JPH04247086A - 7−オキサビシクロヘプチル置換複素環式チオアミドプロスタグランジン類縁体 - Google Patents
7−オキサビシクロヘプチル置換複素環式チオアミドプロスタグランジン類縁体Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は7−オキサビシクロヘプ
チル置換複素環式チオアミドプロスタグランジン類縁体
、更に詳しくは、トロンボキサンA2(TXA2)レセ
プタ拮抗剤または複合トロンボキサンA2レセプタ拮抗
剤/トロンボキサンシンセターゼ抑制剤であって、たと
えば血栓症および/または血管痙攣疾患の治療に有用で
、かつ良好な作用持続を有するプロスタグランジン化合
物に関する。
チル置換複素環式チオアミドプロスタグランジン類縁体
、更に詳しくは、トロンボキサンA2(TXA2)レセ
プタ拮抗剤または複合トロンボキサンA2レセプタ拮抗
剤/トロンボキサンシンセターゼ抑制剤であって、たと
えば血栓症および/または血管痙攣疾患の治療に有用で
、かつ良好な作用持続を有するプロスタグランジン化合
物に関する。
【0002】
【発明の構成と効果】本発明に係るプロスタグランジン
化合物は、下式[I]で示され、その全ての立体異性体
を包含する。
化合物は、下式[I]で示され、その全ての立体異性体
を包含する。
【化16】
(式中、mは1、2または3;nは0、1、2、3また
は4;Zは−(CH2)2−、−CH=CH−または
は4;Zは−(CH2)2−、−CH=CH−または
【
化17】 YはO、単結合またはビニル(−CH=CH−)、但し
、nが0のとき、Zが
化17】 YはO、単結合またはビニル(−CH=CH−)、但し
、nが0のとき、Zが
【化18】
の場合YはOでなく、Zが−CH=CH−のとき、nは
1、2、3または4で、Yがビニルのとき、nは0;R
はCO2H、CO2・アルカリ金属、CO2・低級アル
キル、CH2OH、CONHSO2R3、CONHR3
aまたは
1、2、3または4で、Yがビニルのとき、nは0;R
はCO2H、CO2・アルカリ金属、CO2・低級アル
キル、CH2OH、CONHSO2R3、CONHR3
aまたは
【化19】
(−CH2−5−テトラゾリル);XはO、SまたはN
H;R1は水素、低級アルキル、低級アルケニル、低級
アルキニル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、
シクロアルキルアルキル、シクロヘテロアルキル、シク
ロヘテロアルキルアルキル、ヘテロアリールまたはヘテ
ロアリールアルキルで、これらのR1はそれぞれ非置換
または任意に低級アルキル、アリール、シクロアルキル
もしくはシクロアルキルアルキル基で置換されたもの;
R2は水素、低級アルキル、アリールまたはアラルキル
、またはR1およびR2はそれらが結合するNと合して
、5員〜8員環基;R3は低級アルキル、アリールまた
はアラルキル;およびR3aは水素、低級アルキル、ア
リールまたはアラルキルである)
H;R1は水素、低級アルキル、低級アルケニル、低級
アルキニル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、
シクロアルキルアルキル、シクロヘテロアルキル、シク
ロヘテロアルキルアルキル、ヘテロアリールまたはヘテ
ロアリールアルキルで、これらのR1はそれぞれ非置換
または任意に低級アルキル、アリール、シクロアルキル
もしくはシクロアルキルアルキル基で置換されたもの;
R2は水素、低級アルキル、アリールまたはアラルキル
、またはR1およびR2はそれらが結合するNと合して
、5員〜8員環基;R3は低級アルキル、アリールまた
はアラルキル;およびR3aは水素、低級アルキル、ア
リールまたはアラルキルである)
【0003】すなわち、本発明化合物には、以下に示す
タイプの化合物が含まれる。
タイプの化合物が含まれる。
【化20】
【化21】
なお、上記式[ID],[IE]および[IF]中、Z
1は−CH=CH−または−(CH2)2−である。
1は−CH=CH−または−(CH2)2−である。
【0004】本明細書で用いる各種語句の定義は、以下
の通りである。「低級アルキル」または「アルキル」と
しては、炭素数18以下、好ましくは1〜8の直鎖およ
び分枝鎖基が包含され、たとえばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、イソブチル
、ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、4,
4−ジメチルペンチル、オクチル、2,2,4−トリメ
チルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル
等、これらの各種分枝鎖異性体、並びにこれらの基であ
って、1、2または3個のハロ置換基、アリール置換基
、アルキル−アリール置換基、ハロアリール置換基、シ
クロアルキル置換基、アルキルシクロアルキル置換基、
ヒドロキシ置換基もしくはカルボキシル置換基を有する
ものが挙げられる。
の通りである。「低級アルキル」または「アルキル」と
しては、炭素数18以下、好ましくは1〜8の直鎖およ
び分枝鎖基が包含され、たとえばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、イソブチル
、ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、4,
4−ジメチルペンチル、オクチル、2,2,4−トリメ
チルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル
等、これらの各種分枝鎖異性体、並びにこれらの基であ
って、1、2または3個のハロ置換基、アリール置換基
、アルキル−アリール置換基、ハロアリール置換基、シ
クロアルキル置換基、アルキルシクロアルキル置換基、
ヒドロキシ置換基もしくはカルボキシル置換基を有する
ものが挙げられる。
【0005】「シクロアルキル」としては、炭素数3〜
12、好ましくは3〜8の飽和環式炭化水素基が包含さ
れる。たとえばシクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオ
クチル、シクロデシルおよびシクロドデシルが挙げられ
、これらの基はハロゲン、低級アルキル、アルコキシお
よび/ヒドロキシなどの置換基で置換されていてもよい
。
12、好ましくは3〜8の飽和環式炭化水素基が包含さ
れる。たとえばシクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオ
クチル、シクロデシルおよびシクロドデシルが挙げられ
、これらの基はハロゲン、低級アルキル、アルコキシお
よび/ヒドロキシなどの置換基で置換されていてもよい
。
【0006】「アリール」または「Ar」とは、環部の
炭素数6〜10のモノ環式またはジ環式芳香族基を指称
し、たとえばフェニル、ナフチルが挙げられる。アリー
ル(またはAr)、フェニルまたはナフチルには、置換
アリール、置換フェニルまたは置換ナフチルが含まれて
よく、これらの置換体はフェニルまたはナフチル環のい
ずれかにおいて、低級アルキル、トリフルオロメチル、
ハロゲン(Cl、Br、IまたはF)、低級アルコキシ
、アリールアルコキシ、ヒドロキシ、アルキルチオ、ア
ルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールチ
オ、アリールスルフィニルおよび/またはアリールスル
ホニルなどの1または2個の置換基を有するものであっ
てよい。
炭素数6〜10のモノ環式またはジ環式芳香族基を指称
し、たとえばフェニル、ナフチルが挙げられる。アリー
ル(またはAr)、フェニルまたはナフチルには、置換
アリール、置換フェニルまたは置換ナフチルが含まれて
よく、これらの置換体はフェニルまたはナフチル環のい
ずれかにおいて、低級アルキル、トリフルオロメチル、
ハロゲン(Cl、Br、IまたはF)、低級アルコキシ
、アリールアルコキシ、ヒドロキシ、アルキルチオ、ア
ルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールチ
オ、アリールスルフィニルおよび/またはアリールスル
ホニルなどの1または2個の置換基を有するものであっ
てよい。
【0007】「アラルキル」、「アリール−アルキル」
または「アリール−低級アルキル」とは、アリール置換
基を有する上述の低級アルキルを指称し、たとえばベン
ジルが挙げられる。
または「アリール−低級アルキル」とは、アリール置換
基を有する上述の低級アルキルを指称し、たとえばベン
ジルが挙げられる。
【0008】「低級アルコキシ」、「アルコキシ」また
は「アラルコキシ」としては、上記低級アルキル、アル
キルまたはアラルキルが酸素原子に結合したものが包含
される。
は「アラルコキシ」としては、上記低級アルキル、アル
キルまたはアラルキルが酸素原子に結合したものが包含
される。
【0009】「ハロゲン」または「ハロ」とは、塩素、
臭素、フッ素または沃素を指称し、塩素が好ましい。
臭素、フッ素または沃素を指称し、塩素が好ましい。
【0010】前記R1置換基における「低級アルケニル
」または「アルケニル」としては、少なくとも1つの飽
和炭素成分、たとえば−(CH2)q−(ここで、qは
1〜14)によって“N”から分離される、1個の二重
結合を含有する炭素数16以下、好ましくは3〜10の
炭素鎖が包含され、たとえば2−プロペニル、2−ブテ
ニル、3−ブテニル、2−ペンテニル、4−ペンテニル
等が挙げられ、またはこれらの基はI、ClまたはFな
どのハロゲン置換基を有していてもよい。
」または「アルケニル」としては、少なくとも1つの飽
和炭素成分、たとえば−(CH2)q−(ここで、qは
1〜14)によって“N”から分離される、1個の二重
結合を含有する炭素数16以下、好ましくは3〜10の
炭素鎖が包含され、たとえば2−プロペニル、2−ブテ
ニル、3−ブテニル、2−ペンテニル、4−ペンテニル
等が挙げられ、またはこれらの基はI、ClまたはFな
どのハロゲン置換基を有していてもよい。
【0011】前記R1置換基における「低級アルキニル
」または「アルキニル」としては、少なくとも1つの飽
和炭素成分、たとえば−(CH2)q’−(ここで、q
’は1〜14)によって“N”から分離される、1個の
三重結合を含有する炭素数16以下、好ましくは3〜1
0の炭素鎖が包含され、たとえば2−プロピニル、2−
ブチニル、3−ブチニル等が挙げられる。
」または「アルキニル」としては、少なくとも1つの飽
和炭素成分、たとえば−(CH2)q’−(ここで、q
’は1〜14)によって“N”から分離される、1個の
三重結合を含有する炭素数16以下、好ましくは3〜1
0の炭素鎖が包含され、たとえば2−プロピニル、2−
ブチニル、3−ブチニル等が挙げられる。
【0012】前記R1置換基における「シクロヘテロア
ルキル」とは、窒素、酸素および/または硫黄などの1
または2個のヘテロ原子を有し、かつヘテロ原子に対し
ベータまたはガンマ位の炭素原子を介して、
ルキル」とは、窒素、酸素および/または硫黄などの1
または2個のヘテロ原子を有し、かつヘテロ原子に対し
ベータまたはガンマ位の炭素原子を介して、
【化22】
の“N”に結合した、5員、6員または7員飽和環基を
指称し、たとえば
指称し、たとえば
【化23】
等が挙げられる。
【0013】前記R1置換基における「ヘテロアリール
」または「ヘテロ芳香族環基」とは、窒素、酸素または
硫黄などの1または2個のヘテロ原子を有し、かつヘテ
ロ原子を介して、
」または「ヘテロ芳香族環基」とは、窒素、酸素または
硫黄などの1または2個のヘテロ原子を有し、かつヘテ
ロ原子を介して、
【化24】
の“N”に直接結合していない、5員または6員芳香族
環基を指称し、たとえば
環基を指称し、たとえば
【化25】
等が挙げられる。
【0014】前記R1置換基における「シクロヘテロア
ルキルアルキル」とは、窒素、酸素または硫黄などの1
または2個のヘテロ原子を有し、かつ(CH2)x鎖(
ここで、xは1〜12、好ましくは1〜8)を介して、
ルキルアルキル」とは、窒素、酸素または硫黄などの1
または2個のヘテロ原子を有し、かつ(CH2)x鎖(
ここで、xは1〜12、好ましくは1〜8)を介して、
【化26】
の“N”に結合した、5員、6員または7員飽和環基を
指称し、たとえば
指称し、たとえば
【化27】
が挙げられる。
【0015】前記R1置換基における「ヘテロアリール
アルキル」とは、窒素、酸素または硫黄などの1、2、
3または4個のヘテロ原子を有し、かつ−(CH2)x
’−鎖(ここで、x’は1〜12、好ましくは1〜8)
を介して、
アルキル」とは、窒素、酸素または硫黄などの1、2、
3または4個のヘテロ原子を有し、かつ−(CH2)x
’−鎖(ここで、x’は1〜12、好ましくは1〜8)
を介して、
【化28】
の“N”に結合した、5員、6員または7員芳香族環基
を指称し、たとえば
を指称し、たとえば
【化29】
が挙げられる。
【0016】本発明化合物[I]にあって、Zが
【化3
0】 、およびXがOである化合物が好ましい。
0】 、およびXがOである化合物が好ましい。
【0017】本発明化合物[I]にあって、Zが
【化3
1】 、mが1、nが1または2、Yが単結合、XがO、Rが
CO2H、R1が置換アルキルまたはシクロヘテロアル
キルアルキル、およびR2がHまたは低級アルキルであ
り、−Y−(CH2)n−Rがオルソまたはメタ位にあ
る化合物が最も好ましい。
1】 、mが1、nが1または2、Yが単結合、XがO、Rが
CO2H、R1が置換アルキルまたはシクロヘテロアル
キルアルキル、およびR2がHまたは低級アルキルであ
り、−Y−(CH2)n−Rがオルソまたはメタ位にあ
る化合物が最も好ましい。
【0018】また好ましい本発明化合物[I]は、Zが
シス配置の−CH=CH−、mが1、nが2または3、
RがCO2H、R1が置換フェニルアルキルまたはシク
ロヘキシルアルキルおよびR2がHまたはメチルの化合
物である。
シス配置の−CH=CH−、mが1、nが2または3、
RがCO2H、R1が置換フェニルアルキルまたはシク
ロヘキシルアルキルおよびR2がHまたはメチルの化合
物である。
【0019】本発明化合物[I]は、以下の手順に従っ
て製造することができる。Zが
て製造することができる。Zが
【化32】
である本発明化合物[I]の製造を以下に示す。Yが単
結合、nが1、2、3または4およびXがOである本発
明化合物は、出発物質として、式:
結合、nが1、2、3または4およびXがOである本発
明化合物は、出発物質として、式:
【化33】
(式中、nは1、2、3または4である)のブロモフェ
ニルアルキルアルコール[A]を用いることにより製造
される。なお、上記ブロモフェニルアルキルアルコール
[A]をアミン塩基(たとえばトリエチルアミン)およ
び不活性溶媒の存在下、通常の操作に従い、t−ブチル
クロロジフェニルシランなどの保護化合物で処理して、
式:
ニルアルキルアルコール[A]を用いることにより製造
される。なお、上記ブロモフェニルアルキルアルコール
[A]をアミン塩基(たとえばトリエチルアミン)およ
び不活性溶媒の存在下、通常の操作に従い、t−ブチル
クロロジフェニルシランなどの保護化合物で処理して、
式:
【化34】
(式中、Proは保護基である)の保護されたブロモフ
ェニルアルキル化合物[B]を形成する。
ェニルアルキル化合物[B]を形成する。
【0020】上記ブロモフェニルアルキルアルコール[
A]との反応に用いるのに適した保護化合物の具体例と
しては、これらに限定されるものではないが、または
A]との反応に用いるのに適した保護化合物の具体例と
しては、これらに限定されるものではないが、または
【化35】
(t−ブチルクロロジフェニルシラン)が挙げられる。
【0021】次に保護された化合物[B]を、ジエチル
エーテルまたはテトラヒドロフランの存在下約−100
〜0℃の低温にて、t−C4H9Liまたはn−C4H
9Liで処理してメタレート転移(transmeta
llate)を行うか、または好ましくは、テトラヒド
ロフラン(THF)またはジエチルエーテルなどの不活
性有機溶媒の存在下マグネシウムで処理するグリニヤル
反応に付し、次いでTHFなどの不活性有機溶媒の存在
下約−78〜+25℃の低温にて、式:
エーテルまたはテトラヒドロフランの存在下約−100
〜0℃の低温にて、t−C4H9Liまたはn−C4H
9Liで処理してメタレート転移(transmeta
llate)を行うか、または好ましくは、テトラヒド
ロフラン(THF)またはジエチルエーテルなどの不活
性有機溶媒の存在下マグネシウムで処理するグリニヤル
反応に付し、次いでTHFなどの不活性有機溶媒の存在
下約−78〜+25℃の低温にて、式:
【化36】
の(エキソ)オクタヒドロ−5,8−エポキシ−1H−
ベンゾピラン−3−オールまたは(エキソ)オクタヒド
ロ−4,7−エポキシイソベンゾフラン−1−オール[
C](U.S.特許No.4143054の記載に従っ
て製造)と共に、[C]:[B]のモル比が約1:2〜
1:4範囲内となるように縮合を行い、式:
ベンゾピラン−3−オールまたは(エキソ)オクタヒド
ロ−4,7−エポキシイソベンゾフラン−1−オール[
C](U.S.特許No.4143054の記載に従っ
て製造)と共に、[C]:[B]のモル比が約1:2〜
1:4範囲内となるように縮合を行い、式:
【化37】
の縮合7−オキサビシクロヘプタン化合物[II]を形
成する。
成する。
【0022】次に、この縮合化合物[II]を、酢酸ま
たは不活性有機溶媒(たとえば酢酸エチル)中、水酸化
パラジウム/活性炭などの触媒の存在下、水素で処理す
る水添分解に付して、式:
たは不活性有機溶媒(たとえば酢酸エチル)中、水酸化
パラジウム/活性炭などの触媒の存在下、水素で処理す
る水添分解に付して、式:
【化38】
のアルコール[III]を形成する。
【0023】上記アルコール[III]の保護基(Pr
o)がt−ヘキシルジメチルシリルまたはt−ブチルジ
メチルシリルであるとき、アルコール[III]をピリ
ジンおよび塩化メチレンの存在下、塩化アセチルで処理
するアセチル化に付し、遊離アルコールのアセチル化を
行ってよく、このようにして形成したアセテートを通常
の方法で、たとえばアセトニトリルの存在下フッ化水素
酸水溶液で処理して脱保護を行い、シリル保護基を開裂
して、式:
o)がt−ヘキシルジメチルシリルまたはt−ブチルジ
メチルシリルであるとき、アルコール[III]をピリ
ジンおよび塩化メチレンの存在下、塩化アセチルで処理
するアセチル化に付し、遊離アルコールのアセチル化を
行ってよく、このようにして形成したアセテートを通常
の方法で、たとえばアセトニトリルの存在下フッ化水素
酸水溶液で処理して脱保護を行い、シリル保護基を開裂
して、式:
【化39】
の化合物[IIIA]を形成し、次いで化合物[III
A]を触媒(たとえば4,4−ジメチルアミノピリジン
)およびアミン(たとえばトリエチルアミン)および塩
化メチレンの存在下、t−ブチルジフェニルシリルクロ
リドなどの保護化合物で処理して保護基を付加し、次い
でジエチルエーテルなどの不活性溶媒中、水性水酸化物
/テトラヒドロフランまたは過剰のメチルリチウムで処
理してアセテートを除去し、式:
A]を触媒(たとえば4,4−ジメチルアミノピリジン
)およびアミン(たとえばトリエチルアミン)および塩
化メチレンの存在下、t−ブチルジフェニルシリルクロ
リドなどの保護化合物で処理して保護基を付加し、次い
でジエチルエーテルなどの不活性溶媒中、水性水酸化物
/テトラヒドロフランまたは過剰のメチルリチウムで処
理してアセテートを除去し、式:
【化40】
(式中、Proはt−ブチルジフェニルシリルである)
の保護されたアルコール[IIIB]を形成する。
の保護されたアルコール[IIIB]を形成する。
【0024】次に保護されたアルコール[IIIB]を
ジョーンズ酸化に付す。すなわち、約−10〜+25℃
に冷却したアセトン中の保護されたアルコール[III
B]の溶液をジョーンズ試薬[すなわち、「Fiese
r&Fieser」(Vol.1、142頁、1967
年),“有機合成のための試薬”の記載に従って製造し
た、CrO3を水存在下の硫酸に溶解または懸濁したも
の]で処理して、式:
ジョーンズ酸化に付す。すなわち、約−10〜+25℃
に冷却したアセトン中の保護されたアルコール[III
B]の溶液をジョーンズ試薬[すなわち、「Fiese
r&Fieser」(Vol.1、142頁、1967
年),“有機合成のための試薬”の記載に従って製造し
た、CrO3を水存在下の硫酸に溶解または懸濁したも
の]で処理して、式:
【化41】
の酸化合物[IV]を形成する。
【0025】次いで、テトラヒドロフランなどの不活性
有機溶媒中の酸化合物[IV]を、アルゴンなどの不活
性雰囲気中、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC
)または1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エ
チルカルボジイミド塩酸塩(WSC)および1−ヒドロ
キシベンゾトリアゾールおよびトリエチルアミンの存在
下、式:
有機溶媒中の酸化合物[IV]を、アルゴンなどの不活
性雰囲気中、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC
)または1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エ
チルカルボジイミド塩酸塩(WSC)および1−ヒドロ
キシベンゾトリアゾールおよびトリエチルアミンの存在
下、式:
【化42】
(式中、R4はメチルまたはエチルなどの低級アルキル
、またはベンジルなどのアリールアルキルである)のア
ミン塩酸塩[D]と共に、[D]:[IV]のモル比が
約1.2:1〜1:1範囲内となるように、カルボジイ
ミドカップリング反応に付し、式:
、またはベンジルなどのアリールアルキルである)のア
ミン塩酸塩[D]と共に、[D]:[IV]のモル比が
約1.2:1〜1:1範囲内となるように、カルボジイ
ミドカップリング反応に付し、式:
【化43】
のヒドロキシアミド[V]を形成する。
【0026】次にヒドロキシアミド[V]をシクロ脱水
に付す。すなわち、テトラヒドロフラン、アセトニトリ
ルまたはクロロホルムなどの不活性有機溶媒中のヒドロ
キシアミド[V]の溶液を、アルゴンなどの不活性雰囲
気下、トリエチルアミンまたはジイソプロピルエチルア
ミンなどのアミン塩基の存在下、トリフェニルホスフィ
ン([V]:トリフェニルホスフィンのモル比約0.8
:1〜1:1)および四塩化炭素で処理して、式:
に付す。すなわち、テトラヒドロフラン、アセトニトリ
ルまたはクロロホルムなどの不活性有機溶媒中のヒドロ
キシアミド[V]の溶液を、アルゴンなどの不活性雰囲
気下、トリエチルアミンまたはジイソプロピルエチルア
ミンなどのアミン塩基の存在下、トリフェニルホスフィ
ン([V]:トリフェニルホスフィンのモル比約0.8
:1〜1:1)および四塩化炭素で処理して、式:
【化
44】 のオキサゾリン[VI]を形成する。
44】 のオキサゾリン[VI]を形成する。
【0027】オキサゾリン[VI]を二酸化マンガンま
たは好ましくは過酸化ニッケル[ナカガワらの「J.O
rg.Chem.」(27、1597頁、1962年)
参照]で酸化して、式:
たは好ましくは過酸化ニッケル[ナカガワらの「J.O
rg.Chem.」(27、1597頁、1962年)
参照]で酸化して、式:
【化45】
のオキサゾール[VII]を形成する。
【0028】オキサゾール[VII]を対応する酸化合
物に変換する。すなわち、オキサゾール[VII]を水
酸化リチウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム
などの塩基で処理して、対応するアルカリ金属塩を形成
した後、希塩酸またはシュウ酸などの酸で中和して、式
:
物に変換する。すなわち、オキサゾール[VII]を水
酸化リチウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム
などの塩基で処理して、対応するアルカリ金属塩を形成
した後、希塩酸またはシュウ酸などの酸で中和して、式
:
【化46】
の酸化合物[VIII]を形成する。この酸化合物[V
III]を対応する酸クロリドに変換する。すなわち、
酸化合物[VIII]を必要に応じて、触媒量のジメチ
ルホルムアミド、およびベンゼン、トルエンまたは塩化
メチレンなどの溶媒の存在下、塩化オキサリルで処理す
る。 このようにして形成した酸クロリドを、約−10〜+1
0℃の温度に冷却した不活性溶媒(たとえば塩化メチレ
ンまたはトルエン)に溶解し、これにトリエチルアミン
またはピリジンなどのアミン塩基を加え、次いで式:
III]を対応する酸クロリドに変換する。すなわち、
酸化合物[VIII]を必要に応じて、触媒量のジメチ
ルホルムアミド、およびベンゼン、トルエンまたは塩化
メチレンなどの溶媒の存在下、塩化オキサリルで処理す
る。 このようにして形成した酸クロリドを、約−10〜+1
0℃の温度に冷却した不活性溶媒(たとえば塩化メチレ
ンまたはトルエン)に溶解し、これにトリエチルアミン
またはピリジンなどのアミン塩基を加え、次いで式:
【
化47】 のアミン[E]またはその塩を、[E]:[VIII]
のモル比が約1.1:1〜1.5:1範囲内となるよう
に加えて、式:
化47】 のアミン[E]またはその塩を、[E]:[VIII]
のモル比が約1.1:1〜1.5:1範囲内となるよう
に加えて、式:
【化48】
のオキサゾール[IX]を形成する。
【0029】次いでオキサゾール[IX]を通常の方法
で脱保護する。たとえば、アセトニトリルおよび塩化メ
チレンの存在下、フッ化水素酸水溶液で処理し、次いで
上述の操作を用いるジョーンズ酸化に付して、式:
で脱保護する。たとえば、アセトニトリルおよび塩化メ
チレンの存在下、フッ化水素酸水溶液で処理し、次いで
上述の操作を用いるジョーンズ酸化に付して、式:
【化
49】 のオキサゾール[IGX]を形成する。
49】 のオキサゾール[IGX]を形成する。
【0030】次にオキサゾール[IGX]を、約0〜2
5℃の温度にて、ジアゾメタンなどのジアゾアルカンと
、またはアルコール系溶剤中の強鉱酸(たとえばメタノ
ール性HCl)と反応させてエステル化し、式:
5℃の温度にて、ジアゾメタンなどのジアゾアルカンと
、またはアルコール系溶剤中の強鉱酸(たとえばメタノ
ール性HCl)と反応させてエステル化し、式:
【化5
0】 のエステル[IHX]を形成する。
0】 のエステル[IHX]を形成する。
【0031】次いでエステル[IHX]を加硫反応に付
す。すなわち、エステル[IHX]を加硫剤、たとえば
五硫化リンまたはラウエッソン試薬(Lawesson
s’ reagent)[2,4−ビス(4−メトキ
シフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタ
ン−2,4−ジスルフィド]と、加硫剤:[IHX]の
モル比が約2:1〜10:1、好ましくは約2:1〜4
:1範囲内となるように反応させる。反応は、ピリジン
、トリエチルアミンまたはトリブチルアミンなどの弱有
機塩基、および塩化メチレン、テトラヒドロフランなど
の不活性有機溶媒の存在下、約0〜100℃、好ましく
は約20〜40℃の温度で行い、式:
す。すなわち、エステル[IHX]を加硫剤、たとえば
五硫化リンまたはラウエッソン試薬(Lawesson
s’ reagent)[2,4−ビス(4−メトキ
シフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタ
ン−2,4−ジスルフィド]と、加硫剤:[IHX]の
モル比が約2:1〜10:1、好ましくは約2:1〜4
:1範囲内となるように反応させる。反応は、ピリジン
、トリエチルアミンまたはトリブチルアミンなどの弱有
機塩基、および塩化メチレン、テトラヒドロフランなど
の不活性有機溶媒の存在下、約0〜100℃、好ましく
は約20〜40℃の温度で行い、式:
【化51】
の本発明エステル[IH]を形成する。
【0032】より好ましい方法において、Yが単結合、
nが1、2、3または4およびXがOである本発明化合
物[I]は、出発物質として前記アルコール[III]
を用い、そのアルコール機能を保護することによって製
造することができる。たとえば、無水酢酸、ピリジンお
よび4−ジメチルアミノピリジンの溶液で処理して、式
:
nが1、2、3または4およびXがOである本発明化合
物[I]は、出発物質として前記アルコール[III]
を用い、そのアルコール機能を保護することによって製
造することができる。たとえば、無水酢酸、ピリジンお
よび4−ジメチルアミノピリジンの溶液で処理して、式
:
【化52】
の保護されたアルコール[X]を形成する。
【0033】別法として、化合物[II]をたとえば無
水酢酸およびピリジンの溶液で処理して保護を行い、式
:
水酢酸およびピリジンの溶液で処理して保護を行い、式
:
【化53】
の化合物[XI]を形成し、次いで上述の水添分解にし
て、保護されたアルコール[X]を得ることができる。
て、保護されたアルコール[X]を得ることができる。
【0034】Proがt−ブチルジメチルシリルまたは
ジメチル(1,1,2−トリメチルプロピル)シリルで
ある保護されたアルコール[X]を上述のジョーンズ酸
化に付して、粗酸化合物を形成し、これをTHFなどの
不活性有機溶媒の存在下、水性水酸化物と反応させて脱
アセチル化を行い、次いでたとえばジアゾメタンなどの
ジアゾアルカン、または酸性アルコール(たとえばメタ
ノール性HCl)で処理してエステル化を行い、式:
ジメチル(1,1,2−トリメチルプロピル)シリルで
ある保護されたアルコール[X]を上述のジョーンズ酸
化に付して、粗酸化合物を形成し、これをTHFなどの
不活性有機溶媒の存在下、水性水酸化物と反応させて脱
アセチル化を行い、次いでたとえばジアゾメタンなどの
ジアゾアルカン、または酸性アルコール(たとえばメタ
ノール性HCl)で処理してエステル化を行い、式:
【
化54】 のアルコールエステル[XII]を形成する。
化54】 のアルコールエステル[XII]を形成する。
【0035】アルコールエステル[XII]を形成する
他の方法において、保護されたアルコール[XI]をジ
ョーンズ酸化およびエステル化に付して、式:
他の方法において、保護されたアルコール[XI]をジ
ョーンズ酸化およびエステル化に付して、式:
【化55
】 のエステル[XIa]を形成し、次いで水添分解に付し
た後、エステル交換でアセテート保護基を除去して、ア
ルコールエステル[XII]を得る。
】 のエステル[XIa]を形成し、次いで水添分解に付し
た後、エステル交換でアセテート保護基を除去して、ア
ルコールエステル[XII]を得る。
【0036】次に、アルコールエステル[XII]をジ
ョーンズ酸化に付して、式:
ョーンズ酸化に付して、式:
【化56】
の酸化合物[XIII]を形成する。
【0037】他の方法において、nが1、Zが
【化57
】 、Yが単結合である酸化合物[XIII]は、アルコー
ル[III]から以下の手順で製造することができる。 すなわち、アルコール[III]をアルゴンなどの不活
性雰囲気下、ピリジンまたは他の有機塩基(たとえばト
リエチルアミン)の存在下、無水酢酸で処理して、対応
するアセテートを形成し、該アセテートを(n−C4H
9)4NFなどの脱保護剤で処理して、保護基を除去し
、式:
】 、Yが単結合である酸化合物[XIII]は、アルコー
ル[III]から以下の手順で製造することができる。 すなわち、アルコール[III]をアルゴンなどの不活
性雰囲気下、ピリジンまたは他の有機塩基(たとえばト
リエチルアミン)の存在下、無水酢酸で処理して、対応
するアセテートを形成し、該アセテートを(n−C4H
9)4NFなどの脱保護剤で処理して、保護基を除去し
、式:
【化58】
のアセテートアルコール[IIIC]を形成する。
【0038】次いでアセテートアルコール[IIIC]
をデス−マーチン(Dess−Martin)酸化に付
す。すなわち、乾燥塩化メチレン中のアセテートアルコ
ール[IIIC]の混合物を、デス−マーチンパーヨー
ジナン(periodinane)[J.Org.Ch
em.,48、4155頁、1983年参照]で処理し
て、式:
をデス−マーチン(Dess−Martin)酸化に付
す。すなわち、乾燥塩化メチレン中のアセテートアルコ
ール[IIIC]の混合物を、デス−マーチンパーヨー
ジナン(periodinane)[J.Org.Ch
em.,48、4155頁、1983年参照]で処理し
て、式:
【化59】
のアルデヒト[IIID]を形成し、次いで炭酸カリウ
ム/メタノールの存在下、N−ヨードスクシンアミド(
NIS)で処理して酸化し、式:
ム/メタノールの存在下、N−ヨードスクシンアミド(
NIS)で処理して酸化し、式:
【化60】
のアセテートエステル[IIIE]を形成する。
【0039】アセテートエステル[IIIE]/メタノ
ールを炭酸カリウムなどの弱塩基で処理して脱保護を行
い、次いで得られるアルコールを上述のジョーンズ酸化
に付し、nが1である酸化合物[XIII]を形成する
。
ールを炭酸カリウムなどの弱塩基で処理して脱保護を行
い、次いで得られるアルコールを上述のジョーンズ酸化
に付し、nが1である酸化合物[XIII]を形成する
。
【0040】次いで酸化合物[XIII]を、上述の酸
化合物[IV]の場合と同様に、R4がベンジルである
アミン塩酸塩[D]によるカルボジイミドカップリング
反応に付して、式:
化合物[IV]の場合と同様に、R4がベンジルである
アミン塩酸塩[D]によるカルボジイミドカップリング
反応に付して、式:
【化61】
のアミド[XIV]を形成する。
【0041】次いでアミド[XIV]を、上述のアミド
[V]のシクロ脱水の場合と同様なシクロ脱水に付して
、式:
[V]のシクロ脱水の場合と同様なシクロ脱水に付して
、式:
【化62】
のオキサゾリン[XV]を形成し、これを二酸化マンガ
ンもしくは過酸化ニッケル、または好ましくは臭化銅お
よび1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−
7−エン(DBU)を用いる酸化に付して、式:
ンもしくは過酸化ニッケル、または好ましくは臭化銅お
よび1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−
7−エン(DBU)を用いる酸化に付して、式:
【化6
3】 のオキサゾール[XVI]を形成する。
3】 のオキサゾール[XVI]を形成する。
【0042】上記臭化銅酸化は、約20〜70℃の温度
にて、臭化銅:[XV]のモル比約2:1〜6:1およ
び臭化銅:DBUのモル比約1:1〜1:3を用い、不
活性溶媒、たとえば酢酸エチル、または好ましくは酢酸
エチル/クロロホルム(1:1、v/v)中で行う。後
者の酸化は、本発明による新規な方法である。
にて、臭化銅:[XV]のモル比約2:1〜6:1およ
び臭化銅:DBUのモル比約1:1〜1:3を用い、不
活性溶媒、たとえば酢酸エチル、または好ましくは酢酸
エチル/クロロホルム(1:1、v/v)中で行う。後
者の酸化は、本発明による新規な方法である。
【0043】次いでオキサゾール[XVI]を脱保護に
付し、R4を除去する。たとえば、酢酸エチルなどの不
活性溶媒の存在下、水酸化パラジウム/活性炭および水
素で処理して、対応する式:
付し、R4を除去する。たとえば、酢酸エチルなどの不
活性溶媒の存在下、水酸化パラジウム/活性炭および水
素で処理して、対応する式:
【化64】
の酸化合物[XVII]を形成する。
【0044】次いで酸化合物[XVII]を、上記酸化
合物[VIII]の場合と同様な方法で対応する酸クロ
リドに変換し、得られる酸クロリドをアミン[E]によ
り、上記酸化合物[VIII]の場合と同様な方法およ
び[E]:[XVII]のモル比で処理して、エステル
[IHX]を形成し、これを上記と同様に加硫し、対応
する本発明エステル[IH]を形成する。
合物[VIII]の場合と同様な方法で対応する酸クロ
リドに変換し、得られる酸クロリドをアミン[E]によ
り、上記酸化合物[VIII]の場合と同様な方法およ
び[E]:[XVII]のモル比で処理して、エステル
[IHX]を形成し、これを上記と同様に加硫し、対応
する本発明エステル[IH]を形成する。
【0045】本発明エステル[IH]の製造の他の好ま
しい方法において、酸化合物[XIII]を上記と同様
な、ジシクロヘキシルカルボジイミドまたは1−(3−
ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド
塩酸塩および1−ヒドロキシベンゾトリアゾールおよび
トリエチルアミンの存在下、式:
しい方法において、酸化合物[XIII]を上記と同様
な、ジシクロヘキシルカルボジイミドまたは1−(3−
ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド
塩酸塩および1−ヒドロキシベンゾトリアゾールおよび
トリエチルアミンの存在下、式:
【化65】
のアミン[Da]によるカルボジイミドカップリング反
応に付して、式:
応に付して、式:
【化66】
のヒドロキシアミド[XIV’]を形成する。
【0046】次いでヒドロキシアミド[XIV’]を、
上述のオキサゾリン[VI]製造の場合と同様なシクロ
脱水に付す。この変換の好ましい方法には、以下に示す
処理が必要である。すなわち、ヒドロキシアミド[XI
V’]をトリエチルアミンなどのアミンの存在下、メタ
ンスルホニルクロリドなどのアルキルスルホニルクロリ
ドで処理した後、得られるアルキルスルホネート中間体
を炭酸カリウム/アセトンで処理して、式:
上述のオキサゾリン[VI]製造の場合と同様なシクロ
脱水に付す。この変換の好ましい方法には、以下に示す
処理が必要である。すなわち、ヒドロキシアミド[XI
V’]をトリエチルアミンなどのアミンの存在下、メタ
ンスルホニルクロリドなどのアルキルスルホニルクロリ
ドで処理した後、得られるアルキルスルホネート中間体
を炭酸カリウム/アセトンで処理して、式:
【化67】
のオキサゾリン[XV’]を形成し、次いでこれを上述
のオキサゾール[XVI]製造の場合と同様な酸化に付
し、オキサゾール[IHX]を形成し、次いで上述の加
硫を行って、本発明エステル[IH]を形成する。
のオキサゾール[XVI]製造の場合と同様な酸化に付
し、オキサゾール[IHX]を形成し、次いで上述の加
硫を行って、本発明エステル[IH]を形成する。
【0047】次にエステル[IH]をアルカリ金属塩基
の水溶液、次いで酸水溶液で処理して加水分解を行い、
対応する酸化合物[IG]を形成してもよい。
の水溶液、次いで酸水溶液で処理して加水分解を行い、
対応する酸化合物[IG]を形成してもよい。
【0048】YがOおよびXがOである本発明化合物[
I]は、以下の手順に従って製造することができる。 式:
I]は、以下の手順に従って製造することができる。 式:
【化68】
のブロモフェノール[A1]を通常の方法に従い、保護
化合物、たとえばクロロ−t−ブチルジメチルシラン、
臭化ベンジルまたはブロモメチルメチルエーテル、好ま
しくはオルソ−ブロモフェノールの場合臭化ベンジルま
たはブロモメチルメチルエーテルで処理して、式:
化合物、たとえばクロロ−t−ブチルジメチルシラン、
臭化ベンジルまたはブロモメチルメチルエーテル、好ま
しくはオルソ−ブロモフェノールの場合臭化ベンジルま
たはブロモメチルメチルエーテルで処理して、式:
【化
69】 (式中、Proは保護基である)の保護されたブロモフ
ェニル化合物[B1]を形成する。
69】 (式中、Proは保護基である)の保護されたブロモフ
ェニル化合物[B1]を形成する。
【0049】上記ブロモフェノール[A1]との反応に
好適に用いられる保護化合物の具体例としては、上記ア
ルコール[A]の保護の場合に例示したものが挙げられ
る。
好適に用いられる保護化合物の具体例としては、上記ア
ルコール[A]の保護の場合に例示したものが挙げられ
る。
【0050】次いで保護された化合物[B1]を、上述
の保護された化合物[B]のメタレート転移でn−ブチ
ルリチウム/THFを用いる場合と同様な操作に従って
メタレート転移に付し、次いで半アセタール[C]と縮
合せしめ、式:
の保護された化合物[B]のメタレート転移でn−ブチ
ルリチウム/THFを用いる場合と同様な操作に従って
メタレート転移に付し、次いで半アセタール[C]と縮
合せしめ、式:
【化70】
の縮合した7−オキサビシクロヘプタン化合物[XXI
I]を形成する。
I]を形成する。
【0051】次いで縮合した化合物[XXII]を水添
分解に付す。すなわち、触媒(たとえばパラジウム/活
性炭)/酢酸の存在下、水素で処理して、Proがシリ
ルもしくはメトキシメチルエーテル保護基の場合は式:
分解に付す。すなわち、触媒(たとえばパラジウム/活
性炭)/酢酸の存在下、水素で処理して、Proがシリ
ルもしくはメトキシメチルエーテル保護基の場合は式:
【化71】
のアルコール[XXIII]を形成し、またはProが
ベンジルの場合は直接、式:
ベンジルの場合は直接、式:
【化72】
の脱保護されたアルコール[XXIV]を形成する。
【0052】Proがシリル保護基のとき、アルコール
[XXIII]を、たとえばアセトニトリルおよび水性
フッ化水素酸の溶液で処理して脱保護を行い、脱保護さ
れたアルコール[XXIV]を形成する。
[XXIII]を、たとえばアセトニトリルおよび水性
フッ化水素酸の溶液で処理して脱保護を行い、脱保護さ
れたアルコール[XXIV]を形成する。
【0053】次いでアルコール[XXIV]をアルキル
化に付す。すなわち、アルコール[XXIV]のテトラ
ヒドロフラン溶液を等モルの水素化ナトリウムまたは1
〜4当量の炭酸塩塩基(たとえば炭酸カリウム)で処理
する。 得られるフェノキシド溶液を不活性有機溶媒、たとえば
THFもしくはジメチルホルムアミドまたはジメトキシ
エタンの存在下、式:Hal−(CH2)n−CO2ア
ルキル [F]のハロ
アルカン酸エステル[F]により、[F]:[XXIV
]のモル比約1:1〜3:1にて処理し、アルキル化を
行い、式:
化に付す。すなわち、アルコール[XXIV]のテトラ
ヒドロフラン溶液を等モルの水素化ナトリウムまたは1
〜4当量の炭酸塩塩基(たとえば炭酸カリウム)で処理
する。 得られるフェノキシド溶液を不活性有機溶媒、たとえば
THFもしくはジメチルホルムアミドまたはジメトキシ
エタンの存在下、式:Hal−(CH2)n−CO2ア
ルキル [F]のハロ
アルカン酸エステル[F]により、[F]:[XXIV
]のモル比約1:1〜3:1にて処理し、アルキル化を
行い、式:
【化73】
のエステル[XXV]を形成する。
【0054】別法として、アルコール[XXIII]の
保護基がメトキシメチルであるとき、遊離ヒドロキシル
をベンジルエーテルとして保護する。酸水溶液で処理し
て、メトキシメチル保護基を除去する。得られるフェノ
ールを、上記アルコール[XXIV]のアルキル化の場
合と同様に、たとえばブロモ酢酸エチルを用いてアルキ
ル化する。次いで、水酸化パラジウム/水素による水添
分解でベンジル保護基を除去して、エステル[XXV]
を得る。
保護基がメトキシメチルであるとき、遊離ヒドロキシル
をベンジルエーテルとして保護する。酸水溶液で処理し
て、メトキシメチル保護基を除去する。得られるフェノ
ールを、上記アルコール[XXIV]のアルキル化の場
合と同様に、たとえばブロモ酢酸エチルを用いてアルキ
ル化する。次いで、水酸化パラジウム/水素による水添
分解でベンジル保護基を除去して、エステル[XXV]
を得る。
【0055】別法として、出発物質のアルコールエステ
ル[XXV]は、U.S.特許No.4536513に
記載の方法に準じて製造することができる。
ル[XXV]は、U.S.特許No.4536513に
記載の方法に準じて製造することができる。
【0056】次に、アルコールエステル[XXV]を、
上記アルコール[IIIB]の酸化の場合と同様なジョ
ーンズ酸化に付して、式:
上記アルコール[IIIB]の酸化の場合と同様なジョ
ーンズ酸化に付して、式:
【化74】
の酸化合物[XXVI]を形成する。
【0057】次いで酸化合物[XXVI]を用い、上記
酸化合物[XIII]をエステル[IH]に変換する場
合と同様な操作に従って、式:
酸化合物[XIII]をエステル[IH]に変換する場
合と同様な操作に従って、式:
【化75】
の本発明化合物[IJ]および[IK]を製造する。
【0058】Yが単結合またはOおよびXがSである本
発明化合物[I]は、出発物質として酸化合物[XII
I]または[XXVI]を用い、以下の手順に従って製
造することができる。
発明化合物[I]は、出発物質として酸化合物[XII
I]または[XXVI]を用い、以下の手順に従って製
造することができる。
【0059】酸化合物[XIII]または[XXVI]
を、必要に応じて触媒量のジメチルホルムアミド/塩化
メチレンの存在下、塩化オキサリルと反応させて、対応
する酸クロリドを形成し、これをアンモニアと反応させ
てアミド化を行い、式:
を、必要に応じて触媒量のジメチルホルムアミド/塩化
メチレンの存在下、塩化オキサリルと反応させて、対応
する酸クロリドを形成し、これをアンモニアと反応させ
てアミド化を行い、式:
【化76】
のアミド[XXVII]を形成する。
【0060】別法として、酸化合物[XIII]または
[XXVI]をトリエチルアミンなどのアミンの存在下
、アルキルクロロホルメートと反応させて、混合無水物
を形成し、これをメタノール/アンモニア溶液または濃
アンモニア水溶液と反応させてアミド化を行い、アミド
[XXVII]を形成する。
[XXVI]をトリエチルアミンなどのアミンの存在下
、アルキルクロロホルメートと反応させて、混合無水物
を形成し、これをメタノール/アンモニア溶液または濃
アンモニア水溶液と反応させてアミド化を行い、アミド
[XXVII]を形成する。
【0061】次いでアミド[XXVII]を五硫化リン
(P2S5)またはラウエッソン試薬[2,4−ビス(
4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジ
ホスフェタン−2,4−ジスルフィド]で処理して、対
応する式:
(P2S5)またはラウエッソン試薬[2,4−ビス(
4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジ
ホスフェタン−2,4−ジスルフィド]で処理して、対
応する式:
【化77】
のチオアミド[XXVIII]を形成し、これをジメチ
ルホルムアミドなどの極性溶媒中、K2CO3などの弱
塩基の存在下、ブロモピルビン酸(Br−CH2−CO
−CO2H)により、[XXVIII]:ブロモピルビ
ン酸のモル比約1:1〜1:1.5で処理して、式:
ルホルムアミドなどの極性溶媒中、K2CO3などの弱
塩基の存在下、ブロモピルビン酸(Br−CH2−CO
−CO2H)により、[XXVIII]:ブロモピルビ
ン酸のモル比約1:1〜1:1.5で処理して、式:
【
化78】 のチアゾリン[XXIX]を形成する。
化78】 のチアゾリン[XXIX]を形成する。
【0062】次いでチアゾリン[XXIX]をトリエチ
ルアミンなどの塩基の存在下、メタンスルホニルクロリ
ドなどのスルホニルクロリドで処理して脱水し、式:
ルアミンなどの塩基の存在下、メタンスルホニルクロリ
ドなどのスルホニルクロリドで処理して脱水し、式:
【
化79】 のチアゾール酸化合物[XXX]を形成し、次いでこれ
をアルゴンなどの不活性雰囲気下、DCCまたはWSC
の存在下で、式:HN−R1
|
[E]R2のアミン[E
]と、[E]:[XXX]のモル比約1:1〜2:1の
割合で反応させるカルボジイミドカップリング反応に付
して、式:
化79】 のチアゾール酸化合物[XXX]を形成し、次いでこれ
をアルゴンなどの不活性雰囲気下、DCCまたはWSC
の存在下で、式:HN−R1
|
[E]R2のアミン[E
]と、[E]:[XXX]のモル比約1:1〜2:1の
割合で反応させるカルボジイミドカップリング反応に付
して、式:
【化80】
のアミド[ILX]を形成し、これを上述の加硫に付し
、式:
、式:
【化81】
の本発明エステル[IL]を形成する。
【0063】別法として、酸化合物[XXX]をベンゼ
ンなどの非極性溶媒中、塩化オキサリルで処理して対応
酸クロリドに変換することにより、活性化することがで
きる。次いで酸クロリドに、トリエチルアミンまたはピ
リジンなどのアミン塩基を用いて、アミン[E]をカッ
プリングさせることによりエステル[ILX]を形成し
、次いでこれを上述の加硫に付して、エステル[IL]
を形成する。
ンなどの非極性溶媒中、塩化オキサリルで処理して対応
酸クロリドに変換することにより、活性化することがで
きる。次いで酸クロリドに、トリエチルアミンまたはピ
リジンなどのアミン塩基を用いて、アミン[E]をカッ
プリングさせることによりエステル[ILX]を形成し
、次いでこれを上述の加硫に付して、エステル[IL]
を形成する。
【0064】Yが単結合またはOおよびXがNHである
本発明化合物[I]は、出発物質として酸化合物[XI
II]または[XXVI]を用いることにより製造され
る。 すなわち、酸化合物[XIII]または[XXVI]を
、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカ
ルボジイミド塩酸塩(WSC)および1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール(HOBT)などのカップリング剤お
よび塩化メチレンの存在下、式: (式中、BOCはt−ブチルオキシカルボニルおよび
Proはベンジルなどの保護基である)のアミンによる
、[XIII]または[XXVI]:[G]のモル比約
1.2:1〜1:1のカップリング反応に約12〜90
時間にわたって付す。得られるアミドをベンゼンの存在
下、約50〜75℃の温度にて、ラウエッソン試薬で約
1〜4時間処理する加硫反応に付して、式:
本発明化合物[I]は、出発物質として酸化合物[XI
II]または[XXVI]を用いることにより製造され
る。 すなわち、酸化合物[XIII]または[XXVI]を
、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカ
ルボジイミド塩酸塩(WSC)および1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール(HOBT)などのカップリング剤お
よび塩化メチレンの存在下、式: (式中、BOCはt−ブチルオキシカルボニルおよび
Proはベンジルなどの保護基である)のアミンによる
、[XIII]または[XXVI]:[G]のモル比約
1.2:1〜1:1のカップリング反応に約12〜90
時間にわたって付す。得られるアミドをベンゼンの存在
下、約50〜75℃の温度にて、ラウエッソン試薬で約
1〜4時間処理する加硫反応に付して、式:
【化82】
のエステル[XXXI]を形成する。
【0065】このエステル[XXXI]を以下の手順で
環化する。すなわち、エステル[XXXI]の不活性溶
剤(たとえばアセトニトリル、クロロホルムまたはテト
ラヒドロフラン)の溶液を、トリエチルアミンまたはジ
イソプロピルエチルアミンなどのアミン塩基の存在下、
トリフェニルホスフィン([XXXI]:トリフェニル
ホスフィンのモル比約0.8:1〜1:1)および四塩
化炭素で処理して、式:
環化する。すなわち、エステル[XXXI]の不活性溶
剤(たとえばアセトニトリル、クロロホルムまたはテト
ラヒドロフラン)の溶液を、トリエチルアミンまたはジ
イソプロピルエチルアミンなどのアミン塩基の存在下、
トリフェニルホスフィン([XXXI]:トリフェニル
ホスフィンのモル比約0.8:1〜1:1)および四塩
化炭素で処理して、式:
【化83】
のイミダゾリン[XXXII]を形成する。
【0066】次いでイミダゾリン[XXXII]を通常
の方法で脱保護に付し、たとえば保護基Proがベンジ
ルの場合水素添加によりProを除去して、式:
の方法で脱保護に付し、たとえば保護基Proがベンジ
ルの場合水素添加によりProを除去して、式:
【化8
4】 の酸化合物[XXXIII]を形成する。次に酸化合物
[XXXIII]をアルゴンなどの不活性雰囲気下、ピ
リジンまたはトリエチルアミンなどのアミン塩基および
WSCおよびHOBTなどのカップリング剤およびクロ
ロホルムの存在下、アミン[E]による[E]:[XX
XIII]のモル比約0.8:1〜1.2:1のカップ
リング反応に付して、式:
4】 の酸化合物[XXXIII]を形成する。次に酸化合物
[XXXIII]をアルゴンなどの不活性雰囲気下、ピ
リジンまたはトリエチルアミンなどのアミン塩基および
WSCおよびHOBTなどのカップリング剤およびクロ
ロホルムの存在下、アミン[E]による[E]:[XX
XIII]のモル比約0.8:1〜1.2:1のカップ
リング反応に付して、式:
【化85】
のアミド[XXXIV]を形成する。
【0067】次いでアミド[XXXIV]の塩化メチレ
ン溶液をトリフルオロ酢酸で処理してBOC基を除去し
、式:
ン溶液をトリフルオロ酢酸で処理してBOC基を除去し
、式:
【化86】
のアミド[XXXV]を形成する。アミド[XXXV]
をクロロホルムなどの不活性溶媒の存在下、二酸化マン
ガンなどの酸化剤で処理して酸化し、式:
をクロロホルムなどの不活性溶媒の存在下、二酸化マン
ガンなどの酸化剤で処理して酸化し、式:
【化87】
のエステル[IMX]を形成する。
【0068】次いでエステル[IMX]を上述の加硫に
付して、対応する式:
付して、対応する式:
【化88】
の本発明エステル[IM]を形成する。
【0069】nが0およびYが単結合である本発明化合
物、すなわち、式:
物、すなわち、式:
【化89】
の安息香酸化合物またはその誘導体[IN]は、出発物
質として式:
質として式:
【化90】
のブロモベンジルアルコール[A2]を用いることによ
り製造しうる。すなわち、ブロモベンジルアルコール[
A2]を通常の方法に従い、4−ジメチルアミノピリジ
ン、およびトリエチルアミンなどのアミン塩基および塩
化メチレンなどの不活性溶媒の存在下、t−ブチルクロ
ロジフェニルシランなどの保護化合物で処理して、式:
り製造しうる。すなわち、ブロモベンジルアルコール[
A2]を通常の方法に従い、4−ジメチルアミノピリジ
ン、およびトリエチルアミンなどのアミン塩基および塩
化メチレンなどの不活性溶媒の存在下、t−ブチルクロ
ロジフェニルシランなどの保護化合物で処理して、式:
【化91】
(式中、Proは保護基である)の保護されたブロモベ
ンジル化合物[B2]を形成する。
ンジル化合物[B2]を形成する。
【0070】臭化ベンジルの除去において好適に使用し
うる保護化合物の具体例としては、前記ブロモフェニル
アルキルアルコール[A]との反応で例示したものが挙
げられる。
うる保護化合物の具体例としては、前記ブロモフェニル
アルキルアルコール[A]との反応で例示したものが挙
げられる。
【0071】次いで保護された化合物[B2]を、ジエ
チルエーテルまたはテトラヒドロフランの存在下、約−
100〜0℃の低温にて、t−C4H9Liまたはn−
C4H9Liで処理するメタレート転移に付し(または
テトラヒドロフラン(THF)またはジエチルエーテル
などの不活性有機溶媒の存在下マグネシウム処理による
グリニヤル反応に付し)、次いでTHFなどの不活性有
機溶媒の存在下、約−78〜+25℃の低温にて、式:
チルエーテルまたはテトラヒドロフランの存在下、約−
100〜0℃の低温にて、t−C4H9Liまたはn−
C4H9Liで処理するメタレート転移に付し(または
テトラヒドロフラン(THF)またはジエチルエーテル
などの不活性有機溶媒の存在下マグネシウム処理による
グリニヤル反応に付し)、次いでTHFなどの不活性有
機溶媒の存在下、約−78〜+25℃の低温にて、式:
【化92】
の(エキソ)オクタヒドロ−5,8−エポキシ−1H−
ベンゾピラン−3−オールまたは(エキソ)オクタヒド
ロ−4,7−エポキシイソベンゾフラン−1−オール[
C](U.S.特許No.4143054の記載に準じ
製造)と共に、[C]:[B2]のモル比約1:2〜1
:4で縮合を行い、式:
ベンゾピラン−3−オールまたは(エキソ)オクタヒド
ロ−4,7−エポキシイソベンゾフラン−1−オール[
C](U.S.特許No.4143054の記載に準じ
製造)と共に、[C]:[B2]のモル比約1:2〜1
:4で縮合を行い、式:
【化93】
の縮合した7−オキサビシクロヘプタン化合物[IIA
]を形成する。
]を形成する。
【0072】次いで化合物[IIA]をたとえば、4−
ジメチルアミノピリジンの存在下、無水酢酸およびピリ
ジンの溶液で保護して、式:
ジメチルアミノピリジンの存在下、無水酢酸およびピリ
ジンの溶液で保護して、式:
【化94】
の保護されたアルコール[XIA]を形成する。
【0073】次いで保護されたアルコール[XIA]を
通常の方法で脱保護し、得られるアルコールを上述のジ
ョーンズ酸化に付して、粗酸化合物を形成する。粗酸化
合物をTHFなどの不活性有機溶媒の存在下、水性水酸
化物との反応で脱アセチル化し、次いでたとえばジアゾ
メタンなどのジアゾアルカン、または酸性アルコールに
よる処理でエステル化して、式:
通常の方法で脱保護し、得られるアルコールを上述のジ
ョーンズ酸化に付して、粗酸化合物を形成する。粗酸化
合物をTHFなどの不活性有機溶媒の存在下、水性水酸
化物との反応で脱アセチル化し、次いでたとえばジアゾ
メタンなどのジアゾアルカン、または酸性アルコールに
よる処理でエステル化して、式:
【化95】
のアルコールエステル[XIIA]を形成する。
【0074】次いでアルコールエステル[XIIA]を
上述の水添分解に付して、式:
上述の水添分解に付して、式:
【化96】
のアルコールエステル[XIIB]を得る。
【0075】次にアルコールエステル[XIIB]をジ
ョーンズ酸化に付して、式:
ョーンズ酸化に付して、式:
【化97】
の酸化合物[XIIIA]を形成し、これを酸化合物[
XIII]の代わりに用いて、式:
XIII]の代わりに用いて、式:
【化98】
の本発明化合物[IH’]を形成する。
【0076】好ましい方法において、nが0、mが1お
よびYが単結合で、Rがオルソ位にある本発明化合物、
すなわち、式:
よびYが単結合で、Rがオルソ位にある本発明化合物、
すなわち、式:
【化99】
の安息香酸化合物またはその誘導体[INa]は、出発
物質として、式:
物質として、式:
【化100】
のオキサゾリン[B3][A.I.マイヤーズらの「J
.Org.Chem.」(39、2787頁、1974
年)の記載に準じ製造]を用いることにより製造しうる
。すなわち、オキサゾリン[B3]をジエチルエーテル
またはテトラヒドロフランの存在下、約−100〜0℃
の低温にて、t−C4H9Liまたはn−C4H9Li
による処理でメタレートし、次いでTHFなどの不活性
有機溶媒の存在下、約−78〜0℃の低温にて、式:
.Org.Chem.」(39、2787頁、1974
年)の記載に準じ製造]を用いることにより製造しうる
。すなわち、オキサゾリン[B3]をジエチルエーテル
またはテトラヒドロフランの存在下、約−100〜0℃
の低温にて、t−C4H9Liまたはn−C4H9Li
による処理でメタレートし、次いでTHFなどの不活性
有機溶媒の存在下、約−78〜0℃の低温にて、式:
【化101】
の(エキソ)オクタヒドロ−4,7−エポキシイソベン
ゾフラン−1−オール[Ca](U.S.特許No.4
143054の記載に準じ製造)と共に、[Ca]:[
B3]のモル比約1:2〜1:4で縮合を行い、式:
ゾフラン−1−オール[Ca](U.S.特許No.4
143054の記載に準じ製造)と共に、[Ca]:[
B3]のモル比約1:2〜1:4で縮合を行い、式:
【化102】
の縮合した7−オキサビシクロヘプタン化合物[IIA
’]を形成する。
’]を形成する。
【0077】次いで化合物[IIA’]を水性シュウ酸
で処理する水性酸性加水分解に付して、式:
で処理する水性酸性加水分解に付して、式:
【化103
】 の化合物[XIA’]を形成し、次いで上述の水添分解
およびエステル化に付して、式:
】 の化合物[XIA’]を形成し、次いで上述の水添分解
およびエステル化に付して、式:
【化104】
のアルコールエステル化合物[XIIB’]を得る。
【0078】化合物[XIIB’]を化合物[XIIB
]の代わりに用いて、式:
]の代わりに用いて、式:
【化105】
の酸化合物[XIIIA’]を形成する。
【0079】次いで酸化合物[XIIIA]または[X
IIIA’]を酸化合物[XIII]の代わりに用いて
、対応する式:
IIIA’]を酸化合物[XIII]の代わりに用いて
、対応する式:
【化106】
の安息香酸化合物[IOX]を形成する。かかる化合物
[IOX]には、式:
[IOX]には、式:
【化107】
の化合物[IPX],[IQX],[IRX]が包含さ
れ、これらのそれぞれを上述の加硫反応に付して、対応
する本発明の加硫エステル化合物[IO],[IP],
[IQ]および[IR](式化せず)を形成しうる。
れ、これらのそれぞれを上述の加硫反応に付して、対応
する本発明の加硫エステル化合物[IO],[IP],
[IQ]および[IR](式化せず)を形成しうる。
【0080】Zが
【化108】
およびYが−CH=CH−である本発明化合物[I]は
、出発物質として、nが2であるアルコール[XII]
を用いることにより製造しうる。すなわち、アルコール
[XII]をトリエチルアミンなどのアミン塩基、塩化
メチレンなどの不活性溶媒、およびN,N−ジメチルア
ミノピリジン(DMAP)の存在下、上述のシラン保護
化合物で処理して、式:
、出発物質として、nが2であるアルコール[XII]
を用いることにより製造しうる。すなわち、アルコール
[XII]をトリエチルアミンなどのアミン塩基、塩化
メチレンなどの不活性溶媒、およびN,N−ジメチルア
ミノピリジン(DMAP)の存在下、上述のシラン保護
化合物で処理して、式:
【化109】
の保護されたアルコール[XIIa]を形成する。
【0081】次いで保護されたアルコール[XIIa]
をアルゴン下、ジイソプロピルアミンとt−ブチルリチ
ウムまたはn−ブチルリチウムの冷却(−78〜0℃)
混合物の形状の、リチウムジイソプロピルアミドで処理
する。得られる混合物を約−78〜+25℃の温度にて
、ジフェニルジセレニドで処理して、対応する式:
をアルゴン下、ジイソプロピルアミンとt−ブチルリチ
ウムまたはn−ブチルリチウムの冷却(−78〜0℃)
混合物の形状の、リチウムジイソプロピルアミドで処理
する。得られる混合物を約−78〜+25℃の温度にて
、ジフェニルジセレニドで処理して、対応する式:
【化
110】 のセレニド[XIIb]を形成する。
110】 のセレニド[XIIb]を形成する。
【0082】セレニド[XIIb]を酢酸エチルおよび
/またはメタノールなどの不活性有機溶媒中、水性過酸
化水素などの酸化剤で処理して、式:
/またはメタノールなどの不活性有機溶媒中、水性過酸
化水素などの酸化剤で処理して、式:
【化111】
のシンナメート[XIIc]を形成する。シンナメート
[XIIc]をメタノールなどの有機溶媒の存在下、塩
化アセチルで処理して、シンナメート[XIIc]から
保護基を除去し、式:
[XIIc]をメタノールなどの有機溶媒の存在下、塩
化アセチルで処理して、シンナメート[XIIc]から
保護基を除去し、式:
【化112】
のアルコール[XIId]を形成する。次いでアルコー
ル[XIId]を用い、上述の方法に従って、Zが
ル[XIId]を用い、上述の方法に従って、Zが
【化
113】 である本発明化合物[I]を形成することができる。
113】 である本発明化合物[I]を形成することができる。
【0083】nが2である出発物質のブロモフェニルア
ルキルアルコール[A]は、以下の手順で製造すること
ができる。すなわち、式:
ルキルアルコール[A]は、以下の手順で製造すること
ができる。すなわち、式:
【化114】
のアルデヒド[M]を、(C6H5)3PCHCO2C
H3によるヴィッティッヒ反応に付して、式:
H3によるヴィッティッヒ反応に付して、式:
【化115】
のエステル[N]を形成し、これをメタノール中、ロジ
ウム/アルミナ触媒の存在下、水素処理による二重結合
還元に付して、式:
ウム/アルミナ触媒の存在下、水素処理による二重結合
還元に付して、式:
【化116】
のエステル[O]を形成する。次いでエステル[O]を
トルエン溶媒の存在下、水素化ジイソブチルアルミニウ
ムによる処理で還元して、アルコール[A]を形成する
。
トルエン溶媒の存在下、水素化ジイソブチルアルミニウ
ムによる処理で還元して、アルコール[A]を形成する
。
【0084】Zが−CH=CH−または−(CH2)2
−である本発明化合物[I]は、以下の手順に従って製
造することができる。Zが−CH=CH−で好ましくは
シス型であり、XがOである本発明化合物は、出発物質
として、式:
−である本発明化合物[I]は、以下の手順に従って製
造することができる。Zが−CH=CH−で好ましくは
シス型であり、XがOである本発明化合物は、出発物質
として、式:
【化117】
のヒドロキシメチル化合物[AA](U.S.特許No
,4143054の記載に準じ製造)を用いることによ
り製造される。すなわち、化合物[AA]をアルゴンな
どの不活性雰囲気下アセトン中、約−10〜+20℃の
温度にて、ジョーンズ試薬[CrO3を水性硫酸に溶解
または懸濁したもの、「Fieser&Fieser」
(Vol.1、142頁、1967年)の記載に準じ製
造]と反応させて、対応する式:
,4143054の記載に準じ製造)を用いることによ
り製造される。すなわち、化合物[AA]をアルゴンな
どの不活性雰囲気下アセトン中、約−10〜+20℃の
温度にて、ジョーンズ試薬[CrO3を水性硫酸に溶解
または懸濁したもの、「Fieser&Fieser」
(Vol.1、142頁、1967年)の記載に準じ製
造]と反応させて、対応する式:
【化118】
のカルボン酸[BB]を形成する。
【0085】次いでカルボン酸[BB]をテトラヒドロ
フランなどの不活性有機溶媒中、アルゴンなどの不活性
雰囲気下、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)
または1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチ
ルカルボジイミド塩酸塩(WSC)および1−ヒドロキ
シベンゾトリアゾールの存在下、式:
フランなどの不活性有機溶媒中、アルゴンなどの不活性
雰囲気下、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)
または1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチ
ルカルボジイミド塩酸塩(WSC)および1−ヒドロキ
シベンゾトリアゾールの存在下、式:
【化119】
のアミド[Da]による、[Da]:[BB]のモル比
約1.2:1〜1:1のカルボジイミドカップリング反
応に付して、式:
約1.2:1〜1:1のカルボジイミドカップリング反
応に付して、式:
【化120】
のヒドロキシビスアミド[IIa]を形成する。
【0086】次いでヒドロキシビスアミド[IIa]を
シクロ脱水に付す。すなわち、ヒドロキシビスアミド[
IIa]のテトラヒドロ、アセトニトリルまたはクロロ
ホルムなどの不活性有機溶剤の溶液を、アルゴンなどの
不活性雰囲気下、トリエチルアミンなどのアミン塩基の
存在下、トリフェニルホスフィンおよび四塩化炭素で処
理して、式:
シクロ脱水に付す。すなわち、ヒドロキシビスアミド[
IIa]のテトラヒドロ、アセトニトリルまたはクロロ
ホルムなどの不活性有機溶剤の溶液を、アルゴンなどの
不活性雰囲気下、トリエチルアミンなどのアミン塩基の
存在下、トリフェニルホスフィンおよび四塩化炭素で処
理して、式:
【化121】
のオキサゾリン[IIIa]を形成する。
【0087】別法として、ヒドロキシビスアミド[II
a]を、メタンスルホニルクロリドなどのスルホニルク
ロリド、およびトリエチルアミンなどのアミン塩基で処
理した後、炭酸カリウム/アセトンで処理して、オキサ
ゾリン[IIIa]を形成する。
a]を、メタンスルホニルクロリドなどのスルホニルク
ロリド、およびトリエチルアミンなどのアミン塩基で処
理した後、炭酸カリウム/アセトンで処理して、オキサ
ゾリン[IIIa]を形成する。
【0088】オキサゾリン[IIIa]を二酸化マンガ
ンまたは好ましくは過酸化ニッケルで処理して酸化し、
式:
ンまたは好ましくは過酸化ニッケルで処理して酸化し、
式:
【化122】
のオキサゾール[IDa]を形成する。別法として、オ
キサゾール[IDa]は式:
キサゾール[IDa]は式:
【化123】
の酸化合物[BB]から製造することができる。すなわ
ち、アミド[Da]の代わりに式:
ち、アミド[Da]の代わりに式:
【化124】
の化合物[CCa]を用いる以外は同様に上述のカルボ
ジイミドカップリングを行い、式:
ジイミドカップリングを行い、式:
【化125】
(式中、Proは通常の保護基である)のヒドロキシア
ミド[IIb]を得る。
ミド[IIb]を得る。
【0089】次いでヒドロキシアミド[IIb]を化合
物[IIa]および[IIIa]に対して記載したシク
ロ脱水および酸化に付し、式:
物[IIa]および[IIIa]に対して記載したシク
ロ脱水および酸化に付し、式:
【化126】
の化合物[ID’]を形成する。化合物[ID’]の保
護基を除去して、対応する式:
護基を除去して、対応する式:
【化127】
の酸化合物[ID’’]を形成し、これをアルゴンなど
の不活性雰囲気下で撹拌しながら、トルエン、塩化メチ
レンまたはクロロホルムなどの不活性有機溶媒、および
必要に応じて触媒量のジメチルホルムアミドの存在下、
過剰の塩化オキサリルで処理して、式:
の不活性雰囲気下で撹拌しながら、トルエン、塩化メチ
レンまたはクロロホルムなどの不活性有機溶媒、および
必要に応じて触媒量のジメチルホルムアミドの存在下、
過剰の塩化オキサリルで処理して、式:
【化128】
の粗酸クロリド[IDa”]を形成し、次いでこれをア
ルゴンなどの不活性雰囲気下、トリエチルアミンなどの
有機塩基の存在下、式: のアミン塩酸塩[E’]により、[IDa”]:[E’
]のモル比約0.5:1〜2:1、好ましくは約0.8
:1〜1:1で処理して、式:
ルゴンなどの不活性雰囲気下、トリエチルアミンなどの
有機塩基の存在下、式: のアミン塩酸塩[E’]により、[IDa”]:[E’
]のモル比約0.5:1〜2:1、好ましくは約0.8
:1〜1:1で処理して、式:
【化129】
の化合物[IDa”’]を形成し、これを上述の加硫反
応に付して、対応する式:
応に付して、対応する式:
【化130】
の本発明のチオアミド[IDax]を形成することがで
きる。
きる。
【0090】Zがトランス二重結合異性体である−CH
=CH−である本発明化合物[I]は、出発物質として
、シス二重結合を有するヒドロキシメチル化合物[AA
]を用いることによって製造しうる。すなわち、化合物
[AA]をイミダゾールまたはトリエチルアミン、およ
び塩化メチレンまたはテトラヒドロフランなどの不活性
有機溶媒の存在下、t−ブチルジメチルシリルクロリド
などの保護化合物または上述の他のシリル保護基で処理
して、式:
=CH−である本発明化合物[I]は、出発物質として
、シス二重結合を有するヒドロキシメチル化合物[AA
]を用いることによって製造しうる。すなわち、化合物
[AA]をイミダゾールまたはトリエチルアミン、およ
び塩化メチレンまたはテトラヒドロフランなどの不活性
有機溶媒の存在下、t−ブチルジメチルシリルクロリド
などの保護化合物または上述の他のシリル保護基で処理
して、式:
【化131】
の保護された化合物[AA’]を形成する。
【0091】保護された化合物[AA’]の塩化メチレ
ンまたはアセトンなどの不活性有機溶剤の溶液を、約−
78〜−60℃の低温にて過剰オゾンで処理した後、ジ
メチルスルフィド([AA’]):(CH3)2Sのモ
ル比約0.01:1〜0.2:1)で処理し、式:
ンまたはアセトンなどの不活性有機溶剤の溶液を、約−
78〜−60℃の低温にて過剰オゾンで処理した後、ジ
メチルスルフィド([AA’]):(CH3)2Sのモ
ル比約0.01:1〜0.2:1)で処理し、式:
【化132】
のアルデヒド[AA2]を形成する。
【0092】次いでアルデヒド[AA2]を塩化メチレ
ンまたはクロロホルムなどの不活性有機溶媒中、臭化リ
チウムまたは塩化リチウムおよびトリメチルホスホノア
セテートおよびトリエチルアミンの混合物で処理して、
式:
ンまたはクロロホルムなどの不活性有機溶媒中、臭化リ
チウムまたは塩化リチウムおよびトリメチルホスホノア
セテートおよびトリエチルアミンの混合物で処理して、
式:
【化133】
のエステル[AA3]を形成する。
【0093】エステル[AA3]のテトラヒドロフラン
、ジエチルエーテルまたはジメトキシエタンなどの不活
性有機溶剤の溶液を約−78〜0℃の温度に冷却し、ト
ルエンなどの芳香族溶剤中の水素化ジイソブチルアルミ
ニウムと約0.5〜4時間にわたって反応させ、式:
、ジエチルエーテルまたはジメトキシエタンなどの不活
性有機溶剤の溶液を約−78〜0℃の温度に冷却し、ト
ルエンなどの芳香族溶剤中の水素化ジイソブチルアルミ
ニウムと約0.5〜4時間にわたって反応させ、式:
【
化134】 のアルコール[AA4]を形成する。
化134】 のアルコール[AA4]を形成する。
【0094】アルコール[AA4]を臭化ブロモトリフ
ェニルホスホニウム(アルゴンなどの不活性雰囲気下、
約−10〜+10℃の低温にて、トリフェニルホスフィ
ン/トルエンまたは他の芳香族溶剤に臭素を加えること
によって製造)により、ピリジンおよびトルエンの存在
下、約−10〜+10℃の低温で処理して、式:
ェニルホスホニウム(アルゴンなどの不活性雰囲気下、
約−10〜+10℃の低温にて、トリフェニルホスフィ
ン/トルエンまたは他の芳香族溶剤に臭素を加えること
によって製造)により、ピリジンおよびトルエンの存在
下、約−10〜+10℃の低温で処理して、式:
【化1
35】 のブロミド[AA5]を形成する。
35】 のブロミド[AA5]を形成する。
【0095】酢酸t−ブチルまたは酢酸エチルなどの酢
酸エステルを、約−78〜−60℃の低温にて、リチウ
ムジイソプロピルアミド(LDA)のテトラヒドロフラ
ンなどの不活性有機溶剤の溶液で約0.5〜2時間にわ
たって処理した後、上記ブロミド[AA5]のテトラヒ
ドロフランなどの不活性溶剤の溶液を加えて、式:
酸エステルを、約−78〜−60℃の低温にて、リチウ
ムジイソプロピルアミド(LDA)のテトラヒドロフラ
ンなどの不活性有機溶剤の溶液で約0.5〜2時間にわ
たって処理した後、上記ブロミド[AA5]のテトラヒ
ドロフランなどの不活性溶剤の溶液を加えて、式:
【化
136】 のエステル[AA6](n=2)を形成する。
136】 のエステル[AA6](n=2)を形成する。
【0096】Zがトランス型の−CH=CH−およびn
が1、3または4である本発明化合物の場合、アルデヒ
ド[XI]をトルエン中の強塩基(たとえばt−アミル
酸カリウム)またはNaH/ジメチルスルホキシドの存
在下、式:
が1、3または4である本発明化合物の場合、アルデヒ
ド[XI]をトルエン中の強塩基(たとえばt−アミル
酸カリウム)またはNaH/ジメチルスルホキシドの存
在下、式:
【化137】
のホスホニウム塩[P]と反応させ、式:
【化138】
の化合物[XIII’]を得、次いで公知の方法で酸化
およびエステル化を行い、エステル[AA6](n=1
、3または4)を形成する。
およびエステル化を行い、エステル[AA6](n=1
、3または4)を形成する。
【0097】次いでエステル[AA6]をメタノール中
、アルゴンなどの不活性雰囲気下、塩化水素酸/メタノ
ール(メタノールに塩化アセチルを加えて製造)で処理
して脱保護を行い、式:
、アルゴンなどの不活性雰囲気下、塩化水素酸/メタノ
ール(メタノールに塩化アセチルを加えて製造)で処理
して脱保護を行い、式:
【化139】
のアルコール[AA7]を形成する。
【0098】次いで、出発物質の化合物[AA]の代わ
りにアルコール[AA7]を用い、上述の方法に従って
、式:
りにアルコール[AA7]を用い、上述の方法に従って
、式:
【化140】
の酸化合物[AA8]を形成し、続いて式:
【化141
】 の本発明のトランス化合物[IDaa]を形成する。
】 の本発明のトランス化合物[IDaa]を形成する。
【0099】Zが−CH=CH−およびXがSである本
発明化合物[IB]は、出発物質として酸化合物[BB
]または[AA8]を用い、以下の手順に従って製造す
ることができる。酸化合物[BB]または[AA8]を
塩化メチレン中、必要に応じて触媒量のジメチルホルム
アミドの存在下、塩化オキサリルと反応させて、対応す
る酸クロリドを形成し、これをアンモニアとの反応でア
ミド化し、式:
発明化合物[IB]は、出発物質として酸化合物[BB
]または[AA8]を用い、以下の手順に従って製造す
ることができる。酸化合物[BB]または[AA8]を
塩化メチレン中、必要に応じて触媒量のジメチルホルム
アミドの存在下、塩化オキサリルと反応させて、対応す
る酸クロリドを形成し、これをアンモニアとの反応でア
ミド化し、式:
【化142】
のアミド[XXXVII]を形成する。
【0100】別法として、酸化合物[BB]または[A
A8]をトリエチルアミンなどのアミンの存在下、アル
キルクロロホルメートと反応させて、混合無水物を形成
し、これをメタノール/アンモニア溶液または濃アンモ
ニア水溶液との反応でアミド化し、アミド[XXXVI
I]を形成する。
A8]をトリエチルアミンなどのアミンの存在下、アル
キルクロロホルメートと反応させて、混合無水物を形成
し、これをメタノール/アンモニア溶液または濃アンモ
ニア水溶液との反応でアミド化し、アミド[XXXVI
I]を形成する。
【0101】次いでアミド[XXXVII]を五硫化リ
ン(P2S5)またはラウエッソン試薬[2,4−ビス
(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−
ジホスフェタン−2,4−ジスルフイド]で処理して、
対応する式:
ン(P2S5)またはラウエッソン試薬[2,4−ビス
(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−
ジホスフェタン−2,4−ジスルフイド]で処理して、
対応する式:
【化143】
のチオアミド[XXXVIII]を形成し、これをジメ
チルホルムアミドなどの極性溶媒中、K2CO3などの
弱塩基の存在下、ブロモピルビン酸(Br−CH2−C
O−CO2H)により、[XXXVIII]:ブロモピ
ルビン酸のモル比約1:1〜1:1.5で処理して、式
:
チルホルムアミドなどの極性溶媒中、K2CO3などの
弱塩基の存在下、ブロモピルビン酸(Br−CH2−C
O−CO2H)により、[XXXVIII]:ブロモピ
ルビン酸のモル比約1:1〜1:1.5で処理して、式
:
【化144】
のチアゾリン[XXXIX]を形成する。
【0102】次いでチアゾリン[XXXIX]をトリエ
チルアミンなどの塩基の存在下、メタンスルホニルクロ
リドなどのスルホニルクロリドで処理して脱保護を行い
、式:
チルアミンなどの塩基の存在下、メタンスルホニルクロ
リドなどのスルホニルクロリドで処理して脱保護を行い
、式:
【化145】
のチアゾール酸化合物[XL]を形成し、次いでこれを
アルゴンなどの不活性雰囲気下、DCCまたはWSCの
存在下、式: のアミン[A”’]による、[A”’]:[XL]のモ
ル比約1:1〜2:1のカルボジイミドカップリング反
応に付して、式:
アルゴンなどの不活性雰囲気下、DCCまたはWSCの
存在下、式: のアミン[A”’]による、[A”’]:[XL]のモ
ル比約1:1〜2:1のカルボジイミドカップリング反
応に付して、式:
【化146】
のアミド[IFa]を形成し、これを上述の加硫反応に
付して、対応する本発明チオアミドを形成する。
付して、対応する本発明チオアミドを形成する。
【0103】XがNHおよびZ1が−CH=CH−であ
る本発明化合物[IE]は、出発物質として酸化合物[
BB]または[AA8]を用いることによって製造され
る。すなわち、酸化合物[BB]または[AA8]を、
1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカル
ボジイミド塩酸塩(WSC)などのカップリング剤およ
び1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBT)およ
び塩化メチレンの存在下、式: (式中、BOCはt−ブチルオキシカルボニルおよび
Proは好ましくは、−CH2CH2Si(CH3)3
などの保護基である)のアミンによる、[BB]または
[AA8]:[Q]のモル比約1.2:1〜1:1のカ
ップリング反応に約12〜90時間にわたって付す。得
られるアミドをベンゼンの存在下、約50〜75℃の温
度にて、ラウエッソン試薬で約1〜4時間にわたり処理
する加硫反応に付して、式:
る本発明化合物[IE]は、出発物質として酸化合物[
BB]または[AA8]を用いることによって製造され
る。すなわち、酸化合物[BB]または[AA8]を、
1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカル
ボジイミド塩酸塩(WSC)などのカップリング剤およ
び1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBT)およ
び塩化メチレンの存在下、式: (式中、BOCはt−ブチルオキシカルボニルおよび
Proは好ましくは、−CH2CH2Si(CH3)3
などの保護基である)のアミンによる、[BB]または
[AA8]:[Q]のモル比約1.2:1〜1:1のカ
ップリング反応に約12〜90時間にわたって付す。得
られるアミドをベンゼンの存在下、約50〜75℃の温
度にて、ラウエッソン試薬で約1〜4時間にわたり処理
する加硫反応に付して、式:
【化147】
のエステル[XLI]を形成する。
【0104】エステル[XLI]を環化する。すなわち
、エステル[XLI]のアセトニトリル、クロロホルム
またはテトラヒドロフランなどの不活性溶剤の溶液を、
トリエチルアミンまたはジイソプロピルエチルアミンな
どのアミン塩基の存在下、トリフェニルホスフィン([
XLI]:トリフェニルホスフインのモル比約0.8:
1〜1:1)および四塩化炭素で処理して、式:
、エステル[XLI]のアセトニトリル、クロロホルム
またはテトラヒドロフランなどの不活性溶剤の溶液を、
トリエチルアミンまたはジイソプロピルエチルアミンな
どのアミン塩基の存在下、トリフェニルホスフィン([
XLI]:トリフェニルホスフインのモル比約0.8:
1〜1:1)および四塩化炭素で処理して、式:
【化1
48】 のイミダゾリン[XLII]を形成する。
48】 のイミダゾリン[XLII]を形成する。
【0105】次いでイミダゾリン[XLII]を通常の
方法で、たとえば塩化メチレンの存在下、トリフルオロ
酢酸で処理する脱保護に付してPro保護基を除去し、
式:
方法で、たとえば塩化メチレンの存在下、トリフルオロ
酢酸で処理する脱保護に付してPro保護基を除去し、
式:
【化149】
の酸化合物[XLIII]を形成する。
【0106】次に酸化合物[XLIII]を、アルゴン
などの不活性雰囲気下、ピリジンまたはトリエチルアミ
ンなどのアミン塩基並びにWSCおよびHOBTなどの
カップリング剤およびクロロホルムの存在下、アミン[
A”’]による、[A”’]:[XLIII]のモル比
約0.8:1〜1.2:1のカップリング反応に付して
、式:
などの不活性雰囲気下、ピリジンまたはトリエチルアミ
ンなどのアミン塩基並びにWSCおよびHOBTなどの
カップリング剤およびクロロホルムの存在下、アミン[
A”’]による、[A”’]:[XLIII]のモル比
約0.8:1〜1.2:1のカップリング反応に付して
、式:
【化150】
のアミド[XLIV]を形成する。
【0107】アミド[XLIV]をクロロホルムなどの
不活性溶媒の存在下、二酸化マンガンなどの酸化剤で処
理して酸化し、式:
不活性溶媒の存在下、二酸化マンガンなどの酸化剤で処
理して酸化し、式:
【化151】
のエステル[IFb]を形成し、これを上述の加硫反応
に付して、対応する本発明チオアミドを形成する。
に付して、対応する本発明チオアミドを形成する。
【0108】上述の本発明チオアミドエステルを対応す
る加硫酸化合物、すなわち、式:
る加硫酸化合物、すなわち、式:
【化152】
または
【化153】
の酸化合物[IS]または[IGa]に変換することが
できる。すなわち、チオアミドエステルを水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどの塩基
で処理して、対応するアルカリ金属塩を形成した後、希
塩酸またはシュウ酸などの酸で中和して、本発明の酸化
合物を形成する。
できる。すなわち、チオアミドエステルを水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどの塩基
で処理して、対応するアルカリ金属塩を形成した後、希
塩酸またはシュウ酸などの酸で中和して、本発明の酸化
合物を形成する。
【0109】Zが−(CH2)2−である本発明化合物
[I]は、アルコール[AA]から製造することができ
る。すなわち、アルコール[AA]を水素添加に付し、
たとえば酢酸エチル(EtOAc)またはベンゼンなど
の不活性有機溶媒中の、パラジウム/炭素またはウイル
キンソン触媒などの水素添加触媒を使用、またはジイミ
ド還元により水素添加を行い、得られる生成物を前記酸
化合物[IGa]の製造工程においてアルコール[AA
]の代わりに用いて、式:
[I]は、アルコール[AA]から製造することができ
る。すなわち、アルコール[AA]を水素添加に付し、
たとえば酢酸エチル(EtOAc)またはベンゼンなど
の不活性有機溶媒中の、パラジウム/炭素またはウイル
キンソン触媒などの水素添加触媒を使用、またはジイミ
ド還元により水素添加を行い、得られる生成物を前記酸
化合物[IGa]の製造工程においてアルコール[AA
]の代わりに用いて、式:
【化154】
の本発明酸化合物[IGa’]を形成する。
【0110】RがCONHSO2R3である本発明化合
物、すなわち、式:
物、すなわち、式:
【化155】
のスルホンアミド[IT]は、以下の手順で製造される
。 すなわち、酸化合物[IS],[IGa]または[IG
a’]をアルゴンなどの不活性雰囲気下、カルボニルジ
イミダゾールまたはWSCなどのカップリング剤および
ジメチルアミノピリジンなどアミンの存在下、式:
。 すなわち、酸化合物[IS],[IGa]または[IG
a’]をアルゴンなどの不活性雰囲気下、カルボニルジ
イミダゾールまたはWSCなどのカップリング剤および
ジメチルアミノピリジンなどアミンの存在下、式:
【化
156】 のスルホンアミド[H]により、[H]:[IS]また
は[IG]または[IGa’]のモル比約0.8:1〜
1.2:1で処理して、スルホンアミド[IT]を形成
する。
156】 のスルホンアミド[H]により、[H]:[IS]また
は[IG]または[IGa’]のモル比約0.8:1〜
1.2:1で処理して、スルホンアミド[IT]を形成
する。
【0111】酸化合物[IS],[IGa]および[I
Ga’]は、酸触媒の存在下で適当なアルコールで処理
することにより、対応するアルキルエステルに変換して
もよい。
Ga’]は、酸触媒の存在下で適当なアルコールで処理
することにより、対応するアルキルエステルに変換して
もよい。
【0112】Rが−CH2−5−テトラゾリル、Zが
【
化157】 、およびYが単結合、またはZが−(CH2)2−であ
る本発明化合物、すなわち、Yが単結合である式:
化157】 、およびYが単結合、またはZが−(CH2)2−であ
る本発明化合物、すなわち、Yが単結合である式:
【化
158】 (式中、Z’は
158】 (式中、Z’は
【化159】
または−(CH2)2−である)の化合物[IU]は、
以下の手順で製造される。すなわち、エステル[IH]
,[IJ],[IL],[IM],[IP],[IMa
],[IQ]もしくは[IR]、または
以下の手順で製造される。すなわち、エステル[IH]
,[IJ],[IL],[IM],[IP],[IMa
],[IQ]もしくは[IR]、または
【化160】
または−(CH2)2−である、エステル[IS],[
IGa]もしくは[IGa’]を、ホウ水素化リチウム
またはホウ水素化ナトリウムなどの水素化物試薬による
還元に付して、式:
IGa]もしくは[IGa’]を、ホウ水素化リチウム
またはホウ水素化ナトリウムなどの水素化物試薬による
還元に付して、式:
【化161】
のアルコール[XXXVIIA]を得、これをトルエン
などの不活性溶媒中、二臭化トリフェニルホスホニウム
で処理して、ブロミドに変換する。次いでブロミドをメ
タノール/水などの極性溶媒中、アルカリ金属シアニド
で処理して、式:
などの不活性溶媒中、二臭化トリフェニルホスホニウム
で処理して、ブロミドに変換する。次いでブロミドをメ
タノール/水などの極性溶媒中、アルカリ金属シアニド
で処理して、式:
【化162】
のニトリル[XXXVIIIA]に変換する。
【0113】次いでニトリル[XXXVIIIA]をシ
クロ付加反応に付す。すなわち、ニトリル[XXXVI
IIA]を塩化アンモニウム、ジメチルホルムアミドお
よび塩化リチウムの存在下、約100〜130℃の温度
にて、ナトリウムアジドで処理して、化合物[IU]を
形成する。
クロ付加反応に付す。すなわち、ニトリル[XXXVI
IIA]を塩化アンモニウム、ジメチルホルムアミドお
よび塩化リチウムの存在下、約100〜130℃の温度
にて、ナトリウムアジドで処理して、化合物[IU]を
形成する。
【0114】Rが−CH2−5−テトラゾリルおよびY
がOである本発明化合物、すなわち、YがOである化合
物[IU]は、以下の手順で製造される。すなわち、前
記アルコールエステル[XII]をエステル[IE],
[IH]および[IJ]に変換するのに記載した操作を
用い、アルコール[XXIII]を式:
がOである本発明化合物、すなわち、YがOである化合
物[IU]は、以下の手順で製造される。すなわち、前
記アルコールエステル[XII]をエステル[IE],
[IH]および[IJ]に変換するのに記載した操作を
用い、アルコール[XXIII]を式:
【化163】
のエーテル[XXXIXA]に変換し、これをたとえば
、水性HFで脱保護した後、水素化ナトリウムまたは炭
酸カリウムなどの塩基の存在下、式: X−(CH2)n−CN
[J]のハロニトリルでアルキル
化し、次いで上述の加硫を行うことにより、対応するニ
トリルに変換する。
、水性HFで脱保護した後、水素化ナトリウムまたは炭
酸カリウムなどの塩基の存在下、式: X−(CH2)n−CN
[J]のハロニトリルでアルキル
化し、次いで上述の加硫を行うことにより、対応するニ
トリルに変換する。
【0115】次いでニトリルを、塩化アンモニウム、ジ
メチルホルムアミドおよび塩化リチウムの存在下、約1
00〜130℃の温度にて、ナトリウムアジドで処理す
るシクロ付加反応に付して、化合物[IU]を形成する
。
メチルホルムアミドおよび塩化リチウムの存在下、約1
00〜130℃の温度にて、ナトリウムアジドで処理す
るシクロ付加反応に付して、化合物[IU]を形成する
。
【0116】Rが−CH2−5−テトラゾリルである本
発明化合物、すなわち、式:
発明化合物、すなわち、式:
【化164】
の化合物[IJa]は、以下の手順で製造される。すな
わち、式:
わち、式:
【化165】
のアルコール[Ca](U.S.特許No.46543
56の記載に準じ製造)を、カリウムt−ブトキシドま
たは水素化ナトリウム−ジメチルスルホキシドなどの塩
基の存在下、式:
56の記載に準じ製造)を、カリウムt−ブトキシドま
たは水素化ナトリウム−ジメチルスルホキシドなどの塩
基の存在下、式:
【化166】
のヴイッテイッヒ試薬[La]により、[Ca]:[L
a]のモル比約1:1〜0.2:1で処理して、式:
a]のモル比約1:1〜0.2:1で処理して、式:
【
化167】 のヒドロキシメチル化合物[XIIa]を形成し、これ
を式: Pro−ハライド
[Ma]の保護化合物、たとえばブ
ロモメチルメチルエーテルで処理して、式:
化167】 のヒドロキシメチル化合物[XIIa]を形成し、これ
を式: Pro−ハライド
[Ma]の保護化合物、たとえばブ
ロモメチルメチルエーテルで処理して、式:
【化168】
の保護されたテトラゾール[XIIIa]を形成する。
【0117】次いで保護されたテトラゾール[XIII
a]を、ヒドロキシメチル化合物[AA]の代わりに用
いて、式:
a]を、ヒドロキシメチル化合物[AA]の代わりに用
いて、式:
【化169】
(式中、XはO、SまたはNHである)の化合物[XI
Va]を形成し、これを水性塩酸などの水性酸で処理し
て脱保護した後、上述の加硫を行い、本発明化合物[I
Ja]を形成する。
Va]を形成し、これを水性塩酸などの水性酸で処理し
て脱保護した後、上述の加硫を行い、本発明化合物[I
Ja]を形成する。
【0118】RがCONHR3aで、R3aがH以外の
本発明化合物[I]は、対応する式:
本発明化合物[I]は、対応する式:
【化170】
の酸化合物[I1]から、以下の手順で製造しうる。す
なわち、酸化合物[I1]をジメチルホルムアミドおよ
びHOBT、トリエチルアミンなどの有機塩基および式
:HNHR3a
[E”]のアミン[E”]の
存在下、WSCで処理して、式:
なわち、酸化合物[I1]をジメチルホルムアミドおよ
びHOBT、トリエチルアミンなどの有機塩基および式
:HNHR3a
[E”]のアミン[E”]の
存在下、WSCで処理して、式:
【化171】
(式中、R3aは低級アルキル、アリールまたはアラル
キルである)の本発明アミド[I2]を形成する。
キルである)の本発明アミド[I2]を形成する。
【0119】RがCONH2である本発明化合物[I]
は、対応する酸化合物[I1]から、以下の手順で製造
しうる。すなわち、上記アミド[I2]の製造において
、アミン[E”]の代わりに塩化アンモニウムを用いる
以外は同様な操作に従って、式:
は、対応する酸化合物[I1]から、以下の手順で製造
しうる。すなわち、上記アミド[I2]の製造において
、アミン[E”]の代わりに塩化アンモニウムを用いる
以外は同様な操作に従って、式:
【化172】
の本発明アミド[I3]を形成する。
【0120】RがCH2OHである本発明化合物[I]
は、対応する式:
は、対応する式:
【化173】
のエステル[I4]から、以下の手順で製造しうる。す
なわち、エステル[I4]をジエチルエーテルおよびテ
トラヒドロフランの存在下、ホウ水素化リチウム(Li
BH4)などの還元剤で処理して、式:
なわち、エステル[I4]をジエチルエーテルおよびテ
トラヒドロフランの存在下、ホウ水素化リチウム(Li
BH4)などの還元剤で処理して、式:
【化174】
のアルコール[I5]を形成する。
【0121】本発明化合物は、式[I]中の星印で示さ
れるように4つの不斉中心を有する。しかしながら、上
記星印を含まない各式において、全ての可能な立体異性
体が存在することが明らかである。各種立体異性形状の
全ては、本発明の技術的範囲に属する。
れるように4つの不斉中心を有する。しかしながら、上
記星印を含まない各式において、全ての可能な立体異性
体が存在することが明らかである。各種立体異性形状の
全ては、本発明の技術的範囲に属する。
【0122】各種立体異性形状、すなわち、シス−エキ
ソ、シス−エンドおよび全トランス形状および立体異性
対の本発明化合物は、出発物質を用い、U.S.特許N
o.4143054に記載の方法に従って製造すること
ができる。かかる立体異性体の具体例を、以下に示す。
ソ、シス−エンドおよび全トランス形状および立体異性
対の本発明化合物は、出発物質を用い、U.S.特許N
o.4143054に記載の方法に従って製造すること
ができる。かかる立体異性体の具体例を、以下に示す。
【化175】
【化176】
【0123】本発明化合物のそれぞれにおける核は便宜
上、
上、
【化177】
で表示されているが、本発明化合物のそれらの核を
【化
178】 でも表示しうることが理解されよう。
178】 でも表示しうることが理解されよう。
【0124】本発明化合物はトロンボキサンレセプタ拮
抗剤であって、トロンボキサンレセプタ媒介作用の抑制
剤として有用である。語句「トロンボキサンレセプタ拮
抗剤」には、いわゆるトロンボキサンA2レセプタ拮抗
剤、トロンボキサンA2拮抗剤、トロンボキサンA2/
プロスタグランジンエンドパーオキシド拮抗剤、TP−
レセプタ拮抗剤、またはトロンボキサン拮抗剤が包含さ
れる。
抗剤であって、トロンボキサンレセプタ媒介作用の抑制
剤として有用である。語句「トロンボキサンレセプタ拮
抗剤」には、いわゆるトロンボキサンA2レセプタ拮抗
剤、トロンボキサンA2拮抗剤、トロンボキサンA2/
プロスタグランジンエンドパーオキシド拮抗剤、TP−
レセプタ拮抗剤、またはトロンボキサン拮抗剤が包含さ
れる。
【0125】また本発明化合物はトロンボキサンシンセ
ターゼ抑制剤でもあるため、トロンボキサン生成の抑制
剤として有用である。
ターゼ抑制剤でもあるため、トロンボキサン生成の抑制
剤として有用である。
【0126】本発明化合物は血小板機能の抑制剤として
有用であり、すなわち、完全または不完全な血栓性血管
閉塞障害、たとえば動脈血栓(冠動脈、脳動脈、眼動脈
、肝動脈、腸間膜動脈、腎動脈、末梢動脈または血管も
しくは器官移植の血栓を含む)、不安定な狭心症、一過
性虚血発作または間欠性は行の予防および治療に使用し
うる。本発明化合物を使用することにより、診断または
治療処理、たとえば動脈内切除または血管造影の間に起
る血管損傷に伴う血栓を予防することができる。本発明
化合物は、血小板消費および/または賦活(血小板賦活
、機能不全、および/または体外循環、X線造影剤使用
中の喪失を含む)を特徴とする障害、血栓性血小板減少
紫斑病、播種性血管内凝固、紫斑激症、溶血性輸血反応
または溶血性尿毒症候群、全身性狼瘡、シクロスポリン
誘発腎毒性症、高血圧症、透析の副作用、または腹部大
動脈瘤修復の副作用の治療または予防に使用しうる。 本発明化合物は、肺動脈塞栓症、深静脈血栓症、肝静脈
血栓症および腎静脈血栓症を含む静脈血栓症または塞栓
症の治療に使用しうる。
有用であり、すなわち、完全または不完全な血栓性血管
閉塞障害、たとえば動脈血栓(冠動脈、脳動脈、眼動脈
、肝動脈、腸間膜動脈、腎動脈、末梢動脈または血管も
しくは器官移植の血栓を含む)、不安定な狭心症、一過
性虚血発作または間欠性は行の予防および治療に使用し
うる。本発明化合物を使用することにより、診断または
治療処理、たとえば動脈内切除または血管造影の間に起
る血管損傷に伴う血栓を予防することができる。本発明
化合物は、血小板消費および/または賦活(血小板賦活
、機能不全、および/または体外循環、X線造影剤使用
中の喪失を含む)を特徴とする障害、血栓性血小板減少
紫斑病、播種性血管内凝固、紫斑激症、溶血性輸血反応
または溶血性尿毒症候群、全身性狼瘡、シクロスポリン
誘発腎毒性症、高血圧症、透析の副作用、または腹部大
動脈瘤修復の副作用の治療または予防に使用しうる。 本発明化合物は、肺動脈塞栓症、深静脈血栓症、肝静脈
血栓症および腎静脈血栓症を含む静脈血栓症または塞栓
症の治療に使用しうる。
【0127】本発明化合物は、動脈または静脈血管収縮
の抑制剤として有用である。このため、本発明化合物を
用いることにより、不安定狭心症、慢性安定狭心症およ
びその変種またはプリンツメタル(Prinzmeta
l)狭心症に付随する血管収縮、レイノー症候群、片頭
痛、冠動脈、脳動脈、眼動脈、肝動脈、腸間膜動脈、腎
動脈、末梢動脈または血管移植の血管痙攣、手術または
外傷に付随するような血管損傷を予防することができる
。
の抑制剤として有用である。このため、本発明化合物を
用いることにより、不安定狭心症、慢性安定狭心症およ
びその変種またはプリンツメタル(Prinzmeta
l)狭心症に付随する血管収縮、レイノー症候群、片頭
痛、冠動脈、脳動脈、眼動脈、肝動脈、腸間膜動脈、腎
動脈、末梢動脈または血管移植の血管痙攣、手術または
外傷に付随するような血管損傷を予防することができる
。
【0128】本発明化合物によって治療しうる血管収縮
障害の追加の具体例としては、妊娠の高血圧症、肝腎症
候群、および肺高血圧症が挙げられる。
障害の追加の具体例としては、妊娠の高血圧症、肝腎症
候群、および肺高血圧症が挙げられる。
【0129】本発明化合物は、気管支収縮、すなわち、
気道過敏症、アレルギー性気管支痙攣、喘息、および環
境刺激、感染刺激、有害刺激または機械的刺激に対する
気管支収縮応答の抑制剤として有用である。
気道過敏症、アレルギー性気管支痙攣、喘息、および環
境刺激、感染刺激、有害刺激または機械的刺激に対する
気管支収縮応答の抑制剤として有用である。
【0130】本発明化合物は、それ単独または血流を回
復させるための他の薬剤と組合せて、各種組織(心筋、
皮膚、脳、腸または腎を含む)に対する虚血性および再
潅流損傷の抑制剤として使用しうる。たとえば、本発明
化合物を用いることにより、虚血後の心筋機能を改善し
たり、心筋梗塞寸法を減少させることができる。診断ま
たは治療処置中の血流の減少によって起る虚血に対し、
本発明化合物の処理によって薬効が得られる。たとえば
、本発明化合物はバイパス手術後に見られる心筋気絶を
軽減する。加えて、本発明化合物は、発作によって起る
組織損傷を軽減するのに使用することができる。
復させるための他の薬剤と組合せて、各種組織(心筋、
皮膚、脳、腸または腎を含む)に対する虚血性および再
潅流損傷の抑制剤として使用しうる。たとえば、本発明
化合物を用いることにより、虚血後の心筋機能を改善し
たり、心筋梗塞寸法を減少させることができる。診断ま
たは治療処置中の血流の減少によって起る虚血に対し、
本発明化合物の処理によって薬効が得られる。たとえば
、本発明化合物はバイパス手術後に見られる心筋気絶を
軽減する。加えて、本発明化合物は、発作によって起る
組織損傷を軽減するのに使用することができる。
【0131】本発明化合物は、他の症状、たとえば火傷
、糖尿病網膜症、腫瘍転移および晩期ジスキネジーの予
防または治療に使用しうる。また本発明化合物は、利尿
薬誘発利尿を相剰させるのに使用しうる。
、糖尿病網膜症、腫瘍転移および晩期ジスキネジーの予
防または治療に使用しうる。また本発明化合物は、利尿
薬誘発利尿を相剰させるのに使用しうる。
【0132】さらに、トロンボキサンレセプタ拮抗剤で
ある本発明化合物は、心筋梗塞の6時間以内で、血栓溶
解剤、たとえばt−PA、ストレプトキナーゼ、ウロキ
ナーゼ、プロウロキナーゼまたはアニソイル化プラスミ
ノーゲンストレプトキナーゼ活性化剤錯体(APSAC
)と共に使用することができる。この場合、血栓溶解剤
は通常の使用量、たとえば虚血後の心筋損傷を軽減する
ため、「Physicians’Desk Refe
rence」に開示の量で使用しうる。
ある本発明化合物は、心筋梗塞の6時間以内で、血栓溶
解剤、たとえばt−PA、ストレプトキナーゼ、ウロキ
ナーゼ、プロウロキナーゼまたはアニソイル化プラスミ
ノーゲンストレプトキナーゼ活性化剤錯体(APSAC
)と共に使用することができる。この場合、血栓溶解剤
は通常の使用量、たとえば虚血後の心筋損傷を軽減する
ため、「Physicians’Desk Refe
rence」に開示の量で使用しうる。
【0133】本発明化合物は、上述の各種疾患にかかり
やすいことが知られている哺乳動物、たとえばヒト、ネ
コ、イヌ等に対し、1日当り1回または2〜4回の分割
投与の生活規制において、約0.1〜100mg/kg
、好ましくは約0.2〜50mg/kg、より好ましく
は約0.5〜25mg/kg(または約1〜2500m
g、好ましくは約5〜2000mg)の投与量範囲内で
の有効量で経口または非経口投与することができる。
やすいことが知られている哺乳動物、たとえばヒト、ネ
コ、イヌ等に対し、1日当り1回または2〜4回の分割
投与の生活規制において、約0.1〜100mg/kg
、好ましくは約0.2〜50mg/kg、より好ましく
は約0.5〜25mg/kg(または約1〜2500m
g、好ましくは約5〜2000mg)の投与量範囲内で
の有効量で経口または非経口投与することができる。
【0134】本発明のオキサゾール誘導体、すなわち、
XがOである本発明化合物[I]は特に、長い持続作用
を有し、上述の投与量において、1日1回、1日おきに
1回、または要すれば1週間に2回(但し、1日1回)
の割合で投与されてよい。
XがOである本発明化合物[I]は特に、長い持続作用
を有し、上述の投与量において、1日1回、1日おきに
1回、または要すれば1週間に2回(但し、1日1回)
の割合で投与されてよい。
【0135】本発明化合物[I]の1種または2種以上
の混合物を単位投与剤形当り約5〜500mgを含有す
る、錠剤、カプセル剤、溶液もしくは懸濁液などの剤形
、あるいは創傷治癒用の局所剤形(本発明化合物[I]
0.01〜5重量%、1日当り1〜5回の治療)におい
て、有効成分を配合することにより本発明組成物を調製
することができる。本発明化合物は、通常の状態で生理
学的に許容しうるビヒクルまたは担体、賦形剤、結合剤
、保存剤、安定化剤、フレーバー等と共に、あるいは通
常の医薬実務で要求される局所担体、たとえばプラスチ
ベース(Plastibase)(ポリエチレンでゲル
化した鉱油)と共に配合されてよい。
の混合物を単位投与剤形当り約5〜500mgを含有す
る、錠剤、カプセル剤、溶液もしくは懸濁液などの剤形
、あるいは創傷治癒用の局所剤形(本発明化合物[I]
0.01〜5重量%、1日当り1〜5回の治療)におい
て、有効成分を配合することにより本発明組成物を調製
することができる。本発明化合物は、通常の状態で生理
学的に許容しうるビヒクルまたは担体、賦形剤、結合剤
、保存剤、安定化剤、フレーバー等と共に、あるいは通
常の医薬実務で要求される局所担体、たとえばプラスチ
ベース(Plastibase)(ポリエチレンでゲル
化した鉱油)と共に配合されてよい。
【0136】本発明化合物にあって、先に述べた如く、
本発明化合物の1種を他の本発明化合物の中間体として
利用することができる。また本発明化合物は、末梢血管
病の治療に局所投与してもよく、この場合クリームまた
は軟膏の形状で配合することができる。
本発明化合物の1種を他の本発明化合物の中間体として
利用することができる。また本発明化合物は、末梢血管
病の治療に局所投与してもよく、この場合クリームまた
は軟膏の形状で配合することができる。
【0137】
【実施例】次に挙げる実施例は、本発明の好ましい具体
例である。他に特別な指示がなければ、全ての温度単位
は℃である。
例である。他に特別な指示がなければ、全ての温度単位
は℃である。
【0138】実施例1
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)アミノ]チオ
キソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキサビシク
ロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼン
プロパン酸メチルエステルの製造 A.3−(2−ブロモフェニル)−2−プロパン酸メチ
ルエステルの製造 アルゴン雰囲気下、2−ブロモベンズアルデヒド161
.2g(871ミリモル)の乾燥THF700ml(カ
リウム/ベンゾフェノンから蒸留)溶液を室温で撹拌し
ながらこれに、(トリフェニルホスホルアニリデン)酢
酸メチル(Aldrich)298.4g(892ミリ
モル、1.024当量)を20gづつ1時間に渡って加
える。反応はおだやかな発熱反応であって、混合物は均
質になる。この溶液を18時間撹拌し、この間に幾らか
の沈澱が生成する。 ヘキサン200mlを加えることにより、更に沈澱が生
成する。これを濾過して蒸発させる。残留物を大容量の
ヘキサンに懸濁(更に沈澱が生成)し、一夜冷蔵する。 これを濾過し、濾液をシリカゲル(約1kg)充填物に
通し、ヘキサン中10%酢酸エチル(EtOAc)で溶
離する。溶出液を減圧下に濃縮して無色油状物201.
5gを得る。 この油状物は標記化合物純品(二重結合を有する異性体
の4:1混合物(トランス体が優勢))である。標記化
合物の収率96%。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中5%酢酸エチル−I2
):2−ブロモベンズアルデヒド 0.29標記
化合物 0.
20
[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)アミノ]チオ
キソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキサビシク
ロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼン
プロパン酸メチルエステルの製造 A.3−(2−ブロモフェニル)−2−プロパン酸メチ
ルエステルの製造 アルゴン雰囲気下、2−ブロモベンズアルデヒド161
.2g(871ミリモル)の乾燥THF700ml(カ
リウム/ベンゾフェノンから蒸留)溶液を室温で撹拌し
ながらこれに、(トリフェニルホスホルアニリデン)酢
酸メチル(Aldrich)298.4g(892ミリ
モル、1.024当量)を20gづつ1時間に渡って加
える。反応はおだやかな発熱反応であって、混合物は均
質になる。この溶液を18時間撹拌し、この間に幾らか
の沈澱が生成する。 ヘキサン200mlを加えることにより、更に沈澱が生
成する。これを濾過して蒸発させる。残留物を大容量の
ヘキサンに懸濁(更に沈澱が生成)し、一夜冷蔵する。 これを濾過し、濾液をシリカゲル(約1kg)充填物に
通し、ヘキサン中10%酢酸エチル(EtOAc)で溶
離する。溶出液を減圧下に濃縮して無色油状物201.
5gを得る。 この油状物は標記化合物純品(二重結合を有する異性体
の4:1混合物(トランス体が優勢))である。標記化
合物の収率96%。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中5%酢酸エチル−I2
):2−ブロモベンズアルデヒド 0.29標記
化合物 0.
20
【0139】B.2−ブロモベンゼンプロパン酸メ
チルエステルの製造 メタノール1.0l中、前記A項のアクリル酸エステル
体201.5g(836ミリモル)と5%ロジウム/ア
ルミナ触媒(MCB)8.4gの混合物を、水素雰囲気
下(風船形フラスコ)、室温で8時間以上撹拌する。生
成物の一部分の1H・NMR分析により、標記化合物と
前記A項のトランス化合物(シス化合物を含まない)の
約(1:1)混合物であることが証明された。この混合
物を更にメタノール(MeOH)500mlで希釈し、
更に触媒12.6gを加える。一夜水素化後、反応を完
成する。反応混合物を、プレフィルターパッド使用のセ
ライトおよびミリポア/フルロポア(Millipor
e/Fluropore)膜フィルター(0.5μmF
H)に通し、濾液を減圧下に濃縮し、混和しない2層の
油状物を得る。油状物の一方は水に可溶であって強い酸
性の水溶性溶液を与える。固体炭酸水素ナトリウムと硫
酸ナトリウムを注意して加える(ガスが発生する)。混
合物を塩化メチレンで希釈し、濾過して蒸発させ(再び
塩化メチレンを用い、再蒸発させてメタノールを追出し
)清澄な油状物196.9gを得る。この油状物は標記
化合物の脱ブロモ体5%を含む標記化合物純品95%で
ある。標記化合物の修正した収率は92%(187.1
g)である。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中15%酢酸エチル
−UV): 前項Aの化合物(非常により強いUV吸
収) 0.36 標記化合物
0
.40
チルエステルの製造 メタノール1.0l中、前記A項のアクリル酸エステル
体201.5g(836ミリモル)と5%ロジウム/ア
ルミナ触媒(MCB)8.4gの混合物を、水素雰囲気
下(風船形フラスコ)、室温で8時間以上撹拌する。生
成物の一部分の1H・NMR分析により、標記化合物と
前記A項のトランス化合物(シス化合物を含まない)の
約(1:1)混合物であることが証明された。この混合
物を更にメタノール(MeOH)500mlで希釈し、
更に触媒12.6gを加える。一夜水素化後、反応を完
成する。反応混合物を、プレフィルターパッド使用のセ
ライトおよびミリポア/フルロポア(Millipor
e/Fluropore)膜フィルター(0.5μmF
H)に通し、濾液を減圧下に濃縮し、混和しない2層の
油状物を得る。油状物の一方は水に可溶であって強い酸
性の水溶性溶液を与える。固体炭酸水素ナトリウムと硫
酸ナトリウムを注意して加える(ガスが発生する)。混
合物を塩化メチレンで希釈し、濾過して蒸発させ(再び
塩化メチレンを用い、再蒸発させてメタノールを追出し
)清澄な油状物196.9gを得る。この油状物は標記
化合物の脱ブロモ体5%を含む標記化合物純品95%で
ある。標記化合物の修正した収率は92%(187.1
g)である。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中15%酢酸エチル
−UV): 前項Aの化合物(非常により強いUV吸
収) 0.36 標記化合物
0
.40
【0140】C.2−ブロモベンゼンプロパノー
ルの製造 アルゴン雰囲気下、前項Bの化合物196.9g(95
%純品=187.1g、770ミリモル)のトルエン7
70ml溶液を撹拌しながら0℃(氷浴)に冷やしてこ
れに、水素化ジイソブチルアルミニウム(DIBAI−
H)の1M・トルエン溶液830ml(830ミリモル
、Aldrich)を、45分間に渡って加える。反応
は著しい発熱を伴わない。混合物を1時間撹拌後、TL
Cによりほぼ半量の出発物質が残留することが示された
。次にDIBAI−Hの1M・トルエン溶液580ml
(870ミリモル、Aldrich)をゆっくり加える
。氷浴を除き、2時間撹拌を続ける。6M塩酸水溶液1
.2lを氷浴上で撹拌しながらこれに上記混合物をゆっ
くり注ぐ。この反応停止処理は発熱を伴い、ガスが発生
する。混合物を再び0℃に冷した後、各層を分離し、有
機層を1M塩酸水溶液および食塩水で洗う。これを硫酸
ナトリウムおよび硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発し(
および塩化メチレンと共に再蒸発してトルエンを追出し
)、清澄な無色油状物173.0gを得る。この油状物
は標記化合物の脱ブロモ体5%を含む標記化合物純品9
5%である。標記化合物の正しい収率は99%(164
.3g)である。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中15%酢酸エチル−ア
ニスアルデヒド、UV): 前項Bの化合物(わずかに汚染) 0.49標記化合
物 0.11
ルの製造 アルゴン雰囲気下、前項Bの化合物196.9g(95
%純品=187.1g、770ミリモル)のトルエン7
70ml溶液を撹拌しながら0℃(氷浴)に冷やしてこ
れに、水素化ジイソブチルアルミニウム(DIBAI−
H)の1M・トルエン溶液830ml(830ミリモル
、Aldrich)を、45分間に渡って加える。反応
は著しい発熱を伴わない。混合物を1時間撹拌後、TL
Cによりほぼ半量の出発物質が残留することが示された
。次にDIBAI−Hの1M・トルエン溶液580ml
(870ミリモル、Aldrich)をゆっくり加える
。氷浴を除き、2時間撹拌を続ける。6M塩酸水溶液1
.2lを氷浴上で撹拌しながらこれに上記混合物をゆっ
くり注ぐ。この反応停止処理は発熱を伴い、ガスが発生
する。混合物を再び0℃に冷した後、各層を分離し、有
機層を1M塩酸水溶液および食塩水で洗う。これを硫酸
ナトリウムおよび硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発し(
および塩化メチレンと共に再蒸発してトルエンを追出し
)、清澄な無色油状物173.0gを得る。この油状物
は標記化合物の脱ブロモ体5%を含む標記化合物純品9
5%である。標記化合物の正しい収率は99%(164
.3g)である。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中15%酢酸エチル−ア
ニスアルデヒド、UV): 前項Bの化合物(わずかに汚染) 0.49標記化合
物 0.11
【0141】D.[3−(2−ブロモフェニル)プロポ
キシ]ジメチル(1,1,2−トリメチルプロピル)シ
ランの製造 前項Cの化合物173.0g(95%純品=164.3
g、764ミリモル)およびイミダゾール57.8g(
850ミリモル)のクロロホルム1.0l溶液を室温で
撹拌しながらこれに、テキシルジメチルクロロシラン1
36.6g(764ミリモル)をゆっくり加える。反応
はおだやかな発熱反応であって、沈澱が生成する。一夜
撹拌後、混合物の一部分の1H・NMR分析により、前
項の化合物の微量が残留していることが示された。更に
テキシルジメチルクロロシラン(6.8g、38ミリモ
ル、0.05当量)を加える。2日後、混合物を蒸発さ
せる。残留物をヘキサンで希釈し、濾過する。濾液を蒸
発させ、蒸留(1.2トール圧で150〜180℃)し
て僅かに濁りのある無色油状物262.8gを得る。こ
の油状物は標記化合物の脱ブロモ体5%を含む標記化合
物純品94%である。標記化合物の正しい収率は91%
(247.0g)である。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中15%酢酸エチル−ア
ニスアルデヒド): 前項Cの化合物 0.11標記化合
物 0.89
キシ]ジメチル(1,1,2−トリメチルプロピル)シ
ランの製造 前項Cの化合物173.0g(95%純品=164.3
g、764ミリモル)およびイミダゾール57.8g(
850ミリモル)のクロロホルム1.0l溶液を室温で
撹拌しながらこれに、テキシルジメチルクロロシラン1
36.6g(764ミリモル)をゆっくり加える。反応
はおだやかな発熱反応であって、沈澱が生成する。一夜
撹拌後、混合物の一部分の1H・NMR分析により、前
項の化合物の微量が残留していることが示された。更に
テキシルジメチルクロロシラン(6.8g、38ミリモ
ル、0.05当量)を加える。2日後、混合物を蒸発さ
せる。残留物をヘキサンで希釈し、濾過する。濾液を蒸
発させ、蒸留(1.2トール圧で150〜180℃)し
て僅かに濁りのある無色油状物262.8gを得る。こ
の油状物は標記化合物の脱ブロモ体5%を含む標記化合
物純品94%である。標記化合物の正しい収率は91%
(247.0g)である。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中15%酢酸エチル−ア
ニスアルデヒド): 前項Cの化合物 0.11標記化合
物 0.89
【0142】
E.ブロモ[2−[3−[[ジメチル(1,1,2−ト
リメチルプロピル)シリル]オキシ]プロピル]フェニ
ル]マグネシウムの製造 オーブンで乾燥し、磁気撹拌棒を備えた2lフラスコに
、ハンマーで破砕したマグネシウム切片19.0g(7
82ミリモル、Mallinckrodt)を入れ、ア
ルゴン雰囲気下に置く。乾燥THF(カリウム/ベンゾ
フェノンから蒸留)440mlを加えた後、室温でヨウ
素結晶および1,2−ジブロモエタン2mlを導入する
ことによりマグネシウムを活性化する(ガスが発生する
)。次に前項Dの化合物207.4g(94%純品=1
95.0g、546ミリモル)を一度に加える。反応混
合物は簡単に無色に、次いでコハク色に変わる。この発
熱反応により混合物が還流する。更にTHF(120m
l)を導入することにより、冷えた後における生成物の
溶解性を確実にする。反応は激しい発熱反応ではないが
、発泡するので混合物を水浴で冷やす必要がある。発熱
がおさまるまで断続的に水浴を使用する。次いで混合物
をおだやかに1時間加熱還流し、室温に冷やす。沈澱は
生成しない。混合物は褐色清澄な標記化合物および幾ら
かの未反応マグネシウムから成る。この溶液を次のF項
標記の化合物製造のため、同一日に使用する。
E.ブロモ[2−[3−[[ジメチル(1,1,2−ト
リメチルプロピル)シリル]オキシ]プロピル]フェニ
ル]マグネシウムの製造 オーブンで乾燥し、磁気撹拌棒を備えた2lフラスコに
、ハンマーで破砕したマグネシウム切片19.0g(7
82ミリモル、Mallinckrodt)を入れ、ア
ルゴン雰囲気下に置く。乾燥THF(カリウム/ベンゾ
フェノンから蒸留)440mlを加えた後、室温でヨウ
素結晶および1,2−ジブロモエタン2mlを導入する
ことによりマグネシウムを活性化する(ガスが発生する
)。次に前項Dの化合物207.4g(94%純品=1
95.0g、546ミリモル)を一度に加える。反応混
合物は簡単に無色に、次いでコハク色に変わる。この発
熱反応により混合物が還流する。更にTHF(120m
l)を導入することにより、冷えた後における生成物の
溶解性を確実にする。反応は激しい発熱反応ではないが
、発泡するので混合物を水浴で冷やす必要がある。発熱
がおさまるまで断続的に水浴を使用する。次いで混合物
をおだやかに1時間加熱還流し、室温に冷やす。沈澱は
生成しない。混合物は褐色清澄な標記化合物および幾ら
かの未反応マグネシウムから成る。この溶液を次のF項
標記の化合物製造のため、同一日に使用する。
【0143】F.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−α−[2−[3−[[ジメチル(1,1,2−トリ
メチルプロピル)シリル]オキシ]プロピル]フェニル
]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,
3−ジメタノールの製造 磁気撹拌棒を備えた5lフラスコに、[3aR−(3a
α,4β,7β,7aα,)]−オクタヒドロ−4,7
−エポキシイソベンゾフラン−1−オール(SQ30,
674)63.1g(405ミリモル)を入れ、アルゴ
ン雰囲気下に置く。乾燥THF(カリウム/ベンゾフェ
ノンから蒸留)400mlを加えた後、SQ30,67
4を撹拌しながら溶解する。この溶液を0℃に冷やし、
注射器で2.0Mエチル臭化マグネシウム(C2H5M
gBr)192ml(Aldrich)(均質性を確保
するためあらかじめ30℃に加温、385ミリモル、0
.95当量)を30分間に渡って添加する。ガスが発生
する。添加終了後、0℃で1時間撹拌を続ける。あらか
じめ製せられた前項Eのマグネシウム化合物(546ミ
リモル、1.35理論当量)溶液を、カニューレにより
導入する。導入の間およびその後数時間温度を0℃に維
持する。少量の沈澱が生成する。混合物を室温に暖め、
乾燥THF50mlを加える。若干量の沈澱が残存する
。この混合物を6日間撹拌後、塩化アンモニウム(83
g)の飽和水溶液290mlをゆっくり加える。反応停
止によりわずかに発熱し、混合物自体が約40℃に暖ま
る。混合物は2時間撹拌し、白色ペースト状の無機物が
生成する。混合物に塩化メチレン1.0lを加える。有
機上澄液をペーストから傾斜する。ペーストを塩化メチ
レン500mlと共に撹拌する。有機層を傾斜し、この
操作を繰返す。有機層を合して硫酸ナトリウム115g
で乾燥し(総容量3.5l)、減圧下に濃縮する。 THFを追い出すため、塩化メチレン200mlを加え
た後、残留物を再濃縮する。これにより油状物230g
を得る。油状物を速やかにヘキサン2.0lに溶解する
。 数分間で結晶化が始まる。混合物を周期的に撹拌しなが
ら5日間冷蔵する。生成した結晶を濾過(冷)し、冷蔵
していたヘキサンで(500ml×2回)洗う。減圧処
理後、結晶145.9g(融点99.5〜100.5℃
)を得る。F項の化合物の結晶純品および単一ジアステ
レオマーの収率は83%である。母液を蒸発し、ヘキサ
ン200mlに再溶解し、冷蔵庫に30日間入れて置く
。第二の結晶生成物(8.7g、F項の化合物純品、単
一ジアステレオマー、第二の収率5%)を前記と同様の
操作で集める(以前の操作において共同して見いだされ
た主要部および副次的ジアステレオマーの収率はそれぞ
れ94%および5%であった。副次的ジアステレオマー
は油状である)。 TLC(シリカゲル、100%酢酸エチル、アニスアル
デヒド): SQ30,674 0
.35F項の化合物
0.7813C−NMR(CDCl3中67.8
MHz):141.8、138.7、129.5、12
7.3、126.2、125.5、79.5、77.3
、67.4、62.2、61.7、51.7、49.0
、34.2、34.1、29.7、29.7、28.0
、25.2、20.3、18.5、−3.3。
]−α−[2−[3−[[ジメチル(1,1,2−トリ
メチルプロピル)シリル]オキシ]プロピル]フェニル
]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,
3−ジメタノールの製造 磁気撹拌棒を備えた5lフラスコに、[3aR−(3a
α,4β,7β,7aα,)]−オクタヒドロ−4,7
−エポキシイソベンゾフラン−1−オール(SQ30,
674)63.1g(405ミリモル)を入れ、アルゴ
ン雰囲気下に置く。乾燥THF(カリウム/ベンゾフェ
ノンから蒸留)400mlを加えた後、SQ30,67
4を撹拌しながら溶解する。この溶液を0℃に冷やし、
注射器で2.0Mエチル臭化マグネシウム(C2H5M
gBr)192ml(Aldrich)(均質性を確保
するためあらかじめ30℃に加温、385ミリモル、0
.95当量)を30分間に渡って添加する。ガスが発生
する。添加終了後、0℃で1時間撹拌を続ける。あらか
じめ製せられた前項Eのマグネシウム化合物(546ミ
リモル、1.35理論当量)溶液を、カニューレにより
導入する。導入の間およびその後数時間温度を0℃に維
持する。少量の沈澱が生成する。混合物を室温に暖め、
乾燥THF50mlを加える。若干量の沈澱が残存する
。この混合物を6日間撹拌後、塩化アンモニウム(83
g)の飽和水溶液290mlをゆっくり加える。反応停
止によりわずかに発熱し、混合物自体が約40℃に暖ま
る。混合物は2時間撹拌し、白色ペースト状の無機物が
生成する。混合物に塩化メチレン1.0lを加える。有
機上澄液をペーストから傾斜する。ペーストを塩化メチ
レン500mlと共に撹拌する。有機層を傾斜し、この
操作を繰返す。有機層を合して硫酸ナトリウム115g
で乾燥し(総容量3.5l)、減圧下に濃縮する。 THFを追い出すため、塩化メチレン200mlを加え
た後、残留物を再濃縮する。これにより油状物230g
を得る。油状物を速やかにヘキサン2.0lに溶解する
。 数分間で結晶化が始まる。混合物を周期的に撹拌しなが
ら5日間冷蔵する。生成した結晶を濾過(冷)し、冷蔵
していたヘキサンで(500ml×2回)洗う。減圧処
理後、結晶145.9g(融点99.5〜100.5℃
)を得る。F項の化合物の結晶純品および単一ジアステ
レオマーの収率は83%である。母液を蒸発し、ヘキサ
ン200mlに再溶解し、冷蔵庫に30日間入れて置く
。第二の結晶生成物(8.7g、F項の化合物純品、単
一ジアステレオマー、第二の収率5%)を前記と同様の
操作で集める(以前の操作において共同して見いだされ
た主要部および副次的ジアステレオマーの収率はそれぞ
れ94%および5%であった。副次的ジアステレオマー
は油状である)。 TLC(シリカゲル、100%酢酸エチル、アニスアル
デヒド): SQ30,674 0
.35F項の化合物
0.7813C−NMR(CDCl3中67.8
MHz):141.8、138.7、129.5、12
7.3、126.2、125.5、79.5、77.3
、67.4、62.2、61.7、51.7、49.0
、34.2、34.1、29.7、29.7、28.0
、25.2、20.3、18.5、−3.3。
【0144】G.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[2−[3−[[ジメチル(1,1,2−ト
リメチルプロピル)シリル]オキシ]プロピル]フェニ
ル]メチル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
タン−3−メタノールの製造 氷酢酸2.0l中前項Fの化合物143.0g(329
ミリモル)および20%水酸化パラジウム/炭触媒(湿
気、<50%水、Aldrich)の混合物を、水素雰
囲気下(風船形フラスコ)、室温で30時間急速撹拌す
る。反応混合物を濾紙に通して濾過し、触媒の大部分を
除く。濾液を高度減圧下、30℃水浴中、回転蒸発器上
で蒸発させて500mlにする。次いでこれをプレフィ
ルターパッドと共にミリポア/フルロポア(Milli
pore/Fluropore)膜フィルター(0.5
μmFH)に通す。上記のように蒸発させ、次いでトル
エン500mlと共に酢酸(AcOH)を3回共沸除去
し、塩化メチレンで再蒸発してトルエンを追い出す。こ
の油状粗生成物144.9gは、少量の溶媒を含む大部
分の標記化合物(約90%)、標記化合物の酢酸エステ
ル(次項Hの化合物と同一、5%以下)および標記化合
物の脱シリル化物(ジオール体、5%以下)から成る。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中25%酢酸エチル−ア
ニスアルデヒド): 前項Fの化合物
0.07標記化合物
0.16次項H
の化合物
0.50標記化合物の脱シリル化物(ジオール体
) 0.00TLC(シリカゲル、100%酢酸エチ
ル−アニスアルデヒド): 前項Fの化合物
0.82標記化合物
0.85G項の
化合物
0.93G項の化合物の脱シリル化物(ジオー
ル体)0.20
]−2−[[2−[3−[[ジメチル(1,1,2−ト
リメチルプロピル)シリル]オキシ]プロピル]フェニ
ル]メチル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
タン−3−メタノールの製造 氷酢酸2.0l中前項Fの化合物143.0g(329
ミリモル)および20%水酸化パラジウム/炭触媒(湿
気、<50%水、Aldrich)の混合物を、水素雰
囲気下(風船形フラスコ)、室温で30時間急速撹拌す
る。反応混合物を濾紙に通して濾過し、触媒の大部分を
除く。濾液を高度減圧下、30℃水浴中、回転蒸発器上
で蒸発させて500mlにする。次いでこれをプレフィ
ルターパッドと共にミリポア/フルロポア(Milli
pore/Fluropore)膜フィルター(0.5
μmFH)に通す。上記のように蒸発させ、次いでトル
エン500mlと共に酢酸(AcOH)を3回共沸除去
し、塩化メチレンで再蒸発してトルエンを追い出す。こ
の油状粗生成物144.9gは、少量の溶媒を含む大部
分の標記化合物(約90%)、標記化合物の酢酸エステ
ル(次項Hの化合物と同一、5%以下)および標記化合
物の脱シリル化物(ジオール体、5%以下)から成る。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中25%酢酸エチル−ア
ニスアルデヒド): 前項Fの化合物
0.07標記化合物
0.16次項H
の化合物
0.50標記化合物の脱シリル化物(ジオール体
) 0.00TLC(シリカゲル、100%酢酸エチ
ル−アニスアルデヒド): 前項Fの化合物
0.82標記化合物
0.85G項の
化合物
0.93G項の化合物の脱シリル化物(ジオー
ル体)0.20
【0145】H.[1S−(1α,2α
,3α,4α)]−2−[[2−[3−[[ジメチル(
1,1,2−トリメチルプロピル)シリル]オキシ]プ
ロピル]フェニル]メチル−7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−イル]ヘプタン−3−メタノール
・酢酸エステルの製造アルゴン雰囲気下、前項Gの粗化
合物144.9g(<329ミリモル)のピリジン20
0ml溶液(Burdick & Jackson
)を室温で磁気撹拌しながら、この間に無水酢酸50m
l(54g、530ミリモル)を一度に加える。30分
後、この混合物をピーク温度約41℃に加温する。 16時間後、均質な混合物を70℃水浴中、回転蒸発す
る。残留物をトルエン(500ml)と共に3回蒸発す
る。 これにより標記化合物の粗油状物163.5gを得る。 この粗生成物はトルエンを含むが、残留ピリジンはない
。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中25%酢酸エチル−ア
ニスアルデヒド): 前項Gの化合物
0.20H項の化合物
0.5413C−NMR(CDCl3中、6
7.8MHz):170.9、140.4、138.7
、129.6、129.4、126.2、125.9、
79.3、79.2、63.8、62.4、46.9、
46.0、34.2、34.0、30.6、29.5、
29.5、28.9、25.1、21.0、20.4、
18.5、−3.4。
,3α,4α)]−2−[[2−[3−[[ジメチル(
1,1,2−トリメチルプロピル)シリル]オキシ]プ
ロピル]フェニル]メチル−7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−イル]ヘプタン−3−メタノール
・酢酸エステルの製造アルゴン雰囲気下、前項Gの粗化
合物144.9g(<329ミリモル)のピリジン20
0ml溶液(Burdick & Jackson
)を室温で磁気撹拌しながら、この間に無水酢酸50m
l(54g、530ミリモル)を一度に加える。30分
後、この混合物をピーク温度約41℃に加温する。 16時間後、均質な混合物を70℃水浴中、回転蒸発す
る。残留物をトルエン(500ml)と共に3回蒸発す
る。 これにより標記化合物の粗油状物163.5gを得る。 この粗生成物はトルエンを含むが、残留ピリジンはない
。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中25%酢酸エチル−ア
ニスアルデヒド): 前項Gの化合物
0.20H項の化合物
0.5413C−NMR(CDCl3中、6
7.8MHz):170.9、140.4、138.7
、129.6、129.4、126.2、125.9、
79.3、79.2、63.8、62.4、46.9、
46.0、34.2、34.0、30.6、29.5、
29.5、28.9、25.1、21.0、20.4、
18.5、−3.4。
【0146】I.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[(アセチルオキシ)メチル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチ
ル]ベンゼンプロパン酸の製造 前項Hの粗化合物163.5gのアセトン2.0l溶液
を室温浴中で撹拌しながらこれに、Mn+2含有ジョー
ンズ試薬240mlをゆっくり(50mlづつ約1時間
に渡って)加える。発熱反応により混合物はほぼ還流温
度となる。 沈澱が生成するにつれて撹拌が非常に困難になる。試薬
の最終部分を導入した後、試薬の赤色が持続する。30
分後、2−プロパノール50mlを加えることにより過
剰量の試薬の反応を停止させる。沈澱したCr塩は容易
に濾過される。この塩をアセトンで洗う。濾液(2.4
l)を蒸発し、混和しない2層の油状物を得る。塩化メ
チレン500ml、食塩水100mlおよび水300m
lを加えた後、有機層と水層の分離は困難である。クロ
ロホルム300mlを導入して分離を良好にする。水層
をクロロホルム300mlで再抽出し、抽出物を合して
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発する。これによ
り清澄な油状物として標記化合物の粗生成物164.5
g(脱シリル化副生物を含む)を得る。 TLC[シリカゲル、ヘキサン中50%[酢酸エチル(
EtOAc)中5%酢酸]−アニスアルデヒド]:前項
Hの化合物 0.89
標記化合物
0.42
]−2−[[3−[(アセチルオキシ)メチル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチ
ル]ベンゼンプロパン酸の製造 前項Hの粗化合物163.5gのアセトン2.0l溶液
を室温浴中で撹拌しながらこれに、Mn+2含有ジョー
ンズ試薬240mlをゆっくり(50mlづつ約1時間
に渡って)加える。発熱反応により混合物はほぼ還流温
度となる。 沈澱が生成するにつれて撹拌が非常に困難になる。試薬
の最終部分を導入した後、試薬の赤色が持続する。30
分後、2−プロパノール50mlを加えることにより過
剰量の試薬の反応を停止させる。沈澱したCr塩は容易
に濾過される。この塩をアセトンで洗う。濾液(2.4
l)を蒸発し、混和しない2層の油状物を得る。塩化メ
チレン500ml、食塩水100mlおよび水300m
lを加えた後、有機層と水層の分離は困難である。クロ
ロホルム300mlを導入して分離を良好にする。水層
をクロロホルム300mlで再抽出し、抽出物を合して
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発する。これによ
り清澄な油状物として標記化合物の粗生成物164.5
g(脱シリル化副生物を含む)を得る。 TLC[シリカゲル、ヘキサン中50%[酢酸エチル(
EtOAc)中5%酢酸]−アニスアルデヒド]:前項
Hの化合物 0.89
標記化合物
0.42
【0147】J.[1S−(1α,2α,3α
,4α)]−2−[[3−(ヒドロキシメチル)−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチ
ル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 アルゴン雰囲気下、前項Iの粗化合物164.5gの酸
性メタノール(塩化アセチル10mlをメタノール1.
0lに注意して加えることにより製せられる)1.0l
溶液を、2lフラスコ中で撹拌する。TLCにより、反
応は1種の明らかな中間体を経由して進行したことが示
された。16時間後、炭酸水素ナトリウム30gを10
分間に渡って注意して加える。中和処理で発熱はないが
、ガスが発生する。混合物を30分間撹拌後、これを注
意して蒸発させる。残留物を塩化メチレン500mlで
希釈して硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過する。濾液を蒸
発した後、粗生成物を減圧下(60℃浴、幾らかの脱シ
リル化副生物を除くため)、トルエンと共に2回蒸発さ
せる。 これにより油状物119.3gを得る。標記化合物の粗
正生物は、約1/3当量にすぎない脱シリル化副生物質
と少量のジオール体(G項の副生物)を含む大よそ約7
5%純品であると判断される。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中50%(酢酸エチル中
5%酢酸)−アニスアルデヒド): 前項Iの化合物 0.35
中間体
0.53標記化合物
0.31ジオール体
0.11
,4α)]−2−[[3−(ヒドロキシメチル)−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチ
ル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 アルゴン雰囲気下、前項Iの粗化合物164.5gの酸
性メタノール(塩化アセチル10mlをメタノール1.
0lに注意して加えることにより製せられる)1.0l
溶液を、2lフラスコ中で撹拌する。TLCにより、反
応は1種の明らかな中間体を経由して進行したことが示
された。16時間後、炭酸水素ナトリウム30gを10
分間に渡って注意して加える。中和処理で発熱はないが
、ガスが発生する。混合物を30分間撹拌後、これを注
意して蒸発させる。残留物を塩化メチレン500mlで
希釈して硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過する。濾液を蒸
発した後、粗生成物を減圧下(60℃浴、幾らかの脱シ
リル化副生物を除くため)、トルエンと共に2回蒸発さ
せる。 これにより油状物119.3gを得る。標記化合物の粗
正生物は、約1/3当量にすぎない脱シリル化副生物質
と少量のジオール体(G項の副生物)を含む大よそ約7
5%純品であると判断される。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中50%(酢酸エチル中
5%酢酸)−アニスアルデヒド): 前項Iの化合物 0.35
中間体
0.53標記化合物
0.31ジオール体
0.11
【0148】K.[1S−(1α,2
α,3α,4α)]−2−[(3−カルボキシ−7−オ
キサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル
]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 J項の化合物の粗生成物93.6g(試料の78%)の
アセトン1.5l溶液を室温浴中で撹拌しながら、これ
にMn+2含有ジョーンズ試薬150mlをゆっくり(
50mlづつ約1時間に渡って)加える[ジョーンズ試
薬は、フィーサー・アンド・フィーサー(Fieser
& Fieser)“Reagents fo
r Organic Syntheses”第1巻
142頁に記載のような方法−ジェラシー(Diera
ssi)法により製せられる。このジョーンズ試薬にl
当りMnSO4・H2O(1.0g)を溶解する]。発
熱反応により混合物が還流に近い温度になる。沈澱が生
成するにつれた撹拌が非常に困難になる。試薬の最終部
分を導入した後、試薬の赤色が持続する。30分後、2
−プロパノール50mlを加えることにより過剰量の試
薬の反応を停止させる。沈澱したCr塩は容易に濾過さ
れる。この塩をアセトンで洗う。濾液を蒸発し、混和し
ない2層の油状物を得る。クロロホルム500ml、食
塩水100mlおよび水300mlを加えた後、有機層
と水層の分離は簡単である。水層をクロロホルム250
mlで2回再抽出し、抽出物を合して硫酸ナトリウムで
乾燥し、蒸発する。これにより標記化合物として清澄な
淡緑色の粗油状物109.6gを得る。この標記粗酸の
一部(30.6g、試料の28%)をフラッシュクロマ
トグラフィー(メルクシリカゲル1.0kg、ヘキサン
中40〜100%(酢酸エチル中5%酢酸)勾配溶離剤
)に付す。これにより粘性ある油状物として標記酸の純
品18.2gを得る。また標記酸に対応する二酸が固体
1.4gとして単離される。F項の化合物からの全収率
はそれぞれ80%および6%である。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中50%(酢酸エチル中
5%酢酸)−アニスアルデヒド): J項の化合物
0.33ジオール体
0.12標記化合物
0.31二酸
0.1
3
α,3α,4α)]−2−[(3−カルボキシ−7−オ
キサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル
]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 J項の化合物の粗生成物93.6g(試料の78%)の
アセトン1.5l溶液を室温浴中で撹拌しながら、これ
にMn+2含有ジョーンズ試薬150mlをゆっくり(
50mlづつ約1時間に渡って)加える[ジョーンズ試
薬は、フィーサー・アンド・フィーサー(Fieser
& Fieser)“Reagents fo
r Organic Syntheses”第1巻
142頁に記載のような方法−ジェラシー(Diera
ssi)法により製せられる。このジョーンズ試薬にl
当りMnSO4・H2O(1.0g)を溶解する]。発
熱反応により混合物が還流に近い温度になる。沈澱が生
成するにつれた撹拌が非常に困難になる。試薬の最終部
分を導入した後、試薬の赤色が持続する。30分後、2
−プロパノール50mlを加えることにより過剰量の試
薬の反応を停止させる。沈澱したCr塩は容易に濾過さ
れる。この塩をアセトンで洗う。濾液を蒸発し、混和し
ない2層の油状物を得る。クロロホルム500ml、食
塩水100mlおよび水300mlを加えた後、有機層
と水層の分離は簡単である。水層をクロロホルム250
mlで2回再抽出し、抽出物を合して硫酸ナトリウムで
乾燥し、蒸発する。これにより標記化合物として清澄な
淡緑色の粗油状物109.6gを得る。この標記粗酸の
一部(30.6g、試料の28%)をフラッシュクロマ
トグラフィー(メルクシリカゲル1.0kg、ヘキサン
中40〜100%(酢酸エチル中5%酢酸)勾配溶離剤
)に付す。これにより粘性ある油状物として標記酸の純
品18.2gを得る。また標記酸に対応する二酸が固体
1.4gとして単離される。F項の化合物からの全収率
はそれぞれ80%および6%である。 TLC(シリカゲル、ヘキサン中50%(酢酸エチル中
5%酢酸)−アニスアルデヒド): J項の化合物
0.33ジオール体
0.12標記化合物
0.31二酸
0.1
3
【0149】L.N−(シクロヘキシルブチル)−L
−セリンアミドの製造 4−シクロヘキシルブチルアミン塩酸塩14.3g(7
4.7ミリモル)、t−ブトキシカルボニル(BOC)
−(L)−セリン16.1g(78.4ミリモル、1.
05当量)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物
10.1g(74.7ミリモル、1.00当量)および
N−メチルモルホリン7.9g(78.4ミリモル、1
.05当量)のN,N−ジメチルホルムアミド(DMF
)200ml溶液を、アルゴン雰囲気下、0℃で撹拌し
ながら、これに1−(3−ジメチルアミノプロピル)−
3−エチルカルボジイミド塩酸塩(以下、WSCで表示
)(15.0g、78.4ミリモル、1.05当量)を
一度に加える。WSCのすべてが溶解する。反応混合物
を一夜ゆっくり室温に加温し、沈澱を生成させる。混合
物を回転蒸発器(60℃浴)で蒸発し、油状物および固
体90gを得る。これを酢酸エチル400mlで希釈し
、水性0.3M塩酸200mlで2回洗い(この時点で
固体すべてが溶解する)、次いで1.0M炭酸水素ナト
リウム水溶液200mlで2回洗う。有機層にトルエン
500mlを加え、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸
発する。トルエンと共に蒸発した後、濃厚な固化性油状
物28.4gを得る。この物質:標記BOC−化合物を
塩化メチレン150mlに溶解し、アルゴン雰囲気下、
室温で撹拌しながらトリフルオロ酢酸100mlを加え
る(ガスが発生する)。4時間後、溶媒を蒸発し、クロ
ロホルムと共に蒸発した後、粗生成物をフラッシュクロ
マトグラフィー(シリカゲル1.0kg、塩化メチレン
中10%(メタノール中10%濃アンモニア水))に付
し、白色固体として標記化合物95%純品13.4gを
得る。標記化合物の正しい収率は、4−シクロヘキシル
ブチルアミン塩酸塩からの全収率として70%(12.
7g)である。 TLC(シリカゲル、ジクロロメタン中10%(メタノ
ール中10%濃アンモニア水)−アニスアルデヒド):
4−シクロヘキシルブチルアミン 0.27標記BO
C−化合物 0.43標記
化合物
0.17
−セリンアミドの製造 4−シクロヘキシルブチルアミン塩酸塩14.3g(7
4.7ミリモル)、t−ブトキシカルボニル(BOC)
−(L)−セリン16.1g(78.4ミリモル、1.
05当量)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物
10.1g(74.7ミリモル、1.00当量)および
N−メチルモルホリン7.9g(78.4ミリモル、1
.05当量)のN,N−ジメチルホルムアミド(DMF
)200ml溶液を、アルゴン雰囲気下、0℃で撹拌し
ながら、これに1−(3−ジメチルアミノプロピル)−
3−エチルカルボジイミド塩酸塩(以下、WSCで表示
)(15.0g、78.4ミリモル、1.05当量)を
一度に加える。WSCのすべてが溶解する。反応混合物
を一夜ゆっくり室温に加温し、沈澱を生成させる。混合
物を回転蒸発器(60℃浴)で蒸発し、油状物および固
体90gを得る。これを酢酸エチル400mlで希釈し
、水性0.3M塩酸200mlで2回洗い(この時点で
固体すべてが溶解する)、次いで1.0M炭酸水素ナト
リウム水溶液200mlで2回洗う。有機層にトルエン
500mlを加え、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸
発する。トルエンと共に蒸発した後、濃厚な固化性油状
物28.4gを得る。この物質:標記BOC−化合物を
塩化メチレン150mlに溶解し、アルゴン雰囲気下、
室温で撹拌しながらトリフルオロ酢酸100mlを加え
る(ガスが発生する)。4時間後、溶媒を蒸発し、クロ
ロホルムと共に蒸発した後、粗生成物をフラッシュクロ
マトグラフィー(シリカゲル1.0kg、塩化メチレン
中10%(メタノール中10%濃アンモニア水))に付
し、白色固体として標記化合物95%純品13.4gを
得る。標記化合物の正しい収率は、4−シクロヘキシル
ブチルアミン塩酸塩からの全収率として70%(12.
7g)である。 TLC(シリカゲル、ジクロロメタン中10%(メタノ
ール中10%濃アンモニア水)−アニスアルデヒド):
4−シクロヘキシルブチルアミン 0.27標記BO
C−化合物 0.43標記
化合物
0.17
【0150】M.[1S−(1α,2α,3α
(R*),4α)]−2−[[3−[[[2−[(4−
シクロヘキシルブチル)アミノ]−1−(ヒドロキシメ
チル)−2−オキソエチル]アミノ]カルボニル]−7
−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メ
チル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 K項の化合物16.7g(52.5ミリモル)、L項の
化合物13.4g(95%純品=12.7g、52.5
ミリモル)、1−ヒドロキシベンゼントリアゾール・一
水和物7.8g(57.8ミリモル、1.10当量)お
よびN−メチルモルホリン5.8g(57.8ミリモル
、1.10当量)のDMF(Burdick &
Jackson)250ml溶液をアルゴン雰囲気下、
0℃で撹拌しながら、これにWSC(11.1g、57
.8ミリモル、1.10当量)を加える。このWSCは
完全に溶解する。混合物を一夜室温にあたためる。沈澱
は生成しない。混合物を回転蒸発器(60℃浴)で蒸発
する。残留物を酢酸エチル700mlで希釈し(固体は
すべてが溶解するわけではない)、水性0.3M塩酸2
50ml、次いで水性1.0M炭酸水素ナトリウム25
0mlで洗う。溶解せずに残った固体がTLCにより所
望の生成物であった。塩化メチレン200mlを加えて
も溶液にならない。これを(水性0.3M塩酸150m
l)+(食塩水)、次いで水性1.0M炭酸水素ナトリ
ウム250mlで洗う。更に塩化メチレン500mlを
加えた後、溶液となる。これを硫酸ナトリウムで乾燥し
、減圧下に蒸発する。標記化合物の粗生成物として白色
固体30.7gを得る。この物質は約93%純品である
。標記化合物(単一ジアステレオマー28.5g)の正
確な収率は100%である。 TLC(シリカゲル、ジクロロメタン中10%(メタノ
ール中10%濃アンモニア水)−アニスアルデヒド):
K項の化合物 0.4
2L項の化合物 0.
25標記化合物
0.48TLC(シリカゲル、ヘキサン中50%(酢酸
エチル中5%酢酸)−アニスアルデヒド): K項の化合物 0.3
4L項の化合物 0.
00標記化合物
0.12
(R*),4α)]−2−[[3−[[[2−[(4−
シクロヘキシルブチル)アミノ]−1−(ヒドロキシメ
チル)−2−オキソエチル]アミノ]カルボニル]−7
−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メ
チル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 K項の化合物16.7g(52.5ミリモル)、L項の
化合物13.4g(95%純品=12.7g、52.5
ミリモル)、1−ヒドロキシベンゼントリアゾール・一
水和物7.8g(57.8ミリモル、1.10当量)お
よびN−メチルモルホリン5.8g(57.8ミリモル
、1.10当量)のDMF(Burdick &
Jackson)250ml溶液をアルゴン雰囲気下、
0℃で撹拌しながら、これにWSC(11.1g、57
.8ミリモル、1.10当量)を加える。このWSCは
完全に溶解する。混合物を一夜室温にあたためる。沈澱
は生成しない。混合物を回転蒸発器(60℃浴)で蒸発
する。残留物を酢酸エチル700mlで希釈し(固体は
すべてが溶解するわけではない)、水性0.3M塩酸2
50ml、次いで水性1.0M炭酸水素ナトリウム25
0mlで洗う。溶解せずに残った固体がTLCにより所
望の生成物であった。塩化メチレン200mlを加えて
も溶液にならない。これを(水性0.3M塩酸150m
l)+(食塩水)、次いで水性1.0M炭酸水素ナトリ
ウム250mlで洗う。更に塩化メチレン500mlを
加えた後、溶液となる。これを硫酸ナトリウムで乾燥し
、減圧下に蒸発する。標記化合物の粗生成物として白色
固体30.7gを得る。この物質は約93%純品である
。標記化合物(単一ジアステレオマー28.5g)の正
確な収率は100%である。 TLC(シリカゲル、ジクロロメタン中10%(メタノ
ール中10%濃アンモニア水)−アニスアルデヒド):
K項の化合物 0.4
2L項の化合物 0.
25標記化合物
0.48TLC(シリカゲル、ヘキサン中50%(酢酸
エチル中5%酢酸)−アニスアルデヒド): K項の化合物 0.3
4L項の化合物 0.
00標記化合物
0.12
【0151】N.[1S−(1α,2α,3α
,4α)]−2−[[3−[4−[[(4−シクロヘキ
シルブチル)アミノ]カルボニル]−4,5−ジヒドロ
−2−オキサゾリル]−7−オキサビシクロ[2.2.
1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メ
チルエステルの製造M項の化合物の粗生成物30.7g
(93%純品=28.5g、52.5ミリモル)の乾燥
塩化メチレン800ml溶液を、アルゴン雰囲気下、室
温で撹拌し、この溶液を0℃に冷やす。出発物質が沈澱
し始めた時、トリエチルアミン12.1g(120ミリ
モル)、次いでメタンスルホニルクロリド6.9g(6
0ミリモル)を加える。沈澱が再溶解する。40分後、
混合物を室温に暖め、30分後蒸発する。アルゴン雰囲
気下、残留物(M項の化合物の粗メシレート体)に、ア
セトン1.0lおよび炭酸カリウム27.6g(200
ミリモル)を加える。混合物を2時間還流し、一夜冷蔵
する。固体を濾過してアセトンですすぐ。TLCにより
、長くすすいだ後でも固体中に生成物を含むことが示さ
れた。更に塩化メチレンですすいだ後、生成物のほとん
ど全部が抽出される。濾液を蒸発させ、フラッシュクロ
マトグラフィー(シリカゲル500g、トルエン中20
%アセトン)に付し、固体24.9gを得る。1H−N
MRにより、2つのジアステレオマーの不等混合物とし
て標記化合物純品(90%収率)、又は標記化合物の1
つのジアステレオマーおよび不純物のいずれかであるこ
とが示された。 TLC(シリカゲル、トルエン中20%アセトン−アニ
スアルデヒド): M項の化合物 0.1
3M項の化合物のメシレート体 0.21標記化合物
0.34
,4α)]−2−[[3−[4−[[(4−シクロヘキ
シルブチル)アミノ]カルボニル]−4,5−ジヒドロ
−2−オキサゾリル]−7−オキサビシクロ[2.2.
1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メ
チルエステルの製造M項の化合物の粗生成物30.7g
(93%純品=28.5g、52.5ミリモル)の乾燥
塩化メチレン800ml溶液を、アルゴン雰囲気下、室
温で撹拌し、この溶液を0℃に冷やす。出発物質が沈澱
し始めた時、トリエチルアミン12.1g(120ミリ
モル)、次いでメタンスルホニルクロリド6.9g(6
0ミリモル)を加える。沈澱が再溶解する。40分後、
混合物を室温に暖め、30分後蒸発する。アルゴン雰囲
気下、残留物(M項の化合物の粗メシレート体)に、ア
セトン1.0lおよび炭酸カリウム27.6g(200
ミリモル)を加える。混合物を2時間還流し、一夜冷蔵
する。固体を濾過してアセトンですすぐ。TLCにより
、長くすすいだ後でも固体中に生成物を含むことが示さ
れた。更に塩化メチレンですすいだ後、生成物のほとん
ど全部が抽出される。濾液を蒸発させ、フラッシュクロ
マトグラフィー(シリカゲル500g、トルエン中20
%アセトン)に付し、固体24.9gを得る。1H−N
MRにより、2つのジアステレオマーの不等混合物とし
て標記化合物純品(90%収率)、又は標記化合物の1
つのジアステレオマーおよび不純物のいずれかであるこ
とが示された。 TLC(シリカゲル、トルエン中20%アセトン−アニ
スアルデヒド): M項の化合物 0.1
3M項の化合物のメシレート体 0.21標記化合物
0.34
【01
52】O.[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2
−[[3−[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)ア
ミノ]カルボニル]−2−オキサゾリル]−7−オキサ
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベ
ンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 酢酸エチル250ml中臭化第二銅22.3g(100
ミリモル)の懸濁液(Burdick & Jac
kson)をアルゴン雰囲気下、室温で撹拌しながら、
これに1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデス
−7−エン(DBU)30.4g(200ミリモル)を
加える。得られた暗色混合物を15分間撹拌後、N項の
化合物24.9g(もし純品ならば、47.5ミリモル
)のクロロホルム250ml溶液(Burdick
&Jackson)を加える。混合物は約45℃に暖ま
る(単に2種の溶媒の混合による発熱のため)。18時
間後、臭化第二銅22.3gとDBU15.2gを加え
る。更に25時間後(TLCによりほとんど完全な反応
であることが示された)、臭化第二銅11.2gとDB
U7.6gを加える。更に4時間後、反応混合物を6l
分液漏斗に入れる。重い残留シロップ状物質を塩化メチ
レン中に移して溶解する。これを酢酸エチル1.0l、
ならびに水性飽和塩化アンモニウムと濃水性アンモニア
の1:1(容量:容量)混合物1.4lで振盪する。分
離性は不充分である。ジエチルエーテル(Et2O)7
50mlを加えることにより分離性が良好となる。更に
水層を酢酸エチル800mlで2回抽出し、この抽出操
作は円滑に進行する。抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し
、蒸発する。フラッシュクロマトグラフィー(シリカゲ
ル750g、ヘキサン中25〜40%酢酸勾配溶離剤)
に付し、白色固体として標記化合物純品16.5gを単
離する。標記化合物の収率は、N項の化合物が純品と仮
定して67%である。またガム状物として標記化合物の
ブロモ体(オキサゾール環の5位をブロモ化)1.8g
(収率6%)を単離する。 TLC(シリカゲル、トルエン中20%アセトン−アニ
スアルデヒド): N項の化合物 0.3
1標記化合物 0
.47標記化合物のブロモ体 0.61
52】O.[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2
−[[3−[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)ア
ミノ]カルボニル]−2−オキサゾリル]−7−オキサ
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベ
ンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 酢酸エチル250ml中臭化第二銅22.3g(100
ミリモル)の懸濁液(Burdick & Jac
kson)をアルゴン雰囲気下、室温で撹拌しながら、
これに1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデス
−7−エン(DBU)30.4g(200ミリモル)を
加える。得られた暗色混合物を15分間撹拌後、N項の
化合物24.9g(もし純品ならば、47.5ミリモル
)のクロロホルム250ml溶液(Burdick
&Jackson)を加える。混合物は約45℃に暖ま
る(単に2種の溶媒の混合による発熱のため)。18時
間後、臭化第二銅22.3gとDBU15.2gを加え
る。更に25時間後(TLCによりほとんど完全な反応
であることが示された)、臭化第二銅11.2gとDB
U7.6gを加える。更に4時間後、反応混合物を6l
分液漏斗に入れる。重い残留シロップ状物質を塩化メチ
レン中に移して溶解する。これを酢酸エチル1.0l、
ならびに水性飽和塩化アンモニウムと濃水性アンモニア
の1:1(容量:容量)混合物1.4lで振盪する。分
離性は不充分である。ジエチルエーテル(Et2O)7
50mlを加えることにより分離性が良好となる。更に
水層を酢酸エチル800mlで2回抽出し、この抽出操
作は円滑に進行する。抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し
、蒸発する。フラッシュクロマトグラフィー(シリカゲ
ル750g、ヘキサン中25〜40%酢酸勾配溶離剤)
に付し、白色固体として標記化合物純品16.5gを単
離する。標記化合物の収率は、N項の化合物が純品と仮
定して67%である。またガム状物として標記化合物の
ブロモ体(オキサゾール環の5位をブロモ化)1.8g
(収率6%)を単離する。 TLC(シリカゲル、トルエン中20%アセトン−アニ
スアルデヒド): N項の化合物 0.3
1標記化合物 0
.47標記化合物のブロモ体 0.61
【0153】P.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[4−[[(4−シクロヘキシルブチ
ル)アミノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−
7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]
メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 O項のアミド体410mg(0.74ミリモル)とピリ
ジン70μl(0.87ミリモル、Burdick
and Jackson)の乾燥塩化メチレン25m
l(五酸化二リンから蒸留)溶液に、五硫化リン685
mg(1.54ミリモル、Aldrich)を加え、混
合物を16時間加熱還流する。反応混合物を冷やし、セ
ライトパッドに通して濾過する。濾液を塩化メチレン2
0mlと水酸化ナトリウム水溶液20mlの間に分配す
る。有機層を分離、乾燥(硫酸マグネシウム)し、減圧
下に濃縮して油状物を得る。この粗物質をフラッシュク
ロマトグラフィー(メルクシリカ、15×3.0cm、
酢酸エチル/ヘキサン(1:3))で精製することによ
り、黄色ガラス様物質として標記チオアミド体344m
g(0.62ミリモル、84%)を得る。
]−2−[[3−[4−[[(4−シクロヘキシルブチ
ル)アミノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−
7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]
メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 O項のアミド体410mg(0.74ミリモル)とピリ
ジン70μl(0.87ミリモル、Burdick
and Jackson)の乾燥塩化メチレン25m
l(五酸化二リンから蒸留)溶液に、五硫化リン685
mg(1.54ミリモル、Aldrich)を加え、混
合物を16時間加熱還流する。反応混合物を冷やし、セ
ライトパッドに通して濾過する。濾液を塩化メチレン2
0mlと水酸化ナトリウム水溶液20mlの間に分配す
る。有機層を分離、乾燥(硫酸マグネシウム)し、減圧
下に濃縮して油状物を得る。この粗物質をフラッシュク
ロマトグラフィー(メルクシリカ、15×3.0cm、
酢酸エチル/ヘキサン(1:3))で精製することによ
り、黄色ガラス様物質として標記チオアミド体344m
g(0.62ミリモル、84%)を得る。
【0154】実施例2
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)アミノ]チオ
キソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキサビシク
ロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼン
プロパン酸の製造 実施例1のエステル340mg(0.62ミリモル)と
水酸化リチウム一水和物100mg(2.38ミリモル
、Aldrich)のTHF/水(2:1)7.5ml
溶液を、室温で6時間急速撹拌する。混合物に水性1M
塩酸溶液2.6mlを加えて酸性にした後、酢酸エチル
20mlと水20mlの間に分解する。水層を分離して
更に酢酸エチル20mlで抽出する。有機抽出物を合し
て乾燥(硫酸マグネシウム)し、減圧下に濃縮して固体
を得る。粗固体を再結晶(酢酸エチル/ヘキサン)し、
淡黄色固体として標記化合物286mg(0.55ミリ
モル、88%)を得る。融点135〜137℃。 IR(KBr):3276、2923、2850、17
09、1591、1522、1448、1397、13
07cm−1。 MS(CI):525(M+H)+。 OR:[α]D=+25゜(クロロホルム中、c=0.
25)。 TLC:Rf(シリカゲル、メタノール/塩化メチレン
(1:9))=0.56、モリブデン酸アンモニウム/
硫酸第二セリウムおよびUV、均質。 元素分析、C30H40N2O4Sとして、 計
算値:C,68.67;H,7.68;N,5.34;
S,6.11、 実測値:C,68.86;H,7.
78;N,5.33;S,5.98。
[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)アミノ]チオ
キソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキサビシク
ロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼン
プロパン酸の製造 実施例1のエステル340mg(0.62ミリモル)と
水酸化リチウム一水和物100mg(2.38ミリモル
、Aldrich)のTHF/水(2:1)7.5ml
溶液を、室温で6時間急速撹拌する。混合物に水性1M
塩酸溶液2.6mlを加えて酸性にした後、酢酸エチル
20mlと水20mlの間に分解する。水層を分離して
更に酢酸エチル20mlで抽出する。有機抽出物を合し
て乾燥(硫酸マグネシウム)し、減圧下に濃縮して固体
を得る。粗固体を再結晶(酢酸エチル/ヘキサン)し、
淡黄色固体として標記化合物286mg(0.55ミリ
モル、88%)を得る。融点135〜137℃。 IR(KBr):3276、2923、2850、17
09、1591、1522、1448、1397、13
07cm−1。 MS(CI):525(M+H)+。 OR:[α]D=+25゜(クロロホルム中、c=0.
25)。 TLC:Rf(シリカゲル、メタノール/塩化メチレン
(1:9))=0.56、モリブデン酸アンモニウム/
硫酸第二セリウムおよびUV、均質。 元素分析、C30H40N2O4Sとして、 計
算値:C,68.67;H,7.68;N,5.34;
S,6.11、 実測値:C,68.86;H,7.
78;N,5.33;S,5.98。
【0155】実施例3
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[[[4−(4−クロロフェニル)ブチル]アミ
ノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]
ベンゼンプロパン酸の製造A.1−ブロモ−2−[3−
[[ジメチル(1,1,2−トリメチルプロピル)シリ
ル]オキシ]プロピル]ベンゼンの製造 実施例1・C項の粗アルコール体29.0g(135ミ
リモル)とテキシルジメチルクロロシラン24.1g(
135ミリモル、Petrarch)の乾燥塩化メチレ
ン200ml(五酸化二リンから蒸留)溶液に、室温で
トリエチルアミン20ml(143ミリモル、水素化カ
ルシウムから蒸留)、次いで4−ジメチルアミノピリジ
ン200mg(1.64ミリモル、Aldrich)を
加える。混合物を室温で18時間撹拌する。得られたス
ラリーをヘキサン100mlで希釈し、撹拌しながら1
5分間0℃に冷やし、次いで固体トリエチルアミン塩酸
塩を濾去する。濾液を減圧下に濃縮して油状物を得る。 この粗油状物をフラッシュクロマトグラフィー(メルク
シリカ、15×10cm、酢酸エチル/石油エーテル(
1:9))で精製し、無色液体として標記化合物45.
5g(127ミリモル、94%)を得る。
[4−[[[4−(4−クロロフェニル)ブチル]アミ
ノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]
ベンゼンプロパン酸の製造A.1−ブロモ−2−[3−
[[ジメチル(1,1,2−トリメチルプロピル)シリ
ル]オキシ]プロピル]ベンゼンの製造 実施例1・C項の粗アルコール体29.0g(135ミ
リモル)とテキシルジメチルクロロシラン24.1g(
135ミリモル、Petrarch)の乾燥塩化メチレ
ン200ml(五酸化二リンから蒸留)溶液に、室温で
トリエチルアミン20ml(143ミリモル、水素化カ
ルシウムから蒸留)、次いで4−ジメチルアミノピリジ
ン200mg(1.64ミリモル、Aldrich)を
加える。混合物を室温で18時間撹拌する。得られたス
ラリーをヘキサン100mlで希釈し、撹拌しながら1
5分間0℃に冷やし、次いで固体トリエチルアミン塩酸
塩を濾去する。濾液を減圧下に濃縮して油状物を得る。 この粗油状物をフラッシュクロマトグラフィー(メルク
シリカ、15×10cm、酢酸エチル/石油エーテル(
1:9))で精製し、無色液体として標記化合物45.
5g(127ミリモル、94%)を得る。
【0156】B.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−[2−[3−[[ジメチル(1,1,2−トリメチ
ルプロピル)シリル]オキシ]プロピル]フェニル]−
7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−
ジメタノールの製造A項の化合物5.00g(14.0
ミリモル)の乾燥ジエチルエーテル30ml(ケチル(
ketyl)から蒸留)溶液を−100℃に冷却し、こ
れにt−ブチルリチウム溶液15ml(ペンタン中1.
7M、25ミリモル、Aldrich)を15分間に渡
って滴加する。混合物を−100℃で15分間、次いで
0℃で15分間撹拌する。得られた淡黄色アニオン溶液
を−78℃に再冷却後、乾燥THF30ml(ケチルか
ら蒸留)を導入し、次いで[3aR−(3aα,4β,
7β,3aα)]−オクタヒドロ−4,7−エポキシイ
ソベンゾフラン−1−オール875mg(5.61ミリ
モル)のTHF10ml溶液を急速に加える。混合物を
0℃に昇温して1時間撹拌し、水5mlで反応を停止さ
せ、次いで水100mlと酢酸エチル25mlの間に分
配する。有機層を分離し、水層を更に酢酸エチル25m
lで抽出する。有機抽出物を合して乾燥(硫酸マグネシ
ウム)し、減圧下に濃縮して油状物を得る。この粗油状
物をフラッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ、1
2×5.0cm、酢酸エチル/石油エーテル(1:4)
、次いで酢酸エチル/石油エーテル(4:1)で精製し
、無色油状物として標記ジアステレオマーアルコール体
2.35g(5.41ミリモル、97%)を得る。
]−[2−[3−[[ジメチル(1,1,2−トリメチ
ルプロピル)シリル]オキシ]プロピル]フェニル]−
7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−
ジメタノールの製造A項の化合物5.00g(14.0
ミリモル)の乾燥ジエチルエーテル30ml(ケチル(
ketyl)から蒸留)溶液を−100℃に冷却し、こ
れにt−ブチルリチウム溶液15ml(ペンタン中1.
7M、25ミリモル、Aldrich)を15分間に渡
って滴加する。混合物を−100℃で15分間、次いで
0℃で15分間撹拌する。得られた淡黄色アニオン溶液
を−78℃に再冷却後、乾燥THF30ml(ケチルか
ら蒸留)を導入し、次いで[3aR−(3aα,4β,
7β,3aα)]−オクタヒドロ−4,7−エポキシイ
ソベンゾフラン−1−オール875mg(5.61ミリ
モル)のTHF10ml溶液を急速に加える。混合物を
0℃に昇温して1時間撹拌し、水5mlで反応を停止さ
せ、次いで水100mlと酢酸エチル25mlの間に分
配する。有機層を分離し、水層を更に酢酸エチル25m
lで抽出する。有機抽出物を合して乾燥(硫酸マグネシ
ウム)し、減圧下に濃縮して油状物を得る。この粗油状
物をフラッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ、1
2×5.0cm、酢酸エチル/石油エーテル(1:4)
、次いで酢酸エチル/石油エーテル(4:1)で精製し
、無色油状物として標記ジアステレオマーアルコール体
2.35g(5.41ミリモル、97%)を得る。
【0157】C.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[2−[3−[[ジメチル(1,1,2−ト
リメチルプロピル)シリル]オキシ]プロピル]フェニ
ル]メチル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
タン−3−メタノールの製造 氷酢酸60ml中、B項のジアステレオマーアルコール
体1.90g(4.38ミリモル)と20%水酸化パラ
ジウム/炭触媒(湿気、水<50%、Aldrich)
1.9gの混合物を、水素雰囲気下、(風船形フラスコ
)、5時間急速撹拌する。反応混合物を4μmポリカー
ボネート膜に適して濾過し、濾液を減圧下に(室温浴)
濃縮する。残留物を水50mlと酢酸エチル50mlの
間に分配する。有機層を分離し、1M水酸化ナトリウム
水溶液50mlで洗い、乾燥(硫酸マグネシウム)し、
減圧下に濃縮して油状物を得る。この粗物質をフラッシ
ュクロマトグラフィー(メルクシリカ、12×5.0c
m、酢酸エチル/石油エーテル(1:2)で精製し、無
色油状物として標記化合物1.03g(2.39ミリモ
ル、55%)を得る。加うるに、出発物質(C項の化合
物、単一ジアステレオマーとして)573mg(1.3
7ミリモル、30%)を回収する。
]−2−[[2−[3−[[ジメチル(1,1,2−ト
リメチルプロピル)シリル]オキシ]プロピル]フェニ
ル]メチル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
タン−3−メタノールの製造 氷酢酸60ml中、B項のジアステレオマーアルコール
体1.90g(4.38ミリモル)と20%水酸化パラ
ジウム/炭触媒(湿気、水<50%、Aldrich)
1.9gの混合物を、水素雰囲気下、(風船形フラスコ
)、5時間急速撹拌する。反応混合物を4μmポリカー
ボネート膜に適して濾過し、濾液を減圧下に(室温浴)
濃縮する。残留物を水50mlと酢酸エチル50mlの
間に分配する。有機層を分離し、1M水酸化ナトリウム
水溶液50mlで洗い、乾燥(硫酸マグネシウム)し、
減圧下に濃縮して油状物を得る。この粗物質をフラッシ
ュクロマトグラフィー(メルクシリカ、12×5.0c
m、酢酸エチル/石油エーテル(1:2)で精製し、無
色油状物として標記化合物1.03g(2.39ミリモ
ル、55%)を得る。加うるに、出発物質(C項の化合
物、単一ジアステレオマーとして)573mg(1.3
7ミリモル、30%)を回収する。
【0158】D.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−(ヒドロキシメチル)−7−オキサビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベン
ゼンプロパン酸メチルエステルの製造 C項の化合物1.00g(2.39ミリモル)と4−ジ
メチルアミノピリジン50mg(0.41ミリモル、A
ldrich)の乾燥ピリジン/無水酢酸(1:1)6
ml溶液を、室温で2時間撹拌する。反応混合物を減圧
下に濃縮し、残留物を酢酸エチル25mlと水性1M塩
酸溶液20mlの間に分配する。有機層を分離し、水性
1M水酸化ナトリウム20ml、次いで食塩水20ml
で洗い、乾燥(硫酸マグネシウム)して減圧下に濃縮し
、油状物として粗アセテート体を得る。
]−2−[[3−(ヒドロキシメチル)−7−オキサビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベン
ゼンプロパン酸メチルエステルの製造 C項の化合物1.00g(2.39ミリモル)と4−ジ
メチルアミノピリジン50mg(0.41ミリモル、A
ldrich)の乾燥ピリジン/無水酢酸(1:1)6
ml溶液を、室温で2時間撹拌する。反応混合物を減圧
下に濃縮し、残留物を酢酸エチル25mlと水性1M塩
酸溶液20mlの間に分配する。有機層を分離し、水性
1M水酸化ナトリウム20ml、次いで食塩水20ml
で洗い、乾燥(硫酸マグネシウム)して減圧下に濃縮し
、油状物として粗アセテート体を得る。
【0159】この粗アセテートの試薬アセトン15ml
溶液(0℃に冷やす)に、ジョーンズ試薬3.3ml[
Cr+6中2.6M、調製のためフィーザー・アンド・
フィーザー(Fieser & Fieser)“
有機合成のための試薬”(Reagents for
Organic Synthesis)第1巻1
42頁参照]を速やかに加える。混合物を2時間撹拌し
、イソプロパノール1mlを加え反応を停止させ、更に
30分間撹拌する。得られた緑色スラリーをセライトパ
ッドに通して濾過する。濾液を減圧下に濃縮し、残留物
をジエチルエーテル25mlと水25mlの間に分配す
る。有機層を分離し、減圧下に濃縮し、油状物として粗
アセテート酸を得る。
溶液(0℃に冷やす)に、ジョーンズ試薬3.3ml[
Cr+6中2.6M、調製のためフィーザー・アンド・
フィーザー(Fieser & Fieser)“
有機合成のための試薬”(Reagents for
Organic Synthesis)第1巻1
42頁参照]を速やかに加える。混合物を2時間撹拌し
、イソプロパノール1mlを加え反応を停止させ、更に
30分間撹拌する。得られた緑色スラリーをセライトパ
ッドに通して濾過する。濾液を減圧下に濃縮し、残留物
をジエチルエーテル25mlと水25mlの間に分配す
る。有機層を分離し、減圧下に濃縮し、油状物として粗
アセテート酸を得る。
【0160】この粗アセテート−酸の1M水酸化ナトリ
ウム氷溶液/THF(2:1)15ml溶液を、室温で
30分間撹拌する。反応混合物を水浴中で冷やし、水性
1M塩酸溶液15mlを加えて反応を停止させ、次いで
ジエチルエーテルで(25ml×2回)抽出する。エー
テル抽出物を合して食塩水25mlで洗い、減圧下に濃
縮し、油状物として粗アルコール−酸を得る。
ウム氷溶液/THF(2:1)15ml溶液を、室温で
30分間撹拌する。反応混合物を水浴中で冷やし、水性
1M塩酸溶液15mlを加えて反応を停止させ、次いで
ジエチルエーテルで(25ml×2回)抽出する。エー
テル抽出物を合して食塩水25mlで洗い、減圧下に濃
縮し、油状物として粗アルコール−酸を得る。
【0161】このアルコール−酸の酸性メタノール10
ml(乾燥メタノール10ml(0℃)に塩化アセチル
0.5mlを加えることにより製せられる)溶液を、0
℃で2時間撹拌後、減圧下に濃縮する。得られた油状物
をフラッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ、15
×3.0cm、酢酸エチル)により精製し、無色油状物
として標記化合物526mg(1.76ミリモル、C項
の化合物からの収率74%)を得る。
ml(乾燥メタノール10ml(0℃)に塩化アセチル
0.5mlを加えることにより製せられる)溶液を、0
℃で2時間撹拌後、減圧下に濃縮する。得られた油状物
をフラッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ、15
×3.0cm、酢酸エチル)により精製し、無色油状物
として標記化合物526mg(1.76ミリモル、C項
の化合物からの収率74%)を得る。
【0162】E.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−カルボキシ−7−オキサビシクロ[2
.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパ
ン酸メチルエステルの製造 D項の化合物495mg(1.63ミリモル)の試薬ア
セトン/5ml溶液を0℃に冷やし、この溶液にジョー
ンズ試薬2.0ml(Cr+6中2.6M)を速やかに
加える。混合物を室温に暖め、2時間撹拌後、イソプロ
パノール1ml相当量を加えることにより反応を停止さ
せる。15分後、得られた緑色スラリーをセライトパッ
ドに通して濾過する。濾液をジエチルエーテル20ml
と水20mlの間に分配する。有機層を分離し、水層を
更にジエチルエーテル20mlで抽出する。エーテル抽
出物を合して乾燥(硫酸マグネシウム)し、減圧下に濃
縮し、無色油状物として標記化合物の粗生成物560m
g(1.59ミリモル、98%)を得る。
]−2−[[3−カルボキシ−7−オキサビシクロ[2
.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパ
ン酸メチルエステルの製造 D項の化合物495mg(1.63ミリモル)の試薬ア
セトン/5ml溶液を0℃に冷やし、この溶液にジョー
ンズ試薬2.0ml(Cr+6中2.6M)を速やかに
加える。混合物を室温に暖め、2時間撹拌後、イソプロ
パノール1ml相当量を加えることにより反応を停止さ
せる。15分後、得られた緑色スラリーをセライトパッ
ドに通して濾過する。濾液をジエチルエーテル20ml
と水20mlの間に分配する。有機層を分離し、水層を
更にジエチルエーテル20mlで抽出する。エーテル抽
出物を合して乾燥(硫酸マグネシウム)し、減圧下に濃
縮し、無色油状物として標記化合物の粗生成物560m
g(1.59ミリモル、98%)を得る。
【0163】F.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[[1−(ヒドロキシメチル)−2−
オキソ−2−(フェニルメトキシ)エチル]アミノ]カ
ルボニル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト
−2−イル]メチルベンゼンプロパン酸メチルエステル
の製造E項の酸490mg(1.54ミリモル)の乾燥
THF10ml(ケチルから蒸留)溶液(0℃に冷やす
)に、L−セリンベンジルエステル塩酸塩392mg(
1.69ミリモル、Sigma)、1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール水和物228mg(1.69ミリモル、
Aldrich)およびトリエチルアミン530μl(
3.8ミリモル、水素化カルシウムから蒸留)を加える
。混合物を5分間撹拌し、次いでジシクロヘキシルカル
ボジイミド348mg(1.69ミリモル、Aldri
ch)を一度に加える。混合物を0℃で3時間撹拌後、
室温に16時間暖める。生成したスラリーを酢酸エチル
10mlで希釈し、15分間0℃に冷やした後、濾過す
る。濾液を減圧下に濃縮して油状物を得る。この粗物質
をフラッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ、15
×3.0cm、酢酸エチル)により精製し、白色固体と
して標記化合物540mg(1.09ミリモル、71%
)を得る。
]−2−[[3−[[1−(ヒドロキシメチル)−2−
オキソ−2−(フェニルメトキシ)エチル]アミノ]カ
ルボニル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト
−2−イル]メチルベンゼンプロパン酸メチルエステル
の製造E項の酸490mg(1.54ミリモル)の乾燥
THF10ml(ケチルから蒸留)溶液(0℃に冷やす
)に、L−セリンベンジルエステル塩酸塩392mg(
1.69ミリモル、Sigma)、1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール水和物228mg(1.69ミリモル、
Aldrich)およびトリエチルアミン530μl(
3.8ミリモル、水素化カルシウムから蒸留)を加える
。混合物を5分間撹拌し、次いでジシクロヘキシルカル
ボジイミド348mg(1.69ミリモル、Aldri
ch)を一度に加える。混合物を0℃で3時間撹拌後、
室温に16時間暖める。生成したスラリーを酢酸エチル
10mlで希釈し、15分間0℃に冷やした後、濾過す
る。濾液を減圧下に濃縮して油状物を得る。この粗物質
をフラッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ、15
×3.0cm、酢酸エチル)により精製し、白色固体と
して標記化合物540mg(1.09ミリモル、71%
)を得る。
【0164】G.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[4,5−ジヒドロ−4−[(フェニ
ルメトキシ)カルボニル]−2−オキサゾリル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチ
ル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 F項の化合物525mg(1.06ミリモル)、トリフ
ェニルホスフィン843mg(3.10ミリモル、Al
drich)およびジイソプロピルエチルアミン540
μl(3.1ミリモル、Aldrich)の乾燥アセト
ニトリル/塩化メチレン(5:1)6ml溶液に、試薬
四塩化炭素300μl(3.1ミリモル、Mallin
ckrodt)を、室温で加える。混合物を2時間撹拌
後、酢酸エチル15mlで希釈し、次いで飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液15mlをゆっくり加える。得られた
混合物を5分間撹拌後、酢酸エチル20mlと水20m
lの間に分配する。有機層を分離し、食塩水20mlで
洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧下に濃縮して黄
色油様固体を得る。この粗物質をフラッシュクロマトグ
ラフィー(メルクシリカ、20×3.0cm、酢酸エチ
ル/石油エーテル(2:1))で精製し、淡黄色固体と
して標記オキサゾリン化合物380mg(0.80ミリ
モル、75%)を得る。
]−2−[[3−[4,5−ジヒドロ−4−[(フェニ
ルメトキシ)カルボニル]−2−オキサゾリル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチ
ル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 F項の化合物525mg(1.06ミリモル)、トリフ
ェニルホスフィン843mg(3.10ミリモル、Al
drich)およびジイソプロピルエチルアミン540
μl(3.1ミリモル、Aldrich)の乾燥アセト
ニトリル/塩化メチレン(5:1)6ml溶液に、試薬
四塩化炭素300μl(3.1ミリモル、Mallin
ckrodt)を、室温で加える。混合物を2時間撹拌
後、酢酸エチル15mlで希釈し、次いで飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液15mlをゆっくり加える。得られた
混合物を5分間撹拌後、酢酸エチル20mlと水20m
lの間に分配する。有機層を分離し、食塩水20mlで
洗い、乾燥(硫酸ナトリウム)し、減圧下に濃縮して黄
色油様固体を得る。この粗物質をフラッシュクロマトグ
ラフィー(メルクシリカ、20×3.0cm、酢酸エチ
ル/石油エーテル(2:1))で精製し、淡黄色固体と
して標記オキサゾリン化合物380mg(0.80ミリ
モル、75%)を得る。
【0165】H.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[4−[(フェニルメトキシ)カルボ
ニル]−2−オキサゾリル]−7−オキサビシクロ[2
.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパ
ン酸メチルエステルの製造 G項のオキサゾリン化合物375mg(0.79ミリモ
ル)の乾燥塩化メチレン10ml(五酸化リンから蒸留
)溶液に、実施例1・J項750mg、過酸化ニッケル
酸化剤(K.Nakagawaら、ジャーナル・オブ・
オーガニック・ケミストリー(J.Org.Chem.
)第27巻1597(62)]を、室温で加える。混合
物を1時間撹拌後、更に酸化剤190mgを加える。3
0分後、反応混合物を酢酸エチル20mlで希釈し、次
いで3M亜硫酸水素ナトリウム水溶液10mlを加える
。得られた混合物を20分間急速撹拌後、水10mlを
加える。有機層を分離し、水層を更に酢酸エチル20m
lで抽出する。有機油状物を合して1Mクエン酸ナトリ
ウム水溶液25mlで洗い、乾燥(硫酸マグネシウム)
し、減圧下に濃縮した油状物を得る。この粗物質をフラ
ッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ、15×5.
0cm、酢酸エチル/石油エーテル(2:3))で精製
し、油状物として標記オキサゾール体180mg(0.
38ミリモル、48%)を得る。
]−2−[[3−[4−[(フェニルメトキシ)カルボ
ニル]−2−オキサゾリル]−7−オキサビシクロ[2
.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパ
ン酸メチルエステルの製造 G項のオキサゾリン化合物375mg(0.79ミリモ
ル)の乾燥塩化メチレン10ml(五酸化リンから蒸留
)溶液に、実施例1・J項750mg、過酸化ニッケル
酸化剤(K.Nakagawaら、ジャーナル・オブ・
オーガニック・ケミストリー(J.Org.Chem.
)第27巻1597(62)]を、室温で加える。混合
物を1時間撹拌後、更に酸化剤190mgを加える。3
0分後、反応混合物を酢酸エチル20mlで希釈し、次
いで3M亜硫酸水素ナトリウム水溶液10mlを加える
。得られた混合物を20分間急速撹拌後、水10mlを
加える。有機層を分離し、水層を更に酢酸エチル20m
lで抽出する。有機油状物を合して1Mクエン酸ナトリ
ウム水溶液25mlで洗い、乾燥(硫酸マグネシウム)
し、減圧下に濃縮した油状物を得る。この粗物質をフラ
ッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ、15×5.
0cm、酢酸エチル/石油エーテル(2:3))で精製
し、油状物として標記オキサゾール体180mg(0.
38ミリモル、48%)を得る。
【0166】I.4−(4−クロロフェニル)ブチルア
ミンの製造 (a)3−(4−クロロフェニル)プロパノールの製造
3−(4−クロロフェニル)プロピオン酸5.0g(2
7ミリモル)のテトラヒドロフラン30ml溶液(0℃
)を撹拌し、これにボラン−テトラヒドロフラン溶液3
0ml(THF中1M、30ミリモル)を滴加する。混
合物を15時間撹拌する。反応混合物を減圧下に濃縮す
る。残留物を水を加え反応を停止させ、ジエチルエーテ
ルと飽和炭酸水素ナトリウムの間に分配する。有機層を
分離し、水層をジエチルエーテル40mlで2回抽出す
る。有機層を合して食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に濃縮して無色油状物3.9gを得る。 13C−NMR(CDCl3、67.8MHz)δ:1
40.0、131.0、129.9、129.0、16
1.0、132.5、131.0。
ミンの製造 (a)3−(4−クロロフェニル)プロパノールの製造
3−(4−クロロフェニル)プロピオン酸5.0g(2
7ミリモル)のテトラヒドロフラン30ml溶液(0℃
)を撹拌し、これにボラン−テトラヒドロフラン溶液3
0ml(THF中1M、30ミリモル)を滴加する。混
合物を15時間撹拌する。反応混合物を減圧下に濃縮す
る。残留物を水を加え反応を停止させ、ジエチルエーテ
ルと飽和炭酸水素ナトリウムの間に分配する。有機層を
分離し、水層をジエチルエーテル40mlで2回抽出す
る。有機層を合して食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に濃縮して無色油状物3.9gを得る。 13C−NMR(CDCl3、67.8MHz)δ:1
40.0、131.0、129.9、129.0、16
1.0、132.5、131.0。
【0167】(b)3−(4−クロロフェニル)プロピ
ルブロミドの製造 トリフェニルホスフィン4.15g(15.8ミリモル
)のトルエン100ml溶液(0℃)を撹拌し、これに
臭素1.51ml(15.8ミリモル)を滴加する。混
合物を3時間撹拌後、a項のアルコール体3.90g(
22.9ミリモル)とピリジン1.63ml(15.8
ミリモル)のトルエン20ml溶液を加える。ヘキサン
25mlとジエチルエーテル25mlの溶液を加え、褐
色の塊が生成する。液体を傾斜して減圧下に濃縮する。 残留物をヘキサン:酢酸エチルで処理し、トリフェニル
ホスフィンオキシドが沈澱する。固体を濾去し、濾液を
減圧下に濃縮して黄色油状物を得る。油状物をフラッシ
ュクロマトグラフィーにより精製し、所望の生成物1.
80g(7.72ミリモル、の49%)を得る。 13C−NMR(CDCl3)δ:138.7、131
.6、129.6、128.3、33.7、33.0、
32.5。
ルブロミドの製造 トリフェニルホスフィン4.15g(15.8ミリモル
)のトルエン100ml溶液(0℃)を撹拌し、これに
臭素1.51ml(15.8ミリモル)を滴加する。混
合物を3時間撹拌後、a項のアルコール体3.90g(
22.9ミリモル)とピリジン1.63ml(15.8
ミリモル)のトルエン20ml溶液を加える。ヘキサン
25mlとジエチルエーテル25mlの溶液を加え、褐
色の塊が生成する。液体を傾斜して減圧下に濃縮する。 残留物をヘキサン:酢酸エチルで処理し、トリフェニル
ホスフィンオキシドが沈澱する。固体を濾去し、濾液を
減圧下に濃縮して黄色油状物を得る。油状物をフラッシ
ュクロマトグラフィーにより精製し、所望の生成物1.
80g(7.72ミリモル、の49%)を得る。 13C−NMR(CDCl3)δ:138.7、131
.6、129.6、128.3、33.7、33.0、
32.5。
【0168】(c)4−(4−クロロフェニル)ブチロ
ニトリルの製造 b項のブロミド体3.10g(13.3ミリモル)のエ
タノール36ml溶液をアルゴン雰囲気下、室温で撹拌
しながらこれに、シアン化カリウム4.26(65.4
ミリモル)の水12ml溶液を加える。TLCにより示
されるように5時間後反応は不完全であった。反応混合
物にTHF4mlと水4mlを加え、均質な混合物を得
る。12時間撹拌後、水とジエチルエーテルを加える。 有機層を分離し、水層をジエチルエーテル50mlで2
回抽出する。有機層を合して水、食塩水で洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して油状物を得る。 油状物をフラッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ
、ヘキサン:酢酸エチル(90:10))により精製し
、清澄な油状物として標記ニトリル体1.80g(10
.1ミリモル、76%)を得る。 13C−NMR(CDCl3)δ:138.0、132
.1、129.6、128.6、33.5、26.6、
16.2。
ニトリルの製造 b項のブロミド体3.10g(13.3ミリモル)のエ
タノール36ml溶液をアルゴン雰囲気下、室温で撹拌
しながらこれに、シアン化カリウム4.26(65.4
ミリモル)の水12ml溶液を加える。TLCにより示
されるように5時間後反応は不完全であった。反応混合
物にTHF4mlと水4mlを加え、均質な混合物を得
る。12時間撹拌後、水とジエチルエーテルを加える。 有機層を分離し、水層をジエチルエーテル50mlで2
回抽出する。有機層を合して水、食塩水で洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して油状物を得る。 油状物をフラッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ
、ヘキサン:酢酸エチル(90:10))により精製し
、清澄な油状物として標記ニトリル体1.80g(10
.1ミリモル、76%)を得る。 13C−NMR(CDCl3)δ:138.0、132
.1、129.6、128.6、33.5、26.6、
16.2。
【0169】(d)4−(4−クロロフェニル)ブチル
アミンの製造 c項のニトリル体1.80g(10ミリモル)のジエチ
ルエーテル70ml溶液をアルゴン雰囲気下、0℃で撹
拌しながらこの溶液に、水素化アルミニウムリチウム0
.38g(10ミリモル)を加える。ガスが発生する。 20分後、反応混合物に水0.4ml、1N水酸化ナト
リウム0.4ml、次いで水1.2mlを添加して反応
を停止させ、それぞれを添加後、数分間撹拌する。生成
した白色沈澱を濾別して濾液を減圧下に濃縮し、清澄な
油状物として標記アミン体1.5g(8.20ミリモル
、82%)を得る。 13C−NMR(CDCl3)δ:140.7、131
.2、129.5、128.2、41.8、34.9、
33.0、28.4。
アミンの製造 c項のニトリル体1.80g(10ミリモル)のジエチ
ルエーテル70ml溶液をアルゴン雰囲気下、0℃で撹
拌しながらこの溶液に、水素化アルミニウムリチウム0
.38g(10ミリモル)を加える。ガスが発生する。 20分後、反応混合物に水0.4ml、1N水酸化ナト
リウム0.4ml、次いで水1.2mlを添加して反応
を停止させ、それぞれを添加後、数分間撹拌する。生成
した白色沈澱を濾別して濾液を減圧下に濃縮し、清澄な
油状物として標記アミン体1.5g(8.20ミリモル
、82%)を得る。 13C−NMR(CDCl3)δ:140.7、131
.2、129.5、128.2、41.8、34.9、
33.0、28.4。
【0170】J.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[4−[[[4−(4−クロロフェニ
ル)ブチル)アミノ]カルボニル]−2−オキサゾリル
]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イ
ル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 試薬酢酸エチル5ml中、H項のオキサゾール体175
mg(0.37ミリモル)および20%水酸化パラジウ
ム/炭触媒(湿気、水<50%、Aldrich)の混
合物を、水素雰囲気下に(風船形フラスコ)1時間撹拌
する。触媒を0.4μmポリカーボネート膜に通して濾
去する。濾液を減圧下に濃縮し、白色固体として粗酸(
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[カルボキシ]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]
ベンゼンプロパン酸メチルエステル)141mg(0.
37ミリモル、100%、融点156〜158℃)を得
る。
]−2−[[3−[4−[[[4−(4−クロロフェニ
ル)ブチル)アミノ]カルボニル]−2−オキサゾリル
]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イ
ル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 試薬酢酸エチル5ml中、H項のオキサゾール体175
mg(0.37ミリモル)および20%水酸化パラジウ
ム/炭触媒(湿気、水<50%、Aldrich)の混
合物を、水素雰囲気下に(風船形フラスコ)1時間撹拌
する。触媒を0.4μmポリカーボネート膜に通して濾
去する。濾液を減圧下に濃縮し、白色固体として粗酸(
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[カルボキシ]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]
ベンゼンプロパン酸メチルエステル)141mg(0.
37ミリモル、100%、融点156〜158℃)を得
る。
【0171】この粗酸135mg(0.35ミリモル)
の乾燥塩化メチレン3ml(五酸化リンから蒸留)溶液
に、DMF数滴、次いで塩化オキサリル40μl(0.
46ミリモル、Aldrich)を、室温で添加する。 混合物を30分間撹拌後、減圧下に濃縮し、黄色固体と
して粗酸クロリド体を得る。この酸クロリド体を塩化メ
チレン3mlに溶解後、0℃に冷やし、I項のアミン体
84mg(0.46ミリモル)とトリエチルアミン70
μl(0.50ミリモル、水素化カルシウムから蒸留)
の乾燥塩化メチレン1ml溶液を速やかに加える。混合
物を30分間撹拌後、酢酸エチル25mlと水性1M塩
酸溶液15mlの間に分配する。有機層を分離し、水層
を更に酢酸エチル10mlで抽出する。有機抽出物を合
して乾燥(硫酸マグネシウム)し、減圧下に濃縮して黄
色固体を得る。この粗物質をフラッシュクロマトグラフ
ィー(メルクシリカ、18×1.5cm、酢酸エチル/
石油エーテル(3:1))で精製し、白色固体として標
記化合物161mg(0.29ミリモル、83%、融点
140〜142℃)を得る。
の乾燥塩化メチレン3ml(五酸化リンから蒸留)溶液
に、DMF数滴、次いで塩化オキサリル40μl(0.
46ミリモル、Aldrich)を、室温で添加する。 混合物を30分間撹拌後、減圧下に濃縮し、黄色固体と
して粗酸クロリド体を得る。この酸クロリド体を塩化メ
チレン3mlに溶解後、0℃に冷やし、I項のアミン体
84mg(0.46ミリモル)とトリエチルアミン70
μl(0.50ミリモル、水素化カルシウムから蒸留)
の乾燥塩化メチレン1ml溶液を速やかに加える。混合
物を30分間撹拌後、酢酸エチル25mlと水性1M塩
酸溶液15mlの間に分配する。有機層を分離し、水層
を更に酢酸エチル10mlで抽出する。有機抽出物を合
して乾燥(硫酸マグネシウム)し、減圧下に濃縮して黄
色固体を得る。この粗物質をフラッシュクロマトグラフ
ィー(メルクシリカ、18×1.5cm、酢酸エチル/
石油エーテル(3:1))で精製し、白色固体として標
記化合物161mg(0.29ミリモル、83%、融点
140〜142℃)を得る。
【0172】K.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[4−[[[4−(4−クロロフェニ
ル)ブチル]アミノ]チオキサメチル]−2−オキサゾ
リル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの
製造 実施例1のO項のアミド体の代わりに実施例2のJ項の
アミド体を用い、実施例1のP項と同様に処理し、標記
エステル体を得る。
]−2−[[3−[4−[[[4−(4−クロロフェニ
ル)ブチル]アミノ]チオキサメチル]−2−オキサゾ
リル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの
製造 実施例1のO項のアミド体の代わりに実施例2のJ項の
アミド体を用い、実施例1のP項と同様に処理し、標記
エステル体を得る。
【0173】実施例4
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[[[4−(4−クロロフェニル)ブチル)アミ
ノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]
ベンゼンプロパン酸の製造 実施例1のエステル体の代わりに実施例3のエステル体
を用い、実施例2と同様に処理して標記化合物を得る。
[4−[[[4−(4−クロロフェニル)ブチル)アミ
ノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]
ベンゼンプロパン酸の製造 実施例1のエステル体の代わりに実施例3のエステル体
を用い、実施例2と同様に処理して標記化合物を得る。
【0174】実施例5
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[(ペンチルアミノ)チオキソメチル]−2−オ
キサゾリル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエス
テルの製造A.[1S−(1α,2α,3α,4α)]
−2−[[3−[4−(ペンチルアミノ)カルボニル]
−2−オキサゾリル]−7−オキサビシクロ[2.2.
1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メ
チルエステルの製造実施例3のJ項で製せられたオキサ
ゾール・酸中間体200mg(0.52ミリモル)の乾
燥塩化メチレン3ml(五酸化リンから蒸留)溶液に、
ジメチルホルムアミド数滴、次いで塩化オキサリル55
μl(0.63ミリモル、Aldrich)を加える。 ガスの発生が止むまで約15分間混合物を撹拌し、減圧
下に濃縮して固体を得る。この固体を、ふるい乾燥した
ベンゼン(Burdick and Jackso
n)に溶解し、これを減圧下に濃縮し、固体として粗酸
クロリド体を得る。この粗酸クロリド体を乾燥塩化メチ
レン5mlに溶解して0℃に冷やし、トリエチルアミン
110μl(0.75ミリモル、水素化カルシウムから
蒸留)、次いでn−アミルアミン72μl(0.62ミ
リモル、Aldrich)を加える。反応混合物を30
分間撹拌後、酢酸エチル20mlと水性1M塩酸溶液1
0mlの間に分配する。有機層を分離し、乾燥(硫酸マ
グネシウム)し、減圧下に濃縮して固体を得る。粗固体
をフラッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ、12
×3.0cm、酢酸エチル/ヘキサン(2:1))によ
り精製し、白色固体として標記エステル171mg(0
.38ミリモル、72%)を得る。
[4−[(ペンチルアミノ)チオキソメチル]−2−オ
キサゾリル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエス
テルの製造A.[1S−(1α,2α,3α,4α)]
−2−[[3−[4−(ペンチルアミノ)カルボニル]
−2−オキサゾリル]−7−オキサビシクロ[2.2.
1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メ
チルエステルの製造実施例3のJ項で製せられたオキサ
ゾール・酸中間体200mg(0.52ミリモル)の乾
燥塩化メチレン3ml(五酸化リンから蒸留)溶液に、
ジメチルホルムアミド数滴、次いで塩化オキサリル55
μl(0.63ミリモル、Aldrich)を加える。 ガスの発生が止むまで約15分間混合物を撹拌し、減圧
下に濃縮して固体を得る。この固体を、ふるい乾燥した
ベンゼン(Burdick and Jackso
n)に溶解し、これを減圧下に濃縮し、固体として粗酸
クロリド体を得る。この粗酸クロリド体を乾燥塩化メチ
レン5mlに溶解して0℃に冷やし、トリエチルアミン
110μl(0.75ミリモル、水素化カルシウムから
蒸留)、次いでn−アミルアミン72μl(0.62ミ
リモル、Aldrich)を加える。反応混合物を30
分間撹拌後、酢酸エチル20mlと水性1M塩酸溶液1
0mlの間に分配する。有機層を分離し、乾燥(硫酸マ
グネシウム)し、減圧下に濃縮して固体を得る。粗固体
をフラッシュクロマトグラフィー(メルクシリカ、12
×3.0cm、酢酸エチル/ヘキサン(2:1))によ
り精製し、白色固体として標記エステル171mg(0
.38ミリモル、72%)を得る。
【0175】B.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[4−[(ペンチルアミノ)チオキソ
メチル]−2−オキサゾリル]−7−オキサビシクロ[
2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロ
パン酸メチルエステルの製造 実施例1のO項のアミド体の代わりに実施例5のA項の
アミド体を用い、実施例1のP項と同様に処理し、標記
エステル体を得る。
]−2−[[3−[4−[(ペンチルアミノ)チオキソ
メチル]−2−オキサゾリル]−7−オキサビシクロ[
2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロ
パン酸メチルエステルの製造 実施例1のO項のアミド体の代わりに実施例5のA項の
アミド体を用い、実施例1のP項と同様に処理し、標記
エステル体を得る。
【0176】実施例6
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[(ペンチルアミノ)チオキソメチル]−2−オ
キサゾリル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸の製造 実施例1のエステル体の代わりに実施例5のエステル体
を用い、実施例2と同様に処理し、標記酸を得る。
[4−[(ペンチルアミノ)チオキソメチル]−2−オ
キサゾリル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸の製造 実施例1のエステル体の代わりに実施例5のエステル体
を用い、実施例2と同様に処理し、標記酸を得る。
【0177】実施例7
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)アミノ]チオ
キソメチル]−1H−イミダゾール−2−イル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチ
ル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 A.3−アミノ−2−[[(1,1−ジメチルエトキシ
)カルボニル]アミノ]プロパン酸ベンジルエステルの
製造DMF−水(1:1)24ml中ビス(トリフルオ
ロアセトキシ)ヨードシルベンゼン(2.00g、4.
66ミリモル)の混合物を撹拌してこれに、N−α−B
oc−アスパラギンベンジルエステル(1.00g、3
.11ミリモル、製造法はウォング(Wang,G.)
らにより記載されている(J.Org.Chem.,V
ol.42,p1286〜1290,1977))を加
える。混合物を冷水浴で15分間撹拌し、この時乾燥ピ
リジン(0.50ml、6.21ミリモル)を加える。 この混合物を室温で4時間撹拌し、減圧下に濃縮する。 粗生成物を1N塩酸溶液10mlとエーテル(15ml
×4)の間に分配する。水層を炭酸水素ナトリウムで中
和し、塩化ナトリウムで飽和し、酢酸エチルで(15m
l×4回)抽出する。酢酸エチル抽出物を合して乾燥(
硫酸マグネシウム)、濾過し、減圧下に濃縮し、標記ア
ミン0.53g(58%)を得る。、TLC:シリカゲ
ル、6%メタノール/塩化メチレン、Rf0.44、硫
酸第二セリウム。
[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)アミノ]チオ
キソメチル]−1H−イミダゾール−2−イル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチ
ル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 A.3−アミノ−2−[[(1,1−ジメチルエトキシ
)カルボニル]アミノ]プロパン酸ベンジルエステルの
製造DMF−水(1:1)24ml中ビス(トリフルオ
ロアセトキシ)ヨードシルベンゼン(2.00g、4.
66ミリモル)の混合物を撹拌してこれに、N−α−B
oc−アスパラギンベンジルエステル(1.00g、3
.11ミリモル、製造法はウォング(Wang,G.)
らにより記載されている(J.Org.Chem.,V
ol.42,p1286〜1290,1977))を加
える。混合物を冷水浴で15分間撹拌し、この時乾燥ピ
リジン(0.50ml、6.21ミリモル)を加える。 この混合物を室温で4時間撹拌し、減圧下に濃縮する。 粗生成物を1N塩酸溶液10mlとエーテル(15ml
×4)の間に分配する。水層を炭酸水素ナトリウムで中
和し、塩化ナトリウムで飽和し、酢酸エチルで(15m
l×4回)抽出する。酢酸エチル抽出物を合して乾燥(
硫酸マグネシウム)、濾過し、減圧下に濃縮し、標記ア
ミン0.53g(58%)を得る。、TLC:シリカゲ
ル、6%メタノール/塩化メチレン、Rf0.44、硫
酸第二セリウム。
【0178】B.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[[2−[[(1,1−ジメチルエト
キシ)カルボニル]アミノ]−3−オキソ−3−(フェ
ニルメトキシ)プロピル]アミノ]オキソメチル]−7
−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メ
チル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 乾燥DMF80ml中実施例2のE項の酸(3.75g
、11.8ミリモル)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール一水和物(1.97g、11.8ミリモル)および
A項のアミン(3.30g、11.8ミリモル)の混合
物を、アルゴン雰囲気下、0℃で撹拌しながらこれに、
トリエチルアミン(3.28ml、23.6ミリモル)
とエチル−3−(3−ジメチルアミノ)プロピルカルボ
ジイミド塩酸塩(2.26g、11.8ミリモル)を引
き続いて添加する。混合物を室温で12時間撹拌し、減
圧下に濃縮する。粗生成物を酢酸エチル400mlで希
釈し、0.1N水酸化ナトリウム溶液(40ml×3回
)、1N塩酸溶液(40ml×2回)、飽和炭酸水素ナ
トリウム(40ml×1回)および食塩水(80ml×
1回)で洗う。酢酸エチル層を乾燥(硫酸マグネシウム
)、濾過し、減圧下に濃縮する。これをメルクシリカゲ
ル60上、溶離剤として2%メタノール/塩化メチレン
を用いるクロマトグラフィーに付し、標記アミド1.8
7g(27%)を得る。 TLC:シリカゲル、6%メタノール/塩化メチレン、
Rf0.76、硫酸第二セリウム。
]−2−[[3−[[2−[[(1,1−ジメチルエト
キシ)カルボニル]アミノ]−3−オキソ−3−(フェ
ニルメトキシ)プロピル]アミノ]オキソメチル]−7
−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メ
チル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 乾燥DMF80ml中実施例2のE項の酸(3.75g
、11.8ミリモル)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール一水和物(1.97g、11.8ミリモル)および
A項のアミン(3.30g、11.8ミリモル)の混合
物を、アルゴン雰囲気下、0℃で撹拌しながらこれに、
トリエチルアミン(3.28ml、23.6ミリモル)
とエチル−3−(3−ジメチルアミノ)プロピルカルボ
ジイミド塩酸塩(2.26g、11.8ミリモル)を引
き続いて添加する。混合物を室温で12時間撹拌し、減
圧下に濃縮する。粗生成物を酢酸エチル400mlで希
釈し、0.1N水酸化ナトリウム溶液(40ml×3回
)、1N塩酸溶液(40ml×2回)、飽和炭酸水素ナ
トリウム(40ml×1回)および食塩水(80ml×
1回)で洗う。酢酸エチル層を乾燥(硫酸マグネシウム
)、濾過し、減圧下に濃縮する。これをメルクシリカゲ
ル60上、溶離剤として2%メタノール/塩化メチレン
を用いるクロマトグラフィーに付し、標記アミド1.8
7g(27%)を得る。 TLC:シリカゲル、6%メタノール/塩化メチレン、
Rf0.76、硫酸第二セリウム。
【0179】C.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[[[2−[[(1,1−ジメチルエ
トキシ)カルボニル]アミノ]−3−オキソ−3−(フ
ェニルメトキシ)プロピル]アミノ]チオキソメチル]
−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル
]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 ベンゼン14ml中B項のアミド体(650mg、1.
12ミリモル)の混合物をアルゴン雰囲気下で撹拌して
この混合物に、ラウエッソン(Lawesson)の試
薬(2.93g、0.72ミリモル)を加える。混合物
をアルゴン雰囲気下に65℃で2時間加温し、室温に冷
やす。混合物をエーテル200mlで希釈し、飽和炭酸
水素ナトリウム溶液で(30ml×1回)、食塩水で(
40ml×1回)洗う。有機層を乾燥(硫酸マグネシウ
ム)、濾過し、減圧下に濃縮する。これをメルクシリカ
ゲル60(24g)上、溶離剤としてエーテル−ヘキサ
ン(1:1)を用いるフラッシュクロマトグラフィーに
より精製し、標記チオアミド350mg(52%)を得
る。 TLC:シリカゲル、エーテル−ヘキサン(3:1)、
Rf0.58、硫酸第二セリウム。
]−2−[[3−[[[2−[[(1,1−ジメチルエ
トキシ)カルボニル]アミノ]−3−オキソ−3−(フ
ェニルメトキシ)プロピル]アミノ]チオキソメチル]
−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル
]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 ベンゼン14ml中B項のアミド体(650mg、1.
12ミリモル)の混合物をアルゴン雰囲気下で撹拌して
この混合物に、ラウエッソン(Lawesson)の試
薬(2.93g、0.72ミリモル)を加える。混合物
をアルゴン雰囲気下に65℃で2時間加温し、室温に冷
やす。混合物をエーテル200mlで希釈し、飽和炭酸
水素ナトリウム溶液で(30ml×1回)、食塩水で(
40ml×1回)洗う。有機層を乾燥(硫酸マグネシウ
ム)、濾過し、減圧下に濃縮する。これをメルクシリカ
ゲル60(24g)上、溶離剤としてエーテル−ヘキサ
ン(1:1)を用いるフラッシュクロマトグラフィーに
より精製し、標記チオアミド350mg(52%)を得
る。 TLC:シリカゲル、エーテル−ヘキサン(3:1)、
Rf0.58、硫酸第二セリウム。
【0180】D.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[1−[(1,1−ジメチルエトキシ
)カルボニル]−4,5−ジヒドロ−5−[(フェニル
メトキシ)カルボニル]−1H−イミダゾール−2−イ
ル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−
イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製
造 アクリロニトリル6ml中、C項のチオアミド(340
mg、0.57ミリモル)、トリフェニルホスフィン(
448mg、1.71ミリモル)およびトリエチルアミ
ン(0.24ml、1.71ミリモル)の混合物を撹拌
してこれに、四塩化炭素(0.62ml、6.27ミリ
モル)を加える。混合物を室温で4時間撹拌し、エーテ
ル100mlおよび水10mlで希釈する。得られた混
合物を塩化ナトリウムで飽和し、エーテルで(40ml
×4回)抽出する。エーテル抽出物を合して乾燥(硫酸
マグネシウム)、濾過し、減圧下に濃縮する。これを、
メルクシリカゲル60(20g)上、溶離剤としてヘキ
サン−エーテル(2:1)、(1:1)および(1:3
)それぞれ200mlを用いるクロマトグラフィーに付
し、標記Boc(またはBOC)−イミダゾリン180
mg(56%)を得る。 TLC:シリカゲル、エーテル、Rf0.24、硫酸第
二セリウム。
]−2−[[3−[1−[(1,1−ジメチルエトキシ
)カルボニル]−4,5−ジヒドロ−5−[(フェニル
メトキシ)カルボニル]−1H−イミダゾール−2−イ
ル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−
イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製
造 アクリロニトリル6ml中、C項のチオアミド(340
mg、0.57ミリモル)、トリフェニルホスフィン(
448mg、1.71ミリモル)およびトリエチルアミ
ン(0.24ml、1.71ミリモル)の混合物を撹拌
してこれに、四塩化炭素(0.62ml、6.27ミリ
モル)を加える。混合物を室温で4時間撹拌し、エーテ
ル100mlおよび水10mlで希釈する。得られた混
合物を塩化ナトリウムで飽和し、エーテルで(40ml
×4回)抽出する。エーテル抽出物を合して乾燥(硫酸
マグネシウム)、濾過し、減圧下に濃縮する。これを、
メルクシリカゲル60(20g)上、溶離剤としてヘキ
サン−エーテル(2:1)、(1:1)および(1:3
)それぞれ200mlを用いるクロマトグラフィーに付
し、標記Boc(またはBOC)−イミダゾリン180
mg(56%)を得る。 TLC:シリカゲル、エーテル、Rf0.24、硫酸第
二セリウム。
【0181】E.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[5−[[(4−シクロヘキシルブチ
ル)アミノ]カルボニル]−[1−[(1,1−ジメチ
ルエトキシ)カルボニル]−4,5−ジヒドロ−1H−
イミダゾール−2−イル]−7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン
酸メチルエステルの製造メタノール10ml中、D項の
Boc−イミダゾリン(180mg、0.32ミリモル
)の混合物をアルゴン雰囲気下、撹拌しながらこれに、
20%Pd/C(36mg、20%(D項の化合物の重
量基準))を加える。数回の減圧−充満循環(seve
ralvacuum−fill cycles)によ
り雰囲気を水素で置き換える。混合物を室温で4.5時
間撹拌し、4μmポリカーボネートフィルムに通して触
媒を濾別する。触媒をDMFで(20ml×4回)すす
ぐ。濾液を減圧下に濃縮して粗酸:[1S−(1α,2
α,3α,4α)]−2−[[3−[5−カルボキシ−
1−[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]−4
,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル]−7
−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メ
チル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルを得る。DM
F3ml中、この酸、1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル一水和物(54mg、0.32ミリモル)および4−
シクロヘキシルブチルアミン塩酸塩(74mg、0.3
8ミリモル)の混合物をアルゴン雰囲気下、撹拌して0
℃でこの混合物に、トリエチルアミン(0.11ml、
0.79ミリモル)およびエチル−3−(3−ジメチル
アミノ)プロピルカルボジイミド塩酸塩(61mg、0
.32ミリモル)を引き続き加える。混合物を室温で1
8時間撹拌し、減圧下に濃縮する。粗生成物を酢酸エチ
ル150mlと0.1N水酸化ナトリウム溶液(25m
l×2)、1N塩酸溶液(25ml×2)と飽和炭酸水
素ナトリウム溶液(25ml×1)の間に分配する。有
機層を乾燥(硫酸マグネシウム)、濾過し、減圧下に濃
縮する。これをメルクシリカゲル60(10g)上、溶
離剤として2%メタノール/塩化メチレンを用いるクロ
マトグラフィーに付し、標記アミド体42.1mg(2
2%)を得る。 TLC:シリカゲル、6%メタノール/塩化メチレン、
Rf0.58、硫酸第二セリウム。
]−2−[[3−[5−[[(4−シクロヘキシルブチ
ル)アミノ]カルボニル]−[1−[(1,1−ジメチ
ルエトキシ)カルボニル]−4,5−ジヒドロ−1H−
イミダゾール−2−イル]−7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン
酸メチルエステルの製造メタノール10ml中、D項の
Boc−イミダゾリン(180mg、0.32ミリモル
)の混合物をアルゴン雰囲気下、撹拌しながらこれに、
20%Pd/C(36mg、20%(D項の化合物の重
量基準))を加える。数回の減圧−充満循環(seve
ralvacuum−fill cycles)によ
り雰囲気を水素で置き換える。混合物を室温で4.5時
間撹拌し、4μmポリカーボネートフィルムに通して触
媒を濾別する。触媒をDMFで(20ml×4回)すす
ぐ。濾液を減圧下に濃縮して粗酸:[1S−(1α,2
α,3α,4α)]−2−[[3−[5−カルボキシ−
1−[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]−4
,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル]−7
−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メ
チル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルを得る。DM
F3ml中、この酸、1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル一水和物(54mg、0.32ミリモル)および4−
シクロヘキシルブチルアミン塩酸塩(74mg、0.3
8ミリモル)の混合物をアルゴン雰囲気下、撹拌して0
℃でこの混合物に、トリエチルアミン(0.11ml、
0.79ミリモル)およびエチル−3−(3−ジメチル
アミノ)プロピルカルボジイミド塩酸塩(61mg、0
.32ミリモル)を引き続き加える。混合物を室温で1
8時間撹拌し、減圧下に濃縮する。粗生成物を酢酸エチ
ル150mlと0.1N水酸化ナトリウム溶液(25m
l×2)、1N塩酸溶液(25ml×2)と飽和炭酸水
素ナトリウム溶液(25ml×1)の間に分配する。有
機層を乾燥(硫酸マグネシウム)、濾過し、減圧下に濃
縮する。これをメルクシリカゲル60(10g)上、溶
離剤として2%メタノール/塩化メチレンを用いるクロ
マトグラフィーに付し、標記アミド体42.1mg(2
2%)を得る。 TLC:シリカゲル、6%メタノール/塩化メチレン、
Rf0.58、硫酸第二セリウム。
【0182】F.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[4−[[(4−シクロヘキシルブチ
ル)アミノ]カルボニル]−1H−イミダゾール−2−
イル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの
製造 乾燥塩化メチレン3ml中、E項のアミド体(555m
g、0.94ミリモル)の混合物(0℃)を撹拌してこ
の混合物に、トリフルオロ酢酸(TFA)6mlを加え
る。混合物を室温で3時間撹拌する。この混合物をトル
エン40mlで希釈し、減圧下に濃縮して[1S−(1
α,2α,3α,4α)]−2−[[3−[5−[[(
4−シクロヘキシルブチル)アミノ]カルボニル]−4
,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル]−7
−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メ
チル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルを得る。この
粗イミダゾール−TFA塩を酢酸エチル150mlで希
釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液40mlで1回洗う
。水層を酢酸エチルで(100ml×1回)抽出する。 酢酸エチル抽出物を合して乾燥(硫酸マグネシウム)、
濾過し、減圧下に濃縮する。クロロホルム15ml中こ
の粗イミダゾリンに、二酸化マンガン(570mg、6
.55ミリモル)を加える。混合物を室温で64時間撹
拌し、この時に二酸化マンガン(570mg、6.55
ミリモル)を加える。混合物を室温で1日間撹拌し、追
加量の二酸化マンガン(290mg、3.28ミリモル
)を加える。混合物を室温で更に1日間撹拌し、再び二
酸化マンガン(190mg、2.18ミリモル)を加え
る。混合物を室温で1日間撹拌し、二酸化マンガンをセ
ライトパッドに通して濾別し、パッドをクロロホルムで
(30ml×6回)すすぐ。濾液を減圧下に濃縮し、メ
ルクシリカゲル60(40g)(シリカゲルをあらかじ
め塩化メチレン中0.1%トリエチルアミンで処理し、
次いで塩化メチレンで洗う)上、溶離剤として塩化メチ
レン150mlおよび2%メタノール/塩化メチレン(
150ml)を用いるクロマトグラフィーに付し、イミ
ダゾール化合物370mg(76%)を得る。 TLC:シリカゲル、6%メタノール/塩化メチレン、
Rf0.66、硫酸第二セリウム。
]−2−[[3−[4−[[(4−シクロヘキシルブチ
ル)アミノ]カルボニル]−1H−イミダゾール−2−
イル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの
製造 乾燥塩化メチレン3ml中、E項のアミド体(555m
g、0.94ミリモル)の混合物(0℃)を撹拌してこ
の混合物に、トリフルオロ酢酸(TFA)6mlを加え
る。混合物を室温で3時間撹拌する。この混合物をトル
エン40mlで希釈し、減圧下に濃縮して[1S−(1
α,2α,3α,4α)]−2−[[3−[5−[[(
4−シクロヘキシルブチル)アミノ]カルボニル]−4
,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル]−7
−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メ
チル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルを得る。この
粗イミダゾール−TFA塩を酢酸エチル150mlで希
釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液40mlで1回洗う
。水層を酢酸エチルで(100ml×1回)抽出する。 酢酸エチル抽出物を合して乾燥(硫酸マグネシウム)、
濾過し、減圧下に濃縮する。クロロホルム15ml中こ
の粗イミダゾリンに、二酸化マンガン(570mg、6
.55ミリモル)を加える。混合物を室温で64時間撹
拌し、この時に二酸化マンガン(570mg、6.55
ミリモル)を加える。混合物を室温で1日間撹拌し、追
加量の二酸化マンガン(290mg、3.28ミリモル
)を加える。混合物を室温で更に1日間撹拌し、再び二
酸化マンガン(190mg、2.18ミリモル)を加え
る。混合物を室温で1日間撹拌し、二酸化マンガンをセ
ライトパッドに通して濾別し、パッドをクロロホルムで
(30ml×6回)すすぐ。濾液を減圧下に濃縮し、メ
ルクシリカゲル60(40g)(シリカゲルをあらかじ
め塩化メチレン中0.1%トリエチルアミンで処理し、
次いで塩化メチレンで洗う)上、溶離剤として塩化メチ
レン150mlおよび2%メタノール/塩化メチレン(
150ml)を用いるクロマトグラフィーに付し、イミ
ダゾール化合物370mg(76%)を得る。 TLC:シリカゲル、6%メタノール/塩化メチレン、
Rf0.66、硫酸第二セリウム。
【0183】G.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[4−[[(4−シクロヘキシルブチ
ル)アミノ]チオキソメチル]−1H−イミダゾール−
2−イル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト
−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステ
ルの製造実施例1のO項のアミド体の代わりに実施例7
のF項のアミド体を用い、実施例1のP項と同様に処理
し、標記エステル体を得る。
]−2−[[3−[4−[[(4−シクロヘキシルブチ
ル)アミノ]チオキソメチル]−1H−イミダゾール−
2−イル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト
−2−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステ
ルの製造実施例1のO項のアミド体の代わりに実施例7
のF項のアミド体を用い、実施例1のP項と同様に処理
し、標記エステル体を得る。
【0184】実施例8
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)アミノ]チオ
キソメチル]−1H−イミダゾール−2−イル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチ
ル]ベンゼンプロパン酸の製造 実施例1のアミド体の代わりに実施例7のアミド体を用
い、実施例2と同様に処理し、標記酸を得る。
[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)アミノ]チオ
キソメチル]−1H−イミダゾール−2−イル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチ
ル]ベンゼンプロパン酸の製造 実施例1のアミド体の代わりに実施例7のアミド体を用
い、実施例2と同様に処理し、標記酸を得る。
【0185】実施例9
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[[[2−(4−クロロフェニル)エチル]アミ
ノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチルベ
ンゼンプロパン酸の製造 A.[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[
3−[4−[[[2−(4−クロロフェニル)エチル]
アミノ]カルボニル]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]
ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 実施例3のJ項で製せられたオキサゾール・酸150m
g(0.39ミリモル)の乾燥塩化メチレン3ml(五
酸化リンから蒸留)溶液に、DMF数滴、次いで塩化オ
キサリル45μl(0.51ミリモル、Aldrich
)を、室温で添加する。ガスの発生が止まるまで約30
分間この溶液を撹拌し、減圧下に濃縮し、淡黄色固体と
して酸クロリドを得る。
[4−[[[2−(4−クロロフェニル)エチル]アミ
ノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチルベ
ンゼンプロパン酸の製造 A.[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[
3−[4−[[[2−(4−クロロフェニル)エチル]
アミノ]カルボニル]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]
ベンゼンプロパン酸メチルエステルの製造 実施例3のJ項で製せられたオキサゾール・酸150m
g(0.39ミリモル)の乾燥塩化メチレン3ml(五
酸化リンから蒸留)溶液に、DMF数滴、次いで塩化オ
キサリル45μl(0.51ミリモル、Aldrich
)を、室温で添加する。ガスの発生が止まるまで約30
分間この溶液を撹拌し、減圧下に濃縮し、淡黄色固体と
して酸クロリドを得る。
【0186】粗酸クロリド体(約0.39ミリモル)の
乾燥塩化メチレン3ml溶液を氷浴で冷やしてこの溶液
に、トリエチルアミン82μl(0.58ミリモル、水
素化カルシウムから蒸留)、次いで2−(4−クロロフ
ェニル)エチルアミン66μl(0.47ミリモル、A
ldrich)を加える。混合物を15分間撹拌し、水
性1M塩酸溶液20mlと酢酸エチル20mlの間に分
配する。有機層を分離して乾燥(硫酸マグネシウム)し
、減圧下に濃縮して固体を得る。この粗物質を再結晶し
(酢酸エチル/ヘキサン)、白色針状晶として標記エス
テル体163mg(0.31ミリモル、80%)を得る
。融点188〜189℃。
乾燥塩化メチレン3ml溶液を氷浴で冷やしてこの溶液
に、トリエチルアミン82μl(0.58ミリモル、水
素化カルシウムから蒸留)、次いで2−(4−クロロフ
ェニル)エチルアミン66μl(0.47ミリモル、A
ldrich)を加える。混合物を15分間撹拌し、水
性1M塩酸溶液20mlと酢酸エチル20mlの間に分
配する。有機層を分離して乾燥(硫酸マグネシウム)し
、減圧下に濃縮して固体を得る。この粗物質を再結晶し
(酢酸エチル/ヘキサン)、白色針状晶として標記エス
テル体163mg(0.31ミリモル、80%)を得る
。融点188〜189℃。
【0187】B.[1S−(1α,2α,3α,4α)
]−2−[[3−[4−[[[2−(4−クロロフェニ
ル)エチル]アミノ]チオキソメチル]−2−オキサゾ
リル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの
製造 実施例1のO項のアミド体の代わりに実施例9のA項の
アミド体を用い、実施例1・P項と同様に処理して標記
エステル体を得る。
]−2−[[3−[4−[[[2−(4−クロロフェニ
ル)エチル]アミノ]チオキソメチル]−2−オキサゾ
リル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−イル]メチル]ベンゼンプロパン酸メチルエステルの
製造 実施例1のO項のアミド体の代わりに実施例9のA項の
アミド体を用い、実施例1・P項と同様に処理して標記
エステル体を得る。
【0188】実施例10
[1S−(1α,2α,3α,4α)]−2−[[3−
[4−[[[2−(4−クロロフェニル)エチル]アミ
ノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]
ベンゼンプロパン酸の製造 実施例1のエステル体の代わりに実施例9のエステル体
を用い、実施例2と同様に処理して標記酸を得る。
[4−[[[2−(4−クロロフェニル)エチル]アミ
ノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]メチル]
ベンゼンプロパン酸の製造 実施例1のエステル体の代わりに実施例9のエステル体
を用い、実施例2と同様に処理して標記酸を得る。
【0189】実施例11[1S−(1α,2α(Z),
3α,4α)]−6−[3−[4−[[(4−シクロヘ
キシルブチル)アミノ]チオキソメチル]−2−オキサ
ゾリル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−
2−イル]−4−ヘキセン酸の製造 A.[1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]−N−
(4−シクロヘキシルブチル)−L−セリンアミドの製
造4−シクロヘキシルブチルアミン塩酸塩575mg(
3.0ミリモル)、t−ブチルオキシカルボニル−L−
セリン615mg(3.0ミリモル、1.0当量)、1
−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物405mg(3
.0ミリモル、1.0当量)およびジイソプロピルエチ
ルアミン387mg(3.0ミリモル、1.0当量)の
乾燥テトラヒドロフラン(THF)10ml溶液を、ア
ルゴン雰囲気下、0℃で撹拌してこの溶液に、1,3−
ジシクロヘキシルカルボジイミド618mg(3.0ミ
リモル、1.0当量)を一度に加える。ゆっくり沈澱が
生成する。1時間後、混合物を室温に暖めて4時間撹拌
する。酢酸エチルで希釈後、混合物を濾過し、濾液をp
H1塩溶液(水、塩水および水性1M塩酸溶液を混合す
ることにより製せられる)で洗う。更に1M炭酸水素ナ
トリウムで(2回)洗い、硫酸ナトリウムで乾燥、蒸発
させ、標記アミドの粗生成物1.1gを得る。 TLC(塩化メチレン中10%[メタノール中10%濃
アンモニア水]−アニスアルデヒド): シクロヘキシルブチルアミン塩酸塩 0.27標記ア
ミド体
0.47
3α,4α)]−6−[3−[4−[[(4−シクロヘ
キシルブチル)アミノ]チオキソメチル]−2−オキサ
ゾリル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−
2−イル]−4−ヘキセン酸の製造 A.[1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]−N−
(4−シクロヘキシルブチル)−L−セリンアミドの製
造4−シクロヘキシルブチルアミン塩酸塩575mg(
3.0ミリモル)、t−ブチルオキシカルボニル−L−
セリン615mg(3.0ミリモル、1.0当量)、1
−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物405mg(3
.0ミリモル、1.0当量)およびジイソプロピルエチ
ルアミン387mg(3.0ミリモル、1.0当量)の
乾燥テトラヒドロフラン(THF)10ml溶液を、ア
ルゴン雰囲気下、0℃で撹拌してこの溶液に、1,3−
ジシクロヘキシルカルボジイミド618mg(3.0ミ
リモル、1.0当量)を一度に加える。ゆっくり沈澱が
生成する。1時間後、混合物を室温に暖めて4時間撹拌
する。酢酸エチルで希釈後、混合物を濾過し、濾液をp
H1塩溶液(水、塩水および水性1M塩酸溶液を混合す
ることにより製せられる)で洗う。更に1M炭酸水素ナ
トリウムで(2回)洗い、硫酸ナトリウムで乾燥、蒸発
させ、標記アミドの粗生成物1.1gを得る。 TLC(塩化メチレン中10%[メタノール中10%濃
アンモニア水]−アニスアルデヒド): シクロヘキシルブチルアミン塩酸塩 0.27標記ア
ミド体
0.47
【0190】B.N−(4−シクロヘキシルブ
チル)−L−セリンアミドの製造 A項の粗アミド1.1gの塩化メチレン4ml溶液(室
温)に、トリフルオロ酢酸4mlを加える。混合物を4
時間撹拌する。溶媒蒸発後、残留トリフルオロ酢酸を回
転蒸発器によりクロロホルムと共に共沸的に除く。トル
エンと共沸し、高度減圧下に置いた後、フラッシュクロ
マトグラフィー(シリカ150g、塩化メチレン中10
%[メタノール中10%濃アンモニア水溶液])に付し
、白色固体として標記アミン純品495mgを得る。4
−シクロヘキシルブチルアミンアミン塩酸塩からの標記
アミンの全収率は68%である。 TLC(塩化メチレン中10%[メタノール中10%濃
アンモニア水溶液]−アニスアルデヒド):A項のアミ
ド体 0.47標記アミン
0.1713C
−NMR(CDCl3中、67.8MHz):173.
4、64.6、56.3、39.1、37.3、36.
9、33.1、29.6、26.5、26.2、24.
0。
チル)−L−セリンアミドの製造 A項の粗アミド1.1gの塩化メチレン4ml溶液(室
温)に、トリフルオロ酢酸4mlを加える。混合物を4
時間撹拌する。溶媒蒸発後、残留トリフルオロ酢酸を回
転蒸発器によりクロロホルムと共に共沸的に除く。トル
エンと共沸し、高度減圧下に置いた後、フラッシュクロ
マトグラフィー(シリカ150g、塩化メチレン中10
%[メタノール中10%濃アンモニア水溶液])に付し
、白色固体として標記アミン純品495mgを得る。4
−シクロヘキシルブチルアミンアミン塩酸塩からの標記
アミンの全収率は68%である。 TLC(塩化メチレン中10%[メタノール中10%濃
アンモニア水溶液]−アニスアルデヒド):A項のアミ
ド体 0.47標記アミン
0.1713C
−NMR(CDCl3中、67.8MHz):173.
4、64.6、56.3、39.1、37.3、36.
9、33.1、29.6、26.5、26.2、24.
0。
【0191】C.[1S−(1α,2α(Z),3α,
4α)]−6−[3−(ヒドロキシメチル)−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘ
キセン酸メチルエステルの製造 4aR−(4aα,5β,8β,8aβ)]−オクタヒ
ドロ−5,8−エポキシ−1H−2−ベンゾピラン−3
−オール(米国特許第4,143,054号に記載のよ
うに製せられる)36.27g(0.23モル)および
3−カルボキシプロピルトリフェニルホスホニウムブロ
ミド(127.34g、0.37モル)の乾燥THF6
00ml部分溶液(アルゴン雰囲気下、3℃)に、カリ
ウムt−アミレート370.6mlの溶液(1.8Mト
ルエン溶液0.68モル)を、機械的に撹拌しながら1
時間に渡って滴加する。初め反応温度は最高8℃に達し
、引続いて塩基の残部を滴加する間に4℃で安定する。 次に室温で90分間反応を進行させる。0℃の氷浴を導
入し、氷酢酸152mlを30分間に渡って加えること
により反応を停止させる。溶媒を減圧下に除く(トルエ
ンと共沸)。水(640ml)と濃塩酸50mlを加え
る(pH2.6)。酢酸エチル640mlで希釈し、塩
化ナトリウム149gおよび3−カルボキシプロピルト
リフェニルホスホニウムブロミドの種結晶少量を加えて
15分間強く撹拌する。沈澱を濾集し、酢酸エチルで(
320ml×2回)洗う。酢酸エチル層を分離し、水層
を酢酸エチルで(それぞれ200ml×2回)抽出し、
酢酸エチル層を合して硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
する。5%炭酸カリウム水溶液を加え(507ml)、
ついで1時間強く撹拌する。沈澱は生成しない。反応混
合物を濃縮し、生成したペースト状物質を水508ml
に懸濁する。数時間強く撹拌し、沈澱は生成しない。水
を傾斜して残留物を5%炭酸カリウム水溶液200ml
に懸濁する。強く撹拌後、淡黄褐色固体を濾集し、水で
数回すすぐ。水層を合してトルエン/エーテル(1:1
)で(230ml×5回)抽出する。水層を合して0℃
氷浴で冷やした後、濃塩酸を加えてpH2.5にし、酢
酸エチル(460ml×1回)、次いで(230ml×
2)で抽出する。酢酸エチル層を合して硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下に蒸発させてコハク色油状物49.
74gを得る。エーテル330mlで処理(室温、一夜
)し、これからリン含有副生物質が溶け出る。暗赤色油
状物からエーテル溶液を傾斜して分液漏斗に移し、傾斜
により移した油状物を流出させる(1.56g)。エー
テル溶液を減圧下に蒸発させ、粘稠な黄色油状物型とし
て[1S−(1α,2α(Z),3α,4α)]−6−
[3−ヒドロキシメチル)−7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘキセン酸43.0
8gを得る。 1H−NMRにより、生成物:トリフェニルホスフィン
オキシド:エーテルのモル比、23:1:1.8(質量
%=93:4.7:2.2)が示された。トリフェニル
ホスフィンオキシド/エーテルを除く収量40.06g
(72.5%)。
4α)]−6−[3−(ヒドロキシメチル)−7−オキ
サビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘ
キセン酸メチルエステルの製造 4aR−(4aα,5β,8β,8aβ)]−オクタヒ
ドロ−5,8−エポキシ−1H−2−ベンゾピラン−3
−オール(米国特許第4,143,054号に記載のよ
うに製せられる)36.27g(0.23モル)および
3−カルボキシプロピルトリフェニルホスホニウムブロ
ミド(127.34g、0.37モル)の乾燥THF6
00ml部分溶液(アルゴン雰囲気下、3℃)に、カリ
ウムt−アミレート370.6mlの溶液(1.8Mト
ルエン溶液0.68モル)を、機械的に撹拌しながら1
時間に渡って滴加する。初め反応温度は最高8℃に達し
、引続いて塩基の残部を滴加する間に4℃で安定する。 次に室温で90分間反応を進行させる。0℃の氷浴を導
入し、氷酢酸152mlを30分間に渡って加えること
により反応を停止させる。溶媒を減圧下に除く(トルエ
ンと共沸)。水(640ml)と濃塩酸50mlを加え
る(pH2.6)。酢酸エチル640mlで希釈し、塩
化ナトリウム149gおよび3−カルボキシプロピルト
リフェニルホスホニウムブロミドの種結晶少量を加えて
15分間強く撹拌する。沈澱を濾集し、酢酸エチルで(
320ml×2回)洗う。酢酸エチル層を分離し、水層
を酢酸エチルで(それぞれ200ml×2回)抽出し、
酢酸エチル層を合して硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
する。5%炭酸カリウム水溶液を加え(507ml)、
ついで1時間強く撹拌する。沈澱は生成しない。反応混
合物を濃縮し、生成したペースト状物質を水508ml
に懸濁する。数時間強く撹拌し、沈澱は生成しない。水
を傾斜して残留物を5%炭酸カリウム水溶液200ml
に懸濁する。強く撹拌後、淡黄褐色固体を濾集し、水で
数回すすぐ。水層を合してトルエン/エーテル(1:1
)で(230ml×5回)抽出する。水層を合して0℃
氷浴で冷やした後、濃塩酸を加えてpH2.5にし、酢
酸エチル(460ml×1回)、次いで(230ml×
2)で抽出する。酢酸エチル層を合して硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下に蒸発させてコハク色油状物49.
74gを得る。エーテル330mlで処理(室温、一夜
)し、これからリン含有副生物質が溶け出る。暗赤色油
状物からエーテル溶液を傾斜して分液漏斗に移し、傾斜
により移した油状物を流出させる(1.56g)。エー
テル溶液を減圧下に蒸発させ、粘稠な黄色油状物型とし
て[1S−(1α,2α(Z),3α,4α)]−6−
[3−ヒドロキシメチル)−7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘキセン酸43.0
8gを得る。 1H−NMRにより、生成物:トリフェニルホスフィン
オキシド:エーテルのモル比、23:1:1.8(質量
%=93:4.7:2.2)が示された。トリフェニル
ホスフィンオキシド/エーテルを除く収量40.06g
(72.5%)。
【0192】メタノール80ml(アルゴン雰囲気下、
室温)に、塩化アセチル(5.20ml、0.073モ
ル)を滴加する。この塩化アセチル/メタノール溶液を
、[1S−(1α,2α(Z),3α,4α)]−6−
[3−ヒドロキシメチル]−7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘキセン酸42.9
8g(0.18モル)のメタノール700ml溶液に、
一度に加える。3時間撹拌を続ける。トリエチルアミン
を加え(0.09モル、12.21ml)、減圧下にメ
タノールを除き、残留物を酢酸エチル300mlと水1
50mlの間に分配する。各層を分離後、水層を酢酸エ
チル150mlで抽出し、酢酸エチル層を合して食塩水
で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発して粘
稠な黄褐色油状物43.06gを得る。E.メルク・キ
ーゼルゲル60シリカゲル1350g上、フラッシュク
ロマトグラフィー(240〜400メッシュ、エーテル
/ヘキサン(75/25)、次に所望の生成物がカラム
から溶出し始めた後、エーテル)に付し、NMRにより
明らかなように粘稠な淡黄色油状物形として標記エステ
ル体35.74g(トリフェニルホスフィンオキシドを
含有しない)を得る。 1H−NMR(CDCl3、ref.TMS):δ5.
41〜5.38,m(2H);4.49,d,J=4.
69Hz(1H);4.22,d,J=4.69Hz(
1H);3.73〜3.69,m(1H);3.67,
s,(3H);3.60,m(1H);2.37,br
.s(4H);2.12〜1.99,m(3H);1.
97〜1.85,m(1H);1.72,m(2H);
1.46,m(2H)。 13C−NMR(CDCl3,ref.77.00):
δ173.50、130.42、128.63、80.
23、79.22、61.74、51.49、48.9
5、46.45、33.86、29.69、29.31
、25.94、22.92。
室温)に、塩化アセチル(5.20ml、0.073モ
ル)を滴加する。この塩化アセチル/メタノール溶液を
、[1S−(1α,2α(Z),3α,4α)]−6−
[3−ヒドロキシメチル]−7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘキセン酸42.9
8g(0.18モル)のメタノール700ml溶液に、
一度に加える。3時間撹拌を続ける。トリエチルアミン
を加え(0.09モル、12.21ml)、減圧下にメ
タノールを除き、残留物を酢酸エチル300mlと水1
50mlの間に分配する。各層を分離後、水層を酢酸エ
チル150mlで抽出し、酢酸エチル層を合して食塩水
で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発して粘
稠な黄褐色油状物43.06gを得る。E.メルク・キ
ーゼルゲル60シリカゲル1350g上、フラッシュク
ロマトグラフィー(240〜400メッシュ、エーテル
/ヘキサン(75/25)、次に所望の生成物がカラム
から溶出し始めた後、エーテル)に付し、NMRにより
明らかなように粘稠な淡黄色油状物形として標記エステ
ル体35.74g(トリフェニルホスフィンオキシドを
含有しない)を得る。 1H−NMR(CDCl3、ref.TMS):δ5.
41〜5.38,m(2H);4.49,d,J=4.
69Hz(1H);4.22,d,J=4.69Hz(
1H);3.73〜3.69,m(1H);3.67,
s,(3H);3.60,m(1H);2.37,br
.s(4H);2.12〜1.99,m(3H);1.
97〜1.85,m(1H);1.72,m(2H);
1.46,m(2H)。 13C−NMR(CDCl3,ref.77.00):
δ173.50、130.42、128.63、80.
23、79.22、61.74、51.49、48.9
5、46.45、33.86、29.69、29.31
、25.94、22.92。
【0193】D.[1S−(1α,2α(Z),3α,
4α)]−6−[3−(カルボキシ)−7−オキサビシ
クロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘキセン
酸メチルエステルの製造 不純物を含むC項のアルコール体2.43g(80%純
品=1.94g、7.6ミリモル、トリフェニルホスフ
ィンオキシドで汚染されている)のアセトン40ml溶
液(アルゴン雰囲気下、0℃)に、ジョーンズ試薬8m
l(CrVI中2.6M)をゆっくり添加する。試薬の
赤色は添加の終わりまで持続する。得られた沈澱含有混
合物を20分間撹拌した後、2−プロパノールを加えて
過剰量の試薬の反応を停止させる。0℃を保持し、すべ
ての塩類が溶解するまで撹拌しながら3M亜硫酸水素ナ
トリウム水溶液を加える。食塩水を加え、酢酸エチルで
3回抽出する。抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を蒸発させた後、フラッシュクロマトグラフィー(シリ
カ150g、ヘキサン中25〜40%[酢酸エチル中5
%酢酸]勾配溶離剤)で処理し、酢酸をトルエンと共沸
除去後、油状物1.91gを得る。この油状物は不純物
を含む標記酸(80%純品=1.53g、トリフェニル
ホスフィンオキシドで汚染)であって収率75%として
得られる。 TLC(ヘキサン中50%[酢酸エチル中5%酢酸]−
アニスアルデヒド): C項のアルコール 0.33標
記酸 0
.3513C−NMR(CDCl3中、67.8MHz
):175.3、173.1、129.1、128.8
、78.0、78.0、51.6、51.1、47.4
、33.5、28.8、28.5、26.9、22.5
。
4α)]−6−[3−(カルボキシ)−7−オキサビシ
クロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘキセン
酸メチルエステルの製造 不純物を含むC項のアルコール体2.43g(80%純
品=1.94g、7.6ミリモル、トリフェニルホスフ
ィンオキシドで汚染されている)のアセトン40ml溶
液(アルゴン雰囲気下、0℃)に、ジョーンズ試薬8m
l(CrVI中2.6M)をゆっくり添加する。試薬の
赤色は添加の終わりまで持続する。得られた沈澱含有混
合物を20分間撹拌した後、2−プロパノールを加えて
過剰量の試薬の反応を停止させる。0℃を保持し、すべ
ての塩類が溶解するまで撹拌しながら3M亜硫酸水素ナ
トリウム水溶液を加える。食塩水を加え、酢酸エチルで
3回抽出する。抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を蒸発させた後、フラッシュクロマトグラフィー(シリ
カ150g、ヘキサン中25〜40%[酢酸エチル中5
%酢酸]勾配溶離剤)で処理し、酢酸をトルエンと共沸
除去後、油状物1.91gを得る。この油状物は不純物
を含む標記酸(80%純品=1.53g、トリフェニル
ホスフィンオキシドで汚染)であって収率75%として
得られる。 TLC(ヘキサン中50%[酢酸エチル中5%酢酸]−
アニスアルデヒド): C項のアルコール 0.33標
記酸 0
.3513C−NMR(CDCl3中、67.8MHz
):175.3、173.1、129.1、128.8
、78.0、78.0、51.6、51.1、47.4
、33.5、28.8、28.5、26.9、22.5
。
【0194】E.[1S−(1α,2α(Z),3α(
R*),4α)]−6−[3−[[[2−[(4−シク
ロヘキシルブチル)アミノ]−1−(ヒドロキシメチル
)−2−オキソエチル]アミノ]カルボニル]−7−オ
キサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−4−
ヘキセン酸メチルエステルの製造 不純物を含むD項の酸733mg(80%純品=586
mg、2.2ミリモル、1.1当量、トリフェニルホス
フィンオキシドで汚染)の乾燥テトラヒドロフラン(T
HF)4ml溶液に、1,1’−カルボニルジイミダゾ
ール356mg(2.2ミリモル、1.1当量)を、ア
ルゴン雰囲気下に添加し、混合物を1時間放置する。多
量の沈澱が生成するので、乾燥THF5mlを加え、混
合物をおだやかに暖めて溶液を形成させる(TLCによ
り安定なアシルイミダゾール体が認められた)。30分
間撹拌後、B項のアミン495mg(2.0ミリモル)
の乾燥THF10ml溶液を加え、更にTHF5mlを
加えてアミン体をTHF相に移す。室温で1時間撹拌後
、均質な混合物のTLC分析により、非常にゆっくりし
た反応であったことが示された。それ故、容量が2ml
に減じて沈澱が形成されるまで、一夜混合物にアルゴン
を通すことによりTHFを蒸発させる。THF5mlを
加えてすべての沈澱を再溶解する。更に5時間撹拌後、
混合物を蒸発させ、フラッシュクロマトグラフィー(シ
リカ150g、ヘキサン中50〜100%酢酸エチル勾
配溶離剤、次いで酢酸エチル中0〜10%メタノール勾
配溶離剤)に付し、油状物として標記ヒドロキシビスア
ミド純品230mgを得る。標記ヒドロキシビスアミド
体の収率は23%である。
R*),4α)]−6−[3−[[[2−[(4−シク
ロヘキシルブチル)アミノ]−1−(ヒドロキシメチル
)−2−オキソエチル]アミノ]カルボニル]−7−オ
キサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−4−
ヘキセン酸メチルエステルの製造 不純物を含むD項の酸733mg(80%純品=586
mg、2.2ミリモル、1.1当量、トリフェニルホス
フィンオキシドで汚染)の乾燥テトラヒドロフラン(T
HF)4ml溶液に、1,1’−カルボニルジイミダゾ
ール356mg(2.2ミリモル、1.1当量)を、ア
ルゴン雰囲気下に添加し、混合物を1時間放置する。多
量の沈澱が生成するので、乾燥THF5mlを加え、混
合物をおだやかに暖めて溶液を形成させる(TLCによ
り安定なアシルイミダゾール体が認められた)。30分
間撹拌後、B項のアミン495mg(2.0ミリモル)
の乾燥THF10ml溶液を加え、更にTHF5mlを
加えてアミン体をTHF相に移す。室温で1時間撹拌後
、均質な混合物のTLC分析により、非常にゆっくりし
た反応であったことが示された。それ故、容量が2ml
に減じて沈澱が形成されるまで、一夜混合物にアルゴン
を通すことによりTHFを蒸発させる。THF5mlを
加えてすべての沈澱を再溶解する。更に5時間撹拌後、
混合物を蒸発させ、フラッシュクロマトグラフィー(シ
リカ150g、ヘキサン中50〜100%酢酸エチル勾
配溶離剤、次いで酢酸エチル中0〜10%メタノール勾
配溶離剤)に付し、油状物として標記ヒドロキシビスア
ミド純品230mgを得る。標記ヒドロキシビスアミド
体の収率は23%である。
【0195】また異性体型アミノエステルアミド(27
%)および2:1付加化合物(16%)が単離される。 アミノエステルアミド体は自然に異性化することができ
るが、これらの副生物質は、メタノール中、シアン化カ
リウムを用い、室温でエステル交換することにより、該
副生物質を好収率で標記ヒドロキシビスアミド体に交換
することができる。 TLC(ヘキサン中50%[酢酸エチル中5%酢酸]−
アニスアルデヒド): B項のアミン 0.0
0D項の酸
0.38アシルイミダゾール体 0.1
8標記ヒドロキシビスアミド 0.22アミノエ
ステルアミド 0.042:1付加化合
物 0.3313C−NMR
(CDCl3中、67.8MHz):173.3、17
2.8、170.4、129.2、129.0、78.
9、78.8、62.7、54.0、53.8、51.
3、47.9、39.4、37.3、36.9、33.
6、33.1、29.5、29.4、28.6、27.
2、26.4、26.1、24.0、22.6。
%)および2:1付加化合物(16%)が単離される。 アミノエステルアミド体は自然に異性化することができ
るが、これらの副生物質は、メタノール中、シアン化カ
リウムを用い、室温でエステル交換することにより、該
副生物質を好収率で標記ヒドロキシビスアミド体に交換
することができる。 TLC(ヘキサン中50%[酢酸エチル中5%酢酸]−
アニスアルデヒド): B項のアミン 0.0
0D項の酸
0.38アシルイミダゾール体 0.1
8標記ヒドロキシビスアミド 0.22アミノエ
ステルアミド 0.042:1付加化合
物 0.3313C−NMR
(CDCl3中、67.8MHz):173.3、17
2.8、170.4、129.2、129.0、78.
9、78.8、62.7、54.0、53.8、51.
3、47.9、39.4、37.3、36.9、33.
6、33.1、29.5、29.4、28.6、27.
2、26.4、26.1、24.0、22.6。
【0196】F.[1S−(1α,2α(Z),3α(
R*),4α)]−6−[3−[4−[[(4−シクロ
ヘキシルブチル)アミノ]カルボニル]−4,5−ジヒ
ドロ−2−オキサゾリル]−7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘキセン酸メチルエ
ステルの製造この化合物はミラー(M.J.Mille
r)、マッテングリー(P.G.Mattingly)
、モリソン(M.A.Morrison)およびカーウ
ィン(J.F.Kerwin,Jr.)[J.Am.C
hem.Soc.1980,102巻,7026]によ
り記載されている。
R*),4α)]−6−[3−[4−[[(4−シクロ
ヘキシルブチル)アミノ]カルボニル]−4,5−ジヒ
ドロ−2−オキサゾリル]−7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘキセン酸メチルエ
ステルの製造この化合物はミラー(M.J.Mille
r)、マッテングリー(P.G.Mattingly)
、モリソン(M.A.Morrison)およびカーウ
ィン(J.F.Kerwin,Jr.)[J.Am.C
hem.Soc.1980,102巻,7026]によ
り記載されている。
【0197】アルゴン雰囲気下、室温でE項のヒドロキ
シビスアミド体純品240mg(0.48ミリモル)の
乾燥THF3ml溶液に、トリフェニルホスフィン18
9mg(0.72ミリモル、1.5当量)、トリエチル
アミン73mg(0.72ミリモル、1.5当量)およ
び四塩化炭素89mg(0.58ミリモル、1.2当量
)を加え、混合物を加熱還流する。1時間後、四塩化炭
素およびトリエチルアミンそれぞれの別の一部分を加え
、2.5時間後、更にそれぞれ別の一部分を再び加える
。2時間後、四塩化炭素およびトリエチルアミンの他の
一部分ならびにトリフェニルホスフィンの一部分の半分
(95mg)を加える。更に2時間後、最終的にTLC
によりE項のヒドロキシビスアミドが完全に消費されて
いることが確かめられ、最初に無色均質であった混合物
は白色沈澱を形成し、暗色となる。溶媒を蒸発し、フラ
ッシュクロマトグラフィー(シリカ、トルエン中15%
アセトン)で処理し、油状物として標記オキサゾリン体
純品190mgを得る。このオキサゾリン体は83%の
収率で得られた。 TLC(トルエン中20%アセトン−アニスアルデヒド
): E項のヒドロキシビスアミド 0.
07標記オキサゾリン体
0.2913C−NMR(CDCl3中、67
.8MHz):173.1、171.2、169.1、
129.3、128.9、79.0、78.9、69.
6、68.3、51.3、48.2、46.3、39.
0、37.4、36.9、33.7、33.1、29.
6、29.5、28.7、27.1、26.5、26.
2、24.0、22.7。
シビスアミド体純品240mg(0.48ミリモル)の
乾燥THF3ml溶液に、トリフェニルホスフィン18
9mg(0.72ミリモル、1.5当量)、トリエチル
アミン73mg(0.72ミリモル、1.5当量)およ
び四塩化炭素89mg(0.58ミリモル、1.2当量
)を加え、混合物を加熱還流する。1時間後、四塩化炭
素およびトリエチルアミンそれぞれの別の一部分を加え
、2.5時間後、更にそれぞれ別の一部分を再び加える
。2時間後、四塩化炭素およびトリエチルアミンの他の
一部分ならびにトリフェニルホスフィンの一部分の半分
(95mg)を加える。更に2時間後、最終的にTLC
によりE項のヒドロキシビスアミドが完全に消費されて
いることが確かめられ、最初に無色均質であった混合物
は白色沈澱を形成し、暗色となる。溶媒を蒸発し、フラ
ッシュクロマトグラフィー(シリカ、トルエン中15%
アセトン)で処理し、油状物として標記オキサゾリン体
純品190mgを得る。このオキサゾリン体は83%の
収率で得られた。 TLC(トルエン中20%アセトン−アニスアルデヒド
): E項のヒドロキシビスアミド 0.
07標記オキサゾリン体
0.2913C−NMR(CDCl3中、67
.8MHz):173.1、171.2、169.1、
129.3、128.9、79.0、78.9、69.
6、68.3、51.3、48.2、46.3、39.
0、37.4、36.9、33.7、33.1、29.
6、29.5、28.7、27.1、26.5、26.
2、24.0、22.7。
【0198】G.[1S−(1α,2α(Z),3α,
4α)]−6−[3−[4−[[(4−シクロヘキシル
ブチル)アミノ]カルボニル]−2−オキサゾリル]−
7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]
−4−ヘキセン酸メチルエステルの製造 この化合物は、エバンズ(D.L.Evans)、ミン
スター(D.K.Minster)、ヨルディス(U.
Jordis)、ヘクト(S.M.Hecht)、マッ
ヅ(A.L.Mazzu,Jr.)およびメイヤーズ(
A.I.Meyers)[J.Org.Chem.19
79,44巻497]により記載されている。
4α)]−6−[3−[4−[[(4−シクロヘキシル
ブチル)アミノ]カルボニル]−2−オキサゾリル]−
7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]
−4−ヘキセン酸メチルエステルの製造 この化合物は、エバンズ(D.L.Evans)、ミン
スター(D.K.Minster)、ヨルディス(U.
Jordis)、ヘクト(S.M.Hecht)、マッ
ヅ(A.L.Mazzu,Jr.)およびメイヤーズ(
A.I.Meyers)[J.Org.Chem.19
79,44巻497]により記載されている。
【0199】F項のオキサゾリン体190mg(0.4
0ミリモル)のクロロホルム10ml溶液に、未滴定二
酸化ニッケル200mgを加え、この異成分混合物を室
温で撹拌する。TLCにより、最初の1時間はいくらか
反応が進行したが、次には反応が停止していることが認
められた。反応が完結するまで1日間に渡って更に試薬
5部を加える。混合物を酢酸エチルで希釈し、二酸化ニ
ッケルの黒色が消失して固体の大部分が溶解するまで3
M亜硫酸水素ナトリウム水溶液と共に撹拌する。酢酸エ
チルで3回抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発する
。フラッシュクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中
25〜35%酢酸エチル勾配溶離剤)で処理し、標記オ
キサゾール固体純品90mgを得る。このオキサゾール
体は48%の収率で得られた。 TLC(100%酢酸エチル−アニスアルデヒド):F
項のオキサゾリン体 0.52標記
オキサゾール体 0.8113
C−NMR(CDCl3中、67.8MHz):173
.2、163.8、160.5、140.4、136.
0、129.4、128.5、79.5、79.3、5
1.4、49.6、46.6、39.0、37.4、3
7.0、33.7、33.3、29.8、29.7、2
8.9、27.8、26.6、26.3、24.1、2
2.7。
0ミリモル)のクロロホルム10ml溶液に、未滴定二
酸化ニッケル200mgを加え、この異成分混合物を室
温で撹拌する。TLCにより、最初の1時間はいくらか
反応が進行したが、次には反応が停止していることが認
められた。反応が完結するまで1日間に渡って更に試薬
5部を加える。混合物を酢酸エチルで希釈し、二酸化ニ
ッケルの黒色が消失して固体の大部分が溶解するまで3
M亜硫酸水素ナトリウム水溶液と共に撹拌する。酢酸エ
チルで3回抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発する
。フラッシュクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中
25〜35%酢酸エチル勾配溶離剤)で処理し、標記オ
キサゾール固体純品90mgを得る。このオキサゾール
体は48%の収率で得られた。 TLC(100%酢酸エチル−アニスアルデヒド):F
項のオキサゾリン体 0.52標記
オキサゾール体 0.8113
C−NMR(CDCl3中、67.8MHz):173
.2、163.8、160.5、140.4、136.
0、129.4、128.5、79.5、79.3、5
1.4、49.6、46.6、39.0、37.4、3
7.0、33.7、33.3、29.8、29.7、2
8.9、27.8、26.6、26.3、24.1、2
2.7。
【0200】H.[1S−(1α,2α(Z),3α,
4α)]−6−[3−[4−[[(4−シクロヘキシル
ブチル)アミノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル
]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イ
ル]−4−ヘキセン酸メチルエステルの製造 実施例1のO項のアミド体の代わりに実施例11のG項
のアミド体を用い、実施例1のP項と同様に処理し、標
記化合物を得る。
4α)]−6−[3−[4−[[(4−シクロヘキシル
ブチル)アミノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル
]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イ
ル]−4−ヘキセン酸メチルエステルの製造 実施例1のO項のアミド体の代わりに実施例11のG項
のアミド体を用い、実施例1のP項と同様に処理し、標
記化合物を得る。
【0201】実施例12
[1S−(1α,2α(Z),3α,4α)]−6−[
3−[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)アミノ]
チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキサビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘキセ
ン酸の製造実施例1のエステルの代わりに実施例11の
エステルを用い、実施例2と同様に処理して標記酸を得
る。
3−[4−[[(4−シクロヘキシルブチル)アミノ]
チオキソメチル]−2−オキサゾリル]−7−オキサビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−4−ヘキセ
ン酸の製造実施例1のエステルの代わりに実施例11の
エステルを用い、実施例2と同様に処理して標記酸を得
る。
【0202】前述の詳細な説明および前記実施例で記載
した方法によって製せられる追加の化合物について、下
式および下記表の実施例により説明する。かかる実施例
の化合物は本発明に包含されるが、これらに限定される
ものではない。
した方法によって製せられる追加の化合物について、下
式および下記表の実施例により説明する。かかる実施例
の化合物は本発明に包含されるが、これらに限定される
ものではない。
【化179】
【表1】
【表2】
【表3】
【0203】
【化180】
【表4】
【表5】
Claims (30)
- 【請求項1】 式、 【化1】 (式中、mは1、2または3;nは0、1、2、3また
は4;Zは−(CH2)2−、−CH=CH−または【
化2】 YはO、単結合またはビニル(−CH=CH−)、但し
、nが0のとき、Zが 【化3】 の場合YはOでなく、Zが−CH=CH−のとき、nは
1、2、3または4で、Yがビニルのとき、nは0;R
はCO2H、CO2・アルカリ金属、CO2・低級アル
キル、CH2OH、CONHSO2R3、CONHR3
aまたは−CH2−5−テトラゾリル、但し、Rが−C
H2−5−テトラゾリルで、Zが−(CH2)2−以外
のとき、nは1、2、3または4;XはO、SまたはN
H;R1は水素、低級アルキル、低級アルケニル、低級
アルキニル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、
シクロアルキルアルキル、シクロヘテロアルキル、シク
ロヘテロアルキルアルキル、ヘテロアリールまたはヘテ
ロアリールアルキルで、これらのR1はそれぞれ非置換
または任意に低級アルキル、アリール、シクロアルキル
もしくはシクロアルキルアルキル基で置換されたもの;
R2は水素、低級アルキル、アリールまたはアラルキル
、またはR1およびR2はそれらが結合するNと合して
、5員〜8員環基;R3は低級アルキル、アリールまた
はアラルキル;およびR3aは水素、低級アルキル、ア
リールまたはアラルキルである)で示される化合物、ま
たはその立体異性体。 - 【請求項2】 式: 【化4】 で示される請求項1記載の化合物。
- 【請求項3】 式: 【化5】 で示される請求項2記載の化合物。
- 【請求項4】 mが1およびnが2である請求項2記
載の化合物。 - 【請求項5】 式: 【化6】 で示される請求項2記載の化合物。
- 【請求項6】 式: 【化7】 で示される請求項2記載の化合物。
- 【請求項7】 RがCO2H、CONHSO2R3ま
たは−CH2−5−テトラゾリルである請求項2記載の
化合物。 - 【請求項8】 式: 【化8】 で示される請求項3記載の化合物。
- 【請求項9】 Zが 【化9】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項10】 Zが 【化10】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項11】 Zが 【化11】 である請求項1記載の化合物。
- 【請求項12】 Zが−(CH2)2−または−CH
=CH−である請求項1記載の化合物。 - 【請求項13】 [1S−(1α,2α,3α,4α
)]−2−[[3−[4−[[(4−シクロヘキシルブ
チル)アミノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリル]
−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル
]メチル]ベンゼンプロピオン酸またはそのエステルも
しくは塩である請求項2記載の化合物。 - 【請求項14】 式: 【化12】 で示される請求項1記載の化合物。
- 【請求項15】 mが1およびnが2である請求項1
4記載の化合物。 - 【請求項16】 式: 【化13】 で示される請求項1記載の化合物。
- 【請求項17】 式: 【化14】 で示される請求項1記載の化合物。
- 【請求項18】 RがCO2H、CONHSO2R3
または−CH2−5−テトラゾリルである請求項14記
載の化合物。 - 【請求項19】 式: 【化15】 で示される請求項14記載の化合物。
- 【請求項20】 [1S−[1α,2α(Z),3α
,4α]]−6−[3−[4−[[(4−シクロヘキシ
ルブチル)アミノ]チオキソメチル]−2−オキサゾリ
ル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−
イル]−4−ヘキセン酸またはそのエステルもしくは塩
である請求項1記載の化合物。 - 【請求項21】 請求項1記載の化合物およびその医
薬的に許容しうる担体から成ることを特徴とする血小板
凝集および気管支収縮の抑制用組成物。 - 【請求項22】 血小板凝集を抑制する請求項21記
載の組成物。 - 【請求項23】 喘息に付随する気管支収縮を抑制す
る請求項21記載の組成物。 - 【請求項24】 請求項1記載の化合物から成ること
を特徴とする虚血後の心筋機能改善用組成物。 - 【請求項25】 請求項1記載の化合物から成ること
を特徴とする妊娠中の毒血症治療用組成物。 - 【請求項26】 請求項1記載の化合物から成ること
を特徴とする静脈血栓症の予防または軽減用組成物。 - 【請求項27】 請求項1記載の化合物から成ること
を特徴とする体外循環中の血小板損失の予防または軽減
用組成物。 - 【請求項28】 請求項1記載の化合物から成り、全
身または局所投与剤形であることを特徴とする火傷損傷
の治療および/または創傷治癒の増進用組成物。 - 【請求項29】 請求項1記載の化合物および血栓溶
解剤から成ることを特徴とする虚血後の心筋損傷の軽減
用組成物。 - 【請求項30】 血栓溶解剤がt−PA、ストレプト
キナーゼ、ウロキナーゼ、プロウロキナーゼまたはアニ
ソイル化プラスミノーゲンストレプトキナーゼ活性化剤
錯体である請求項29記載の組成物。
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---|---|---|---|
US07/584,969 US5290799A (en) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | 7-oxabicycloheptyl substituted heterocyclic thioamide prostaglandin analogs useful in the treatment of thrombotic and vasospastic disease |
US584969 | 1990-09-19 |
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---|---|
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---|---|---|---|
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---|---|
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EP (1) | EP0476994A1 (ja) |
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US5260449A (en) * | 1992-08-12 | 1993-11-09 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Method for preparing 7-oxabicycloheptyl substituted bromooxazole amide prostaglandin analog intermediates useful in the preparation of anti-thrombotic and anti-vasospastic compounds |
US5399725A (en) * | 1993-05-27 | 1995-03-21 | Bristol-Myers Squibb Co. | 7-oxabicycloheptane carboxylic acid prostaglandin analog intermediates useful in the preparation of anti-thrombotic and anti-vasospastic compounds and method for preparing same |
US5958877A (en) * | 1995-05-18 | 1999-09-28 | Wimalawansa; Sunil J. | Method for counteracting vasospasms, ischemia, renal failure, and treating male impotence using calcitonin gene related peptide |
US5849922A (en) * | 1996-05-31 | 1998-12-15 | Eli Lilly And Company | Preparation of substituted alkenoic acids |
US5849766A (en) * | 1996-05-31 | 1998-12-15 | Eli Lilly And Company | Carbamoyl substituted heterocycles |
CA2392486A1 (en) | 2002-07-05 | 2002-12-08 | Duchesnay Inc. | Pharmaceutical dosage form bearing pregnancy-friendly indicia |
JP5138708B2 (ja) * | 2007-03-05 | 2013-02-06 | エフ.ホフマン−ラ ロシュ アーゲー | オレキシンアンタゴニストとしてのアミノアミド |
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US4654355A (en) * | 1985-08-01 | 1987-03-31 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | 7-oxabicycloheptane substituted amide-thioamide prostaglandin analogs |
US4738978A (en) * | 1986-11-10 | 1988-04-19 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Bisthioamide-7-oxabicycloheptane prostaglandin analogs |
CA2006355A1 (en) * | 1988-12-23 | 1990-06-23 | Philip M. Sher | 7-oxabicycloheptyl substituted heterocyclic amide prostaglandin analogs useful in the treatment of thrombotic and vasospastic disease |
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NZ232897A (en) * | 1989-04-03 | 1992-12-23 | Squibb & Sons Inc | Interphenylene 7-oxabicycloheptyl substituted heterocyclic amide prostaglandin analogues, preparation and pharmaceutical compositions thereof |
-
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- 1990-09-19 US US07/584,969 patent/US5290799A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-08-27 CA CA002050054A patent/CA2050054A1/en not_active Abandoned
- 1991-09-18 EP EP91308513A patent/EP0476994A1/en not_active Withdrawn
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