JPH04245678A - 固体撮像素子の製造方法 - Google Patents

固体撮像素子の製造方法

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Publication number
JPH04245678A
JPH04245678A JP3031884A JP3188491A JPH04245678A JP H04245678 A JPH04245678 A JP H04245678A JP 3031884 A JP3031884 A JP 3031884A JP 3188491 A JP3188491 A JP 3188491A JP H04245678 A JPH04245678 A JP H04245678A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
color filter
cross
solid
forming
Prior art date
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Pending
Application number
JP3031884A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiromichi Seki
関 弘道
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP3031884A priority Critical patent/JPH04245678A/ja
Publication of JPH04245678A publication Critical patent/JPH04245678A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は固体撮像素子の製造方法
に関し、特に色フィルタ上に形成されるレンズの形成に
改良を施したものである。
【0002】
【従来の技術】図9は、従来の固体撮像素子の製造方法
を工程順に示す断面図である。
【0003】まず、基板1に受光部2を形成する。次に
、前記基板1上に層間絶縁膜3を介して前記受光部を除
く部分に対応する個所に電荷転送部4を形成する。つづ
いて、前記電荷転送部4を含む層間絶縁膜3上に色フィ
ルタ5を形成する(図9の(A)参照)。
【0004】次に、前記色フィルタ5上にレンズ材料層
6を形成する(図9の(B)参照)。つづいて、前記レ
ンズ材料層6をパターニングしてレンズ材料パターン7
を形成する(図9の(C)参照)。この後、レンズ材料
パターン7を熱変形させ、前記受光部2上に位置するよ
うにレンズ8を形成し、固体撮像素子を製造する(図9
の(D)参照)。ここで、色フィルタ5上にンズ8を形
成するのは、素子の高感度化を図るためである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術において、高感度のレンズを得るためには、図10に
示すように熱変形後のレンズ形状の接触角θ、レンズ厚
H、レンズ幅Wなどを制御しなければならない。従って
、熱変形後、所望の形状を得るためには、図10の(C
)のパターン時、図11に示すようなパターン幅w、厚
さh、傾斜角φなどを十分考慮する必要がある。これら
は、繁雑なデータ収集,解析を要するにもかかわらず、
現状、試行錯誤により行われており、なおかつ制御しえ
ていない。
【0006】このうち、特に、パターニング時のパター
ン幅wから、熱変形後のレンズ幅Wを予想するのは難し
い(図12参照)。また、パターニングが不十分だった
り、現像不良が生じた場合、残渣ができ、この部分が癒
着してしまうことがある。図13は、この不良例の一例
を示す。
【0007】また、図14の(A)に示すように、実際
の色フィルタ表面には凹凸があるため、この傾斜によっ
て流動し、受光部からずれる可能性がある。同様にして
、図14の(B)に示すように、レンズを積層した場合
、第1層の直上からずれ、レンズ効果を失うこともある
【0008】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
、レンズ形成前に井桁状のパターンを色フィルタを予め
形成しておくことで、従来よりも制御性の良好なレンズ
を得ることができる固体撮像素子の製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、受光部を形成
した半導体基板上に層間絶縁膜を介して電荷転送部を形
成する工程と、この電荷転送部を含む層間絶縁膜上に色
フィルタを形成する工程と、この色フィルタ上に前記受
光部上に対応する個所が開口した井桁状パターンを形成
する工程と、この井桁状パターンの開口部から露出する
色フィルタ上にレンズ形成材を形成する工程と、このレ
ンズ形成材を熱変形させて前記井桁状パターンの開口部
にレンズを形成する工程とを具備することを特徴とする
固体撮像素子の製造方法である。
【0010】
【作用】本発明において、レンズ形成前に井桁状のパタ
ーンを色フィルタを予め形成しておくことにより、熱変
形させて得られたレンズの端部を井桁状パターンで支持
,規定することができる。従って、レンズがズレること
なく、受光部の真上に正確に形成することができ、レン
ズ同士が癒着することを回避できる。また、井桁状パタ
ーンの厚みを変えれば、光路長を変えることができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1を参照して説
明する。
【0012】まず、基板11に受光部12を形成する。 つづいて、前記基板11上に層間絶縁膜13を介して前
記受光部12を除く部分に対応する個所に電荷転送部1
4を形成する。つづいて、前記電荷転送部14を含む層
間絶縁膜13上に色フィルタ15を形成する(図1の(
A)参照)。次いで、前記色フィルタ15上に、レジス
トによる厚みTの井桁状パターン(図2参照)16を形
成した(図1の(B)参照)。ここで、厚みtは、形成
するレンズの形状により設定する。
【0013】次に、井桁状パターン16の間隙部分16
aに、レンズ形成材17をパターニングにより形成した
(図1の(C)参照)。つづいて、前記レンズ形成材1
7を熱変形させて前記レンズ形成材を、前記受光部12
の真上に位置するように多数のレンズ18を形成し、固
体撮像素子を製造した(図1の(D)図示)。
【0014】上記実施例によれば、色フィルタ15上に
井桁状パターン(図2参照)16を形成した後、井桁状
パターン16の間隙部分16aにレンズ形成材17を形
成し、更にこのレンズ形成材17を熱変形させて前記受
光部12の真上に位置するようにレンズ18を形成する
ため、レンズ18の端部を井桁状パターン16で支持,
規定することができる。従って、レンズ18がズレるこ
となく、受光部12の真上に正確に形成することができ
る。また、レンズ18同士が癒着することを回避できる
。更に、井桁状パターン16の厚みT(この場合、レン
ズ表面から受光部までの距離Dとする)を、例えば厚み
tに(距離Dはdに)変えることにより、光路長を変え
ることができる(図3の(A),(B)参照)。
【0015】また、レンズ形成材17の容積を変えてパ
ターニングすることにより、レンズ18の曲率を変える
ことができる。具体的には、例えば図4(A)の状態か
らレンズ形成材17を熱変形させて図4(B)のように
レンズ18を形成することができるが、レンズ形成材の
容積を図5(A)のように増やせば、図5(B)のよう
に図4の場合とは曲率の異なるレンズ18を得ることが
できる。
【0016】なお、上記実施例においては、井桁状パタ
ーンの厚みが全て同じである場合について述べたが、こ
れに限定されない。例えば、図6のように井桁状パター
ンのマス目の縦横の厚みを変えてもよい。これにより、
非球面レンズの作成が可能となる。
【0017】また、図7(A)のように井桁状パターン
16の開口部16aに配置するガラス形成材17の容積
を減少してもよい。これにより、図7(B)のように凹
状のレンズ18の製作が可能である。
【0018】更に、上記レンズ18は、例えば図8のよ
うに凹レンズ19と凸レンズ20の2層構造としてもよ
い。また、図示しないが、各層の材質として屈折率の異
なる物を用いてもよい。これにより、レンズの集光性の
制御幅を広げることができる。
【0019】
【発明の効果】以上詳述した如く本発明によれば、レン
ズ形成前に井桁状のパターンを色フィルタを予め形成し
ておくことで従来よりも制御性の良好なレンズを得るこ
とができ、更には光路長の任意の変更、レンズの曲率の
変更ができ、かつ集光性の制御幅を広げることが可能で
ある等の種々の利点を有する固体撮像素子の製造方法を
提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る固体撮像素子の製造方
法を工程順に示す断面図。
【図2】図1の固体撮像素子の井桁状パターンの斜視図
【図3】図1の固体撮像素子の井桁状パターンの厚みを
変えることにより光路長を変化させるための説明図。
【図4】図1の固体撮像素子のレンズの容積を変えるこ
とによりレンズの曲率を変えるための説明図。
【図5】図1の固体撮像素子のレンズの容積を変えるこ
とによりレンズの曲率を変えるための説明図。
【図6】本発明に係る井桁状パターンのその他の例の斜
視図。
【図7】本発明に係る凹状のレンズの製作の説明図。
【図8】本発明に係る2層構造のレンズの製作の説明図
【図9】従来に係る固体撮像素子の製造方法を工程順に
示す断面図。
【図10】図9の固体撮像素子のレンズの説明図。
【図11】図9の固体撮像素子のレンズ形成材の説明図
【図12】図9の固体撮像素子におけるレンズのパター
ニング時のパターン幅と熱変形後のレンズ幅との関係を
示す説明図。
【図13】図9の固体撮像素子のレンズにおける癒着を
示す説明図。
【図14】図9の固体撮像素子のレンズにおける凹凸が
あった場合のレンズずれを示す説明図。
【符号の説明】
11…基板、12…受光部、13…層間絶縁膜、14…
電荷転送部、15…色フィルタ、16…井桁状パターン
、16a…開口部、17…レンズ形成材、18…レンズ
、19…凹レンズ、20…凸レンズ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  受光部を形成した半導体基板上に層間
    絶縁膜を介して電荷転送部を形成する工程と、この電荷
    転送部を含む層間絶縁膜上に色フィルタを形成する工程
    と、この色フィルタ上に前記受光部上に対応する個所が
    開口した井桁状パターンを形成する工程と、この井桁状
    パターンの開口部から露出する色フィルタ上にレンズ形
    成材を形成する工程と、このレンズ形成材を熱変形させ
    て前記井桁状パターンの開口部にレンズを形成する工程
    とを具備することを特徴とする固体撮像素子の製造方法
JP3031884A 1991-01-31 1991-01-31 固体撮像素子の製造方法 Pending JPH04245678A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100410694B1 (ko) * 2001-06-28 2003-12-18 주식회사 하이닉스반도체 이미지센서 및 그 제조방법
WO2019131122A1 (ja) * 2017-12-26 2019-07-04 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 固体撮像装置、距離計測装置、及び製造方法

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