積に等しい。これに対して誘電
体として固体を使用する場合は、該誘電体の横断面積を
減少させれば十分であり、一方放出窓の周辺の導波管の
横断面積は場合により同じに維持することができる。
【0009】横断面減少と同じ効果は誘電率の漸進的増
加を有する。場合により両方の効果を互いに組み合わせ
ることができる。漸進的に増大する誘電率を有する材料
は入手困難であるので、本発明のこの実施態様は実用的
意義が少ない。
【0010】本発明にもとづくマイクロ波放射器は、プ
ラズマ処理装置のコンパクトな構造を可能にする、とい
うのもすでに導波管からきわめて均一なビームが放出し
かつ均一な、制限されかつ正確に局在化されたプラズマ
の形成が可能になるからである。プラズマ中の処理すべ
き基板は、導波管の放出窓の前に直接配置するかまたは
連続的にそばを通過させることができる。
【0011】新規マイクロ波放射器を用いると、低圧プ
ラズマ中にきわめて薄い層を製造することができ、該層
はその高い均一性により透明な基板上にニュートンリン
グまたは類似の妨害する干渉現象を発生しない。
【0012】以下に、マイクロ波放射器の用途について
説明する。
【0013】新規マイクロ波放射器は、そのような放射
器のあらゆるタイプの用途に、たとえばマイクロ波を吸
収する基板を加熱するために適している。しかしながら
、本発明は、有利には低圧プラズマを発生させるために
、特に平面状基板に被覆するために役立つ。そのような
被膜は、自体公知方法で、たとえば被膜を形成するガス
または蒸気、たとえばシランまたは炭化水素により、プ
ラズマ作用下で1分間に約1マイクロメートルの高い析
出率で形成することができる。
【0014】発明の理論的基礎は、以下の通りである。
【0015】マイクロ波プラズマの不均一性の重要な原
因は、高周波の反射により形成される定在波である。そ
れに相当して、マイクロ波放射器の構成においては、反
射する電気的衝突箇所をできるだけ回避しなければなら
ない。このことはマイクロ波ビームの無限の、長手方向
の伸張により理論的には可能であるが、実際はこのため
にアンテナ端部に波抵抗に等しい吸収体を用意する。
【0016】また適合された、すなわち反応の無い、閉
鎖された導波管の高周波の残留リプルもプラズマ内に不
均一性を形成し、その周期はマイクロ波長により決まる
。圧力および電力に依存した、プラズマの一定の体積膨
張に基づき、この均一性は最大値間の距離が減少するに
伴い隣接した波の山間が拡散することにより増大する。
【0017】相対誘電率ERを有する適当な誘電体を電
磁界に挿入すると、波長を係数1/sqr(ER)だけ
短くすることができる。
【0018】市場には、たとえばそのER値が10より
はるかに高く、かつギガヘルツ周波数においてなお低い
損失率を有するセラミックが存在する。頻繁に使用され
る周波数2.45GHzに関しては、86mm×86m
mの長方形導波管にER=20の誘電体を充填すること
により波長を122.5mmから27.4mmに短くす
ることができる。
【0019】すでに記載したように、プラズマの体積膨
張は、時として、放射器に沿って波状に分布する出力P
の関数である。所定の出力で理論的に要求される体積が
実際に存在する体積より大きくなるようにプラズマ空間
を狭くすると、電子加熱と膨張との間の競合効果により
放射体表面に平行にプラズマの拡張が生ずる。空間的に
は、このことはプラズマ制限面の対向側の接近を意味し
、これは拡散の補償を効果的に行う。
【0020】プラズマは有利には電界強度の最も大きな
位置、従って給電位置で燃焼するので、放射器に沿って
均一な出力分布が存在しなければならない。このことは
図1および図3に略示されるように、本発明に基づき放
射器のもしくは窓の周辺の誘電体の形状により実現され
る、それというのも準光学的に観察すると、空気もしく
は真空/プラズマに対してきわめて密でありかつ部分的
に透過する鏡に類似しているからである。図2に示され
るように、入射角AがER、周波数および放射器の形に
依存する、衝突する波面を部分的に反射させ、かつ供給
位置からさらに遠ざけて、電力バランスに寄与させるこ
とができる。
【0021】プラズマ均一化のためのもう1つの手段は
、本発明に基づき電界強度曲線に影響を及ぼすことによ
り行われる。
【0022】位置S1(図2)で利用される出力P(全
量)はS1とS2の間の範囲内で出力結合された出力d
Pだけ減少する。従って、位置P2に関して以下の方程
式が当て嵌まる: P2=P(全量)−dP が適用される。
【0023】更に、以下の方程式が成り立つ:
【002
4】
【数1】
【0025】上記式中、 E=導波管の窓での観察位置における電界強度m=導波
管の広幅(a)に関する間隔係数
【0026】
【数2】
【0027】n=導波管の狭幅側(b)に関する間隔係
【0028】
【数3】
【0029】ER=相対誘電率 λo=真空波長 μr=相対透磁率 p=導波管の窓での観察位置における利用されるマイク
ロ波出力。
【0030】本発明に基づき、通常の長方形導波管とは
異なる形の導波管により、電界強度分布、ひいてはプラ
ズマのきわめて効果的な制御が可能になる。
【0031】導波管の形の算定は、前記の影響、および
一定の幅の放射器開口に沿ったあらゆる点での電界強度
を同じ大きさに保つ要求を考慮して行う。たいていの場
合、理論的に正確な形は著しく複雑であるが、面aおよ
び/またはb(図1〜図3)がくさび形に先が細く形成
されれば十分であることが判明した。もちろん、一定の
辺の長さaおよびbを下回る際のモードの急激な変化の
発生ないしはカットオフ波長の下での導波の遮断を考慮
すべきである。
【0032】低圧プラズマ被覆装置の構成マイクロ波ビ
ームは、周波数1〜15GHzを有する通常の構造の放
射源から出発する。周波数2.45GHzが有利であり
、これは真空中での波長122.5mmに相当する。ビ
ームは従来方法では供給位置25から金属製のマイクロ
波導波管14に導入し、該導波管は前記形式のビームの
ために有利には43×86mm(内寸)の長方形の横断
面を有する。
【0033】導波管14には、放出窓7に至るまで、可
能なかぎり小さい損失係数の誘電体が充填している。適
当な誘電体は自体公知である、これにはグロー放電が開
始しない、すなわち0.01バールより高い圧力を有す
るガスおよび相応して低い損失係数の合成樹脂またはセ
ラミック材料が属する。
【0034】プラズマ被覆装置においては、ガス状また
は液状誘電体を使用する場合に導波管14と真空室15
との間に耐圧性の放出窓7が必要である。該窓は、場合
により発生する圧力差に耐えるために十分な機械的強度
を有し、マイクロ波を十分に透過する材料からなる。石
英ガラス板およびセラミック材料が適当である。たとえ
ば合成樹脂からなる固体の誘電体を使用する場合は、該
誘電体の外面を同時に放出窓として使用することができ
る。
【0035】図4から、本発明にもとづくプラズマ被覆
装置の基本構造が明らかである。ふた1、内壁2および
底面3がポンプ4により真空化可能な真空室15を形成
する。入口5を経て、被覆のために使用する反応ガスを
流入させることができる。適当な反応ガスは、たとえば
シラン、たとえばトリメトキシメチルシラン、シロキサ
ン、たとえばヘキサメチルジシロキサン、アクリレート
、たとえばメチルアクリレートまたはメチルメタクリレ
ート、酸素または希ガス、たとえばアルゴンである。 放出窓7に向いあって配置された基板19およびその背
後に存在するソリッド18はプラズマ燃焼室を制限する
。ロッド21を用いてソリッド18およびそれと一緒に
該ロッドに隣接する基板19を、プラズマを形成するの
に適した位置に移動させることができる。
【0036】有利には、内壁2は真空密に閉鎖可能な扉
22の形に形成され、該扉にロッド21を介してソリッ
ド18および該ソリッドに取り付けられた基板19が固
定されている。喚気した真空室15の開口を通して、基
板19を導入もしくは取り出すことができる。帯状の基
板に連続的に走行で被覆するためには、ロッド21およ
びソリッド18の代わりに、基板を一定の、調整可能な
速度でプラズマを通過させるために適当な装置が必要で
ある。真空室に基板の繰出しロールを収容させる場合は
、電動機で駆動される搬送装置を用いて帯状物を一方の
ロールから繰出し、プラズマを通過させ、その後再び巻
取る。基板が巻取り不能であるかまたは真空室に収容す
るのに大きすぎる場合は、連続的被覆のためにプラズマ
の両面に2つの気密のゲートにより導入もしくは導出し
なければならない。
【0037】高周波出力はフランジ17を介して導波管
に入力結合することができる。導波管の内部空間14に
は、固体の誘電体またはそのままで有効なガスが充填さ
れている。
【0038】マイクロ波放射器は内壁6および放出窓7
により制限され、該窓は熱安定性および高周波安定性の
、誘電体としてはたらく材料からなり、かつ保持機構8
により気密かつ耐圧性ユニットに螺合されている。
【0039】放射器6は金属製隔壁9により2つの領域
、すなわちその機能が前記の原理に相当する前方の導波
管14と、H10導管の規模を有する吸収体通路13と
に分割されている。アンテナ端部に到着するエネルギは
、定在波を避けるために、反射されるべきでない。従っ
て、このエネルギを結合素子10により通路13に迂回
し、該チャンネルは残留ビームを吸収するために電気的
に適合されたウオータラスト16で終端されている。 結合素子は金属、たとえば銅からなる。ウオータラスト
16は、マイクロ波ビームを吸収する作用を有する。ウ
オータラストは水が貫流するガス管からなっていてもよ
い。結合素子10においてインピーダンスへの正確な適
合を可能にするために、該結合素子は高周波に耐える絶
縁材からなる保持機構20により調整可能に固定されて
いる。
【0040】調節可能な金属製の内壁部分11により、
導波管横断面を漸進的に減少させることができる。窓の
周辺の誘電体は、このようにして、図1および図2に示
される形に相当するくさび形の形状を有する。調整角度
Wは、最良には経験的に固定する。この角度は、放出窓
の端部でプラズマが始めと同じ強度を達成できる大きさ
であるべきである。通常は調整角度Wはほぼ5°である
。該角度が最適に調整されない場合は、プラズマを放出
窓の一方のまたは他方の端部に移動する。調節できる内
壁部分11の平行移動により、モードの急激な変化を排
除することができる。空間12は機能しない。
【0041】別の(図示されない)実施例では、内壁部
分11の代わりに放出窓が導波管の縦軸に対して傾斜し
て配置されている、従って窓が再びくさび形の空間で終
端されている。
【0042】導波管横断面はまた図6に相当して傾斜し
た内壁部分40,41により先が細くなっていてもよく
、この場合には図3に示されるくさび形が生ずる。空間
43は機能しないままである。
【0043】プラズマを窓の幅より狭くすべき場合は、
窓を、場合により窓材料の金属被覆の形の金属製ブライ
ンド30により、所望の幅に縮小することができる(図
5)。導波管の内部空間14には、ガスの代わりに塊状
、粉末状または液状の誘電体が充填されていてもよい。 たとえば合成樹脂、たとえばポリメチルメタクリレート
またはポリテトラフルオロエチレンが適当である。 図1〜図3に相当して成形されたくさび形の合成樹脂成
形体は放出開口にまで金属で被覆されており、マイクロ
波ビームを入力結合するための真空密の高周波フランジ
17を備え、かつ真空室に挿入されている。敏感な誘電
体へのプラズマの不利な影響を回避するために、放出窓
を形成する露出した領域にプラズマと高周波に耐える材
料、たとえばDURAN(R)ガラスで被覆することが
できる。
【0044】誘電体の狭い端部に、残留ビームを吸収す
るために有利には適合されたラスト23が存在する。該
ラストは誘電体内の、たとえば水を誘導する、閉鎖され
た通路からなっていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】放出窓の平面に垂直な誘電体もしくは導波管の
縦断面図である。
【図2】放射器内の波の進行経過を示す図である。
【図3】放出窓に向かって見た放射器の別の実施例を示
す図である。
【図4】本発明にもとづくプラズマ被覆装置の断面図を
示す図である。
【図5】図4にもとづく装置に収容される、本発明にも
とづく放射器の斜視図である。
【図6】図2に示された放射器の実施例を示す図である
【符号の説明】
7  放出窓、9  隔壁、11  内壁部分、13 
 吸収通路、14  マイクロ波導波管、15  真空
室、19  基板

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  マイクロ波放射源と、誘電体が充填さ
    れた金属製のマイクロ波導波管と、複数の波長の長さ伸
    張部を有しかつマイクロ波ビームを放出する窓とを有す
    る形式の、複数の波長の長さ伸張部を有する放射領域を
    発生させるマイクロ波放射器において、誘電体を包囲す
    る導波管の横断面もしくは窓の周辺の誘電体が、マイク
    ロ波放射源からの距離が増加するに伴い漸進的に減少し
    かつ/または誘電体の誘電率が増大することを特徴とす
    るマイクロ波放射器。
  2. 【請求項2】  窓がその長さ伸張部にわたって実質的
    に一定の幅を有する請求項1記載のマイクロ波放射器。
  3. 【請求項3】  誘電体が0.01バール以上の圧力を
    有する気体であり、窓がマイクロ波ビームを透過する板
    で閉鎖されている請求項1または2に記載のマイクロ波
    放射器。
  4. 【請求項4】  誘電体がマイクロ波ビームを透過する
    合成樹脂からなる請求項1または2に記載のマイクロ波
    放射器。
  5. 【請求項5】  合成樹脂がポリメチルメタクリレート
    またはポリテトラフルオロエチレンである請求項4記載
    のマイクロ波放射器。
  6. 【請求項6】  導波管の端部にマイクロ波吸収体が配
    置されている請求項1から5までのいずれか1項記載の
    マイクロ波放射器。
  7. 【請求項7】  マイクロ波吸収体が水からなる請求項
    6記載のマイクロ波放射器。
JP3258824A 1990-10-06 1991-10-07 マイクロ波放射器 Pending JPH04274199A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

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DE9013937.2 1990-10-06
DE9013937U DE9013937U1 (ja) 1990-10-06 1990-10-06

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JP3258824A Pending JPH04274199A (ja) 1990-10-06 1991-10-07 マイクロ波放射器

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EP (1) EP0480273A1 (ja)
JP (1) JPH04274199A (ja)
DE (1) DE9013937U1 (ja)

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