JPH04268208A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH04268208A JPH04268208A JP2886391A JP2886391A JPH04268208A JP H04268208 A JPH04268208 A JP H04268208A JP 2886391 A JP2886391 A JP 2886391A JP 2886391 A JP2886391 A JP 2886391A JP H04268208 A JPH04268208 A JP H04268208A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体及びその製
造方法に係り、特に高透磁率裏打ち層上に垂直記録層を
有する円盤状磁気記録媒体とその製造方法に関する。
造方法に係り、特に高透磁率裏打ち層上に垂直記録層を
有する円盤状磁気記録媒体とその製造方法に関する。
【０００２】近年、磁気記録媒体の高記録密度化及び小
型化が、記録再生装置の小型化と相まって益々要求され
るようになってきた。このため、磁気記録媒体の記録面
に垂直方向に磁化することにより、磁気記録媒体面のト
ラック長手方向に磁化する磁気記録媒体に比し、トラッ
ク長手方向の記録密度を向上させた垂直磁気記録媒体が
知られている。
型化が、記録再生装置の小型化と相まって益々要求され
るようになってきた。このため、磁気記録媒体の記録面
に垂直方向に磁化することにより、磁気記録媒体面のト
ラック長手方向に磁化する磁気記録媒体に比し、トラッ
ク長手方向の記録密度を向上させた垂直磁気記録媒体が
知られている。
【０００３】しかし、記録密度を更に向上させるために
は、垂直磁気記録媒体の半径方向の記録密度であるトラ
ック密度を大きくする必要がある。
は、垂直磁気記録媒体の半径方向の記録密度であるトラ
ック密度を大きくする必要がある。
【０００４】
【従来の技術】図３は従来の磁気記録媒体の一例の説明
図で、同図（Ａ）は斜視図、同図（Ｂ）は同図（Ａ）の
Ａ−Ａ線に沿う断面図を示す。同図（Ａ）に示す磁気記
録媒体１は、記録面の垂直方向に磁化される円盤状の磁
気記録媒体であって、垂直磁気ディスクと称される。
図で、同図（Ａ）は斜視図、同図（Ｂ）は同図（Ａ）の
Ａ−Ａ線に沿う断面図を示す。同図（Ａ）に示す磁気記
録媒体１は、記録面の垂直方向に磁化される円盤状の磁
気記録媒体であって、垂直磁気ディスクと称される。
【０００５】この垂直磁気ディスク１は同図（Ｂ）に示
すように、アルミニウム又はガラス等の基板２上に、パ
ーマロイ（ＮｉＦｅ）等の高透磁率材料からなる裏打ち
層３，チタン（Ｔｉ）等からなる中間層４，コバルト・
クロム（ＣｏＣｒ）等からなる垂直記録層５が順次積層
されてなり、更に垂直記録層５上には図示を省略したが
、保護層及び潤滑層が積層されている。上記の中間層４
は垂直記録層５の膜成長を制御する目的で設けられてい
る。
すように、アルミニウム又はガラス等の基板２上に、パ
ーマロイ（ＮｉＦｅ）等の高透磁率材料からなる裏打ち
層３，チタン（Ｔｉ）等からなる中間層４，コバルト・
クロム（ＣｏＣｒ）等からなる垂直記録層５が順次積層
されてなり、更に垂直記録層５上には図示を省略したが
、保護層及び潤滑層が積層されている。上記の中間層４
は垂直記録層５の膜成長を制御する目的で設けられてい
る。
【０００６】かかる構造の垂直磁気ディスク１に対して
垂直磁気記録や再生が行なわれるのであるが、図４に模
式的に示す如く、垂直記録層５に対する記録は磁気ヘッ
ド６のトラック幅に対応する幅の記録領域７１ だけで
なく、記録領域７１ の両側の若干の幅の垂直記録層５
の部分８ａ，８ｂにも記録が行なわれてしまう（これを
書きにじみという）。同様に、再生時にも記録領域７１
だけでなく、記録部分８ａ，８ｂからも信号を再生す
る（これを読みにじみという）。
垂直磁気記録や再生が行なわれるのであるが、図４に模
式的に示す如く、垂直記録層５に対する記録は磁気ヘッ
ド６のトラック幅に対応する幅の記録領域７１ だけで
なく、記録領域７１ の両側の若干の幅の垂直記録層５
の部分８ａ，８ｂにも記録が行なわれてしまう（これを
書きにじみという）。同様に、再生時にも記録領域７１
だけでなく、記録部分８ａ，８ｂからも信号を再生す
る（これを読みにじみという）。
【０００７】従って、隣接トラックの記録領域７２ の
両側の書きにじみ部分８ｃ，８ｄのうち８ｃが磁気ヘッ
ド６の読みにじみによって、クロストークとして再生さ
れると記録領域７１ からの再生信号に対して悪影響を
与えてしまう。また、磁気ヘッド６の任意トラックへの
位置決め誤差によって磁気ヘッド６が７１ ，７２ 等
の記録領域上の位置から若干はずれることもある。その
ため、上記のクロストークや磁気ヘッド６の任意トラッ
クへの位置決め誤差の対策として隣接する記録領域７１
と７２ との間には図４に示すようにガードバンド９
が設けられる。
両側の書きにじみ部分８ｃ，８ｄのうち８ｃが磁気ヘッ
ド６の読みにじみによって、クロストークとして再生さ
れると記録領域７１ からの再生信号に対して悪影響を
与えてしまう。また、磁気ヘッド６の任意トラックへの
位置決め誤差によって磁気ヘッド６が７１ ，７２ 等
の記録領域上の位置から若干はずれることもある。その
ため、上記のクロストークや磁気ヘッド６の任意トラッ
クへの位置決め誤差の対策として隣接する記録領域７１
と７２ との間には図４に示すようにガードバンド９
が設けられる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、記録領域７
１ ，７２両側のガードバンド９は、図３（Ｂ）に示す
ように、記録領域７１ ，７２ と構造的に何ら変わる
ものではないため、記録領域７１ ，７２ の幅に対し
て数１０％程度の幅が必要となり、トラック密度の向上
を阻害している。
１ ，７２両側のガードバンド９は、図３（Ｂ）に示す
ように、記録領域７１ ，７２ と構造的に何ら変わる
ものではないため、記録領域７１ ，７２ の幅に対し
て数１０％程度の幅が必要となり、トラック密度の向上
を阻害している。
【０００９】本発明は上記の点に鑑みなされたもので、
垂直記録層の保磁力分布を所定分布とすることにより、
上記の課題を解決した磁気記録媒体及びその製造方法を
提供することを目的とする。
垂直記録層の保磁力分布を所定分布とすることにより、
上記の課題を解決した磁気記録媒体及びその製造方法を
提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明になる磁気記録媒
体は記録領域とガードバンドとからなる各記録トラック
の、ガードバンドの垂直記録層における保磁力を、記録
領域の垂直記録層における保磁力よりも相対的に小に構
成したものである。
体は記録領域とガードバンドとからなる各記録トラック
の、ガードバンドの垂直記録層における保磁力を、記録
領域の垂直記録層における保磁力よりも相対的に小に構
成したものである。
【００１１】また、本発明になる磁気記録媒体の製造方
法は、高透磁率材料からなる裏打ち層を基板上に形成す
る第１の工程、裏打ち層の表面に中間層を被覆形成する
第２の工程、中間層のガードバンド対応領域を除去する
第３の工程、及び中間層と裏打ち層の露出部分の夫々に
垂直記録層を被覆形成する第４の工程を含むようにした
ものである。
法は、高透磁率材料からなる裏打ち層を基板上に形成す
る第１の工程、裏打ち層の表面に中間層を被覆形成する
第２の工程、中間層のガードバンド対応領域を除去する
第３の工程、及び中間層と裏打ち層の露出部分の夫々に
垂直記録層を被覆形成する第４の工程を含むようにした
ものである。
【００１２】
【作用】本発明になる磁気記録媒体ではガードバンドの
垂直記録層における保磁力を、記録領域の垂直記録層に
おける保磁力よりも相対的に小にしているため、記録領
域の記録情報は高レベルで再生できるのに対し、オフト
ラックや書きにじみ等でガードバンドに情報が記録され
ても、磁気ヘッドによりガードバンドの記録情報を再生
されにくくすることができる。
垂直記録層における保磁力を、記録領域の垂直記録層に
おける保磁力よりも相対的に小にしているため、記録領
域の記録情報は高レベルで再生できるのに対し、オフト
ラックや書きにじみ等でガードバンドに情報が記録され
ても、磁気ヘッドによりガードバンドの記録情報を再生
されにくくすることができる。
【００１３】また、本発明になる磁気記録媒体の製造方
法では、記録領域に対応する垂直記録層の領域直下には
中間層が形成されるために記録領域の垂直記録層の保磁
力を高く維持できるのに対し、ガードバンドに対応する
垂直記録層の領域直下には中間層が存在せず裏打ち層上
に直接形成されているために、ガードバンドの垂直記録
層の保磁力を低下させることができ、特に初期膜での保
磁力を著しく低下させることができる。
法では、記録領域に対応する垂直記録層の領域直下には
中間層が形成されるために記録領域の垂直記録層の保磁
力を高く維持できるのに対し、ガードバンドに対応する
垂直記録層の領域直下には中間層が存在せず裏打ち層上
に直接形成されているために、ガードバンドの垂直記録
層の保磁力を低下させることができ、特に初期膜での保
磁力を著しく低下させることができる。
【００１４】
【実施例】図１は本発明になる磁気記録媒体の一実施例
の説明図で、同図（Ａ）は斜視図、同図（Ｂ）は同図（
Ａ）中、Ｉ−Ｉ線に沿う断面図である。本実施例の磁気
記録媒体は図１（Ａ）に示す如き垂直磁気ディスク１１
であり、その構造は同図（Ｂ）に示す如くになされてい
る。同図（Ｂ）において、垂直磁気ディスク１１はアル
ミニウム又はガラス等の基板１２上に、パーマロイ（Ｆ
ｅＮｉ）等の高透磁率材料からなる裏打ち層１３が被覆
形成され、更にその上にＴｉ等からなる中間層１４１
〜１４３ 及びＣｏＣｒ等からなる垂直記録層１５が積
層されており、従来の垂直磁気ディスク１と異なり、中
間層１４１ 〜１４３ は記録領域１６１ ，１６２
などに対応する領域にのみ存在し、ガードバンド１７１
，１７２に対応する領域には存在しない。
の説明図で、同図（Ａ）は斜視図、同図（Ｂ）は同図（
Ａ）中、Ｉ−Ｉ線に沿う断面図である。本実施例の磁気
記録媒体は図１（Ａ）に示す如き垂直磁気ディスク１１
であり、その構造は同図（Ｂ）に示す如くになされてい
る。同図（Ｂ）において、垂直磁気ディスク１１はアル
ミニウム又はガラス等の基板１２上に、パーマロイ（Ｆ
ｅＮｉ）等の高透磁率材料からなる裏打ち層１３が被覆
形成され、更にその上にＴｉ等からなる中間層１４１
〜１４３ 及びＣｏＣｒ等からなる垂直記録層１５が積
層されており、従来の垂直磁気ディスク１と異なり、中
間層１４１ 〜１４３ は記録領域１６１ ，１６２
などに対応する領域にのみ存在し、ガードバンド１７１
，１７２に対応する領域には存在しない。
【００１５】垂直記録層１５の保磁力は、垂直記録層１
５の下地によって大きく変化し、Ｔｉ等の中間層１４１
〜１４３ が下地として存在した方が存在しない場合
に比べて保磁力が大である。これにより、磁気ヘッドの
任意トラックへの位置決め誤差や書きにじみ等でガード
バンド１７１ 又は１７２ に情報が記録されたとして
も、そのガードバンドへの記録情報の磁気ヘッドによる
再生出力が大きく低下する。
５の下地によって大きく変化し、Ｔｉ等の中間層１４１
〜１４３ が下地として存在した方が存在しない場合
に比べて保磁力が大である。これにより、磁気ヘッドの
任意トラックへの位置決め誤差や書きにじみ等でガード
バンド１７１ 又は１７２ に情報が記録されたとして
も、そのガードバンドへの記録情報の磁気ヘッドによる
再生出力が大きく低下する。
【００１６】従って、隣接する記録領域の両側の書きに
じみ部分がクロストークとして再生されにくくなるため
、従来に比べてガードバンド幅を小にすることができる
。因みに従来の垂直磁気ディスクで必要であったガード
バンドが３μｍ〜４μｍ 程度であったのに対し、本実
施例では０．５ μｍ 〜１μｍ 程度と従来の半分以
下の幅にすることができた。
じみ部分がクロストークとして再生されにくくなるため
、従来に比べてガードバンド幅を小にすることができる
。因みに従来の垂直磁気ディスクで必要であったガード
バンドが３μｍ〜４μｍ 程度であったのに対し、本実
施例では０．５ μｍ 〜１μｍ 程度と従来の半分以
下の幅にすることができた。
【００１７】次に本発明になる磁気記録媒体の製造方法
の一実施例について、図２と共に説明する。同図中、図
１と同一構成部分には同一符号を付してある。まず、図
２（Ａ）に示す如く、基板１２上にスパッタリング、め
っき法、あるいは蒸着法等の薄膜形成法により、高透磁
率材料を例えば０．５ μｍ 〜２μｍ 程度の膜厚で
被覆して裏打ち層１３を形成する。
の一実施例について、図２と共に説明する。同図中、図
１と同一構成部分には同一符号を付してある。まず、図
２（Ａ）に示す如く、基板１２上にスパッタリング、め
っき法、あるいは蒸着法等の薄膜形成法により、高透磁
率材料を例えば０．５ μｍ 〜２μｍ 程度の膜厚で
被覆して裏打ち層１３を形成する。
【００１８】次に図２（Ｂ）に示す如く、上記の薄膜形
成法で例えばＴｉを裏打ち層１３の表面に一様に被覆し
て膜厚数百Å程度の中間層１４を形成し、更にその中間
層１４に対して公知のフォトリソグラフィ技術を適用し
て、中間層１４のうちガードバンドに対応する領域１４
ａ，１４ｂ，１４ｃを剥離除去する。
成法で例えばＴｉを裏打ち層１３の表面に一様に被覆し
て膜厚数百Å程度の中間層１４を形成し、更にその中間
層１４に対して公知のフォトリソグラフィ技術を適用し
て、中間層１４のうちガードバンドに対応する領域１４
ａ，１４ｂ，１４ｃを剥離除去する。
【００１９】なお、リフトオフ法等を用いて、裏打ち層
１３の表面上、記録領域に対応する領域にのみ中間層１
４１ ，１４２ を形成してもよい。
１３の表面上、記録領域に対応する領域にのみ中間層１
４１ ，１４２ を形成してもよい。
【００２０】次に図２（Ｃ）に示す如く、中間層１４１
，１４２の各表面と、中間層１４１ 及び１４２ に
覆われていない裏打ち層１３の露出表面に夫々スパッタ
リング法又は蒸着法を適用して例えばＣｏＣｒによる垂
直記録膜１５を、例えば０．１ μｍ 〜０．２ μｍ
程度の膜厚で被覆形成する。このようにして垂直磁気
ディスク１１を製造することができる。
，１４２の各表面と、中間層１４１ 及び１４２ に
覆われていない裏打ち層１３の露出表面に夫々スパッタ
リング法又は蒸着法を適用して例えばＣｏＣｒによる垂
直記録膜１５を、例えば０．１ μｍ 〜０．２ μｍ
程度の膜厚で被覆形成する。このようにして垂直磁気
ディスク１１を製造することができる。
【００２１】
【発明の効果】上述の如く、本発明の磁気記録媒体によ
れば、ガードバンドの記録情報を再生しにくくできるた
め、従来に比べてガードバンド幅を小にでき、よって従
来に比べてトラック密度を大きくすることができる。ま
た、本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、中間層
を記録領域に対応した領域にのみ形成することができる
ため、ガードバンドの記録情報を再生しにくい磁気記録
媒体を容易に製造することができる等の特長を有するも
のである。
れば、ガードバンドの記録情報を再生しにくくできるた
め、従来に比べてガードバンド幅を小にでき、よって従
来に比べてトラック密度を大きくすることができる。ま
た、本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、中間層
を記録領域に対応した領域にのみ形成することができる
ため、ガードバンドの記録情報を再生しにくい磁気記録
媒体を容易に製造することができる等の特長を有するも
のである。
【図１】本発明の磁気記録媒体の一実施例の説明図であ
る。
る。
【図２】本発明方法の一実施例の各工程説明図である。
【図３】従来の磁気記録媒体の一例の説明図である。
【図４】記録再生領域の模式的説明図である。
１１ 垂直磁気ディスク
１２ 基板
１３ 裏打ち層
１４１ 〜１４３ 中間層
１５ 垂直記録層
１６１ ，１６２ 記録領域
１７１ ，１７２ ガードバンド
Claims (3)
- 【請求項１】 高透磁率材料からなる裏打ち層（１３
）上に垂直記録層（１５）を有する磁気記録媒体におい
て、記録領域（１６１ ，１６２ ）とガードバンド（
１７１ ，１７２ ）とからなる各記録トラックの、該
ガードバンド（１７１ ，１７２ ）の垂直記録層（１
５）における保磁力を、該記録領域（１６１ ，１６２
）の垂直記録層（１５）における保磁力よりも相対的
に小に構成したことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 前記記録領域（１６１ ，１６２ ）
は、前記裏打ち層（１３）と前記垂直記録層（１５）と
の間に該垂直記録層（１５）の膜成長制御のための中間
層（１４１ 〜１４３ ）を介在して形成しており、前
記ガードバンド（１７１ ，１７２ ）は前記裏打ち層
（１３）上に直接前記垂直記録層（１５）を形成したこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 高透磁率材料からなる裏打ち層（１３
）を基板（１２）上に形成する第１の工程と、該裏打ち
層（１３）の表面に中間層（１４１ 〜１４３ ）を被
覆形成する第２の工程と、該中間層（１４１ 〜１４３
）のうち、ガードバンドに対応する領域を除去する第
３の工程と、該第３の工程を経て残った該中間層（１４
１ 〜１４３ ）と前記裏打ち層（１３）のうち露出し
ている部分の夫々に垂直記録層（１５）を被覆形成する
第４の工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2886391A JPH04268208A (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2886391A JPH04268208A (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04268208A true JPH04268208A (ja) | 1992-09-24 |
Family
ID=12260217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2886391A Withdrawn JPH04268208A (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04268208A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008171489A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | パターンドメディアの製造方法 |
-
1991
- 1991-02-22 JP JP2886391A patent/JPH04268208A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008171489A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | パターンドメディアの製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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