JP2000216280A - Terminal land frame and manufacture thereof, and resin sealed semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents

Terminal land frame and manufacture thereof, and resin sealed semiconductor device and manufacture thereof

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin-sealed semiconductor device which uses a frame type package material, wherein a semiconductor device which allows substrate mounting by its bottom surface side comprises a frame body. SOLUTION: A terminal land frame, comprising a plurality of land structures 12 so formed as to protrude above a frame main body 10, is connected to the frame main body 10 with a thin part 11, with a slot part 13 provided on the upper surface of the land structure body 12, while a protruding part 14 n the lower surface. In the land structure body 12, the thin part 11 is broken and separated under the pressurizing force in the protruding direction from the frame main body 10. Thus, the reliability in resin sealing is provided at configuration of a semiconductor device, efficiently providing a small resin-sealed type semiconductor device where land electrodes are arrayed on the bottom surface.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、従来のビーム状の
リードを備えたリードフレームに代えて、外部端子とな
るランド体を備えたフレームであるターミナルランドフ
レームおよびその製造方法に関するもので、それを用い
て半導体素子を搭載し、外囲を樹脂で封止した樹脂封止
型半導体装置およびその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a terminal land frame which is a frame having a land body serving as an external terminal in place of a conventional lead frame having a beam-shaped lead, and a method of manufacturing the same. The present invention relates to a resin-encapsulated semiconductor device in which a semiconductor element is mounted using, and an outer periphery is sealed with resin, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化に対応するため
に、樹脂封止型半導体装置などの半導体部品の高密度実
装が要求され、それにともなって、半導体部品の小型、
薄型化が進んでいる。また小型で薄型でありながら、多
ピン化が進み、高密度の小型、薄型の樹脂封止型半導体
装置が要望されている。
2. Description of the Related Art In recent years, in order to cope with miniaturization of electronic equipment, high-density mounting of semiconductor components such as resin-encapsulated semiconductor devices has been required.
Thinning is progressing. In addition, the number of pins has been increased while being small and thin, and a high-density small and thin resin-sealed semiconductor device has been demanded.

【0003】以下、従来の樹脂封止型半導体装置に使用
するリードフレームについて説明する。
Hereinafter, a lead frame used in a conventional resin-encapsulated semiconductor device will be described.

【0004】図18は、従来のリードフレームの構成を
示す平面図である。図18に示すように、従来のリード
フレームは、フレーム枠1と、そのフレーム枠1内に、
半導体素子が載置される矩形状のダイパッド部2と、ダ
イパッド部2を支持する吊りリード部3と、半導体素子
を載置した場合、その載置した半導体素子と金属細線等
の接続手段により電気的に接続するビーム状のインナー
リード部4と、そのインナーリード部4と連続して設け
られ、外部端子との接続のためのアウターリード部5
と、アウターリード部5どうしを連結固定し、樹脂封止
の際の樹脂止めとなるタイバー部6とより構成されてい
た。
FIG. 18 is a plan view showing the structure of a conventional lead frame. As shown in FIG. 18, a conventional lead frame includes a frame 1 and a frame 1 inside the frame.
A rectangular die pad portion 2 on which a semiconductor element is mounted, a suspension lead portion 3 supporting the die pad portion 2, and when a semiconductor element is mounted, the semiconductor element is electrically connected to the mounted semiconductor element by a connecting means such as a thin metal wire. Beam-shaped inner lead portion 4 for electrical connection, and an outer lead portion 5 provided continuously with the inner lead portion 4 for connection to an external terminal.
And a tie bar portion 6 which connects and fixes the outer lead portions 5 to each other and serves as a resin stopper at the time of resin sealing.

【0005】なお、リードフレームは、図18に示した
構成よりなるパターンが1つではなく、複数個、左右、
上下に連続して配列されたものである。
[0005] The lead frame has a plurality of patterns each having the structure shown in FIG.
They are arranged vertically continuously.

【0006】次に従来の樹脂封止型半導体装置について
説明する。図19は、図18に示したリードフレームを
用いた樹脂封止型半導体装置を示す断面図である。
Next, a conventional resin-encapsulated semiconductor device will be described. FIG. 19 is a sectional view showing a resin-sealed semiconductor device using the lead frame shown in FIG.

【0007】図19に示すように、リードフレームのダ
イパッド部2上に半導体素子7が搭載され、その半導体
素子7とインナーリード部4とが金属細線8により電気
的に接続されている。そしてダイパッド部2上の半導体
素子7、インナーリード部4の外囲は封止樹脂9により
封止されている。封止樹脂9の側面からはアウターリー
ド部5が突出して設けられ、先端部はベンディングされ
ている。
As shown in FIG. 19, a semiconductor element 7 is mounted on a die pad section 2 of a lead frame, and the semiconductor element 7 and the inner lead section 4 are electrically connected by a thin metal wire 8. The outer periphery of the semiconductor element 7 and the inner lead portion 4 on the die pad portion 2 is sealed with a sealing resin 9. An outer lead portion 5 is provided so as to protrude from a side surface of the sealing resin 9, and a front end portion is bent.

【0008】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法
は、図20に示すように、リードフレームのダイパッド
部2上に半導体素子7を接着剤により接合した後(ダイ
ボンド工程)、半導体素子7とインナーリード部4の先
端部とを金属細線8により接続する(ワイヤーボンド工
程)。その後、半導体素子7の外囲を封止するが、封止
領域はリードフレームのタイバー部6で包囲された領域
内を封止樹脂9により封止し、アウターリード部5を外
部に突出させて封止する(樹脂封止工程)。そしてタイ
バー部6で封止樹脂9の境界部をカッティングし、各ア
ウターリード部5を分離し、フレーム枠1を除去すると
ともに、アウターリード部5の先端部をベンディングす
ることにより(タイバーカット・ベンド工程)、図19
に示した構造の樹脂封止型半導体装置を製造することが
できる。ここで図20において、破線で示した領域が封
止樹脂9で封止する領域である。
In a conventional method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, as shown in FIG. 20, after a semiconductor element 7 is bonded onto a die pad portion 2 of a lead frame by an adhesive (die bonding step), the semiconductor element 7 is The distal end portion of the inner lead portion 4 is connected with the thin metal wire 8 (wire bonding step). After that, the outer periphery of the semiconductor element 7 is sealed, and the sealing region is sealed with the sealing resin 9 in the region surrounded by the tie bar portion 6 of the lead frame, and the outer lead portion 5 is projected outside. Sealing (resin sealing step). Then, the boundary portion of the sealing resin 9 is cut with the tie bar portion 6, each outer lead portion 5 is separated, the frame 1 is removed, and the tip of the outer lead portion 5 is bent (tie bar cut / bend). Step), FIG.
Can be manufactured. Here, in FIG. 20, a region indicated by a broken line is a region to be sealed with the sealing resin 9.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のリ
ードフレームでは、半導体素子が高集積化し、多ピンと
なった場合、インナーリード部(アウターリード部)の
幅の形成には限界があり、多ピン化に対応しようとする
場合は、インナーリード部(アウターリード部)の数が
多くなるため、リードフレーム自体が大きくなり、結果
として樹脂封止型半導体装置も大きくなり、要望される
小型、薄型の樹脂封止型半導体装置は実現できないとい
う課題があった。また、半導体素子の多ピン化対応とし
てリードフレームのサイズを変更せず、インナーリード
部を増加させる場合は、1本当たりのインナーリード部
の幅を細くしなければならず、リードフレーム形成のエ
ッチング等の加工で課題が多くなってしまう。
However, in the conventional lead frame, when the semiconductor element is highly integrated and has many pins, there is a limit in forming the width of the inner lead portion (outer lead portion). In order to cope with this problem, the number of inner lead portions (outer lead portions) increases, so that the lead frame itself becomes large, and as a result, the resin-encapsulated semiconductor device also becomes large. There is a problem that a sealed semiconductor device cannot be realized. Also, in order to increase the number of inner leads without changing the size of the lead frame in response to the increase in the number of pins of the semiconductor element, the width of each inner lead must be reduced, and etching for forming the lead frame must be performed. In such processing, there are many problems.

【0010】また最近は面実装タイプの半導体装置とし
て、底面に外部電極を設けたキャリア(配線基板)上に
半導体素子を搭載し、電気的接続を行った後、そのキャ
リアの上面を樹脂封止した半導体装置であるボール・グ
リッド・アレイ(BGA)タイプやランド・グリッド・
アレイ(LGA)タイプの半導体装置がある。このタイ
プの半導体装置はその底面側でマザー基板と実装する半
導体装置であり、今後、このような面実装タイプの半導
体装置が主流になりつつある。したがって、このような
動向に対応するには、従来のリードフレーム、そのリー
ドフレームを用いた樹脂封止型半導体装置では、対応で
きないという大きな課題が顕在化してきている。
Recently, as a surface mount type semiconductor device, a semiconductor element is mounted on a carrier (wiring board) having an external electrode provided on a bottom surface, and after electrical connection is made, the upper surface of the carrier is sealed with a resin. Semiconductor devices such as ball grid array (BGA) type and land grid
There is an array (LGA) type semiconductor device. This type of semiconductor device is a semiconductor device mounted on a motherboard on the bottom side, and such a surface mount type semiconductor device is becoming mainstream in the future. Therefore, in order to cope with such a trend, a big problem that a conventional lead frame and a resin-sealed semiconductor device using the lead frame cannot be dealt with has become apparent.

【0011】従来の樹脂封止型半導体装置では、封止樹
脂の側面にアウターリード部よりなる外部リードが設け
られており、その外部リードと基板電極とを接合して実
装するものであるため、BGAタイプ,LGAタイプの
半導体装置に比べて、基板実装の信頼性は低いものとな
ってしまう。また、BGAタイプ,LGAタイプの半導
体装置は、配線基板を用いているため、コスト的に高価
となるという課題がある。
In a conventional resin-encapsulated semiconductor device, an external lead formed of an outer lead portion is provided on a side surface of a sealing resin, and the external lead and a substrate electrode are bonded and mounted. The reliability of board mounting is lower than that of BGA type and LGA type semiconductor devices. In addition, since BGA type and LGA type semiconductor devices use a wiring board, there is a problem that the cost is high.

【0012】本発明は前記した従来の課題および今後の
半導体装置の動向に対応できるフレームタイプのパッケ
ージ材を用いた樹脂封止型半導体装置を提供するもので
あり、底面側で基板実装できる半導体装置をフレーム体
を用いて構成することを目的とするものである。そして
従来のリードフレームに着目した発想から転換し、ビー
ム状の「リード」に代え、外部電極となる「ランド」を
フレーム状で形成する点に主眼をおいたターミナルラン
ドフレームとその製造方法、それを用いた各種信頼性の
高い樹脂封止型半導体装置およびその製造方法を提供す
るものである。さらに本発明は、従来のようにリードカ
ット工程やリードベンド工程をなくし、容易に樹脂封止
型半導体装置を得ることができ、樹脂封止型半導体装置
を低コストで製造できる画期的な工法を提供できるもの
である。
The present invention provides a resin-encapsulated semiconductor device using a frame-type package material which can cope with the above-mentioned conventional problems and future trends in semiconductor devices. Using a frame body. In addition, the terminal land frame and its manufacturing method, which focus on the point of forming a frame-shaped external land as a land instead of a beam-shaped lead, instead of a conventional lead frame, It is intended to provide various kinds of highly reliable resin-encapsulated semiconductor devices using the same and a method for manufacturing the same. Furthermore, the present invention eliminates the lead cutting step and the lead bending step as in the related art, can easily obtain a resin-encapsulated semiconductor device, and can manufacture a resin-encapsulated semiconductor device at low cost. Can be provided.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】前記従来の課題を解決す
るために、本発明のターミナルランドフレームは、金属
板よりなるフレーム本体と、前記フレーム本体の領域内
に配設され、薄厚部により前記フレーム本体と接続し、
かつ前記フレーム本体よりも突出して形成された複数の
ランド構成体と、薄厚部により前記フレーム本体と接続
し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成された半
導体素子搭載用の支持体とよりなるターミナルランドフ
レームであって、前記各ランド構成体はその上部に溝部
を有し、底部に突出部を有しているターミナルランドフ
レームである。
In order to solve the above-mentioned conventional problems, a terminal land frame according to the present invention is provided with a frame main body made of a metal plate, and is disposed in an area of the frame main body, and has a thin portion. Connect with the frame body,
A terminal comprising a plurality of land members formed so as to protrude from the frame main body, and a semiconductor element mounting support connected to the frame main body through a thin portion and protruding from the frame main body. A land frame, wherein each of the land structures has a groove at an upper portion thereof and a terminal land frame having a projecting portion at a bottom portion.

【0014】そして薄厚部により前記フレーム本体と接
続し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成された
半導体素子搭載用の支持体はランド構成体であるターミ
ナルランドフレームである。また、薄厚部により前記フ
レーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出
して形成された半導体素子搭載用の支持体は、ダイパッ
ド部であるターミナルランドフレームである。
The support for mounting the semiconductor element, which is connected to the frame main body by the thin portion and protrudes from the frame main body, is a terminal land frame which is a land structure. The support for mounting the semiconductor element, which is connected to the frame main body by the thin portion and protrudes from the frame main body, is a terminal land frame which is a die pad portion.

【0015】また、本発明のターミナルランドフレーム
の製造方法は、フレーム枠を構成する金属板に対して、
上面と下面にそれぞれエッチングレジスト膜を形成する
第1の工程と、金属板内に溝部を形成したい部分のエッ
チングレジスト膜に対して、開口部を形成する第2の工
程と、前記金属板をエッチングして、前記開口部から露
出した金属板部分を加工して溝部を形成する第3の工程
と、金属板の溝部を形成した所定の位置を金型で押圧
し、半切断状態を形成して突出させ、ランド構成体を形
成する第4の工程とよりなるターミナルランドフレーム
の製造方法である。
Further, the method for manufacturing a terminal land frame according to the present invention comprises the steps of:
A first step of forming an etching resist film on each of an upper surface and a lower surface, a second step of forming an opening in a portion of the etching resist film where a groove is to be formed in the metal plate, and etching the metal plate Then, a third step of processing the metal plate portion exposed from the opening to form a groove, and pressing a predetermined position where the groove of the metal plate is formed with a mold to form a half-cut state. This is a method for manufacturing a terminal land frame, comprising a fourth step of projecting and forming a land structure.

【0016】本発明の樹脂封止型半導体装置は、金属板
よりなるフレーム本体と、前記フレーム本体の領域内に
配設されて、薄厚部により前記フレーム本体と接続し、
かつ前記フレーム本体よりも突出して形成された複数の
ランド構成体とよりなるターミナルランドフレームを用
いて形成された樹脂封止型半導体装置であって、第1の
ランド構成体群上に搭載された半導体素子と、前記半導
体素子の周辺に配置され、前記半導体素子と金属細線に
より電気的に接続された第2のランド構成体群と、前記
各ランド構成体群の底面を突出させて前記半導体素子の
外囲を封止した封止樹脂とよりなり、前記各ランド構成
体群の底面部は突出部を有している樹脂封止型半導体装
置である。
The resin-encapsulated semiconductor device of the present invention is provided in a frame main body made of a metal plate, and is disposed in a region of the frame main body, and is connected to the frame main body by a thin portion.
And a resin-encapsulated semiconductor device formed using a terminal land frame including a plurality of land structures formed so as to protrude from the frame main body, the semiconductor device being mounted on a first land structure group. A semiconductor element, a second land group disposed around the semiconductor element and electrically connected to the semiconductor element by a thin metal wire, and a bottom surface of each land group protruding from the semiconductor element. Is a resin-sealed semiconductor device comprising a sealing resin that seals the outer periphery of each of the land structures, and a bottom surface of each of the land constituent groups has a protruding portion.

【0017】また、金属板よりなるフレーム本体と、前
記フレーム本体の領域内に配設されて、薄厚部により前
記フレーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも
突出して形成された複数のランド構成体とよりなるター
ミナルランドフレームを用いて形成された樹脂封止型半
導体装置であって、第1のランド構成体群上に搭載され
た半導体素子と、前記半導体素子の周辺に配置され、前
記半導体素子と金属細線により電気的に接続された第2
のランド構成体群と、前記各ランド構成体群の底面を突
出させて前記半導体素子の外囲を封止した封止樹脂とよ
りなり、前記各ランド構成体群の上面部は溝部を有して
いる樹脂封止型半導体装置である。
Also, a frame main body made of a metal plate and a plurality of lands arranged in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed so as to protrude from the frame main body. A resin-encapsulated semiconductor device formed by using a terminal land frame made of a body, comprising: a semiconductor element mounted on a first land structure group; and a semiconductor element disposed around the semiconductor element; A second element electrically connected to the element by a thin metal wire
And a sealing resin that seals the outer periphery of the semiconductor element by protruding a bottom surface of each of the land constituent groups, and an upper surface portion of each of the land constituent groups has a groove. Resin-sealed semiconductor device.

【0018】そして、封止樹脂に封止された側のランド
構成体の上面の面積が、前記封止樹脂から露出した側の
ランド構成体の底面の面積よりも大きく、封止された側
のランド構成体の上面のエッジ部は曲面を有している樹
脂封止型半導体装置である。
The area of the top surface of the land structure sealed on the sealing resin is larger than the area of the bottom surface of the land structure exposed from the sealing resin, and The edge portion on the upper surface of the land structure is a resin-sealed semiconductor device having a curved surface.

【0019】また、金属板よりなるフレーム本体と、前
記フレーム本体の領域内であって、薄厚部により前記フ
レーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出
して形成された半導体素子が搭載されるダイパッド部
と、前記フレーム本体の領域内であって前記ダイパッド
部の周囲に配設されて、薄厚部により前記フレーム本体
と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成さ
れた複数のランド構成体とよりなるターミナルランドフ
レームを用いて形成された樹脂封止型半導体装置であっ
て、前記ダイパッド部上に搭載された半導体素子と、前
記半導体素子の周辺に配置され、前記半導体素子と金属
細線により電気的に接続されたランド構成体群と、前記
ランド構成体群の底面とダイパッド部の底面とを突出さ
せて前記半導体素子の外囲を封止した封止樹脂とよりな
り、前記各ランド構成体群および前記ダイパッド部の底
面部は突出部を有している樹脂封止型半導体装置であ
る。
Further, a frame main body made of a metal plate and a semiconductor element formed in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body are mounted. A die pad portion, and a plurality of land structures disposed in the region of the frame main body and around the die pad portion, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body. A resin-encapsulated semiconductor device formed using a terminal land frame comprising: a semiconductor element mounted on the die pad portion; and a semiconductor element disposed on the periphery of the semiconductor element; An electrically connected land structure group, and the semiconductor element formed by projecting a bottom surface of the land structure group and a bottom surface of a die pad portion. More become sealing resin and the outer circumference is sealed, the bottom portion of said each land structure group and the die pad portion is to have a resin-sealed semiconductor device has a protrusion.

【0020】また、金属板よりなるフレーム本体と、前
記フレーム本体の領域内であって、薄厚部により前記フ
レーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出
して形成された半導体素子が搭載されるダイパッド部
と、前記フレーム本体の領域内であって前記ダイパッド
部の周囲に配設されて、薄厚部により前記フレーム本体
と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成さ
れた複数のランド構成体とよりなるターミナルランドフ
レームを用いて形成された樹脂封止型半導体装置であっ
て、前記ダイパッド部上に搭載された半導体素子と、前
記半導体素子の周辺に配置され、前記半導体素子と金属
細線により電気的に接続されたランド構成体群と、前記
ランド構成体群の底面とダイパッド部の底面とを突出さ
せて前記半導体素子の外囲を封止した封止樹脂とよりな
り、前記各ランド構成体群および前記ダイパッド部の上
面部は溝部を有している樹脂封止型半導体装置である。
Further, a frame main body made of a metal plate and a semiconductor element formed in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body are mounted. A die pad portion, and a plurality of land structures disposed in the region of the frame main body and around the die pad portion, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body. A resin-encapsulated semiconductor device formed using a terminal land frame comprising: a semiconductor element mounted on the die pad portion; and a semiconductor element disposed on the periphery of the semiconductor element; An electrically connected land structure group, and the semiconductor element formed by projecting a bottom surface of the land structure group and a bottom surface of a die pad portion. More become sealing resin and the outer circumference seal, said upper surface portion of each land structure group and the die pad portion is to have a resin-sealed semiconductor device having a groove.

【0021】そして、封止樹脂に封止された側のランド
構成体の上面の面積が、前記封止樹脂から露出した側の
ランド構成体の底面の面積よりも大きく、封止された側
のランド構成体の上面のエッジ部は曲面を有しており、
前記封止樹脂に封止された側のダイパッド部の上面の面
積が、前記封止樹脂から露出した側のダイパッド部の底
面の面積よりも大きく、封止された側のダイパッド部の
上面のエッジ部は曲面を有している樹脂封止型半導体装
置である。
The area of the upper surface of the land structure on the side sealed with the sealing resin is larger than the area of the bottom surface of the land structure on the side exposed from the sealing resin. The edge portion of the upper surface of the land structure has a curved surface,
The area of the upper surface of the die pad portion on the side sealed with the sealing resin is larger than the area of the bottom surface of the die pad portion on the side exposed from the sealing resin, and the edge of the upper surface of the die pad portion on the sealed side The portion is a resin-sealed semiconductor device having a curved surface.

【0022】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法
は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレーム本体
の領域内に配設されて、薄厚部により前記フレーム本体
と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成さ
れた複数のランド構成体群とよりなり、前記ランド構成
体群は前記フレーム本体から突出した方向への押圧力に
より、前記薄厚部が破断されて前記ランド構成体群が前
記フレーム本体より分離される構成であるターミナルラ
ンドフレームを用意する工程と、前記ターミナルランド
フレームの前記ランド構成体群の一部のランド構成体の
突出した側に半導体素子を搭載する工程と、搭載した半
導体素子とランド構成体とを金属細線により電気的に接
続する工程と、前記半導体素子の外囲であって、前記タ
ーミナルランドフレームの上面側のみを封止樹脂により
封止し、樹脂封止型半導体装置を形成する工程と、前記
ターミナルランドフレームの上面側の封止樹脂を切断す
る工程と、前記ターミナルランドフレームの前記フレー
ム本体を固定した状態で前記フレーム本体の底面側から
前記ランド構成体の底面側に対して押圧力を印加し、ラ
ンド構成体群とフレーム本体とを接続している薄厚部を
破断させ、前記フレーム本体から樹脂封止型半導体装置
を分離させ、整列する樹脂封止型半導体装置の製造方法
である。
According to the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, there is provided a frame main body made of a metal plate, disposed in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and The land structure group includes a plurality of land structure groups formed so as to protrude from the main body, and the land structure group is broken by a pressing force in a direction protruding from the frame body, so that the thin portion is broken and the land structure group is formed. Preparing a terminal land frame having a configuration separated from the frame main body; mounting a semiconductor element on a protruding side of a part of the land structures of the land structure group of the terminal land frame; Electrically connecting the semiconductor element and the land structure to each other with a thin metal wire; Encapsulating only the upper surface of the terminal land with a sealing resin to form a resin-encapsulated semiconductor device; cutting the sealing resin on the upper surface of the terminal land frame; In a state where the frame body is fixed, a pressing force is applied from the bottom side of the frame body to the bottom side of the land structure to break a thin portion connecting the land structure group and the frame body, This is a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device in which a resin-sealed semiconductor device is separated from a frame body and aligned.

【0023】また、金属板よりなるフレーム本体と、前
記フレーム本体の領域内であって、薄厚部により前記フ
レーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出
して形成された半導体素子が搭載されるダイパッド部
と、前記フレーム本体の領域内であって前記ダイパッド
部の周囲に配設されて、薄厚部により前記フレーム本体
と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成さ
れた複数のランド構成体とよりなり、前記ダイパッド部
および前記ランド構成体は、前記フレーム本体から突出
した方向への押圧力により、前記薄厚部が破断されて前
記ランド構成体が前記フレーム本体より分離される構成
であるターミナルランドフレームを用意する工程と、前
記ターミナルランドフレームの前記ダイパッド部の突出
した側に半導体素子を搭載する工程と、搭載した半導体
素子とランド構成体とを金属細線により電気的に接続す
る工程と、前記半導体素子の外囲であって、前記ターミ
ナルランドフレームの上面側のみを封止樹脂により封止
する工程と、前記ターミナルランドフレームの上面側の
封止樹脂を切断する工程と、前記ターミナルランドフレ
ームの前記フレーム本体を固定した状態で前記フレーム
本体の底面側から前記ランド構成体の底面側と前記ダイ
パッド部の底面側とに対して押圧力を印加し、ランド構
成体群およびダイパッド部とフレーム本体とを接続して
いる薄厚部を破断させ、前記フレーム本体から樹脂封止
型半導体装置を分離させ整列する樹脂封止型半導体装置
の製造方法である。
Further, a frame main body made of a metal plate and a semiconductor element formed in the region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body are mounted. A die pad portion, and a plurality of land structures disposed in the region of the frame main body and around the die pad portion, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body. Wherein the die pad portion and the land structure are configured such that the thin portion is broken by a pressing force in a direction protruding from the frame body, and the land structure is separated from the frame body. A step of preparing a land frame; and a step of preparing a semiconductor element on a side of the terminal land frame where the die pad portion protrudes. Mounting, electrically connecting the mounted semiconductor element and the land structure with a thin metal wire, and sealing only the upper surface side of the terminal land frame around the semiconductor element with a sealing resin. Stopping, cutting the sealing resin on the upper surface side of the terminal land frame, and fixing the frame main body of the terminal land frame to the bottom side of the land structure from the bottom side of the frame main body. A pressing force is applied to the bottom surface side of the die pad portion to break the land structure group and the thin portion connecting the die pad portion and the frame main body, and separate the resin-sealed semiconductor device from the frame main body. This is a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device which is aligned by being aligned.

【0024】前記構成の通り、本発明のターミナルラン
ドフレームは、樹脂封止型半導体装置を構成した際、そ
の外部電極となるランド構成体を設けたものであり、そ
のランド構成体は、一方向の押圧力、例えば突き上げ力
により、ランド構成体とフレーム本体とを接続している
部分である薄厚部を破断させることにより、フレーム本
体から分離することができるので、リードカット工程や
リードベンド工程をなくし、容易に樹脂封止型半導体装
置を得ることができるものである。これは比較的、精度
が要求された従来のリードフレームにおけるリードカッ
ト工程、リードベンド工程に比べて、工程自体が、突き
上げ処理により樹脂封止型半導体装置をフレームから分
離する、という比較的単純な処理であり、不良、破壊、
変形等が発生することがなくなるため、容易に樹脂封止
型半導体装置を得ることができるものである。
As described above, the terminal land frame of the present invention is provided with a land structure serving as an external electrode when a resin-sealed semiconductor device is formed, and the land structure is unidirectional. Pressing force, for example, by pushing up force, by breaking the thin portion which is the portion connecting the land structure and the frame main body, it is possible to separate from the frame main body, so that the lead cutting process and the lead bend process Thus, a resin-sealed semiconductor device can be easily obtained. This is a relatively simple process, in which the process itself separates the resin-encapsulated semiconductor device from the frame by a push-up process, compared to the lead cutting process and the lead bending process in a conventional lead frame that required relatively high accuracy. Processing, failure, destruction,
Since deformation and the like do not occur, a resin-sealed semiconductor device can be easily obtained.

【0025】またランド構成体、またはランド構成体お
よびダイパッド部において、その突出した上面はコイニ
ングされてキノコ状を構成しているので、本発明のター
ミナルランドフレームに対して、半導体素子を搭載し、
樹脂封止した際には、封止樹脂の食いつきを良好にし、
封止樹脂の密着性を向上させることができる。
In the land structure, or the land structure and the die pad portion, the protruding upper surface is coined to form a mushroom shape. Therefore, the semiconductor element is mounted on the terminal land frame of the present invention.
When sealed with resin, make the sealing resin bite well,
The adhesiveness of the sealing resin can be improved.

【0026】また、ランド構成体、またはランド構成体
およびダイパッド部の上面の溝部と樹脂の密着により実
装接続の機械的、熱的信頼性が向上し、金属細線にかか
る応力が減少する。また、底面の突出部により実装時に
はんだフィレットが適切に形成でき、接続信頼性が向上
する。また、補強ランド構成体を配することにより、ラ
ンド構成体、またはランド構成体およびダイパッド部に
かかる応力を減少させ、実装信頼性を飛躍的に向上する
ことができる。
Further, due to the close contact of the resin with the land structure or the groove on the upper surface of the land structure and the die pad portion, the mechanical and thermal reliability of the mounting connection is improved, and the stress applied to the fine metal wire is reduced. In addition, the solder fillet can be appropriately formed at the time of mounting by the projecting portion on the bottom surface, and connection reliability is improved. Further, by arranging the reinforcing land structure, the stress applied to the land structure or the land structure and the die pad portion can be reduced, and the mounting reliability can be remarkably improved.

【0027】また、ターミナルランドフレームの製造方
法においては、エッチング加工によりランド構成体、ま
たはランド構成体およびダイパッド部に、上面には溝部
あるいは下面には、突出部を加工し、前記加工した所定
のランド構成体、またはランド構成体およびダイパッド
部に金型により金属板の一部を打ち抜き加工する際、完
全に打ち抜かず、途中でパンチ部材の押圧を停止させる
ことで、半切断状態を形成し、金属板の押圧された部分
を切り離すことなく、金属板の本体に接続させて残存さ
せることができる。
In the method for manufacturing a terminal land frame, a land structure or a land structure and a die pad portion are formed by etching, a groove portion is formed on an upper surface, or a protruding portion is formed on a lower surface. When a part of a metal plate is punched by a mold into a land structure, or a land structure and a die pad portion, a half-cut state is formed by stopping the pressing of the punch member halfway without completely punching out, The pressed portion of the metal plate can be left connected to the main body of the metal plate without being separated.

【0028】また、金属板のランド構成体を形成する部
分に接触するパンチ部材の接触面積はダイ部に設けた開
口部の開口面積よりも小さく、金型により金属板の一部
を押圧して金属板から突出したランド構成体、またはラ
ンド構成体およびダイパッド部を形成する工程において
は、金属板から突出したランド構成体の上面部分の面積
が、金属板側に接続したランド構成体の底面部分の面積
よりも大きく、ランド構成体の突出した側の上面のエッ
ジ部は抜きダレによる曲面を有しているランド構成体を
形成するものである。
The contact area of the punch member that contacts the portion of the metal plate forming the land structure is smaller than the opening area of the opening provided in the die portion. In the step of forming the land structure protruding from the metal plate, or the land structure and the die pad portion, the area of the top surface portion of the land structure protruding from the metal plate is reduced by the bottom surface portion of the land structure connected to the metal plate side. Is larger than the area of the land structure, and the edge portion of the upper surface on the protruding side of the land structure forms a land structure having a curved surface formed by cutting out.

【0029】この構造により、形成されたランド構成体
は、それが突出した方向に対しての押圧力、すなわちラ
ンド構成体の底面部分側からの押圧力により、容易に分
離されるものであり、またそれが突出した方向、すなわ
ちランド構成体の上面部分からの押圧力によっては分離
しないものであり、一方向からの押圧力にのみ分離する
構造となる。
According to this structure, the formed land structure is easily separated by a pressing force in a direction in which the land structure protrudes, that is, a pressing force from the bottom side of the land structure. In addition, it does not separate according to the direction in which it protrudes, that is, the pressing force from the upper surface of the land structure, and has a structure that separates only into the pressing force from one direction.

【0030】したがって本発明の樹脂封止型半導体装置
は、ランド構成体がその底面に配列され、またランド構
成体が封止樹脂の底面よりも突出して設けられ、基板実
装時のスタンドオフが形成されているものである。ここ
で樹脂封止型半導体装置のランド構成体の突出量は、フ
レーム本体の厚み量からランド構成体が突出した量を差
し引いた量に突出部の寸法を足した量となり、ランド構
成体の外部ランド電極としてのスタンドオフが、ターミ
ナルランドフレームを用いることにより、別工程により
スタンドオフを形成せずに自己整合的に形成されるもの
である。また、半導体素子搭載用ランドのスタンドオフ
高さを高くすることにより実装基板との空隙を確保でき
実装信頼性が向上する。
Therefore, in the resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, the land members are arranged on the bottom surface thereof, and the land members are provided so as to protrude from the bottom surface of the sealing resin. Is what is being done. Here, the amount of protrusion of the land member of the resin-encapsulated semiconductor device is equal to the amount obtained by subtracting the amount of protrusion of the land member from the thickness of the frame body and the dimension of the protrusion. A standoff as a land electrode is formed in a self-aligned manner by using a terminal land frame without forming a standoff in a separate process. In addition, by increasing the stand-off height of the semiconductor element mounting land, a gap with the mounting substrate can be secured, and mounting reliability is improved.

【0031】また、本発明のターミナルランドフレーム
を用いることにより、本発明の樹脂封止型半導体装置の
製造方法においては、半導体素子を搭載し、一括で樹脂
封止した後、金属板を切断することなく、封止樹脂部の
みを所定の位置で切断し、樹脂封止型半導体装置を個別
に区切った後、ランド構成体、ダイパッド部分の下方か
らの突き上げによりフレーム自体を除去するだけで、底
面部分に半導体素子と電気的に接続したランド電極が配
列された樹脂封止型半導体装置を得ることができる。
Further, in the method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device of the present invention by using the terminal land frame of the present invention, the semiconductor element is mounted, and the metal plate is cut after the resin is sealed at once. Without cutting only the sealing resin part at a predetermined position and separating the resin sealing type semiconductor device individually, the land itself, the frame itself is removed by pushing up from below the die pad portion, and the bottom surface is removed. A resin-encapsulated semiconductor device in which land electrodes electrically connected to a semiconductor element are arranged in a portion can be obtained.

【0032】また、本発明のターミナルランドフレーム
を用いて樹脂封止型半導体装置を製造する際、樹脂封止
時において、ランド底面部分への樹脂バリの進入を防止
でき、加えて、ランド電極の外部電極としてのスタンド
オフが確保できるものである。
Further, when manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device using the terminal land frame of the present invention, it is possible to prevent resin burrs from entering the land bottom portion during resin encapsulation. Standoff as an external electrode can be secured.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、本発明のターミナルランド
フレームおよびその製造方法ならびに樹脂封止型半導体
装置およびその製造方法の一実施形態について、図面を
参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of a terminal land frame and a method of manufacturing the same, a resin-sealed semiconductor device and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0034】まず本実施形態の樹脂封止型半導体装置お
よびその製造方法で用いるターミナルランドフレームに
ついて図面を参照しながら説明する。
First, a terminal land frame used in the resin-encapsulated semiconductor device and the method of manufacturing the same according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.

【0035】図1は本実施形態のターミナルランドフレ
ームを示す平面図である。図2は本実施形態のターミナ
ルランドフレームを示す断面図であり、図1において、
A−A1箇所の断面図を示している。図3は図1に示し
たターミナルランドフレームのランド構成体を示す図で
あり、図3(a)はランド構成体を示す平面図であり、
図3(b)は図3(a)のa−a1箇所のランド構成体
の断面図であり、図3(c)はランド構成体を示す底面
図である。
FIG. 1 is a plan view showing a terminal land frame according to the present embodiment. FIG. 2 is a sectional view showing the terminal land frame of the present embodiment.
The sectional view of AA1 part is shown. FIG. 3 is a diagram showing a land structure of the terminal land frame shown in FIG. 1, and FIG. 3 (a) is a plan view showing the land structure.
FIG. 3B is a cross-sectional view of the land structure at aa1 point in FIG. 3A, and FIG. 3C is a bottom view showing the land structure.

【0036】図1〜図3に示すように本実施形態のター
ミナルランドフレームは、銅材または42−アロイ等の
通常のリードフレームに用いられている金属板よりなる
フレーム本体10と、そのフレーム本体10の領域内に
格子状に配設されて、薄厚部11によりフレーム本体1
0と接続し、かつフレーム本体10よりも突出して形成
された複数のランド構成体12とよりなるものである。
すなわち、フレーム本体10、ランド構成体12および
薄厚部11は同一の金属板より一体で形成されているも
のである。そして本実施形態では、ランド構成体12の
上面には溝部13が形成され、さらに突出部14がエッ
チングあるいはプレス加工により形成されているもので
ある。
As shown in FIGS. 1 to 3, the terminal land frame of the present embodiment comprises a frame main body 10 made of a metal plate used for a normal lead frame such as a copper material or a 42-alloy, and the frame main body. 10 are arranged in a grid in the area of
0 and a plurality of land components 12 formed to protrude from the frame body 10.
That is, the frame body 10, the land structure 12, and the thin portion 11 are integrally formed from the same metal plate. In the present embodiment, the groove 13 is formed on the upper surface of the land structure 12, and the protrusion 14 is formed by etching or pressing.

【0037】そしてランド構成体12は、フレーム本体
10から突出した方向への押圧力により、薄厚部11が
破断されてランド構成体12がフレーム本体10より分
離される構成を有するものである。なお、ランド構成体
12の格子状の配列は、千鳥格子状、碁盤の目格子状、
またはランダムに面配置してもよいが、搭載する半導体
素子との金属細線による接続に好適な配置を採用する。
The land structure 12 has a structure in which the thin portion 11 is broken by a pressing force in a direction protruding from the frame body 10 and the land structure 12 is separated from the frame body 10. In addition, the grid-like arrangement of the land structures 12 is a staggered grid, a grid pattern of a grid,
Alternatively, the surface may be randomly arranged, but an arrangement suitable for connection with a semiconductor element to be mounted by a thin metal wire is employed.

【0038】本実施形態のターミナルランドフレーム
は、ランド構成体12の底面部分12aに対して、突出
した方向への押圧力を印加することにより、薄厚部11
の破線部分で破断されることになり、フレーム本体10
からランド構成体12が分離するものである。ここで、
薄厚部11はフレーム本体10自体に対して、打ち抜き
加工の半切断手段により形成される「繋ぎ部分」であ
り、フレーム本体10のランド構成体を形成したい部分
をパンチ部材を用いて打ち抜き加工し、完全に打ち抜か
ずに、途中、好ましくは半分程度の打ち抜きで止め、途
中まで打ち抜かれた部分がフレーム本体10から突出
し、その突出した部分がランド構成体12を構成すると
ともに、フレーム本体10と切断されずに接続している
繋ぎ部分が薄厚部11を構成するものである。したがっ
て、薄厚部11は極薄であり、ランド構成体12の底面
部分12aに対して、突出した方向への押圧力を印加す
る程度で、薄厚部11が破断する厚みを有するものであ
る。
In the terminal land frame of the present embodiment, by applying a pressing force in a protruding direction to the bottom surface portion 12a of the land structure 12, the thin portion 11
Of the frame body 10
Is separated from the land structure 12. here,
The thin portion 11 is a “joining portion” formed by half-cutting means of the punching process on the frame body 10 itself, and a portion of the frame body 10 where a land structure is desired to be formed is punched using a punch member. Without completely punching out, it is stopped by halfway, preferably by half the punching, the part punched out halfway protrudes from the frame main body 10, and the protruding part constitutes the land component 12 and is cut off from the frame main body 10. The connecting portions that are connected together constitute the thin portion 11. Therefore, the thin portion 11 is extremely thin, and has such a thickness that the thin portion 11 is broken only when a pressing force in a protruding direction is applied to the bottom surface portion 12a of the land structure 12.

【0039】また、フレーム本体10よりも突出して形
成されたランド構成体12の、その突出量はフレーム本
体10自体の厚みの過半数以上の突出量を有しており、
ランド構成体12がフレーム本体10から突出した方向
への押圧力により、薄厚部11が破断されてランド構成
体12がフレーム本体10より分離される構成を実現で
きるよう構成されている。例えば本実施形態では、ター
ミナルランドフレーム自体の厚み、すなわちフレーム本
体10の厚みを200[μm]とし、ランド構成体12
の突出量を140[μm]〜180[μm](フレーム
本体10の厚みの70[%]〜90[%])としてい
る。なお、フレーム本体の厚みは、200[μm]に限
定するものではなく、必要に応じて、400[μm]の
厚型のフレームとしてもよい。また、ランド構成体12
の突出量に関しても、実施形態では過半数以上のフレー
ム本体厚みの70[%]〜90[%]の突出量とした
が、半数以下の突出量としてもよく、薄厚部11部分が
破断される範囲で、突出量を設定できるものである。
Further, the projecting amount of the land component 12 formed so as to project from the frame body 10 has a projecting amount that is more than a half of the thickness of the frame body 10 itself,
The configuration is such that the thin portion 11 is broken by the pressing force in the direction in which the land component 12 protrudes from the frame main body 10, and the land component 12 is separated from the frame main body 10. For example, in the present embodiment, the thickness of the terminal land frame itself, that is, the thickness of the frame body 10 is set to 200 [μm], and the land structure 12
Is set to 140 [μm] to 180 [μm] (70 [%] to 90 [%] of the thickness of the frame body 10). The thickness of the frame body is not limited to 200 [μm], but may be a 400 [μm] thick frame as needed. In addition, the land structure 12
In the embodiment, the protrusion amount is set to 70% to 90% of the frame body thickness of the majority or more, but may be set to the protrusion amount of the half or less, and the range in which the thin portion 11 is broken. The projection amount can be set.

【0040】また本実施形態のターミナルランドフレー
ムは、その表面がメッキ処理されたものであり、必要に
応じて例えば、ニッケル(Ni),パラジウム(Pd)
および金(Au)などの金属が積層されて適宜メッキさ
れているものである。メッキ処理については、溝部13
あるいは突出部14のエッチング加工後あるいは、ラン
ド構成体12を成形した後に行ってもよい。
The surface of the terminal land frame of the present embodiment is plated. If necessary, for example, nickel (Ni), palladium (Pd)
And a metal such as gold (Au) is laminated and appropriately plated. For plating, the groove 13
Alternatively, it may be performed after the etching process of the protruding portion 14 or after the land structure 12 is formed.

【0041】また本実施形態のターミナルランドフレー
ムにおいては、ランド構成体12の突出した上面部分
は、コイニングと称されるプレス成形により、その突出
した上面形状が上面平坦なキノコ状を構成するものであ
る。このコイニングによる形状と上部の溝部13の働き
により、ターミナルランドフレームに対して、半導体素
子を搭載し、樹脂封止した際、封止樹脂のランド構成体
への食いつきを良好にし、封止樹脂との密着性を向上さ
せ、片面封止であっても樹脂封止の信頼性を得ることが
できるものである。
In the terminal land frame of the present embodiment, the protruding upper surface of the land structure 12 is formed into a mushroom shape having a flat upper surface by press molding called coining. is there. Due to the shape of the coining and the action of the upper groove 13, when the semiconductor element is mounted on the terminal land frame and sealed with a resin, the sealing resin can be better engaged with the land structure, and the sealing resin and the sealing resin can be removed. And the reliability of resin sealing can be obtained even with single-sided sealing.

【0042】また本実施形態のターミナルランドフレー
ムでは、あえて半導体素子が搭載される部材であるダイ
パッド部を設けていないが、フレーム本体10の領域内
に設けたランド構成体12の群の内、一部のランド構成
体を半導体素子の搭載部として使用し、半導体素子の支
持用のランド構成体とすることができる。
In the terminal land frame of this embodiment, the die pad portion, which is a member on which the semiconductor element is mounted, is not provided, but one of the groups of the land structures 12 provided in the region of the frame body 10 is provided. The land structure of the portion can be used as a mounting portion of the semiconductor element, and can be used as a land structure for supporting the semiconductor element.

【0043】なお、ランド構成体12の数は、搭載する
半導体素子のピン数などにより、その数を適宜設定でき
るものである。そして図1に示すように、ランド構成体
12はフレーム本体10の領域に形成するが、左右・上
下に連続して形成できるものである。またランド構成体
12の形状は角形としているが、円形や長方形でもよ
く、また大きさは、ターミナルランドフレーム内ですべ
て同一としてもよいし、樹脂封止型半導体装置を構成
し、ランド電極とした場合、基板実装の際の応力緩和の
ために、周辺部に位置するランド構成体12を大きくす
るようにしてもよい。本実施形態では、ランド構成体1
2の上面の大きさは、半導体素子を搭載し、電気的接続
手段として、金線等の金属細線により接続する際、ボン
ディング可能な大きさであればよく実装接続信頼性に適
した100[μm]φ以上の大きさとしている。
The number of land structures 12 can be appropriately set according to the number of pins of a semiconductor element to be mounted. Then, as shown in FIG. 1, the land structure 12 is formed in the region of the frame main body 10, but can be formed continuously in the left, right, up and down directions. In addition, although the shape of the land structure 12 is square, it may be circular or rectangular, and the size may be all the same in the terminal land frame, or may constitute a resin-encapsulated semiconductor device and serve as a land electrode. In this case, the land structure 12 located in the peripheral portion may be enlarged in order to relieve stress at the time of mounting the substrate. In the present embodiment, the land structure 1
The size of the top surface of the semiconductor device 2 is 100 [μm suitable for mounting connection reliability as long as the semiconductor device is mounted and connected by a thin metal wire such as a gold wire as an electrical connection means. ] Is larger than φ.

【0044】また、本実施形態で示したターミナルラン
ドフレームは、従来のようなインナーリード部、アウタ
ーリード部、ダイパッド部などを有さず、ランド電極と
してランド構成体12を有し、そのランド構成体12を
半導体素子が搭載される面内に格子状、千鳥状に配列す
ることにより、このターミナルランドフレームを用いて
樹脂封止型半導体装置を構成した場合、底面にランド電
極を備えた樹脂封止型半導体装置を実現することができ
る。また従来のように電極となる構成が、ビーム状のリ
ード構成ではなく、ランド構成体12であるため、それ
らを面状に配置することができ、ランド構成体12の配
置の自由度が向上し、多ピン化に対応することができ
る。勿論、搭載する半導体素子のピン数により、ランド
構成体12の配置は設定するものであり、従来のような
一連の配置でもよい。
Further, the terminal land frame shown in the present embodiment does not have the inner lead portion, the outer lead portion, the die pad portion and the like as in the prior art, has the land structure 12 as the land electrode, and has the land structure. By arranging the bodies 12 in a lattice or staggered pattern on the surface on which the semiconductor elements are mounted, a resin-encapsulated semiconductor device is formed using this terminal land frame. It is possible to realize a fixed semiconductor device. Further, since the configuration serving as the electrode is not the beam-shaped lead configuration but the land configuration 12 as in the related art, they can be arranged in a plane, and the degree of freedom in the arrangement of the land configuration 12 is improved. It is possible to cope with the increase in the number of pins. Of course, the arrangement of the land structures 12 is set according to the number of pins of the semiconductor element to be mounted, and may be a series of arrangements as in the related art.

【0045】さらに本実施形態のターミナルランドフレ
ームは、半導体素子を搭載する以外、コンデンサ等の電
子部品全般を搭載することができるものであり、利用分
野は半導体分野に限定するものではない。
Further, the terminal land frame of the present embodiment can mount electronic components in general, such as a capacitor, in addition to mounting a semiconductor element, and the application field is not limited to the semiconductor field.

【0046】次に本実施形態のターミナルランドフレー
ムの製造方法について説明する。
Next, a method for manufacturing the terminal land frame according to the present embodiment will be described.

【0047】図4はターミナルランドフレームの製造方
法を示す断面図であり、エッチング工程を示す図であ
る。図5はターミナルランドフレームの製造方法を示す
断面図であり、プレス工程を示す図である。なお、図
4、図5はランド構成体部分の断面を示した工程ごとの
断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a method of manufacturing a terminal land frame, showing an etching step. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a terminal land frame, and is a view illustrating a pressing step. FIGS. 4 and 5 are cross-sectional views showing a cross-section of a land structure portion for each process.

【0048】まず図4(a)に示すように、第1の工程
として、フレームを構成する銅材等よりなる金属板15
に対して、上面と下面にそれぞれエッチングレジスト膜
16,17を形成する。
First, as shown in FIG. 4A, as a first step, a metal plate 15 made of a copper material or the like constituting a frame is formed.
In contrast, etching resist films 16 and 17 are formed on the upper and lower surfaces, respectively.

【0049】次に図4(b)に示すように、金属板15
の上面に形成したエッチングレジスト膜16に対して、
少なくとも突出部を形成したい部分以外のエッチングレ
ジスト膜を除去して開口部18を形成する。これはいわ
ゆるエッチングしない領域のマスクを形成するものであ
る。また、金属板15の下面に形成したエッチングレジ
スト膜17に対して、少なくとも溝部を形成したい部分
のエッチングレジスト膜を除去して開口部19を形成す
る。これはいわゆるエッチングしたい領域の窓開けを行
うものである。
Next, as shown in FIG.
With respect to the etching resist film 16 formed on the upper surface of
The opening 18 is formed by removing at least the etching resist film other than the portion where the protrusion is to be formed. This is to form a so-called non-etched region mask. The opening 19 is formed by removing at least a portion of the etching resist film 17 on the lower surface of the metal plate 15 where the groove is to be formed. This is to open a window in an area to be etched.

【0050】次に図4(c)に示すように、金属板15
に対してエッチング処理して、開口部18,19から露
出した金属板部分を加工して溝部13、突出部14を形
成する。
Next, as shown in FIG.
Then, the metal plate portion exposed from the openings 18 and 19 is processed to form the groove 13 and the protrusion 14.

【0051】そして図4(d)に示すように、金属板1
5の上面、下面のエッチングレジスト膜を除去すること
により、金属板15に対して溝部13と、突出部14を
有したフレーム構成体20を形成するものである。
Then, as shown in FIG.
By removing the etching resist film on the upper surface and the lower surface of 5, a frame structure 20 having a groove 13 and a protrusion 14 in the metal plate 15 is formed.

【0052】次に形成したフレーム構成体20に対して
プレス加工し、ターミナルランドフレームを完成する方
法について説明する。
Next, a method of pressing the formed frame structure 20 to complete the terminal land frame will be described.

【0053】図5(a)に示すように、溝部13、突出
部14が形成されたフレーム構成体20を打ち抜き金型
のダイ部21に載置し、フレーム構成体20の上方から
押え金型22により押さえる。ここでダイ部21には、
開口部23が設けられている。また押え金型22には、
フレーム構成体20に対してプレスするパンチ部材24
が設けられており、その先端部のフレーム構成体20と
接する部分には、フレーム構成体20の突出部14の突
出量を吸収する凹部25を有し、突出部14の逃がし加
工が施されている。すなわち、パンチ部材24によりフ
レーム構成体20が押圧され、打ち抜き加工された際、
フレーム構成体20の押圧された箇所が開口部23に打
ち抜かれる構造を有している。
As shown in FIG. 5A, the frame member 20 having the grooves 13 and the protrusions 14 is placed on a die 21 of a punching die, and the pressing die is positioned from above the frame member 20. Hold down with 22. Here, the die 21
An opening 23 is provided. Also, in the presser die 22,
Punch member 24 for pressing against frame structure 20
Is provided at a portion of the leading end portion thereof that is in contact with the frame member 20. The concave portion 25 absorbs the amount of protrusion of the projecting portion 14 of the frame member 20, and the projecting portion 14 is subjected to relief processing. I have. That is, when the frame member 20 is pressed by the punch member 24 and punched,
The pressed part of the frame structure 20 has a structure in which the opening 23 is punched.

【0054】次に図5(b)に示すように、ダイ部21
上の所定の位置に固定したフレーム構成体20に対し
て、その上方からパンチ部材24により、押圧による打
ち抜き加工を行い、フレーム構成体20の溝部13、突
出部14の領域をダイ部21側の開口部23側に突出す
るように押圧して、フレーム構成体20の所定箇所を半
切断状態にし、ランド構成体12を形成する。すなわ
ち、薄厚部11によりフレーム構成体20である金属板
と接続されて残存し、かつ金属板の本体部よりも突出し
て形成されたランド構成体12を形成するものである。
Next, as shown in FIG.
A punching process is performed on the frame structure 20 fixed at a predetermined position on the upper side by a punch member 24 from above, so that the region of the groove 13 and the protrusion 14 of the frame structure 20 is By pressing so as to protrude toward the opening 23 side, a predetermined portion of the frame structure 20 is cut into a half-cut state, and the land structure 12 is formed. In other words, the land portion 12 is formed by connecting the thin portion 11 to the metal plate serving as the frame member 20 and remaining and protruding from the main body of the metal plate.

【0055】本実施形態では、パンチ部材24によりフ
レーム構成体20の一部を打ち抜き加工する際、完全に
打ち抜かず、途中でパンチ部材24の押圧を停止させる
ことで、半切断状態を形成し、フレーム構成体20の押
圧された部分を切り離すことなく、フレーム構成体20
を構成する金属板の本体に接続させて残存させるもので
ある。また、フレーム構成体20のランド構成体12を
形成する部分に接触するパンチ部材24の接触面積は、
ダイ部21に設けた開口部23の開口面積よりも小さ
く、そのパンチ部材24により、フレーム構成体20の
一部を押圧して、フレーム構成体20から突出したラン
ド構成体12を形成する工程においては、フレーム構成
体20から突出したランド構成体12の突出した側の上
面部分の面積が、底面部分の面積よりも大きく、ランド
構成体12の突出した側の上面のエッジ部は抜きダレに
よる曲面を有しているランド構成体12を形成するもの
である。この構造により、形成されたランド構成体12
は、それが突出した方向に対しての押圧力、すなわちラ
ンド構成体12の底面部分側からの押圧力により、容易
に分離されるものであり、またそれが突出した方向、す
なわちランド構成体12の突出した側である上面部分か
らの押圧力によっては分離しないものであり、一方向か
らの押圧力にのみ分離する構造となる。
In the present embodiment, when a part of the frame structure 20 is punched by the punch member 24, the punch is not completely punched out, and the pressing of the punch member 24 is stopped halfway to form a half-cut state. Without separating the pressed portion of the frame structure 20, the frame structure 20
Are left connected to the main body of the metal plate constituting the above. Further, the contact area of the punch member 24 that contacts a portion of the frame component 20 that forms the land component 12 is:
In the step of forming a land component 12 protruding from the frame component 20 by pressing a part of the frame component 20 by the punch member 24, the area being smaller than the opening area of the opening portion 23 provided in the die portion 21. Is that the area of the upper surface portion on the side of the land structure 12 protruding from the frame structure 20 is larger than the area of the bottom surface portion, and the edge of the upper surface on the side of the land structure 12 protruding is a curved surface formed by cutting out. To form a land structure 12 having With this structure, the formed land structure 12
Are easily separated by the pressing force in the direction in which they protrude, that is, the pressing force from the bottom surface side of the land structure 12, and in the direction in which they protrude, that is, the land structure 12 Is not separated by the pressing force from the upper surface portion, which is the protruding side, and is structured to be separated only by the pressing force from one direction.

【0056】また、ランド構成体12の突出した上面部
分に対して、コイニングと称されるプレス成形を行うこ
とにより、その突出した上面形状が上面平坦なキノコ状
を構成するようにしてもよい。このコイニングによる形
状により、ターミナルランドフレームに対して、半導体
素子を搭載し、樹脂封止した際、封止樹脂のランド構成
体への食いつきを良好にし、アンカー効果を得て、封止
樹脂との密着性をさらに向上させ、片面封止であっても
樹脂封止の信頼性を得ることができるものである。
The protruding upper surface of the land structure 12 may be subjected to press molding called coining so that the protruding upper surface has a mushroom shape with a flat upper surface. By this coining shape, when the semiconductor element is mounted on the terminal land frame and sealed with resin, the sealing resin bites into the land structure well, an anchor effect is obtained, and The adhesiveness can be further improved, and the reliability of resin sealing can be obtained even with single-sided sealing.

【0057】本実施形態において、金属板をエッチング
して形成したフレーム構成体20に対して打ち抜き加工
し、ランド構成体12を形成する際、その突出量につい
ては、フレーム構成体20を構成している金属板自体の
厚みの過半数以上とし、本実施形態では、200[μ
m]の金属板の厚みに対して、140[μm]〜180
[μm](金属板自体の厚みの70[%]〜90
[%])突出したランド構成体12を形成している。し
たがって、突出して形成されたランド構成体12は、金
属板の本体に対して、極めて薄い厚みの薄厚部11によ
り接続されていることになる。本実施形態では、薄厚部
11の厚みとしては、20[μm]〜60[μm](金
属板自体の厚みの10[%]〜30[%])であり、ラ
ンド構成体12自体が突出した方向に対しての押圧力に
より、エッチングにより突出部が加工され薄く成ってい
るため加工が容易で反りが少なくまた容易に分離される
ものである。
In the present embodiment, when the frame structure 20 formed by etching a metal plate is punched and the land structure 12 is formed, the amount of protrusion is determined by configuring the frame structure 20. And more than half of the thickness of the metal plate itself, and in this embodiment, 200 [μ
m] to 140 [μm] to 180
[Μm] (70 [%] to 90% of the thickness of the metal plate itself)
[%]) The protruding land structure 12 is formed. Therefore, the protruding land structure 12 is connected to the main body of the metal plate by the thin portion 11 having an extremely small thickness. In the present embodiment, the thickness of the thin portion 11 is 20 [μm] to 60 [μm] (10 [%] to 30 [%] of the thickness of the metal plate itself), and the land structure 12 itself protrudes. Due to the pressing force against the direction, the projection is processed and thinned by etching, so that the processing is easy, the warpage is small, and the projection is easily separated.

【0058】なお、フレーム本体の厚みは、200[μ
m]に限定するものではなく、必要に応じて、400
[μm]の厚型のフレームとしてもよい。また、ランド
構成体12の突出量に関しても、実施形態では過半数以
上の突出量としたが、半数以下の突出量としてもよく、
薄厚部11部分が破断される範囲で、突出量を設定でき
るものである。なお、エッチングの代わりにプレス加工
により溝部13、突出部14を形成することもできる。
The thickness of the frame body is 200 [μ
m], and if necessary, 400
[Μm] thick frame may be used. Also, in the embodiment, the protrusion amount of the land structure 12 is set to be a majority or more, but may be set to a half or less.
The protrusion amount can be set in a range where the thin portion 11 is broken. The grooves 13 and the protrusions 14 can be formed by press working instead of etching.

【0059】ここで本実施形態のランド構成体12を形
成する際の半切断について説明する。図6はフレーム構
成体である金属板26に対して押圧し、半切断状態を構
成した際のランド構成体12と金属板26、および薄厚
部11の部分の構造図である。
Here, a description will be given of half-cutting when forming the land structure 12 of the present embodiment. FIG. 6 is a structural view of the land component 12, the metal plate 26, and the thin portion 11 when pressed against the metal plate 26, which is a frame component, to form a half-cut state.

【0060】図6に示すように、金属板26に対して、
溝部13、突出部14を有したランド構成体12を形成
した際、金属板26のランド構成体12部分は、図5に
示したパンチ部材による打ち抜き加工によって発生した
抜きダレ部27と、パンチ部材によりせん断されたせん
断部28と、ランド構成体12自体が突出した方向に対
しての押圧力により、容易にランド構成体12が分離し
た際の破断面となる破断部29を有している。ランド構
成体12の形成としては、パンチ部材により打ち抜き加
工した際、抜きダレ部27、せん断部28、破断部29
の順に形成されていくものである。破断部29となる部
分は薄厚部11であり、図面上はモデル的に示している
関係上、相当の厚みを有しているように示されている
が、実質的には極めて薄い状態で形成されている。また
金属板26の打ち抜き加工においては、理想的な状態
は、A:B=1:1であり、パンチ部材が金属板26を
打ち抜き、金属板26の厚みの1/2を打ち抜いた時点
でパンチ部材を停止させ、打ち抜きを完了させるもので
あるが、その条件は適宜、設定するものである。
As shown in FIG. 6, the metal plate 26
When the land structure 12 having the grooves 13 and the protrusions 14 is formed, the land structure 12 of the metal plate 26 includes a punching dripping portion 27 generated by the punching process shown in FIG. The land portion 12 itself has a shearing portion 28 and a breaking portion 29 that becomes a fracture surface when the land component 12 is easily separated by a pressing force in a direction in which the land component 12 itself protrudes. As the formation of the land structure 12, when punching with a punch member, the punching dripping portion 27, the shearing portion 28, the breaking portion 29
Are formed in this order. The portion to be the break portion 29 is the thin portion 11, which is shown as having a considerable thickness in the drawing because it is modeled, but formed substantially in an extremely thin state. Have been. In the punching process of the metal plate 26, the ideal state is A: B = 1: 1, and the punch member punches the metal plate 26 and punches the metal plate 26 at half the thickness. The members are stopped to complete the punching, and the conditions are appropriately set.

【0061】また打ち抜き加工において、クリアランス
の値を変更することにより、せん断部28と破断部29
との長さを操作することができ、クリアランスを小さく
すると、せん断部28を破断部29よりも大きくするこ
とができ、逆にクリアランスを大きくすると、せん断部
28を破断部29よりも小さくすることができる。した
がって、クリアランスをゼロとし、破断部29の長さを
短く抑えることで、金属板26の抜き完了のタイミング
を遅らせ、パンチ部材が金属板26の1/2以上入って
も、抜きが完了しないようにできるものである。ここで
クリアランスは、パンチ部材の大きさとダイ部の開口部
の大きさとの差により形成された隙間の量を示してい
る。
In the blanking process, by changing the value of the clearance, the shearing portion 28 and the breaking portion 29 are changed.
When the clearance is reduced, the shear portion 28 can be made larger than the break portion 29. When the clearance is increased, the shear portion 28 can be made smaller than the break portion 29. Can be. Therefore, by setting the clearance to zero and keeping the length of the broken portion 29 short, the timing of the completion of the removal of the metal plate 26 is delayed, so that the removal is not completed even if the punch member enters more than half of the metal plate 26. Can be done. Here, the clearance indicates the amount of the gap formed by the difference between the size of the punch member and the size of the opening of the die.

【0062】次に本発明の樹脂封止型半導体装置の実施
形態について図面を参照しながら説明する。図7、図8
は本実施形態の樹脂封止型半導体装置を示す断面図であ
る。なお、本実施形態の樹脂封止型半導体装置を示す平
面図については、いわゆる矩形状を示すのみであり省略
する。また底面図についても、ランド構成体が格子状に
配列された矩形状を示す形状であるため省略する。
Next, an embodiment of the resin-sealed semiconductor device of the present invention will be described with reference to the drawings. 7 and 8
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a resin-sealed semiconductor device of the present embodiment. It should be noted that the plan view showing the resin-sealed semiconductor device of the present embodiment only shows a so-called rectangular shape and is omitted. Also, the bottom view is omitted because it has a rectangular shape in which the land components are arranged in a grid.

【0063】図7、図8に示すように、本実施形態の樹
脂封止型半導体装置は、前述したような上部に溝部、下
部に突出部を有したランド構成体よりなるターミナルラ
ンドフレームを用いて、半導体素子を搭載した半導体装
置であり、ランド構成体30の内、第1のランド構成体
30a,30b上に銀ペースト等の導電性接着剤31、
または絶縁性ペーストにより搭載、接合された半導体素
子32と、その半導体素子32の周辺に配置され、半導
体素子32と金属細線33により電気的に接続された第
2のランド構成体30c,30d,30e,30fと、
各ランド構成体30の底面を突出させて半導体素子32
の外囲を封止した封止樹脂34とよりなる樹脂封止型半
導体装置であり、ランド構成体30は突出部35を有し
ている樹脂封止型半導体装置である。なお、図7、図8
においては、ランド構成体30の上部の溝部の図示は省
略している。
As shown in FIGS. 7 and 8, the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment uses a terminal land frame having a land structure having a groove at the top and a projection at the bottom as described above. And a conductive adhesive 31 such as a silver paste on the first land members 30a and 30b of the land members 30.
Alternatively, a semiconductor element 32 mounted and bonded by an insulating paste and a second land structure 30 c, 30 d, 30 e disposed around the semiconductor element 32 and electrically connected to the semiconductor element 32 by a thin metal wire 33. , 30f,
The semiconductor element 32 is formed by projecting the bottom surface of each land structure 30.
Is a resin-encapsulated semiconductor device comprising a sealing resin 34 encapsulating the outer periphery of the semiconductor device, and the land structure 30 is a resin-encapsulated semiconductor device having a protrusion 35. 7 and 8
In the figure, the illustration of the groove on the top of the land structure 30 is omitted.

【0064】そして本実施形態において、ランド構成体
30の封止樹脂34からの突出量は、使用したターミナ
ルランドフレーム本体の厚み量からランド構成体30が
そのフレーム本体から突出した量を差し引いた量に対し
て、突出部35を加えた量であり、基板実装時のスタン
ドオフを有しているものである。
In the present embodiment, the amount of protrusion of the land structure 30 from the sealing resin 34 is determined by subtracting the amount by which the land structure 30 protrudes from the frame body from the thickness of the used terminal land frame body. And the amount of the protrusion 35 added thereto, and has a stand-off at the time of board mounting.

【0065】また、図8に示すように、半導体素子32
を搭載するランド構成体30a,30bの高さと、半導
体素子32との電気的な接続用のランド構成体30c,
30d,30e,30fの高さとに差を設けることによ
り、ランド構成体の一部を半導体素子32の下面に容易
に配することができ、半導体装置の小型化を達成でき
る。また、実装基板との間に空隙を確保しやすく機械
的、熱的信頼性が向上する。そして半導体素子搭載用の
ランド構成体30a,30bの高さを高くすることによ
り、容易にランド構成体30c,30d上の一部に半導
体素子32をオーバーハングさせることができ、小型の
半導体装置が可能になる。
Further, as shown in FIG.
And the height of the land members 30a and 30b, and the land members 30c and 30c for electrical connection with the semiconductor element 32.
By providing a difference between the heights of 30d, 30e, and 30f, a part of the land structure can be easily arranged on the lower surface of the semiconductor element 32, and the size of the semiconductor device can be reduced. In addition, it is easy to secure a gap between the substrate and the mounting substrate, and the mechanical and thermal reliability is improved. By increasing the height of the land elements 30a and 30b for mounting the semiconductor element, the semiconductor element 32 can be easily overhanged on a part of the land elements 30c and 30d, and a small semiconductor device can be obtained. Will be possible.

【0066】本実施形態では、ランド構成体30の一部
を半導体素子32を支持部として使用した構造であり、
他のランド構成体30は電極として使用し、底面配列に
おいては、ランド・グリッド・アレイを構成しているも
のである。そして、搭載する半導体素子の大きさ、ピン
数に応じて、半導体素子の支持用のランド構成体30を
適宜、設定することができる。また、従来のリードフレ
ームを用いた樹脂封止型半導体装置とは異なり、ランド
構成体30の面積は、100[μm]以上のワイヤーボ
ンドができる大きさで、実装接続強度を有するランド底
面面積であればよく言い換えれば底面の突出部35は接
続強度の向上が可能でランド寸法の縮小に貢献できる。
In the present embodiment, a structure is used in which a part of the land structure 30 is used as a support for the semiconductor element 32.
The other land structures 30 are used as electrodes, and constitute a land grid array in the bottom surface arrangement. Then, the land element 30 for supporting the semiconductor element can be appropriately set according to the size of the semiconductor element to be mounted and the number of pins. Also, unlike the resin-encapsulated semiconductor device using a conventional lead frame, the area of the land structure 30 is large enough to allow wire bonding of 100 [μm] or more, and has a land bottom area having mounting connection strength. If provided, in other words, the protrusion 35 on the bottom surface can improve the connection strength and contribute to the reduction of the land size.

【0067】また、高さも140[μm]〜180[μ
m]程度であるため、高密度な電極配列が可能であり、
小型・薄型の樹脂封止型半導体装置を実現できるもので
ある。さらに本実施形態の構造により、多ピン化に対応
でき、高密度面実装型の樹脂封止型半導体装置を実現で
きるものであり、半導体装置自体の厚みとしても、1
[mm]以下の500[μm]程度の極めて薄型の樹脂
封止型半導体装置を実現できるものである。
The height is also 140 [μm] to 180 [μm].
m], a high-density electrode arrangement is possible,
A small and thin resin-sealed semiconductor device can be realized. Further, the structure of this embodiment can cope with an increase in the number of pins and can realize a high-density surface-mount type resin-encapsulated semiconductor device.
An extremely thin resin-encapsulated semiconductor device of about 500 [μm] or less of [mm] can be realized.

【0068】また、本実施形態の樹脂封止型半導体装置
は、封止樹脂34に封止された側のランド構成体30の
上面の面積が、封止樹脂34から露出、突出した側のラ
ンド構成体30の底面の面積よりも大きく、封止された
側のランド構成体30の上面のエッジ部は曲面を有して
おり、ランド構成体30は略逆台形状の断面形状を有し
ているものである。
In the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment, the area of the top surface of the land structure 30 on the side sealed by the encapsulation resin 34 is exposed from the encapsulation resin 34. The edge of the top surface of the land structure 30 on the sealed side is larger than the area of the bottom surface of the structure 30 and has a curved surface, and the land structure 30 has a substantially inverted trapezoidal cross-sectional shape. Is what it is.

【0069】この構造により、封止樹脂34とランド構
成体30との食いつきを良好にし、さらにランド構成体
30の上部の溝部にも封止樹脂34が充填され、密着性
を向上させることができ、基板実装の際の各種応力に耐
え信頼性を得ることができるものである。また上部の溝
部にも封止樹脂34が充填されているため、近傍に接続
される金属細線の接続信頼性も向上する。
With this structure, the bite between the sealing resin 34 and the land structure 30 is improved, and the groove on the land structure 30 is also filled with the sealing resin 34 to improve the adhesion. In addition, it can withstand various stresses at the time of mounting on a substrate and obtain reliability. Since the sealing resin 34 is also filled in the upper groove, the connection reliability of the thin metal wire connected in the vicinity is improved.

【0070】なお、用いるターミナルランドフレーム自
体の板厚を厚く設定することで、ランド構成体30と封
止樹脂34との食いつきエリアを拡大させ、アンカー効
果が増大するため、一層の信頼性向上が図れる。
By setting the thickness of the terminal land frame itself to be large, the biting area between the land structure 30 and the sealing resin 34 is enlarged, and the anchor effect is increased, so that the reliability is further improved. I can do it.

【0071】次に本発明の樹脂封止型半導体装置の製造
方法の一実施形態について図面を参照しながら説明す
る。図9(a)〜(f)は本実施形態の樹脂封止型半導
体装置の製造方法を示す工程ごとの断面図である。
Next, an embodiment of a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIGS. 9A to 9F are cross-sectional views for each process showing the method for manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment.

【0072】まず図9(a)に示すように、フレーム本
体36と、そのフレーム本体36の領域内に配設され
て、薄厚部37によりフレーム本体36と接続し、かつ
フレーム本体36よりも突出して形成された突出部3
8、溝部(図示せず)を有する複数のランド構成体39
とよりなり、ランド構成体39はフレーム本体36から
それが突出した方向への押圧力により、薄厚部37が破
断されてランド構成体39がフレーム本体36より分離
される構成を有するメッキがされたターミナルランドフ
レームを用意する。
First, as shown in FIG. 9A, the frame main body 36 is disposed in the region of the frame main body 36, connected to the frame main body 36 by the thin portion 37, and protrudes from the frame main body 36. Protrusion 3 formed
8. A plurality of land structures 39 having grooves (not shown)
The land member 39 is plated so that the thin portion 37 is broken and the land member 39 is separated from the frame body 36 by a pressing force in a direction in which the land member 39 protrudes from the frame body 36. Prepare a terminal land frame.

【0073】次に図9(b)に示すように、ターミナル
ランドフレームのランド構成体39が突出した面側であ
って、ランド構成体39の内、所定の第1のランド構成
体39a,39b上に導電性接着剤40、または絶縁性
ペーストにより半導体素子41を載置、接合する。ただ
し、半導体素子搭載用のランド構成体39a,39bの
上面には溝部は設けなくてもよい。
Next, as shown in FIG. 9B, a predetermined first land structure 39a, 39b is located on the side of the terminal land frame where the land structure 39 protrudes. The semiconductor element 41 is placed and bonded thereon with the conductive adhesive 40 or the insulating paste. However, the grooves may not be provided on the upper surfaces of the land components 39a and 39b for mounting the semiconductor element.

【0074】この工程は半導体装置の組立工程における
ダイボンド工程に相当する工程であり、ターミナルラン
ドフレームへの導電性接着材40の塗布、半導体素子4
1の載置、加熱処理により半導体素子41を接合するも
のである。ここで、ターミナルランドフレームは、ラン
ド構成体39が突出した方向に対しての押圧力、すなわ
ちランド構成体39の底面部分側からの押圧力により、
容易に分離されるものであるが、それが突出した方向、
すなわちランド構成体39の上面部分からの押圧力によ
っては分離しないものであり、一方向からの押圧力にの
み分離する構造であるため、半導体素子41を搭載する
際、フレームに対して下方の押圧力が作用しても、ラン
ド構成体39は分離せず、安定してダイボンドできるも
のである。
This step corresponds to a die bonding step in an assembling step of a semiconductor device, and includes the steps of applying a conductive adhesive 40 to a terminal land frame,
The semiconductor element 41 is joined by the mounting and heat treatment of No. 1. Here, the terminal land frame has a pressing force in a direction in which the land structure 39 protrudes, that is, a pressing force from the bottom surface side of the land structure 39,
Easily separated, but in the direction in which it protrudes,
That is, the structure is not separated by the pressing force from the upper surface portion of the land structure 39, and is separated only by the pressing force from one direction. Even if pressure is applied, the land members 39 are not separated, and die bonding can be performed stably.

【0075】次に図9(c)に示すように、ターミナル
ランドフレーム上に接合した半導体素子41とランド構
成体39の内、外部ランド電極となる第2のランド構成
体39c,39d,39e,39fとを金属細線42に
より電気的に接続する。したがって、ランド構成体39
は上面の金属細線42が接続される面は100[μm]
□以上である。また、この工程においても、ランド構成
体39は一方向からの押圧力にのみ分離する構造である
ため、金属細線42をランド構成体39の上面に接続す
る際、下方に押圧力が作用しても、ランド構成体39は
分離せず、安定してワイヤーボンドできるものである。
ランド構成体の上部の溝部と溝部との間にワイヤーボン
ドすることにより接続信頼性が向上する。これは応力を
溝部が吸収するため、金属細線42の接続部分に印加さ
れる応力をできるためである。
Next, as shown in FIG. 9 (c), of the semiconductor element 41 and the land structure 39 joined on the terminal land frame, the second land structures 39c, 39d, 39e, which become external land electrodes, are formed. 39f is electrically connected with the thin metal wire 42. Therefore, the land structure 39
Is 100 [μm] for the surface to which the fine metal wire 42 on the upper surface is connected.
□ or more. Also in this step, since the land structure 39 has a structure that separates only into the pressing force from one direction, the pressing force acts downward when the thin metal wire 42 is connected to the upper surface of the land structure 39. However, the land members 39 are not separated and can be wire-bonded stably.
The connection reliability is improved by wire bonding between the grooves on the upper part of the land structure. This is because the stress is absorbed by the groove, so that the stress applied to the connection portion of the thin metal wire 42 can be generated.

【0076】また、ランド構成体39の上部の溝部は複
数でなくてもよく、半導体素子41がランド構成体にオ
ーバーハング可能なようにランド構成体39c,39d
の外側部分の端部に接続することもできる。
The number of grooves on the land structure 39 may not be plural, and the land structures 39c and 39d may be so arranged that the semiconductor element 41 can overhang the land structure.
Can also be connected to the end of the outer part of the.

【0077】次に図9(d)に示すように、ターミナル
ランドフレーム上に接合した半導体素子41、および電
気的接続手段である金属細線42の領域を複数有する被
成形部を封止装置内の大型キャビテー内の所定の位置に
搭載し、封止樹脂43により一括封止する。通常は上下
封止金型を用いたトランスファーモールドによりターミ
ナルランドフレーム内の前後左右に配した複数個の被成
形部を一括で片面封止する。ここではターミナルランド
フレームの半導体素子41が搭載された面のみが封止樹
脂43により封止されるものであり、片面封止構造とな
っている。また、同じ金型で切断位置を変更することに
より、ターミナルランドフレームを変えるだけで大きさ
の違う半導体装置が得られるため、金型を半導体装置ご
とにより準備する必要がなく開発時間の短縮、金型費の
削減稼働率の向上が可能になる。
Next, as shown in FIG. 9D, a molded part having a plurality of regions of the semiconductor element 41 joined on the terminal land frame and the thin metal wires 42 as the electric connection means is formed in the sealing device. It is mounted at a predetermined position in the large cavities and is collectively sealed with a sealing resin 43. Normally, a plurality of molded portions arranged in the front, rear, left and right directions in the terminal land frame are collectively sealed on one side by transfer molding using upper and lower sealing dies. Here, only the surface of the terminal land frame on which the semiconductor element 41 is mounted is sealed with the sealing resin 43, and has a single-sided sealing structure. In addition, by changing the cutting position with the same mold, a semiconductor device having a different size can be obtained only by changing the terminal land frame. Reduction of mold cost It is possible to improve the operation rate.

【0078】そして各ランド構成体39は突出して設け
られているため、封止樹脂43がその突出構造に対して
食いつくため、片面封止構造であっても、ターミナルラ
ンドフレームと封止樹脂43との密着性を得ることがで
き、ランド構成体の上面の溝部にも樹脂が充填されて接
続強度が向上する。
Since each land structure 39 is provided so as to protrude, the sealing resin 43 bites against the projecting structure. And the groove on the upper surface of the land structure is filled with the resin, so that the connection strength is improved.

【0079】次に図9(e)に示すように、封止樹脂4
3に対して、切断刃により所定の位置の切断部44を切
断する。ここでは封止樹脂を切断して個別に区切った樹
脂封止型半導体装置を得る。またターミナルランドフレ
ームの金属板であるフレーム本体36の部分は後に分離
できるため、ターミナルランドフレームの金属板の部分
は切断する必要がなく、切断歯の寿命が長くなる。また
切断刃の幅は、封止樹脂43の切断に適した厚みとする
ことができるため、切断の生産性を向上させることもで
きる。
Next, as shown in FIG.
For 3, the cutting portion 44 at a predetermined position is cut by a cutting blade. Here, a resin-sealed semiconductor device is obtained in which the sealing resin is cut into individual sections. Further, since the portion of the frame main body 36 which is the metal plate of the terminal land frame can be separated later, it is not necessary to cut the metal plate portion of the terminal land frame, and the life of the cut teeth is extended. Further, since the width of the cutting blade can be set to a thickness suitable for cutting the sealing resin 43, the cutting productivity can be improved.

【0080】そしてターミナルランドフレームを固定し
た状態、例えばターミナルランドフレームの端部を固定
し、封止樹脂43で封止した領域をフリーにした状態
で、ターミナルランドフレームの下方からランド構成体
39の底面に対して、押圧力を印加する。この場合、タ
ーミナルランドフレームの端部を固定し、その下方から
突き上げピン等により突き上げて押圧力を印加すること
により、ランド構成体39とターミナルランドフレーム
のフレーム本体36とが分離するものである。これはラ
ンド構成体39とフレーム本体36とを接続している極
薄の薄厚部37が、突き上げによる押圧力で破断される
ことにより分離されるものである。また、突き上げる場
合は、一部の例えば中央部付近の半導体素子41の下方
に位置するランド構成体39のみを突き上げてもよく、
または半導体素子41の周辺部のランド構成体39を突
き上げてもよく、またはすべてのランド構成体39を突
き上げてもよい。ただし、部分的な突き上げにより、ラ
ンド構成体39が封止樹脂43から剥離しない範囲で突
き上げを行う。また突き上げ以外の手段により、ランド
構成体39が分離できるものであればよく、例えばフレ
ーム本体36に対してひねりを加えても分離させること
ができ、またフレーム本体自体36を引き剥がすことに
よっても分離できるが信頼性を考慮して行う。
Then, in a state where the terminal land frame is fixed, for example, with the end of the terminal land frame fixed and the region sealed with the sealing resin 43 free, the land structure 39 is formed from below the terminal land frame. A pressing force is applied to the bottom surface. In this case, by fixing the end of the terminal land frame and pushing up from below by a push-up pin or the like to apply a pressing force, the land structure 39 and the frame body 36 of the terminal land frame are separated. In this case, the extremely thin portion 37 connecting the land structure 39 and the frame body 36 is separated by being broken by a pressing force generated by pushing up. In the case of pushing up, only a part of the land structure 39 located below the semiconductor element 41 near the center, for example, may be pushed up,
Alternatively, the land members 39 around the semiconductor element 41 may be pushed up, or all the land members 39 may be pushed up. However, due to the partial push-up, the push-up is performed in a range where the land structure 39 does not peel off from the sealing resin 43. Further, any structure can be used as long as the land structure 39 can be separated by means other than pushing up. For example, the land body 39 can be separated by applying a twist to the frame body 36, and can also be separated by peeling the frame body 36 itself. Yes, but with due regard to reliability.

【0081】以上のような工程により、図9(f)に示
すように、ランド構成体39とフレーム本体とを接続し
ている極薄の薄厚部が突き上げによる押圧力で破断され
ることにより分離されて、樹脂封止型半導体装置45を
得ることができる。なお、分離工程において、封止樹脂
とフレーム本体との剥離は、フレーム本体のランド構成
体39を形成した部分以外の領域と封止樹脂との密着性
が弱く、ランド構成体39が分離されることにより、樹
脂封止型半導体装置を取り出すことができるものであ
る。
By the above steps, as shown in FIG. 9 (f), the ultra-thin portion connecting the land structure 39 and the frame body is broken by the pushing force of the pushing up and separated. Thus, a resin-sealed semiconductor device 45 can be obtained. In the separation step, the peeling between the sealing resin and the frame main body is weak in the adhesion between the sealing resin and a region other than the portion where the land main body 39 of the frame main body is formed, and the land main body 39 is separated. Thereby, the resin-encapsulated semiconductor device can be taken out.

【0082】またランド構成体39部分は、その凹凸形
状が封止樹脂に食い込み、ランド構成体39の上面の溝
部にも封止樹脂が充填され、接続強度が向上するため、
剥離せずに封止樹脂内に形成されるものである。図示す
るように、樹脂封止型半導体装置45は、ランド構成体
39がその底面に配列され、またランド構成体39が封
止樹脂43の底面よりも突出して設けられ、突出部38
とともに突出し、基板実装時のスタンドオフが形成され
ているものである。スタンドオフはエッチングにより突
出部38を最適化でき、ランド構成体39の突出部38
は、その突出部分で実装時に安定したはんだとの結合強
度が得られるため、樹脂成形後は分離しやすい最小の寸
法に設定でき、生産時に離れない強度であれば良い。
In the land structure 39, the concave and convex shape bites into the sealing resin, and the groove on the upper surface of the land structure 39 is filled with the sealing resin to improve the connection strength.
It is formed in the sealing resin without peeling. As shown in the figure, the resin-encapsulated semiconductor device 45 has land members 39 arranged on the bottom surface thereof, and the land members 39 are provided so as to protrude from the bottom surface of the sealing resin 43.
Together with a stand-off when mounted on a substrate. The standoff can optimize the protrusion 38 by etching, and the protrusion 38 of the land structure 39 can be optimized.
Since a stable bonding strength with the solder can be obtained at the time of mounting at the protruding portion, the minimum size can be set so that it can be easily separated after resin molding, and it is sufficient if the strength does not separate during production.

【0083】また、ランド構成体39に設けた突出部3
8および溝部は、すべてのランド構成体39に配する必
要はなく、要求信頼性に応じて、例えば溝部のみ、ある
いは突出部38のみでも良く。また、外側のランド構成
体39のみに配してもよく、種々の組み合わせが可能で
ある。
Further, the projecting portion 3 provided on the land
The grooves 8 and the grooves need not be provided on all the land structures 39, and may be, for example, only the grooves or only the protrusions 38 according to the required reliability. Further, the combination may be arranged only on the outer land structure 39, and various combinations are possible.

【0084】ここで樹脂封止型半導体装置45のランド
構成体39の突出量は、フレーム本体の厚み量からラン
ド構成体39が上方に突出した量を差し引いた量にエッ
チングで形成した突出部38を加えた量となり、ランド
構成体39の外部ランド電極としてのスタンドオフが形
成されるものである。本実施形態では、200[μm]
の厚みのフレーム本体に対して、ランド構成体39を1
40[μm]〜180[μm](フレーム本体の厚みの
70[%]〜90[%])突出させているため、スタン
ドオフ高さの量は、20[μm]〜60[μm](フレ
ーム本体の厚みの10[%]〜30[%])となり、基
板実装時のスタンドオフを有したランド電極を得ること
ができる。また、エッチングにより突出部38を適切な
高さに選べるため、フレーム本体の厚みは生産に適し、
封止樹脂43との結合力を勘案した厚みとすることが出
来る。
Here, the amount of protrusion of the land member 39 of the resin-encapsulated semiconductor device 45 is calculated by subtracting the amount by which the land member 39 protrudes upward from the thickness of the frame main body. Is added, and a standoff as an external land electrode of the land structure 39 is formed. In the present embodiment, 200 [μm]
Land body 39 is attached to the frame body of thickness
40 [μm] to 180 [μm] (70 [%] to 90 [%] of the thickness of the frame body), so that the amount of stand-off height is 20 [μm] to 60 [μm] (frame The thickness of the main body is 10% to 30%), and a land electrode having a stand-off when mounted on a substrate can be obtained. In addition, since the protruding portion 38 can be selected at an appropriate height by etching, the thickness of the frame body is suitable for production,
The thickness can be set in consideration of the bonding force with the sealing resin 43.

【0085】また、突出部38を有しているため薄厚部
37は最小の寸法でよく、容易に分離されるためトレー
等に一括で整列することができる特徴があり、生産性が
向上する。また検査工程でもスタンドオフを容易に高く
できるため検査のコンタクト信頼性が向上するものであ
る。
Further, since the thin portion 37 has the projection 38, the thin portion 37 has a minimum size, and is easily separated, so that the thin portion 37 can be collectively arranged on a tray or the like, thereby improving productivity. Also, since the standoff can be easily increased in the inspection process, the contact reliability of the inspection is improved.

【0086】次に本発明のターミナルランドフレームの
別の実施形態について図面を参照しながら説明する。
Next, another embodiment of the terminal land frame of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0087】図10は本実施形態のターミナルランドフ
レームを示す平面図である。図11は本実施形態のター
ミナルランドフレームを示す断面図であり、図10のB
−B1箇所の断面を示している。また基本概念は前記し
た実施形態のターミナルランドフレームと同様である。
FIG. 10 is a plan view showing the terminal land frame of the present embodiment. FIG. 11 is a cross-sectional view showing the terminal land frame of the present embodiment, and FIG.
The section of -B1 part is shown. The basic concept is the same as that of the terminal land frame of the above-described embodiment.

【0088】図示するように本実施形態のターミナルラ
ンドフレームは、銅材または、42−アロイ等の通常の
リードフレームに用いられている金属板よりなるフレー
ム本体46と、そのフレーム本体46の領域内に配設さ
れて、薄厚部47によりフレーム本体46と接続し、か
つフレーム本体46よりも突出して形成された上面に溝
部、底面に突出部48を有する複数のランド構成体49
と、ダイパッド部50よりなるものである。すなわち、
フレーム本体46、ランド構成体49、ダイパッド部5
0および薄厚部47は、同一の金属板より一体で形成さ
れているものである。そしてランド構成体49はフレー
ム本体46から突出した方向への押圧力により、薄厚部
47が破断されてランド構成体49がフレーム本体46
より分離される構成を有するものである。
As shown in the figure, the terminal land frame of this embodiment has a frame main body 46 made of copper or a metal plate used for a normal lead frame such as 42-alloy, and an area within the frame main body 46. And a plurality of land members 49 connected to the frame body 46 by a thin portion 47 and having a groove on the upper surface and a protrusion 48 on the bottom surface formed to protrude from the frame body 46.
And a die pad portion 50. That is,
Frame body 46, land structure 49, die pad 5
The 0 and the thin portion 47 are formed integrally from the same metal plate. Then, the land portion 49 is broken by the pressing force in the direction protruding from the frame body 46, and the land portion 49 is
It has a more separated configuration.

【0089】ここで本実施形態のターミナルランドフレ
ームは、前述した実施形態の図1、図2および図3に示
したターミナルランドフレームと同様な構成を有するも
のの、半導体素子を搭載するダイパッド部50を設けた
ものである。
Here, the terminal land frame of this embodiment has the same configuration as the terminal land frame of the above-described embodiment shown in FIGS. 1, 2 and 3, but has a die pad portion 50 on which a semiconductor element is mounted. It is provided.

【0090】したがって、ランド構成体49およびダイ
パッド部50の底面部分に対して、突出した方向への押
圧力を印加することにより、薄厚部が破断されることに
なり、フレーム本体46からランド構成体49とダイパ
ッド部50とが分離するものである。そして図10に示
すように、ランド構成体49はフレーム本体46の領域
に形成するが、左右・上下に連続して形成できるもので
あり、従来のように個々の分離は必要なく、またタイバ
ーを設ける必要もない。またランド構成体49の形状
は、角部を面取りした角形としているが、円形や長方形
でもよく、また大きさは、ターミナルランドフレーム内
ですべて同一としてもよいし、樹脂封止型半導体装置を
構成し、ランド電極とした場合、基板実装の際の応力緩
和のために、周辺部に位置するランド構成体49を大き
くするようにしてもよい。本実施形態では、ランド構成
体49の上面の大きさは、半導体素子を搭載し、電気的
接続手段として、金線等の金属細線により接続する際、
ボンディング可能な大きさで実装接続に適した大きさで
あればよく、100[μm]φ以上の大きさとしてい
る。
Therefore, by applying a pressing force in a protruding direction to the land structure 49 and the bottom surface of the die pad portion 50, the thin portion is broken, and the land structure 49 49 and the die pad portion 50 are separated from each other. As shown in FIG. 10, the land structure 49 is formed in the region of the frame main body 46, but can be formed continuously in the left, right, up and down directions. There is no need to provide. Further, although the shape of the land structure 49 is a square shape with chamfered corners, the shape may be circular or rectangular, and the size may be all the same in the terminal land frame, or the resin-encapsulated semiconductor device may be formed. However, in the case of a land electrode, the land structure 49 located in the peripheral portion may be enlarged in order to relax the stress at the time of mounting the substrate. In the present embodiment, the size of the upper surface of the land structure 49 is determined by mounting a semiconductor element and connecting the semiconductor device with a thin metal wire such as a gold wire as an electrical connection means.
Any size that can be bonded and that is suitable for mounting connection may be used, and is 100 [μm] φ or more.

【0091】また、本実施形態で示したターミナルラン
ドフレームは、従来のようなインナーリード部、アウタ
ーリード部を有さず、ランド電極としてランド構成体4
9を有し、そのランド構成体49を半導体素子が搭載さ
れる面内に格子状、千鳥状に配列することにより、この
ターミナルランドフレームを用いて樹脂封止型半導体装
置を構成した場合、底面にランド電極を面配置で備えた
樹脂封止型半導体装置を実現することができる。また従
来のように電極となる構成が、ビーム状のリード構成で
はなく、ランド構成体49であるため、それらを面状に
配置することができ、ランド構成体49の配置の自由度
が向上し、多ピン化に対応することができる。
Further, the terminal land frame shown in this embodiment does not have the inner lead portion and the outer lead portion as in the prior art, and the land structure 4 serves as a land electrode.
When the resin-encapsulated semiconductor device is formed using the terminal land frame by arranging the land components 49 in a lattice or staggered pattern on the surface on which the semiconductor element is mounted, A resin-encapsulated semiconductor device having land electrodes arranged in a plane can be realized. Further, since the configuration serving as the electrode is not the beam-shaped lead configuration but the land configuration body 49 as in the related art, they can be arranged in a plane, and the degree of freedom in the arrangement of the land configuration body 49 is improved. It is possible to cope with the increase in the number of pins.

【0092】次に本実施形態のターミナルランドフレー
ムの製造方法について説明する。ターミナルランドフレ
ームの製造方法についても前述した実施形態のターミナ
ルランドフレームの製造方法と同様であり、基本概念は
前記した実施形態のターミナルランドフレームの製造方
法と同様であるが、ランド構成体を形成すると同時にダ
イパッド部も形成するものである。
Next, a method for manufacturing the terminal land frame of the present embodiment will be described. The method of manufacturing the terminal land frame is also the same as the method of manufacturing the terminal land frame of the above-described embodiment, and the basic concept is the same as the method of manufacturing the terminal land frame of the above-described embodiment. At the same time, a die pad portion is also formed.

【0093】まずフレーム枠を構成する金属板に対し
て、上面と下面にそれぞれエッチングレジスト膜を形成
する。
First, an etching resist film is formed on the upper surface and the lower surface of the metal plate constituting the frame.

【0094】次に金属板の上面に形成したエッチングレ
ジスト膜に対して、少なくともダイパッド部およびラン
ド構成体となり得る部分に対して、その上部に溝部を形
成したい部分のエッチングレジスト膜を除去して開口部
を形成する。また、少なくともダイパッド部およびラン
ド構成体となり得る部分に対して、その底面に突出部を
形成したい部分以外のエッチングレジスト膜を除去して
開口部を形成する。
Next, with respect to the etching resist film formed on the upper surface of the metal plate, at least a portion where a groove portion is desired to be formed is removed by removing the etching resist film on at least a portion that can be a die pad portion and a land structure. Form a part. In addition, at least a portion that can be a die pad portion and a land structure, an opening is formed by removing an etching resist film other than a portion where a protrusion is desired to be formed on the bottom surface.

【0095】次に金属板をエッチングして、開口部から
露出した金属板部分をエッチング加工して溝部、突出部
を形成する。
Next, the metal plate is etched, and the metal plate portion exposed from the opening is etched to form a groove and a protrusion.

【0096】そして金属板の上面、下面のエッチングレ
ジスト膜を除去することにより、金属板に対して溝部
と、突出部を有したフレーム構成体を形成するものであ
る。
By removing the etching resist films on the upper and lower surfaces of the metal plate, a frame structure having a groove and a projecting portion with respect to the metal plate is formed.

【0097】次に形成したフレーム構成体に対してプレ
ス加工し、ターミナルランドフレームを完成する方法に
ついて説明する。
Next, a method of completing the terminal land frame by pressing the formed frame structure will be described.

【0098】まず溝部、突出部を形成したターミナルラ
ンドフレームのフレーム構成体を打ち抜き金型のダイ部
に載置し、フレーム構成体の上方から押え金型により押
さえる。そしてダイ部上の所定の位置に固定したフレー
ム構成体に対して、その上方からパンチ部材により押圧
による打ち抜き加工を行い、フレーム構成体の一部をダ
イ部側の開口部側に突出するように押圧して、フレーム
構成体の所定箇所を半切断状態にし、ランド構成体およ
びダイパッド部を形成する。すなわち、打ち抜き金型の
ダイ部上の所定の位置に固定したフレーム構成体に対し
て、その上方からパンチ部材により押圧による打ち抜き
加工を行い、フレーム構成体の一部をダイ部側の開口部
側に突出するように押圧して、フレーム構成体の所定箇
所を半切断状態にし、ランド構成体およびダイパッド部
を形成する。
First, the frame structure of the terminal land frame in which the groove and the protrusion are formed is placed on the die of the punching die, and is pressed from above the frame structure by the pressing die. Then, a punching process is performed on the frame member fixed at a predetermined position on the die portion by pressing the frame member from above, so that a part of the frame member protrudes toward the opening side of the die portion side. By pressing, a predetermined portion of the frame structure is cut in a semi-cut state, and a land structure and a die pad portion are formed. That is, for a frame structure fixed at a predetermined position on a die portion of a punching die, a punching process is performed by pressing a punch member from above the frame structure, and a part of the frame structure is opened on the die side. Then, a predetermined portion of the frame structure is half-cut so as to form a land structure and a die pad portion.

【0099】以上のようにして、金属板よりなるフレー
ム本体と、その領域内に配設されて、薄厚部によりフレ
ーム本体と接続し、かつフレーム本体よりも突出して形
成された上面に溝部、底面に突出部を有する複数のラン
ド構成体と、ダイパッド部よりなるターミナルランドフ
レームを製造することができる。
As described above, the frame main body made of a metal plate and the groove and the bottom are provided in the region, connected to the frame main body by the thin portion, and formed so as to protrude from the frame main body. It is possible to manufacture a terminal land frame including a plurality of land structures having projecting portions and a die pad portion.

【0100】なお、本実施形態のターミナルランドフレ
ームにおいても同様に、形成されたランド構成体、ダイ
パッド部は、それらが突出した方向に対しての押圧力、
すなわちランド構成体、ダイパッド部の各底面部分側か
らの押圧力により、容易に分離されるものであり、また
それが突出した方向、すなわちランド構成体、ダイパッ
ド部の各上面部分からの押圧力によっては分離しないも
のであり、一方向からの押圧力にのみ分離する構造とな
る。
Similarly, in the terminal land frame of the present embodiment, the formed land structure and the die pad portion have a pressing force in a direction in which they protrude.
That is, it is easily separated by the pressing force from the bottom surface side of the land structure and the die pad portion, and by the protruding direction, that is, the pressing force from each upper surface portion of the land structure and the die pad portion. Does not separate, and has a structure that separates only to a pressing force from one direction.

【0101】本実施形態において、金属板に対してラン
ド構成体、ダイパッド部を形成する際、突出させるその
突出量については、金属板自体の厚みの過半数以上と
し、本実施形態では、200[μm]の金属板の厚みに
対して、140[μm]〜180[μm](金属板自体
の厚みの70[%]〜90[%])突出してランド構成
体、ダイパッド部を形成している。したがって、突出し
て形成されたランド構成体、ダイパッド部は、金属板の
本体に対して、極めて薄い厚みの薄厚部により接続され
ていることになる。本実施形態では、薄厚部の厚みとし
ては、20[μm]〜60[μm](金属板自体の厚み
の10[%]〜30[%])であり、ランド構成体、ダ
イパッド部が突出した方向に対しての押圧力により、容
易に分離されるものである。
In the present embodiment, when the land structure and the die pad portion are formed on the metal plate, the amount of protrusion is made to be a majority of the thickness of the metal plate itself, and in this embodiment, 200 [μm ], The land structure and the die pad portion are formed so as to protrude from 140 [μm] to 180 [μm] (70 [%] to 90 [%] of the thickness of the metal plate itself). Therefore, the land structure and the die pad formed so as to be protruded are connected to the main body of the metal plate by the extremely thin portion. In the present embodiment, the thickness of the thin portion is 20 [μm] to 60 [μm] (10 [%] to 30 [%] of the thickness of the metal plate itself), and the land structure and the die pad portion protrude. It can be easily separated by the pressing force against the direction.

【0102】次に本実施形態のターミナルランドフレー
ムを用いた樹脂封止型半導体装置について図面を参照し
ながら説明する。図12は本実施形態の樹脂封止型半導
体装置を示す断面図である。また、基本概念は前記した
実施形態のターミナルランドフレームを用いた樹脂封止
型半導体装置の構造と同様である。
Next, a resin-sealed semiconductor device using the terminal land frame of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 12 is a sectional view showing the resin-sealed semiconductor device of the present embodiment. The basic concept is the same as the structure of the resin-encapsulated semiconductor device using the terminal land frame of the embodiment described above.

【0103】図12に示すように、本実施形態の樹脂封
止型半導体装置は、前述した実施形態の図10、図11
に示したターミナルランドフレームを用いて、半導体素
子を搭載した半導体装置であり、ダイパッド部51上に
銀ペースト等の導電性接着剤52により搭載、接合され
た半導体素子53と、その半導体素子53の周辺に配置
され、半導体素子53と金属細線54により電気的に接
続されたランド構成体55と、各ランド構成体55の底
面を突出させて半導体素子53の外囲を封止した封止樹
脂56とよりなる樹脂封止型半導体装置である。そして
本実施形態において、ダイパッド部51、ランド構成体
55の封止樹脂56からの突出量は、使用したターミナ
ルランドフレーム本体の厚み量からダイパッド部51、
ランド構成体55がそのフレーム本体から突出した量を
差し引いた量に突出部57を加えた量であり、基板実装
時のスタンドオフを有しているものである。また、ラン
ド構成体55、ダイパッド部51は、その上面に複数の
溝部(図示せず)を有し、底面には突出部57を有して
いるものである。
As shown in FIG. 12, the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment is the same as that of FIGS.
A semiconductor device having a semiconductor element mounted thereon using the terminal land frame shown in FIG. 1 and a semiconductor element 53 mounted and bonded on a die pad portion 51 by a conductive adhesive 52 such as a silver paste, and a semiconductor element 53 Land members 55 arranged in the periphery and electrically connected to the semiconductor element 53 by the thin metal wires 54, and a sealing resin 56 sealing the outer periphery of the semiconductor element 53 by projecting the bottom surface of each land member 55. And a resin-sealed semiconductor device comprising: In this embodiment, the amount of protrusion of the die pad portion 51 and the land structure 55 from the sealing resin 56 is determined based on the thickness of the terminal land frame body used.
The amount obtained by subtracting the amount by which the land component 55 protrudes from the frame main body is added to the amount by which the protruding portion 57 is added, and has a standoff at the time of board mounting. Further, the land structure 55 and the die pad portion 51 have a plurality of grooves (not shown) on the upper surface, and have the projecting portion 57 on the bottom surface.

【0104】そして本実施形態では、ダイパッド部51
により半導体素子53を支持する構造であるが、ランド
構成体55は電極として使用し、底面配列においては、
ランド・グリッド・アレイを構成しているものである。
In the present embodiment, the die pad 51
, The land structure 55 is used as an electrode, and in the bottom arrangement,
This constitutes a land grid array.

【0105】また本実施形態の樹脂封止型半導体装置
は、封止樹脂56に封止された側のランド構成体55、
ダイパッド部51の上面の面積が、封止樹脂56から露
出、突出した側のランド構成体55、ダイパッド部51
の底面の面積よりも大きく、封止された側のランド構成
体55、ダイパッド部51の上面のエッジ部は曲面を有
しており、略逆台形状の断面形状を有しているものであ
る。この構造により、封止樹脂56とランド構成体5
5、ダイパッド部51との食いつきを良好にし、ランド
構成体55、ダイパッド部51の各上面の溝部に封止樹
脂56が充填される働きとあわせ、密着性を向上させる
ことができ基板実装の際の応力に対する耐性が向上す
る。
Further, the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment has the land structure 55 on the side sealed by the encapsulation resin 56,
The area of the upper surface of the die pad portion 51 is exposed and protruded from the sealing resin 56, and the land structure 55 and the die pad portion
The land portion 55 on the sealed side and the edge portion on the upper surface of the die pad portion 51 have a curved surface and a substantially inverted trapezoidal cross-sectional shape. . With this structure, the sealing resin 56 and the land structure 5
5. It is possible to improve the bite with the die pad portion 51, and to improve the adhesiveness together with the function of filling the grooves on the upper surfaces of the land structure 55 and the die pad portion 51 with the sealing resin 56, thereby improving the adhesion. Resistance to stress is improved.

【0106】またこの構造により、底面側で突出部57
のはんだとの信頼性の高い基板実装をすることができ、
従来のようなビーム状のリードによる基板実装に比べ
て、実装の信頼性を格段に向上させることができ、BG
A型半導体装置と同等以上の信頼性を有するものであ
る。
Also, with this structure, the protrusion 57
And highly reliable board mounting with solder
The reliability of the mounting can be greatly improved compared to the conventional mounting on a substrate using beam-shaped leads.
It has the same or higher reliability as the A-type semiconductor device.

【0107】次に本発明の樹脂封止型半導体装置の製造
方法の一実施形態について図面を参照しながら説明す
る。本実施形態においても、基本概念は前記した実施形
態のターミナルランドフレームを用いた樹脂封止型半導
体装置の製造方法と同様である。図13(a)〜(f)
は本実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示す
工程ごとの断面図である。
Next, an embodiment of a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, the basic concept is the same as the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device using the terminal land frame of the above-described embodiment. FIGS. 13A to 13F
4A to 4C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to the present embodiment in each step.

【0108】まず図13(a)に示すように、フレーム
本体58と、そのフレーム本体58の領域内に配設され
て、薄厚部59によりフレーム本体58と接続し、かつ
フレーム本体58よりも突出して形成された上面に溝
部、底面に突出部60を有する複数のランド構成体61
とダイパッド部62とよりなり、ランド構成体61、ダ
イパッド部62はフレーム本体58からそれが突出した
方向への押圧力により、薄厚部59が破断されてランド
構成体61、ダイパッド部62がフレーム本体58より
分離される構成を有するメッキ処理されたターミナルラ
ンドフレームを用意する。
First, as shown in FIG. 13A, a frame main body 58 is disposed in the region of the frame main body 58, connected to the frame main body 58 by a thin portion 59, and protrudes from the frame main body 58. Land structure 61 having a groove on the top surface and a protrusion 60 on the bottom surface
The land structure 61 and the die pad portion 62 are broken by the pressing force in the direction in which the land structure 61 and the die pad portion 62 protrude from the frame body 58, and the land structure 61 and the die pad portion 62 are A plated terminal land frame having a configuration separated from 58 is prepared.

【0109】次に図13(b)に示すように、ターミナ
ルランドフレームのランド構成体61、ダイパッド部6
2が突出した面側であって、ダイパッド部62上に導電
性接着剤63により半導体素子64を載置、接合する。
この工程は半導体装置の組立工程におけるダイボンド工
程に相当する工程であり、ターミナルランドフレームへ
の導電性接着剤63の塗布、半導体素子64の載置、加
熱処理により半導体素子64を接合するものである。こ
こで、ターミナルランドフレームは、ダイパッド部62
が突出した方向に対しての押圧力、すなわちダイパッド
部62の底面部分側からの押圧力により、容易に分離さ
れるものであるが、それが突出した方向、すなわちダイ
パッド部62の上面部分からの押圧力によっては分離し
ないものであり、一方向からの押圧力にのみ分離する構
造であるため、半導体素子64を搭載する際、フレーム
に対して下方の押圧力が作用しても、ダイパッド部62
は分離せず、安定してダイボンドできるものである。な
をダイパッド部62には半導体素子64が搭載されるた
め溝部は周辺部に設けるのがよい。また、小型の半導体
装置では設けなくてもよい。ダイパット部62をランド
構成体61より高く位置させることにより容易に半導体
素子64を容易にランド構成体61上に配置できること
は言うまでもなく、小型化が図れることは同様である。
Next, as shown in FIG. 13B, the land structure 61 of the terminal land frame and the die pad 6
The semiconductor element 64 is mounted on the die pad portion 62 by the conductive adhesive 63 and is bonded to the die pad portion 62 on the protruding surface side.
This step is a step corresponding to a die bonding step in an assembling step of the semiconductor device, in which the conductive element 63 is applied to the terminal land frame, the semiconductor element 64 is placed, and the semiconductor element 64 is joined by heat treatment. . Here, the terminal land frame is connected to the die pad portion 62.
Is easily separated by a pressing force in a direction in which the die pad portion protrudes, that is, a pressing force from a bottom portion side of the die pad portion 62, but in a direction in which it protrudes, that is, from a top surface portion of the die pad portion 62. Since it is a structure that does not separate according to the pressing force and separates only into the pressing force from one direction, even when a downward pressing force acts on the frame when the semiconductor element 64 is mounted, the die pad portion 62 does not separate.
Can be stably bonded without being separated. Since the semiconductor element 64 is mounted on the die pad portion 62, the groove portion is preferably provided in the peripheral portion. Further, it does not need to be provided in a small semiconductor device. It goes without saying that the semiconductor element 64 can be easily arranged on the land structure 61 by arranging the die pad portion 62 higher than the land structure 61, and the size can be reduced as well.

【0110】次に図13(c)に示すように、ターミナ
ルランドフレーム上に接合した半導体素子64とランド
構成体61とを金属細線65により電気的に接続する。
したがって、ランド構成体61は上面の金属細線65が
接続される面の大きさは100[μm]□以上である。
また、この工程においても、ランド構成体61は一方向
からの押圧力にのみ分離する構造であるため、金属細線
65をランド構成体61の上面に接続する際、下方に押
圧力が作用しても、ランド構成体61は分離せず、安定
してワイヤーボンドできるものである。
Next, as shown in FIG. 13C, the semiconductor element 64 bonded to the terminal land frame and the land structure 61 are electrically connected by the thin metal wires 65.
Therefore, the size of the surface of the land structure 61 to which the fine metal wire 65 on the upper surface is connected is 100 [μm] □ or more.
Also in this step, since the land component 61 has a structure that separates only into the pressing force from one direction, the pressing force acts downward when the thin metal wire 65 is connected to the upper surface of the land component 61. Also, the land structure 61 can be stably bonded without being separated.

【0111】次に図13(d)に示すように、ターミナ
ルランドフレーム上に接合した半導体素子64、および
電気的接続手段である金属細線65の領域を複数個を所
定の大型キャビテー凹部に搭載し、封止樹脂66により
封止する。通常は上下封止金型を用いたトランスファー
モールドにより片面封止を行う。ここではターミナルラ
ンドフレームの半導体素子64が搭載された面のみが封
止樹脂66により封止されるものであり、片面封止構造
となっている。そして各ランド構成体61、ダイパッド
部62は突出して設けられているため、封止樹脂66が
その突出構造に対して、食いつくため片面封止構造であ
っても、ターミナルランドフレームと封止樹脂66との
密着性を得ることができる。また、金型構造も樹脂に接
しない片側金型は焼き入れエジェクターピン等も必要な
く簡素化でき安価になる。
Next, as shown in FIG. 13D, a plurality of regions of the semiconductor element 64 bonded on the terminal land frame and the thin metal wires 65 as the electrical connection means are mounted in a predetermined large cavity recess. And sealing with a sealing resin 66. Usually, single-sided sealing is performed by transfer molding using upper and lower sealing dies. Here, only the surface of the terminal land frame on which the semiconductor element 64 is mounted is sealed with the sealing resin 66, and has a single-sided sealing structure. Since each land structure 61 and the die pad portion 62 are provided so as to protrude, the terminal land frame and the sealing resin 66 are formed even if the sealing resin 66 has a single-sided sealing structure so as to bite the protruding structure. With the adhesive. In addition, the one-sided mold that does not come into contact with the resin does not require a quenched ejector pin or the like, and can be simplified and inexpensive.

【0112】次に図13(e)に示すように、封止樹脂
66に対して、切断刃により所定の位置の切断部67を
順次切断する。またターミナルランドフレームのフレー
ム本体58の部分は切断する必要がなく、切断刃の寿命
が長くなりまた、切断生産性が向上する。
Next, as shown in FIG. 13E, the cutting portion 67 at a predetermined position is sequentially cut by the cutting blade with respect to the sealing resin 66. Further, it is not necessary to cut the portion of the frame body 58 of the terminal land frame, so that the life of the cutting blade is prolonged and the cutting productivity is improved.

【0113】そしてターミナルランドフレームを固定し
た状態、例えばターミナルランドフレームの端部を固定
し、封止樹脂66で封止した領域をフリーにした状態
で、ターミナルランドフレームの下方からランド構成体
61およびダイパッド部62の底面に対して、押圧力を
印加する。この場合、ターミナルランドフレームの端部
を固定し、その下方から突き上げピンにより突き上げて
押圧力を印加することにより、ランド構成体61、ダイ
パッド部62とターミナルランドフレームのフレーム本
体58とが分離するものである。これはランド構成体6
1、ダイパッド部62とフレーム本体58とを接続して
いる極薄の薄厚部59が突き上げによる押圧力で破断さ
れることにより分離されるものである。
Then, in a state where the terminal land frame is fixed, for example, with the end portion of the terminal land frame fixed and the region sealed with the sealing resin 66 being free, the land structure 61 and the land structure 61 from below the terminal land frame. A pressing force is applied to the bottom surface of the die pad portion 62. In this case, by fixing the end of the terminal land frame and pushing up from below by a push-up pin to apply a pressing force, the land structure 61, the die pad portion 62 and the frame body 58 of the terminal land frame are separated. It is. This is land structure 6
1. The extremely thin portion 59 connecting the die pad portion 62 and the frame main body 58 is separated by being broken by a pressing force generated by pushing up.

【0114】そして図13(f)に示すように、ランド
構成体61、ダイパッド部62とフレーム本体とを接続
している極薄の薄厚部が突き上げによる押圧力で破断さ
れることにより分離されて、樹脂封止型半導体装置68
を得ることができる。図示するように、樹脂封止型半導
体装置68は、ランド構成体61がその底面に配列さ
れ、またランド構成体61、ダイパッド部62が封止樹
脂66の底面よりも突出して設けられ、基板実装時のス
タンドオフが形成されているものである。
Then, as shown in FIG. 13 (f), the ultra-thin portion connecting the land structure 61, the die pad portion 62 and the frame main body is separated by being broken by the pushing force generated by pushing up. , Resin-encapsulated semiconductor device 68
Can be obtained. As shown in the figure, the resin-encapsulated semiconductor device 68 has a land structure 61 arranged on the bottom surface thereof, and a land structure 61 and a die pad portion 62 protruding from the bottom surface of the sealing resin 66. A standoff at the time is formed.

【0115】次に本発明のターミナルランドフレームの
他の実施形態について図面を参照しながら説明する。
Next, another embodiment of the terminal land frame of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0116】図14は本実施形態のターミナルランドフ
レームを示す平面図である。図15はターミナルランド
フレームのダイパッド部の詳細を示す図であり、図15
(a)は平面図、図15(b)は図15(a)のa−a
1箇所の断面図である。図16はターミナルランドフレ
ームの補強ランド構成体の詳細を示す図であり、図16
(a)は平面図、図16(b)は図16(a)のa−a
1箇所の断面図である。図17はターミナルランドフレ
ームのランド構成体の詳細を示す図であり、図17
(a)は平面図、図17(b)は図17(a)のa−a
1箇所の断面図であり、図17(c)は図17(a)の
b−b1箇所の断面図である。
FIG. 14 is a plan view showing the terminal land frame of the present embodiment. FIG. 15 is a view showing details of a die pad portion of the terminal land frame.
15A is a plan view, and FIG. 15B is aa of FIG.
It is sectional drawing of one place. FIG. 16 is a diagram showing details of the reinforcing land structure of the terminal land frame.
16A is a plan view, and FIG. 16B is aa of FIG.
It is sectional drawing of one place. FIG. 17 is a diagram showing details of the land structure of the terminal land frame.
17 (a) is a plan view, and FIG. 17 (b) is aa of FIG. 17 (a).
FIG. 17C is a cross-sectional view of one location, and FIG. 17C is a cross-sectional view of bb1 location in FIG.

【0117】まず図14に示すように本実施形態のター
ミナルランドフレームは、フレーム本体69と、半導体
素子が搭載されるダイパッド部70と、ダイパッド部7
0の周囲に配置され、外部ランド電極を構成するランド
構成体71とよりなるターミナルランドフレームであ
り、さらに1チップ領域の各角部に配置された補強ラン
ド構成体72より構成されるターミナルランドフレーム
である。図示するように補強ランド構成体72は他のラ
ンド構成体71よりも大きく構成されている。
First, as shown in FIG. 14, the terminal land frame of this embodiment has a frame main body 69, a die pad portion 70 on which a semiconductor element is mounted, and a die pad portion 7.
0 is a terminal land frame composed of a land configuration 71 constituting an external land electrode, and a terminal land frame composed of a reinforcing land configuration 72 disposed at each corner of one chip area. It is. As shown in the figure, the reinforcing land structure 72 is larger than the other land structures 71.

【0118】そして本実施形態のターミナルランドフレ
ームのダイパッド部70は、図15に示すように、半導
体素子が搭載される上面側に複数の溝部73が設けら
れ、封止樹脂との密着性を向上できる構成を有してい
る。
As shown in FIG. 15, the die pad portion 70 of the terminal land frame of the present embodiment is provided with a plurality of grooves 73 on the upper surface side on which the semiconductor element is mounted, thereby improving the adhesion with the sealing resin. It has a configuration that can be used.

【0119】また本実施形態のターミナルランドフレー
ムの補強ランド構成体72は、図16に示すように、溝
部74が環状に設けられ、封止樹脂との密着性を向上
し、応力を緩和することができる構成を有している。そ
して封止樹脂により封止された際、封止樹脂側の補強ラ
ンド構成体の上面の面積が、封止樹脂から露出した側の
補強ランド構成体の底面の面積よりも大きく、封止され
た側の補強ランド構成体の上面の溝部74のエッジ部は
曲面を有しており、封止樹脂がランド同様に強く結合
し、上部の溝部74にも充填されるため基板実装信頼性
が高く、ランド構成体71およびダイパッド部70を保
護する。あるいは補強ランド構成体72の下面部には突
出部75を有しているため、はんだとの接着力が向上し
実装信頼性が向上する。
As shown in FIG. 16, the reinforcing land structure 72 of the terminal land frame according to the present embodiment is provided with a groove 74 in an annular shape to improve the adhesion with the sealing resin and reduce the stress. It has a configuration that can be used. Then, when sealed with the sealing resin, the area of the upper surface of the reinforcing land structure on the sealing resin side is larger than the area of the bottom surface of the reinforcing land structure on the side exposed from the sealing resin, and sealing is performed. The edge portion of the groove portion 74 on the upper surface of the reinforcing land structure on the side has a curved surface, the sealing resin is strongly bonded like the land, and the upper groove portion 74 is also filled, so that the substrate mounting reliability is high, The land structure 71 and the die pad portion 70 are protected. Alternatively, since the lower surface of the reinforcing land structure 72 has the protruding portion 75, the adhesive force with the solder is improved, and the mounting reliability is improved.

【0120】すなわち補強ランド構成体72を有するこ
とにより、はんだ部および封止樹脂部の結合力が強くな
り、ランド構成体71、あるいはダイパット部70にか
かる応力が少なくなり、信頼性の高い樹脂封止型半導体
装置を供給することができる。
That is, the provision of the reinforcing land structure 72 increases the bonding force between the solder portion and the sealing resin portion, reduces the stress applied to the land structure 71 or the die pad portion 70, and increases the reliability of the resin sealing. It is possible to supply a fixed semiconductor device.

【0121】また本実施形態のターミナルランドフレー
ムのランド構成体71は、図17に示すように、その上
面に複数の溝部76を有し、その形状は楕円状のもので
あり、溝部76に封止樹脂が充填された際の応力を緩和
できるよう構成されている。また底面部には突出部77
が設けられ、実装時のはんだとの接着力が向上し実装信
頼性が向上する。
As shown in FIG. 17, the land structure 71 of the terminal land frame according to the present embodiment has a plurality of grooves 76 on its upper surface, and has an elliptical shape. It is configured so that the stress when the sealing resin is filled can be reduced. In addition, the protrusion 77
Are provided, the adhesive strength with the solder at the time of mounting is improved, and the mounting reliability is improved.

【0122】以上、本実施形態で示したようなターミナ
ルランドフレームを用いることにより、半導体素子を搭
載し、樹脂封止した後、封止樹脂部を切断し、ランド構
成体、ダイパッド部分の下方からの突き上げによりフレ
ーム本体自体を除去するだけで、樹脂封止型半導体装置
の底面部分に半導体素子と電気的に接続したランド電極
を配列した樹脂封止型半導体装置を得ることができる。
As described above, by using the terminal land frame as shown in the present embodiment, the semiconductor element is mounted, and after sealing with resin, the sealing resin portion is cut, and the land structure and the die pad portion are cut from below. By simply removing the frame body itself by pushing up, a resin-encapsulated semiconductor device in which land electrodes electrically connected to semiconductor elements are arranged on the bottom surface of the resin-encapsulated semiconductor device can be obtained.

【0123】その結果、面実装タイプの半導体装置が得
られ、従来のようなリード接合による実装に比べて、基
板実装の信頼性を向上させることができる。さらに樹脂
封止型半導体装置において、各ランド構成体の封止樹脂
からの突出量は、使用したターミナルランドフレーム本
体の厚み量から各ランド構成体自体がそのフレーム本体
から突出した量を差し引いた量に突出部を加えた量であ
り、分離が容易な突出量を選択することができ、突出部
によりスタンドオフの大半を確保するため生産性がよ
く、フレーム本体から製品を分離した時点で基板実装時
のスタンドオフが構成されるものであり、突出部の働き
ではんだとの接続信頼性が向上し、あえて別工程でラン
ド電極のスタンドオフを形成する必要がないものであ
る。
As a result, a surface-mount type semiconductor device is obtained, and the reliability of board mounting can be improved as compared with conventional mounting by lead bonding. Further, in the resin-encapsulated semiconductor device, the amount of protrusion of each land structure from the sealing resin is obtained by subtracting the amount of each land structure itself protruding from the frame body from the thickness of the used terminal land frame body. The amount of protrusion added to the frame allows you to select the amount of protrusion that is easy to separate.The protrusion secures most of the stand-off, improving productivity and mounting the board when the product is separated from the frame body In this case, a standoff at the time is formed, the reliability of connection with the solder is improved by the function of the protruding portion, and it is not necessary to form the standoff of the land electrode in a separate step.

【0124】また本実施形態の樹脂封止型半導体装置
は、BGAタイプの半導体装置のように、ランド電極を
設けた基板を用いるものでなく、ターミナルランドフレ
ームという金属板からなるフレーム本体から半導体装置
を構成するので、量産性、コスト性などの面において
は、従来のBGAタイプの半導体装置よりも有利とな
る。さらに製品加工工程において、上述のごとく、切断
歯による樹脂部の切断を行った後、フレーム本体の分離
のみを行えば、容易に完成体を得ることができるので、
従来のようなフレームからの分離において必要であった
リードカット工程、リードベンド工程をなくし、リード
カットによる製品へのダメージやカット精度の制約をな
くすことができ、製造工程の削減によってコスト力の強
めた画期的な技術を提供できるものである。
The resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment does not use a substrate provided with land electrodes unlike a BGA type semiconductor device. Is more advantageous than the conventional BGA type semiconductor device in terms of mass productivity and cost. Further, in the product processing step, as described above, after cutting the resin portion with the cutting teeth and then only separating the frame main body, the completed body can be easily obtained,
Eliminates lead cutting and bending steps that were required for conventional separation from the frame, eliminating damage to products and restrictions on cutting accuracy due to lead cutting. It can provide innovative technology.

【0125】[0125]

【発明の効果】以上、本発明のターミナルランドフレー
ムにより、従来のようなビーム状のリード電極に代え
て、ランド電極を有した樹脂封止型半導体装置を実現す
ることができる。そして本発明により、樹脂封止型半導
体装置の底面のランド電極を基板等を用いることなく、
フレーム状態から形成でき、エッチング加工の特徴とプ
レス加工の利点を生かした加工法により、信頼性が高
く、また自己整合的にランド電極のスタンドオフを形成
でき、従来にないフレーム構造、工法によりランド電極
を有したリードレスパッケージ型の樹脂封止型半導体装
置を実現することができるものである。
As described above, with the terminal land frame of the present invention, a resin-encapsulated semiconductor device having land electrodes can be realized in place of the conventional beam-shaped lead electrodes. According to the present invention, the land electrode on the bottom surface of the resin-encapsulated semiconductor device can be used without using a substrate or the like.
High reliability and self-aligned land electrode standoffs can be formed by a processing method that can be formed from the frame state and makes use of the features of etching processing and the advantages of press processing. It is possible to realize a leadless package type resin-sealed semiconductor device having electrodes.

【0126】また樹脂封止型半導体装置の製造方法にお
いては、従来のようにフレーム製作上のラインアンドス
ペース、設計仕様などの制約をなくし、リードがない
分、リードカット工程、リードベンド工程が不要であっ
て、樹脂封止後樹脂部を切断し、突き上げ処理により、
容易にフレーム本体を分離して、樹脂封止後の半導体装
置を得ることができ、工程削減による低コスト製造を実
現できるものである。さらに、樹脂封止の際の樹脂モレ
がなく、またランド構成体上への樹脂バリの発生もない
ため、樹脂バリ除去工程等の後工程が不要である。
Further, in the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device, there is no need for a lead cut step and a lead bend step because there are no leads, eliminating restrictions on line and space, design specifications, and the like in frame production. Then, after resin sealing, the resin part is cut,
The frame body can be easily separated to obtain a semiconductor device after resin sealing, and low-cost manufacturing can be realized by reducing the number of steps. Further, since there is no resin leakage at the time of resin sealing and no resin burr is generated on the land structure, a post-process such as a resin burr removal process is unnecessary.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムを示す平面図
FIG. 1 is a plan view showing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムのランド構成体を示す断面図
FIG. 2 is a sectional view showing a land structure of a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムのランド構成体を示す図
FIG. 3 is a view showing a land structure of a terminal land frame according to an embodiment of the present invention;

【図4】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムの製造方法を示す断面図
FIG. 4 is a sectional view showing a method for manufacturing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムの製造方法を示す断面図
FIG. 5 is a sectional view showing the method for manufacturing the terminal land frame according to the embodiment of the present invention;

【図6】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムの製造方法を示す断面図
FIG. 6 is a sectional view showing the method for manufacturing the terminal land frame according to the embodiment of the present invention;

【図7】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置を
示す断面図
FIG. 7 is a sectional view showing a resin-sealed semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図8】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置を
示す断面図
FIG. 8 is a sectional view showing a resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention.

【図9】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図
FIG. 9 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図10】本発明の一実施形態のターミナルランドフレ
ームを示す平面図
FIG. 10 is a plan view showing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図11】本発明の一実施形態のターミナルランドフレ
ームを示す断面図
FIG. 11 is a sectional view showing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図12】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
を示す断面図
FIG. 12 is a sectional view showing a resin-sealed semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図13】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 13 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図14】本発明の一実施形態のターミナルランドフレ
ームを示す平面図
FIG. 14 is a plan view showing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図15】本発明の一実施形態のターミナルランドフレ
ームのダイパッド部を示す図
FIG. 15 is a view showing a die pad portion of the terminal land frame according to the embodiment of the present invention;

【図16】本発明の一実施形態のターミナルランドフレ
ームの補強ランド構成体を示す図
FIG. 16 is a diagram showing a reinforcing land structure of a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図17】本発明の一実施形態のターミナルランドフレ
ームのランド構成体を示す図
FIG. 17 is a diagram showing a land structure of a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図18】従来のリードフレームを示す平面図FIG. 18 is a plan view showing a conventional lead frame.

【図19】従来の樹脂封止型半導体装置を示す断面図FIG. 19 is a sectional view showing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図20】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す平面図
FIG. 20 is a plan view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フレーム枠 2 ダイパッド部 3 吊りリード部 4 インナーリード部 5 アウターリード部 6 タイバー部 7 半導体素子 8 金属細線 9 封止樹脂 10 フレーム本体 11 薄厚部 12 ランド構成体 12a 底面部分 13 溝部 14 突出部 15 金属板 16 エッチングレジスト膜 17 エッチングレジスト膜 18 開口部 19 開口部 20 フレーム構成体 21 ダイ部 22 押え金型 23 開口部 24 パンチ部材 25 凹部 26 金属板 27 抜きダレ部 28 せん断部 29 破断部 30 ランド構成体 31 導電性接着剤 32 半導体素子 33 金属細線 34 封止樹脂 35 突出部 36 フレーム本体 37 薄厚部 38 突出部 39 ランド構成体 40 導電性接着剤 41 半導体素子 42 金属細線 43 封止樹脂 44 切断部 45 樹脂封止型半導体装置 46 フレーム本体 47 薄厚部 48 突出部 49 ランド構成体 50 ダイパッド部 51 ダイパッド部 52 導電性接着剤 53 半導体素子 54 金属細線 55 ランド構成体 56 封止樹脂 57 突出部 58 フレーム本体 59 薄厚部 60 突出部 61 ランド構成体 62 ダイパッド部 63 導電性接着剤 64 半導体素子 65 金属細線 66 封止樹脂 67 切断部 68 樹脂封止型半導体装置 69 フレーム本体 70 ダイパッド部 71 ランド構成体 72 補強ランド構成体 73 溝部 74 溝部 75 突出部 76 溝部 77 突出部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Frame frame 2 Die pad part 3 Suspended lead part 4 Inner lead part 5 Outer lead part 6 Tie bar part 7 Semiconductor element 8 Fine metal wire 9 Sealing resin 10 Frame main body 11 Thin part 12 Land structure 12a Bottom part 13 Groove part 14 Projection part 15 Metal plate 16 Etching resist film 17 Etching resist film 18 Opening 19 Opening 20 Frame structure 21 Die part 22 Pressing die 23 Opening 24 Punch member 25 Concave part 26 Metal plate 27 Pull-out part 28 Shear part 29 Break part 30 Land Structure 31 Conductive adhesive 32 Semiconductor element 33 Thin metal wire 34 Sealing resin 35 Projection 36 Frame body 37 Thin part 38 Projection 39 Land structure 40 Conductive adhesive 41 Semiconductor element 42 Fine metal wire 43 Sealing resin 44 Cutting Part 45 Resin-sealed semiconductor Device 46 Frame body 47 Thin part 48 Projection 49 Land structure 50 Die pad 51 Die pad 52 Conductive adhesive 53 Semiconductor element 54 Fine metal wire 55 Land structure 56 Sealing resin 57 Projection 58 Frame body 59 Thin part 60 Projection Unit 61 Land Structure 62 Die Pad 63 Conductive Adhesive 64 Semiconductor Element 65 Fine Metal Wire 66 Sealing Resin 67 Cutting Part 68 Resin Sealed Semiconductor Device 69 Frame Body 70 Die Pad 71 Land Structure 72 Reinforced Land Structure 73 Groove 74 Groove 75 Projection 76 Groove 77 Projection

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安達 修 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 (72)発明者 野村 徹 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Osamu Adachi, Inventor 1-1, Yukicho, Takatsuki-shi, Osaka, Japan Matsushita Electronics Corporation (72) Inventor Toru Nomura 1-1-1, Yukicho, Takatsuki-shi, Osaka, Matsushita Electronics Inside the corporation

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の領域内に配設され、薄厚部により前記フレ
ーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出し
て形成された複数のランド構成体と、薄厚部により前記
フレーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突
出して形成された半導体素子搭載用の支持体とよりなる
ターミナルランドフレームであって、前記各ランド構成
体はその上部に溝部を有し、底部に突出部を有している
ことを特徴とするターミナルランドフレーム。
1. A frame main body made of a metal plate, and a plurality of land structures provided in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body. And a terminal land frame connected to the frame main body by a thin portion, and a support for mounting a semiconductor element formed so as to protrude from the frame main body, wherein each of the land structures has a groove at an upper portion thereof. A terminal land frame having a protrusion at the bottom.
【請求項2】 薄厚部により前記フレーム本体と接続
し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成された半
導体素子搭載用の支持体はランド構成体であることを特
徴とする請求項1に記載のターミナルランドフレーム。
2. The support according to claim 1, wherein the support for mounting the semiconductor element, which is connected to the frame main body by a thin portion and protrudes from the frame main body, is a land structure. Terminal land frame.
【請求項3】 薄厚部により前記フレーム本体と接続
し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成された半
導体素子搭載用の支持体は、ダイパッド部であることを
特徴とする請求項1に記載のターミナルランドフレー
ム。
3. The support according to claim 1, wherein the support for mounting the semiconductor element, which is connected to the frame main body by a thin portion and protrudes from the frame main body, is a die pad part. Terminal land frame.
【請求項4】 フレーム枠を構成する金属板に対して、
上面と下面にそれぞれエッチングレジスト膜を形成する
第1の工程と、金属板内に溝部を形成したい部分のエッ
チングレジスト膜に対して、開口部を形成する第2の工
程と、前記金属板をエッチングして、前記開口部から露
出した金属板部分を加工して溝部を形成する第3の工程
と、金属板の溝部を形成した所定の位置を金型で押圧
し、半切断状態を形成して突出させ、ランド構成体を形
成する第4の工程とよりなることを特徴とするターミナ
ルランドフレームの製造方法。
4. A metal plate forming a frame,
A first step of forming an etching resist film on each of the upper and lower surfaces, a second step of forming an opening in a portion of the etching resist film where a groove is to be formed in the metal plate, and etching the metal plate. Then, a third step of processing the metal plate portion exposed from the opening to form a groove, and pressing a predetermined position where the groove of the metal plate is formed with a mold to form a half-cut state. And a fourth step of projecting and forming a land structure.
【請求項5】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の領域内に配設されて、薄厚部により前記フ
レーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出
して形成された複数のランド構成体とよりなるターミナ
ルランドフレームを用いて形成された樹脂封止型半導体
装置であって、第1のランド構成体群上に搭載された半
導体素子と、前記半導体素子の周辺に配置され、前記半
導体素子と金属細線により電気的に接続された第2のラ
ンド構成体群と、前記各ランド構成体群の底面を突出さ
せて前記半導体素子の外囲を封止した封止樹脂とよりな
り、前記各ランド構成体群の底面部は突出部を有してい
ることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
5. A frame main body made of a metal plate and a plurality of lands arranged in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body. A resin-encapsulated semiconductor device formed by using a terminal land frame made of a body, comprising: a semiconductor element mounted on a first land structure group; and a semiconductor element disposed around the semiconductor element; A second land component group electrically connected to the element by a thin metal wire, and a sealing resin that protrudes a bottom surface of each of the land component groups and seals an outer periphery of the semiconductor element; A resin-encapsulated semiconductor device, wherein a bottom surface of each land group has a protrusion.
【請求項6】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の領域内に配設されて、薄厚部により前記フ
レーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出
して形成された複数のランド構成体とよりなるターミナ
ルランドフレームを用いて形成された樹脂封止型半導体
装置であって、第1のランド構成体群上に搭載された半
導体素子と、前記半導体素子の周辺に配置され、前記半
導体素子と金属細線により電気的に接続された第2のラ
ンド構成体群と、前記各ランド構成体群の底面を突出さ
せて前記半導体素子の外囲を封止した封止樹脂とよりな
り、前記各ランド構成体群の上面部は溝部を有している
ことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
6. A frame main body made of a metal plate, and a plurality of lands arranged in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed so as to protrude from the frame main body. A resin-encapsulated semiconductor device formed by using a terminal land frame made of a body, comprising: a semiconductor element mounted on a first land structure group; and a semiconductor element disposed around the semiconductor element; A second land component group electrically connected to the element by a thin metal wire, and a sealing resin that protrudes a bottom surface of each of the land component groups and seals an outer periphery of the semiconductor element; A resin-encapsulated semiconductor device, wherein an upper surface of each land structure group has a groove.
【請求項7】 封止樹脂に封止された側のランド構成体
の上面の面積が、前記封止樹脂から露出した側のランド
構成体の底面の面積よりも大きく、封止された側のラン
ド構成体の上面のエッジ部は曲面を有していることを特
徴とする請求項5または請求項6に記載の樹脂封止型半
導体装置。
7. The area of the top surface of the land structure on the side sealed with the sealing resin is larger than the area of the bottom surface of the land structure on the side exposed from the sealing resin. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 5, wherein an edge portion of an upper surface of the land structure has a curved surface.
【請求項8】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の領域内であって、薄厚部により前記フレー
ム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出して
形成された半導体素子が搭載されるダイパッド部と、前
記フレーム本体の領域内であって前記ダイパッド部の周
囲に配設されて、薄厚部により前記フレーム本体と接続
し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成された複
数のランド構成体とよりなるターミナルランドフレーム
を用いて形成された樹脂封止型半導体装置であって、前
記ダイパッド部上に搭載された半導体素子と、前記半導
体素子の周辺に配置され、前記半導体素子と金属細線に
より電気的に接続されたランド構成体群と、前記ランド
構成体群の底面とダイパッド部の底面とを突出させて前
記半導体素子の外囲を封止した封止樹脂とよりなり、前
記各ランド構成体群および前記ダイパッド部の底面部は
突出部を有していることを特徴とする樹脂封止型半導体
装置。
8. A frame main body made of a metal plate, and a semiconductor element formed in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed so as to protrude from the frame main body. A die pad portion, and a plurality of land structures disposed in the region of the frame main body and around the die pad portion, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body. A resin-encapsulated semiconductor device formed using a terminal land frame comprising: a semiconductor element mounted on the die pad portion; and a semiconductor element disposed around the semiconductor element; An electrically connected land structure group, and an outer periphery of the semiconductor element formed by projecting a bottom surface of the land structure group and a bottom surface of the die pad portion. A resin-encapsulated semiconductor device, comprising: a sealing resin that seals a bottom surface of each land constituent body group and the die pad portion.
【請求項9】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の領域内であって、薄厚部により前記フレー
ム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出して
形成された半導体素子が搭載されるダイパッド部と、前
記フレーム本体の領域内であって前記ダイパッド部の周
囲に配設されて、薄厚部により前記フレーム本体と接続
し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成された複
数のランド構成体とよりなるターミナルランドフレーム
を用いて形成された樹脂封止型半導体装置であって、前
記ダイパッド部上に搭載された半導体素子と、前記半導
体素子の周辺に配置され、前記半導体素子と金属細線に
より電気的に接続されたランド構成体群と、前記ランド
構成体群の底面とダイパッド部の底面とを突出させて前
記半導体素子の外囲を封止した封止樹脂とよりなり、前
記各ランド構成体群および前記ダイパッド部の上面部は
溝部を有していることを特徴とする樹脂封止型半導体装
置。
9. A frame main body made of a metal plate and a semiconductor element formed in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body. A die pad portion, and a plurality of land structures disposed in the region of the frame main body and around the die pad portion, connected to the frame main body by a thin portion, and formed so as to protrude from the frame main body. A resin-encapsulated semiconductor device formed using a terminal land frame comprising: a semiconductor element mounted on the die pad portion; and a semiconductor element disposed around the semiconductor element; An electrically connected land structure group, and an outer periphery of the semiconductor element formed by projecting a bottom surface of the land structure group and a bottom surface of the die pad portion. A resin-encapsulated semiconductor device, comprising: a sealing resin in which a sealing member is sealed, and an upper surface portion of each of the land constituent groups and the die pad portion has a groove.
【請求項10】 封止樹脂に封止された側のランド構成
体の上面の面積が、前記封止樹脂から露出した側のラン
ド構成体の底面の面積よりも大きく、封止された側のラ
ンド構成体の上面のエッジ部は曲面を有しており、前記
封止樹脂に封止された側のダイパッド部の上面の面積
が、前記封止樹脂から露出した側のダイパッド部の底面
の面積よりも大きく、封止された側のダイパッド部の上
面のエッジ部は曲面を有していることを特徴とする請求
項8または請求項9に記載の樹脂封止型半導体装置。
10. The area of the top surface of the land structure on the side sealed with the sealing resin is larger than the area of the bottom surface of the land structure on the side exposed from the sealing resin. The edge portion on the top surface of the land structure has a curved surface, and the area of the top surface of the die pad portion on the side sealed with the sealing resin is the area of the bottom surface of the die pad portion on the side exposed from the sealing resin. 10. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 8, wherein an edge portion of the upper surface of the die pad portion on the side of the die pad which is larger than that of the die pad portion has a curved surface.
【請求項11】 金属板よりなるフレーム本体と、前記
フレーム本体の領域内に配設されて、薄厚部により前記
フレーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突
出して形成された複数のランド構成体群とよりなり、前
記ランド構成体群は前記フレーム本体から突出した方向
への押圧力により、前記薄厚部が破断されて前記ランド
構成体群が前記フレーム本体より分離される構成である
ターミナルランドフレームを用意する工程と、前記ター
ミナルランドフレームの前記ランド構成体群の一部のラ
ンド構成体の突出した側に半導体素子を搭載する工程
と、搭載した半導体素子とランド構成体とを金属細線に
より電気的に接続する工程と、前記半導体素子の外囲で
あって、前記ターミナルランドフレームの上面側のみを
封止樹脂により封止し、樹脂封止型半導体装置を形成す
る工程と、前記ターミナルランドフレームの上面側の封
止樹脂を切断する工程と、前記ターミナルランドフレー
ムの前記フレーム本体を固定した状態で前記フレーム本
体の底面側から前記ランド構成体の底面側に対して押圧
力を印加し、ランド構成体群とフレーム本体とを接続し
ている薄厚部を破断させ、前記フレーム本体から樹脂封
止型半導体装置を分離させ、整列することを特徴とする
樹脂封止型半導体装置の製造方法。
11. A frame body made of a metal plate and a plurality of lands disposed in a region of the frame body, connected to the frame body by a thin portion, and formed to protrude from the frame body. A terminal land comprising a body group, wherein the land structure group is configured such that the thin portion is broken by a pressing force in a direction protruding from the frame body and the land structure group is separated from the frame body. A step of preparing a frame, a step of mounting a semiconductor element on a protruding side of a part of the land structures of the land structure group of the terminal land frame, and a step of mounting the mounted semiconductor element and the land structure with a thin metal wire. Electrically connecting and sealing only the upper surface side of the terminal land frame around the semiconductor element with a sealing resin. Forming a resin-sealed semiconductor device, cutting the sealing resin on the upper surface side of the terminal land frame, and fixing the frame main body of the terminal land frame from the bottom side of the frame main body. A pressing force is applied to the bottom surface side of the land structure to break a thin portion connecting the land structure group and the frame main body, to separate the resin-encapsulated semiconductor device from the frame main body, and to align them. A method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device.
【請求項12】 金属板よりなるフレーム本体と、前記
フレーム本体の領域内であって、薄厚部により前記フレ
ーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出し
て形成された半導体素子が搭載されるダイパッド部と、
前記フレーム本体の領域内であって前記ダイパッド部の
周囲に配設されて、薄厚部により前記フレーム本体と接
続し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成された
複数のランド構成体とよりなり、前記ダイパッド部およ
び前記ランド構成体は、前記フレーム本体から突出した
方向への押圧力により、前記薄厚部が破断されて前記ラ
ンド構成体が前記フレーム本体より分離される構成であ
るターミナルランドフレームを用意する工程と、前記タ
ーミナルランドフレームの前記ダイパッド部の突出した
側に半導体素子を搭載する工程と、搭載した半導体素子
とランド構成体とを金属細線により電気的に接続する工
程と、前記半導体素子の外囲であって、前記ターミナル
ランドフレームの上面側のみを封止樹脂により封止する
工程と、前記ターミナルランドフレームの上面側の封止
樹脂を切断する工程と、前記ターミナルランドフレーム
の前記フレーム本体を固定した状態で前記フレーム本体
の底面側から前記ランド構成体の底面側と前記ダイパッ
ド部の底面側とに対して押圧力を印加し、ランド構成体
群およびダイパッド部とフレーム本体とを接続している
薄厚部を破断させ、前記フレーム本体から樹脂封止型半
導体装置を分離させ整列することを特徴とする樹脂封止
型半導体装置の製造方法。
12. A frame main body made of a metal plate and a semiconductor element formed in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed so as to protrude from the frame main body. Die pad part,
In the area of the frame main body, disposed around the die pad portion, connected to the frame main body by a thin portion, and comprises a plurality of land components formed to protrude from the frame main body, A terminal land frame is provided in which the die pad portion and the land structure are configured so that the thin portion is broken and the land structure is separated from the frame body by a pressing force in a direction protruding from the frame body. Performing a step of mounting a semiconductor element on a side of the terminal land frame where the die pad portion protrudes; a step of electrically connecting the mounted semiconductor element and the land structure with a thin metal wire; Enclosing only the upper surface side of the terminal land frame with a sealing resin, A step of cutting the sealing resin on the upper surface side of the null land frame, and a bottom surface side of the land structure and a bottom surface side of the die pad portion from the bottom surface side of the frame main body in a state where the frame main body of the terminal land frame is fixed. A thin portion connecting the land structure group and the die pad portion to the frame main body is broken, and the resin-encapsulated semiconductor device is separated from the frame main body and aligned. Manufacturing method of a resin-sealed semiconductor device.
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