JPH04264429A - 光変調素子 - Google Patents
光変調素子Info
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- JPH04264429A JPH04264429A JP3024682A JP2468291A JPH04264429A JP H04264429 A JPH04264429 A JP H04264429A JP 3024682 A JP3024682 A JP 3024682A JP 2468291 A JP2468291 A JP 2468291A JP H04264429 A JPH04264429 A JP H04264429A
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- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 16
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- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
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- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/31—Digital deflection, i.e. optical switching
- G02F1/313—Digital deflection, i.e. optical switching in an optical waveguide structure
- G02F1/3132—Digital deflection, i.e. optical switching in an optical waveguide structure of directional coupler type
- G02F1/3133—Digital deflection, i.e. optical switching in an optical waveguide structure of directional coupler type the optical waveguides being made of semiconducting materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
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- G02F1/313—Digital deflection, i.e. optical switching in an optical waveguide structure
- G02F1/3132—Digital deflection, i.e. optical switching in an optical waveguide structure of directional coupler type
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、小形にして低損失でク
ロストーク特性を高めた光変調素子に関するものである
。
ロストーク特性を高めた光変調素子に関するものである
。
【0002】
【従来の技術】厚み方向に積層した方向性結合器を用い
た従来の半導体光変調素子の一例としての半導体光スイ
ッチの斜視図および横断面図を、それぞれ、図6および
図7に示す。図中、1はp側電極、2はp+ −InG
aAsキャップ層、3はp−InAlAsクラッド、4
はInGaAlAsから成るp側コア、5はInGaA
s/InAlAsから成るi−MQWで構成された、コ
ア4と6との間のギャップ、6はInGaAlAsから
成るn側コア、7はn−InAlAsクラッド、8はn
−InP基板、9はn側電極であり、この順序に積層さ
れている。
た従来の半導体光変調素子の一例としての半導体光スイ
ッチの斜視図および横断面図を、それぞれ、図6および
図7に示す。図中、1はp側電極、2はp+ −InG
aAsキャップ層、3はp−InAlAsクラッド、4
はInGaAlAsから成るp側コア、5はInGaA
s/InAlAsから成るi−MQWで構成された、コ
ア4と6との間のギャップ、6はInGaAlAsから
成るn側コア、7はn−InAlAsクラッド、8はn
−InP基板、9はn側電極であり、この順序に積層さ
れている。
【0003】この方向性結合器形光変調素子の動作につ
いて簡単に説明する。光は外部から例えば先球ファイバ
などを用いてp側コア4に入射させる。この光はギャッ
プ5を介してn側コア6に結合するため、方向性結合器
の結合長を完全結合長となるように設計しておけば、図
7に矢印で示すように、光は伝搬とともにn側コア6に
乗り移り、最終的にこのn側コア6から出射される。
いて簡単に説明する。光は外部から例えば先球ファイバ
などを用いてp側コア4に入射させる。この光はギャッ
プ5を介してn側コア6に結合するため、方向性結合器
の結合長を完全結合長となるように設計しておけば、図
7に矢印で示すように、光は伝搬とともにn側コア6に
乗り移り、最終的にこのn側コア6から出射される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】さて、先球ファイバか
らp側コア4に入射される光はスポットサイズが1.5
μm程度のガウシアンビームである。ところが、p側コ
ア4、n側コア6、ギャップ5の厚みは0.5μm程度
以下であるため、図4および図5に示した従来形構造で
は、光をコア4に入射させる場合に、もう一方のコア6
に光が結合してしまい、十分なクロストークを実現する
ことは困難であるという欠点があった。
らp側コア4に入射される光はスポットサイズが1.5
μm程度のガウシアンビームである。ところが、p側コ
ア4、n側コア6、ギャップ5の厚みは0.5μm程度
以下であるため、図4および図5に示した従来形構造で
は、光をコア4に入射させる場合に、もう一方のコア6
に光が結合してしまい、十分なクロストークを実現する
ことは困難であるという欠点があった。
【0005】そこで、本発明の目的は、厚み方向の方向
性結合器を用いた光変調素子において、従来困難であっ
た十分なクロストークを得ること、またそれに伴う光挿
入損失の増大を最小限に抑えることにある。
性結合器を用いた光変調素子において、従来困難であっ
た十分なクロストークを得ること、またそれに伴う光挿
入損失の増大を最小限に抑えることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は第1および第2のコアをギャップを
介して厚み方向に積層し、前記第1および第2のコアを
それぞれクラッドで覆って構成した方向性結合器を有す
る半導体光変調素子において、前記方向性結合器の前記
第1および第2のコアの各々に接続されている第1およ
び第2の光入力部と第1および第2の光出力部の少なく
とも一方における第1および第2の光導波路の端部付近
を互いにずらせて配置したことを特徴とする。
るために、本発明は第1および第2のコアをギャップを
介して厚み方向に積層し、前記第1および第2のコアを
それぞれクラッドで覆って構成した方向性結合器を有す
る半導体光変調素子において、前記方向性結合器の前記
第1および第2のコアの各々に接続されている第1およ
び第2の光入力部と第1および第2の光出力部の少なく
とも一方における第1および第2の光導波路の端部付近
を互いにずらせて配置したことを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明の他の形態では、請求項1記載の光変調
素子において、前記第1および第2光入力部と前記第1
および第2光出力部をそれぞれ構成する第1および第2
の光導波路の少くとも一部分をノンドープとしたことを
特徴とする。
素子において、前記第1および第2光入力部と前記第1
および第2光出力部をそれぞれ構成する第1および第2
の光導波路の少くとも一部分をノンドープとしたことを
特徴とする。
【0008】本発明では、厚み方向に積層された方向性
結合器を有する光変調素子において、クロストークを低
く抑えるために、光の入出力部を構成する光導波路を横
方向に互いにずらす。さらに、光の伝搬損失を抑えるた
めに光の入出力部を構成する光導波路の少くとも一部分
をノンドープにする。
結合器を有する光変調素子において、クロストークを低
く抑えるために、光の入出力部を構成する光導波路を横
方向に互いにずらす。さらに、光の伝搬損失を抑えるた
めに光の入出力部を構成する光導波路の少くとも一部分
をノンドープにする。
【0009】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
【0010】図1に本発明光変調素子の一実施例の斜視
図を示す。図2,図3および図4は、それぞれ、図1に
示した実施例の平面図、側面図およびAA線断面図を示
す。図中、図6および図7と同様の個所には同一符号を
付してその説明を省略する。
図を示す。図2,図3および図4は、それぞれ、図1に
示した実施例の平面図、側面図およびAA線断面図を示
す。図中、図6および図7と同様の個所には同一符号を
付してその説明を省略する。
【0011】図からわかるように、p側コア4は、この
p側コア4と同一平面内に配置されている光入力用光導
波路10に接続されている。n側コア6は、このn側コ
ア6と同一平面内に配置されている光入力用光導波路1
1に接続されている。同様に、p側コア4は、このp側
コア4と同一平面内に配置に接続されている光出力用光
導波路12にも接続されている。n側コア6は、このn
側コア6と同一平面内に配置されている光出力用光導波
路13にも接続されている。
p側コア4と同一平面内に配置されている光入力用光導
波路10に接続されている。n側コア6は、このn側コ
ア6と同一平面内に配置されている光入力用光導波路1
1に接続されている。同様に、p側コア4は、このp側
コア4と同一平面内に配置に接続されている光出力用光
導波路12にも接続されている。n側コア6は、このn
側コア6と同一平面内に配置されている光出力用光導波
路13にも接続されている。
【0012】ここで、図1〜図4に示した本発明の実施
例の製作法について説明する。
例の製作法について説明する。
【0013】(1)n−InP基板8の全面に、n−I
nAlAsクラッド7,n側コア6,i−MQW層5,
p側コア4,p−InAlAsクラッド3およびp+
−InGaAsキャップ2をこの順序で結晶成長させて
形成する。
nAlAsクラッド7,n側コア6,i−MQW層5,
p側コア4,p−InAlAsクラッド3およびp+
−InGaAsキャップ2をこの順序で結晶成長させて
形成する。
【0014】(2)ドライエッチングなどによりスイッ
チ部を図1に示すような直方体の形状に削り落とす。
チ部を図1に示すような直方体の形状に削り落とす。
【0015】(3)光入出力用光導波路部のn側クラッ
ド14を結晶成長させる。その材料として例えばInP
を用いる。
ド14を結晶成長させる。その材料として例えばInP
を用いる。
【0016】(4)光入出力用光導波路部のn側コア1
1および13の層を再成長させる。その材料はInGa
AsPとする。
1および13の層を再成長させる。その材料はInGa
AsPとする。
【0017】(5)図2に示したようなパターンで、n
側コア用光入出力用光導波路11および13をドライエ
ッチングなどにより加工形成する。
側コア用光入出力用光導波路11および13をドライエ
ッチングなどにより加工形成する。
【0018】(6)光入力用光導波路11と10との間
および光出力用光導波路12と13の間のクラッド層1
6を結晶成長により形成する。その材料としては例えば
InPを用いる。この時、次に形成するべきp側入出力
用光導波路10および12の直下までは層16により平
坦に埋め込んでおく。
および光出力用光導波路12と13の間のクラッド層1
6を結晶成長により形成する。その材料としては例えば
InPを用いる。この時、次に形成するべきp側入出力
用光導波路10および12の直下までは層16により平
坦に埋め込んでおく。
【0019】(7)光入出力用光導波路部のp側コア1
0および12の層を結晶成長させる。その材料はInG
aAsPとする。
0および12の層を結晶成長させる。その材料はInG
aAsPとする。
【0020】(8)図2に示したようなパターンで、p
側コア用光入出力用光導波路10および12をドライエ
ッチングなどにより加工形成する。
側コア用光入出力用光導波路10および12をドライエ
ッチングなどにより加工形成する。
【0021】(9)光入出力用光導波路部のp側クラッ
ド18を結晶成長させて、その表面を平坦化する。その
材料は例えばInPとする。
ド18を結晶成長させて、その表面を平坦化する。その
材料は例えばInPとする。
【0022】なお、図1〜図4に示した素子において、
光入力側と光出力側の各光導波路構成要素の結晶成長や
ドライエッチングによる加工は双方を同時に行えば製作
が容易になる。
光入力側と光出力側の各光導波路構成要素の結晶成長や
ドライエッチングによる加工は双方を同時に行えば製作
が容易になる。
【0023】図5には光入力用光導波路10と11との
間の距離、すなわち両光導波路10および11の端部間
の距離G(図2参照)と光出力用光導波路12と13と
の間のクロストーク(光漏話量)との関係を示す。
間の距離、すなわち両光導波路10および11の端部間
の距離G(図2参照)と光出力用光導波路12と13と
の間のクロストーク(光漏話量)との関係を示す。
【0024】本発明では、光入力用光導波路10と11
を互いに横方向にずらしている。そのため、例えばn側
コア6への光入力用光導波路11へ先球ファイバを用い
て光を入力しても、その光はp側コア4への光入力用光
導波路10へは光結合しない。つまり、図5に示すよう
に、光入力用光導波路10と11との間の距離を大きく
すれば、光出力用光導波路12と13との間のクロスト
ークは小さくなり、良好な特性を得ることができる。
を互いに横方向にずらしている。そのため、例えばn側
コア6への光入力用光導波路11へ先球ファイバを用い
て光を入力しても、その光はp側コア4への光入力用光
導波路10へは光結合しない。つまり、図5に示すよう
に、光入力用光導波路10と11との間の距離を大きく
すれば、光出力用光導波路12と13との間のクロスト
ークは小さくなり、良好な特性を得ることができる。
【0025】ここで、p+ −InGaAsキャップ層
2,p−InAlAsクラッド3,p側コア4,n側コ
ア6,n−InAlAsクラッド7等は不純物を添加し
ている。そのため、p側電極1に逆バイアスをかければ
、コア4と6との間のギャップ5の屈折率が低くなり、
2つの光入力用光導波路10と11との間の結合が疎に
なる。従って、光入力用光導波路10からp形コア4へ
入射した光はn形コア6へ導波せずに、光出力用光導波
路12から出射される。
2,p−InAlAsクラッド3,p側コア4,n側コ
ア6,n−InAlAsクラッド7等は不純物を添加し
ている。そのため、p側電極1に逆バイアスをかければ
、コア4と6との間のギャップ5の屈折率が低くなり、
2つの光入力用光導波路10と11との間の結合が疎に
なる。従って、光入力用光導波路10からp形コア4へ
入射した光はn形コア6へ導波せずに、光出力用光導波
路12から出射される。
【0026】なお、本発明において、光入出力用光導波
路をノンドープとしておけば、光の伝搬損失を最小限に
抑えることができる。
路をノンドープとしておけば、光の伝搬損失を最小限に
抑えることができる。
【0027】また、上述の実施例ではInAlAsおよ
びInP半導体材料を用いた系について本発明を説明し
てきたが、本発明光変調素子はその他の半導体材料を用
いて構成してもよいことは言うまでもない。
びInP半導体材料を用いた系について本発明を説明し
てきたが、本発明光変調素子はその他の半導体材料を用
いて構成してもよいことは言うまでもない。
【0028】なお、i−MQW層5としては、材料や屈
折率などに関して特に制限はなく、一般的なものでよい
。
折率などに関して特に制限はなく、一般的なものでよい
。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光の入出力部を構成する光導波路を横方向に互いにずら
すことによりクロストーク特性を改善することができ、
さらに光の伝搬損失を抑えるために光の入出力部を構成
する光導波路をノンドープにすることによって低損失を
実現でき、以って、低損失でクロストーク特性の優れた
光変調素子を提供することができる。
光の入出力部を構成する光導波路を横方向に互いにずら
すことによりクロストーク特性を改善することができ、
さらに光の伝搬損失を抑えるために光の入出力部を構成
する光導波路をノンドープにすることによって低損失を
実現でき、以って、低損失でクロストーク特性の優れた
光変調素子を提供することができる。
【図1】本発明の一実施例の斜視図である。
【図2】図1に示した本発明の実施例の平面図である。
【図3】図1に示した本発明の実施例の側面図である。
【図4】図2におけるA−A線に沿った断面を示す断面
図である。
図である。
【図5】図1に示した本発明の実施例についてのクロス
トーク特性を説明する図である。
トーク特性を説明する図である。
【図6】厚み方向に積層した方向性結合器を用いた従来
の半導体光スイッチの一例を示す斜視図である。
の半導体光スイッチの一例を示す斜視図である。
【図7】図6に示した従来の半導体光スイッチの断面図
である。
である。
1 p側電極
2 p+ −InGaAsキャップ層3 p−In
AlAsクラッド 4 p側コア 5 i−MQWから構成された光導波路間のギャップ
6 n側コア 7 n−InAlAsクラッド 8 n−InP基板 9 n側電極 10 p側コア4に接続されているp側コアへの光入
力用光導波路 11 n側コア6に接続されているn側コアへの光入
力用光導波路 12 p側コア4に接続されているp側コアからの光
出力用光導波路 13 n側コア6に接続されているn側コアからの光
出力用光導波路 14 n側クラッド 16 クラッド層 18 p側クラッド
AlAsクラッド 4 p側コア 5 i−MQWから構成された光導波路間のギャップ
6 n側コア 7 n−InAlAsクラッド 8 n−InP基板 9 n側電極 10 p側コア4に接続されているp側コアへの光入
力用光導波路 11 n側コア6に接続されているn側コアへの光入
力用光導波路 12 p側コア4に接続されているp側コアからの光
出力用光導波路 13 n側コア6に接続されているn側コアからの光
出力用光導波路 14 n側クラッド 16 クラッド層 18 p側クラッド
Claims (2)
- 【請求項1】 第1および第2のコアをギャップを介
して厚み方向に積層し、前記第1および第2のコアをそ
れぞれクラッドで覆って構成した方向性結合器を有する
半導体光変調素子において、前記方向性結合器の前記第
1および第2のコアの各々に接続されている第1および
第2の光入力部と第1および第2の光出力部の少なくと
も一方における第1および第2の光導波路の端部付近を
互いにずらせて配置したことを特徴とする光変調素子。 - 【請求項2】 請求項1記載の光変調素子において、
前記第1および第2光入力部と前記第1および第2光出
力部をそれぞれ構成する第1および第2の光導波路の少
くとも一部分をノンドープとしたことを特徴とする光変
調素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3024682A JPH04264429A (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光変調素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3024682A JPH04264429A (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光変調素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04264429A true JPH04264429A (ja) | 1992-09-21 |
Family
ID=12144925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3024682A Pending JPH04264429A (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光変調素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04264429A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0620475A1 (en) * | 1993-03-15 | 1994-10-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical devices and optical communication systems using the optical device |
US11275210B1 (en) * | 2018-12-07 | 2022-03-15 | PsiQuantum Corp. | Waveguide couplers for multi-mode waveguides |
US11635570B1 (en) | 2019-02-08 | 2023-04-25 | PsiQuantum Corp. | Multi-mode multi-pass delay |
US11789205B1 (en) | 2019-05-15 | 2023-10-17 | PsiQuantum Corp. | Multi-mode spiral delay device |
-
1991
- 1991-02-19 JP JP3024682A patent/JPH04264429A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0620475A1 (en) * | 1993-03-15 | 1994-10-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical devices and optical communication systems using the optical device |
US5613020A (en) * | 1993-03-15 | 1997-03-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical devices having a periodical current restraint layer and optical communication systems using the optical device |
US11275210B1 (en) * | 2018-12-07 | 2022-03-15 | PsiQuantum Corp. | Waveguide couplers for multi-mode waveguides |
US11714329B1 (en) | 2018-12-07 | 2023-08-01 | PsiQuantum Corp. | Waveguide couplers for multi-mode waveguides |
US11635570B1 (en) | 2019-02-08 | 2023-04-25 | PsiQuantum Corp. | Multi-mode multi-pass delay |
US11789205B1 (en) | 2019-05-15 | 2023-10-17 | PsiQuantum Corp. | Multi-mode spiral delay device |
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