JPH04261411A - 含フッ素ビスマレイミド基を有する硬化物とその製造法 - Google Patents

含フッ素ビスマレイミド基を有する硬化物とその製造法

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JPH04261411A
JPH04261411A JP4233391A JP4233391A JPH04261411A JP H04261411 A JPH04261411 A JP H04261411A JP 4233391 A JP4233391 A JP 4233391A JP 4233391 A JP4233391 A JP 4233391A JP H04261411 A JPH04261411 A JP H04261411A
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fluorine
cured product
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temperature
formula
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JP4233391A
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Inventor
Akira Nagai
晃 永井
Masahiro Suzuki
正博 鈴木
Shin Nishimura
伸 西村
Satoru Amo
悟 天羽
Junichi Katagiri
片桐 純一
Akio Takahashi
昭雄 高橋
Toshimichi Maruta
丸田 順道
Akihiro Fukui
章博 福井
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Central Glass Co Ltd
Hitachi Ltd
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Central Glass Co Ltd
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は含フッ素熱硬化性樹脂に
係り、特に成形性、耐熱性及び低誘電率で電気特性に優
れた絶縁材料として好適な熱硬化性樹脂及びその製造法
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、低誘電率絶縁材料としてポリ四フ
ッ化エチレン(PTFE)に代表されるフッ素系樹脂や
ポリエチレン、ポリブタジエン等の炭化水素系樹脂が知
られており、広く一般的に適用されてきた。これらは比
誘電率が3以下である。
【0003】しかし、前者のフッ素系樹脂は耐熱性、電
気特性の面で優れているが、これらは一般に熱可塑性樹
脂であるため、軟化温度を有する。軟化温度より高温側
では、急激な機械的強度の低下や熱膨張率の増大が見ら
れ、材料特性が著しく低下する。そのため軟化温度以上
の領域では使用できず、利用分野に限定を受けた材料で
ある。またPTFEはワニスを作製するのに適当な溶媒
がないため、一般には加熱溶融により成形している。こ
の成形温度は300℃以上と高く、かつ溶融粘度は10
11〜1012と非常に高いため成形性、作業性に乏し
い材料である。
【0004】これに対して炭化水素系はブタジエン樹脂
、アリル樹脂等数多くの熱硬化性樹脂が開発されている
。これらは三次元架橋物の構造を有し、高温で機械的強
度、寸法安定性を必要とする高耐熱材料の分野での適用
が期待できる。しかし炭化水素系樹脂はその化学構造か
ら類推されるように酸化されやすく、熱分解特性が劣る
。そのため高耐熱材料としてはほとんど利用されていな
い。
【0005】このような耐熱性を要求される分野では、
イミド環等の複素芳香環を持つ樹脂が数多く適用されて
いる。代表的なものに、ポリイミド、ポリベンゾイミダ
ゾール、ポリベンゾチアゾール等がある。このうち特に
ビスマレイミド化合物は、硬化反応時に縮合水等の副反
応生成物を発生しない付加型耐熱材料として、各種構造
材料、FRP、モールド材、配線基板、LSIの層間絶
縁膜等多くの分野で適用されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ビスマレイミ
ド化合物は上記低誘電率材料と比べて比誘電率が大きい
という問題点がある(特公昭63−37786号公報)
。今まで開発されてきた多くのビスマレイミド化合物は
、比誘電率が3以上である。またこの化合物として、代
表的なビス(4−マレイミドフェニル)メタン(BMI
)は溶融温度(158℃)と重合温度(180℃)がほ
とんど同じであり、その温度差であるプロセッシングウ
インドー  (PW)は極めて小さく、20℃前後であ
る。このPWの範囲内では材料は流動性を示し、成形可
能な条件となる。そのためBMIは一般には単独組成で
用いることはほとんどない。
【0007】本発明の目的は、ビスマレイミド化合物に
ついて低誘電率化を図ると同時に重合温度を高くし、P
Wを大きくした材料を提供することにある。本発明の熱
硬化性樹脂は成形性、耐熱性に優れた低誘電率絶縁材料
である。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的は、式(II)
【化2】 (式中、Rfはフッ素または炭素数1〜10のパーフル
オロアルキル基を示す。)で表わされるビスマレイミド
化合物を用いて、二重結合の重合反応により式(I)

化1】 の三次元架橋硬化物を得ることによる熱硬化性樹脂によ
り達成できる。
【0009】ビスマレイミド化合物は重合可能な二重結
合をその分子構造中に二つ持っており、加熱、UV等光
照射、あるいは過酸化物等のラジカル重合開始剤存在下
のもとで架橋反応し、三次元網目構造を有する硬化物と
なる。これは高温でも機械的特性、寸法安定性等を保持
した耐熱性絶縁材料となる。またこの架橋硬化反応にお
いて縮合水等の反応副生成物を発生しないため各種構造
材料、モールド成形等の多くの分野で適用できる利点が
ある。耐熱性絶縁材料として代表的な縮合型ポリイミド
、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾチアゾール等と
異なる点である。
【0010】従来ビスマレイミド化合物の代表的なもの
にビス(4−マレイミドフェニル)メタン(BMI)が
ある。しかしBMIは比誘電率が3.3と高いことと、
溶融温度(158℃)と重合温度(180℃)がほとん
ど同じであり、その温度差であるPWは20℃程度しか
ない等の問題点がある。またBMI単独では得られる硬
化物の弾性率が高く非常に脆いという欠点がある。その
ためBMIは一般には単独組成で用いることはほとんど
ない。
【0011】そこでビスマレイミド化合物としてその構
造中に屈折性の大きいエーテル基を導入して可撓性を付
与したものが開発されている。代表的なものに2,2−
〔ビス(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパ
ンがある。この化合物は単独で成形材料として利用でき
、得られる硬化物の弾性率は低減し、可撓性に富み破断
強度が向上する。しかし比誘電率は3.1と比較的高い
【0012】本発明は、このエーテル骨格を有するビス
マレイミド構造にフッ素基を導入することにより、上記
の問題点を解決することにした。フッ素基により得られ
る硬化物のモル比容を大きくし、分極密度を下げること
により低誘電率化が可能となり、3以下のビスマレイミ
ド化合物を得ることができた。また官能基の二重結合が
あるマレイミド環の近くに電子吸引性のフッ素基を導入
することにより、二重結合の炭素上の電子密度を低減し
、重合反応性を大幅に低減することができる。フッ素基
としてはモル比容、電子吸引性の効果をできるだけ大き
くする意味からも、フッ素含量の高い方が望ましい。 そのような観点からトリフルオロメチル基が最も優れて
いる。
【0013】本発明は、マレイミド環に近いベンゼン環
にトリフルオロメチル基を各一個導入して、二重結合の
反応性を低減した。二個以上導入すると反応性をさらに
低減し、成形材料としての実用性がなくなることが懸念
される。そこで低誘電率化の観点から、二重結合の反応
性に影響をほとんど及ぼさないと考えられるベンゼン環
から離れた分子構造の中央のプロパン骨格の箇所を二ケ
所設け、そのすべてをフッ素化した。以上により(II
)式で表されるビスマレイミド化合物を用いた硬化物が
成形性、耐熱性、電気特性等に優れていることを見出し
た。
【0014】硬化物は溶融状態の温度範囲で金型等に充
填後、所定の重合温度以上に昇温させ架橋反応を進める
ことにより得られる。この時過酸化物等のラジカル重合
開始剤を添加すると重合温度を低温側に移動させること
が可能になると同時に反応時間も低減することができる
【0015】このようなラジカル重合開始剤としては例
えばベンゾイルパーオキシド、パラクロロベンゾイルパ
ーオキシド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキシド
、ラウロイルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ア
セチルパーオキシド、メチルエチルケトンパーオキシド
、シクロヘキサノンパーオキシド、ビス(1−ヒドロキ
シシクロヘキシルパーオキシド)、2,5−ジメチルヘ
キサン−2,5−ジヒドロキシパーオキシド、t−ブチ
ルパーベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−(t
−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2
,5−(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、2,5
−ジメチルヘキシル−2,5−ジ(パーオキシベンゾエ
ート)、クメンヒドロパーオキシド、t−ブチルヒドロ
キシパーオキシド、t−ブチルパーオキシベンゾエート
、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオ
キシオクテート、t−ブチルパーオキシイソブチレート
、ジベンジルパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシ
フタレート等がある。これらを一種あるいは数種組合せ
て使用する。
【0016】重合開始剤の配合量としては、樹脂組成物
100重量部に対して0.01〜5重量部であるが、特
に好ましくは0.1〜3重量部である。また必要に応じ
て重合促進剤、遅延剤や各種顔料、充填剤等を加えても
よい。
【0017】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は係る実施例に限定されるものではない。
【0018】参考例 実施例に先だって本発明の化合物の一つである1,4−
ビス〔2−マレイミド−2−トリフルオロメチルフェノ
キシ)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソ
プロビル〕ベンゼン(p−BMTHB)の合成法を代表
例として説明する。
【0019】ジムロート冷却器及び温度計を備えた10
0ml三ツ口フラスコに1,4−ビス(2−ヒドロキシ
−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロ
ピル)ベンゼン、8.20g(0.02mol )、3
−トリフルオロメチル−4−ブロモニトロベンゼン、2
1.6g(0.08mol )、K2 CO3 、13
.80g(0.10mol )及び溶媒としてジメチル
アセトアミド、50ml、触媒としてCuI、0.38
g(10mol%)を加えて攪拌しながら反応温度10
0℃に保持し、48時間反応させ1,4−ビス〔2−(
2−トリフルオロメチル−4−ニトロフェノキシ)−1
,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル
)ベンゼンを得た。(収率:88%)
【0020】次にこの反応液をろ過後、水200mlへ
添加し、エーテル200mlで抽出後硫酸マグネシウム
で乾燥し、ろ過、エバポレーションすると粗1,4−ビ
ス〔2−(2−トリフルオロメチル−4−ニトロフェノ
キシ)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2
−プロピル)ベンゼンの固形物が22.24g得られた
。 この固形物をメタノール(400ml)−H2O(40
ml)で再結晶することにより、純度99.4%の精製
物11.11gが得られた。(収率:71%)
【002
1】100mlガラス性耐圧反応管に、得られた1,4
−ビス〔2−(2−トリフルオロメチル−4−ニトロフ
ェノキシ)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
−2−プロピル)ベンゼン、7.88g(0.01mo
l)、5% Pd/C 〔50wt% 〕、0.08g
(0.50wt% )及び溶媒として酢酸エチル50m
lを加えて、水素圧力5kg/cm2 、反応温度80
℃で2時間反応させ、得られた反応液をろ過、エバポレ
ーションすることにより純度  98.0%の1,4−
ビス〔2−(2−トリフルオロメチル−4−アミノフェ
ノキシ)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−
2−プロピル)ベンゼンを6.67g得た。(収率:9
0%)
【0022】ジムロート冷却器及び温度計を備え
た100ml三ツ口フラスコに1,4−ビス〔2−(2
−トリフルオロメチル−4−アミノフェノキシ)1,1
,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル)ベ
ンゼン、7.26g(0.01mol)、無水マレイン
酸、2.16g(0.022mol )及び溶媒として
酢酸エチル、50mlを加え、室温(25℃)で2時間
反応させ、ろ過、乾燥し、純度99.9%の1,4−ビ
スマレアミック酸の結晶8.30g(0.09mol 
)を得た。(収率:90%)
【0023】ジムロート冷却器及び温度計を備えた10
0ml三ツ口フラスコに1,4−ビスマレアミック酸、
4.62g(0.005mol )、酢酸カリウム、1
.96g(0.02mol )及び溶媒として無水酢酸
、49.00g(0.5mol )を加えて攪拌しなが
ら室温で48時間反応させた。反応液をろ過後、水20
0ml中へ添加し、析出する結晶をろ過後、乾燥させる
と、目的の粗マレイミドが酸91g(収率:77%)得
られた。さらに酢酸エチル8ml−メタノール16ml
で再結晶することにより、純度98.5%の精製物3.
13gを得た。(収率:70%)得られたマレイミドの
IRスペクトルを第1図に示す。
【0024】実施例1 1,4−ビス〔2−(4−マレイミド−2−トリフルオ
ロメチルフェノキシ)−1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロイソプロピル〕ベンゼン(p−BMTHB)
、100gをアセトン200gに溶解し、ラジカル重合
開始剤としてt−ブチルヒドロパーオキシド0.5g添
加後、真空乾燥により溶媒を除去し粉末状の試料を得た
。得られた試料を厚さ2mmのスペーサーを用いてプレ
ス成形により硬化物の樹脂板を得た。硬化条件は150
℃、40分加熱、加圧後、250℃に昇温し1時間保持
した。得られた樹脂板の比誘電率、熱膨張率、熱分解温
度を測定した。その結果を表1に示す。
【0025】実施例2 実施例1で用いたp−BMTHBをラジカル重合開始剤
無添加で熱重合のみで硬化物をプレス成形により得た。 硬化条件は250℃、1時間、さらに280℃に昇温し
1時間加熱、加圧した。実施例1と同様に得られた樹脂
板の特性を評価した。その結果を表1に示す。
【0026】実施例3 1,3−ビス〔2−(4−マレイミド−2−トリフルオ
ロメチルフェノキシ)−1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロイソプロビル〕ベンゼン(m−BMTHB)
100gをアセトン200gに溶解し、ラジカル重合開
始剤として2,5−ジメチル−2,5−(t−ブチルパ
ーオキシ)ヘキシン−3を1g添加後、真空乾燥により
溶媒を除去し粉末状の試料を得た。得られた試料を厚さ
2mmのスペーサーを用いた金型により成形し樹脂板を
得た。硬化条件は150℃で40分、さらに250℃に
昇温し1時間加熱、加圧した。実施例1と同様に得られ
た樹脂板の特性を評価した。その結果を表1に示す。
【0027】実施例4 実施例1で用いたp−BMTHB100gをメチルイソ
ブチルケトン、200gに溶解し、120℃、60分還
流下でプレポリマ化を行った。室温まで冷却後、ラジカ
ル重合開始剤としてジクミルパーオキシド、0.2g添
加後、真空乾燥により溶媒を除去し粉末状の試料を得た
。得られた試料を実施例1と同様にプレス成形を行い樹
脂板を得た。硬化条件は200℃、1時間加熱、加圧し
た。実施例1と同様に得られた樹脂板の特性を評価した
。その結果を表1に示す。
【0028】比較例1 ビス(4−マレイミドフェニル)メタン(BMI)を実
施例2と同様にプレス成形により得た。硬化条件は17
5℃で試料を一旦溶融したあと、220℃に昇温し1時
間加熱、加圧した。実施例1と同様に得られた樹脂板の
特性を評価した。その結果を表1に示す。
【0029】比較例2 2,2−〔ビス(4−マレイミドフェノキシ)フェニル
〕プロパン(BBMI)を実施例2と同様にプレス成形
により得た。硬化条件は180℃で試料を一旦溶融した
あと、220℃に昇温し1時間加熱、加圧した。実施例
1と同様に得られた樹脂板の特性を評価した。その結果
を表1に示す。
【表1】表1    硬化物の特性
【0030】
【発明の効果】本発明の熱硬化性樹脂は、耐熱性材料と
して優れているビスマレイミドの骨格にフッ素基を、ト
リフルオロメチル基の構造で数多く導入した化合物を用
いたものである。フッ素基を構造中に多く取り込むこと
により、得られる硬化物のモル比容を増加させ、分極密
度を下げることにより低誘電率化を図ることができた。 またフッ素基は電子吸引性の置換基であるため、二重結
合の反応性を低減することができる。そのため重合温度
を高くすることができ、成形温度範囲が広くなる。さら
にフッ素基は炭素との結合解離エネルギーが大きいため
、耐熱性の目安である熱分解開始温度の向上も同時に図
ることができた。以上、含フッ素ビスマレイミド化合物
は成形性に優れ、かつ得られる硬化物は耐熱性に優れて
いることが確認できた。また構造中にエーテル基とイソ
プロピル基を多く含むことにより、弾性率を低減するこ
とができ可撓性に富む硬化物が得られることが分かった
【図面の簡単な説明】
【図1】参考例で得られたマレイミドのIRスペクトル
図を示す。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  式(I)、 【化1】 (式中、Rfはフッ素又は炭素数1〜10のパーフルオ
    ロアルキル基を示す。)で表わされる含フッ素ビスマレ
    イミド基を構成単位とする三次元架橋硬化物。
  2. 【請求項2】  三次元架橋硬化物が、比誘電率3以下
    であることを特徴とする請求項1記載の三次元架橋硬化
    物。
  3. 【請求項3】  式(II)、 【化2】 (式中、Rfはフッ素または炭素数1〜10のパーフル
    オロアルキル基を示す。)で表わされる含フッ素ビスマ
    レイミド化合物を用いて、その二重結合を重合反応させ
    ることを特徴とする請求項1記載の三次元架橋硬化物の
    製造法。
  4. 【請求項4】  重合反応が、加熱重合又は光重合であ
    る請求項3記載の三次元架橋硬化物の製造法。
  5. 【請求項5】  重合反応が、ラジカル重合開始剤の存
    在下での重合である請求項3又は4記載の三次元架橋硬
    化物の製造法。
JP4233391A 1991-02-15 1991-02-15 含フッ素ビスマレイミド基を有する硬化物とその製造法 Pending JPH04261411A (ja)

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