JPH0426681B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0426681B2 JPH0426681B2 JP61069950A JP6995086A JPH0426681B2 JP H0426681 B2 JPH0426681 B2 JP H0426681B2 JP 61069950 A JP61069950 A JP 61069950A JP 6995086 A JP6995086 A JP 6995086A JP H0426681 B2 JPH0426681 B2 JP H0426681B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measuring
- pixel
- shape
- measured
- shape error
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 36
- 239000010261 arctane Substances 0.000 claims description 10
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 11
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/021—Interferometers using holographic techniques
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/255—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures for measuring radius of curvature
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、物体の形状誤差を測定する方法お
よびその装置に関する。
よびその装置に関する。
(従来の技術)
複雑な形状を有してはいるが光学的になめらか
で数式によつて表わされ得る三次元形状物体の形
状に対する形成すべき所定の理想形状に対する誤
差(形状誤差)すなわち所定の理想形状からのず
れの測定は、従来一般に、計算機ホログラム法に
より行われている。この計算機ホログラム法で
は、ホログラムを作成するために、形状を表わす
数式からホログラム図形をコンピユータで計算
し、高精度な作画機あるいはEB(Electron
Beam)描画装置でホログラム図形に基いて精密
に立体を作成し、この作成した立体にレーザー光
を照射し、立体によつて回折されたレーザー光と
上記三次元形状物体によつて反射された光とを重
ねることにより生じる干渉縞から上記三次元形状
物体の形状誤差を測定している。
で数式によつて表わされ得る三次元形状物体の形
状に対する形成すべき所定の理想形状に対する誤
差(形状誤差)すなわち所定の理想形状からのず
れの測定は、従来一般に、計算機ホログラム法に
より行われている。この計算機ホログラム法で
は、ホログラムを作成するために、形状を表わす
数式からホログラム図形をコンピユータで計算
し、高精度な作画機あるいはEB(Electron
Beam)描画装置でホログラム図形に基いて精密
に立体を作成し、この作成した立体にレーザー光
を照射し、立体によつて回折されたレーザー光と
上記三次元形状物体によつて反射された光とを重
ねることにより生じる干渉縞から上記三次元形状
物体の形状誤差を測定している。
また他の方法として、位相検出方式を用いた三
次元形状物体の形状誤差測定法がある。第1図を
参照して、位相検出方式を用いた従来の測定法を
説明する。
次元形状物体の形状誤差測定法がある。第1図を
参照して、位相検出方式を用いた従来の測定法を
説明する。
例えばレーザー発振器よりなる可干渉性光源1
からレーザー光2を出射し、このレーザー光2を
マイケルソン型干渉計3に入射させる。干渉計3
は、コリメータ・レンズ4、半透鏡5、集光レン
ズ8、結像レンズ10から成つている。レーザー
光2はコリメータ・レンズ4によつてビーム巾が
拡大されると共に平行光線とされ、この平行光線
の進路上に45度の角度に配置された半透鏡5に入
射する。入射レーザー光2は半透鏡5により進路
に直交する方向に偏光されたビームと半透鏡5を
そのまま真直に透過したビームとに分割される。
偏向光は集光レンズ8を介して被測定物体である
球面鏡9に入射し物体光6として反射される。こ
の物体光は、集光レンズ8、半透鏡5を透過し結
像レンズ10を介してイメージ・センサーモニタ
11に指向する。半透鏡5を垂直に透過した光源
1からのレーザー光はその進路上に配置されてい
る参照鏡12に入射し、反射される。この反射さ
れたレーザー光は参照光7として半透鏡5に戻
り、ここで偏向されて結像レンズ10を通り、イ
メージ・センサーモニタ(以下、センサーモニタ
という)11に指向する。センサーモニタ11の
映像面には、物体光6と参照光7との干渉により
生じる干渉光が入射する。この干渉光はセンサ・
モニタ11において電気信号に変換され、その映
像面上には干渉縞の像が得られる。
からレーザー光2を出射し、このレーザー光2を
マイケルソン型干渉計3に入射させる。干渉計3
は、コリメータ・レンズ4、半透鏡5、集光レン
ズ8、結像レンズ10から成つている。レーザー
光2はコリメータ・レンズ4によつてビーム巾が
拡大されると共に平行光線とされ、この平行光線
の進路上に45度の角度に配置された半透鏡5に入
射する。入射レーザー光2は半透鏡5により進路
に直交する方向に偏光されたビームと半透鏡5を
そのまま真直に透過したビームとに分割される。
偏向光は集光レンズ8を介して被測定物体である
球面鏡9に入射し物体光6として反射される。こ
の物体光は、集光レンズ8、半透鏡5を透過し結
像レンズ10を介してイメージ・センサーモニタ
11に指向する。半透鏡5を垂直に透過した光源
1からのレーザー光はその進路上に配置されてい
る参照鏡12に入射し、反射される。この反射さ
れたレーザー光は参照光7として半透鏡5に戻
り、ここで偏向されて結像レンズ10を通り、イ
メージ・センサーモニタ(以下、センサーモニタ
という)11に指向する。センサーモニタ11の
映像面には、物体光6と参照光7との干渉により
生じる干渉光が入射する。この干渉光はセンサ・
モニタ11において電気信号に変換され、その映
像面上には干渉縞の像が得られる。
ところで、一般の干渉計による球面鏡あるいは
平面鏡の形状誤差の測定においては、干渉縞の直
線度に基いて形状誤差を求めている。そしてより
高精度な測定を行なおうとする場合には、下記に
述べるような位相検出を行つている。すなわち、
第1図に示されるように、参照体としての参照鏡
12には駆動装置13が設けられており、この駆
動装置13を駆動させて参照鏡12を微細に動が
すことにより参照光7の位相を変化させる。駆動
制御器14は、参照光7の位相がπ/2ずつ四段
階に変化するように駆動装置13を駆動する。メ
モリーデータ・プロセツサ(以下、メモリープロ
セツサという)15はセンサーモニタ11と駆動
制御器14との間に設けられており、制御器14
による参照光7の位相の四段階の各変化毎に同期
させてセンサーモニタ11から干渉縞に対応する
電気信号を受けてデジタル信号に変換して記憶す
る。
平面鏡の形状誤差の測定においては、干渉縞の直
線度に基いて形状誤差を求めている。そしてより
高精度な測定を行なおうとする場合には、下記に
述べるような位相検出を行つている。すなわち、
第1図に示されるように、参照体としての参照鏡
12には駆動装置13が設けられており、この駆
動装置13を駆動させて参照鏡12を微細に動が
すことにより参照光7の位相を変化させる。駆動
制御器14は、参照光7の位相がπ/2ずつ四段
階に変化するように駆動装置13を駆動する。メ
モリーデータ・プロセツサ(以下、メモリープロ
セツサという)15はセンサーモニタ11と駆動
制御器14との間に設けられており、制御器14
による参照光7の位相の四段階の各変化毎に同期
させてセンサーモニタ11から干渉縞に対応する
電気信号を受けてデジタル信号に変換して記憶す
る。
ところで、参照光7の位相を四段階に変化させ
た場合、演算回路15に入力される干渉縞の強度
分布INは、 IN(x,y)=IO(x,y)〔1+γcos {φ(x,y)+π/2(N−1)}〕 (1) N=1,2,3,4 となる。
た場合、演算回路15に入力される干渉縞の強度
分布INは、 IN(x,y)=IO(x,y)〔1+γcos {φ(x,y)+π/2(N−1)}〕 (1) N=1,2,3,4 となる。
ここで、IN(x,y)はN回目の変化段階での、
映像面上すなわちxy座標面上における、干渉縞
の強度分布、IO(x,y)はレーザー光自体の強
度分布すなわちINのバイアス成分、γは干渉縞の
鮮明度、(x,y)は、被測定物体である球面
鏡9の形状誤差に起因する物体光の位相差(単位
はラジアン)、Nは参照光7の位相の変化段階の
何番目かを示す序数であつて1ないし4のいずれ
かの整数、である。上記(1)式において、形状誤差
が零、すなわち、球面鏡9が理想的な球面をなし
ているならば、(x,y)は一定となる。
(x,y)は形状誤差と直線関係を有しており、
したがつて、(x,y)を求めることによつて
形状誤差を求めることができる。被測定物体がこ
の例におけるように球面鏡9である場合、形状誤
差H(x,y)は、 H(x,y)=(x,y)×λ/4π+K により表わされる。ここで、λはレーザー光の波
長、Kは定数である。位相差(x,y)は、 (x,y)=arctan{I4(x,y)−I2(x,y)
/I1(x,y)−I3(x,y)} =arctanIO(x,y)γ〔cos{(x,y)+3
/2π}−cos{(x,y)+π/2}〕/IO(x,
y)γ〔cos{(x,y)−cos{(x,y)+π}
〕 =arctansin(x,y)−{−sin(x,y)}
/cos(x,y)−{−cos(x,y)} =arctansin(x,y)/cos(x,y) (2) なる演算を行うことにより算出される。算出され
た(x,y)を用いて H(x,y)=φ(x,y)×λ/4π+K を演算することにより形状誤差H(x,y)が求
められる。H(x,y)を求めるための上記演算
およびφ(x,y)を求めるための演算はメモリ
ープロセツサ15により行われる。
映像面上すなわちxy座標面上における、干渉縞
の強度分布、IO(x,y)はレーザー光自体の強
度分布すなわちINのバイアス成分、γは干渉縞の
鮮明度、(x,y)は、被測定物体である球面
鏡9の形状誤差に起因する物体光の位相差(単位
はラジアン)、Nは参照光7の位相の変化段階の
何番目かを示す序数であつて1ないし4のいずれ
かの整数、である。上記(1)式において、形状誤差
が零、すなわち、球面鏡9が理想的な球面をなし
ているならば、(x,y)は一定となる。
(x,y)は形状誤差と直線関係を有しており、
したがつて、(x,y)を求めることによつて
形状誤差を求めることができる。被測定物体がこ
の例におけるように球面鏡9である場合、形状誤
差H(x,y)は、 H(x,y)=(x,y)×λ/4π+K により表わされる。ここで、λはレーザー光の波
長、Kは定数である。位相差(x,y)は、 (x,y)=arctan{I4(x,y)−I2(x,y)
/I1(x,y)−I3(x,y)} =arctanIO(x,y)γ〔cos{(x,y)+3
/2π}−cos{(x,y)+π/2}〕/IO(x,
y)γ〔cos{(x,y)−cos{(x,y)+π}
〕 =arctansin(x,y)−{−sin(x,y)}
/cos(x,y)−{−cos(x,y)} =arctansin(x,y)/cos(x,y) (2) なる演算を行うことにより算出される。算出され
た(x,y)を用いて H(x,y)=φ(x,y)×λ/4π+K を演算することにより形状誤差H(x,y)が求
められる。H(x,y)を求めるための上記演算
およびφ(x,y)を求めるための演算はメモリ
ープロセツサ15により行われる。
(発明が解決しようとする問題点)
ところで、上記したように、ホログラム法を用
いて測定する方法では、ホログラムを作成する必
要があるがこの作成のために高価な作画機あるい
はEB描画装置を必要となり、費用的に問題があ
る。
いて測定する方法では、ホログラムを作成する必
要があるがこの作成のために高価な作画機あるい
はEB描画装置を必要となり、費用的に問題があ
る。
また、第1図を参照して述べた、位相検出方式
を用いた測定法では、平面、球面いずれの形状誤
差もを非常に正確に測定することができるが、複
雑な形状体の場合には得られる干渉縞の強度分布
が正弦関数からずれるため、測定誤差が生じる。
被測定体が複雑な形状体である場合、形状誤差を
測定するためには、測定された形状値と理想的形
状値との差を求めると共に、さらに物体の位置や
姿勢に基く誤差分を除去しなければならない。こ
のため、多くの演算処理が必要であり非常に作業
性が低い。また奥行の深い物体の場合には、セン
サーモニタ11の映像面に映像される干渉縞の間
隔がせまくなり、映像面の一画素の大きさが測定
結果に影響を及ぼす。
を用いた測定法では、平面、球面いずれの形状誤
差もを非常に正確に測定することができるが、複
雑な形状体の場合には得られる干渉縞の強度分布
が正弦関数からずれるため、測定誤差が生じる。
被測定体が複雑な形状体である場合、形状誤差を
測定するためには、測定された形状値と理想的形
状値との差を求めると共に、さらに物体の位置や
姿勢に基く誤差分を除去しなければならない。こ
のため、多くの演算処理が必要であり非常に作業
性が低い。また奥行の深い物体の場合には、セン
サーモニタ11の映像面に映像される干渉縞の間
隔がせまくなり、映像面の一画素の大きさが測定
結果に影響を及ぼす。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段と作用)
この発明は、上記事情に鑑みなされたものであ
り、その目的は、干渉縞の強度分布が正弦関数で
あらわせないものであつても高精度に形状誤差を
求めることができ、映像面での一画素の大きさに
よる測定精度への影響が生じず、しかも被測定物
体の位置、姿勢の影響もとりのぞくことのでき
る、位置検出方式を基礎とした、光学的になめら
かで数式でその形状をあらわすことのできる物体
の形状誤差を測定する方法およびその装置を提供
することである。
り、その目的は、干渉縞の強度分布が正弦関数で
あらわせないものであつても高精度に形状誤差を
求めることができ、映像面での一画素の大きさに
よる測定精度への影響が生じず、しかも被測定物
体の位置、姿勢の影響もとりのぞくことのでき
る、位置検出方式を基礎とした、光学的になめら
かで数式でその形状をあらわすことのできる物体
の形状誤差を測定する方法およびその装置を提供
することである。
すなわち、この発明の、物体の形状誤差を測定
する方法は、物体光と参照光とを干渉させ干渉縞
を形成し、物体光と参照光との位相差を変化さ
せ、位相差と形状誤差とが直線関係にあることに
基いて、形成された干渉縞の強度分布に関する計
算を行うことによつて被測定物体の形状誤差を求
める。また、この発明の、物体の形状誤差を測定
する装置は、物体光と参照光とを干渉させる手段
と、物体光と参照光との位相差を変化させ、位相
差と形状誤差とが直線関係にあることに基いて、
干渉縞の強度分布に関する計算を行い被測定物体
の形状誤差を求める手段とを具備している。
する方法は、物体光と参照光とを干渉させ干渉縞
を形成し、物体光と参照光との位相差を変化さ
せ、位相差と形状誤差とが直線関係にあることに
基いて、形成された干渉縞の強度分布に関する計
算を行うことによつて被測定物体の形状誤差を求
める。また、この発明の、物体の形状誤差を測定
する装置は、物体光と参照光とを干渉させる手段
と、物体光と参照光との位相差を変化させ、位相
差と形状誤差とが直線関係にあることに基いて、
干渉縞の強度分布に関する計算を行い被測定物体
の形状誤差を求める手段とを具備している。
この発明の、物体の形状誤差を測定する方法で
は、光学的になめらかで数式によつてあらわされ
る三次元物体の形状誤差の測定において、ホログ
ラムの作成が不要でありしたがつて作業性が高
く、しかも干渉縞の強度分布が正弦分布からずれ
ることによる影響を受けず精度の高い測定結果を
得ることができる。
は、光学的になめらかで数式によつてあらわされ
る三次元物体の形状誤差の測定において、ホログ
ラムの作成が不要でありしたがつて作業性が高
く、しかも干渉縞の強度分布が正弦分布からずれ
ることによる影響を受けず精度の高い測定結果を
得ることができる。
さらにまた、この発明の、物体の形状誤差を測
定する装置は、ホログラム作成のための高価な作
画機あるいはEB描画装置を設ける必要がなく、
このため小型化が可能でしかも作業性が向上し、
コストの低減が図れる。
定する装置は、ホログラム作成のための高価な作
画機あるいはEB描画装置を設ける必要がなく、
このため小型化が可能でしかも作業性が向上し、
コストの低減が図れる。
(実施例)
第2図ないし第4図を参照してこの発明の実施
例に係る、物体の形状誤差を測定する方法および
測定する装置について説明する。
例に係る、物体の形状誤差を測定する方法および
測定する装置について説明する。
第2図は、この発明の実施例にかかる測定装置
を概略的に示している図であり、説明の便宜上お
よび理解を容易にする観点から、第1図に示した
従来の測定装置における構成要件に対応するもの
は同一番号を付してある。第2図に示される測定
装置は、メモリ−データ・プロセツサ(以下、メ
モリ−プロセツサという)15における演算が第
1図に示される従来の測定装置と異なるのみで、
他は実質的に同じである。なお、第1図では、形
状誤差を測定すべき被測定体が球面形状のもので
あるのに対し、第2図では非球面形状のものとな
つている。
を概略的に示している図であり、説明の便宜上お
よび理解を容易にする観点から、第1図に示した
従来の測定装置における構成要件に対応するもの
は同一番号を付してある。第2図に示される測定
装置は、メモリ−データ・プロセツサ(以下、メ
モリ−プロセツサという)15における演算が第
1図に示される従来の測定装置と異なるのみで、
他は実質的に同じである。なお、第1図では、形
状誤差を測定すべき被測定体が球面形状のもので
あるのに対し、第2図では非球面形状のものとな
つている。
動作は、第3図のフローチヤートに示されてい
る。詳述すると、可干渉性光源1は可干渉光を出
射するものであり、この実施例では、可干渉光と
してレーザー光を出射するレーザー光発振器であ
る。レーザー光発振器1から出射されたレーザー
光はその進路上に配置されているマイケルンソン
型干渉計3に入射する。干渉計3は、コリメー
タ・レンズ4、半透鏡5、集光レンズ8、結像レ
ンズ10から成つている。レーザー光発振器1か
ら出射されコリメータ・レンズ4に入射したレー
ザー光は、そのビーム径が拡大されかつ平行光線
とされる。半透鏡5がこの平行光線とされたレー
ザー光の進路上に約45度の角度をもつて配置され
ており、この平行レーザー光はこの半透鏡5に入
射する。半透鏡5は入射した平行レーザー光を、
その進行してきた方向に直交する方向に進行する
偏向レーザー光と、進行してきた方向にそのまま
進行する直進レーザー光とに分割する。偏向レー
ザー光は、この偏向レーザー光の進行方向に配置
された集光レンズ8を介し、この進行方向前方に
配置されている被測定物体である非球面鏡16に
入射し、反射する。この反射光は、物体光6とし
て集光レンズ8に戻り平行光線にされ、半透鏡5
を介した後、この平行光線の進路上に配置されて
いる結像レンズ10を介してイメージ・センサ−
モニタ(以下、センサ−モニタという)11に指
向する。一方、コリメータ・レンズ4を介して半
透鏡5に入射しかつ半透鏡5を通過して直進した
レーザー光は、その進行方向に配置されている参
照体としての参照鏡12に入射し、反射される。
反射されたレーザー光は、参照光すなわち基準光
7として半透鏡7に戻り、半透鏡7により偏向さ
れて結像レンズ10を介してセンサ−モニタ11
に指向する。集光レンズ8はそれに入射するレー
ザー光を非球面鏡16に対して垂直に入射させる
ように偏向するためのものである。結像レンズ1
0は、物体光6と参照光7とを偏向させてセンサ
−モニタ11の撮像面に指向させるものである。
物体光6と参照光7とは干渉計3によつて干渉
し、したがつて、センサ−モニタ11の映像面に
は、物体光6と参照光7との干渉による干渉縞が
あらわれる。非球面鏡16は保持具17によつて
所定位置に保持されている一方、保持具17にと
りつけられたネジ部材18,19によつてその位
置、姿勢が調整可能になつている。なお、この実
施例はこの発明を非球面鏡16から成る被測定物
体に適用した場合の例であるが、平面鏡を被測定
物体とした場合にも当然適用可能であり、その場
合には集光レンズ8は不要である。その場合、コ
リメータ・レンズ4を介して半透鏡5に入射し、
この半透鏡5で偏向され、平面鏡に指向されたレ
ーザー光は平行光線のまま平面鏡に入射しかつ平
行光線のまま半透鏡5に戻ることになる。
る。詳述すると、可干渉性光源1は可干渉光を出
射するものであり、この実施例では、可干渉光と
してレーザー光を出射するレーザー光発振器であ
る。レーザー光発振器1から出射されたレーザー
光はその進路上に配置されているマイケルンソン
型干渉計3に入射する。干渉計3は、コリメー
タ・レンズ4、半透鏡5、集光レンズ8、結像レ
ンズ10から成つている。レーザー光発振器1か
ら出射されコリメータ・レンズ4に入射したレー
ザー光は、そのビーム径が拡大されかつ平行光線
とされる。半透鏡5がこの平行光線とされたレー
ザー光の進路上に約45度の角度をもつて配置され
ており、この平行レーザー光はこの半透鏡5に入
射する。半透鏡5は入射した平行レーザー光を、
その進行してきた方向に直交する方向に進行する
偏向レーザー光と、進行してきた方向にそのまま
進行する直進レーザー光とに分割する。偏向レー
ザー光は、この偏向レーザー光の進行方向に配置
された集光レンズ8を介し、この進行方向前方に
配置されている被測定物体である非球面鏡16に
入射し、反射する。この反射光は、物体光6とし
て集光レンズ8に戻り平行光線にされ、半透鏡5
を介した後、この平行光線の進路上に配置されて
いる結像レンズ10を介してイメージ・センサ−
モニタ(以下、センサ−モニタという)11に指
向する。一方、コリメータ・レンズ4を介して半
透鏡5に入射しかつ半透鏡5を通過して直進した
レーザー光は、その進行方向に配置されている参
照体としての参照鏡12に入射し、反射される。
反射されたレーザー光は、参照光すなわち基準光
7として半透鏡7に戻り、半透鏡7により偏向さ
れて結像レンズ10を介してセンサ−モニタ11
に指向する。集光レンズ8はそれに入射するレー
ザー光を非球面鏡16に対して垂直に入射させる
ように偏向するためのものである。結像レンズ1
0は、物体光6と参照光7とを偏向させてセンサ
−モニタ11の撮像面に指向させるものである。
物体光6と参照光7とは干渉計3によつて干渉
し、したがつて、センサ−モニタ11の映像面に
は、物体光6と参照光7との干渉による干渉縞が
あらわれる。非球面鏡16は保持具17によつて
所定位置に保持されている一方、保持具17にと
りつけられたネジ部材18,19によつてその位
置、姿勢が調整可能になつている。なお、この実
施例はこの発明を非球面鏡16から成る被測定物
体に適用した場合の例であるが、平面鏡を被測定
物体とした場合にも当然適用可能であり、その場
合には集光レンズ8は不要である。その場合、コ
リメータ・レンズ4を介して半透鏡5に入射し、
この半透鏡5で偏向され、平面鏡に指向されたレ
ーザー光は平行光線のまま平面鏡に入射しかつ平
行光線のまま半透鏡5に戻ることになる。
第2図の装置において、参照鏡12の下方には
駆動器13が設けられており、この駆動装置13
を駆動させて参照鏡12を微細に動かすことによ
り参照光7の位相を変化させる。駆動制御器14
は、両反射光すなわち物体光6と参照光7の位相
差(x,y)がπ/2ずつ四段階に、すなわち、
(x,y)、(x,y)+π/2、(x,y)+
π、 (x,y)+3/2πの四段階に変化するように駆 動装置13を装置する。メモリ−プロセツサ15
は、センサ−モニタ11と駆動制御器14との間
に設けられており、制御器14による参照光7の
位相の四段階の各変化に同期させてセンサ−モニ
タ11上の干渉縞の映像を受けてデジタル信号に
変換して記憶する。ところで、参照光7の位相を
四段階に変化させた場合、演算回路15に入力さ
れる干渉縞の強度分布は、 IN(x,y)=IO(x,y)〔1+γcos{W(x
,y)+(x,y)+π/2(N−1)}〕(3) となる。
駆動器13が設けられており、この駆動装置13
を駆動させて参照鏡12を微細に動かすことによ
り参照光7の位相を変化させる。駆動制御器14
は、両反射光すなわち物体光6と参照光7の位相
差(x,y)がπ/2ずつ四段階に、すなわち、
(x,y)、(x,y)+π/2、(x,y)+
π、 (x,y)+3/2πの四段階に変化するように駆 動装置13を装置する。メモリ−プロセツサ15
は、センサ−モニタ11と駆動制御器14との間
に設けられており、制御器14による参照光7の
位相の四段階の各変化に同期させてセンサ−モニ
タ11上の干渉縞の映像を受けてデジタル信号に
変換して記憶する。ところで、参照光7の位相を
四段階に変化させた場合、演算回路15に入力さ
れる干渉縞の強度分布は、 IN(x,y)=IO(x,y)〔1+γcos{W(x
,y)+(x,y)+π/2(N−1)}〕(3) となる。
ここで、IN(x,y)はN回目の変化段階での、
映像面上すなわちxy座標面上における、干渉縞
の強度分布、IO(x,y)はレーザー光自体の強
度分布すなわちIN(x,y)のバイアス成分、γ
は干渉縞の鮮明度、(x,y)は、被測定物体
である非球面鏡16の形状誤差に起因する物体光
の位相分布(単位はラジアン)、Nは参照光7の
位相の変化段階の何番目かを示す序数であつて1
ないし4のいずれかの整数、である。上記(3)式に
おいて、W(x,y)は被測定物体である非球面
鏡16の形状誤差が零であるときの物体光6の位
相分布を示しており、非球面鏡16の設計値より
容易に算出することができる。
映像面上すなわちxy座標面上における、干渉縞
の強度分布、IO(x,y)はレーザー光自体の強
度分布すなわちIN(x,y)のバイアス成分、γ
は干渉縞の鮮明度、(x,y)は、被測定物体
である非球面鏡16の形状誤差に起因する物体光
の位相分布(単位はラジアン)、Nは参照光7の
位相の変化段階の何番目かを示す序数であつて1
ないし4のいずれかの整数、である。上記(3)式に
おいて、W(x,y)は被測定物体である非球面
鏡16の形状誤差が零であるときの物体光6の位
相分布を示しており、非球面鏡16の設計値より
容易に算出することができる。
X,Y座標面で或る映像面上の1個の画素の大
きさを、x方向にa、y方向にb、画素の中心座
標位置を(X,Y)とすると、その画素における
輝度の強さEN(X,Y)は、 で与えられる。ここでf(x−X、y−Y)は1
画素の形状と光感度分布とを与える関数である。
なお、(X,Y)は画素の中心座標位置であり、
(x,y)はxy座標面上の任意の位置の座標を示
している。センサ−モニタ11としては、ITV
カメラ、CCDアレイ・カメラ、イメージ・デイ
セクタ・カメラあるいはフオトアレイ・センサ等
を用いることができる。CCDアレイ・カメラあ
るいはフオトアレイ・センサの場合には、感光面
の全域にわたつて感光感度が均一であり、しかも
画素形状が長方形であるので、(4)式においてf
(x−X、y−Y)項は省いても実質的な影響は
生じない。
きさを、x方向にa、y方向にb、画素の中心座
標位置を(X,Y)とすると、その画素における
輝度の強さEN(X,Y)は、 で与えられる。ここでf(x−X、y−Y)は1
画素の形状と光感度分布とを与える関数である。
なお、(X,Y)は画素の中心座標位置であり、
(x,y)はxy座標面上の任意の位置の座標を示
している。センサ−モニタ11としては、ITV
カメラ、CCDアレイ・カメラ、イメージ・デイ
セクタ・カメラあるいはフオトアレイ・センサ等
を用いることができる。CCDアレイ・カメラあ
るいはフオトアレイ・センサの場合には、感光面
の全域にわたつて感光感度が均一であり、しかも
画素形状が長方形であるので、(4)式においてf
(x−X、y−Y)項は省いても実質的な影響は
生じない。
(4)式に(3)式を代入して展開すると、
ここで、一つの画素の大きさは、映像面全面に
対して一般に数100分の1と充分小さく、またレ
ーザー自身の強度分布IO(x,y)と形状誤差に
起因する位相分布(x,y)はゆるやかに変化
する。このため、一つの画素内ではIO(x,y)、
(x,y)は、一様と考えられ、上記式(5)内か
ら除外することができる。すなわち ここで と定義すると式(6)は次式(8)のように書ける。
対して一般に数100分の1と充分小さく、またレ
ーザー自身の強度分布IO(x,y)と形状誤差に
起因する位相分布(x,y)はゆるやかに変化
する。このため、一つの画素内ではIO(x,y)、
(x,y)は、一様と考えられ、上記式(5)内か
ら除外することができる。すなわち ここで と定義すると式(6)は次式(8)のように書ける。
ここでN=1のとき
cos{(x,y)+π/2(N−1)}
=cos(x,y)
sin{(x,y)+π/2(N−1)}
=sin(x,y)
・N=2のとき
cos{(x+y)+π/2(N−1)}=cos{(
x,y)+π/2}=−sin(x,y) sin{(x,y)+π/2(N−1)}=sin{(
x,y)+π/2}=cos(x,y) ・N=3のとき cos{(x,y)+π/2(N−1)}=cos{(
x,y)+π}=−cos(x,y) sin{(x,y)+π/2(N−1)}=sin{(
x,y)+π}=−sin(x,y) ・N=4のとき cos{(x,y)+π/2(N−1)}=cos{(
x,y)+3/2π}sin(x,y) sin{(x,y)+π/2(N−1)}=sin{(
x,y)+3/2π}=−cos(x,y)(9) 式(8)と式(9)を用いて EA=E1(X,Y)−E3(X,Y)を計算すると、 EA=E1(X,Y)−E3(X,Y) =2IO(X,Y)γ{C(X,Y)cos(X,Y) −S(X,Y)sin(X,Y)} (10) となる。同じく式(8)と式(9)を用いて EB=E4(X,Y)−E2(X,Y)を計算すると、 EB=E4(X,Y)−E2(X,Y) =2IO(X,Y)γ{C(X,Y)sin(X,Y) +S(X,Y)cos(X,Y)} (11) 式(10)と式(11)より E(X,Y)=C(X,Y)EB−S(X,Y)EA/C(X
,Y)EA+S(X,Y)EBを 計算すると E(X,Y)=C(X,Y)EB−S(X,Y)EA/C(X
,Y)EA+S(X,Y)EB =2IO(X,Y)γ{C2sin(X,Y)+CScos
(X,Y)/2IO(X,Y)γ{C2cos(X,Y)−CS
sin(X,Y)* *−SCcos(X,Y)+S2sin(X,Y)/+SC
sin(X,Y)+S2cos(X,Y) ={C(X,Y)2+S(X,Y)2}sin(X,
Y)/{C(X,Y)2+S(X,Y)2}cos(X,
Y)=sin(X,Y)/cos(X,Y)…(12) 式(12)より、求めたい(X,Y)は次式で得られ
る。
x,y)+π/2}=−sin(x,y) sin{(x,y)+π/2(N−1)}=sin{(
x,y)+π/2}=cos(x,y) ・N=3のとき cos{(x,y)+π/2(N−1)}=cos{(
x,y)+π}=−cos(x,y) sin{(x,y)+π/2(N−1)}=sin{(
x,y)+π}=−sin(x,y) ・N=4のとき cos{(x,y)+π/2(N−1)}=cos{(
x,y)+3/2π}sin(x,y) sin{(x,y)+π/2(N−1)}=sin{(
x,y)+3/2π}=−cos(x,y)(9) 式(8)と式(9)を用いて EA=E1(X,Y)−E3(X,Y)を計算すると、 EA=E1(X,Y)−E3(X,Y) =2IO(X,Y)γ{C(X,Y)cos(X,Y) −S(X,Y)sin(X,Y)} (10) となる。同じく式(8)と式(9)を用いて EB=E4(X,Y)−E2(X,Y)を計算すると、 EB=E4(X,Y)−E2(X,Y) =2IO(X,Y)γ{C(X,Y)sin(X,Y) +S(X,Y)cos(X,Y)} (11) 式(10)と式(11)より E(X,Y)=C(X,Y)EB−S(X,Y)EA/C(X
,Y)EA+S(X,Y)EBを 計算すると E(X,Y)=C(X,Y)EB−S(X,Y)EA/C(X
,Y)EA+S(X,Y)EB =2IO(X,Y)γ{C2sin(X,Y)+CScos
(X,Y)/2IO(X,Y)γ{C2cos(X,Y)−CS
sin(X,Y)* *−SCcos(X,Y)+S2sin(X,Y)/+SC
sin(X,Y)+S2cos(X,Y) ={C(X,Y)2+S(X,Y)2}sin(X,
Y)/{C(X,Y)2+S(X,Y)2}cos(X,
Y)=sin(X,Y)/cos(X,Y)…(12) 式(12)より、求めたい(X,Y)は次式で得られ
る。
(X,Y)=arctanE(X,Y)
=arctansin(X,Y)/cos(X,Y)…(13
) 以上まとめると、形状誤差に起因する物体光6
の位相分布(X,Y)は、次のような計算手順で求
まる(第4図)。
) 以上まとめると、形状誤差に起因する物体光6
の位相分布(X,Y)は、次のような計算手順で求
まる(第4図)。
被測定物体ここでは非球面鏡16が形状誤差
を持たないと仮定し、設計形状より非球面鏡1
6で反射された物体光6の仮想された位相分布
W(x,y)を求める。
を持たないと仮定し、設計形状より非球面鏡1
6で反射された物体光6の仮想された位相分布
W(x,y)を求める。
式(7)を演算して各画素におけるC(X,Y)とS
(X,Y)を計算する。
(X,Y)を計算する。
(3) 式(12)、(13)より求められる次式
(X,Y)=arctan
C(X,Y){E4(X,Y)−E2(X,Y)}−S(
X,Y){E1(X,Y)−E3(X,Y)}/C(X,Y
){E1(X,Y)−E3(X,Y)}+S(X,Y){E4
(X,Y)−E2(X,Y)}(14) を演算して(X,Y)を求める。
X,Y){E1(X,Y)−E3(X,Y)}/C(X,Y
){E1(X,Y)−E3(X,Y)}+S(X,Y){E4
(X,Y)−E2(X,Y)}(14) を演算して(X,Y)を求める。
式(12)において
E′(X,Y)
=C(X,Y){E1(X,Y)+E3(X,Y)−E2
(X,Y)}−S(X,Y)/C(X,Y){E1(X,
Y)−E3(X,Y)}+S(X,Y)* *{E1(X,Y)−E3(X,Y)}/{E1(X,Y
)+E3(X,Y)−E2(X,Y)}(12−a) と演算しても、E′(X,Y)=E(X,Y)となり
式(12)と同様な結果を得る。ただし演算は複雑にな
る。
(X,Y)}−S(X,Y)/C(X,Y){E1(X,
Y)−E3(X,Y)}+S(X,Y)* *{E1(X,Y)−E3(X,Y)}/{E1(X,Y
)+E3(X,Y)−E2(X,Y)}(12−a) と演算しても、E′(X,Y)=E(X,Y)となり
式(12)と同様な結果を得る。ただし演算は複雑にな
る。
また式(3)において
IN(x,y)=IO(x,y)〔1+γcos{W(x,
y)+(x,y)+2π/3(N−1)}〕 (3−a) と位相を3段階に変化させても同様のことが行え
る。
y)+(x,y)+2π/3(N−1)}〕 (3−a) と位相を3段階に変化させても同様のことが行え
る。
このとき式(5)は
となり
E″(X,Y)=C(X,Y)・√3{E3′(X,Y
)−E2′(X,Y)}−S(X,Y)/C(X,Y){
2E1′(X,Y)−E2′(X,Y)−E3′(X,Y)}
* *{2E1′(X,Y)−E2′(X,Y)−E3′(X,
Y)}/+S(X,Y)・√3{E3′(X,Y)−E2′
(X,Y)}(12b) と演算してもE″(X,Y)=E(X,Y)となり式
(12)と同様な結果を得る。このとき位相の変化は3
段階で良いが、演算は式(12a)と同様複雑にな
る。
)−E2′(X,Y)}−S(X,Y)/C(X,Y){
2E1′(X,Y)−E2′(X,Y)−E3′(X,Y)}
* *{2E1′(X,Y)−E2′(X,Y)−E3′(X,
Y)}/+S(X,Y)・√3{E3′(X,Y)−E2′
(X,Y)}(12b) と演算してもE″(X,Y)=E(X,Y)となり式
(12)と同様な結果を得る。このとき位相の変化は3
段階で良いが、演算は式(12a)と同様複雑にな
る。
次に物体の位置や姿勢がずれて置かれていた時
を考える。ここで、このずれ量をx,y方向に
Δx,Δyとし、光軸方向(z方向)ずれによる物
体光6の位相の歪の係数をα,y軸まわりの傾き
による物体光6の位相の歪の係数をT1、同様に
x軸まわりのそれをT2とする。以上を統合した
位置や姿勢ずれによる物体光6の位相歪の分布を
We(x,y)とすると、次式で表わせる。
を考える。ここで、このずれ量をx,y方向に
Δx,Δyとし、光軸方向(z方向)ずれによる物
体光6の位相の歪の係数をα,y軸まわりの傾き
による物体光6の位相の歪の係数をT1、同様に
x軸まわりのそれをT2とする。以上を統合した
位置や姿勢ずれによる物体光6の位相歪の分布を
We(x,y)とすると、次式で表わせる。
We(x,y)=α・{(x−Δx)2+(y−Δy)2}
+T1・(x−Δx)+T2・(y−Δy)(15)
このとき、干渉縞の強度分布IN(x,y)は、
式(3)より IN(x,y)=IO(x,y)〔1+γcos{W(x−
Δx,y−Δy)+We(x,y) +(x−Δx,y−Δy)+π/2(N−1)}〕
(16) とあらわされる。
式(3)より IN(x,y)=IO(x,y)〔1+γcos{W(x−
Δx,y−Δy)+We(x,y) +(x−Δx,y−Δy)+π/2(N−1)}〕
(16) とあらわされる。
ここで式(6)、(7)、(8)、(10)の計算手順を行なうと
式(12)は E(X,Y)=sin{We(X,Y)+(X−Δx
,Y−Δy)}/cos{We(X,Y)+(X−Δx,Y
−Δy)}(17) のように書きあらわされ、また式(13)に示され
るarctanE(X,Y)を求める演算は arctanE(X,Y)=We(X,Y)+(X−Δx,
Y−Δy) (18) のように書きあらわされる。式(18)は物体の位
置や姿勢による物体光6の位相歪We(X,Y)を
含んでしまつているので、このWe(X,Y)を取
り除かなければ正確な形状誤差は得られない。こ
のためにaretanE(X,Y)の全画素にわたつて
の標準偏差、すなわち、 (ここでm、nはそれぞれX方向、Y方向の画素
数、XiYjはX方向i番目、Y方向j番目の画素
の中心座標位置) が最小になるように、干渉計3に対して上記保持
具17に設けられているネジ部材18,19を適
当な方向に回転させて非球面鏡16の位置や姿勢
を相対的に調整するならば(X,Y)は非球面
鏡16の位置姿勢によつてほとんど変化せず一定
となるので、式(18)から、すべての画素にわた
つて We(X,Y)0になると考えられる。このと
き、式(15)より明らかとなるようにα=0、
Δx=0、Δy=0、T1=0、T2=0となり、式
(18)は arctanE(X,Y)=(X,Y)となり、この式
をH(x,y)=(x,y)×λ/4π+Kなる式に代入す
る ことにより、形状誤差H(x,y)が求まる。
式(12)は E(X,Y)=sin{We(X,Y)+(X−Δx
,Y−Δy)}/cos{We(X,Y)+(X−Δx,Y
−Δy)}(17) のように書きあらわされ、また式(13)に示され
るarctanE(X,Y)を求める演算は arctanE(X,Y)=We(X,Y)+(X−Δx,
Y−Δy) (18) のように書きあらわされる。式(18)は物体の位
置や姿勢による物体光6の位相歪We(X,Y)を
含んでしまつているので、このWe(X,Y)を取
り除かなければ正確な形状誤差は得られない。こ
のためにaretanE(X,Y)の全画素にわたつて
の標準偏差、すなわち、 (ここでm、nはそれぞれX方向、Y方向の画素
数、XiYjはX方向i番目、Y方向j番目の画素
の中心座標位置) が最小になるように、干渉計3に対して上記保持
具17に設けられているネジ部材18,19を適
当な方向に回転させて非球面鏡16の位置や姿勢
を相対的に調整するならば(X,Y)は非球面
鏡16の位置姿勢によつてほとんど変化せず一定
となるので、式(18)から、すべての画素にわた
つて We(X,Y)0になると考えられる。このと
き、式(15)より明らかとなるようにα=0、
Δx=0、Δy=0、T1=0、T2=0となり、式
(18)は arctanE(X,Y)=(X,Y)となり、この式
をH(x,y)=(x,y)×λ/4π+Kなる式に代入す
る ことにより、形状誤差H(x,y)が求まる。
ところでセンサ−モニタ11として一次元セン
サ例えばフオトアレイセンサを用いたときは画素
数も少なく演算時間も少ないが、二次元センサを
用いたときは画素数が多くなり、演算→調整用ネ
ジ操作→演算→ネジ操作を繰り返すことになる
が、これは多大な時間を要する。このときは、演
算によつて上記5個のパラメータα,Δx,Δy,
T1,T2を求めてWE(X,Y)を求め、最後に
(X,Y)を得ることができる。
サ例えばフオトアレイセンサを用いたときは画素
数も少なく演算時間も少ないが、二次元センサを
用いたときは画素数が多くなり、演算→調整用ネ
ジ操作→演算→ネジ操作を繰り返すことになる
が、これは多大な時間を要する。このときは、演
算によつて上記5個のパラメータα,Δx,Δy,
T1,T2を求めてWE(X,Y)を求め、最後に
(X,Y)を得ることができる。
ところで演算装置内の演算で上記5個のパラメ
ータを同時に求めることは困難なため、この5個
のパラメータを分割し、順に求める手順を以下に
示す。
ータを同時に求めることは困難なため、この5個
のパラメータを分割し、順に求める手順を以下に
示す。
演算を簡単にするため、αの項は偶数次、他は
奇数次であること、T1はx軸だけの項、T2はy
軸だけの項であることを利用する。先ずT1とΔx
を求めるためx軸だけを考慮すると、式(15)
は、 We(x,o)=α・(x-Δx)2×T1・(x-Δx) (20) となる。ここでΔx,T1の予想値をΔx′,T1′とし
偶数次の項を削除するため次の演算を行う。
奇数次であること、T1はx軸だけの項、T2はy
軸だけの項であることを利用する。先ずT1とΔx
を求めるためx軸だけを考慮すると、式(15)
は、 We(x,o)=α・(x-Δx)2×T1・(x-Δx) (20) となる。ここでΔx,T1の予想値をΔx′,T1′とし
偶数次の項を削除するため次の演算を行う。
g(X,Δx′,T1′)
=arctanE(X+Δx′,0)
−arctanE(−X+Δx′,0)−2T1′・X
(21)
式(21)に式(18)、(20)を代入すると
g(X,Δx′,T1′)
=α{(X−Δx+Δx′)2−(−X−Δx+Δx′)2
} +T1・{(X−Δx+Δx′)−(−X−Δx+Δx′)
} +(X−Δx+Δx′)−(−X−Δx+Δx′) −2T1′・X =4α・X(Δx′−Δx)+2X・(T1−T1′) +(X−Δx+Δx′)−(−X−Δx+Δx′)
(22) 式(22)よりΔx=Δx′、T1=T1′のとき g(X,Δx′,T1′) =(X−Δx+x′)−(−X−Δx+Δx′) となり、x軸上すべての画素に対するg(X,
Δx′,T1′)の標準偏差σgx は、最小値を示す。逆にσgxが最小となるような
Δx′,T1′を求めれば良い。求めることは、パラ
メータがわずか2個なので一般的な試行錯誤法で
も容易である。
} +T1・{(X−Δx+Δx′)−(−X−Δx+Δx′)
} +(X−Δx+Δx′)−(−X−Δx+Δx′) −2T1′・X =4α・X(Δx′−Δx)+2X・(T1−T1′) +(X−Δx+Δx′)−(−X−Δx+Δx′)
(22) 式(22)よりΔx=Δx′、T1=T1′のとき g(X,Δx′,T1′) =(X−Δx+x′)−(−X−Δx+Δx′) となり、x軸上すべての画素に対するg(X,
Δx′,T1′)の標準偏差σgx は、最小値を示す。逆にσgxが最小となるような
Δx′,T1′を求めれば良い。求めることは、パラ
メータがわずか2個なので一般的な試行錯誤法で
も容易である。
同様にY軸についてもg(X,Δy′,T2′)を計
算しσgyが最小になるようなΔy′とT2′を求める。
以上によつて5個のパラメータのうち4個が求ま
り、残るは1個である。これを求めるには今まで
求めたΔx′,Δy′,T1′,T2′から、Δx=Δx′、Δ
y
=Δy′、T1=T1′、T2=T2′を式(15)〜(19)に
代入し、σEが最小となるようなαの値を求めれば
良い。これによつて5個のパラメータが全てが求
まり、これらの値を式(15)〜(18)に代入する
とarctanE(X,Y)の値とWe(X,Y)の値が
求まるのでその差から(X−Δx、Y−Δy)が
求まり、H(x−Δx、y−Δx)=(X−Δx、y
−Δy)×λ/4π+Kより形状誤差 H(x−Δx、y−Δx)が得られる。
算しσgyが最小になるようなΔy′とT2′を求める。
以上によつて5個のパラメータのうち4個が求ま
り、残るは1個である。これを求めるには今まで
求めたΔx′,Δy′,T1′,T2′から、Δx=Δx′、Δ
y
=Δy′、T1=T1′、T2=T2′を式(15)〜(19)に
代入し、σEが最小となるようなαの値を求めれば
良い。これによつて5個のパラメータが全てが求
まり、これらの値を式(15)〜(18)に代入する
とarctanE(X,Y)の値とWe(X,Y)の値が
求まるのでその差から(X−Δx、Y−Δy)が
求まり、H(x−Δx、y−Δx)=(X−Δx、y
−Δy)×λ/4π+Kより形状誤差 H(x−Δx、y−Δx)が得られる。
本実施例のように、物体が非球面鏡のときは、
非球面鏡の焦点距離がわずかに設計値より異なつ
ていても公差内なら実用上の支障がないが、測定
時には、見かけ上形状誤差として測定される。
非球面鏡の焦点距離がわずかに設計値より異なつ
ていても公差内なら実用上の支障がないが、測定
時には、見かけ上形状誤差として測定される。
このため焦点距離のずれに関するパラメータβ
を設定すると、式(15)は We(x,y) =α・{(x-Δx)2+(y-Δy)2} +β・〔(x-Δx)2+(y-Δy)2}2 +T1・(x-Δx)+T2・(y-Δy) (24) となる。β・{(x−Δx)2+(y−Δy)2}2も偶数
関
数なので、上述のようにΔx,Δy,T1,T2を求
めた後、σEが最小になるようにα、βを同時に求
めれば良い。
を設定すると、式(15)は We(x,y) =α・{(x-Δx)2+(y-Δy)2} +β・〔(x-Δx)2+(y-Δy)2}2 +T1・(x-Δx)+T2・(y-Δy) (24) となる。β・{(x−Δx)2+(y−Δy)2}2も偶数
関
数なので、上述のようにΔx,Δy,T1,T2を求
めた後、σEが最小になるようにα、βを同時に求
めれば良い。
以上により形状誤差が求まる。
上記実施例の測定方法および測定装置によれ
ば、複雑な形状の物体であつても非球面等数式で
あらわされ得るものでかつ光学的になめらかなも
のであれば、その形状誤差を簡単かつ高精度に測
定することができ、しかもセンサ−モニタとして
画素数の少ないものを用いても高精度に測定する
ことができる。
ば、複雑な形状の物体であつても非球面等数式で
あらわされ得るものでかつ光学的になめらかなも
のであれば、その形状誤差を簡単かつ高精度に測
定することができ、しかもセンサ−モニタとして
画素数の少ないものを用いても高精度に測定する
ことができる。
なお実施例では参照光7の位相を正確にπ/2づ
つ変化させなければならないが、下記にその校正
方法を示す。もしこの校正が完了しておらず参照
光7の位相が(π/2+ε)ずつ変化しているとす るならば、式(3)は IN(x,y)=IO(x,y)〔1+γcos{W(x,
y)+(x,y)+(π/2+ε)(N−1)}(25
) となる。式(25)を式(5)に代入するならば、EN
(X,Y)は となる。
方法を示す。もしこの校正が完了しておらず参照
光7の位相が(π/2+ε)ずつ変化しているとす るならば、式(3)は IN(x,y)=IO(x,y)〔1+γcos{W(x,
y)+(x,y)+(π/2+ε)(N−1)}(25
) となる。式(25)を式(5)に代入するならば、EN
(X,Y)は となる。
式(26)より、D(X,Y)={E1(X,Y)+E3
(X,Y)}−{E2(X,Y)+E4(X,Y)}を計算
すると、 ここでε0なのでsinε=ε、sin2ε=2ε、
sin3ε=3ε、cosε=cos2ε=cos3ε=1とすると となる。
(X,Y)}−{E2(X,Y)+E4(X,Y)}を計算
すると、 ここでε0なのでsinε=ε、sin2ε=2ε、
sin3ε=3ε、cosε=cos2ε=cos3ε=1とすると となる。
式(28)から、参照光7の位相が正確にπ/2づ
つ変位しているならば、ε=0となり、Dもゼロ
となる。つまりすべての画素についてD=0とな
るように上記駆動制御器13により上記駆動制御
器14を調整して参照光7の位置を調整すれば良
い。
となる。つまりすべての画素についてD=0とな
るように上記駆動制御器13により上記駆動制御
器14を調整して参照光7の位置を調整すれば良
い。
なお、この発明は上記実施例に限定されるもの
ではない。例えば、本実施例では、被測定体とし
て非球面鏡に対してこの発明の測定方法を適用し
た例であるが、これに限らず表面が使用する光源
からの光源に対しなめらかで、数式でその形状が
表わせる物体すべてに適用できる。このとき、式
(3)から式(19)までの演算手順は同一である。
ではない。例えば、本実施例では、被測定体とし
て非球面鏡に対してこの発明の測定方法を適用し
た例であるが、これに限らず表面が使用する光源
からの光源に対しなめらかで、数式でその形状が
表わせる物体すべてに適用できる。このとき、式
(3)から式(19)までの演算手順は同一である。
光源として、レーザー光を例として使用した
が、可干渉光を出射する光源であればどんなもの
でも利用できる。例えば赤外レーザー光、あるい
は水銀ランプからの近紫外光等がある。
が、可干渉光を出射する光源であればどんなもの
でも利用できる。例えば赤外レーザー光、あるい
は水銀ランプからの近紫外光等がある。
干渉計として、マイケルソン型の干渉計を用い
たが、光学的になめらかな面の形状を測定するた
めの干渉計ならばすべての干渉計が使用できる。
例えばマハツエンダー干渉計、フイゾー干渉計な
どがある。
たが、光学的になめらかな面の形状を測定するた
めの干渉計ならばすべての干渉計が使用できる。
例えばマハツエンダー干渉計、フイゾー干渉計な
どがある。
センサーモニタとしてITV、CCDセンサのよ
うな蓄積型の画像センサと、フオトアレイ・セン
サ、イメージ・デイセクタ等そうでないものがあ
るが、いずれも同一演算手段で形状誤差が求ま
る。
うな蓄積型の画像センサと、フオトアレイ・セン
サ、イメージ・デイセクタ等そうでないものがあ
るが、いずれも同一演算手段で形状誤差が求ま
る。
リニアアレイ・センサを用いたときは、一軸の
断面形状が得られる。
断面形状が得られる。
また上記実施例では、参照光の位相を段階的に
π/2づつ変位させたが連続的に変位させ、π/2ずれ たタイミングで瞬間的にデータを取り込んでも良
い。瞬間的にデータを取り込むことは、全画素同
時である必要はなく、一画素づつ順にデータを取
り込むことも可能である。このときは、一画素一
画素わずかずつ、参照光の位相が異なり、その分
だけ考慮し、形状測定データから差し引けば良
い。
π/2づつ変位させたが連続的に変位させ、π/2ずれ たタイミングで瞬間的にデータを取り込んでも良
い。瞬間的にデータを取り込むことは、全画素同
時である必要はなく、一画素づつ順にデータを取
り込むことも可能である。このときは、一画素一
画素わずかずつ、参照光の位相が異なり、その分
だけ考慮し、形状測定データから差し引けば良
い。
本実施例では、参照光の位相を変化させたが、
駆動器13を被測定物体である非球面鏡16に設
けて、物体光6の位相を変化させても同等の効果
が得られる。
駆動器13を被測定物体である非球面鏡16に設
けて、物体光6の位相を変化させても同等の効果
が得られる。
本実施例では、物体光6として非球面鏡16の
表面で反射した光を用いたが、物体が透明な場合
は、物体を透過した光を物体光として用いても良
い。
表面で反射した光を用いたが、物体が透明な場合
は、物体を透過した光を物体光として用いても良
い。
上述したように、この発明によれば、複雑な形
状を有するものであつても、光学的になめらかで
数式によつてあらわされる三次元形状物体であれ
ば、その形状誤差を高精度に測定することのでき
る作業性の高い、物体の形状誤差を測定する方法
およびその装置が提供される。
状を有するものであつても、光学的になめらかで
数式によつてあらわされる三次元形状物体であれ
ば、その形状誤差を高精度に測定することのでき
る作業性の高い、物体の形状誤差を測定する方法
およびその装置が提供される。
第1図は、位相検出方式による測定法により物
体の形状誤差を測定するための従来の装置の構成
を概略的に示す図、第2図は、位相検出方式によ
る測定法により物体の形状誤差を測定するため
の、この発明の一実施例に係る装置の構成を概略
的に示す図、第3図は、この発明の一実施例にか
かる、物体の形状誤差を測定する方法を示すフロ
ーチヤート。第4図は、この発明の、物体の形状
誤差を測定する方法における特に演算手順のフロ
ーチヤート、である。 1…レーザー光源、3…干渉計、5…半透鏡、
8…集光レンズ、10…結像レンズ、11…イメ
ージ・センサーモニタ、12…参照鏡、13…駆
動器、15…メモリーデータ・プロセツサ。
体の形状誤差を測定するための従来の装置の構成
を概略的に示す図、第2図は、位相検出方式によ
る測定法により物体の形状誤差を測定するため
の、この発明の一実施例に係る装置の構成を概略
的に示す図、第3図は、この発明の一実施例にか
かる、物体の形状誤差を測定する方法を示すフロ
ーチヤート。第4図は、この発明の、物体の形状
誤差を測定する方法における特に演算手順のフロ
ーチヤート、である。 1…レーザー光源、3…干渉計、5…半透鏡、
8…集光レンズ、10…結像レンズ、11…イメ
ージ・センサーモニタ、12…参照鏡、13…駆
動器、15…メモリーデータ・プロセツサ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 可干渉光を出射し、 前記可干渉光の参照面からの反射光と被測定物
体からの反射光とを干渉させて両反射光の干渉縞
を形成し、 複数の画素からなる強度測定手段を用いて干渉
縞の強度を画素ごとに測定し、 前記強度測定手段における両反射光の位相差を
相対的にπ/2ずつ計4回変位させ、 前記強度測定手段上に設定したxy座標面上の
中心位置が(X,Y)となる画素における相対的
に変位させた各位相差での干渉縞の強度をそれぞ
れE1(X,Y)、E2(X,Y)、E3(X,Y)、E4
(X,Y)として記憶し、 被測定物体は理想形状からのずれがないと仮定
したときの両反射光の位相差分布W(x,y)を
参照面と被測定物体の形状の設計値に基づいて算
出し、 前記画素における干渉縞の強度に対する感度分
布をf(x−X,y−Y)、前記画素のx方向の幅
をa,y方向の幅をbとおいて次式 を演算し、 前記画素における被測定物体の理想形状からの
ずれに起因する両反射光の位相差φ(X,Y)の
正接値E(X,Y)を次式 E(X,Y)=C(E4−E2)−S(E1−E3)/C(X
,Y){E1(X,Y)−E3(X,Y)}+S(X,Y)
{E4−E2} により算出し、 位相差φ(X,Y)を次式 φ(X,Y)=arctan[E(X,Y)] により算出し、 被測定物体の理想形状からのずれが位相差φ
(X,Y)と直線関係にあることに基づいて被測
定物体の理想形状からのずれを算出することを特
徴とする物体の形状誤差の測定方法。 2 前記強度測定手段上のxy座標面のx方向、
y方向の画素数をそれぞれm、n、x方向i番
目、Y方向j番目の画素の中心座標位置を(Xi,
Yj)とし、前記画素における位相差φ(Xi,Yj)
の正接値をE(Xi,Yj)とするとき、 arctan{E(Xi,Yj)}の標準偏差σE、 を演算し、σEが最小の値をとるように前記被測定
物体と干渉計との相対位置および/または姿勢の
ずれを調整することを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載の物体形状誤差を測定する方法。 3 前記相対位置および/または姿勢のずれの量
がx方向にΔx、y方向にΔy、z方向にΔz、y軸
の回転角方向にT1、x軸回転角方向にT2、z軸
の回転角方向にT3とし、これらずれ量による前
記物体光と参照光の位相差への寄与をWe(x,
y)とし、Δx,Δy,Δz,T1,T2,T3を求め、
前記Δx,Δy,Δz,T1,T2,T3の求められた値
からWe(x,y)を算出し、xy座標面の(X,
Y)座標位置が中心座標位置である画素の輝度の
強さをE(X,Y)とするとき、arctan{E(X,
Y)}からWe(X,Y)を差しひいてφ(X,Y)
を求める演算、 φ(X,Y)=arctan{E(X,Y)}−We(X,
Y) を行うことを特徴とする特許請求の範囲第2項に
記載の物体の形状誤差を測定する方法。 4 φ(X,Y)=arctan{E(X,Y)}−We(X,
Y)のかわりに、 なる演算を行い、 φ(X,Y)=arctanE′(X,Y) なる演算を行い、求められたφ(X,Y)から形
状誤差を求めることを特徴とする、特許請求の範
囲第3項に記載の物体の形状誤差を測定する方
法。 5 Δx,Δy,Δz,T1,T2,T3を求める手順と
してのこれら6つの値の推定値Δx′,Δy′,Δz′,
T1′,T2′,T3′を仮定し、これら推定値を変化さ
せながら、We(X,Y)の推定値We′(X,Y)
を演算し、We′(X,Y)をWe(X,Y)に代入
し、 を演算し、σE′が最小値を持つときのΔx′、Δy′、
Δz′、T1′、T2′、T3′の値を上記Δx、Δy、Δz、
T1、T2、T3に等しい値として求めることを特長
とする、特許請求の範囲第3項に記載の物体の形
状誤差を測定する方法。 6 前記被測定物体が回転非球面をなしている光
学素子である場合において、Δx,Δy,Δz,T1,
T2,T3を求める手順のうち、T3を求める手順を
除くことを特徴とする、特許請求の範囲第5項に
記載の物体の形状誤差を測定する方法。 7 上記Δxを求める手順のかわりに、Δzによる
物体光位相の歪の計数αとし、αを求める手段を
具備し、 We(x,y)=α・{(x-Δx)2+(y-Δy)2} +T1・(x-Δx)+T2・(y-Δy) の演算を行うことによつてWe(x,y)を求める
ことを特徴とする、特許請求の範囲第6項に記載
の物体の形状誤差を測定する方法。 8 回転非球面をもつ光学素子の焦点距離のずれ
量に起因する物体光の位相の歪の計数βを求める
手順を付加し、 We(x,y)=α・{(x-Δx)2+(y-Δy)2} +β・{(x−Δx)2+(y−Δy)2}2 +T1・(x−Δx)+T2・(y−Δy) なる演算によつてWe(x,y)を求めることを特
徴とする、特許請求の範囲第7項に記載の物体の
形状誤差を測定する方法。 9 α,β,Δx,Δy,T1,T2を求める手順と
して第1にx軸上を考え、 We(x,0) =α・(x−Δx)2+β・(x−Δx)4 +T1・(x−Δx) とし、ΔxとT1の推定値をΔx′,T1′とし、(X,
0)の座標値の画素について、 g(X,Δx′,T1′) =arctanE′(X+Δx′,0) −arctanE′(−X+Δx′,0) −2T1′・X とg(X,Δx′,T1′)を定義しΔx′とT1′を変化さ
せながらg(X,Δx′,T1′)の標準偏差σgXすな
わち を演算し、σgXが最小の値を持つときのΔx′と
T1′の値を求め、このΔx′とT1′を求めるΔxとT1
にそれぞれ等しいものとする手順と、 第2に、y軸上を考え、 We(0,y) =α・(y−Δy)2+β ・(y−Δy)4+T2・(y−Δy) としΔyとT2の推定値をΔy′,T2′とし、(0,Y)
の座標値にある画素について g(Y,Δy′,T2′) =arctanE′(Y+Δy′,0) −arctanE′(−Y+Δy′,0)−2T2′・Y とg(Y,Δy′,T2′)を定義し、Δy′とT2′を変化
させながらg(Y,Δy′,T2′)の標準偏差σgYを演
算し、σgYが最小の値を持つときのΔy′とT2′の値
をもつて求めるΔyとT2の値に等しいとする手順
と、 第3に、求められたΔx,Δy,T1,T2を特許
請求の範囲第8項に記載のWe(x,y)の演算に
代入し、We(x,y)内のα、βの値を変化させ
ながら特許請求の範囲第4項に記載のE′(X,Y)
を演算し、特許請求の範囲第5項に記載のσE′を
演算し、σE′が最小値を持つときのα、βの値を
もつて求めるα,βの値とする手順と、 を具備してなることを特徴とする、特許請求の範
囲第8項に記載の物体の形状誤差を測定する方
法。 10 標準偏差を求めるとき、σE,σE′はすべて
の画素について、またσgX,σgYはx軸上、y軸上
それぞれすべての画素について、演算する代りに
特定の複数個の画素についてのみ標準偏差の演算
を行うことを特徴とする、特許請求の範囲第2
項、第5項および第9項のいずれか1項に記載
の、物体の形状誤差を測定する方法。 11 画素内の感度が一様なとき、f(x−X、
y−Y)=定数とすることを特徴とする、特許請
求の範囲第1項ないし第10項のいずれか1項に
記載の、物体の形状誤差を測定する方法。 12 画素の大きさa、bが充分小さいときは C(X,Y)=cosW(x,y) S(X,Y)=sinW(x,y) と定義することを特徴とする特許請求の範囲第1
項ないし第1項記載のいずれか1項に記載の、物
体の形状誤差を測定する方法。 13 可干渉光を出射する手段と、 前記可干渉光の参照面からの反射光と被測定物
体からの反射光とを干渉させて両反射光の干渉縞
を形成する手段と、 複数の画素からなり前記干渉縞の強度を画素ご
とに測定する強度測定手段と、 前記強度測定手段における両反射光の位相差を
相対的にπ/2ずつ計4回変位させる手段と、 前記強度測定手段上に設定したxy座標面上の
中心位置が(X,Y)となる画素における相対的
に変位させた各位相差での干渉縞の強度をそれぞ
れE1(X,Y)、E2(X,Y)、E3(X,Y)E4(X,
Y)として記憶する手段と、 被測定物体は理想形状からのずれがないと仮定
したときの両反射光の位相差分布W(x,y)を
参照面と被測定物体の形状の設計値に基づいて算
出する手段と、 前記画素における干渉縞の強度に対する感度分
布をf(x−X、y−Y)、前記画素のx方向の幅
をa,y方向の幅をbとおいて次式 を演算する手段と、 前記画素における被測定物体の理想形状からの
ずれに起因する両反射光の位相差φ(X,Y)の
正接値E(X,Y)を次式 E(X,Y)=C(E4−E2)−S(E1−E3)/C(E1
−E3)+S(E4−E2) により算出する手段と、 位相差φ(X,Y)を次式 φ(X,Y)=arctan[E(X,Y)] により算出する手段と、 被測定物体の理想形状からのずれが位相差φ
(X,Y)と直線関係にあることに基づいて被測
定物体の理想形状からのずれを算出する手段とを
具備することを特徴とする物体の形状誤差の測定
装置。 14 前記干渉縞を提供する手段はITVカメラ
であることを特徴とする、特許請求の範囲第13
項に記載の、物体の形状誤差を測定する装置。 15 前記干渉縞を提供する手段は固体撮像素子
を有するカメラであることを特徴とする特許請求
の範囲第13項に記載の、物体の形状誤差を測定
する装置。 16 前記干渉縞を提供する手段はイメージ・デ
イセクタ・カメラであることを特徴とする、特許
請求の範囲第13項記載の、物体の形状誤差を測
定する装置。 17 前記干渉計を提供する手段はフオトアレ
イ・センサーであることを特徴とする特許請求の
範囲第13項に記載の、物体の形状誤差を測定す
る装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US802743 | 1985-11-29 | ||
US06/802,743 US4697927A (en) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | Method and apparatus for measuring a forming error of an object |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62129710A JPS62129710A (ja) | 1987-06-12 |
JPH0426681B2 true JPH0426681B2 (ja) | 1992-05-08 |
Family
ID=25184569
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61069951A Expired - Lifetime JPH0760086B2 (ja) | 1985-11-29 | 1986-03-28 | 物体の形状誤差を測定する方法およびその装置 |
JP61069950A Granted JPS62129710A (ja) | 1985-11-29 | 1986-03-28 | 物体の形状誤差を測定する方法およびその装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61069951A Expired - Lifetime JPH0760086B2 (ja) | 1985-11-29 | 1986-03-28 | 物体の形状誤差を測定する方法およびその装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4697927A (ja) |
JP (2) | JPH0760086B2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4791584A (en) * | 1986-10-15 | 1988-12-13 | Eastman Kodak Company | Sub-nyquist interferometry |
US4794550A (en) * | 1986-10-15 | 1988-12-27 | Eastman Kodak Company | Extended-range moire contouring |
DE3836564A1 (de) * | 1988-10-27 | 1990-05-03 | Zeiss Carl Fa | Verfahren zur pruefung von optischen elementen |
JP2748702B2 (ja) * | 1991-02-04 | 1998-05-13 | 松下電器産業株式会社 | 三次元測定機の誤差補正方法 |
JP2538435B2 (ja) * | 1991-03-27 | 1996-09-25 | 理化学研究所 | 縞位相分布解析方法および縞位相分布解析装置 |
US5321497A (en) * | 1992-03-09 | 1994-06-14 | Wyko Corporation | Interferometric integration technique and apparatus to confine 2π discontinuity |
JPH0786411B2 (ja) * | 1992-09-30 | 1995-09-20 | 大阪精密機械株式会社 | 歯車の歯面形状の非接触測定方法 |
US5768150A (en) * | 1993-10-14 | 1998-06-16 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Device and method for measuring a characteristic of an optical element |
US7106163B2 (en) * | 1998-03-27 | 2006-09-12 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Core |
JP3507345B2 (ja) * | 1998-10-08 | 2004-03-15 | キヤノン株式会社 | モアレ測定方法及びそれを用いたモアレ測定装置 |
GB9828474D0 (en) * | 1998-12-24 | 1999-02-17 | British Aerospace | Surface topology inspection |
JP3544628B2 (ja) | 1999-03-03 | 2004-07-21 | 独立行政法人理化学研究所 | 非球面形状の測定方法と測定装置およびこれを用いた光学素子製造方法 |
US6781700B2 (en) | 2001-06-20 | 2004-08-24 | Kuechel Michael | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
US6972849B2 (en) * | 2001-07-09 | 2005-12-06 | Kuechel Michael | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
US6717679B2 (en) * | 2001-11-15 | 2004-04-06 | Zygo Corporation | Dispersive null-optics for aspheric surface and wavefront metrology |
EP1444481A4 (en) | 2001-11-15 | 2009-06-24 | Zygo Corp | FAST IN-SITU MASTERING OF A ASPHARIC FIZEAU |
DE60236532D1 (de) * | 2001-11-16 | 2010-07-08 | Zygo Corp | Abtastinterferometer für asphärische oberflächen und wellenfronten |
US7218403B2 (en) * | 2002-06-26 | 2007-05-15 | Zygo Corporation | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
US7342667B1 (en) * | 2003-11-26 | 2008-03-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of processing an optical element using an interferometer having an aspherical lens that transforms a first spherical beam type into a second spherical beam type |
GB2421302A (en) * | 2004-12-14 | 2006-06-21 | Zeiss Carl Smt Ag | Methods of measuring and manufacturing an optical element having an optical surface |
US7436520B1 (en) | 2005-01-18 | 2008-10-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of calibrating an interferometer optics and of processing an optical element having an optical surface |
DE102005021654A1 (de) * | 2005-05-06 | 2006-11-09 | Laser 2000 Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Aufbringen einer sichtbaren Kennzeichnung auf transparente Substrate |
US7612893B2 (en) * | 2006-09-19 | 2009-11-03 | Zygo Corporation | Scanning interferometric methods and apparatus for measuring aspheric surfaces and wavefronts |
KR100922625B1 (ko) * | 2007-12-24 | 2009-10-21 | (주) 인텍플러스 | 입체 형상 측정 방법 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56128407A (en) * | 1980-03-07 | 1981-10-07 | Hitachi Ltd | Light interference device |
JPS5924819A (ja) * | 1982-08-03 | 1984-02-08 | Ricoh Co Ltd | 干渉測定装置の光軸合せ機構 |
JPS59225305A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-18 | Ricoh Co Ltd | 干渉測定機におけるアライメント装置 |
-
1985
- 1985-11-29 US US06/802,743 patent/US4697927A/en not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-03-28 JP JP61069951A patent/JPH0760086B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1986-03-28 JP JP61069950A patent/JPS62129710A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62129710A (ja) | 1987-06-12 |
JPH0760086B2 (ja) | 1995-06-28 |
US4697927A (en) | 1987-10-06 |
JPS62129711A (ja) | 1987-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0426681B2 (ja) | ||
US5193120A (en) | Machine vision three dimensional profiling system | |
US5069548A (en) | Field shift moire system | |
US7599071B2 (en) | Determining positional error of an optical component using structured light patterns | |
US5636025A (en) | System for optically measuring the surface contour of a part using more fringe techniques | |
CN100485312C (zh) | 用于波前控制和改进的3d测量的方法和装置 | |
KR101596290B1 (ko) | 두께 측정 장치 및 두께 측정 방법 | |
US20080174785A1 (en) | Apparatus for the contact-less, interferometric determination of surface height profiles and depth scattering profiles | |
Kim et al. | Hybrid optical measurement system for evaluation of precision two-dimensional planar stages | |
EP2955490B1 (en) | Displacement detecting device | |
Lim et al. | A novel one-body dual laser profile based vibration compensation in 3D scanning | |
JPH0426682B2 (ja) | ||
RU2606805C1 (ru) | Устройство для линейного перемещения объекта с нанометровой точностью в большом диапазоне возможных перемещений | |
KR20220150512A (ko) | 2차원 각도 변위 측정 장치 | |
CN112284299A (zh) | 一种五自由度同时测量干涉装置 | |
JPH01235807A (ja) | 深さ測定装置 | |
JP4922905B2 (ja) | 回転中心線の位置変動測定方法および装置 | |
KR100641885B1 (ko) | 수평 방향 스캐닝 방식의 광위상 간섭측정방법 및 장치 | |
JP2595050B2 (ja) | 微小角度測定装置 | |
JP5194272B2 (ja) | 干渉計、及び形状測定方法 | |
JP2805045B2 (ja) | 空間位置決め方法 | |
JPS63115011A (ja) | 変位測定装置 | |
JP6005506B2 (ja) | 光学的測定装置 | |
JPH0719842A (ja) | 表面形状の光学的測定装置 | |
JP2001141413A (ja) | 位置計測装置 |