JP4213499B2 - Semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents

Semiconductor device and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP4213499B2
JP4213499B2 JP2003097413A JP2003097413A JP4213499B2 JP 4213499 B2 JP4213499 B2 JP 4213499B2 JP 2003097413 A JP2003097413 A JP 2003097413A JP 2003097413 A JP2003097413 A JP 2003097413A JP 4213499 B2 JP4213499 B2 JP 4213499B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating film
semiconductor element
inner lead
frame
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003097413A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2004304077A (en
Inventor
正司 竹中
史郎 要田
智 菊地
秀夫 佐藤
秀和 松林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Semiconductor Ltd
Original Assignee
Fujitsu Semiconductor Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Semiconductor Ltd filed Critical Fujitsu Semiconductor Ltd
Priority to JP2003097413A priority Critical patent/JP4213499B2/en
Publication of JP2004304077A publication Critical patent/JP2004304077A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4213499B2 publication Critical patent/JP4213499B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、絶縁性フィルム面上に形成されたインナーリードを用いて、外部端子と半導体チップとの電気的接続を行っている半導体パッケージについて、製造工程中或いは実使用中のインナーリード間のショート、半導体チップとインナリード間のショートの及びインナーリードの断線の防止を図った、半導体装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
TAB(Tape Automated Bonding)技術を利用した従来の半導体装置及びその製造方法について、図7及び図8を用いて説明する。
図7(a)に示す従来半導体装置30は、片面にインナーリード4が配設されたテープキャリアからなるTABテープ2と、半導体チップ1と、前記半導体チップ1の表面上の電極の上に形成されたバンプ5と、前記半導体チップ1の背面に接着された支持板を兼ねた放熱板6と、前記放熱板6の上に、半導体チップ1を囲うように配設された枠体を兼ねた補強板7と、TABテープ2のテープキャリヤの貫通孔からインナーリード4と電気的に接触された、半田ボール等で形成された外部端子となるボール8とから構成されている。
【0003】
また、TABテープ2には半導体チップ1が収まる位置に、いわゆるデバイスホール14と呼ばれる開口部が形成されており、デバイスホールの端からはインナーリード4のみが屈伸して延伸し、バンプ5を介して半導体チップ1と接続している。
ここで、TABテープ2は、カプトン、ポリミド等の伸縮性をもつ絶縁性樹脂フィルムからなるテープキャリヤ上のデバイスホール14に相当する部分の絶縁性樹脂フィルムを取り除き、その後錫等でメッキされた銅等からなるインナーリード4を接着し、エッチングで形成し、インナーリード4の先端部分を露出することにより製作される。
【0004】
次に、従来の半導体装置30の製造方法について、図7(b)を参照して説明する。まず、ボンディング装置のステージ10上に電極部が上になるように半導体チップ1を配置し、その上にTABテープ2を、インナーリード4の先端と半導体チップ1のバンプ5の位置合わせを行い、配置した後、加熱したボンディングツール9を下降させて、TABテープ2のデバイスホール14より飛び出しているインナーリード4の先端を押して、半導体チップ1に形成された電極上のバンプ5に接触させ、熱圧着により接続することにより、製作される(特許文献1参照)。
【0005】
別の従来の半導体装置として、図8(a)に示す従来の半導体装置40は、片面にインナーリード4が配設されたテープキャリアからなるTABテープ2と、半導体チップ1と、前記半導体チップ1の表面上の電極の上に形成されたバンプ5と、TABテープ2と半導体チップ1間に配置されたアンダーフィル樹脂3と、前記半導体チップ1の背面に接着された支持板を兼ねた放熱板6と、前記放熱板6の下に、半導体チップ1を囲うように配設された枠体を兼ねた補強板7と、TABテープ2のテープキャリヤの貫通孔からインナーリード4と電気的に接触させている、半田ボール等で形成された外部端子となるボール8とにより構成されている。
【0006】
ここで、TABテープ2は、カプトン、ポリミド等の伸縮性をもつ絶縁性樹脂フィルムからなるテープキャリヤ上に錫等でメッキされた銅線等からなるインナーリード4を接着、エッチングして製作される。
次に、従来の半導体装置40の製造方法について、図8(b)を参照して説明する。まず、ボンディング装置のステージ10上にTABテープ2をインナーリード4が上になるように配置し、TABテープ2をクランパー11により固定し、アンダーフィル樹脂3を配設した後、電極部が下になるような向きに半導体チップ1を配置し、インナーリード4の先端と半導体チップ1のバンプ5の位置合わせを行った後、加熱したボンディングツール9を下降させて、半導体チップ1を押して、インナーリード4の先端を半導体チップ1に形成された電極上のバンプ5に接触させ、熱圧着により接続することにより、製作される(特許文献2参照)。
【0007】
【特許文献1】
特開平6−333986号公報
【0008】
【特許文献2】
特開平11−330149号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
従来の半導体装置30の組み立てにおいては、TABテープの中央部にデバイスホールを作り、かつ、インナーリードと半導体チップの電極との電気的な接続を行う為に、TABテープからインナーリードの先端を露出させる必要がある。その為、テープキャリヤーという支持を失ったインナーリードの先端は安定せず、インナーリードの変形による、インナーリード同士の電気的な接触が問題となる。特に、インナーリードの間隔が狭まると、前記の問題は顕著となり、インナーリードの狭ピッチ対応が困難となる問題がある。
【0010】
また、従来の半導体装置40の組み立てにおいては、TABテープ上のインナーリードと、半導体チップの間隔は半導体チップ上のバンプの高さ分、例えば15〜20μm程度しかなく、インナーリードと半導体チップとの電気的な接続が問題となる。そこで、インナーリードと半導体チップ間にアンダーフィル樹脂を配設すると上記問題は解決するが、従来の半導体装置40が劣悪な温度サイクル環境におかれた場合には、アンダーフィル樹脂とインナーリードとの熱膨張係数の差による引っ張り力がインナーリードに働き、断線を招くという問題があった。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記のような技術的な課題を解決する為に、中央に凸部が形成された絶縁性フィルムと、
該絶縁性フィルムの該凸部形成面の一部に配設された導電性のインナーリードと、
主面に複数の電極が形成され、該複数の電極により該インナーリードに接続された半導体素子と、
該絶縁性フィルム及び該インナーリード上に該半導体素子を囲うように配設された枠体と、
該半導体素子と該枠体に跨がって該半導体素子と該枠体に接着テープを介して接着された支持板と、
該絶縁性フィルム下に該絶縁性フィルムを貫通する導電物を介して該インナーリードに接続された複数の外部電極と、
該半導体素子と該絶縁性フィルムとの間、及び該半導体素子と該インナーリードとの間に配設された樹脂と
を有する半導体装置が提供される。
【0013】
また、上記のような技術的な課題を解決する為に、
絶縁性フィルム上の一部に導電性のインナーリードを接着する工程と、
該絶縁性フィルムに該インナーリード形成面とは反対側より貫通孔を開け、該インナーリードに導性の接着剤で外部端子用の電極を接着する工程と、
ステージ上に該絶縁性フィルムを配置する工程と、
該インナーリード上に半導体素子を配置する工程と、
加熱したボンディングツールを該半導体素子背面に押しつけ、該半導体素子を該インナーリードに加熱加圧して接続する工程と、
該ボンディングツールと該ステージとで、該半導体素子と該絶縁性フィルムを挟み込んで固定したまま、該絶縁性フィルム及び該インナーリード周辺部をクランパーによって押し下げ、該絶縁性フィルムと該インナーリードに曲げ加工を行う曲げ加工工程と、
該インナーリードと該半導体素子との間、及び該絶縁性フィルムと該半導体素子との間に樹脂を配設する工程と、
該半導体素子周囲の該絶縁性フィルム上に枠体を形成する工程と、
該半導体素子と該枠体上に跨がって、支持板を該半導体素子と該枠体に接着する工程と、
該外部端子用の電極に外部端子を配設する工程と、
を含む半導体装置の製造方法が提供される。
【0015】
【発明の実施の形態】
まず、本発明の第1の実施形態による半導体装置及びその製造方法について図1及び図3を用いて説明する。
図1(a)に示す、本実施形態1による半導体装置(以下、「半導体装置20」という)は、片面にインナーリード4が配設されたテープキャリアからなるTABテープ2と、半導体チップ1と、前記半導体チップ1の表面上の電極の上に形成されたバンプ5と、TABテープ2と半導体チップ1間に配置されたアンダーフィル樹脂3と、前記半導体チップ1の背面に接着された支持板を兼ねた放熱板6と、前記放熱板6の上に、半導体チップ1を囲うように配設された枠体を兼ねた補強板7と、TABテープ2のテープキャリヤの貫通孔からインナーリード4と電気的に接触している、半田ボール等で形成された外部端子となるボール8とにより構成されており、TABテープ2は補強板7の上面に絶縁性の接着剤15により接着されている。
【0016】
ここで、TABテープ2の作成には、まず、カプトン、ポリミド等の伸縮性をもつ絶縁性樹脂フィルムからなるテープキャリヤ上に錫等でメッキされた銅線等からなるインナーリード4を接着し、エッチングする。次に、外部端子が配設される部分には、絶縁性樹脂フィルムにインナーリード4形成面とは反対側より貫通孔を開け、インナーリード4外部端子用の電極を配設する。外部端子を、インナーリード4と電気的接続をとれるように導性の接着剤で前記外部端子用の電極に接着する。
【0017】
次に、図3を用いて本実施形態による半導体装置20の製造方法について説明する。まず、図3(a)において、ボンディング装置のステージ10上にTABテープ2をインナーリード4が上になるように配置し、TABテープ2をクランパー11で固定する。次に、電極部が下向きになるように半導体チップ1をTABテープ上に配置し、インナーリード4の先端と半導体チップ1のバンプ5との位置合わせを行った後、加熱したボンディングツール9を下降させて、半導体チップ1を押して、インナーリード4の先端を半導体チップ1に形成された電極上のバンプ5に接触させ、熱圧着により接続する。次いで、図3(b)においてステージ10とボンディングツール9で、半導体チップ1及びTABテープ2をはさみこんだ状態で、クランパー11を下方へ移動させて、TABテープ2及びTABテープ2中のインナーリード4に湾曲加工を施す。さらに、エポキシ樹脂等に酸化シリコン等の絶縁材料の粒子を含ませた樹脂を半導体チップ1とTABテープ2間に注入し、アンダーフィル樹脂3を配設する。
【0018】
その後、TABテープ2に対して、半導体チップを囲うようにステンレス鋼等の矩形の枠体を補強板7として、接着テープを用いて熱圧着等で固着し、半導体チップ1の背面に前記枠状補強板7に跨がって、銅等の材質からなる放熱板6を、接着テープを用いて熱圧着等で固定する。最後に、前記補強板7の上面部において、前記TABテープに設けられた貫通孔を介して、インナーリードに半田ボール等で形成した外部端子となるボール8を配設する。なお、上記で、「半導体チップを囲う」という意味は、2方面から囲う場合も、4方向から囲う場合も含むものとし、図8(b)では、2方向から囲った例を示した。
【0019】
上記の半導体装置20においては、TABテープ2には、半導体チップ1とボール7との間で湾曲加工が施されているが、湾曲加工による、TABテープ2の段差は0.1mmから0.5mm間である(図5参照)。
従って、TABテープ2の湾曲の程度が、0.5mmを上限としているので、外部端子であるボール8から、支持板を兼ねる放熱板6までの高さが、低く押さえられる効果がある。一方、湾曲の程度が0.1mm以下であると、半導体チップ1とインナーリード4が電気的にショートしてしまう恐れがある。以上より、TABテープ2の湾曲を0.1mmから0.5mmとすることにより、半導体チップ1とインナーリード4のショートが防止できる。
【0020】
また、半導体チップと接合されるインナーリード4の先端部はTABテープ2により固定された状態で、上記の組み立てを行える為、インナーリード4に不安定さはなく、変形が押さえられ、インナーリード間のショートも防止することができる。
なお、上記の組み立て中、クランパー11の移動により、TABテープ2とインナーリード4に湾曲加工を施す時期を、半導体チップ1とTABテープ2の接続後とした。しかし、TABテープ2をクランパー11で固定した直後に、クランパー11の移動によりTABテープ2とインナーリード4に湾曲加工を施し、その後に半導体チップ1とTABテープ2の接続を行うことによっても、上記と同様な効果を奏する。
【0021】
次に本発明の第2の実施形態による半導体装置及びその製造方法について図2及び図4を用いて説明する。図2(a)に示す,本実施形態による半導体装置(以下、「半導体装置21」という)は、片面にインナーリード4が配設されたテープキャリアからなるTABテープ2と、半導体チップ1と、前記半導体チップ1の表面上の電極の上に形成されたバンプ5と、TABテープ2と半導体チップ1間に配置されたアンダーフィル樹脂3と、前記半導体チップ1の厚さより深い凹部を有し、凹部に半導体チップ1を収めるように、半導体チップ1の背面に配置された支持板12と、TABテープ2のテープキャリヤの貫通孔からインナーリード4と電気的に接触した、半田ボール等で形成された外部端子となるボール8とにより構成されており、TABテープ2は補強板7の上面に絶縁性の接着剤15により接着されている。
【0022】
ここで、TABテープ2の作成には、まず、カプトン、ポリミド等の伸縮性をもつ絶縁性樹脂フィルムからなるテープキャリヤ上に錫等でメッキされた銅線等からなるインナーリード4を接着し、エッチングする。次に、外部端子が配設される部分には、絶縁性樹脂フィルムにインナーリード4形成面とは反対側より貫通孔を開け、インナーリード4外部端子用の電極を配設する。外部端子を、インナーリード4と電気的接続をとれるように導性の接着剤で前記外部端子用の電極に接着する。
【0023】
次に、図4を用いて本実施形態による半導体装置21の製造方法について説明する。
まず、図4(a)において、ボンディング装置のステージ10上にTABテープ2を配置し、アンダーフィル樹脂3をTABテープ2上に配設し、クランパー11で押さえる。
次に、図4(b)において、ステージ10を上方に移動させ、TABテープ2及びインナーリード4に湾曲加工を施す。
次いで、図4(c)において加熱したボンディングツール9に半導体チップ1を吸着させ、TABテープ2上のインナーリード4の先端と、半導体チップ1上の電極に形成されたバンプ5との位置合わせを行い、ボンディングツール9を下げて、インナーリード4と半導体チップ1の電極を加熱加圧することにより、電気的に接続する。次いで、銅等の支持板12を、半導体チップ1に接着テープを用いて熱圧着等で固着する。
【0024】
最後に、前記支持板12の上面部において、前記TABテープ2に設けられた貫通孔を介して、インナーリード4に半田ボール等で形成した外部端子となるボール8を配設する。
本実施例による、半導体装置21においては、TABテープ2を構成する、テープキャリヤとインナーリード4に湾曲加工が施されるので、半導体チップ1とインナーリード間は、半導体チップ1のエッジ部で、0.1mm〜0.5mm程度に離れることとなる。従って、半導体チップ1のエッジとインナーリード4の電気的ショートの可能性は格段に低下する。また、半導体チップ1と接合されるインナーリード4の先端部はTABテープにより固定された状態で、上記の組み立てを行える為、インナーリード4に不安定さはなく、変形が抑えられ、インナーリード間のショートも防止することができる。
【0025】
なお、上記の組み立て工程では、ステージ10の移動による、TABテープ2とインナーリード4の湾曲加工を、半導体チップ1とTABテープ2との接続前に行った。しかし、半導体チップ1とTABテープ2との接続を行った後に、ステージ10の移動により、TABテープ2とインナーリード4に湾曲加工を施すことも可能であり、上記と同様な効果を奏する。
【0026】
次に、本発明の第3の実施形態による半導体装置について、図6を用いて説明する。本実施形態による半導体装置(以下、「半導体装置22」という)は、片面にインナーリード4が配設されたテープキャリアからなるTABテープ2と、半導体チップ1と、前記半導体チップ1の表面上の電極の上に形成されたバンプ5と、TABテープ2と半導体チップ1間に配設されたアンダーフィル樹脂3と、前記半導体チップ1と前記TABテープを一体に封止した封止樹脂13と、TABテープ2のテープキャリヤの貫通孔からインナーリードと電気的に接触している、半田ボール等で形成された外部端子となるボール8とにより構成されている。
【0027】
ここで、TABテープ2の製作は、第1の実施形態及び第2実施の形態と同様に行われる。
また、半導体装置20と同様に、TABテープ2には、半導体チップ1と補強板7との間で湾曲加工が施されているが、湾曲加工による、TABテープ2の段差は0.1mmから0.5mm間である。
【0028】
本実施形態による半導体装置22は、半導体装置20の放熱板及び補強板を封止樹脂13に置きかえたものであり、半導体装置20と同様な効果がある。さらに、封止樹脂13は、放熱板及び補強板を構成する金属より軽量であるから、半導体装置22は、半導体装置20に比較し、軽量となる効果がある。
【0029】
【発明の効果】
本発明によれば、TABテープとインナーリードを一体とし、TABテープ、インナーリード双方に曲げ加工を施すことにより、インナーリードの先端の変形による電気的なショートを防止することができ、また、半導体チップのエッジとインナーリードに所定の距離をとることができるので、半導体チップとインナーリードの電気的なショートも防止できる。また、インナーリードの伸縮によるストレスを緩和することができインナーリードの断線も防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施形態による半導体装置の断面図及び底面図
【図2】 本発明の第2実施形態による半導体装置の断面図及び底面図
【図3】 本発明の第1実施形態による半導体装置の製造方法
【図4】 本発明の第2実施形態による半導体装置の製造方法
【図5】 本発明の第1実施形態による半導体装置の断面図(その2)
【図6】 本発明の第3実施形態による半導体装置の断面図
【図7】 従来の半導体装置及びボンディング装置の断面図
【図8】 従来の半導体装置及びボンディング装置の断面図
【符号の説明】
1 半導体チップ
2 TABテープ
3 アンダーフィル樹脂
4 インナーリード
5 バンプ
6 放熱板
7 補強板
8 ボール
9 ボンディングツール
10 ステージ
11 クランパー
12 支持板
13 封止樹脂
14 デバイスホール
15 接着剤
20 半導体装置
21 半導体装置
22 半導体装置
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor package in which an external terminal and a semiconductor chip are electrically connected using an inner lead formed on an insulating film surface, and a short circuit between inner leads during a manufacturing process or in actual use. The present invention relates to a semiconductor device and a method for manufacturing the same, in which a short circuit between a semiconductor chip and an inner lead and an inner lead are prevented from being disconnected.
[0002]
[Prior art]
A conventional semiconductor device using a TAB (Tape Automated Bonding) technique and a manufacturing method thereof will be described with reference to FIGS.
A conventional semiconductor device 30 shown in FIG. 7A is formed on a TAB tape 2 made of a tape carrier having an inner lead 4 disposed on one side, a semiconductor chip 1, and electrodes on the surface of the semiconductor chip 1. The bumps 5, the heat radiating plate 6 also serving as a support plate adhered to the back surface of the semiconductor chip 1, and the frame disposed on the heat radiating plate 6 so as to surround the semiconductor chip 1. The reinforcing plate 7 and a ball 8 serving as an external terminal formed of a solder ball or the like, which are in electrical contact with the inner lead 4 through a through hole of the tape carrier of the TAB tape 2.
[0003]
The TAB tape 2 is formed with an opening called a device hole 14 at a position where the semiconductor chip 1 is accommodated. Only the inner lead 4 is bent and stretched from the end of the device hole, and the bump 5 is interposed therebetween. Are connected to the semiconductor chip 1.
Here, the TAB tape 2 is made by removing a portion of the insulating resin film corresponding to the device hole 14 on the tape carrier made of a stretchable insulating resin film such as Kapton or Polyimide, and then copper plated with tin or the like. The inner lead 4 made of, for example, is bonded and formed by etching, and the tip portion of the inner lead 4 is exposed.
[0004]
Next, a conventional method for manufacturing the semiconductor device 30 will be described with reference to FIG. First, the semiconductor chip 1 is disposed on the stage 10 of the bonding apparatus so that the electrode portion is on top, and the TAB tape 2 is positioned thereon, and the tip of the inner lead 4 and the bump 5 of the semiconductor chip 1 are aligned, After the placement, the heated bonding tool 9 is lowered, the tip of the inner lead 4 protruding from the device hole 14 of the TAB tape 2 is pushed, and the bump 5 on the electrode formed on the semiconductor chip 1 is brought into contact with the heat. It is manufactured by connecting by pressure bonding (see Patent Document 1).
[0005]
As another conventional semiconductor device, a conventional semiconductor device 40 shown in FIG. 8A includes a TAB tape 2 made of a tape carrier having an inner lead 4 disposed on one side, a semiconductor chip 1, and the semiconductor chip 1. A heat sink that also serves as a bump 5 formed on the electrode on the surface of the substrate, an underfill resin 3 disposed between the TAB tape 2 and the semiconductor chip 1, and a support plate adhered to the back surface of the semiconductor chip 1 6, a reinforcing plate 7 also serving as a frame disposed so as to surround the semiconductor chip 1, and the inner lead 4 through the through hole of the tape carrier of the TAB tape 2. It is constituted by a ball 8 which serve as external terminals formed in which is allowed to have, solder balls or the like.
[0006]
Here, the TAB tape 2 is manufactured by adhering and etching an inner lead 4 made of copper wire plated with tin or the like on a tape carrier made of a stretchable insulating resin film such as kapton or polyimide. .
Next, a conventional method for manufacturing the semiconductor device 40 will be described with reference to FIG. First, the TAB tape 2 is disposed on the stage 10 of the bonding apparatus so that the inner leads 4 are on top, the TAB tape 2 is fixed by the clamper 11, and the underfill resin 3 is disposed. After the semiconductor chip 1 is arranged in such a direction and the tip of the inner lead 4 and the bump 5 of the semiconductor chip 1 are aligned, the heated bonding tool 9 is lowered and the semiconductor chip 1 is pushed to The tip of 4 is brought into contact with the bump 5 on the electrode formed on the semiconductor chip 1 and connected by thermocompression bonding (see Patent Document 2).
[0007]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-333986
[Patent Document 2]
Japanese Patent Laid-Open No. 11-330149
[Problems to be solved by the invention]
In assembling the conventional semiconductor device 30, the tip of the inner lead is exposed from the TAB tape in order to make a device hole in the center of the TAB tape and to electrically connect the inner lead and the electrode of the semiconductor chip. It is necessary to let For this reason, the tip of the inner lead that has lost support as a tape carrier is not stable, and electrical contact between the inner leads due to deformation of the inner lead becomes a problem. In particular, when the interval between the inner leads is narrowed, the above problem becomes remarkable and there is a problem that it is difficult to deal with the narrow pitch of the inner leads.
[0010]
In the assembly of the conventional semiconductor device 40, the distance between the inner lead on the TAB tape and the semiconductor chip is only the height of the bump on the semiconductor chip, for example, about 15 to 20 μm. Electrical connection is a problem. Therefore, when the underfill resin is disposed between the inner lead and the semiconductor chip, the above problem is solved. However, when the conventional semiconductor device 40 is in a poor temperature cycle environment, the underfill resin and the inner lead There was a problem that the pulling force due to the difference in thermal expansion coefficient worked on the inner lead, leading to disconnection.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
To solve the technical problems described above, an insulating film having a convex portion formed on Chuo,
A conductive inner lead disposed on a part of the projection-forming surface of the insulating film;
A plurality of electrodes formed on a main surface, a semiconductor element connected to the inner leads by the plurality of electrodes,
A frame disposed on the insulating film and the inner lead so as to surround the semiconductor element;
A support plate bonded to the semiconductor element and the frame via an adhesive tape across the semiconductor element and the frame;
A plurality of external electrodes connected to the inner leads via a conductive material penetrating the insulating film under the insulating film;
Between the semiconductor element and the insulating film, and semi-conductor devices that have a and disposed resin between said semiconductor element and said inner lead is provided.
[0013]
In order to solve the above technical problems,
Adhering a conductive inner lead to a part of the insulating film;
Each hole from the opposite side to the said inner leads formed surface on the insulating film, a step of bonding the electrode for external terminals with a conductive adhesive to the inner leads,
Placing the insulating film on a stage;
Arranging a semiconductor element on the inner lead;
A process of pressing the heated bonding tool against the back surface of the semiconductor element and connecting the semiconductor element by heating and pressing the inner lead; and
While the semiconductor element and the insulating film are sandwiched and fixed by the bonding tool and the stage, the insulating film and the inner lead peripheral portion are pushed down by a clamper, and the insulating film and the inner lead are bent. Bending process to perform,
Disposing a resin between the inner lead and the semiconductor element and between the insulating film and the semiconductor element;
Forming a frame on the insulating film around the semiconductor element;
Straddling the semiconductor element and the frame, and bonding a support plate to the semiconductor element and the frame;
Disposing an external terminal on the electrode for the external terminal;
A method for manufacturing a semiconductor device is provided.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
First, the semiconductor device and the manufacturing method thereof according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
1A, the semiconductor device according to the first embodiment (hereinafter referred to as “semiconductor device 20”) includes a TAB tape 2 made of a tape carrier having an inner lead 4 disposed on one side, a semiconductor chip 1, The bumps 5 formed on the electrodes on the surface of the semiconductor chip 1, the underfill resin 3 disposed between the TAB tape 2 and the semiconductor chip 1, and the support plate adhered to the back surface of the semiconductor chip 1 A heat sink 6 that also serves as a frame, a reinforcing plate 7 that also serves as a frame disposed so as to surround the semiconductor chip 1 on the heat sink 6, and an inner lead 4 from a through hole of the tape carrier of the TAB tape 2. The TAB tape 2 is bonded to the upper surface of the reinforcing plate 7 with an insulating adhesive 15. The ball 8 is an external terminal formed of solder balls or the like. .
[0016]
Here, to make the TAB tape 2, first, the inner lead 4 made of copper wire plated with tin or the like is bonded onto the tape carrier made of insulating resin film having elasticity such as kapton or polyimide, Etch. Then, in the portion where the external terminal is disposed, and the inner leads 4 forming surface in the insulating resin film each hole from the opposite side, arranging the electrodes for external terminals to the inner lead 4. An external terminal, to adhere to the electrodes for the external terminals with a conductive adhesive as can the electrical connection and Lee N'narido 4.
[0017]
Next, the method for manufacturing the semiconductor device 20 according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. First, in FIG. 3A, the TAB tape 2 is arranged on the stage 10 of the bonding apparatus so that the inner leads 4 face up, and the TAB tape 2 is fixed by the clamper 11. Next, the semiconductor chip 1 is placed on the TAB tape so that the electrode portion faces downward, the tip of the inner lead 4 and the bump 5 of the semiconductor chip 1 are aligned, and then the heated bonding tool 9 is lowered. Then, the semiconductor chip 1 is pushed, the tip of the inner lead 4 is brought into contact with the bump 5 on the electrode formed on the semiconductor chip 1, and connected by thermocompression bonding. Next, in FIG. 3B, the clamper 11 is moved downward with the semiconductor chip 1 and the TAB tape 2 sandwiched between the stage 10 and the bonding tool 9, and the inner leads in the TAB tape 2 and the TAB tape 2 are moved. 4 is curved. Further, a resin in which particles of an insulating material such as silicon oxide are contained in an epoxy resin or the like is injected between the semiconductor chip 1 and the TAB tape 2 to dispose the underfill resin 3.
[0018]
Thereafter, a rectangular frame made of stainless steel or the like is used as a reinforcing plate 7 so as to surround the semiconductor chip, and is fixed to the TAB tape 2 by thermocompression bonding or the like using an adhesive tape. The heat radiating plate 6 made of a material such as copper is fixed over the reinforcing plate 7 by thermocompression bonding using an adhesive tape. Finally, balls 8 to be external terminals formed of solder balls or the like on the inner leads are disposed on the upper surface of the reinforcing plate 7 through through holes provided in the TAB tape. In the above description, the meaning of “enclosing the semiconductor chip” includes cases of enclosing from two directions and from four directions, and FIG. 8B shows an example of enclosing from two directions.
[0019]
In the semiconductor device 20 described above, the TAB tape 2 is curved between the semiconductor chip 1 and the ball 7, but the step of the TAB tape 2 due to the bending is 0.1 mm to 0.5 mm. (See FIG. 5).
Therefore, since the upper limit of the degree of curvature of the TAB tape 2 is 0.5 mm, there is an effect that the height from the ball 8 that is an external terminal to the heat radiating plate 6 that also serves as a support plate can be suppressed low. On the other hand, if the degree of curvature is 0.1 mm or less, the semiconductor chip 1 and the inner lead 4 may be electrically short-circuited. As described above, by setting the curvature of the TAB tape 2 to 0.1 mm to 0.5 mm, it is possible to prevent the semiconductor chip 1 and the inner lead 4 from being short-circuited.
[0020]
In addition, since the above-described assembly can be performed with the tip portion of the inner lead 4 bonded to the semiconductor chip being fixed by the TAB tape 2, the inner lead 4 is not unstable and the deformation is suppressed, so Can be prevented.
During the above assembly, the time when the TAB tape 2 and the inner lead 4 are bent by the movement of the clamper 11 is after the semiconductor chip 1 and the TAB tape 2 are connected. However, immediately after the TAB tape 2 is fixed by the clamper 11, the TAB tape 2 and the inner lead 4 are bent by the movement of the clamper 11, and then the semiconductor chip 1 and the TAB tape 2 are connected to each other. Has the same effect as
[0021]
Next, a semiconductor device and a manufacturing method thereof according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2A, the semiconductor device according to the present embodiment (hereinafter referred to as “semiconductor device 21”) includes a TAB tape 2 made of a tape carrier having an inner lead 4 disposed on one side, a semiconductor chip 1, A bump 5 formed on the electrode on the surface of the semiconductor chip 1, an underfill resin 3 disposed between the TAB tape 2 and the semiconductor chip 1, and a recess deeper than the thickness of the semiconductor chip 1, It is formed of a support plate 12 disposed on the back surface of the semiconductor chip 1 and a solder ball or the like that is in electrical contact with the inner lead 4 from the through hole of the tape carrier of the TAB tape 2 so that the semiconductor chip 1 is accommodated in the recess. The TAB tape 2 is bonded to the upper surface of the reinforcing plate 7 with an insulating adhesive 15.
[0022]
Here, to make the TAB tape 2, first, the inner lead 4 made of copper wire plated with tin or the like is bonded onto the tape carrier made of insulating resin film having elasticity such as kapton or polyimide, Etch. Then, in the portion where the external terminal is disposed, and the inner leads 4 forming surface in the insulating resin film each hole from the opposite side, arranging the electrodes for external terminals to the inner lead 4. An external terminal, to adhere to the electrodes for the external terminals with a conductive adhesive as can the electrical connection and Lee N'narido 4.
[0023]
Next, the method for manufacturing the semiconductor device 21 according to the present embodiment will be explained with reference to FIGS.
First, in FIG. 4A, the TAB tape 2 is disposed on the stage 10 of the bonding apparatus, the underfill resin 3 is disposed on the TAB tape 2, and is pressed by the clamper 11.
Next, in FIG. 4B, the stage 10 is moved upward, and the TAB tape 2 and the inner lead 4 are curved.
Next, the semiconductor chip 1 is attracted to the heated bonding tool 9 in FIG. 4C, and the tip of the inner lead 4 on the TAB tape 2 and the bump 5 formed on the electrode on the semiconductor chip 1 are aligned. Then, the bonding tool 9 is lowered, and the inner leads 4 and the electrodes of the semiconductor chip 1 are heated and pressed to be electrically connected. Next, the support plate 12 such as copper is fixed to the semiconductor chip 1 by thermocompression bonding or the like using an adhesive tape.
[0024]
Finally, balls 8 serving as external terminals formed of solder balls or the like on the inner leads 4 are disposed on the upper surface portion of the support plate 12 through through holes provided in the TAB tape 2.
In the semiconductor device 21 according to the present embodiment, the tape carrier and the inner lead 4 constituting the TAB tape 2 are curved, so that the gap between the semiconductor chip 1 and the inner lead is an edge portion of the semiconductor chip 1. The distance is about 0.1 mm to 0.5 mm. Accordingly, the possibility of an electrical short between the edge of the semiconductor chip 1 and the inner lead 4 is greatly reduced. In addition, since the above-described assembly can be performed with the tip portion of the inner lead 4 joined to the semiconductor chip 1 being fixed by the TAB tape, the inner lead 4 is not unstable and can be prevented from being deformed. Can be prevented.
[0025]
In the above assembly process, the bending of the TAB tape 2 and the inner lead 4 by the movement of the stage 10 was performed before the connection between the semiconductor chip 1 and the TAB tape 2. However, after the semiconductor chip 1 and the TAB tape 2 are connected, the TAB tape 2 and the inner lead 4 can be curved by moving the stage 10, and the same effects as described above can be obtained.
[0026]
Next, a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The semiconductor device according to the present embodiment (hereinafter referred to as “semiconductor device 22”) includes a TAB tape 2 made of a tape carrier having an inner lead 4 disposed on one side, a semiconductor chip 1, and a surface of the semiconductor chip 1. A bump 5 formed on the electrode; an underfill resin 3 disposed between the TAB tape 2 and the semiconductor chip 1; a sealing resin 13 that integrally seals the semiconductor chip 1 and the TAB tape; The TAB tape 2 is composed of a ball 8 serving as an external terminal formed of a solder ball or the like, which is in electrical contact with the inner lead from the through hole of the tape carrier of the TAB tape 2.
[0027]
Here, the TAB tape 2 is manufactured in the same manner as in the first and second embodiments.
Similarly to the semiconductor device 20, the TAB tape 2 is curved between the semiconductor chip 1 and the reinforcing plate 7. The step of the TAB tape 2 due to the bending is 0.1 mm to 0. .5 mm.
[0028]
The semiconductor device 22 according to the present embodiment is obtained by replacing the heat dissipation plate and the reinforcing plate of the semiconductor device 20 with the sealing resin 13, and has the same effect as the semiconductor device 20. Further, since the sealing resin 13 is lighter than the metal constituting the heat radiating plate and the reinforcing plate, the semiconductor device 22 has an effect of being lighter than the semiconductor device 20.
[0029]
【The invention's effect】
According to the present invention, the TAB tape and the inner lead are integrated, and by bending both the TAB tape and the inner lead, an electrical short due to the deformation of the tip of the inner lead can be prevented, and the semiconductor Since a predetermined distance can be taken between the chip edge and the inner lead, an electrical short circuit between the semiconductor chip and the inner lead can be prevented. Further, stress due to expansion / contraction of the inner lead can be alleviated, and disconnection of the inner lead can be prevented.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view and a bottom view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view and a bottom view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention. Semiconductor Device Manufacturing Method According to Embodiment FIG. 4 Semiconductor Device Manufacturing Method According to Second Embodiment of the Invention FIG. 5 is a sectional view of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention (part 2).
6 is a sectional view of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention. FIG. 7 is a sectional view of a conventional semiconductor device and a bonding apparatus. FIG. 8 is a sectional view of a conventional semiconductor device and a bonding apparatus.
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 2 TAB tape 3 Underfill resin 4 Inner lead 5 Bump 6 Heat sink 7 Reinforcing plate 8 Reinforcement plate 8 Ball 9 Bonding tool 10 Stage 11 Clamper 12 Support plate 13 Sealing resin 14 Device hole 15 Adhesive 20 Semiconductor device 21 Semiconductor device 22 Semiconductor device

Claims (5)

中央に凸部が形成された絶縁性フィルムと、
該絶縁性フィルムの該凸部形成面の一部に配設された導電性のインナーリードと、
主面に複数の電極が形成され、該複数の電極により該インナーリードに接続された半導体素子と、
該絶縁性フィルム及び該インナーリード上に該半導体素子を囲うように配設された枠体と、
該半導体素子と該枠体に跨がって該半導体素子と該枠体に接着テープを介して接着された支持板と、
該絶縁性フィルム下に該絶縁性フィルムを貫通する導電物を介して該インナーリードに接続された複数の外部電極と、
該半導体素子と該絶縁性フィルムとの間、及び該半導体素子と該インナーリードとの間に配設された樹脂と
を有することを特徴とする半導体装置。
An insulating film having a convex portion in the center;
A conductive inner lead disposed on a part of the projection-forming surface of the insulating film;
A plurality of electrodes formed on a main surface, and a semiconductor element connected to the inner leads by the plurality of electrodes;
A frame disposed on the insulating film and the inner lead so as to surround the semiconductor element;
A support plate bonded to the semiconductor element and the frame via an adhesive tape across the semiconductor element and the frame;
A plurality of external electrodes connected to the inner leads via a conductive material penetrating the insulating film under the insulating film;
A semiconductor device comprising: a resin disposed between the semiconductor element and the insulating film; and between the semiconductor element and the inner lead.
中央に凸部が形成された絶縁性フィルムと、
該絶縁性フィルムの該凸部形成面の一部に配設された導電性のインナーリードと、
主面に複数の電極が形成され、該複数の電極により該インナーリードに接続された半導体素子と、
中央部に凹部が形成され、該絶縁性フィルム及び該インナーリード上に該半導体素子を囲うように配設された封止樹脂と、
該絶縁性フィルム下に該絶縁性フィルムを貫通する導電物を介して該インナーリードに接続された複数の外部電極と、
該半導体素子と該絶縁性フィルムとの間、及び該半導体素子と該インナーリードとの間に配設された樹脂と
を有することを特徴とする半導体装置。
An insulating film having a convex portion in the center;
A conductive inner lead disposed on a part of the projection-forming surface of the insulating film;
A plurality of electrodes formed on the main surface, and a semiconductor element connected to the inner leads by the plurality of electrodes;
A recess formed in the center, and a sealing resin disposed on the insulating film and the inner lead so as to surround the semiconductor element;
A plurality of external electrodes connected to the inner leads via a conductive material penetrating the insulating film under the insulating film;
A semiconductor device comprising: a resin disposed between the semiconductor element and the insulating film; and between the semiconductor element and the inner lead.
前記凸部の高さは、0.1〜0.5mmであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置。  The semiconductor device according to claim 1, wherein a height of the convex portion is 0.1 to 0.5 mm. 絶縁性フィルム上の一部に導電性のインナーリードを接着する工程と、
該絶縁性フィルムに該インナーリード形成面とは反対側より貫通孔を開け、該インナーリードに導性の接着剤で外部端子用の電極を接着する工程と、
ステージ上に該絶縁性フィルムを配置する工程と、
該インナーリード上に半導体素子を配置する工程と、
加熱したボンディングツールを該半導体素子背面に押しつけ、該半導体素子を該インナーリードに加熱加圧して接続する工程と、
該ボンディングツールと該ステージとで、該半導体素子と該絶縁性フィルムを挟み込んで固定したまま、該絶縁性フィルム及び該インナーリード周辺部をクランパーによって押し下げ、該絶縁性フィルムと該インナーリードに曲げ加工を行う曲げ加工工程と、
該インナーリードと該半導体素子との間、及び該絶縁性フィルムと該半導体素子との間に樹脂を配設する工程と、
該半導体素子周囲の該絶縁性フィルム上に枠体を形成する工程と、
該半導体素子と該枠体上に跨がって、支持板を該半導体素子と該枠体に接着する工程と、
該外部端子用の電極に外部端子を配設する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
Adhering a conductive inner lead to a part of the insulating film;
Each hole from the opposite side to the said inner leads formed surface on the insulating film, a step of bonding the electrode for external terminals with a conductive adhesive to the inner leads,
Placing the insulating film on a stage;
Arranging a semiconductor element on the inner lead;
Pressing the heated bonding tool against the back surface of the semiconductor element, and connecting the semiconductor element by heating and pressing the inner lead; and
While the semiconductor element and the insulating film are sandwiched and fixed by the bonding tool and the stage, the peripheral portion of the insulating film and the inner lead are pushed down by a clamper, and the insulating film and the inner lead are bent. Bending process to perform,
Disposing a resin between the inner lead and the semiconductor element and between the insulating film and the semiconductor element;
Forming a frame on the insulating film around the semiconductor element;
Straddling the semiconductor element and the frame, and bonding a support plate to the semiconductor element and the frame;
Disposing an external terminal on the electrode for the external terminal;
A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
絶縁性フィルム上の一部に導電性のインナーリードを接着する工程と、
該絶縁性フィルムに該インナーリード形成面とは反対側より貫通孔を開け、該インナーリードに導性の接着剤で外部端子用の電極を接着する工程と、
ステージ上に該絶縁性フィルムを配置する工程と、
該インナーリード上及び該絶縁性フィルム上の一部に樹脂を配設する工程と、
該絶縁性フィルム及び該インナーリード周辺部をクランパーによって上側より固定したまま、前記ステージを押し上げ、該絶縁性フィルムと該インナーリードに曲げ加工を行う曲げ加工工程と、
該インナーリード上に半導体素子を配置する工程と、
加熱したボンディングツールを該半導体素子背面に押しつけ、該半導体素子を該インナーリードに加熱加圧して接続する工程と、
該半導体素子周囲の該絶縁性フィルム上に枠体を形成する工程と、
該半導体素子と該枠体上に跨がって、支持板を該半導体素子と該枠体に接着する工程と、
該外部端子用の電極に外部端子を配設する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
Adhering a conductive inner lead to a part of the insulating film;
Each hole from the opposite side to the said inner leads formed surface on the insulating film, a step of bonding the electrode for external terminals with a conductive adhesive to the inner leads,
Placing the insulating film on a stage;
Disposing a resin on a part of the inner lead and the insulating film;
While the insulating film and the inner lead peripheral part are fixed from above by a clamper, the stage is pushed up, and a bending process step of bending the insulating film and the inner lead is performed;
Arranging a semiconductor element on the inner lead;
A process of pressing the heated bonding tool against the back surface of the semiconductor element and connecting the semiconductor element by heating and pressing the inner lead; and
Forming a frame on the insulating film around the semiconductor element;
Straddling the semiconductor element and the frame, and bonding a support plate to the semiconductor element and the frame;
Disposing an external terminal on the electrode for the external terminal;
A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
JP2003097413A 2003-03-31 2003-03-31 Semiconductor device and manufacturing method thereof Expired - Fee Related JP4213499B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003097413A JP4213499B2 (en) 2003-03-31 2003-03-31 Semiconductor device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003097413A JP4213499B2 (en) 2003-03-31 2003-03-31 Semiconductor device and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004304077A JP2004304077A (en) 2004-10-28
JP4213499B2 true JP4213499B2 (en) 2009-01-21

Family

ID=33409203

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003097413A Expired - Fee Related JP4213499B2 (en) 2003-03-31 2003-03-31 Semiconductor device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4213499B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004304077A (en) 2004-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6515357B2 (en) Semiconductor package and semiconductor package fabrication method
JP2001313314A (en) Semiconductor device using bump, its manufacturing method, and method for forming bump
US20020030252A1 (en) Semiconductor device and method of making the same, circuit board and electronic equipment
US6518649B1 (en) Tape carrier type semiconductor device with gold/gold bonding of leads to bumps
KR20020076181A (en) Semiconductor device having flat electrodes of a first semiconductor pellet and protruded electrodes of a second semiconductor pellet directly contacted with the flat electrodes
JP2586344B2 (en) Carrier film
JP3659133B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP5218009B2 (en) Semiconductor device
JP3645511B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2647047B2 (en) Flip chip mounting method for semiconductor element and adhesive used in this mounting method
JP3833669B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device
JPH0750726B2 (en) Semiconductor chip mounting body
JP4213499B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP4072693B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JPH10125734A (en) Semiconductor unit and manufacturing method thereof
JP3942500B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
EP0854513A2 (en) Improvements in or relating to semiconductor device packaging
JP2005353854A (en) Wiring board and semiconductor device using the same
JP2997255B1 (en) Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same
JPH03228339A (en) Bonding tool
JP2699855B2 (en) Semiconductor device bonding method
JPH11224918A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JP2000216280A (en) Terminal land frame and manufacture thereof, and resin sealed semiconductor device and manufacture thereof
JP2002124531A (en) Semiconductor device, method for manufacturing the same and mounting structure thereof
JP3598058B2 (en) Circuit board

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20040610

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040610

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060324

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080108

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080227

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080401

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080529

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080624

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20080731

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080825

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080930

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081030

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121107

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121107

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131107

Year of fee payment: 5

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees