JPH04249332A - Inner-lead bonding method - Google Patents

Inner-lead bonding method

Info

Publication number
JPH04249332A
JPH04249332A JP3014067A JP1406791A JPH04249332A JP H04249332 A JPH04249332 A JP H04249332A JP 3014067 A JP3014067 A JP 3014067A JP 1406791 A JP1406791 A JP 1406791A JP H04249332 A JPH04249332 A JP H04249332A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bump
inner lead
tip
semiconductor chip
bonding method
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3014067A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Sakamoto
英夫 坂本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP3014067A priority Critical patent/JPH04249332A/en
Publication of JPH04249332A publication Critical patent/JPH04249332A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Abstract

PURPOSE:To obtain a method by which an inner lead can be connected with high reliability without exerting an excess stress on a connecting part by a method wherein the tip part of the inner lead is bent so as to be brought close to the side of a bump-shaped electrode and the tip part which has been heated is brought into contact with the bump-shaped electrode by means of an elastically repulsive force which turns up and bends the tip part. CONSTITUTION:A plurality of bump-shaped electrodes 2 formed along the periphery of a semiconductor chip 1 in which an integrated circuit has been formed on one main face are connected to tip parts of inner leads 3 formed on a tape 5 so as to correspond to the bump-shaped electrodes 2. Such an inner-lead bonding method includes the following: a process by which the inner leads 3 are bent in advance in such a way that the tip parts of the inner leads 3 are brought close to the side of the bump-shaped electrodes 2; and a process by which the tip parts of the inner-leads 3 heated after the process are brought into contact with the bump-shaped electrodes 2 by using an elastically repulsive force which turns up the tip parts and by which the bump-shaped electrodes 2 are connected by melting a solder.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、TAB(Tape.A
utomated.Bonding)方式における半導
体チップのバンプ状電極とテープ状に形成されるインナ
ーリードとを接続するインナーリードボンディング方法
に関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to TAB (Tape.
automated. The present invention relates to an inner lead bonding method for connecting bump-shaped electrodes of a semiconductor chip and inner leads formed in a tape shape in a bonding method.

【0002】0002

【従来の技術】近年、電子手帳、電卓、時計及びワープ
ロの小型化、多機能化及び低廉化に伴ない、これら機器
に使用される半導体集積回路装置は、益々、その外形を
薄く小型にすることと同時に組立コストの低減を望まれ
ている。このような半導体集積回路装置に対しては、薄
く安価に実現できる組立方法は、TAB方式と呼ばれる
組立方法である。この方法は、帯状の樹脂シートに半導
体チップが挿入する穴と、この穴の周囲に半導体チップ
の入出力端子である電極とを接続するインナーリードを
形成し、さらに、その両側面に丁度映画フィルムのこま
送り用のスプロケット穴と同じ穴を形成したものを使用
して組立るものである。また、この方法は、自動化がし
易く、しかも、接続、マウント、及び検査が連続して行
なえるので組立コストの低減化が図れるという利点があ
る。
[Background Art] In recent years, as electronic notebooks, calculators, watches, and word processors have become smaller, more multifunctional, and less expensive, the semiconductor integrated circuit devices used in these devices have become thinner and smaller. At the same time, it is desired to reduce assembly costs. For such a semiconductor integrated circuit device, an assembly method called the TAB method is an assembly method that can realize a thin and inexpensive semiconductor integrated circuit device. In this method, a hole into which a semiconductor chip is inserted is formed in a strip-shaped resin sheet, and inner leads are formed around this hole to connect electrodes, which are the input/output terminals of the semiconductor chip. It is assembled using a sprocket hole that has the same holes as the sprocket holes for frame feed. Further, this method has the advantage of being easy to automate, and furthermore, since connection, mounting, and inspection can be performed continuously, assembly costs can be reduced.

【0003】さらに、このTAB方式における技術的問
題としては、インナーリードと電極との接続である。通
常、この接続は、電極にはんだで球状の突出部を形成し
、バンプ状電極にし、このバンプ状電極にインナーリー
ドの先端部を押し付け熱圧着していた。そして、この接
続の高い信頼性及び良好な溶接性を得るために、バンプ
形成法及び接合法であるインナーリードボンディング方
法の二面で改良改善が施されてきた。
[0003] Furthermore, a technical problem with this TAB method is the connection between the inner lead and the electrode. Normally, this connection is made by forming a spherical protrusion on the electrode with solder to form a bump-shaped electrode, and then pressing the tip of the inner lead onto the bump-shaped electrode and bonding it by thermocompression. In order to obtain high reliability and good weldability of this connection, improvements have been made in two aspects: the bump forming method and the inner lead bonding method, which is a bonding method.

【0004】図4(a)及び(b)は従来のインナーリ
ードボンディング方法の一例を説明するための工程順に
示す半導体チップとボンディング装置の断面部分図、図
5は半導体チップにインナーリードが接続された状態の
一例を示す断面部分図である。従来、このインナーリー
ドボンディング方法は、まず、図(a)に示すように、
キャリッジ8に乗せられたステージ7の上に半導体チッ
プ1を搭載する。次に、穴の周辺に接着剤4でインナー
リード3が接着されたテープ5を図示していないスプロ
ケットにより送られ、穴が半導体チップ1と、インナー
リード3の先端部が電極であるバンプ2の上に一致する
ように位置決めされる。次に、ヒータチップ6に加熱さ
れたインナーリード3は、ヒータチップ6によりバンプ
2に押し付けられ、バンプ2にはんだ接合される。この
接続工程で、図5に示すように、インナーリード3が半
導体チップ1と接触しないように、次のインナーリード
の成形工程を施す。
FIGS. 4(a) and 4(b) are partial cross-sectional views of a semiconductor chip and a bonding apparatus shown in the order of steps to explain an example of a conventional inner lead bonding method, and FIG. FIG. Conventionally, in this inner lead bonding method, first, as shown in Figure (a),
A semiconductor chip 1 is mounted on a stage 7 placed on a carriage 8. Next, a tape 5 to which inner leads 3 are bonded with adhesive 4 is fed around the hole by a sprocket (not shown), and the hole is connected to the semiconductor chip 1 and the bump 2 whose tip end of the inner lead 3 is an electrode. positioned to match the top. Next, the inner lead 3 heated by the heater chip 6 is pressed against the bump 2 by the heater chip 6, and is soldered to the bump 2. In this connection step, as shown in FIG. 5, the next inner lead forming step is performed so that the inner leads 3 do not come into contact with the semiconductor chip 1.

【0005】この工程は、図4(b)に示すように、図
示していないスプロケットにより、テープ5にインナー
リード3を介して取付けられた半導体チップ1を次のス
テージすなわちダイ9上に送られる。ダイ9上に送られ
らた半導体チップ1は、ゴム製のパンチ10で押され、
ダイ9の窪みに挿入される。一方、パンチ10のインナ
ーリード3を押える部分がアールであり、他方、ダイ9
の窪みの周囲は、傾斜面に形成されているので、インナ
ーリード3の半導体チップ1よりはみ出る部分が傾斜面
に沿って折り曲げられ、半導体チップ1と十分離れた状
態を保つように成形される。
In this step, as shown in FIG. 4(b), the semiconductor chip 1 attached to the tape 5 via the inner leads 3 is sent onto the next stage, that is, the die 9, by a sprocket (not shown). . The semiconductor chip 1 sent onto the die 9 is pressed with a rubber punch 10,
It is inserted into the recess of die 9. On the one hand, the part of the punch 10 that presses the inner lead 3 is rounded, and on the other hand, the die 9
Since the periphery of the recess is formed on an inclined surface, the portion of the inner lead 3 protruding from the semiconductor chip 1 is bent along the inclined surface and is shaped so as to maintain a sufficient distance from the semiconductor chip 1.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のインナーリードボンディング方法では、ヒータ
チップでインナーリードを押圧する力がバンプ状電極の
高さのばらつきにより偏り、バンプの高いバンプ状電極
に必要以上の押圧力が加わり、バンプの下地であるパッ
ドにクラックを生じさせるようなにダメージを与えると
いう問題がある。また、インナーリードの接続後のイン
ナーリードの成形工程において、接続されたインナーリ
ードの接続部のネック部に必要以上の曲げ応力が加えら
れ、しばしば、インナーリードの接続部のネック部で切
断されるという問題がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the above-mentioned conventional inner lead bonding method, the force with which the heater chip presses the inner lead is biased due to variations in the height of the bump-shaped electrodes, which is necessary for the bump-shaped electrodes with high bumps. There is a problem in that the above pressing force is applied and damages the pad, which is the base of the bump, to the extent that it causes cracks. In addition, in the process of forming the inner lead after connecting the inner leads, more bending stress than necessary is applied to the neck of the connecting part of the connected inner lead, which often causes the inner lead to break at the neck of the connecting part. There is a problem.

【0007】本発明の目的は、かかる問題を解消すべく
、接続部に過剰な応力を与えることなく、信頼性の高い
インナーリードが接続出来るインナーリードボンディン
グ方法を提供することである
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an inner lead bonding method that can connect inner leads with high reliability without applying excessive stress to the connecting portion, in order to solve this problem.

【課題を解決するための手段】本発明の一インナーリー
ドボンディング方法は、一主面に集積回路が形成される
半導体チップの周辺に沿って形成される複数のバンプ状
電極と、このバンプ状電極に対応し、テープ上に形成さ
れるインナーリードの先端部とを接続するインナーリー
ドボンディング方法において、前記インナーリードの先
端部を前記バンプ状電極側に接近するようにあらかじめ
前記インナーリードを折り曲げる工程と、この工程の後
に加熱された前記インナーリードの先端部を折り曲げ返
す弾性反発力で前記バンプ状電極に接触し、前記バンプ
状電極のはんだを溶融して接続する工程とを含んでいる
ことを特徴としている。
[Means for Solving the Problems] One inner lead bonding method of the present invention includes a plurality of bump-shaped electrodes formed along the periphery of a semiconductor chip on which an integrated circuit is formed on one principal surface, and Corresponding to this, an inner lead bonding method for connecting a tip of an inner lead formed on a tape includes a step of bending the inner lead in advance so that the tip of the inner lead approaches the bump-shaped electrode side. After this step, the tip of the heated inner lead is bent back and brought into contact with the bump-shaped electrode by elastic repulsive force, and the solder of the bump-shaped electrode is melted and connected. It is said that

【0008】また、本発明の他のインナーリードボンデ
ィング方法は、前記折り曲げる工程で前記インナーリー
ドが前記バンプ状電極側に折り曲げられ、かつその先端
部が前記半導体チップの面と平行に折り曲げ返されてい
ることを特徴としている。
Further, in another inner lead bonding method of the present invention, in the bending step, the inner lead is bent toward the bump-shaped electrode, and the tip portion thereof is bent back parallel to the surface of the semiconductor chip. It is characterized by the presence of

【0009】[0009]

【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

【0010】図1(a)及び(b)は本発明のインナー
リードボンディング方法の一実施例を説明するための工
程順に示す半導体チップとボンディング装置の断面部分
図、図2はバンプにインナーリードが接続された状態を
示す断面部分図である。このインナーリードボンディン
グ方法は、まず、図1(a)に示すように、インナーリ
ード3が接着剤4で接着されたテープ5を図示していな
いスプロケットで移動させ、テープ5の半導体チップの
挿入穴をダイ9aに位置決めする。次に、スプリング1
2の反発力でパッド11を介してテープ5をダイ9aに
押し付け、ゴム製のパンチ10aでインナーリード3を
ダイ9aの成形面に押し付ける。このことによりインナ
ーリード3は、2点鎖線に示すように、先端部が折り曲
げられたインナーリード3aに成形される次に、図1(
b)に示すように、インナーリード3aが接着されたテ
ープの挿入穴を半導体チップ1上に位置決めする。ヒー
タチップ6を下降させ、インナーリード3aと接触させ
る。次に、ステージ7を上昇し、インナーリード3aの
先端部とバンプ2と接触させる。このときの接触圧は、
曲げられたインナーリードの先端部におけるスプリング
バック程度に留めることである。すなわち、ヒータチッ
プ6の押圧力は、ほぼ零である。このことにより、ヒー
タチップ6の熱がインナーリード3aを介して伝えられ
、はんだのメニスカスであるバンプ2が溶融され、イン
ナーリード3aの先端部の外周囲に溶融はんだが廻り込
み、インナーリード3aは、図2に示すように、バンプ
2に接続される。
FIGS. 1(a) and 1(b) are partial cross-sectional views of a semiconductor chip and a bonding apparatus shown in order of steps to explain an embodiment of the inner lead bonding method of the present invention, and FIG. FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a connected state. In this inner lead bonding method, first, as shown in FIG. 1(a), a tape 5 to which an inner lead 3 is bonded with an adhesive 4 is moved by a sprocket (not shown), and a semiconductor chip is inserted into a hole in the tape 5. is positioned on the die 9a. Next, spring 1
The tape 5 is pressed against the die 9a via the pad 11 by the repulsive force of 2, and the inner lead 3 is pressed against the molding surface of the die 9a using a rubber punch 10a. As a result, the inner lead 3 is formed into an inner lead 3a whose tip end is bent as shown by the two-dot chain line.
As shown in b), the insertion hole of the tape to which the inner lead 3a is adhered is positioned on the semiconductor chip 1. The heater chip 6 is lowered and brought into contact with the inner lead 3a. Next, the stage 7 is raised to bring the tip of the inner lead 3a into contact with the bump 2. The contact pressure at this time is
The purpose is to keep the springback at the tip of the bent inner lead. That is, the pressing force of the heater chip 6 is approximately zero. As a result, the heat of the heater chip 6 is transmitted through the inner lead 3a, the bump 2, which is a meniscus of the solder, is melted, and the molten solder wraps around the outer periphery of the tip of the inner lead 3a. , is connected to the bump 2 as shown in FIG.

【0011】なお、この折り曲げ角度は、バンプ2の高
さのばらつきを吸収する程度の角度に接続後に維持され
る角度を加える程度にする。例えば、接続後の水平に対
するインナーリードの角度を30度とした場合、バンプ
高さのばらつきを吸収しかつスプリングバック力で接触
圧力を与えるる角度を5度とすると、折り曲げ角度を、
35度とし、インナーリード3aがバンプ2に接触する
ときの角度を30度とすれば良い。すなわち、このイン
ナーリード3aのスプリングバックによる接触圧を最大
は、インナーリード3aの曲げ角度が5度のとき、その
弾性反発力としたことである。
[0011] The bending angle is set to an angle that absorbs variations in the height of the bumps 2 plus an angle that is maintained after connection. For example, if the angle of the inner lead with respect to the horizontal after connection is 30 degrees, and the angle at which bump height variations are absorbed and contact pressure is applied by springback force is 5 degrees, then the bending angle is:
The angle at which the inner lead 3a contacts the bump 2 may be 30 degrees. That is, the maximum contact pressure due to the springback of the inner lead 3a is set to the elastic repulsive force when the bending angle of the inner lead 3a is 5 degrees.

【0012】この結果、従来のように、インナーリード
3aに過剰な押圧力を与えることなくなるばかりか、あ
らかじめ、インナーリードを曲げることによって、接続
後にインナーリード3aに曲げ応力を与えることがなく
なる利点がある。
As a result, not only is it no longer possible to apply an excessive pressing force to the inner lead 3a as in the prior art, there is also an advantage that by bending the inner lead in advance, no bending stress is applied to the inner lead 3a after connection. be.

【0013】図3は本発明のインナーリードボンディン
グ方法の他の実施例を説明するためのインナーリードが
接続された状態を示す部分断面図である。このインナー
リードボンディング方法は、熱圧着する前のインナーリ
ードの折り曲げ工程で、インナーリード3bをテープ5
に近接する付近で直角に曲げ、さらに、インナーリード
3bの先端部を折り曲げ返して、その先端部を半導体チ
ップ1の面と平行に形成したことである。その後の接続
工程は、前述の実施例と同じである。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a state in which inner leads are connected, for explaining another embodiment of the inner lead bonding method of the present invention. In this inner lead bonding method, the inner lead 3b is attached to the tape 5 in the inner lead bending process before thermocompression bonding.
The inner leads 3b are bent at right angles near the inner leads 3b, and the tips of the inner leads 3b are bent back to form the tips parallel to the surface of the semiconductor chip 1. The subsequent connection process is the same as in the previous embodiment.

【0014】この実施例は、半導体チップ1より露呈す
るインナーリードの部分がより短くすることが出来るの
で、インナーリードの変形が起しにくく、接続時におけ
る位置ずれがなくなるという利点がある。
This embodiment has the advantage that the portion of the inner lead exposed from the semiconductor chip 1 can be made shorter, so that deformation of the inner lead is less likely to occur and misalignment during connection is eliminated.

【0015】[0015]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、バンプ状
電極に接続する前に、その先端部が前記バンプ電極側に
接近するようにインナーリードを折り曲げ、加熱された
先端部を折り曲げ返す弾性反発力で前記バンプ状電極に
接触し、熱を伝達し前記バンプ電極のはんだを溶融して
前記インナーリードと前記バンプ状電極とを接続するこ
とによって、過剰な押圧力を与えて半導体チップを損傷
することなく、より信頼性の高い接続が出来るインナー
リードボンディング方法が得られるという効果がある。
As explained above, the present invention bends the inner lead so that its tip approaches the bump electrode side before connecting it to a bump-shaped electrode, and bends the heated tip back. Contacting the bump-shaped electrode with a repulsive force transfers heat and melts the solder of the bump-shaped electrode to connect the inner lead and the bump-shaped electrode, thereby applying excessive pressing force and damaging the semiconductor chip. This has the effect of providing an inner lead bonding method that allows for more reliable connections without having to do so.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明のインナーリードボンディング方法の一
実施例を説明するための工程順に示す半導体チップとボ
ンディング装置の断面部分図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a semiconductor chip and a bonding apparatus shown in the order of steps for explaining an embodiment of the inner lead bonding method of the present invention.

【図2】バンプにインナーリードが接続された状態を示
す断面部分図である。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a state in which inner leads are connected to bumps.

【図3】本発明のインナーリードボンディング方法の他
の実施例を説明するためのインナーリードが接続された
状態を示す断面部分図である。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a state in which inner leads are connected to explain another embodiment of the inner lead bonding method of the present invention.

【図4】従来のインナーリードボンディング方法の一例
を説明するための工程順に示す半導体チップとボンディ
ング装置の断面部分図である。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a semiconductor chip and a bonding apparatus shown in the order of steps for explaining an example of a conventional inner lead bonding method.

【図5】半導体チップにインナーリードが接続された状
態の一例を示す断面部分図である。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing an example of a state in which inner leads are connected to a semiconductor chip.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1    半導体チップ 2    バンプ 3、3a、3b    インナーリード4    接着
剤 5    テープ 6    ヒータチップ 7    ステージ 8    キャリッジ 9、9a    ダイ 10、10a    パンチ 11    パッド 12    スプリング
1 Semiconductor chip 2 Bumps 3, 3a, 3b Inner lead 4 Adhesive 5 Tape 6 Heater chip 7 Stage 8 Carriage 9, 9a Die 10, 10a Punch 11 Pad 12 Spring

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  一主面に集積回路が形成される半導体
チップの周辺に沿って形成される複数のバンプ状電極と
、このバンプ状電極に対応し、テープ上に形成されるイ
ンナーリードの先端部とを接続するインナーリードボン
ディング方法において、前記インナーリードの先端部を
前記バンプ状電極側に接近するようにあらかじめ前記イ
ンナーリードを折り曲げる工程と、この工程の後に加熱
された前記インナーリードの先端部を折り曲げ返す弾性
反発力で前記バンプ状電極に接触し、前記バンプ状電極
のはんだを溶融して接続する工程とを含んでいることを
特徴とするインナーリードボンディング方法。
1. A plurality of bump-shaped electrodes formed along the periphery of a semiconductor chip on which an integrated circuit is formed on one principal surface, and tips of inner leads formed on a tape corresponding to the bump-shaped electrodes. In the inner lead bonding method, the inner lead is bent in advance so that the tip of the inner lead approaches the bump-shaped electrode, and after this step, the tip of the inner lead is heated. An inner lead bonding method comprising the step of contacting the bump-shaped electrode with an elastic repulsive force of bending back and melting the solder of the bump-shaped electrode to connect the bump-shaped electrode.
【請求項2】  前記インナーリードが前記バンプ状電
極側に折り曲げられて、かつその先端部が前記半導体チ
ップの面と平行に折り曲げ返されていることを特徴とす
る請求項1記載のインナーリードボンディング方法。
2. The inner lead bonding according to claim 1, wherein the inner lead is bent toward the bump-shaped electrode, and a tip end thereof is bent back parallel to the surface of the semiconductor chip. Method.
JP3014067A 1991-02-05 1991-02-05 Inner-lead bonding method Pending JPH04249332A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3014067A JPH04249332A (en) 1991-02-05 1991-02-05 Inner-lead bonding method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3014067A JPH04249332A (en) 1991-02-05 1991-02-05 Inner-lead bonding method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04249332A true JPH04249332A (en) 1992-09-04

Family

ID=11850754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3014067A Pending JPH04249332A (en) 1991-02-05 1991-02-05 Inner-lead bonding method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04249332A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5066935B2 (en) Method for manufacturing electronic component and electronic device
JPH11191569A (en) Flip chip-mounting method and semiconductor device
JP2001176918A (en) Tape carrier-type semiconductor device, its manufacturing method and liquid crystal module using the same
JP3116412B2 (en) Method for forming bump electrode of semiconductor device, display device and electronic printing device
KR20090128370A (en) Printed circuit board assembly and electronic device
JP2647047B2 (en) Flip chip mounting method for semiconductor element and adhesive used in this mounting method
JP3026204B1 (en) Bare chip mounting method
JPH04249332A (en) Inner-lead bonding method
JPH08222599A (en) Method of mounting electronic component
JP2002299809A (en) Electronic component mounting method and equipment
JPH08148623A (en) Semiconductor device
JPH06310563A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JP4934831B2 (en) Manufacturing method of semiconductor package
JPH07122591A (en) Mounting method for semiconductor device
JP2000101013A (en) Method of mounting mixed components including bare chip component, and mixed circuit board
JP2943381B2 (en) Bonding method
JP3746719B2 (en) Flip chip mounting method
JPH05218136A (en) Bonding method for flip chip
JPH0888249A (en) Face-down bonding method
JPH06140554A (en) Outgoing lead of electronic component and joining method therefor
JP4213499B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JPH08106102A (en) Tab-cell press welding device
JPH0574854A (en) Semiconductor-element mounting method
JP2996202B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP3216052B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device