JPH04266838A - 低級グリコール含有作用液の処理法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、低級グリコールを含有
する作用液（ｏｐｅｒａｔｉｖｅ　　ｆｌｕｉｄ）、特
に使用した作用液から低級グリコールを再生する方法に
関する。本発明の方法は、再生低級グリコールが作用液
において再使用するのに適し得る程に十分な品質の該再
生低級グリコールを提供することができる。

【０００２】

【従来の技術】低級グリコール類、即ちモノエチレング
リコール、１，２−プロピレングリコールおよび１，３
−プロパンジオールには作用液、例えば不凍液、氷結防
止剤、熱交換液、急冷液、ブレーキ液および他の液圧液
、潤滑剤、吸収剤および溶剤としての多数の用途がある
。それ故に作用液は機能を働かせる為に使用される液体
と特徴付けられる。その機能を働かせる関係において、
これらは不純物および／または分解物を含み易い。 例えば、内燃機関の為の不凍液組成物は熱に曝されるだ
けでなく、冷却システムの種々の構造材料並びに汚れ、
漏れ易いヒートガスケットの場合には燃焼ガスおよびこ
れらの類似物に曝される。

【０００３】しばしば作用液はプロセス装置で用いるの
に適さしめる為に腐食防止剤、緩衝液、酸化防止剤およ
び／または他の助剤を含有している。これらの助剤は液
体を用いている間に消費されるかまたは該液体から除か
れ得る。該液体の汚染も使用中または貯蔵中に生じそし
て該液体、特に高温に曝されるものは分解することがあ
る。この分解生成物は、作用液を用いるプロセス装置中
で有害であることがある。助剤の効力を失うと共にまた
は汚れるかまたは過度の量の分解生成物が発生した時に
、作用液は意図する用途にとって容認できなく成る。 作用液が意図する用途にとって容認できなく成った時に
、該液体はしばしば捨てられてきた。これは価値ある低
級グリコールの損失を伴うだけでなく、該液体の捨て方
が環境を汚染しないことが保証されるように注意する必
要がある。場合によっは、低級グリコールは再使用する
為の作用液から回収することができる。分離法、例えば
使用した溶媒の蒸留にはエネルギーを消費することが判
っている。例えば、Ｃｈｅｍｉｃａｌ　　Ａｂｓｔｒａ
ｃｔｓ，Ｖｏｌ．１１１（２０）；１７７６０７ｑ，［
Ｓｈｕｂ等の“使用済み不凍液の利用（Ｕｔｉｌｉｚａ
ｔｉｏｎｏｆ　　Ｕｓｅｄ　　Ａｎｔｉｆｒｅｅｚｅ）
、Ｋｈｉｍ，Ｔｅｋｎｏｌ．Ｔｏｐｌ．Ｍａｓｅｌ（８
）、１６〜１８（１９８９）の要約］；米国特許第４，
２２５，３９４号明細書；Ｃｈｅｍｉｃａｌ　　Ａｂｓ
ｔｒａｃｔｓ，Ｖｏｌ．１０１（４）；２５９４４ｃ［
ハンガリー特許出願公告第２９７５２号明細書、１９８
４年２月２８日の要約］；および　　Ｃｈｅｍｉｃａｌ
　　Ａｂｓｔｒａｃｔｓ，Ｖｏｌ．１０４（２２）；１
８９６２９ｓ［Ｗｅｈｎｅｒ等の東ドイツ特許第２２６
５５７号、１９８５年８月２８日“選択的分離プロセス
の為の溶剤再生物からの残留の処理（Ｐｒｏｃｅｓｓｉ
ｎｇ　　ｏｆ　　Ｒｅｓｉｄｕｅｓ　　ｆｒｏｍＳｏｌ
ｖｅｎｔ　　Ｒｅｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ　　ｆｏｒ　　
ＳｅｌｅｃｔｉｖｅＳｅｐａｒａｔｉｏｎ　　Ｐｒｏｃ
ｅｓｓｅｓ）″の要約］参照。

【０００４】米国特許第４，４２７，５０７号明細書に
は、エチレンオキサイド−プラントの為のパージ水性流
からエチレングリコールを回収する電気透析システムが
開示されている。その特許権者は、“最後に、本発明の
方法は例えば自動車のグリコール／水−不凍液の再生に
おいて使用できるかもしれない（第４欄、第１３〜１５
行）”と記載している。

【０００５】不凍液混合物からエチレングリコールを回
収する為に電気透析が有効であるという実施例も説明も
ない。非荷電成分、例えばコロイド状金属および有機系
不純物の分離を行うのに電気透析が無能であることを考
慮すると、不凍液混合物からグリコールを回収する有効
な手段としての電気透析の能力には問題がある。Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ　　Ａｂｓｔｒａｃｔｓ，Ｖｏｌ．１０４（
２０）；１７００５４ｄ［特開昭６０−２１６，８８４
号公報、１９８５年１０月３０日の報告］は、ポリエス
テル繊維製造で生じる排水を処理することを提案してい
る。不凍液からエチレングリコールを回収する為に電気
透析を用いる説明も示唆も報告されていない。

【０００６】英国特許第１，４６３，３２４号明細書は
、エチレンオキサイド法の為の排水からエチレングリコ
ールを回収する為に半透過性隔膜を用いることを開示し
ている。デュポン（ｄｕＰｏｎｔ）社が製造した市販の
ポリアミド隔膜は特定の隔膜および隔膜材料だけであっ
た。

【０００７】Ｇｒｕｎｗａｌｄのチェコ特許出願８７／
０１６８１はＤｅｒｗｅｎｔ、８８−３１５２６８／４
５によって報告されており、不純物を機械的に除き、廃
棄不凍液をカチオン交換体に通しそしてエチレングリコ
ールまたはプロピレングリコールを添加することによっ
て廃棄不凍液を再生することを開示している。

【０００８】低級グリコールを回収する別の方法として
は、幾つかの用途の為の作用液体を分析し、そして適当
量の適当な助剤を作用液に添加して、分解生成物または
汚染物質の少なくとも若干の影響を助剤または反対物質
で相殺する。この操作は、大規模な工業的用途では大抵
は実質的に期待できない。分析なしでは、多すぎるかま
たは少なすぎる助剤を液体に添加するかまたは不適当な
助剤を液体に添加する危険がある。かゝる場合には、作
用液の有害な性質が十分に改善できずそして不適当な濃
度の助剤によって悪化さえし得る。更に不純物の存在は
助剤の添加によって処理できない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】それ故に、有害な汚染
物質および分解生成物──いずれにしてもイオンである
──を除くことができそしていかなる助剤──活性状態
または消費された状態──も除くことができる、作用液
から低級グリコールを有効に再生することのできる方法
が要求されている。再生された低級グリコールは次いで
例えば作用液としておよび分析する必要なしに添加され
る標準的な助剤パッケージとして再使用することができ
る。有利にはこの方法は経済的であり、あまりエネルギ
ーを消費する必要がなく且つ信頼できるものでありたい
。

【００１０】かゝる方法が有益であることは、熱交換液
、急冷液および吸収剤の如き工業的用途に有効であるだ
けでなく、使用した自動車用不凍液の限られた場所での
処理の如き小規模用途にも適用できることである。更に
、この方法は一時的に多量の作用液を現場で使用する例
えば飛行機および飛行場滑走路の除氷の用途に使用でき
る方法が要求されている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明によって、作用液
から低級グリコール（モノエチレングリコール、１，２
−プロピレングリコールおよび１，３−プロパンジオー
ルの１種または複数種）を再生する方法が提供された。 この方法は、エチレングリコール並びに、非イオンの有
機系不純物およびコロイド状金属を含む汚染物から腐食
防止剤、緩衝剤、酸化防止剤およびこれらの類似物の如
き助剤をおよび沢山のグリコール分解生成物、例えば低
級グリコールの酸および若干のエステル類を有効に除く
ことができる。本発明の方法では、作用液を半透過性隔
膜の供給側と接触させそして隔膜の透過側において、高
められた純度の低級グリコールを含有する浸透液が得ら
れる。この半透過性隔膜は、（ａ）　　２０容量％の水
の回収と共に２５℃および１０００ポンド／平方インチ
の圧力損失（標準状態）にて３．５重量％の水溶液状態
で含まれる塩化ナトリウムの少なくとも約７０％を透過
拒否することができ、（ｂ）　　標準状態のもとで１０
重量％の水溶液の状態で含まれるモノエチレングリコー
ルの約３０％より少く透過拒否することができ、そして
（ｃ）　　標準状態のもとで１．０重量％の水溶液の状
態で含まれる約５７０の平均分子量の、ノニルフェノー
ルの８モルエトキシラートの少なくとも約９０重量％を
透過拒否することができることに特徴がある。従って本
発明の方法は、作用液から低級グリコールを回収するの
に有効である。逆浸透膜分離は、作用液中に存在し得る
イオン成分および非イオン成分を含む広範な種々の成分
、例えば炭化水素（油、燃料、ポリマー等）；エーテル
類およびポリエーテル類（グリコールエーテル類、ポリ
エチレングリコール類、高級グリコール類、例えばテト
ラエチレングリコール類）；酸類；エステル類；アミン
類；シリコーン類；塩類（ハロゲン化物、アセテート類
、燐酸塩類、硼酸塩類、珪酸塩類、等）；コロイド状金
属；染料；およびこれらの類似物を除くのに有効である
。

【００１２】本発明の有利な実施形態においては、使用
済み溶剤または作用液体中の低級グリコールの少なくと
も約２０重量％が隔膜を透過するように運転する。しば
しば透過液の電導率は隔膜と接触する以前の使用済み溶
剤または作用液の導電率の約５０％より小さい。

【００１３】本発明の別の有利な実施形態においては、
隔膜が懸垂アニオン基を持つポリマーより成る。アニオ
ン基には、カルボキシル基、スルホン基、スルフィン基
、ホスホン基、ホスフィン基等の一種または複数種が含
まれているが、これらに制限されない。しばしばアニオ
ン基は、隔膜のイオン交換容量が乾燥ポリマー１ｇ当た
り約０．０１〜約３ミリ当量、好ましくは約０．５〜約
２ミリ当量であるような濃度で存在している。

【００１４】本発明の別の有利な実施形態においては、
隔膜はポリスルホンより成り、最も有利にはスルホン化
したポリスルホンより成る。本発明の実施形態において
は、低級グリコールによる有害な作用を受ける隔膜を、
半透過性隔膜の供給側において、隔膜に危険な影響を及
ぼす低級グリコール濃度より下の濃度──即ち、隔膜の
供給側への液体の体積を基準としてしばしば約８０容量
％以下──を維持することによって用いることができる
。本発明のこの実施形態においては、隔膜が過度に危険
な影響を受けないことを保証するのに十分な希釈剤、例
えば水を隔膜の供給側において使用済み溶剤または作用
液に供給するのがしばしば好都合である。

【００１５】本発明の別の実施形態においては、液体を
分離する為の隔膜の安定性、特に懸垂アニオン基を持つ
隔膜の安定性を、周期的にまたは連続的に安定化量の二
価または多価カチオン、好ましくは二価カチオン、特に
アルカリ土類金属カチオンと隔膜に接触させることによ
って向上する。安定化カチオンは、安定化作用を達成し
得るように膜と接触させる為に媒体中に十分に溶解含有
されているベきである。しばしば溶液を処理する隔膜は
、処理する塩に関して少なくとも約０．０１規定度であ
り、そして塩の濃度は処理条件のもとで飽和濃度より小
さく、しばしば該溶液は約０．１〜２規定度である。

【００１６】低級グリコールを再生することが要求され
る低級グリコール含有作用液の例には、自動車および固
定水冷エンジン、例えば自動車、トラック、バスの為の
それおよび発電機の不凍液組成物、除氷剤、熱伝達液、
例えば定置エンジン系の為のそれ、急冷液、例えば溶融
金属の為の急冷液、液圧液、潤滑剤、吸収剤、特に再生
可能な吸収剤および溶剤がある。低級グリコールの溶剤
用途には薬学的および他の化学的および生物化学的プロ
セスがある。

【００１７】作用液はしばしば金属または他の潜在的被
腐食性表面に接触する。それ故に腐食防止剤が液体中に
しばしば含まれている。腐食防止剤には燐酸塩類、硼酸
塩類、珪酸塩類、タングステン酸塩類、モリブデン酸塩
類、安息香酸塩類、亜硝酸塩類、ベンゾトリアゾール類
、トリルトリアゾール類、メルカプトベンゾチアゾール
類、亜ヒ素酸塩類およびこれらの類似物が含まれる。 緩衝剤、例えば約７．５〜９．０のｐＨとする為の緩衝
剤も、腐食防止剤の性能を向上させる為におよびエチレ
ングリコールの代表的な酸性分解生成物を中和する為に
しばしば存在している。酸化防止剤、消泡剤および界面
活性剤も作用液中に存在していてもよい。しばしば助剤
は液体を使用する間に消費されるかまたは作用液から例
えば蒸発によってまたは作用液が接触する製品、例えば
急冷浴から取り出される冷却された金属と選択的に接触
することによって除かれる。

【００１８】作用液中の汚染物質は、閉じられたループ
状熱伝達系において物質と接触することによって入り込
み得るもの、例えば金属分解物および摩耗物質──その
中には、例えば内燃機関において漏れ易いシールを通っ
て侵入するもの──、除氷液を含む土壌汚染物質の如き
、作用液に接触する物質の上に存在し得るようなものま
で非常に広範囲である。それ故に汚染物質は有機系また
は無機系であり得る。代表的な分解生成物には、エステ
ル類および酸類、例えばエチレングリコール−ジアセテ
ート、エチレングリコールモノアセテート、酢酸および
、エチレングリコールをベースとする作用液についての
これら類似物およびプロピレングリコールをベースとす
る液体についての同属の生成物が含まれる。

【００１９】本発明によれば、作用液は半透過性隔膜の
透過側に低級グリコールが透過するのに十分な逆浸透圧
条件のもとで該隔膜の供給側と接触する。水が存在する
場合には、水の少なくとも一部分が低級グリコールと一
緒に透過する。しかしながら隔膜は、供給流から除く必
要のある物質の十分な割合を透過拒否するので、増加し
た純度の透過液が得られる。所望の純度増加を得る為に
、隔膜が標準状態のもとで、３．５重量％濃度水溶液の
状態で塩化ナトリウムの少なくとも約７０％を透過拒否
することができる。しばしばこの透過拒否は約９０〜９
９．９％、殊に約９０〜９９．５％である。ここで用い
る透過拒否率は（ｉ）供給液中の成分の濃度の量から透
過液中のその成分の濃度を引き、これを（ｉｉ）供給液
中の成分の濃度で割った商を意味する。隔膜はまた作用
液中の有機系成分に関して適当な選択的分離性を示すべ
きである。約５７０の平均分子量（重量平均分子量）を
有するノニルフェノールのエトキシレートの透過拒否率
は、標準状態のもとで１．０重量％の水溶液の状態で含
まれている場合に、少なくとも約９０重量％、好ましく
は少なくとも約９５重量％、しばしば約９７〜９９．９
重量％である。このエトキシラートはノニルフェノール
を接触的にエトキシル化ることによって製造され、それ
故にエトキシラートの混合物として存在している。適す
るノニルフェノール−エトキシラートはＵｎｉｏｎ　　
Ｃａｒｂｉｄｅ　　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓａｎｄ　　Ｐ１
ａｓｔｉｃｓ　　Ｃａｍｐａｎｙ　　Ｉｎｃ．、米国、
コネチカット、ダブリンからＮＰ−８として入手できる
。

【００２０】本発明に従う用途で運転可能で且つ期待で
きる隔膜が、標準状態について説明した様な１平方イン
チ当たり１０００ポンドの圧力損失に耐えることができ
ないことがあるとが認められる。かゝる場合には、隔膜
を越えての圧力損失が１平方インチ当たり２００ポンド
をもたらす択一的な標準状態を用いる。かゝる択一的な
標準状態のもとでは、塩化ナトリウムの透過拒否率を測
定する塩化ナトリウム濃度は３．５重量％の替わりに百
万重量部当たり１１００重量部である。他の全ての試験
条件は同じである。

【００２１】望ましくは、半透過性隔膜が低級グリコー
ルを回収するのに適する分離特性を示すだけでなく、該
隔膜が分離プロセスの間に隔膜が過度に危険な影響を受
けない程に低級グリコールに対して十分な耐薬品性を有
するべきである。低級グリコールの強い溶解特性の為に
、若干のポリマー製膜は低級グリコールとの接触により
有害な影響を受ける。本発明の実施形態によれば、有利
な隔膜構造、ポリマー組成物および／または運転法を低
級グリコールを回収する為に隔膜を用いる運転性を向上
させる為に使用できる。

【００２２】複合隔膜が特に有利な隔膜構造である。複
合隔膜は多孔質の支持体の上に薄い隔膜被覆を設けた構
成である。多孔質支持体は、必要とされる分離特性でな
く所望の強度および耐薬品性を有する材料から製造でき
る。使用でき得る別の種類の隔膜構造物は、隔膜構造物
内に二種類の異なった形態学的領域が存在することに特
徴のある単一の透過性隔膜で実質系に構成される異方性
または非対称性隔膜である。一つの領域は液体混合物の
一つの成分を選択的に透過することのできる薄く比較的
に緻密な半透過性隔膜より成る。他の領域は、加圧下に
半透過性隔膜の薄い膜領域が壊れないように支持して助
ける、余り緻密でない非選択性の多孔質域より成る。

【００２３】隔膜は色々な形状で製造できそして種々の
組合せで製造できる。例えば（１）フィルタープレスに
類似した一般的な板およびフレームの構造物で支持され
ていてもよい平らなシート状物；（２）隔膜と間隔を持
たせるスペーサー材を用いて螺旋状に巻いた平らなシー
ト状物およびその巻いた隔膜の一方の側で隔膜の反対側
へ供給液の通過を許す螺旋状チャンネルを提供する為に
密封されたアセンブリー；（３）補強された組物（ｂｒ
ａｉｄ）の内面を裏張してあるチューブ状物、その組物
自体は時々比較的大きなチューブ状物の一つの成分であ
る；または（４）隔膜を液状の供給混合物が透過するこ
とにより中空繊維の外側面の上の流れを中空繊維の孔の
中のあらゆる流れと分離することを保証するように、末
端開放状態で中空繊維をヘッダープレート（ｈｅａｄｅ
ｒ　　ｐｌａｔｅｓ）中に組織化または密封する。

【００２４】中空繊維膜はしばしば本発明の方法で使用
される。しばしば中空繊維は約２０〜１，０００ミクロ
ン、一般に約５０〜５００ミクロンの外径を有しそして
少なくとも約５ミクロンの厚さの壁、一般に約５０〜約
４５０ミクロンの厚さの壁を有している。幾つかの中空
繊維の壁の厚さは約２００または３００ミクロンまでで
ある。隔膜被覆物は約０．０１〜約１０ミクロンの範囲
の厚さを有していてもよく、好ましくは約０．０５〜約
２ミクロンの厚さを有している。中空繊維を通る所望の
流れを提供する為には、少なくとも約５０ミクロンの厚
さの壁を持つかゝる中空繊維を用いるのが好ましく、こ
の中空繊維は著しい空隙容積を有していてもよい。空隙
は、中空繊維の材料のない中空繊維の壁の中の域である
。しばしば空隙が望まれる場合には、中空繊維の空隙容
積は表面容積──即ち、中空繊維の総寸法内に含まれる
容積──を基準として約９０％まで、一般に約１０〜８
０％、しばしば約２０または３０〜７０％である。複合
隔膜の異方性隔膜内の緻密層または隔膜被覆層は比較的
に薄く、適当な透過流速を可能とする。緻密層または隔
膜被覆物──かゝる場合もあり得る──の厚さはしばし
ば約０．０１〜約１０ミクロン、好ましくは約０．０５
〜約２ミクロンである。

【００２５】上記の説明は中空繊維隔膜に向けられてい
たけれども、フィルム状膜もしばしば構造的特徴を持ち
得る。

【００２６】隔膜の為に用いられる材料は天然のまたは
合成の固体物質であり得る。隔膜の為の材料の選択は、
隔膜の耐熱性および／または機械的強度、並びに本発明
の分離法および隔膜が委ねられる運転条件によって指示
される別のファクターに基づくことがある。用いる材料
は、多孔質の支持層であるかどうかにかかわらず、消費
される溶剤または作用液中の成分の各々に対して十分な
耐薬品性を有しているべきである。

【００２７】隔膜の成分は無機材料、例えばガラス、セ
ラミック、焼結金属、またはこれらの類似物（特に支持
体として）、または有機材料、即ちポリマーより成り得
る。ポリマーの場合、隔膜を提供する何らかの適当な方
法で製造することのできる付加−および縮合ポリマーの
両方が含まれる。一般的な有機系ポリマー、または無機
材料（例えばフィラー）とブレンドされていてもよい有
機ポリマーが隔膜の製造に使用される。代表的なポリマ
ーは置換されたポリマーでも非置換のポリマーでもよく
、ポリスルホン類、例えばビスフェノールＡ−ポリスル
ホン（Ａｍｏｃｏ　　Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ　　Ｐｒ
ｏｄｕｃｔｓ　　Ｉｎｃ．によって“Ｕｄｅｌ”の商品
名で市販されている）またはポリエーテルースルホン（
Ｉｍｐｅｒｉａｌ　　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　　Ｉｎｄｕｓ
ｔｒｉｓｅｓによって“Ｖｉｃｔｒｅｘ”の商品名で市
販されている）；ポリアクリロニトリル類；ポリエーテ
ル類；ポリアミド類；ポリイミド類；セルロース誘導体
；ポリ（アリーレンオキサイド）、例えばポリ（フェニ
レンオキサイド）；ポリエーテルケトン類；ポリスルフ
ィッド類；上記以外のα−オレフィン系不飽和のモノマ
ーから製造されるポリマー、例えばポリ（エチレン）、
ポリ（プロピレン）、ポリ（ブテン−１）、ポリ（４−
メチル−１−ペンテン、ポリビニル類、例えばポリ（ビ
ニルクロライド）、ポリ（ビニルフルオライド）、ポリ
（ビニリデンクロライド）、ポリ（ビニリデンフルオラ
イド）およびこれらの類似物から選択できる。

【００２８】上述の材料は複合隔膜の為に支持物質に使
用してもよいしまたは基体または隔膜被覆層にも使用で
きる。ポリスルホンまたはポリイミドから製造された基
体が特に有利である。

【００２９】多孔質ポリスルホンまたは他の材料の基体
は慣用の技術によって製造できる。例えば、中空繊維は
一般に所望の繊維用ポリマーのドープ組成物から紡糸し
、急冷し、洗浄しそして乾燥する。Ｃａｂａｓｓｏ等に
よってＪｏｕｒｎａｌ　　ｏｆＡｐｐｌｉｅｄ　　Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ　　Ｓｃｉｅｎｃｅ、第２３巻、１５０９〜
１５２５（１９７９）の“Ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ　　Ｈｏ
ｌｌｏｗ　　Ｆｉｂｅｒ　　Ｍｅｍｂｒａｎｅｓ（複合
中空繊維隔膜）”およびＮａｔｉｏｎａｌ　　Ｔｅｃｈ
ｎｉｃａｌ　　Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　　Ｓｅｒｖｉ
ｃｅ、Ｕ．Ｓ．Ｄｅｐａｒｔｍｅｎｔ　　ｏｆ　　Ｃｏ
ｍｍｅｒｃｅ　　Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ　　ＰＢ　　
２４８，６６６によって１９７５年７月に配布されたＧ
ｕｌｆ　　Ｓｏｕｔｈ　　ＲｅｓａｒｃｈＩｎｓｔｉｔ
ｕｔｅの“Ｒｅｓｅａｒｃｈ　　ａｎｄ　　Ｄｅｖｅｌ
ｏｐｍｅｎｔｏｆ　　ＮＳ−１　　ａｎｄ　　Ｒｅｌａ
ｔｅｄ　　Ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ　　Ｈｏｌｌｏｗ　
　Ｆｉｂｅｒｓ　　ｆｏｒ　　Ｒｅｖｅｒｓｅ　　Ｏｓ
ｍｏｓｉｓ　　Ｄｅｓａｌｉｎａｔｉｏｎ　　ｏｆ　　
Ｓｅａｗａｔｅｒ”に開示されている様に、ポリスルホ
ン中空繊維は好ましくは４０〜５２重量％の総ポリマー
濃度の溶液状態で、ポリスルホン／ポリ（ビニルピロリ
ドン）比比１．５：２．０のポリスルホン、ポリ（ビニ
ルピロリドン）およびジメチルアセトアミドの三成分溶
液から紡糸することができる。周知のチューブ・イン・
チューブ・ジェット技術は、繊維の為の好ましい外側急
冷媒体である約２１℃の水を用いる紡糸操作に適してい
ると記載されている。繊維の中心の急冷媒体はしばしば
空気である。急冷に続いて一般には、繊維を約５０〜６
０℃の温水での洗浄を行う。かゝる洗浄に続いて、中空
繊維を、隔膜被覆物で被覆して所望の複合隔膜を形成す
る以前に乾燥する。この目的の為には、ポリスルホン中
空繊維を一般に、適当な期間の間、熱気乾燥カラムに通
すことによって乾燥する。

【００３０】中空繊維基体は一般に実質的に多孔質であ
りそしてその面積の広さおよび嵩空隙率がそれの製造で
用いたドライ／ウエット、ウエット、ドライまたは溶融
押出成形技術に影響される。更に中空繊維の空隙度は溶
剤徐冷−または高温徐冷技術によって変更し得る。多孔
質化発煙性添加物を隔膜基体および／または被覆層を製
造する時に使用してもよい。多孔質化発煙性添加物（ｐ
ｏｒｅ−ｆｕｍｉｎｇａｄｄｉｔｉｖｅｓ）は、隔膜を
製造するポリマー溶液中に混入してもよい。しばしば多
孔質化発煙性添加物には溶液の約３０〜４０重量％より
多く含まない。多孔質化発煙性添加物として使用できる
物質は低分子量有機酸および低分子量の二価および多価
アルコール、例えば４６〜１５０または２００の分子量
のそれらが含まれる。好ましい多孔質化発煙性添加物は
ジエチレングリコールおよびグリセリンを含む。複合隔
膜の為の隔膜被覆層は多孔質支持層と接触状態にある実
質的に中断されていない隔膜層の状態存在する。

【００３１】隔膜被覆物の為の有利な材料には、制限が
ないが、界面重縮合ポリマー、例えばポリアミド類、例
えば米国特許第４，２７７，３４４号明細書および同第
４，８３０，８８５号明細書に開示されているものが含
まれ得る（これらの文献に記載された内容をここに引用
したことにする）。

【００３２】隔膜被覆物の為の有利な材料には懸垂アニ
オン基を持つポリマーも含まれる。しばしばアニオン基
は、隔膜の交換能力が１ｇの乾燥ポリマー当たり約０．
０１〜約３ミリ当量の濃度で、好ましくは１ｇの乾燥ポ
リマー当たり約０．５〜約２ミリ当量の濃度で存在して
いる。

【００３３】最も有利には、スルホン化ポリスルホンを
複合隔膜の為の隔膜被覆材料として利用する。かゝるス
ルホン化ポリスルホン類は、例えば米国特許第３，７０
９，８４１号明細書、同第４，０５４，７０７号明細書
、同第４，２０７，１８２号明細書、ヨーロッパ特許出
願第０，２０２，８４９号明細書および同第０，１６５
，０７７号明細書に記載されている（これら文献に記載
された内容をここに引用したことにする）。スルホン化
ポリスルホン類はＪｏｕｒｎａｌ　　ｏｆ　　Ａｐｐｌ
ｉｅｄ　　Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｓｃｉｅｎｃｅ、第２０
巻、第１８８５〜１９０３頁（１９７６）のＡ．Ｎｏｓ
ｈａｙ等の“Ｓｕｌｆｏｎａｔｅｄ　　Ｐｏｌｙｓｕｌ
ｆｏｎｅ”にも記載されている（この文献に記載された
内容をここに引用したことにする）。スルホン化ポリア
リールエーテルースルホンおよびスルホン化ポリエーテ
ルエーテルースルホン類およびそれらから製造される逆
浸透圧隔膜は米国特許第４，４１４，３６８号明細書、
同第４，５０８，８５２号明細書、同第４，２６８，６
５０号明細書および同第４，２７３，９０３号明細書に
記載されている（これら文献に記載された内容をここに
引用したことにする）。スルホン化ポリエーテルケトン
類およびその塩の製造方法はＸｉｇａｏ　　Ｊｉｎ等に
よって“Ｂｒｉｔｉｓｈ　　Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｊｏｕ
ｒｎａｌ”、第１７巻、第４〜１０頁（１９８５）に見
ることができる。スルホン化ポリエーテルーケトン類か
らの非対称スルホン化ポリエーテルーケトン逆浸透圧隔
膜の製法は米国特許第４，７１４，７２５号明細書に記
載されている（この文献に記載された内容をここに引用
したことにする）。

【００３４】芳香族環の一つに少なくとも一つのスルホ
ン酸基を持つポリエーテルスルホンは、本発明で使用で
きる一種以上の共通のスルホン化ポリスルホン類である
。スルホン化ビスフェノールＡポリスルホンは、複合隔
膜の為の分離層に対する被覆物として特に適している。

【００３５】ポリスルホンのスルホン化は、例えば米国
特許第３，７０９，８４１号明細書に記載されている方
法で実施することができる。適するスルホン化剤には有
利なスルホン化剤であるクロロスルホン酸（ＣｌＳＯ３
Ｈ）が含まれる。しかしながら例えば三酸化硫黄および
それと、電子供与原子として酸素を含むルイス塩基との
付加生成物を用いることも可能であり、硫酸および発煙
硫酸も使用できる。スルホン化反応は一般に−５０℃〜
＋８０℃、好ましくは−１０℃〜＋３５℃にて、スルホ
ン化反応に対して不活性である、ポリアリールエーテル
ースルホンの為の溶剤中に溶解した状態で実施する。ハ
ロゲン化炭化水素、特にメチレンクロライド、１，２−
ジクロロエタンおよび１，１，２，２−テトラクロロエ
タンが適する溶剤である。

【００３６】用いられるスルホン化剤の量は一般に、ス
ルホン化剤の硫黄原子の数と非スルホン化ポリアリール
ーエーテルースルホンの硫黄原子との比が約０．３〜約
６、好ましくは約１．２〜４である程度である。非スル
ホン化ポリアリールーエーテルースルホンに固定するこ
とのできるスルホン基の正確な数は勿論、スルホン化条
件、特に温度、反応時間および試薬の濃度を調節するこ
とによって変更できる。生じたスルホン化ポリアリール
−エーテル−スルホンは、例えば米国特許第３，７０９
，８４１号明細書または同第３，８７５，０９６号明細
書に記載された方法によって単離できる。

【００３７】スルホン化ポリスルホンの製法および単離
の別の方法は、かゝるスルホン化ポリスルホン類を製造
する為に選択採用できる。

【００３８】１ｇの乾燥ポリマー当たり約１．０〜約２
．５ミリ当量の置換度を有しそして溶剤、例えばメトキ
シエタノール、ニトロメタンおよびアルコール／水−混
合物に溶解するスルホン化ポリアリール−エーテル−ス
ルホン類が複合隔膜の製造に特に有用である。

【００３９】乾燥した隔膜支持体または基体は、スルホ
ン化ポリスルホンまたは他の隔膜材料の隔膜被覆溶液で
一般に被覆しそして次に乾燥する。かゝる被覆および乾
燥の手順は、Ｃｏｐｌａｎ等によって米国特許第４，４
６７，００１号明細書で使用され且つ説明されている技
術でもよい（この文献に記載された内容をここに引用し
たことにする）。それ故に乾燥した基体は、被覆用容器
中に入った隔膜被覆溶液に通し、次いで乾燥用炉および
硬化用炉に通す。これらの炉中で複合隔膜は乾燥空気ま
たは他の適当なガスと接触し、次いで高温硬化用空気ま
たは他のガスと接触する。次にこの隔膜を巻取るかまた
はさもなければ、所望の分離法で用いるのに適する隔膜
モジュール中に最終的に組入れる為に加工するかまたは
貯蔵する。スルホン化ポリスルホンで被覆する為には、
約５０℃〜約１３０℃の乾燥温度が一般に用いられる。 当業者は、別の硬化段階を使用することなく支持層の上
で隔膜被覆層を乾燥することも可能であることを評価す
るでしょう。

【００４０】隔膜は一般に隔膜分離装置（またはモジュ
ール）の一部として組み込まれる。隔膜分離装置は液流
混合物から少なくとも１成分を選択的に分離するように
設計されている。この隔膜装置は一般にその中にある囲
い部と隔膜アセンブリーで構成される。隔膜アセンブリ
ーは螺旋状に曲がったカートリッジ、中空繊維束、ひだ
付の平坦なシート状隔膜アセンブリーおよびこれに類似
のアセンブリーの状態で構成することができる。隔膜ア
センブリーは供給側および反対の透過液出口側とを持つ
ように構成されている。囲い部は、供給流混合物が隔膜
供給面側と接触することができるように構成されている
。導管手段は、隔膜を透過しない供給流の一部を除く為
におよび隔膜を透過する透過成分を分離除去する為に装
備されている。

【００４１】逆浸透圧法は本発明の液体分離を実施する
手段である。本発明の液体分離──濃厚化も含む──を
行う時、隔膜の出口側を、供給側の圧力より小さい圧力
に維持する。隔膜を通る所望の浸透処理の為の運転力は
隔膜を越えての圧力低下における差である。透過成分、
例えばエチレングリコールおよび水（存在する場合には
）は隔膜を通過しそして透過の為の所望の運転力を維持
する為に隔膜の出口側の付近から除くことができる。 一般に隔膜の運転は供給流の方向または供給によって最
初に接触する隔膜の面に左右されない。

【００４２】隔膜分離器に送られる供給液は、１平方イ
ンチ当たり約１０〜約２０００ポンド（ｐｓｉｇ）の範
囲内の圧で隔膜分離器に供給することができ、好ましく
は約５０〜約１５００ｐｓｉｇ、最も好ましくは約２０
０〜約１０００ｐｓｉｇの範囲内の圧力で隔膜に供給す
る。透過圧は一般に約周囲圧力〜約２０００ｐｓｉｇの
間に維持するが、更に低いまたは更に高い浸透圧も利用
することができる。

【００４３】供給液の温度は周囲温度以下〜約１２０℃
、一般に約１０℃〜約１００℃、好ましくは約１５℃〜
約９５℃で変えることができる。

【００４４】逆浸透圧法はバッチ式にまたは好ましくは
連続的に行うことができる。しばしば供給液と隔膜との
接触時間は、供給液中の低級グリコールの少なくとも約
５０容量％が隔膜を透過する程で充分である。例えば供
給液中の低級グリコールの約５０〜９８容量％、好まし
くは約６０〜９５％が透過する。一般に透過する低級グ
リコールの量は、再生される低級グリコール中で許容で
きる不純物の量を基礎として測定される。不純物が隔膜
を通過する速度は該不純物の性質および隔膜の材料中へ
のその透過効率および供給液中の不純物の濃度に依存し
ている。

【００４５】逆浸透圧系は一つまたは複数のステージで
構成し得る。複数のステージを用いる場合には、共通の
構成では供給側ステージングと透過側ステージングを有
している。供給側ステージングでは、一つのステージか
らの透過拒否された液体を別のステージの供給側に通し
そして別の低級のグリコール回収物液が得られる。透過
側ステージングでは、一つのステージの透過液が別のス
テージの供給側に通され、更なる純化が達成される。

【００４６】低級グリコールを含有する作用液中に含ま
れる不純物の多くはイオン状態で存在しているので、透
過液の電導率は再生される低級グリコールの純度の目安
として使用できる。２５℃では、蒸留水に低級グリコー
ルを溶解した５０％濃度水溶液の電導率は約１．２ミク
ロモー（ｍｉｃｒｏｍｈｏ）（ミクロジーメンス：ｍｉ
ｃｒｏｓｉｅｍｅｎｓ）である。本発明の方法で再生さ
れる低級グリコールは、２５℃、５０％濃度水溶液にて
、同じ濃度および同じ温度のもとでの供給液の電導率の
約０．５より多くない、例えば約０．３より多くない電
導率を有しているのが有利である。一般にこのような条
件のもとでの再生低級グリコールは約１０ミリモーより
多くない、例えば約５ミリモーより多くない、約０．０
０２〜３ミリモー（ミリジーメンス）の電導率を有して
いる。

【００４７】上で論じた通り、低級グリコールを回収す
る為に隔膜の使用寿命を向上させる運転法を用いること
ができる。一つの技術は、隔膜が低級グリコールによっ
て過度に危険な影響を受けないことを保証する為に、隔
膜の供給側に十分な希釈剤、好ましくは水を保持するも
のである。低級グリコールを再生するべき作用液はしば
しば既に水を含有している。しかしながらもし十分な水
が存在していない場合には、供給液に水を添加してもよ
い。水は一般的に隔膜を透過しそして低級グリコール透
過液と一緒に存在している。場合によっは、水と低級グ
リコールとの間に沸点差があるので、過度のエネルギー
消費をすることなくまたは低級グリコールが分解する危
険なしに容易に実施することができる蒸留によって水を
除くこともできる。隔膜の供給側における低級グリコー
ルの混入量は供給液の容量を基準としてしばしば約８０
容量％より少ない。隔膜への供給液中の水の濃度は、供
給液の全容量を基準として少なくとも約１０容量％、例
えば少なくとも約１５〜２０容量％、更に言えば約１５
〜８０容量％である。

【００４８】液体分離の為に使用される隔膜、特に懸垂
アニオン基を持つ隔膜の安定性を向上させる別の技術に
は、隔膜の安定性を向上させるのに十分な量の二価−お
よび／または多価カチオンを含有する溶液、好ましくは
二価のカチオンを含む溶液と隔膜を連続的にまたは周期
的に接触させるものである。接触が連続的である場合に
は、安定化カチオンをしばしば１００万重量部当たり約
１〜２５０重量部、殊に約５〜１００重量部の量で存在
させる。周期的な接触は、更に濃厚なカチオン溶液にて
一般に行う。例えば安定化カチオンを提供する塩を溶剤
、例えば水中に少なくとも０．０１規定度でしばしば存
在させるが、該塩の濃度は処理条件のもとで飽和点より
小さい。塩濃度は大抵は約０．１〜２規定度である。 カチオンに結合するアニオンは溶液中のカチオンを十分
に安定化させることができて、安定化効果をもたらすべ
きである。しばしばカチオンはハロゲン化物、炭酸塩、
硫酸塩、硝酸塩、カルボキシレート（例えば、酢酸塩）
または燐酸塩である。処理溶液は実質的に供給液と同じ
であってもまたは水であってもよい。接触を中断する時
には、接触を少なくとも約０．５分、例えば約０．１〜
１００時間、特に約０．１〜５０時間の期間の間、一般
に行われる。安定化法は作用液から低級グリコールを回
収するのに有益であるが、逆浸透圧、特にアニオン基を
持つ隔膜を用いる逆浸透圧によって実質的にあらゆる液
体分離に非常に広く利用できる。

【００４９】本発明の一つの実施形態においては、低級
グリコールを含有する作用液を隔膜に供給する以前に濾
過して、さもないと例えば隔膜に有害な影響を及ぼし得
る粒子および破片を除いてもよい。しばしばこの濾過で
、約５ミクロンより大きい、例えば約１ミクロンより大
きい、若干の場合には約０．１ミクロンより大きい有効
濾過粒度を持つ粒子および破片が除かれる。

【００５０】以下の実施例で本発明を更に詳細に説明す
るが、本発明はこれらによって制限されるものでない。 他に指摘のない限り、固体の全ての部および％は重量に
そして液体のそれらは容量に基づく。

【００５１】

【実施例】以下の実施例において、得られる結果を評す
る為に用いた単位を以下に規定する。

【００５２】“ステージ・カット（Ｓｔａｇｅ　　Ｃｕ
ｔ）”は、分離器モジュールがどのくらい多い供給液を
処理することができるかの目安である。ステージ・カッ
トが多ければ多い程、エチレングリコールの回収量が多
く且つラフィネート中の不純物の濃度が高い。

【００５３】“透過拒否率（％）”は、個々の溶質のど
のくらい多くが隔膜によって透過拒否されてラフィネー
ト中に残留するかの目安である。ここで使用する通り、
これを数式１のように規定する：

【００５４】

【数１】

【００５５】指摘されたものは除いて、供給液または透
過液の中の塩の濃度はそれの電導率（ミリモー）によっ
て測定する。

【００５６】“ＭＥＧ”はモノエチレングリコールであ
る。

【００５７】“ＤＥＧ”はジエチレングリコールである
。

【００５８】理論上、逆浸透圧分離は、大きいステージ
・カットの為には高い溶質拒絶と大きな透過速度とを結
び付けるべきである。

【００５９】後記の表に示した試験結果の為に、利用し
た個々の隔膜を説明する。導電率の測定は、イリノイ州
シカゴのＣｏｌｅ　　Ｐａｒｍｅｒ　　Ｉｎｓｔｒｕｍ
ｅｎｔＣｏｍｐａｎｙから入手できるデジタル電導率測
定器のＮ−０１４８１−９０型を用いて白金セルで行っ
た。 実施例で使用される不凍液組成物の組成を表Ｉに示す。 この不凍液は約２２℃〜２５℃の温度および約５００ｐ
ｓｉｇの圧力のもとで、モジュール中にある外側の中空
繊維隔膜に供給した。中空繊維は、約０．５ミクロンの
厚さのスルホン化ポリスルホン被覆を持つ多孔質ポリス
ルホンで構成されており、スルホン化ポリスルホンは１
ｇ当たり１．９ミリ当量のイオン交換容量を有している
。上記モジュールは約０．０６平方フィートの隔膜表面
積を有している。各モジュール中の中空繊維は、エポキ
シ製プラグに嵌め込まれた末端を持つ螺旋状の約１６イ
ンチの長さの中空繊維８本である。この束はステンレス
製シェルに収容されている。隔膜は熱硬化の程度で相違
している。熱硬化を８０℃〜１６０℃で１時間行い、要
求された塩透過拒否率をもたらしている。表ＩＩには各
隔膜モジュールの詳細が記載してある。

【００６０】隔膜モジュールＡはノニルフェノールの８
モルエトキシラート（ＵｎｉｏｎＣａｒｂｉｄｅ　　Ｃ
ｈｅｍｉｃａｌｓ　　ａｎｄ　　Ｐｌａｓｔｉｃｓ　　
Ｃａｍｐａｎｙ　　Ｉｎｃ．から入手できるＮＰ−８）
の透過拒否率を示している

【００６１】実施例１〜６において隔膜の透過側は実験
室の周囲条件（即ち、実質的に大気圧で約２２℃〜２５
℃）にある。各隔膜を使用する前に、これらを蒸留水に
塩化ナトリウムを溶解した０．５重量％溶液に浸漬して
置く。表ＩＩＩに結果を総括掲載する。

【００６２】

【表Ｉ】

【００６３】

【表ＩＩ】

【００６４】

【表ＩＩＩ】

【００６５】１２個の隔膜モジュールを製造する。８個
のモジュールはモジュールＡで用いたのと同じ種類の隔
膜（Ｄ）を用いる。４個のモジュールは同じ隔膜（Ｅ）
を用いるが、２．２ｇａｌ／ｆｔ２／日の水流量、約９
９．０９％の塩透過拒否率および１ｇの乾燥樹脂当たり
約１．９ミリ当量のイオン交換容量を有する。これら４
個のモジュールではマグネシウム反対イオンと−緒に実
験に用いる。残りの８個ではナトリウムおよび鉄の反対
イオンと一緒に実験に用いる。各隔膜を使用する以前に
、これらを所定の反対イオンを含む塩溶液に浸漬して置
く。ナトリウム反対イオン含有隔膜は、蒸留水に０．５
重量％の塩化ナトリウムを溶解した溶液に約２〜４日間
浸漬することによって製造する。マグネシウム反対イオ
ン含有隔膜は、２５重量％の硫酸マグネシウム七水和物
を含む蒸留水溶液に約１０日間浸漬することによって製
造する。隔膜モジュールの二つは、蒸留水に１重量％の
硫酸第二鉄を溶解した溶液に約１０日間浸漬する。これ
らのモジュールを表ＩＶに報告した実験に用いる。モジ
ュールの二つを、蒸留水に０．５重量％の硫酸第二鉄を
溶解した溶液に約１０日間浸漬する。これらのモジュー
ルを表Ｖに報告した実験に用いる。

【００６６】６個のモジュールを、表ＶＩに指摘したこ
とを除いて、５０容量％のモノエチレングリコールの溶
液に浸漬する。これらのモジュールを浸漬媒体から周期
的に取り出し、０．５重量％濃度塩化ナトリウム水溶液
を約２５℃、４３０平方ポンドの供給圧（ゲージ圧）、
雰囲気透過圧および５％より小さいステージ・カットに
て処理する為に用いる。結果を表ＩＶに総括掲載する。

【００６７】６個のモジュールを表Ｖに示したことを除
いて、用いた不凍液Ｂに浸漬する。これらのモジュール
を浸漬媒体から周期的に取り出し、０．５重量％濃度塩
化ナトリウム水溶液を約２５℃、４３０平方ポンドの供
給圧（ゲージ圧）、雰囲気透過圧および５％より小さい
ステージ・カットにて処理する為に用いる。結果を表Ｖ
に総括掲載する。表から判る通り、隔膜の性能が二価の
および多価のカチオンの存在下に改善される。

【００６８】

【表ＩＶ】

【００６９】この実験では、隔膜を最後の欄に別に記載
した場合を除いて５０％濃度のＭＥＧ水溶液に浸漬して
いる。周期的に中空繊維隔膜を４３０ｐｓｉおよび２５
℃で０．５％濃度溶液で試験する。

【００７０】

【表Ｖ】

【００７１】この実験では、隔膜を最後の欄に別に記載
した場合を除いて、用いた不凍液に浸漬している。周期
的に中空繊維隔膜を４３０ｐｓｉおよび２５℃で０．５
％濃度溶液で試験する。

Claims (29)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　半透過性隔膜の透過側に低級グリコー
   ルを透過させるのに十分な逆浸透圧条件のもとで該半透
   過性隔膜の供給側と低級グリコールおよび少なくとも一
   種類の溶解した成分を含む液体を接触させて、上記液体
   から実質的にモノエチレングリコール、１，２−プロピ
   レングリコールおよび１，３−プロパンジオールの一種
   または複数種より成る低級グリコールを再生する方法に
   おいて透過した低級グリコールが少なくとも一種類の溶
   解した上記成分を上記隔膜の供給側と接触する液体中の
   濃度に比較して低下した濃度で含有し、上記隔膜が（ａ
   ）　　標準状態のもとで３．５重量％の水溶液状態で含
   まれる塩化ナトリウムの少なくとも約７０％を透過拒否
   することができ、（ｂ）　　標準状態のもとで１０重量
   ％の水溶液の状態で含まれるモノエチレングリコールの
   約３０％より少なく透過拒否することができ、そして（
   ｃ）　　標準状態のもとで１．０重量％の水溶液の状態
   で含まれる約５７０の平均分子量の、ノニルフェノール
   の８モルエトキシラートの少なくとも約９０重量％を透
   過拒否することができることを特徴とする　　前記方法
   。
2. 【請求項２】　　浸透膜と接触する液体中の低級グリコ
   ールの少なくとも約４０重量％を透過させる請求項１に
   記載の方法。
3. 【請求項３】　　液体が水性不凍液である請求項１に記
   載の方法。
4. 【請求項４】　　液体が隔膜の性能を向上させるのに十
   分な程に水を含有する水性液である請求項１に記載の方
   法。
5. 【請求項５】　　液体が少なくとも約１５容量％の水を
   含む請求項４に記載の方法。
6. 【請求項６】　　隔膜が懸垂アニオン基を含むポリマー
   より成る請求項１に記載の方法。
7. 【請求項７】　　懸垂アニオン基がカルボキシル基、ス
   ルホン基、スルフィン基、ホスホン基およびホスフィン
   基の少なくとも一種類を含む請求項６に記載の方法。
8. 【請求項８】　　隔膜のイオン交換容量が１ｇの乾燥ポ
   リマー当たり約０．０１〜約３ミリ当量であるような濃
   度で懸垂アニオン基が存在している請求項６に記載の方
   法。
9. 【請求項９】　　隔膜のイオン交換容量が１ｇの乾燥ポ
   リマー当たり約０．５〜約２ミリ当量であるような濃度
   で懸垂アニオン基が存在している請求項６に記載の方法
   。
10. 【請求項１０】　　隔膜がスルホン化ポリスルホンより
    成る請求項６に記載の方法。
11. 【請求項１１】　　隔膜が複合隔膜である請求項６に記
    載の方法。
12. 【請求項１２】　　隔膜が隔膜被覆層と多孔質基体とよ
    り成る複合隔膜である請求項１に記載の方法。
13. 【請求項１３】　　多孔質基体が隔膜被覆層よりエチレ
    ングリコールに対して大きな耐薬品性を有する請求項１
    ２に記載の方法。
14. 【請求項１４】　　透過したエチレングリコールが２５
    ℃で５０％濃度の水溶液の状態で約１０ミリモーより少
    ない電導率を示す請求項１に記載の方法。
15. 【請求項１５】　　隔膜の安定性を向上させる為に隔膜
    の供給側に十分な水を保持する請求項８に記載の方法。
16. 【請求項１６】　　低級グリコールを含有する液体を１
    ステージより多いステージ数で含まれる隔膜を用いて逆
    浸透圧法に委ねる請求項２に記載の方法。
17. 【請求項１７】　　隔膜を含む少なくとも二つのステー
    ジが供給側ステージングにある請求項１６に記載の方法
    。
18. 【請求項１８】　　隔膜を含む少なくとも二つのステー
    ジが透過側ステージングにある請求項１６に記載の方法
    。
19. 【請求項１９】　　隔膜を含む少なくとも二つのステー
    ジが透過側ステージングにある請求項１７に記載の方法
    。
20. 【請求項２０】　　低級グリコールがモノエチレングリ
    コールを含む請求項１に記載の方法。
21. 【請求項２１】　　隔膜が懸垂アニオン基を含むポリマ
    ーより成るポリマー逆浸透隔膜の安定性を向上させるに
    当たって、該隔膜を少なくとも一つの多価カチオンを安
    定化する量含有する溶液と接触させることを特徴とする
    、上記ポリマー逆浸透隔膜の安定性の向上法。
22. 【請求項２２】　　懸垂アニオン基がカルボキシル基、
    スルホン基、スルフィン基、ホスホン基およびホスフィ
    ン基の少なくとも一種類を含む請求項２１に記載の方法
    。
23. 【請求項２３】　　隔膜のイオン交換容量が１ｇの乾燥
    ポリマー当たり約０．０１〜約３ミリ当量であるような
    濃度で懸垂アニオン基が存在している請求項２１に記載
    の方法。
24. 【請求項２４】　　隔膜のイオン交換容量が１ｇの乾燥
    ボリマー当たり約０．５〜約２ミリ当量であるような濃
    度で懸垂アニオン基が存在している請求項２１に記載の
    方法。
25. 【請求項２５】　　隔膜がスルホン化ポリスルホンより
    成る請求項２１に記載の方法。
26. 【請求項２６】　　カチオンとの接触が周期的である請
    求項２１に記載の方法。
27. 【請求項２７】　　カチオンを含む溶液が少なくとも０
    ．０１の規定度を有している請求項２６に記載の方法。
28. 【請求項２８】　　カチオンが二価のカチオンより成る
    請求項２１に記載の方法。
29. 【請求項２９】　　二価のカチオンがアルカリ土類金属
    カチオンである請求項２８に記載の方法。