JPH0425355B2 - - Google Patents

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JPH0425355B2
JPH0425355B2 JP24162184A JP24162184A JPH0425355B2 JP H0425355 B2 JPH0425355 B2 JP H0425355B2 JP 24162184 A JP24162184 A JP 24162184A JP 24162184 A JP24162184 A JP 24162184A JP H0425355 B2 JPH0425355 B2 JP H0425355B2
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JP
Japan
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plating
plating liquid
liquid injection
shaped
band
Prior art date
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Application number
JP24162184A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS61124595A (en
Inventor
Yasuto Murata
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NIPPON EREKUTOROPUREITEINGU ENJINYAAZU KK
Original Assignee
NIPPON EREKUTOROPUREITEINGU ENJINYAAZU KK
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Publication date
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Publication of JPH0425355B2 publication Critical patent/JPH0425355B2/ja
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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は帯状メツキ物の部分メツキ装置、特
にその位置決め精度を向上した部分メツキ装置に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a partial plating device for band-shaped plated objects, and particularly to a partial plating device with improved positioning accuracy.

〈従来の技術〉 帯状メツキ物、例えばコイル状、リボン状、テ
ープ状等の素材に、間欠的な部分メツキを連続し
て施す部分メツキ装置が従来より種々提案され、
且つその幾つかは実施されているけれど、本出願
人の知り得る範囲ではそれらの殆どのものは全体
の構造が複雑で効率もそれ程良好なものではなか
つた。
<Prior Art> Various partial plating devices have been proposed in the past that perform intermittent partial plating continuously on band-shaped plated materials, such as coil-shaped, ribbon-shaped, tape-shaped materials, etc.
Although some of them have been implemented, to the best of the applicant's knowledge, most of them have complicated overall structures and are not very efficient.

そこで本出願人は先に回転ホイールを利用した
簡潔にして効率の良い帯状メツキ物の部分メツキ
装置を提案した(特開昭58−181887号公報参照)。
この部分メツキ装置は回転ホイールと回転マスキ
ングバンドとノズル体とを備えたもので、回転ホ
イールの頂部近辺の円弧部分に形成した使用区域
内に、帯状メツキ物を導いては回転ホイールの内
側に固定したノズル体よりメツキ液を噴射して回
転ホイールに形成したメツキ液噴射開孔よりそこ
に臨む帯状メツキ物のメツキ対象部位にメツキを
施すものである。この先の提案にかかる部分メツ
キ装置によれば帯状メツキ物に対して効率の良い
部分メツキを間欠的且つ連続的に施すことができ
るもので、このため回転ホイールに形成したメツ
キ液噴射開孔と、そこに導かれる帯状メツキ物の
メツキ対象部位との位置決めは、回転ホイール側
に立設したピンを、帯状メツキ物長手方向に予め
複数設けられている小孔へ係合させることにより
行つていた。
Therefore, the present applicant has previously proposed a simple and efficient partial plating device for band-shaped objects using a rotating wheel (see Japanese Patent Laid-Open No. 181887/1987).
This partial plating device is equipped with a rotating wheel, a rotating masking band, and a nozzle body, and the strip-shaped plating material is guided into a usage area formed in an arc near the top of the rotating wheel and fixed inside the rotating wheel. The plating liquid is injected from the nozzle body, and the plating target part of the strip-shaped object facing the plating liquid injection opening formed in the rotating wheel is plated. According to the partial plating device proposed in the future, efficient partial plating can be performed intermittently and continuously on a band-shaped plated object, and for this purpose, the plating liquid injection holes formed in the rotating wheel, The positioning of the strip-shaped plated object led thereto with the part to be plated is performed by engaging a pin set upright on the rotating wheel side with a plurality of small holes previously provided in the longitudinal direction of the strip-shaped plated object. .

〈発明が解決しようとする問題点〉 ところが、上記のようなピンと小孔との位置合
わせ作業がコンマ何ミリの精度を要求するもので
あるにもかかわらず、現在の製造技術では避ける
ことのでいない、… (a) 帯状メツキ物の製作時における小孔の穿孔位
置の誤差、 (b) 部分メツキ装置の回転ホイールに多数設ける
ピン位置の製作時における誤差、 (c) 部分メツキ装置の設定温度変化に関係して帯
状メツキ物並びに回転ホイールの、温度膨張・
収縮に起因して発生するそれらの相対位置関係
の変化 ……などの条件が重なりあつて、回転ホイールに
設けたピンの一部〔複数本ある内のほんの数本〕
が、帯状メツキ物の小孔と微小な位置ズルを生じ
て係合できなくなる場合が起こり得るものであつ
た。
<Problems to be Solved by the Invention> However, although the above-mentioned positioning work of pins and small holes requires accuracy of a few tenths of a millimeter, it cannot be avoided with current manufacturing technology. ,... (a) Error in the drilling position of small holes when manufacturing a strip-shaped plated object, (b) Error in the position of the numerous pins provided on the rotating wheel of the partial plating device, (c) Changes in the set temperature of the partial plating device In relation to the temperature expansion and
Due to a combination of conditions such as changes in their relative positions caused by contraction, some of the pins installed on the rotating wheel (only a few out of multiple pins)
However, there was a possibility that a small positional shift would occur with the small hole in the band-shaped plated material, making it impossible to engage with it.

また、帯状メツキ物はその種類により、設けら
れている位置決め用の各小孔の間隔〔ピツチ〕が
異なるもので、その異なつた種類の帯状メツキ物
にメツキ処理を施そうとする場合は、わざわざそ
の帯状メツキ物に合わせた回転ホイールを用意し
なければならないというコスト的に不利な面もあ
つた。
In addition, the spacing (pitch) of each small hole for positioning differs depending on the type of band-shaped plated objects, so if you are going to perform plating processing on different types of band-shaped plated objects, you may have to take the trouble to There was also a disadvantage in terms of cost, as a rotating wheel had to be prepared to match the band-shaped plated material.

この発明はこのような従来の技術に着目してな
されたもので、たとえ帯状メツキ物の小孔と回転
ホイールのピンの一部とに位置ズレを起こし帯状
メツキ物の小孔との係合がうまくゆかない場合、
そのピンの位置ズレを容易に是正することがで
き、また位置決め用の小孔の間隔〔ピツチ〕が異
なる帯状メツキ物をメツキする場合でも回転ホイ
ール全体を交換する必要のない帯状メツキ物の部
分メツキ装置を提供することを目的としている。
This invention has been made by focusing on such conventional technology, and even if the small hole of the band-shaped plated object and a part of the pin of the rotating wheel are misaligned, the engagement with the small hole of the band-shaped plated object is prevented. If things don't go well,
It is possible to easily correct the misalignment of the pins, and it is also possible to partially plate a band-shaped plated item without having to replace the entire rotary wheel even when plating a band-shaped plated item with a different pitch between small positioning holes. The purpose is to provide equipment.

〈問題点を解決するための手段〉 この発明にかかる帯状メツキ物の部分メツキ装
置は上記の目的を達成するために、部分メツキ装
置の回転ホイールを形成している複数のメツキ液
噴射部を、回転ホイールの円心及び放射方向で進
退動自在とさせ、回転ホイールの外周面の円弧長
さを調整自在としたことを要旨としている。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the device for partially plating a strip-shaped object according to the present invention includes a plurality of plating liquid injection parts forming a rotating wheel of the partially plating device. The gist is that the rotary wheel can move forward and backward in the center and radial directions, and the arc length of the outer peripheral surface of the rotary wheel can be adjusted.

〈作用〉 部分メツキ装置の回転ホイールを形成している
複数の回転液噴射部を、回転ホイールの円心及び
放射方向で進退自在とさせ、回転ホイールの外周
面の円弧長さを調整自在としたので、仮にいずれ
かのメツキ液噴射部に設けたピンの中に、帯状メ
ツキ物の小孔と位置ズレを起こして係合できない
ものが生じたとしても、その位置ズレを起こした
ピンが設けられているメツキ液噴射部を回転ホイ
ールの円心方向又は放射方向へと進退動させるこ
とにより、その帯状メツキ物の小孔の間隔〔ピツ
チ〕に合わせて回転ホイールの外周面の円弧長さ
を任意に調節、即ちピンが小孔へ正確に係合でき
るように各ノズル本体間の間隔〔ピツチ〕を調整
することができる。
<Function> The plurality of rotary liquid injection parts forming the rotary wheel of the partial plating device are made to move forward and backward in the circular center and radial directions of the rotary wheel, and the arc length of the outer peripheral surface of the rotary wheel is made freely adjustable. Therefore, even if one of the pins installed in one of the plating liquid injection parts becomes misaligned with the small hole of the band-shaped plating object and cannot be engaged, the pin that caused the misalignment will be replaced. By moving the plating liquid spraying part forward and backward in the circular direction or radial direction of the rotating wheel, the arc length of the outer circumferential surface of the rotating wheel can be arbitrarily adjusted according to the pitch of the small holes of the strip-shaped plating object. ie the pitch between each nozzle body can be adjusted to ensure accurate engagement of the pins into the small holes.

〈実施例〉 以下この発明を図面に基づいて説明する。<Example> The present invention will be explained below based on the drawings.

第1図〜第3図はこの発明の一実施例を示す図
である。この部分メツキ装置1は回転ホイール2
と、回転マスキングバンド3と、そしてカソード
手段4とから主に構成されているもので、以下順
に説明する。まず回転ホイール2は、先端部5を
円弧面とした合成樹脂製の複数のノズル本体6
を、装置本体7に回転自在に軸支されているデイ
スク部8の周りへ等間隔に取付けたもので、ちよ
うど風車の如き形状をしており、全体が既知の駆
動手段により第1図矢示A方向へ回転自在とされ
ている。ノズル本体6は、デイスク部8に直接取
付け・固定される基端側のメツキ液供給部9と、
このメツキ液供給部9に立設された複数のガイド
バー10,10にガイド孔11,11を介して係
合され且つ回転ホイール2の円心方向及び放射方
向のいずれへも進退自在な先端側のメツキ液噴射
部12とからなつている。
1 to 3 are diagrams showing one embodiment of the present invention. This partial plating device 1 has a rotary wheel 2
, a rotating masking band 3, and a cathode means 4, which will be explained in order below. First, the rotary wheel 2 has a plurality of nozzle bodies 6 made of synthetic resin with a tip 5 having an arcuate surface.
are mounted at equal intervals around a disk portion 8 which is rotatably supported by the main body 7 of the device, and has a shape similar to a windmill, and the whole is driven by a known drive means as shown in Fig. 1. It is rotatable in the direction of arrow A. The nozzle body 6 includes a plating liquid supply section 9 on the proximal end that is directly attached and fixed to the disk section 8;
The distal end side is engaged with a plurality of guide bars 10, 10 provided upright in the plating liquid supply section 9 via guide holes 11, 11, and is movable in both the circular direction and the radial direction of the rotary wheel 2. It consists of a plating liquid injection section 12.

メツキ液噴射部12の先端部5には、帯状メツ
キ物13を受入れるための溝14が各々設けてあ
る。この溝14は第3図で示す如く回転マスキン
グバンド3と帯状メツキ物13とを合わせて受入
れることのできるような幅及び深さのサイズのも
のにしてある。そして各メツキ液噴射部12の溝
14の底面15には、帯状メツキ物13のメツキ
対象部位16に相応する帯状メツキ液噴射開孔1
7がそれぞれ1つづつ設けられている〔複数個設
けられているものもある〕。また、このメツキ液
噴射開孔17の近辺にはそれぞれピン18が立て
られており、このピン18を帯状メツキ物13の
長手方向に予め複数設けられている小孔19へ係
合させることにより、メツキ液噴射部12のメツ
キ液噴射開孔17と、帯状メツキ物13のメツキ
対象部位16との位置合わせを正確且つ確実なも
のにしている。
Grooves 14 for receiving strip-shaped objects 13 to be plated are provided in the distal ends 5 of the plating liquid injection parts 12, respectively. The groove 14 is sized to have a width and a depth such that it can receive the rotating masking band 3 and the band-shaped plating material 13 together, as shown in FIG. The bottom surface 15 of the groove 14 of each plating liquid injection part 12 is provided with a strip-shaped plating liquid injection opening 1 corresponding to the plating target area 16 of the strip-shaped plating object 13.
One 7 is provided for each (some have more than one). In addition, pins 18 are set up near each of the plating liquid injection holes 17, and by engaging the pins 18 with a plurality of small holes 19 provided in advance in the longitudinal direction of the strip-shaped plating object 13, The plating liquid injection opening 17 of the plating liquid injection part 12 and the plating target part 16 of the band-shaped plating object 13 are accurately and reliably aligned.

またこのメツキ液噴射部12には、メツキ液噴
射開孔17からその内部側に向けてメツキ液Mの
先端側の入側流路20a及び出側流路20bが形
成されていて、この入側流路20a、出側流路2
0bの端部はそれぞれその基端部側で入側さし込
み口21a、出側さし込み口21aとなつてい
る。更にこの入側流路20aのメツキ液噴射開孔
17近辺には不溶性のアノード22が臨ませてあ
る。一方、メツキ液供給部9には入側パイプ23
a、出側パイプ23bが設けられれており、この
入側パイプ23a、出側パイプ23bはデイスク
部8内に強い力で嵌合せしめらて取付けられてい
る。尚、メツキ液噴射部をメツキ液供給部9と一
緒に入・出側パイプ23a,23bを中心にして
その回転方向又は回転逆方向へほんのわずかだけ
動かすことができるようにしてある。
Further, in this plating liquid injection part 12, an inlet flow path 20a and an outlet flow path 20b on the tip side of the plating liquid M are formed from the plating liquid injection opening 17 toward the inside thereof, and the inlet side Flow path 20a, outlet flow path 2
The end portions of 0b have an inlet insertion port 21a and an outlet insertion port 21a on the base end side, respectively. Further, an insoluble anode 22 is provided near the plating liquid injection opening 17 of the inlet flow path 20a. On the other hand, the plating liquid supply section 9 has an inlet pipe 23.
a, an outlet pipe 23b is provided, and the inlet pipe 23a and the outlet pipe 23b are fitted into the disk portion 8 with strong force. It should be noted that the plating liquid injection section together with the plating liquid supply section 9 can be moved only slightly in the direction of rotation or in the opposite direction of rotation around the inlet/outlet pipes 23a, 23b.

更にメツキ液供給部9にはこの入・出側パイプ
23a,23bからメツキ液供給部9の内部側に
向けてメツキ液供給部9側の入・出側流路24
a,24bがL字状に形成されていて、この入・
出側流路24a,24bの端部である入・出側さ
し込み口25a,25bが前記入・出側さし込み
口21a,21bと向かい合う部位に形成されて
いる。このメツキ液噴射部12側の入・出側さし
込み口21a,21bとメツキ液供給部9側の
入・出側さし込み口25a,25bとは伸縮自在
でフレキシブルなメツキ液供給・排出用パイプ2
6a,26bで接続・連通されている。そして、
更にデイスク部8の内部で、1つの入・出側パイ
プ23a,23bに対して1つの入・出側分配流
路27a,27bがそれぞれ設けられている。つ
まり、メツキ液噴射部12に相当する数だけデイ
スク部8の両側にそれぞれ入・出側分配流路27
a,27bが形成されている。そしてこの入・出
側分配流路27a,27bの入・出側パイプ23
a,23bの方でないもう一方の端部である入・
出側開孔28a,28bは、デイスク部8の回転
部29a,29bの先端の側面へ回転方向で等間
隔にならんで形成されている。
Further, the plating liquid supply section 9 has an inlet/outlet flow path 24 on the plating liquid supply section 9 side from the inlet/outlet pipes 23a, 23b toward the inside of the plating liquid supply section 9.
a and 24b are formed in an L shape, and this input
Inlet/outlet insertion ports 25a, 25b, which are the ends of the outlet flow paths 24a, 24b, are formed at positions facing the input/outlet insertion ports 21a, 21b. The inlet/outlet insertion ports 21a, 21b on the plating liquid injection section 12 side and the inlet/outlet insertion ports 25a, 25b on the plating liquid supply section 9 side are telescopic and flexible plating liquid supply/discharge ports. pipe 2
6a and 26b are connected and communicated. and,
Furthermore, inside the disk portion 8, one inlet/outlet distribution channel 27a, 27b is provided for one inlet/outlet pipe 23a, 23b, respectively. In other words, the number of inlet and outlet distribution channels 27 on both sides of the disk section 8 corresponds to the number of plating liquid injection sections 12.
a, 27b are formed. The inlet/outlet pipes 23 of the inlet/outlet distribution channels 27a, 27b
a, the other end other than 23b,
The outlet openings 28a, 28b are formed on the side surface of the tip of the rotating portions 29a, 29b of the disk portion 8 at equal intervals in the rotational direction.

また、このメツキ液噴射部12の先端部5によ
り形成される回転ホイール2の外周部のうち、頂
部近辺の任意角度の円弧部はメツキ処理ゾーン即
ち「使用区域」30とされるもので、上記入・出
側開孔28a,28bのうち、この「使用区域」
30内に位置した部分の入・出側開孔28a,2
8bだけ装置本体7内部に予め形成されているメ
ツキ液Mの供給流路31a及び排出流路31bと
連通するようにされている。
Further, among the outer circumferential portion of the rotary wheel 2 formed by the tip 5 of the plating liquid injection part 12, a circular arc portion at an arbitrary angle near the top is a plating processing zone, that is, a "use area" 30, and the upper This "use area" of the entry/exit openings 28a and 28b
Inlet/outlet openings 28a, 2 of the portion located within 30
8b is communicated with a supply flow path 31a and a discharge flow path 31b for the plating liquid M that are previously formed inside the apparatus main body 7.

また、回転マスキングバンド3は回転ホイール
2の「使用区域」30の溝14内へ帯状メツキ物
13を押付けるためのもので、第1図に示すよう
に4つの回転兼テンシヨン付与ローラ32a〜3
2dに懸回されたエンドレス形状を有したもので
ある。
The rotating masking band 3 is for pressing the band-shaped plating material 13 into the groove 14 of the "use area" 30 of the rotating wheel 2, and as shown in FIG.
It has an endless shape suspended over 2d.

そして「カソード手段」としての一対のカソー
ドローラ4は、回転ホイール2の入側・出側の少
なくとも一方(図示の例では第1図に示す如く入
側だけ)に配置されるもので、この一対のカソー
ドローラ4間に帯状メツキ物13を接触させなが
ら通過させることにより帯状メツキ物13を効率
良くカソード化させるものである。無論「カソー
ド手段」としてはこのカソードローラ4に特定さ
れるものでなく既知のカソードブラシその他の手
段を採用しても良い。
A pair of cathode rollers 4 as "cathode means" are disposed on at least one of the inlet and outlet sides of the rotating wheel 2 (in the illustrated example, only the inlet side as shown in FIG. 1). By passing the strip-shaped plated material 13 in contact between the cathode rollers 4 of the cathode rollers 4, the strip-shaped plated material 13 is efficiently turned into a cathode. Of course, the "cathode means" is not limited to this cathode roller 4, and a known cathode brush or other means may be employed.

次に作用を説明する。回転ホイール2又は回転
マスキングバンド3のいずれかを回転駆動し、或
いは帯状メツキ物13を水平方向に引つ張つてカ
ソードローラ4で帯状メツキ物13をカソード化
しつつ回転ホイール2が矢示A方向へ回転するよ
うに移行せしめる。すると帯状メツキ物13は
「使用区域」30間で回転マスキングバンド3に
よつてノズル本体6の先端の溝14内に押付け且
つ挟持された状態となり、ピン18がそれぞれ対
応する小孔19に係合し、帯状メツキ物13のメ
ツキ対象部位16をメツキ液噴射部12のメツキ
液噴射開孔17へ正確に位置決めする。そして、
この「使用区域」30内に位置している回転液噴
射部12では、その入側分配流路27aの入側開
孔28aが、装置本体7のメツキ液Mの供給流路
31aと連通し、同時に出側開孔28bと装置本
体7の排出流路31bも連通するので、この「使
用区域」30内に位置したメツキ液噴射部12だ
け、装置本体7の供給流路31aへ一定の圧力で
送られてきたメツキ液Mが、最初に供給流路31
a→入側開孔28a→入側分配流路27a→入側
パイプ23a→入側流路24a(メツキ液供給部
9側)→入側さし込み口25a(メツキ液供給部
9側)→供給パイプ26a→入側さし込み口21
a(メツキ液噴射部12側)→入側流路20a(メ
ツキ液噴射部12側)と流れてくる。そしてこの
入側流路20aのメツキ液噴射開孔17側近辺に
臨まされているアノード22によりイオンを供給
されてメツキ液噴射開孔17に達する。
Next, the effect will be explained. Either the rotary wheel 2 or the rotary masking band 3 is driven to rotate, or the strip-shaped plated material 13 is pulled in the horizontal direction, and the strip-shaped plated material 13 is turned into a cathode by the cathode roller 4 while the rotating wheel 2 is moved in the direction of arrow A. Let it move in a rotating manner. Then, the strip-shaped plated material 13 is pressed and held in the groove 14 at the tip of the nozzle body 6 by the rotating masking band 3 between the "use areas" 30, and the pins 18 are engaged with the corresponding small holes 19. Then, the plating target portion 16 of the band-shaped plating object 13 is accurately positioned to the plating liquid injection opening 17 of the plating liquid injection part 12. and,
In the rotary liquid injection part 12 located in this "use area" 30, the inlet opening 28a of the inlet distribution flow path 27a communicates with the plating liquid M supply flow path 31a of the apparatus main body 7, At the same time, the outlet opening 28b and the discharge passage 31b of the apparatus main body 7 are also communicated, so that only the plating liquid injection part 12 located within this "use area" 30 is supplied with a constant pressure to the supply passage 31a of the apparatus main body 7. The sent plating liquid M first passes through the supply channel 31.
a → Inlet opening 28a → Inlet distribution flow path 27a → Inlet pipe 23a → Inlet flow path 24a (plating liquid supply section 9 side) → Inlet insertion port 25a (plating liquid supply section 9 side) → Supply pipe 26a → Inlet side insertion port 21
a (on the plating liquid injection section 12 side)→inlet flow path 20a (on the plating liquid injection section 12 side). Ions are supplied by the anode 22 facing near the plating liquid injection hole 17 side of the inlet flow path 20a and reach the plating liquid injection hole 17.

帯状メツキ物13の複数のメツキ対象部位16
は前記したように溝14の底面15に形成した複
数のメツキ液噴射開孔17とそれぞれ合致せしめ
られているとともに、その上側は完全に回転マス
キングバンド3によりマスクされた状態となつて
いるので、メツキ液Mはこのメツキ液噴射開孔1
7部分で折り返すように出側流路20bへ流れて
いき、その時にメツキ液噴射開孔17から露呈さ
れている帯状メツキ物13のメツキ対象部位16
にメツキ液Mが接触してメツキ処理が行われる。
メツキ液Mにはアノード22部分を通過する際に
必要にして充分なイオンが供給されるが、これら
イオンはメツキ液Mが帯状メツキ物13のメツキ
対象部位16と接触する共に消費され、そしてイ
オンを消費したメツキ液Mは、出側流路20b
(メツキ液噴射部12側)→出側さし込み口21
b(メツキ液噴射部12側)→排出パイプ26b
→出側せし込み口25b(メツキ液供給部12側)
→出側流路24b(メツキ液供給部12側)→出
側パイプ23b→出側分配流路27b→出側開孔
28b→排出流路31bの順で排出されていく。
そして、一方この時の「使用区域」30以外のメ
ツキ液噴射部12はそれぞれ入・出分配流路27
a,27bの入・出側開孔28a,28bが装置
本体7により塞がれることになつているので、供
給流路31aに一定の圧力で送られてくるメツキ
液Mがこれら「使用区域」30以外のメツキ液噴
射部12より漏出するようなことはない。
Plural plating target parts 16 of band-shaped plating object 13
are aligned with the plurality of plating liquid injection holes 17 formed in the bottom surface 15 of the groove 14 as described above, and the upper side thereof is completely masked by the rotating masking band 3. The plating liquid M is applied to this plating liquid injection opening 1.
The plating target portion 16 of the strip-shaped plating object 13 flows into the outlet flow path 20b so as to turn back at the 7th part, and is exposed from the plating liquid injection opening 17 at this time.
The plating liquid M comes into contact with the plating process.
The plating liquid M is supplied with necessary and sufficient ions when passing through the anode 22 portion, but these ions are consumed as the plating liquid M comes into contact with the plating target area 16 of the strip-shaped object 13, and the ions are The plating liquid M that has consumed the
(Metting liquid injection part 12 side) → Output side insertion port 21
b (plating liquid injection part 12 side) → discharge pipe 26b
→Output side inlet port 25b (plating liquid supply section 12 side)
The liquid is discharged in the following order: → Outlet channel 24b (on the plating liquid supply section 12 side) → Outlet pipe 23b → Outlet distribution channel 27b → Outlet opening 28b → Discharge channel 31b.
On the other hand, at this time, each of the plating liquid injection parts 12 other than the "use area" 30 has an input/output distribution channel 27.
Since the inlet and outlet openings 28a and 28b of holes 28a and 27b are to be closed by the main body 7 of the apparatus, the plating liquid M sent at a constant pressure to the supply flow path 31a is supplied to these "use areas". There is no leakage from plating liquid injection parts 12 other than 30.

また、この部分メツキ装置1は、テンシヨンロ
ーラ32a〜32bの位置調整をしながら回転マ
スキングバンド3の張力を加減することで、回転
マスキングバンド3を回転ホイール2に深くかぶ
せて回転ホイール2と接する円弧部の角度を大き
く、即ち「使用区域」30を長く設定したり、逆
に接する円弧部の角度を小さくして「使用区域」
30を短く設定したりするようなこともできる。
このように回転ホイール2及び回転マスキングバ
ンド3の双方は回転され、且つ帯状メツキ物13
は「使用区域」30で円弧状にされるものの全体
としてはほぼ水平に移行していくので、これらの
状態が続く間、「使用区域」30の長さに応じた
部分で帯状メツキ物13にはメツキ液噴射開孔1
7に見合うサイズ、形状のメツキが複数、間欠的
に連続して施されていくことになる。
In addition, this partial plating device 1 adjusts the tension of the rotating masking band 3 while adjusting the position of the tension rollers 32a to 32b, so that the rotating masking band 3 deeply covers the rotating wheel 2 and comes into contact with the rotating wheel 2. The angle of the circular arc part can be made larger, that is, the "use area" 30 can be set longer, or conversely, the angle of the adjacent arc part can be made smaller to make the "use area" 30 longer.
It is also possible to set the value shorter than 30.
In this way, both the rotating wheel 2 and the rotating masking band 3 are rotated, and the band-shaped plating object 13 is rotated.
Although it is formed into an arc shape in the "use area" 30, it becomes almost horizontal as a whole, so while these conditions continue, the strip-shaped plated material 13 is formed in a portion corresponding to the length of the "use area" 30. Metsuki liquid injection hole 1
Multiple platings of sizes and shapes suitable for 7 will be applied successively intermittently.

そして、もし仮に、この部分メツキ装置1自体
の設定温度の変化による回転ホイール2又は帯状
メツキ物13の温度膨張・収縮その他の理由によ
り、メツキ液噴射部12のピン18の中で、帯状
メツキ物13の小孔19と微妙な位置ズレを起こ
して係合できない状態が生じてしまつた場合に
は、その位置ズレを起こしたピン18が設けれて
いるメツキ液噴射部12を回転ホイール2の円心
方向又は放射方向へと移動させて、回転ホイール
2の外周部の円弧長さを調整すれば、メツキ液噴
射部12同士の間隔〔ピツチp〕を変えることに
なりその位置ズレを解消できるものである。そし
てこの時メツキ液噴射部12をメツキ液供給部9
ごと回転ホイール2の回転方向又はその逆回転方
向へと若干移動させて前記ピツチpの調整を併せ
て行うようにしてもよい。
If the rotating wheel 2 or the strip-shaped plating object 13 expands or contracts due to a change in the set temperature of the partial plating device 1 itself, or for other reasons, the strip-shaped plating object may If there is a slight positional misalignment with the small hole 19 of 13 and the pin 18 cannot be engaged, move the plating liquid injection part 12, which is provided with the misaligned pin 18, to the circle of the rotating wheel 2. By adjusting the arc length of the outer periphery of the rotary wheel 2 by moving it in the center direction or radial direction, the spacing [pitch p] between the plating liquid injection parts 12 can be changed and the positional deviation can be eliminated. It is. At this time, the plating liquid injection section 12 is connected to the plating liquid supply section 9.
The pitch p may also be adjusted by slightly moving the rotating wheel 2 in the rotational direction or in the opposite rotational direction.

また幅が同じで小孔18の間隔〔ピツチ〕だけ
が異なる違つた種類の帯状メツキ物13にメツキ
処理を行う場合にも同様にしてメツキ液噴射部1
2を回転ホイール2の円心方向又は放射方向へ進
退動させることにより回転ホイール2の外周部の
長さを調整し、その帯状メツキ物13の小孔19
と回転ホイール1のピン18とか正確に係合する
ようにすればよい。この時のメツキ液噴射部12
の固定位置の計算は、まずその帯状メツキ物13
の小孔19の間隔長さdを求め、そして、 間隔長さ×メツキ液噴射部の数=外周部長さで
あるから、この外周部長さより半径を求めること
によりメツキ液噴射部12の固定位置が決定す
る。また、ピン18その他が破損してしまつた場
合なども回転ホイール2全体を交換しなくとも、
その破損したメツキ液噴射部12だけ交換すれば
よい。
Also, when plating different types of band-shaped plating objects 13 that have the same width but differ only in the pitch of the small holes 18, the plating liquid injection unit 1
The length of the outer circumference of the rotary wheel 2 is adjusted by moving the rotary wheel 2 forward and backward in the circular direction or radial direction of the rotary wheel 2, and the small hole 19 of the band-shaped plated material 13 is adjusted.
The pin 18 of the rotating wheel 1 may be engaged accurately with the pin 18 of the rotating wheel 1. At this time plating liquid injection part 12
To calculate the fixing position of
The interval length d of the small holes 19 is determined, and since the interval length x the number of plating liquid injection parts = outer circumference length, the fixed position of the plating liquid injection part 12 can be determined by finding the radius from this outer circumference length. decide. In addition, even if the pin 18 or other parts are damaged, there is no need to replace the entire rotating wheel 2.
It is sufficient to replace only the damaged plating liquid injection section 12.

第4図はこの発明の他の実施例を示す図であ
る。この実施例ではノズル本体33を「メツキ液
噴射タイプ」としたものである。メツキ液噴射部
34の内部にはメツキ液Mの噴射室35が形成さ
れ、この噴射室35で供給パイプ26aに接続さ
れたノズル36から帯状メツキ物37へメツキ液
Mを噴射させるものである。このノズル36の先
端部にはアノード38が設けられていて、メツキ
液Mはこのアノード38よりイオンの供給を受け
て帯状メツキ物37に対してメツキ処理を行うも
のである。そしてこの噴射室35は底面で排出パ
イプ26bに接続されているので、メツキ処理後
のメツキ液Mはこの排出パイプ26bを通つて外
部へ排出されていく。その他の構成・作用効果に
付いては先の実施例と同様につき重複説明を省略
する。
FIG. 4 is a diagram showing another embodiment of the present invention. In this embodiment, the nozzle body 33 is of a "plating liquid injection type". An injection chamber 35 for plating liquid M is formed inside the plating liquid injection part 34, and the plating liquid M is injected from a nozzle 36 connected to the supply pipe 26a onto the band-shaped plated object 37 in this injection chamber 35. An anode 38 is provided at the tip of the nozzle 36, and the plating liquid M receives ions from the anode 38 to perform a plating process on the band-shaped plating object 37. Since the injection chamber 35 is connected to the discharge pipe 26b at the bottom, the plating liquid M after the plating process is discharged to the outside through the discharge pipe 26b. The other configurations, functions, and effects are the same as those of the previous embodiment, so redundant explanation will be omitted.

第5図はこの発明の更に他の実施例を示す図で
ある。この部分メツキ装置39は2つのデイスク
部40,41を用いてノズル本体42を楕円状に
多数配置したものである。こうすることにより
「使用区域」43をより長くとることができ、従
つて、より多くの帯状メツキ物44のメツキ処理
をより早く行うことができるものである。その他
の構成・作用については先の実施例とほぼ同様に
つきその重複説明を省略する。
FIG. 5 is a diagram showing still another embodiment of the present invention. This partial plating device 39 uses two disk portions 40 and 41 and has a large number of nozzle bodies 42 arranged in an elliptical shape. By doing so, the "use area" 43 can be made longer, and therefore more strip-shaped plating objects 44 can be plated more quickly. The other configurations and operations are almost the same as those of the previous embodiment, so redundant explanation thereof will be omitted.

〈効果〉 この発明に係る帯状メツキ物の部分メツキ装置
は以上説明してきた如き内容のものなので、簡潔
にして効率の良い帯状メツキ物の部分メツキ処理
が行えると共に、万一、回転ホイールのピンと帯
状メツキ物の小孔が位置ズレを起こすようなこと
があつたとしても、その位置ズレを容易且つ確実
に是正することができ、メツキ処理の能率向上及
び、部分メツキの精度向上を図ることができると
いう効果がある。更に、外周部の長さを調整する
ことができるので、小孔の間隔〔ピツチ〕が異な
る種類の違つた帯状メツキ物を使用する場合に
も、回転ホイール全体を交換する必要がなく、メ
ツキ液噴射部を回転ホイールの円心方向及び放射
方向へ進退動させることによりピンが小孔へ正確
に係合する外周部長さにすることができ、また部
分メツキ装置の回転ホイールの一部が不慮の事故
その他で破損したとしてもその破損した部分のメ
ツキ液噴射部だけを交換すれば良いのでメンテナ
ンス上にも有利であるという効果がある。
<Effects> Since the device for partial plating of a band-shaped plated object according to the present invention has the content as explained above, it is possible to perform partial plating of a band-shaped plated object in a simple and efficient manner. Even if the small holes of the plating object are misaligned, the misalignment can be easily and reliably corrected, improving the efficiency of plating processing and the accuracy of partial plating. There is an effect. Furthermore, since the length of the outer periphery can be adjusted, there is no need to replace the entire rotating wheel even when using different types of band-shaped plating materials with different hole spacings, and the plating fluid can be adjusted. By moving the injection part forward and backward in the circular direction and radial direction of the rotating wheel, the outer circumferential length can be adjusted so that the pin accurately engages the small hole, and also prevents part of the rotating wheel of the partial plating device from accidentally Even if it is damaged due to an accident or other reason, only the damaged part of the plating liquid injection part needs to be replaced, which is advantageous in terms of maintenance.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明に係る一実施例を示す部分メ
ツキ装置の概略正面図、第2図は第1図中矢示
−線に沿う概略断面図、第3図は第1図中に示
した部分メツキ装置のメツキ液噴射部を示す拡大
斜視図、そして第4図はこの発明の他の実施例を
示すノズル本体の断面図、そして第5図はこの発
明の更に他の実施例を示す第1図相当の概略正面
図である。 1,39…部分メツキ装置、2…回転ホイー
ル、3…回転マスキングバンド、4…カソードロ
ーラ〔カソード手段〕、5…先端部、6,33,
42…ノズル本体、9…メツキ液供給部、12,
34…メツキ液噴射部、13,37,44…帯状
メツキ物、14…溝、15…底面、17…メツキ
液噴射開孔、18…ピン、19…小孔、22,3
8…アノード、30,43…使用区域。
FIG. 1 is a schematic front view of a partial plating device showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the arrow - line in FIG. 1, and FIG. 3 is a portion shown in FIG. 1. FIG. 4 is an enlarged perspective view showing the plating liquid injection part of the plating device, FIG. 4 is a cross-sectional view of the nozzle body showing another embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 2 is a schematic front view corresponding to the figure. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 39... Partial plating device, 2... Rotating wheel, 3... Rotating masking band, 4... Cathode roller [cathode means], 5... Tip part, 6, 33,
42... Nozzle body, 9... Plating liquid supply section, 12,
34... Plating liquid injection part, 13, 37, 44... Band-shaped plated object, 14... Groove, 15... Bottom surface, 17... Plating liquid injection hole, 18... Pin, 19... Small hole, 22, 3
8... Anode, 30, 43... Usage area.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 底面にメツキ液噴射開孔を設けた帯状メツキ
物受入れ用の溝と、及び帯状メツキ物の長手方向
に予め複数形成されてる小孔へ係合自在な位置決
め用のピンとを、各々先端部に備え、且つ伸縮自
在なメツキ液供給・排出パイプでメツキ液供給部
へ接続されたメツキ液噴射部を、同心回転自在に
複数集めて回転ホイールを形成し; 上記複数のメツキ液噴射部の先端部により形成
される回転ホイールの外周部の任意角度の円弧部
分を使用区域として、この使用区域における上記
溝内へ帯状メツキ物をエンドレス状の回転マスキ
ングバンドにて押付け自在とし、カソード化した
帯状メツキ物に各メツキ液噴射部のメツキ転液噴
射開孔よりメツキ液を施すものであつて; 上記メツキ液噴射部を、回転ホイールの円心及
び放射方向で退進動自在とさせ、回転ホイールの
外周面の円弧長さを調整自在としたことを特徴と
する帯状メツキ物の部分メツキ装置。
[Scope of Claims] 1. A groove for receiving a band-shaped plated object having a plating liquid injection hole in the bottom surface, and a positioning pin that can freely engage a plurality of small holes formed in advance in the longitudinal direction of the band-shaped plated object. A rotating wheel is formed by collecting a plurality of plating liquid injection parts, each of which is provided at the tip thereof and connected to the plating liquid supply part by a flexible plating liquid supply/discharge pipe, so as to freely rotate concentrically; A circular arc portion of an arbitrary angle on the outer periphery of the rotating wheel formed by the tip of the liquid injection part is used as a usage area, and a band-shaped plating material can be freely pressed into the groove in this usage area with an endless rotating masking band, The plating liquid is applied to the cathodized belt-shaped plating object from the plating liquid injection opening of each plating liquid injection part; A device for partially plating a strip-shaped object, characterized in that the arc length of the outer circumferential surface of the rotating wheel is freely adjustable.
JP24162184A 1984-11-17 1984-11-17 Partial plating device of band-shaped plating object Granted JPS61124595A (en)

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JPS61124595A JPS61124595A (en) 1986-06-12
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