JPH04269720A - 表面が改質されたポリマービーズ及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、表面が改質されたポリ
マービーズ及びその製造方法に関し、詳しくは液晶表示
体用のギャップ材として用いられるポリマービーズある
いはファインピッチ電極の異方性導電接合用に使用され
る導電メッキビーズ用のプラスチック基材粒子の表面を
改質する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリマービーズは、従来より種々の分野
に使用されている。例えば、特開昭６２−１２９８１９
号公報には、プラスチックビーズを液晶表示体用のギャ
ップ材として使用することが提案され、特開昭５７−４
９６３２号公報には、ベンゾグアナミン、ホルムアルデ
ヒド樹脂からなるビーズを導電メッキビーズ用の基材粒
子として使用することが提案されている。

【０００３】しかし、これらのポリマービーズは以下に
示すような欠点がある。

【０００４】■ポリマービーズの表面は概して疎水性の
強い傾向をもっている。そのため、水濡れ性が悪く、水
中にポリマービーズを均一に懸濁させることが困難であ
る。

【０００５】■ポリマービーズの表面はマイナスの帯電
性を強く持つ傾向にある。そのため、他の材料へポリマ
ービーズが付着したり、ポリマービーズ同志が凝集する
傾向が著しい。

【０００６】従って、プラスチックビーズを、例えば液
晶表示体用のギャップ材として使用する場合には、ポリ
マービーズを液晶表示体の基板上に均一に分散させるこ
とができない。

【０００７】■ポリマービーズを基材としてその表面に
金属メッキ加工を施す際に、メッキ薬液とのなじみが悪
いためにメッキ加工が容易に実施できない。

【０００８】■ポリマービーズを基材としてその表面に
金属メッキ加工を施して形成された導電メッキビーズに
おいて、基材表面と金属メッキ層との間の親和性が乏し
いために、金属メッキ層の基材表面に対する密着性に欠
ける。

【０００９】ポリマービーズは上記した問題を有してい
るために、その表面を改質することが望まれている。例
えば、特開昭６２−２４２８５７号公報には、過酸化物
等の薬液による湿式処理、低温プラズマ処理、コロナ放
電処理によって、プラスチック成形品の表面を処理する
方法が提案されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかし、湿式酸化処理
、低温プラズマ処理またはコロナ放電処理によって成形
品の表面を処理する場合には、処理効果が経時的に低下
していくという問題がある。低温プラズマ処理は高真空
下で行う必要があるので、装置設計面での制約が多く、
ビーズの表面処理に適していない。

【００１１】本発明は上記従来の問題を解決するもので
あり、その目的とするところは、ポリマービーズの表面
の水濡れ性を良くすることができ、ポリマービーズの凝
集等を防止し、さらにメッキ液とのなじみを良くし、ま
た金属メッキ層の基材表面に対する密着性を高めること
ができる、表面が改質されたポリマービーズ及びその製
造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、表
面処理効果が長く、しかも従来のように、特に高真空下
で表面処理を行う必要のない、表面が改質されたポリマ
ービーズ及びその製造方法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記従来
技術の欠点を解決するために、弗化アルゴンレーザーま
たは水銀ランプを用いてポリマービーズの表面を改質す
ることを行った。

【００１３】すなわち、本発明の表面が改質されたポリ
マービーズは、ポリマービーズの表面に極性基が形成さ
れてなり、該極性基は、弗化アルゴンレーザーから発せ
られる光または水銀ランプから発せられる紫外線を、酸
素を含む気体に照射することにより生成した活性酸素で
ポリマービーズの表面を酸化して形成され、そのことに
より上記目的が達成される。

【００１４】また、本発明の表面が改質されたポリマー
ビーズの製造方法は、弗化アルゴンレーザーから発せら
れる光または水銀ランプから発せられる紫外線を、酸素
を含む気体に照射することにより活性酸素を生成させる
こと、およびこの活性酸素によってポリマービーズの表
面を酸化させ該ポリマービーズ表面に極性基を形成する
ことを包含し、そのことにより上記目的が達成される。

【００１５】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１６】〔弗化アルゴンレーザーを用いてポリマー
ビーズ表面の改質を行う場合〕上記弗化アルゴンレーザ
ーはエキシマレーザーの一種である。エキシマとは、二
つの原子が微小間隔で結合した励起状態にある２量体を
意味し、少なくとも一方の原子が希ガス原子である場合
には、励起エネルギーは非常に大きくなる。このような
エキシマはレーザー媒質として優れた特徴をもっている
。すなわち、励起エネルギーの光エネルギーへの変換効
率が非常に大きいこと、短波長で高強度の紫外線レーザ
ーが得られることなどである。弗化アルゴンによるエキ
シマレーザー光の波長は１９３ｎｍであり、このレーザ
ー光を酸素ガスを含む気体に照射するとき、次式に示す
ように酸素が励起され、活性酸素が生成する。

【００１７】 Ｏ２→Ｏ・＋Ｏ＋＋Ｏ−＋Ｏ２−＋Ｏ−２＋Ｏ−３＋Ｏ
−４本発明では、これらの生成した活性酸素によりポリ
マービーズ表面の改質を行うものである。これらの活性
酸素は、次式の反応によりポリマービーズ表面に極性基
を形成する。

【００１８】

【化１】

【００１９】このような極性基の形成は、例えば、光電
子Ｘ線スペクトル（ＥＳＣＡ）における酸素原子対炭素
原子の比（Ｏ／Ｃ）の増加、赤外線吸収スペクトルにお
けるカルボニル結合による吸収、あるいはゼータ電位の
増大等により確認することができる。

【００２０】以下に、このような極性基の形成に影響を
及ぼす要因について述べる。

【００２１】■弗化アルゴンレーザーから発せられた光
を照射する気体（以下、雰囲気ガスともいう）は、酸素
を含むガスであれば限定されない。例えば、ヘリウムと
酸素の混合ガスや窒素と酸素の混合ガスが好適である。 雰囲気ガス中の酸素濃度が高くなるに従ってポリマービ
ーズ表面に形成される極性基の濃度は高くなる。雰囲気
ガス中の酸素濃度は２０容量％以上が好適である。雰囲
気ガスの圧力は任意に設定することができるが、０．５
〜２．０Ｋｇ／ｃｍ２が好ましく、特に１Ｋｇ／ｃｍ２
前後が好ましい。

【００２２】■ポリマービーズの表面を処理するための
容器（以下、反応容器という）はレーザー光を透過する
材質、例えば、石英ガラス製のものが好適に用いられる
。

【００２３】■反応容器の容積とこの反応容器内に収容
されるポリマービーズ量との比率は、容積１００ｍｌ当
り０．１ｇ〜１０ｇの範囲が好適である。

【００２４】■反応容器内の雰囲気ガスは、絶えず新し
いガスを反応容器内に注入し、かつ容器内の廃ガスを排
気する流動式によりフローさせてもよく、あるいはバッ
チ方式で反応容器内に滞留させてもよい。

【００２５】■ポリマービーズの表面を均一に処理する
ために、反応容器にはビーズに何等かの動きを与えるた
めの装置を備えることが好ましい。このような装置の一
例としては、例えばバイブレーターがある。このバイブ
レーターを用いて反応容器内に直接振動を与えることに
よってビーズを振動させる方式のもの、反応容器の一部
または全体を回転させる方式のもの、外部からのモータ
ー振動により内部のポリマービーズの攪拌を行う方式の
もの等があげられる。

【００２６】■処理時間とともに、ＥＳＣＡ測定による
Ｏ／Ｃ比は増大しやがて一定になる。従って、弗化アル
ゴンレーザーによる処理時間は、反応容器の大きさや形
状により左右されるが、通常６０分以内である。

【００２７】■弗化アルゴンレーザーの光強度Ｈと発振
周波数Ｖとの間には、次の関係がある。

【００２８】Ｈ＝Ｅ・Ｖ 但し、Ｅは発振ピークの光エネルギーである。従って、
発振周波数Ｖを大きくすれば弗化アルゴンレーザーの光
強度Ｈは大きくなり、活性酸素の生成は増大する。通常
、発振周波数Ｖは、５０〜３００Ｈｚの範囲内で設定す
ることが好ましい。

【００２９】■反応容器内にレーザー光を反射させるた
めのミラーを設置してもよい。このミラーによってレー
ザー光の反応容器内での光路長を増すことができるので
、レーザー光による反応効率を増大させることができる
。

【００３０】■使用されるポリマービーズとしては、例
えば、以下の材料のものが用いられる。

【００３１】ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチ
ルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチ
レン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート
、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリフェ
ニレンオキサイド、ポリアセタール等の線状または架橋
高分子；エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂
、不飽和ポリエステル樹脂、ジビニルベンゼン重合体、
ジビニルベンゼン−スチレン共重合体、ジビニルベンゼ
ン−アクリル酸エステル共重合体、ジアクリルフタレー
ト重合体、トリアリルイソシアヌレート重合体、ベンゾ
グアナミン重合体等の網目構造を有する樹脂。

【００３２】上記固体粒子のうちで、特に好ましいもの
は、ジビニルベンゼン重合体、ジビニルベンゼン−スチ
レン共重合体、ジビニルベンゼン−アクリル酸エステル
共重合体、ジアクリルフタレート重合体等の網目構造を
有する樹脂である。

【００３３】以下に、弗化アルゴンレーザーを用いて表
面が改質されたポリマービーズを製造する方法をさらに
詳細に説明する。

【００３４】この方法は、図１に示すレーザー処理装置
を用いて行うことができる。この装置は、バイブレータ
ー４の上にバンド５で固定された反応容器１と、反応容
器１に流量計７を介して接続されたガスボンベ６とを備
えている。反応容器１内にはポリマービーズ２が収容さ
れ、またガスボンベ６から適宜雰囲気ガス３が反応容器
１内に供給されるように構成されている。反応容器１の
上部には排ガスを適宜排出し得る排気口８が設けられて
いる。反応容器１の側方には、弗化アルゴンレーザーが
配置され、この弗化アルゴンレーザーからレーザー光が
反応容器１に向けて照射されるようになっている。

【００３５】上記したように、反応容器１内にポリマー
ビーズ２を収容し、ガスボンベ６から雰囲気ガス３を反
応容器１内に供給しながらこの反応容器１に弗化アルゴ
ンレーザーからの光を照射すると、反応容器１内の雰囲
気ガス３中の酸素が励起して活性酸素を生成する。そし
て、上記のように、この活性酸素がポリマービーズ２の
表面を酸化することにより、ポリマービーズ２の表面に
は極性基が形成されるのである。

【００３６】上記した方法によって従来技術における問
題点が以下のように解決できる。

【００３７】■ビーズ表面に化学的に安定なカルボニル
基、カルボキシル基、水酸基などの極性基が形成される
ため、処理効果が経時的に低下することがほとんど見ら
れない。しかも、これらの極性基がポリマービーズ表面
に高い濃度で導入される。

【００３８】■レーザー光によるポリマービーズ表面へ
の付随的な作用として、アブレーション効果がある。す
なわち、レーザー光のポリマービーズ表面の削り作用に
よる粗面化が起こる。このことによりポリマービーズを
基材として表面に金属メッキ加工を施した導電メッキビ
ーズにおいて、金属メッキ層の基材表面への密着性が改
善される。

【００３９】■弗化アルゴンレーザーによるポリマービ
ーズの処理は大気圧下で行うことが可能であり、例えば
、低温プラズマ処理における高真空の条件は不要である
。そのため、工業的規模の処理設備の設計が容易であり
、特にポリマービーズの処理に適している。

【００４０】なお、上記方法では、反応容器内にポリマ
ービーズを収容しかつ反応容器内に雰囲気ガスを供給し
た状態で、反応容器内に弗化アルゴンレーザーからの光
を照射することにより、反応容器内の雰囲気ガス中の酸
素を励起させるようにしたが、反応容器とは別の容器に
充満した雰囲気ガスにレーザー光を照射することにより
活性酸素を発生させ、この活性酸素をポリマービーズが
収容された反応容器に導入するようにしてもよい。

【００４１】〔水銀ランプを用いてポリマービーズ表面
の改質を行う場合〕水銀ランプから発せられる紫外線を
ポリマービーズに照射する場合には、次のようにポリマ
ービーズ表面が改質される。

【００４２】水銀ランプの揮線スペクトルのうち、活性
酸素の生成にかかわっているのは、１８５ｎｍ及び２５
４ｎｍの二つである。光強度は２５４ｎｍのものが極め
て強く、１８５ｎｍの揮線スペクトルの光強度は２５４
ｎｍの揮線スペクトルの光強度の１／１００程度である
。１８５ｎｍの光は酸素吸収性を持つため、直接活性酸
素の生成に寄与しているが、２５４ｎｍの光は二光子吸
収により活性酸素の生成に寄与していると思われる。

【００４３】活性酸素は、上記の弗化アルゴンレーザー
を用いた場合と同様に、酸素が励起されることにより生
成し、これらの活性酸素によりポリマービーズ表面の改
質が行われる。ビーズ表面の極性基の形成は、上記した
弗化アルゴンレーザーの場合と同じように、例えば、光
電子Ｘ線スペクトル（ＥＳＣＡ）における酸素原子対炭
素原子の比（Ｏ／Ｃ）の増加、赤外線吸収スペクトルに
おけるカルボニル結合による吸収あるいはゼータ電位の
増大等により確認することができる。以下に、このよう
な極性基の形成に影響を及ぼす要因について述べる。

【００４４】■水銀ランプによる紫外線を照射する雰囲
気ガスとしては、弗化アルゴンレーザーの場合と同じよ
うに、酸素を含むガスであれば何であってもよい。例え
ば、ヘリウムと酸素の混合ガスや窒素と酸素の混合ガス
が好適である。雰囲気ガス中の酸素濃度が高くなるに従
ってポリマービーズ表面に形成される極性基の濃度は高
くなる。雰囲気ガス中の酸素濃度は、２０容量％以上が
好適である。雰囲気ガスの圧力は任意に設定することが
できるが、０．５〜２．０Ｋｇ／ｃｍ２が好ましく、特
に１Ｋｇ／ｃｍ２前後が好ましい。

【００４５】■反応容器は、レーザー光を透過する材質
、例えば、石英ガラス製のものが用いられる。

【００４６】■反応容器の容積とポリマービーズ量の比
率は、容積１００ｍｌ当り、０．１ｇ〜１０ｇの範囲が
好適である。

【００４７】■反応容器内の雰囲気ガスは、絶えず新し
いガスを反応容器内に注入し、かつ容器内の廃ガスを排
気する流動式によりフローさせてもよく、あるいはバッ
チ方式で反応容器内に滞留させてもよい。

【００４８】■ポリマービーズの表面を均一に処理する
ために、反応容器には上記と同様にビーズの振動装置を
備えてもよい。

【００４９】■紫外線の照射時間が長くなるにつれて、
ポリマービーズ表面の極性基の濃度は高くなる。通常、
３０分〜３０時間の範囲が好適である。

【００５０】■使用されるポリマービーズとしては、上
記した各材料のものがあげられる。特に、ジビニルベン
ゼン重合体、ジビニルベンゼン−スチレン共重合体、ジ
ビニルベンゼン−アクリル酸エステル共重合体、ジアク
リルフタレート重合体等の網目構造を有する樹脂が好ま
しい。

【００５１】以下に、水銀ランプを用いて表面が改質さ
れたポリマービーズを製造する方法をさらに詳細に説明
する。

【００５２】この方法は、図２に示す紫外線処理装置を
用いて行うことができる。この装置は、バイブレーター
１４の上にバンド１５で固定された反応容器１１と、反
応容器１１に三方コック１７を介して接続されたガスボ
ンベ１６とを備えている。反応容器１１内にはポリマー
ビーズ２が収容され、またガスボンベ１６から適宜雰囲
気ガス１３が供給されるように構成されている。反応容
器１１の上部には紫外線を照射し得る水銀ランプ１８が
設けられている。

【００５３】上記したように、反応容器１１内にポリマ
ービーズ２を収容し、ガスボンベ１６から雰囲気ガス１
３を反応容器１１内に供給しながらこの反応容器１１に
水銀ランプ１８からの紫外線を照射すると、反応容器１
１内の雰囲気ガス１３中の酸素が励起して活性酸素が生
成する。そして、この活性酸素がポリマービーズ２の表
面を酸化することにより、ポリマービーズ２表面に極性
基が形成されるのである。

【００５４】上記方法によって従来技術における問題点
が以下のように解決できる。

【００５５】■ビーズ表面に、主として化学的に安定な
カルボニル基が形成されるため、処理効果が経時的に低
下することがほとんど見られない。しかも、上記極性基
がポリマービーズ表面に高い濃度で導入される。

【００５６】■水銀ランプ紫外線によるポリマービーズ
表面の処理は大気圧下で行うことが可能であり、例えば
、低温プラズマ処理における高真空の条件は不要である
。そのため、工業的規模の処理設備の設計が容易であり
、特にポリマービーズの処理に適している。

【００５７】なお、上記方法では、反応容器内にポリマ
ービーズを収容しかつ反応容器内に雰囲気ガスを供給し
た状態で、反応容器内に水銀ランプからの紫外線を照射
することにより、反応容器内の雰囲気ガス中の酸素を励
起させるようにしたが、反応容器とは別の容器に充満し
た雰囲気ガスに紫外線を照射することにより活性酸素を
発生させ、この活性酸素をポリマービーズが収容された
反応容器に導入するようにしてもよい。

【００５８】

【作用】弗化アルゴンレーザーからの光または水銀ラン
プからの紫外線を、酸素を含む気体に照射すると、酸素
が励起して活性酸素を生成する。そして、この活性酸素
がポリマービーズの表面を酸化することにより、ポリマ
ービーズの表面には極性基が形成される。また、弗化ア
ルゴンレーザーまたは水銀ランプによるポリマービーズ
の処理は大気圧下で行うことができるので、工業的規模
の処理設備の設計が容易である。

【００５９】特に、弗化アルゴンレーザー光によってポ
リマービーズ表面を改質することにより、ポリマービー
ズ表面を粗面化することができる。

【００６０】

【実施例】以下に本発明を実施例に基づいて説明する。

【００６１】実施例１ ジビニルベンゼンを懸濁重合させた後分級することによ
り、数平均粒子径１０．０ｍｍ、標準偏差０．３２μｍ
　のポリマービーズを作成した。このポリマービーズ１
０ｇを図１に示すレーザー処理装置に入れ、装置内の雰
囲気ガスとして酸素５０容量％及びヘリルム５０容量％
からなる気体を封入し、弗化アルゴンレーザーからの光
を光エネルギー強度４０μＪ、周波数１００Ｈｚの条件
で６０分間照射した。この間、バイブレーターによりポ
リマービーズを絶えず振動させ、処理が全てのビーズに
対して均一に行われるようにした。

【００６２】このようにして処理したビーズ表面の改質
の度合を調べるために、Ｘ線光電子スペクトル（ＥＳＣ
Ａ）から求められるＯ／Ｃ比の測定及びゼータ電位の測
定を行った。その結果、表１に示すように、ポリマービ
ーズ表面が酸化され、そのビーズ表面の極性が高まって
いることがわかった。また、このポリマービーズ０．０
５ｇを水１００ｍｌに投入し、超音波を１０分間かけた
際の水濡れ性を調べた結果、表１に示されるように良好
な水濡れ性を示した。

【００６３】次に、このポリマービーズを液晶表示装置
用ギャップ材として使用するため、図３に示すような乾
式散布装置を用いて、乾式散布における単粒子分散性を
調べた。図３に示す乾式散布装置は、底部に基板ガラス
２０を配置する密閉ボックス２１と、このボックス２１
内にビーズを散布する装置２２とを有している。ビーズ
の散布装置２２はモータ２３によって駆動される計量フ
ィーダー２４、この計量フィーダー２４内にビーズを供
給するホッパー２５、計量フィーダー２４から送り出さ
れたビーズと加圧ガスとを混合するための混合室２６、
およびノズル２７を備えている。

【００６４】上記装置を用い、ノズル２７からガラス基
板２０（面積：４５０ｃｍ２）上にビーズの散布密度が
平均１２０個／ｍｍ２となるように散布した。その結果
、表１に示すように、５個以上の凝集塊の数は全く見ら
れず、３個以上５個未満の凝集塊の数は６３ｍｍ２当り
２個であり、優れた単粒子分散性を示した。

【００６５】一方、上記ビーズの周囲に無電解ニッケル
メッキを施した後、金置換メッキを行い、ポリマービー
ズを基材とするニッケル−金合金メッキビーズを作成し
た。このメッキビーズをエポキシバインダーによりペー
スト化し、スライドグラス上に一定量を塗布し、一定の
荷重下でローラーによりしごき試験を行った結果、表１
に示すようにメッキ層と基材との間の密着性が良好であ
ることがわかった。

【００６６】実施例２ レーザー処理装置内の雰囲気ガスとして、酸素ガスを毎
分１００ｍｌの流速で流しながら、ビーズ表面の改質処
理を行ったことを除いて、他は実施例１と全く同様にし
てポリマービーズを処理した。得られたポリマービーズ
のＯ／Ｃ比およびゼータ電位を表１に示す。また、表１
に示すように、ビーズの水濡れ性も良好であった。単粒
子分散性は、表１に示すように良好であり、無電解ニッ
ケル−金属メッキをこのポリマービーズに施したメッキ
ビーズのメッキ層と基材との間の密着性も良好であった
。

【００６７】実施例３ ポリマービーズとして、スチレン６０重量％及びジビニ
ルベンゼン４０重量％からなる組成物を懸濁重合させた
後分級することにより得られた、数平均粒子径１０．２
ｍｍ、標準偏差０．３５μｍ　のポリマービーズを用い
たこと以外は、実施例１と全く同様にしてポリマービー
ズを処理した。

【００６８】得られたポリマービーズのＯ／Ｃ比および
ゼータ電位を表１に示す。また、表１に示すように水濡
れ性も良好であった。単粒子分散性は、表１に示すよう
に、良好であり、無電解ニッケル−金属メッキをこのポ
リマービーズに施したメッキビーズのメッキ層と基材と
の間の密着性も良好であった。

【００６９】比較例１ ジビニルベンゼンを懸濁重合させた後、分級することに
より、数平均粒子径１０．０ｍｍ、標準偏差０．３２μ
ｍ　のポリマービーズを作成した。このポリマービーズ
のＥＳＣＡによるＯ／Ｃ比及びゼータ電位は表１に示す
通りであった。

【００７０】また、表１に示すように、水濡れ性は極め
て不良であった。また単粒子分散性は表１に示すように
不良であり、無電解ニッケル−金属メッキをこのポリマ
ービーズに施したメッキビーズのメッキ層と基材との間
の密着性も不良であった。

【００７１】

【表１】

【００７２】実施例４ ジビニルベンゼンを懸濁重合させた後分級することによ
り、数平均粒子径１０．０ｍｍ、標準偏差０．３２μｍ
　のポリマービーズを作成した。このポリマービーズ１
０ｇを図２に示す紫外線処理装置に入れ、装置内の雰囲
気ガスとして酸素５０容量％及びヘリルム５０容量％か
らなる気体を封入し、光エネルギー強度５μＷ／ｃｍ２
の水銀ランプによる紫外線を９時間照射した。この間、
バイブレーターによりポリマービーズを絶えず振動させ
、処理が全てのビーズに対して均一に行われるようにし
た。 なお、用いた水銀ランプの揮線スペクトルは、図４に示
す通りであり、１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの両方の波長
の吸収により活性酸素が生成するものである。

【００７３】このようにして得られたポリマービーズ表
面の改質の度合を調べるために、Ｘ線光電子スペクトル
（ＥＳＣＡ）から求められるＯ／Ｃ比の測定及びゼータ
電位の測定を行った。その結果、表２に示すように、ポ
リマービーズの表面が酸化され、極性が高まっているこ
とがわかった。

【００７４】また、このポリマービーズ０．０５ｇを水
１００ｍｌに投入し、超音波を１０分間かけた際の水濡
れ性を調べた結果、表２に示されるように良好な水濡れ
性を示した。次に、このポリマービーズを液晶表示装置
用ギャップ材として使用するため、実施例１と同様に、
ポリマービーズの単粒子分散性を調べた。その結果、表
２に示すように、５個以上の凝集塊の数は全く見られず
、３個以上５個未満の凝集塊の数は６３ｍｍ２当り１０
個であり、優れた単粒子分散性を示した。

【００７５】一方、上記ポリマービーズを用いて実施例
１と同様に、メッキ層との密着性を試験した。その結果
、表２に示すように、メッキ層の剥離は全く認められず
、メッキ層と基材との間の密着性が極めて良好であるこ
とがわかった。

【００７６】実施例５ 紫外線処理装置内の雰囲気ガスとして、酸素ガスを毎分
１００ｍｌの流速で流しながら処理を行ったことを除い
て、他は実施例４と全く同様にしてポリマービーズを処
理した。得られたポリマービーズのＯ／Ｃ比、ゼータ電
位を表２に示す。また、単粒子分散性は、表２に示すよ
うに良好であり、無電解ニッケル−金属メッキをこのポ
リマービーズに施したメッキビーズのメッキ層と基材と
の間の密着性も良好であった。

【００７７】実施例６ ポリマービーズとして、スチレン６０重量％及びジビニ
ルベンゼン４０重量％からなる組成物を懸濁重合させた
後分級することにより得られた、数平均粒子径１０．２
ｍｍ、標準偏差０．３５μｍ　のポリマービーズを用い
たこと以外は、実施例４と全く同様にしてポリマービー
ズを処理した。

【００７８】得られたポリマービーズのＯ／Ｃ比、ゼー
タ電位を表２に示す。また、単粒子分散性は、表２に示
すように良好であり、無電解ニッケル−金属メッキをこ
のポリマービーズに施したメッキビーズのメッキ層と基
材との間の密着性も良好であった。

【００７９】

【表２】

【００８０】

【発明の効果】本発明の表面が改質されたポリマービー
ズとその製造方法によれば、弗化アルゴンレーザーから
発せられる１９３ｎｍの特性波長を有する光、または水
銀ランプから発せられる１８５ｎｍ及び／または２５４
ｎｍの波長を有する紫外線によって、酸素を励起させ、
活性酸素を生成することができる。この活性酸素によっ
て表面が改質されたポリマービーズは以下の利点を有す
る。

【００８１】■水濡れ性がよくなり、水性または極性の
強い溶剤中で均一で安定な懸濁状態がもたらされる。

【００８２】■液晶表示セル、エレクトロクロミック表
示セル等によるギャップ材として使用した際、単粒子分
散性が改良される。従って、基材上でのビーズの均一な
配置状態がもたらされる。

【００８３】■このポリマービーズを基材とする無電解
メッキ加工が容易となる。

【００８４】■このポリマービーズを基材とするメッキ
複合粒子におけるメッキ層と基材との密着性が改善され
る。

【００８５】■上記利点が経時的に安定に持続される。

【００８６】■高真空下で表面処理を行う必要がないの
で、工業的規模の処理設備の設計が容易であり、特にポ
リマービーズの処理に適している。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に使用するレーザー処理装置の一実施例
を示す説明図である。

【図２】本発明に使用する紫外線処理装置の一実施例を
示す説明図である。

【図３】本発明の方法により得られたポリマービーズの
単粒子分散性を測定するための乾式散布装置の概略図で
ある。

【図４】水銀ランプの揮線スペクトルである。

【符号の説明】

１　　　　反応容器 ２　　　　ポリマービーズ ３　　　　雰囲気ガス ４　　　　バイブレーター ５　　　　バンド ６　　　　ガスボンベ ７　　　　流量計 ８　　　　排気口 １１　　反応容器 １３　　雰囲気ガス １４　　バイブレーター １５　　バンド １６　　ガスボンベ １７　　三方コック １８　　水銀ランプ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　ポリマービーズの表面に極性基が形成
   されてなる表面が改質されたポリマービーズであって、
   該極性基は、弗化アルゴンレーザーから発せられる光ま
   たは水銀ランプから発せられる紫外線を、酸素を含む気
   体に照射することにより生成した活性酸素でポリマービ
   ーズの表面を酸化して形成される、表面が改質されたポ
   リマービーズ。
2. 【請求項２】　　弗化アルゴンレーザーから発せられる
   光または水銀ランプから発せられる紫外線を、酸素を含
   む気体に照射することにより活性酸素を生成させること
   、およびこの活性酸素によってポリマービーズの表面を
   酸化させ該ポリマービーズ表面に極性基を形成すること
   、を包含する表面が改質されたポリマービーズの製造方
   法。