JPH0425354B2 - - Google Patents

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JPH0425354B2
JPH0425354B2 JP24162084A JP24162084A JPH0425354B2 JP H0425354 B2 JPH0425354 B2 JP H0425354B2 JP 24162084 A JP24162084 A JP 24162084A JP 24162084 A JP24162084 A JP 24162084A JP H0425354 B2 JPH0425354 B2 JP H0425354B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
band
shaped
nozzle body
shaped plated
Prior art date
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Expired
Application number
JP24162084A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS61124594A (en
Inventor
Yasuto Murata
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NIPPON EREKUTOROPUREITEINGU ENJINYAAZU KK
Original Assignee
NIPPON EREKUTOROPUREITEINGU ENJINYAAZU KK
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は帯状メツキ物の部分メツキ装置、特
にその位置決め精度を向上した部分メツキ装置に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a partial plating device for band-shaped plated objects, and particularly to a partial plating device with improved positioning accuracy.

〈従来の技術〉 帯状メツキ物、例えばコイル状、リボン状、テ
ープ状等の素材に、間欠的な部分メツキを連続し
て施す部分メツキ装置が従来より種々提案され、
且つその幾つかは実施されているけれど、本出願
人の知り得る範囲ではそれらの殆どのものは全体
の構造が複雑で効率もそれ程良好なものではなか
つた。
<Prior Art> Various partial plating devices have been proposed in the past that perform intermittent partial plating continuously on band-shaped plated materials, such as coil-shaped, ribbon-shaped, tape-shaped materials, etc.
Although some of them have been implemented, to the best of the applicant's knowledge, most of them have complicated overall structures and are not very efficient.

そこで本出願人は先に回転ホイールを利用した
簡潔にして効率の良い帯状メツキ物の部分メツキ
装置を提案した(特開昭58−181887号公報参照)。
この部分メツキ装置は回転ホイールと回転マスキ
ングバンドとノズル体とを備えたもので、回転ホ
イールの頂部近辺の円弧部分に形成した使用区域
内に、帯状メツキ物を導いては回転ホイールの内
側に固定したノズル体よりメツキ液を噴射して回
転ホイールに形成したメツキ液噴射開孔よりそこ
に臨む帯状メツキ物のメツキ対象部位にメツキを
施すものである。この先の提案にかかる部分メツ
キ装置によれば帯状メツキ物に対して効率の良い
部分メツキを間欠的且つ連続的に施すことができ
るもので、このために回転ホイールに形成したメ
ツキ液噴射開孔と、そこに導かれる帯状メツキ物
のメツキ対象部位との安置決めは、回転ホイール
側に立設したピンを、帯状メツキ物長手方向に予
め複数設けられている小孔へ係合させることによ
り行つていた。
Therefore, the present applicant has previously proposed a simple and efficient partial plating device for band-shaped objects using a rotating wheel (see Japanese Patent Laid-Open No. 181887/1987).
This partial plating device is equipped with a rotating wheel, a rotating masking band, and a nozzle body, and the strip-shaped plating material is guided into a usage area formed in an arc near the top of the rotating wheel and fixed inside the rotating wheel. The plating liquid is injected from the nozzle body, and the plating target part of the strip-shaped object facing the plating liquid injection opening formed in the rotating wheel is plated. According to the partial plating device proposed in the future, efficient partial plating can be performed intermittently and continuously on a strip-shaped plated object, and for this purpose, the plating liquid injection holes formed in the rotating wheel and The placement of the strip-shaped plated object led thereto with the part to be plated is performed by engaging pins erected on the rotating wheel side with a plurality of small holes provided in advance in the longitudinal direction of the strip-shaped plated object. was.

〈発明が解決しようとする問題点〉 ところが、上記のようなピンと小孔との位置合
わせ作業がコンマ何ミリの精度を要求するもので
あるにもかかわらず、現在の製造技術では避ける
ことのできない、… (a) 帯状メツキ物の製作時における小孔の穿孔位
置の誤差、 (b) 部分メツキ装置の回転ホイールに多数設ける
ピン位置の製作時における誤差、 (c) 部分メツキ装置の設定温度変化に関係して帯
状メツキ物並びに回転ホイールの、温度膨張・
収縮に起因して発生するそれらの相対位置関係
の変化 ……などの条件が重なりあつて、回転ホイールに
設けたピンの一部〔複数本ある内のほんの数本〕
が、帯状メツキ物の小孔と微小な位置ズレを生じ
て係合できなくなる場合が起こり得るものであつ
た。
<Problem to be solved by the invention> However, although the above-mentioned positioning work between the pin and the small hole requires accuracy of a few tenths of a millimeter, it cannot be avoided with current manufacturing technology. ,... (a) Error in the drilling position of small holes when manufacturing a strip-shaped plated object, (b) Error in the position of the numerous pins provided on the rotating wheel of the partial plating device, (c) Changes in the set temperature of the partial plating device In relation to the temperature expansion and
Due to a combination of conditions such as changes in their relative positions caused by contraction, some of the pins installed on the rotating wheel (only a few out of multiple pins)
However, there was a possibility that a small positional shift would occur with the small hole of the band-shaped plated material, making it impossible to engage with it.

この発明はこのような従来の技術に着目してな
されたもので、たとえ帯状メツキ物の小孔と回転
ホイールのピンの一部に位置ズレを起こし帯状メ
ツキ物の小孔との係合がうまくいかない場合、そ
のピンの位置ズレを容易に是正することのできる
帯状メツキ物の部分メツキ装置を提供することを
目的としている。
This invention was made by focusing on such conventional technology, and even if the small hole of the band-shaped plated object and a part of the pin of the rotating wheel are misaligned, the engagement with the small hole of the band-shaped plated object is not successful. An object of the present invention is to provide a partial plating device for a band-shaped plated object, which can easily correct the positional deviation of the pin.

〈問題点を解決するための手段〉 この発明にかかる帯状メツキ物の部分メツキ装
置は上記の目的を達成するために、部分メツキ装
置の回転ホイールをいわば円周方向で複数に分割
し、互いに回転方向での各先端部間の間隔調整を
自在にした同心回転する複数のノズル本体で構成
したものである。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above-mentioned object, the partial plating device for strip-shaped plated objects according to the present invention divides the rotary wheel of the partial plating device into a plurality of parts in the so-called circumferential direction, and rotates each other. It is composed of a plurality of concentrically rotating nozzle bodies that can freely adjust the spacing between the tips in different directions.

〈作用〉 部分メツキ装置の回転ホイールを、互いに回転
方向で間隔調整を自在にして同心回転する複数の
ノズル本体で構成したので、仮に回転ホイールに
設けたピンの中に、帯状メツキ物の小孔と位置ズ
レを起こして係合できないものが生じたとして
も、そのピンが設けられているノズル本体を位置
ズレの解消する方へノズル本体ごとピンの位置を
調整してやれば、容易にそのピンを小孔へ係合さ
せることができる。
<Function> The rotating wheel of the partial plating device is composed of a plurality of nozzle bodies that rotate concentrically with the interval freely adjustable in the rotational direction. Even if there is something that cannot be engaged due to misalignment, it is easy to make the pin smaller by adjusting the position of the nozzle body and the pin in the direction that eliminates the misalignment. It can be engaged into the hole.

〈実施例〉 以下この発明を図面に基づいて説明する。<Example> The present invention will be explained below based on the drawings.

第1図〜第3図はこの発明の一実施例を示す図
である。この部分メツキ装置1は回転ホイール2
と、回転マスキングバンド3と、そしてカソード
手段4とから主に構成されているもので、以下順
に説明する。まず回転ホイール2は、先端部5を
円弧面とした合成樹脂製の複数のノズル本体6
を、装置本体7に回転自在に軸支されているデイ
スク部8の周りへ等間隔に取付けたもので、ちよ
うど円板状の回転ホイール2を等角度に微分割し
た如き形状をしており、全体が既知の駆動手段に
より第1図矢示A方向へ回転自在とされている。
先端部5があるノズル本体6の頭部6aはビスに
より取付けられており、このビスを取外すことに
よつて頭部6aだけの取外し・交換ができるよう
になつている。そしてこの頭部6aの先端部5に
は帯状メツキ物9を受入れるための溝10が各々
設けてある。この溝10は第3図で示す如く回転
マスキングバンド3と帯状メツキ物9とを合わせ
て受入れることのできるような幅及び深さのサイ
ズのものにしてある。そして各ノズル本体6の溝
10の底面11には、帯状メツキ物9のメツキ対
象部位12に相応するメツキ液噴射開孔13がそ
れぞれ1つづつ設けられている。またこのメツキ
液噴射開孔13の近辺にはピン14が立てられて
おり、このピン14を帯状メツキ物9の長手方向
に予め複数設けられている小孔15へ係合させる
ことにより、ノズル本体6のメツキ液噴射開孔1
3と、帯状メツキ物9のメツキ対象部位12との
位置合わせを正確且つ確実なものにしている。
1 to 3 are diagrams showing one embodiment of the present invention. This partial plating device 1 has a rotary wheel 2
, a rotating masking band 3, and a cathode means 4, which will be explained in order below. First, the rotary wheel 2 has a plurality of nozzle bodies 6 made of synthetic resin with a tip 5 having an arcuate surface.
are attached at equal intervals around a disk portion 8 which is rotatably supported by the main body 7 of the device, and has a shape similar to that of a disk-shaped rotating wheel 2 divided into equal angles. The entire device is rotatable in the direction of arrow A in FIG. 1 by a known drive means.
The head 6a of the nozzle body 6 on which the tip 5 is located is attached with a screw, and by removing the screw, only the head 6a can be removed and replaced. Grooves 10 for receiving band-shaped plating materials 9 are provided in the tip portions 5 of the head portions 6a. The groove 10 is sized to have a width and a depth such that it can receive the rotating masking band 3 and the band-shaped plating material 9 together, as shown in FIG. The bottom surface 11 of the groove 10 of each nozzle body 6 is provided with one plating liquid injection opening 13 corresponding to the plating target portion 12 of the band-shaped plating object 9. Further, a pin 14 is set near the plating liquid injection hole 13, and by engaging this pin 14 with a plurality of small holes 15 provided in advance in the longitudinal direction of the strip-shaped plating object 9, the nozzle body 6 plating liquid injection hole 1
3 and the plating target portion 12 of the band-shaped plating object 9 is accurately and reliably aligned.

またこのノズル本体6には、メツキ液噴射開孔
13から内部側に向けてメツキ液Mの入側流路1
6a及び出側流路16bが形成されていて、この
入側流路16a、出側流路16bはノズル本体6
の基端部に設けられている入側パイプ17a及び
出側パイプ17bへそれぞれ通じている。このノ
ズル本体6の入側パイプ17a、出側パイプ17
bはデイスク部8内に強い力で嵌合して取付けら
れている。従つて、このノズル本体6は通常の運
転時や又は少しくらい手で動かそうとした時では
動くことはないが、必要時、入・出側パイプ17
a,17bを中心にその回転方向又は回転逆方向
へほほんのわずかだけ動かすことができるもので
ある。尚、入側流路16aのメツキ液噴射開孔1
3近辺には不溶性のアノード18が組込まれてい
る。
The nozzle body 6 also has an inlet flow path 1 for the plating liquid M that extends from the plating liquid injection opening 13 toward the inside.
6a and an outlet channel 16b are formed, and the inlet channel 16a and the outlet channel 16b are connected to the nozzle body 6.
It communicates with an inlet pipe 17a and an outlet pipe 17b provided at the base end of the pipe. Inlet pipe 17a and outlet pipe 17 of this nozzle body 6
b is fitted into the disk portion 8 with strong force. Therefore, this nozzle body 6 does not move during normal operation or when you try to move it by hand, but when necessary, the inlet/outlet pipe 17
a, 17b can be moved only slightly in the direction of rotation or in the opposite direction of rotation. In addition, the plating liquid injection opening 1 of the inlet flow path 16a
An insoluble anode 18 is incorporated near 3.

そしてこのノズル本体6が取付けてあるデイス
ク部8には、1つの入・出側パイプ17a,17
bに対して1つの入・出側分配流路19a,19
bがそれぞれ入・出側分配流路19a,19bと
連続して設けられている。つまり、ノズル本体6
に相当する数だけデイスク部8の両側にそれぞれ
入・出側分配流路19a,19bが形成されてい
る。そしてこの入・出側分配流路19a,19b
の端部である入・出側開孔20a,20bは、デ
イスク部8の回転軸21a,21b先端側面へ回
転方向で等間隔にならんで形成されている。
The disk portion 8 to which this nozzle body 6 is attached has one inlet/outlet pipe 17a, 17
One inlet/outlet distribution channel 19a, 19 for b
b are provided continuously with the inlet and outlet distribution channels 19a and 19b, respectively. In other words, the nozzle body 6
Inlet/outlet distribution channels 19a, 19b are formed on both sides of the disk portion 8 in a number corresponding to . And these inlet/outlet distribution channels 19a, 19b
The inlet/outlet openings 20a, 20b, which are the ends of the disc part 8, are formed on the side surface of the tip end of the rotating shafts 21a, 21b of the disk part 8, at equal intervals in the rotational direction.

そしてノズル本体6の先端部5により形成され
る回転ホイール2の外周部のうち、頂部近辺の任
意角度の円弧部はメツキ処理ゾーン即ち「使用区
域」22とされるもので、上記入・出側開孔20
a,20bのうち、この「使用区域」22内に位
置した部分の入・出側開孔20a,20bだけ装
置本体7内部に予め形成されているメツキ液Mの
供給流路23a及び排出流路23bと連通するよ
うにされている。
Of the outer periphery of the rotary wheel 2 formed by the tip 5 of the nozzle body 6, an arcuate portion of an arbitrary angle near the top is a plating processing zone, or "use area" 22, and is the above-mentioned input/output side. Opening hole 20
Of the parts a and 20b, only the inlet and outlet openings 20a and 20b located in this "use area" 22 are provided with a supply channel 23a and a discharge channel for the plating liquid M, which are pre-formed inside the device main body 7. 23b.

また、回転マスキングバンド3は回転ホイール
2の「使用区域」22の溝10内へ帯状メツキ物
9を押付けるためのもので、第1図に示すように
4つの回転兼テンシヨン付与ローラ24a〜24
dに懸回されたエンドレス形状を有したものであ
る。
The rotating masking band 3 is used to press the band-shaped plating material 9 into the groove 10 of the "use area" 22 of the rotating wheel 2, and as shown in FIG.
It has an endless shape suspended by d.

そして「カソード手段」としての一対のカソー
ドローラ4は、回転ホイール2の入側・出側の少
なくとも一方(図示の例では第1図に示す如く入
側だけ)に配置されるもので、この一対のカソー
ドローラ4間に帯状メツキ物9を接触させながら
通過させることにより帯状メツキ物9を効率良く
カソード化させるものである。無論「カソード手
段」としてはこのカソードローラ4に特定される
ものでなく既知のカソードブラシその他の手段を
採用しても良い。
A pair of cathode rollers 4 as "cathode means" are disposed on at least one of the inlet and outlet sides of the rotating wheel 2 (in the illustrated example, only the inlet side as shown in FIG. 1). By passing the strip-shaped plated material 9 in contact between the cathode rollers 4 of the cathode rollers 4, the strip-shaped plated material 9 is efficiently turned into a cathode. Of course, the "cathode means" is not limited to this cathode roller 4, and a known cathode brush or other means may be employed.

次に作用を説明する。回転ホイール2又は回転
マスキングバンド3のいずれかを回転駆動し、或
いは帯状メツキ物9を水平方向に引つ張つてカソ
ードローラ4で帯状メツキ物9をカソード化しつ
つ回転ホイール2が矢示A方向へ回転するように
移行せしめる。すると帯状メツキ物9は「使用区
域」22間で回転マスキングバンド3によつてノ
ズル本体6の先端の溝10内に押付け且つ挟持さ
れた状態となり、ピン14がそれぞれ対応する小
孔15に係合し、帯状メツキ物9のメツキ対象部
位12をノズル本体6のメツキ液噴射開孔13へ
正確に位置決めする。そしてこの「使用区域」2
2内に位置しているノズル本体6では、そのノズ
ル本体6内の入側分配流路19aの入側開孔20
aが、装置本体7のメツキ液Mの供給流路23a
と連通し、同時に出側開孔20bと装置本体7の
排出流路23bも連通するので、この「使用区
域」22内に位置したノズル本体6だけ、装置本
体7の供給流路23aへ一定の圧力で送られてき
たメツキ液Mが、最初に供給流路23a→入側開
孔20a→入側分配流路19a→入側パイプ17
a→入側流路16aと流れてくる。そしてこの入
側流路16aのメツキ液噴射開孔13側近辺に臨
まされているアノード18によりイオンが供給さ
れてメツキ液噴射開孔13に達する。帯状メツキ
物9の複数のメツキ対象部位12は前記したよう
に溝10の底面11に形成した複数のメツキ液噴
射開孔13とそれぞれ合致せしめられているとと
もに、上側は完全に回転マスキングバンド3によ
りマスクされた状態となつているので、メツキ液
Mはこのメツキ液噴射開孔13部分で折り返すよ
うに出側流路16bへ流れていき、その時にメツ
キ液噴射開孔13から露呈されている帯状メツキ
物9のメツキ対象部位12にメツキ液Mが接触し
てメツキ処理が行われる。メツキ液Mにはアノー
ド18部分を通過する際に必要にして充分なイオ
ンが供給されるが、これらイオンはメツキ液Mが
帯状メツキ物9のメツキ対象部位12と接触する
共に消費され、イオンを消費したメツキ液Mは、
出側流路16b→出側パイプ17b→出側分配流
路19b→出側開孔20b→排出流路23bの順
で排出されていく。そして、一方この時の「使用
区域」22以外のノズル本体6はそれぞれ入・出
分配流路19a,19bの入・出側開孔20a,
20bが装置本体7により塞がれることになつて
いるので、供給通路23aに一定の圧力で送られ
てくるメツキ液Mがこれらのノズル本体6より漏
出するようなことはない。
Next, the effect will be explained. Either the rotary wheel 2 or the rotary masking band 3 is driven to rotate, or the strip-shaped plated material 9 is pulled in the horizontal direction, and the strip-shaped plated material 9 is turned into a cathode by the cathode roller 4 while the rotating wheel 2 is moved in the direction of arrow A. Let it move in a rotating manner. Then, the band-shaped plated object 9 is pressed and held in the groove 10 at the tip of the nozzle body 6 by the rotating masking band 3 between the "use areas" 22, and the pins 14 engage with the corresponding small holes 15. Then, the plating target portion 12 of the band-shaped plating object 9 is accurately positioned to the plating liquid injection opening 13 of the nozzle body 6. And this “use area” 2
2, the inlet opening 20 of the inlet distribution channel 19a in the nozzle body 6
a is the plating liquid M supply channel 23a of the apparatus main body 7;
At the same time, the outlet opening 20b and the discharge channel 23b of the device main body 7 also communicate with each other, so that only the nozzle body 6 located within this "use area" 22 has a constant flow rate to the supply channel 23a of the device main body 7. The plating liquid M sent under pressure first flows through the supply channel 23a → inlet opening 20a → inlet distribution channel 19a → inlet pipe 17
a→inlet flow path 16a. Ions are supplied by the anode 18 facing near the plating liquid injection hole 13 side of the inlet flow path 16a and reach the plating liquid injection hole 13. As described above, the plurality of plating target parts 12 of the band-shaped plating object 9 are aligned with the plurality of plating liquid injection holes 13 formed in the bottom surface 11 of the groove 10, and the upper side is completely covered by the rotating masking band 3. Since it is in a masked state, the plating liquid M flows back to the outlet flow path 16b at the plating liquid injection aperture 13, and at this time, the strip-shaped plating liquid M exposed from the plating liquid injection aperture 13 The plating liquid M comes into contact with the plating target portion 12 of the plating object 9, and the plating process is performed. The plating liquid M is supplied with necessary and sufficient ions when passing through the anode 18 portion, but these ions are consumed as the plating liquid M comes into contact with the plating target area 12 of the band-shaped plating object 9, and the ions are The consumed Metsuki liquid M is
It is discharged in the order of outlet flow path 16b → outlet pipe 17b → outlet distribution flow path 19b → outlet opening 20b → discharge flow path 23b. On the other hand, at this time, the nozzle body 6 other than the "use area" 22 has the inlet and outlet openings 20a of the inlet and outlet distribution channels 19a and 19b, respectively.
20b are to be blocked by the device main body 7, so that the plating liquid M sent at a constant pressure to the supply passage 23a will not leak from these nozzle main bodies 6.

また、この部分メツキ装置1は、テンシヨンロ
ーラ24a〜24bの位置調整をしながら回転マ
スキングバンド3の張力を加減することで、回転
マスキングバンド3を回転ホイール2に深くかぶ
せて回転ホイール2と接する円弧部の角度を大き
く、即ち「使用区域」22を長く設定したり、逆
に接する円弧部の角度を小さくして「使用区域」
22を短く設定したりするようなこともできる。
このように回転ホイール2及び回転マスキングバ
ンド3の双方に回転され、且つ帯状メツキ物9は
「使用区域」22で円弧状にされるものの全体と
してはほぼ水平に移行していくので、これらの状
態が続く間、「使用区域」22の長さに応じた部
分で帯状メツキ物9にはメツキ液噴射開孔13に
見合うサイズ、形状のメツキが複数、間欠的に連
続して施されていくことになる。
In addition, this partial plating device 1 adjusts the tension of the rotating masking band 3 while adjusting the position of the tension rollers 24a to 24b, so that the rotating masking band 3 deeply covers the rotating wheel 2 and comes into contact with the rotating wheel 2. The angle of the circular arc part can be made large, that is, the "use area" 22 can be set long, or conversely, the angle of the adjacent circular arc part can be made small to make the "use area" 22 longer.
It is also possible to set 22 to a shorter value.
In this way, it is rotated by both the rotary wheel 2 and the rotary masking band 3, and although the band-shaped plating object 9 is formed into an arc shape in the "use area" 22, it becomes almost horizontal as a whole, so these states While this continues, a plurality of platings of sizes and shapes suitable for the plating liquid injection openings 13 are intermittently and continuously applied to the band-shaped plated object 9 at portions corresponding to the length of the "use area" 22. become.

そして、もし仮に、この部分メツキ装置1自体
の設定温度の変化による回転ホイール2又は帯状
メツキ物9の温度膨張・収縮その他の理由によ
り、ノズル本体6のピン14の中で、帯状メツキ
物9の小孔15と微妙な位置ズレを起こして係合
できない状態が生じてしまつた場合には、その位
置ズレを起こしたピン14の設けられているノズ
ル本体6だけを、その位置ズレを解消する方向へ
任意の手段で移動せしめてその位置〔隣接するノ
ズル本体6とのピツチp〕の調整を行えば良い。
またピン14その他が破損してしまつた場合など
も回転ホイール2全体を交換しなくとも、その破
損したノズル本体6だけ、又はノズル本体6の頭
部6aだけ交換すればよい。
If the rotating wheel 2 or the band-shaped plating object 9 expands or contracts due to a change in the set temperature of the partial plating device 1 itself, or for some other reason, the band-shaped plating object 9 is removed from the pin 14 of the nozzle body 6. If there is a slight positional misalignment with the small hole 15 that makes it impossible to engage, move only the nozzle body 6 where the pin 14 that has caused the misalignment is installed in a direction that eliminates the misalignment. The position (pitch p with respect to the adjacent nozzle body 6) may be adjusted by moving the nozzle body 6 by any means.
Furthermore, even if the pin 14 or the like is damaged, it is sufficient to replace only the damaged nozzle body 6 or the head 6a of the nozzle body 6 without replacing the entire rotating wheel 2.

第4図はこの発明の他の実施例を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing another embodiment of the present invention.

この実施例ではノズル本体25を「メツキ液噴射
タイプ」としたものである。ノズル本体25の内
部にはメツキ液Mの噴射室26が形成され、この
噴射室26で入側流路16aに接続されたノズル
27から、頭部25aの溝10内の帯状メツキ物
28へメツキ液Mを噴射させるものである。この
ノズル27の先端部にはアノード29が設けられ
ていて、メツキ液Mはこのアノード29よりイオ
ンの供給を受けて帯状メツキ物28に対してメツ
キ処理を行うものである。そしてこの噴射室26
はノズル本体25の基端部で出側流路16bと連
通されているので、メツキ処理後のメツキ液Mは
この出側流路16bを通つて外部へ排出されてい
く。その他の構成・作用効果については先の実施
例と同様に付きその重複説明を省略する。
In this embodiment, the nozzle body 25 is of a "plating liquid injection type". An injection chamber 26 for plating liquid M is formed inside the nozzle body 25, and plating is carried out from a nozzle 27 connected to the inlet flow path 16a to a band-shaped plating object 28 in the groove 10 of the head 25a. This is to inject liquid M. An anode 29 is provided at the tip of the nozzle 27, and the plating liquid M receives ions from the anode 29 to perform a plating process on the band-shaped plating object 28. And this injection chamber 26
is communicated with the outlet flow path 16b at the base end of the nozzle body 25, so the plating liquid M after the plating process is discharged to the outside through the outlet flow path 16b. Other configurations, functions, and effects are the same as those of the previous embodiment, and redundant explanation thereof will be omitted.

第5図はこの発明の更に他の実施例を示す図で
ある。この部分メツキ装置30は2つのデイスク
部31,32を用いてノズル本体33を楕円状に
多数配置したものである。こうすることにより
「使用区域」34をより長くとることができ、従
つて、より多くの帯状メツキ物35のメツキ処理
をより早く行うことができるものである。その他
の構成・作用については先の実施例とほぼ同様に
つきその重複説明を省略する。
FIG. 5 is a diagram showing still another embodiment of the present invention. This partial plating device 30 uses two disk portions 31 and 32 and has a large number of nozzle bodies 33 arranged in an elliptical shape. By doing so, the "use area" 34 can be made longer, and therefore more strip-shaped plating objects 35 can be plated more quickly. The other configurations and operations are almost the same as those of the previous embodiment, so redundant explanation thereof will be omitted.

〈効果〉 この発明に係る帯状メツキ物の部分メツキ装置
は以上説明してきた如き内容のものなので、簡潔
にして効率の良い帯状メツキ物の部分メツキ処理
が行えると共に、万一、回転ホイールのピンと帯
状メツキ物の小孔が位置ズレを起こすようなこと
があつたとしても、その位置ズレを容易且つ確実
に是正することができ、メツキ処理の能率向上及
び、部分メツキの精度向上を図ることができると
いう効果がある。更に、部分メツキ装置の回転ホ
イールの一部が不慮の事故その他で破損したとし
てもその破損した部分のノズル本体だけを交換す
れば良いのでメンテナンス上も有利であるという
効果がある。
<Effects> Since the device for partial plating of a band-shaped plated object according to the present invention has the content as explained above, it is possible to perform partial plating of a band-shaped plated object in a simple and efficient manner. Even if the small holes of the plating object are misaligned, the misalignment can be easily and reliably corrected, improving the efficiency of plating processing and the accuracy of partial plating. There is an effect. Furthermore, even if a part of the rotating wheel of the partial plating device is damaged due to an unexpected accident or the like, it is only necessary to replace the nozzle body of the damaged part, which is advantageous in terms of maintenance.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明に係る一実施例を示す部分メ
ツキ装置の概略正面図、第2図は第1図中矢示
−線に沿う概略断面図、第3図は第1図中に示
した部分メツキ装置のノズル本体を示す拡大斜視
図、そして第4図はこの発明の他の実施例を示す
ノズル本体の断面図、第5図はこの発明の更に他
の実施例を示す第1図相当の概略正面図である。 1,30…部分メツキ装置、2…回転ホイー
ル、3…回転マスキングバンド、4…カソードロ
ーラ、〔カソード手段〕、5…先端部、6,25,
33…ノズル本体、9,28,35…帯状メツキ
物、10…溝、11…底面、13…メツキ液噴射
開孔、14…ピン、15…小孔、18,29…ア
ノード、22,34…使用区域。
FIG. 1 is a schematic front view of a partial plating device showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the arrow - line in FIG. 1, and FIG. 3 is a portion shown in FIG. 1. FIG. 4 is an enlarged perspective view showing the nozzle body of the plating device, FIG. 4 is a sectional view of the nozzle body showing another embodiment of the invention, and FIG. It is a schematic front view. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 30... Partial plating device, 2... Rotating wheel, 3... Rotating masking band, 4... Cathode roller, [cathode means], 5... Tip part, 6, 25,
33... Nozzle body, 9, 28, 35... Band-shaped plating object, 10... Groove, 11... Bottom surface, 13... Plating liquid injection hole, 14... Pin, 15... Small hole, 18, 29... Anode, 22, 34... Area of use.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 底面にメツキ液噴射開孔を設けた帯状メツキ
物受入れ用の溝と、及び帯状メツキ物の長手方向
に予め複数形成されてる小孔へ係合自在な位置決
め用のピンとを、各々先端部に備え、且つアノー
ドを各々配した複数のノズル本体を互いに回転方
向で各先端部間の間隔調整を自在にして同心回転
せしめる回転ホイールと、 上記複数のノズル本体の各先端部にて形成され
る回転ホイールの外周部の任意角度の円弧部分を
使用区域とし、この使用区域における上記溝内へ
帯状メツキ物を押付けるエンドレス状の回転マス
キングバンドと、そして 回転ホイールの入側・出側の少なくとも一方に
配置された帯状メツキ物カソード化用のカソード
手段とを、備えていることを特徴とする帯状メツ
キ物の部分メツキ装置。
[Scope of Claims] 1. A groove for receiving a band-shaped plated object having a plating liquid injection hole in the bottom surface, and a positioning pin that can freely engage a plurality of small holes formed in advance in the longitudinal direction of the band-shaped plated object. a rotary wheel for concentrically rotating a plurality of nozzle bodies, each having a plurality of nozzle bodies each having an anode disposed thereon, while freely adjusting the distance between the respective tips in the direction of rotation; and each tip of the plurality of nozzle bodies. An endless rotating masking band that presses the band-shaped plated material into the groove in this usage area, and 1. An apparatus for partially plating a strip-shaped plated article, comprising a cathode means for cathodizing the strip-shaped plated article, which is disposed on at least one of the outlet sides.
JP24162084A 1984-11-17 1984-11-17 Partial plating device of band-shaped plating object Granted JPS61124594A (en)

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CN109853015B (en) * 2017-11-30 2021-10-22 Ykk株式会社 Guide wheel for electroplating and electroplating equipment with same

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