JPH04257804A - 光導波路の製造方法 - Google Patents
光導波路の製造方法Info
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- JPH04257804A JPH04257804A JP2003091A JP2003091A JPH04257804A JP H04257804 A JPH04257804 A JP H04257804A JP 2003091 A JP2003091 A JP 2003091A JP 2003091 A JP2003091 A JP 2003091A JP H04257804 A JPH04257804 A JP H04257804A
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- flat plate
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- waveguide pattern
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- Pending
Links
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Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光書込み装置、光読取
り装置、光学的集積回路等における光伝送路として用い
られる光導波路の製造方法に関するものである。
り装置、光学的集積回路等における光伝送路として用い
られる光導波路の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の光導波路の製造方法とし
ては、例えば図３に示すような選択重合法が一般に知ら
れている。即ち、この方法は、先ず屈折率１．５９のポ
リカーボネート１０の中にアクリルモノマー１１を分散
させた溶液をフィルム状に注型してフィルム１２を形成
する（同図（ａ））。次に、内部に必要な導波路パター
ン１３ａが描かれたフォトマスク１３を前記フィルム１
２に密着させて紫外線を照射し、これによって，紫外線
が照射された部分のアクリルモノマー１１をポリカーボ
ネート１０と重合させて共重合体部１４を形成する（同
図（ｂ））。次に、このフィルム１２を真空中で加熱し
、未反応のアクリルモノマー１１をフィルム１２から取
除くことにより、ポリカーボネート部１５を形成する。 これにより前記共重合体部１４は該ポリカーボネート部
１５に比較して低屈折率となり、所定のパターン状に形
成されているポリカーボネート部１５のコアに対するク
ラッドとなる（同図（ｃ））。最後に、このフィルム１
２の表裏両面を低屈折率の透光性材料１６で覆うことに
よって、フィルム状のプラスチック製導波路を得るよう
にしたものである（同図（ｄ））。
ては、例えば図３に示すような選択重合法が一般に知ら
れている。即ち、この方法は、先ず屈折率１．５９のポ
リカーボネート１０の中にアクリルモノマー１１を分散
させた溶液をフィルム状に注型してフィルム１２を形成
する（同図（ａ））。次に、内部に必要な導波路パター
ン１３ａが描かれたフォトマスク１３を前記フィルム１
２に密着させて紫外線を照射し、これによって，紫外線
が照射された部分のアクリルモノマー１１をポリカーボ
ネート１０と重合させて共重合体部１４を形成する（同
図（ｂ））。次に、このフィルム１２を真空中で加熱し
、未反応のアクリルモノマー１１をフィルム１２から取
除くことにより、ポリカーボネート部１５を形成する。 これにより前記共重合体部１４は該ポリカーボネート部
１５に比較して低屈折率となり、所定のパターン状に形
成されているポリカーボネート部１５のコアに対するク
ラッドとなる（同図（ｃ））。最後に、このフィルム１
２の表裏両面を低屈折率の透光性材料１６で覆うことに
よって、フィルム状のプラスチック製導波路を得るよう
にしたものである（同図（ｄ））。
【０００３】また、予め凹溝状の導波路パターンが形成
されたプラスチック製平板を用いてプラスチック製光導
波路を形成するようにしたものも一般に知られている。 これを図４に示す。即ち、この方法は、先ず透光性材料
からなる平板２０の表面に凹溝状の導波路パターン２０
ａを形成し（同図（ａ））、この導波路パターン２０ａ
の中に平板２０よりも高屈折率の透光性材料２１を毛細
管現象を利用して流し込んだ後硬化させる（同図（ｂ）
）。次に、平板２０の凹溝状の導波路パターン２０ａが
形成されている面全体に該平板２０と同じ材料又はこれ
とほぼ同じ屈折率の透光性材料２２を流し込んだ後硬化
させて光導波路を得るようにしたものである（同図（ｃ
））。
されたプラスチック製平板を用いてプラスチック製光導
波路を形成するようにしたものも一般に知られている。 これを図４に示す。即ち、この方法は、先ず透光性材料
からなる平板２０の表面に凹溝状の導波路パターン２０
ａを形成し（同図（ａ））、この導波路パターン２０ａ
の中に平板２０よりも高屈折率の透光性材料２１を毛細
管現象を利用して流し込んだ後硬化させる（同図（ｂ）
）。次に、平板２０の凹溝状の導波路パターン２０ａが
形成されている面全体に該平板２０と同じ材料又はこれ
とほぼ同じ屈折率の透光性材料２２を流し込んだ後硬化
させて光導波路を得るようにしたものである（同図（ｃ
））。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光導波
路においては、光の散乱による損失を防ぐため、光が入
射する面と出射する面が鏡面である必要があり、このた
め、前述の方法によって形成した導波路では、導波路形
成後に両端面を研磨して鏡面にする必要があった。これ
は、非常に手間と時間がかかり、しかも研磨の際の負荷
で導波路のコアとクラッドの界面にクラックが生じ易く
、またコアとクラッドの材質が研磨で耐えられない程脆
い場合には、これらの方法で導波路を作製することがで
きないといった問題点があった。
路においては、光の散乱による損失を防ぐため、光が入
射する面と出射する面が鏡面である必要があり、このた
め、前述の方法によって形成した導波路では、導波路形
成後に両端面を研磨して鏡面にする必要があった。これ
は、非常に手間と時間がかかり、しかも研磨の際の負荷
で導波路のコアとクラッドの界面にクラックが生じ易く
、またコアとクラッドの材質が研磨で耐えられない程脆
い場合には、これらの方法で導波路を作製することがで
きないといった問題点があった。
【０００５】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたもので、研磨の工程を不要にして導波路作製
に必要な手間と時間を削減し、また導波路の材料として
殆ど研磨に耐えられないような脆い材料でも適用できる
ようにしたものを提供することを目的とする。
になされたもので、研磨の工程を不要にして導波路作製
に必要な手間と時間を削減し、また導波路の材料として
殆ど研磨に耐えられないような脆い材料でも適用できる
ようにしたものを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係る光導波路の製造方法は、屈折率の異なる
透光性材料を用いて形成される光導波路の製造方法にお
いて、表面に両端が閉じた凹溝状の導波路パターンを有
し両端面を鏡面とした平板を透光性材料で形成し、この
平板の導波路パターン内に該平板よりも高屈折率の透光
性材料を充填させ、前記平板の導波路パターンが形成さ
れている面全体を該平板と同じ材料又はほぼ等しい屈折
率の透光性材料で覆うようにしたものである。
に本発明に係る光導波路の製造方法は、屈折率の異なる
透光性材料を用いて形成される光導波路の製造方法にお
いて、表面に両端が閉じた凹溝状の導波路パターンを有
し両端面を鏡面とした平板を透光性材料で形成し、この
平板の導波路パターン内に該平板よりも高屈折率の透光
性材料を充填させ、前記平板の導波路パターンが形成さ
れている面全体を該平板と同じ材料又はほぼ等しい屈折
率の透光性材料で覆うようにしたものである。
【０００７】
【作用】上記のように構成した本発明によれば、導波路
は、端面を鏡面となした平板の表面に形成された両端が
閉じた導波路パターンの中に該平板より高屈折率の透光
性材料を充填することによって作製されるため、導波路
作製後にこの端面を研磨する必要をなくすことができる
。
は、端面を鏡面となした平板の表面に形成された両端が
閉じた導波路パターンの中に該平板より高屈折率の透光
性材料を充填することによって作製されるため、導波路
作製後にこの端面を研磨する必要をなくすことができる
。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は、光導波路の製造例を工程順に断面図で示
したものであり、図２は、この製造に使用される平板を
示す斜視図である。即ち、先ず図２に示すような、表面
に両端が閉じた横断面矩形状の凹溝状の導波路パターン
１ａを有する透光性材料の平板１を例えば、射出成形等
の方法により成形する（図１（ａ））。ここに、この導
波路パターン１ａの横断面形状は、上記実施例に限定さ
れることなく、例えば半円状であっても良い。また、成
形用の金型の平板１の両端面１ｂ，１ｂに相当する部分
には、光の散乱を防ぐため、面粗度０．１μｍ以下の鏡
面仕上げを施す。この平板１の材質としては、ＰＭＭＡ
やポリメチルペンテン等が挙げられるが、透明度の高い
プラスチックであれば何でも良い。なお、凹溝状の導波
路パターンの端面と、同一方向の平板１の端面との距離
は、１〜２ｍｍ程度とされる。
する。図１は、光導波路の製造例を工程順に断面図で示
したものであり、図２は、この製造に使用される平板を
示す斜視図である。即ち、先ず図２に示すような、表面
に両端が閉じた横断面矩形状の凹溝状の導波路パターン
１ａを有する透光性材料の平板１を例えば、射出成形等
の方法により成形する（図１（ａ））。ここに、この導
波路パターン１ａの横断面形状は、上記実施例に限定さ
れることなく、例えば半円状であっても良い。また、成
形用の金型の平板１の両端面１ｂ，１ｂに相当する部分
には、光の散乱を防ぐため、面粗度０．１μｍ以下の鏡
面仕上げを施す。この平板１の材質としては、ＰＭＭＡ
やポリメチルペンテン等が挙げられるが、透明度の高い
プラスチックであれば何でも良い。なお、凹溝状の導波
路パターンの端面と、同一方向の平板１の端面との距離
は、１〜２ｍｍ程度とされる。
【０００９】次に、前記導波路パターン１ａ内に、平板
１よりも例えば０．１だけ高屈折率に調整された高屈折
率の透光性材料２、例えばアクリル系の紫外線硬化樹脂
を流し込んで硬化させる（同図（ｂ））。最後に、平板
１の導波路パターン１ａが形成されている面全体に該平
板１と同じ材料又はほぼ同じ屈折率の透光性材料３、例
えば、アクリル系の紫外線硬化樹脂を流し込んで硬化さ
せ（同図（ｃ））、これによって導波路を作製する。
１よりも例えば０．１だけ高屈折率に調整された高屈折
率の透光性材料２、例えばアクリル系の紫外線硬化樹脂
を流し込んで硬化させる（同図（ｂ））。最後に、平板
１の導波路パターン１ａが形成されている面全体に該平
板１と同じ材料又はほぼ同じ屈折率の透光性材料３、例
えば、アクリル系の紫外線硬化樹脂を流し込んで硬化さ
せ（同図（ｃ））、これによって導波路を作製する。
【００１０】このような方法で作製した導波路に半導体
レーザの光（波長７８０μｍ）を入射させたところ、端
面での散乱は全く認められなかった。なお、上記実施例
では、平板状の導波路の製造例を示しているが、これに
限ることなく、例えば導波路の端面が湾曲している場合
、或いは導波路全体が湾曲していたり、何層にも重なっ
たりして立体的な構造をとっている場合にも適用ができ
ることは勿論である。
レーザの光（波長７８０μｍ）を入射させたところ、端
面での散乱は全く認められなかった。なお、上記実施例
では、平板状の導波路の製造例を示しているが、これに
限ることなく、例えば導波路の端面が湾曲している場合
、或いは導波路全体が湾曲していたり、何層にも重なっ
たりして立体的な構造をとっている場合にも適用ができ
ることは勿論である。
【００１１】
【発明の効果】以上詳述したことから明らかなように、
本発明によれば、両端が閉じた導波路パターンをもった
平板を使って導波路を作製することにより、端面を研磨
する工程を不要となし、これによって導波路作製に必要
な手間と時間とを削減することができる。また、研磨を
行わないため、導波路の材料がコアとクラッドの界面に
クラックを生じ易いものであったり、非常に脆くて研磨
に耐えられない場合であっても、導波路を作製すること
ができる。
本発明によれば、両端が閉じた導波路パターンをもった
平板を使って導波路を作製することにより、端面を研磨
する工程を不要となし、これによって導波路作製に必要
な手間と時間とを削減することができる。また、研磨を
行わないため、導波路の材料がコアとクラッドの界面に
クラックを生じ易いものであったり、非常に脆くて研磨
に耐えられない場合であっても、導波路を作製すること
ができる。
【図１】本発明の一実施例を工程順に示す断面図である
。
。
【図２】平板の斜視図である。
【図３】従来例による選択重合法を工程順に示す断面図
である。
である。
【図４】他の従来例を工程順に示す図である。
１ 平板
１ａ 導波路パターン
１ｂ 平板の端面（鏡面）
２ 高屈折率の透光性材料
Claims (1)
- 【請求項１】 屈折率の異なる透光性材料を用いて形
成される光導波路の製造方法において、表面に両端が閉
じた凹溝状の導波路パターンを有し両端面を鏡面とした
平板を透光性材料で形成し、この平板の導波路パターン
内に該平板よりも高屈折率の透光性材料を充填させ、前
記平板の導波路パターンが形成されている面全体を該平
板と同じ材料又はほぼ等しい屈折率の透光性材料で覆う
ことを特徴とする光導波路の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003091A JPH04257804A (ja) | 1991-02-13 | 1991-02-13 | 光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003091A JPH04257804A (ja) | 1991-02-13 | 1991-02-13 | 光導波路の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04257804A true JPH04257804A (ja) | 1992-09-14 |
Family
ID=12015676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003091A Pending JPH04257804A (ja) | 1991-02-13 | 1991-02-13 | 光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04257804A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100367087B1 (ko) * | 2000-12-18 | 2003-01-09 | 한국전자통신연구원 | 음각 식각을 이용한 평판형 광 도파로 제조 방법 |
-
1991
- 1991-02-13 JP JP2003091A patent/JPH04257804A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100367087B1 (ko) * | 2000-12-18 | 2003-01-09 | 한국전자통신연구원 | 음각 식각을 이용한 평판형 광 도파로 제조 방법 |
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