JPH042622A - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents
石英ガラスの製造方法Info
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- JPH042622A JPH042622A JP9953390A JP9953390A JPH042622A JP H042622 A JPH042622 A JP H042622A JP 9953390 A JP9953390 A JP 9953390A JP 9953390 A JP9953390 A JP 9953390A JP H042622 A JPH042622 A JP H042622A
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- Japan
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- drying
- quartz glass
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Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 35
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 2
- 206010011376 Crepitations Diseases 0.000 abstract 1
- 208000037656 Respiratory Sounds Diseases 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011240 wet gel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、シリカ微粒子を用いたゾル−ゲル方法による
石英ガラスの製造工程における、乾燥時の乾燥方法に関
するものである。
石英ガラスの製造工程における、乾燥時の乾燥方法に関
するものである。
［従来の技術］
ゾル−ゲル法によるガラスの製造の中で乾燥工程は重要
な工程のひとつである。従来この乾燥方法は、種々の方
法がとられてきたが、こと厚肉ガラス（１５ｍｍ以上）
に関しては、余り技術的に進んでいないのが現状である
。
な工程のひとつである。従来この乾燥方法は、種々の方
法がとられてきたが、こと厚肉ガラス（１５ｍｍ以上）
に関しては、余り技術的に進んでいないのが現状である
。
従って、問題点としては乾燥中にクラックの発生が多く
、まともな物がほとんど出来ていないのが現状であり問
題となっている。
、まともな物がほとんど出来ていないのが現状であり問
題となっている。
そこで、クラックレスでガラス化できるゲルの乾燥方法
が要望されている。
が要望されている。
［発明が解決しようとする課題］
前述の従来技術では、ゾル−ゲル法による石英ガラスの
製造方法の中で、乾燥中にクラックの発生のため、歩留
まりも上がらないことが問題であった。そこで本発明に
おいては、 １）乾燥中にクラックの発生しない乾燥方法を可能可さ
せ、 ２）クラックのない石英ガラスを造り ３）必然的にコストダウンを計る。
製造方法の中で、乾燥中にクラックの発生のため、歩留
まりも上がらないことが問題であった。そこで本発明に
おいては、 １）乾燥中にクラックの発生しない乾燥方法を可能可さ
せ、 ２）クラックのない石英ガラスを造り ３）必然的にコストダウンを計る。
・・・等の課題を設定し、新規なゾル−ゲル法の製造方
法を模索して、新しいガラス製品を提供する事を目的と
する。
法を模索して、新しいガラス製品を提供する事を目的と
する。
［課題を解決するための手段］
本発明によるガラスの製造方法は、乾燥時に乾燥温度を
上昇させる際に、乾燥温度を階段状に上昇させる事を特
徴とする。
上昇させる際に、乾燥温度を階段状に上昇させる事を特
徴とする。
［作 用１
本発明の上記の方法によれば、乾燥時のウェットゲルの
内外部の温度差を少なくして乾燥温度を上昇できるので
、ゲル内外部の密度差が小さくなり従ってクラックの発
生がなくなる。
内外部の温度差を少なくして乾燥温度を上昇できるので
、ゲル内外部の密度差が小さくなり従ってクラックの発
生がなくなる。
［実 施 例］
第１図は、本発明による実施例のグラフである。横軸に
乾燥時間をとり、縦軸に乾燥温度をとっである。ある温
度Ａ点から乾燥温度Ｂ１点（Ａ＜Ｂ）まで乾燥温度を上
昇する場合、−気にＡ点からＢ点まで上げずに、グラフ
に示すように＋＋ｉ段状に温度を上げていく。階段状に
上げることでゲルの内外部の温度が均一化され、内外部
で密度の差が小さくなり、従ってゲルの内部歪みが小さ
くなりクラックの発生が減少する。この階段状の（８度
範囲は、１０度から２０度位が適当である。高すぎると
上記に記した如く、クラックが発生する。この温度の範
囲だと、実際のゲルの内外部の温度差が５度から１０度
以内になり密度差がかなり小さくなり、クラックの発生
する密度範囲より下まわるためクラックの発生を押さえ
る事が可能となる。この階段状の目数は、乾燥温度によ
り異なる。又、温度の上昇勾配は、１時間に１０度から
２０度の範囲が実験的に良い。
乾燥時間をとり、縦軸に乾燥温度をとっである。ある温
度Ａ点から乾燥温度Ｂ１点（Ａ＜Ｂ）まで乾燥温度を上
昇する場合、−気にＡ点からＢ点まで上げずに、グラフ
に示すように＋＋ｉ段状に温度を上げていく。階段状に
上げることでゲルの内外部の温度が均一化され、内外部
で密度の差が小さくなり、従ってゲルの内部歪みが小さ
くなりクラックの発生が減少する。この階段状の（８度
範囲は、１０度から２０度位が適当である。高すぎると
上記に記した如く、クラックが発生する。この温度の範
囲だと、実際のゲルの内外部の温度差が５度から１０度
以内になり密度差がかなり小さくなり、クラックの発生
する密度範囲より下まわるためクラックの発生を押さえ
る事が可能となる。この階段状の目数は、乾燥温度によ
り異なる。又、温度の上昇勾配は、１時間に１０度から
２０度の範囲が実験的に良い。
［発明の効果］
以上述べたように、シリカ微粒子を用いたゾルゲル法で
、乾燥温度を階段状に上昇させる事により、 １）乾燥中のクラックの発生を防止した対策となり、 ２）従って、乾燥歩留まりを上げ、 ３）そして、コストダウンとなった。
、乾燥温度を階段状に上昇させる事により、 １）乾燥中のクラックの発生を防止した対策となり、 ２）従って、乾燥歩留まりを上げ、 ３）そして、コストダウンとなった。
・等の効果をもたらした。
第１図は、本発明の実施例の図で乾燥時の乾燥温度と乾
燥経過時間のグラフである。 ・乾燥開始１度 Ｂ ・ 最終乾燥温度 出願人 セイコーエプソン株式会社 以上 乾燥経過時間 第１図
燥経過時間のグラフである。 ・乾燥開始１度 Ｂ ・ 最終乾燥温度 出願人 セイコーエプソン株式会社 以上 乾燥経過時間 第１図
Claims (2)
- （１）シリカ微粒子を用いたゾル−ゲル法によるガラス
の製造方法において、乾燥温度を階段状に上昇させる事
を特徴とする石英ガラスの製造方法。 - （２）乾燥時の乾燥温度を１０度から２０度の範囲で変
化する事を特徴とする請求項１記載の石英ガラスの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9953390A JPH042622A (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9953390A JPH042622A (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 石英ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH042622A true JPH042622A (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=14249853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9953390A Pending JPH042622A (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH042622A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8857789B2 (en) | 2008-10-21 | 2014-10-14 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Solenoid type electromagnetic valve device |
-
1990
- 1990-04-16 JP JP9953390A patent/JPH042622A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8857789B2 (en) | 2008-10-21 | 2014-10-14 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Solenoid type electromagnetic valve device |
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