JPH0426044A - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPH0426044A JPH0426044A JP2129095A JP12909590A JPH0426044A JP H0426044 A JPH0426044 A JP H0426044A JP 2129095 A JP2129095 A JP 2129095A JP 12909590 A JP12909590 A JP 12909590A JP H0426044 A JPH0426044 A JP H0426044A
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- JP
- Japan
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- rays
- electron beam
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Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 32
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子顕微鏡に用いるＸ線分析装置に係り、特に
試料の微少領域において分析を行うＸ線分析装置に関す
る。
試料の微少領域において分析を行うＸ線分析装置に関す
る。
従来の微少領域のＸ線分析を行う装置は、実開昭６２−
１．４９１５７号公報に記載のように、電子線を被分析
試料に照射して励起したＸ線を検出器により測定する時
に、検出器の前面に絞りを設けて不要なＸ線が入射しな
いようにして分析を行っていた。
１．４９１５７号公報に記載のように、電子線を被分析
試料に照射して励起したＸ線を検出器により測定する時
に、検出器の前面に絞りを設けて不要なＸ線が入射しな
いようにして分析を行っていた。
上記従来技術では、電子線の照射時に発生する。
電子線の周辺に分析している散乱電子線、Ｘ線が試料に
あたり、これにより発生するＸ線については十分な配慮
がなされておらず問題があった。
あたり、これにより発生するＸ線については十分な配慮
がなされておらず問題があった。
本発明の目的は、被分析試料に散乱電子線、Ｘ線が照射
されることによる、測定誤差原因の励起Ｘ線の発生を防
ぐことにある。
されることによる、測定誤差原因の励起Ｘ線の発生を防
ぐことにある。
上記目的を達成するために、試料に照射する電子線周辺
に分布する散乱Ｘ線、電子線を吸収する為に、試料の前
面に絞りを設は散乱Ｘ線、電子線を吸収させるようにし
たものである。
に分布する散乱Ｘ線、電子線を吸収する為に、試料の前
面に絞りを設は散乱Ｘ線、電子線を吸収させるようにし
たものである。
また、分析時に試料の被分析部分を変更できるようしこ
、絞りに位置の微調整機能を持たせたものである。
、絞りに位置の微調整機能を持たせたものである。
さらに、複数個の大きさの絞りを用意して、照射する電
子線の径に応じて、絞りを変えることにより、より最適
に散乱Ｘ線、電子線の吸収を行えるようにしたものであ
る。
子線の径に応じて、絞りを変えることにより、より最適
に散乱Ｘ線、電子線の吸収を行えるようにしたものであ
る。
以上示した方法によって、被分析試料の前面に絞りを設
けて、散乱電子線、Ｘ線を絞りに吸収させることにより
、電子線の照射領域周辺より誤差原因となるＩＡＩの励
起を防ぎ、微小領域での分析精度を上げることができる
。
けて、散乱電子線、Ｘ線を絞りに吸収させることにより
、電子線の照射領域周辺より誤差原因となるＩＡＩの励
起を防ぎ、微小領域での分析精度を上げることができる
。
以下本発明の一実施例を第１図を用いて説明する。第１
図は本発明のＸ線分析装置の構成を示している。
図は本発明のＸ線分析装置の構成を示している。
第１図のＸ線分析装置は、試料６の微少領域を分析する
ために、電子銃から電子線３を試料６に照射して、その
時励起したＸ線を分析装置６で受は取ることにより分析
を行う。
ために、電子銃から電子線３を試料６に照射して、その
時励起したＸ線を分析装置６で受は取ることにより分析
を行う。
この時、試料に照射する電子線３には、照射系の可動絞
りや可動絞り周辺部よりの散乱によって発生する散乱電
子線や１ｇ２が含まれている。この様な電子線を用い試
料６中の微少領域に照射しＸ線分析を行なうと散乱電子
線やＸ線２の影響によって電子線３の照射領域外の周辺
の試料からのＸ線をＸ線検出器５が検出してしまい、結
果として空間分解能の悪いＸ線分析を行っていた。この
問題を解決するために、分析する試料６の上面に絞り７
を設けることにより、電子線３の周辺に分布する散乱電
子線、Ｘ線２を吸収させて、Ｘ線分析時の空間分解能を
向上させたものである。
りや可動絞り周辺部よりの散乱によって発生する散乱電
子線や１ｇ２が含まれている。この様な電子線を用い試
料６中の微少領域に照射しＸ線分析を行なうと散乱電子
線やＸ線２の影響によって電子線３の照射領域外の周辺
の試料からのＸ線をＸ線検出器５が検出してしまい、結
果として空間分解能の悪いＸ線分析を行っていた。この
問題を解決するために、分析する試料６の上面に絞り７
を設けることにより、電子線３の周辺に分布する散乱電
子線、Ｘ線２を吸収させて、Ｘ線分析時の空間分解能を
向上させたものである。
また、試料の分析領域を変えることができるように、絞
り７が平面方向くＸ軸方向９．Ｙ軸方向１０）に位置の
微調整が行なえるようにして電子線３を遮断しないよう
にし、さらに、電子線３の径の大きさに応じた異なる大
きさの絞りを複数個用意することにより、状態に応じて
最適に散乱電子線、Ｘ線の遮断を行える構造にしたもの
である。
り７が平面方向くＸ軸方向９．Ｙ軸方向１０）に位置の
微調整が行なえるようにして電子線３を遮断しないよう
にし、さらに、電子線３の径の大きさに応じた異なる大
きさの絞りを複数個用意することにより、状態に応じて
最適に散乱電子線、Ｘ線の遮断を行える構造にしたもの
である。
以上、本発明によれば、Ｘ線分析装置の空間分解能の向
上に効果がある。
上に効果がある。
本発明のＸ線分析装置によれば、分析における空間分解
能を上げることができるので、試料の微少領域における
分析を行った時に高精度の結果が得られる。
能を上げることができるので、試料の微少領域における
分析を行った時に高精度の結果が得られる。
第１図は本発明の一実施例の構成図を示す。
１・・・照射系可動絞り、２・・・散乱電子線、Ｘ線、
３・・・電子線、４・・・試料よりの特性Ｘ線、５・・
・Ｘ線分析装置、６・・・試料、７・・・Ｘ線分析絞り
、８・Ｘ線分析領域、９・・・Ｘ方向の位置微調整、１
０・・Ｙ力筒 ！ 困
３・・・電子線、４・・・試料よりの特性Ｘ線、５・・
・Ｘ線分析装置、６・・・試料、７・・・Ｘ線分析絞り
、８・Ｘ線分析領域、９・・・Ｘ方向の位置微調整、１
０・・Ｙ力筒 ！ 困
Claims (1)
- １、電子線を照射して、試料の分析を行うＸ線分析装置
において、前記試料の上面に複数個の位置調整可能な絞
りを設け、該絞りに前記電子線を通して、散乱電子線、
Ｘ線を遮断することにより、前記試料の分析領域周辺で
のＸ線励起を防ぐことを特徴とするＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2129095A JPH0426044A (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2129095A JPH0426044A (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | Ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0426044A true JPH0426044A (ja) | 1992-01-29 |
Family
ID=15000953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2129095A Pending JPH0426044A (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0426044A (ja) |
-
1990
- 1990-05-21 JP JP2129095A patent/JPH0426044A/ja active Pending
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