JPH04240112A - シリカ微粒子の製造方法 - Google Patents
シリカ微粒子の製造方法Info
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 47
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 125
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 26
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 23
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 10
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 7
- 238000010333 wet classification Methods 0.000 description 7
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 3
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010332 dry classification Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
シリカ微粒子の製造方法に関し、とりわけ液晶表示装置
用スペーサーや標準粒子として好適なシリカ微粒子の製
造方法に関する。
(St▲o▼ber、J.Colloid and
Interface Sci.,26,62−69
(1968)あるいは下平高次郎らにより、粉体及び粉
末冶金23,4,137(1976))に記載されてい
る。この方法はシリコンアルコキシドを強アルカリの存
在下で加水分解重縮合反応させて単分散微粒子を得るも
のであるが、液中のシリカ濃度がおよそ0.1mol
/l(重量百分率としてシリカ6g/l)以下でないと
単分散微粒子が生成しないとされている。
、シリコンペントキシドを原料にして最大2μmまでの
粒子が合成されているが、原料が一般的なエトキシドよ
り高価であり経済的ではない。そこでミクロンオーダー
の粒子を合成するために、■特開昭62−52119号
公報、■特開昭62−94224号公報に2つの方法が
提案されているが、これらの方法には、いずれも以下に
説明する技術的課題があった。
る方法は、シード粒子は用いないが、アルコキシドを連
続的に添加していく過程において、添加初期(反応初期
)に生成した粒子がシードとなり、その後添加されたア
ルコキシドによって成長を続けていく方法である。この
方法は常にアンモニア及び水の濃度を一定に保つ方法を
採用しているのが特徴である。具体的には、アンモニア
水及びアルコールの混合液に、アンモニアをアルコール
で稀釈した液及びシリコンアルコキシドをアルコールで
稀釈した液あるいはアルコキシドのみの液を、アンモニ
アおよび水の濃度が変化しないように一定の割合で別々
に滴下混合するものである。
粒子の粒径の変動率([σn−1 /X]×100、σ
n−1 :標準偏差、X:平均粒径)は、0.3μmが
10%、1.8μmが5%、5.26μmが4%、14
.3μmが4%であり、液晶スペーサーとして使用する
場合の範囲(<10μm)の粒径では、4%ぐらいが限
界と思われ、平均粒径が5.26μmの場合は標準偏差
が0.21μmであるのに対して、標準偏差が0.1μ
m以下であることが望ましいとされる液晶スペーサー用
としては不充分である。
シド、アンモニア、水、アルコールからシード粒子を作
製し、これを前記の原料液を徐々に添加して粒径を成長
させるにあたり、各段階で所定量の原料液を加え終わっ
た直後、NaOH水溶液を添加して生成粒子の分散を安
定させたヒールゾルとすることを特徴とする製造方法が
開示されている。この方法で作製したシリカ微粒子を液
晶用スペーサーとして使用する場合は、粒子内部にNa
+ イオンが残留しそれらが溶出して、アルカリに弱い
液晶分子を劣化させるおそれがある。
できる単分散状シリカ微粒子の製造方法について鋭意検
討して、本願発明を完成した。
に、本発明は、シリコンアルコキシドの加水分解及び重
縮合反応によって粒径が単分散のシード粒子を生成せし
め、次いで該シード粒子の分散液に触媒の存在下でシリ
コンアルコキシドを添加して、該シード粒子を成長させ
て粒径を増大させる成長過程を経て単分散シリカ微粒子
を得るにあたり、目標とする粒径に対して該成長過程を
複数回とするとともに、各成長過程の終了後に多分散状
にある微粒子を分級して単分散状とし、次いで、この分
級された単分散状微粒子をシード粒子として成長させる
操作を繰返すことを特徴とする。
ア、水、アルコールからなる溶液にアルコキシドのみ、
あるいはアルコキシドをアルコールで稀釈した液を添加
して加水分解を行なわせ、生じた加水分解生成物をシー
ド粒子に重ねていくことにより粒径を大きくする。
の炭素数が4以下の粒子が好ましいが、メトキシド及び
エトキシドが入手のしやすさ及び安価なことから好適に
用いられる。また、溶媒は、アンモニア及びアルコキシ
ドと混合するものであれば、いずれの溶媒を用いても良
いが、炭素数が4以下のアルキルアルコールすなわち、
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールを
用いることが望ましい。
する場合、目的の径の粒子の他にそれらと分布が重なら
ない小さい粒子しか生成しないことが必要である。この
場合小粒径モード側の粒子群の分布のうち、少なくとも
最大径(Smax )が得ようとする目的の粒子の平均
径(X1 )に対して1/2より小さいことが必要であ
る。 このとき、小さい方の分布の平均粒径(Xs )はXs
<Smax となるが、Xs に対するSmax の
比が2/3より小さいことが分級をより容易にする。反
対に小さい粒子の最大径が、目的の粒子の平均径に対し
て1/2よりも大きい場合は、分級を繰り返しても完全
に除去することは難しいのみならず、分級操作に非常に
時間がかかり経済的ではない。また分級前のシード粒子
に小さい粒子が混入していると、シード粒子と同時にそ
れらも成長していくので、Smax /XL が1/2
を超えてしまい分級困難になる。
分布をもつ(バイモーダル)な粒径分布のシリカ微粒子
の分散液を湿式あるいは乾燥分級して小さい方の粒子を
除去することにより得られる。湿式分級は合成後の液か
ら揮発成分を取り除いて乾燥した粉体を有機溶媒等に分
散させ、フルイあるいは遠心分散沈降方式の分級装置あ
るいは遠心機による沈降、自然沈降等により小さい粒子
を取り除けばよい。また合成後の液を直接、フルイ、分
級装置、遠心及び自然沈降等によって小さい粒子を取り
除いてもよいが、アンモニアの容器外への漏れを防止す
るためには装置が複雑となるためロータリーエバポレー
ター、分留器等を使用して、合成後の液から沸点の低い
アンモニア、アルコールを除去して水分散液とし、その
後湿式分級して小さい粒子を取り除くことがより望まし
い。
多孔質膜を通して分級する場合は、孔径が大きい粒子と
小さい粒子の平均径の間にあるものを使用するが、粒径
がおよそ1ミクロンを超えるようになると粒子の沈降が
速くなり、分級途中で粒子の堆積による目詰まりを起し
やすくなる。そのため、超音波照射あるいはフィルター
上の分散液を撹拌するなどして大きい方の粒子がフルイ
及びフィルター上に沈降するのを防止することが好まし
い。
ード粒子を大きくしようとする場合は、合成液中のシリ
カ微粒子の濃度を従来の方法よりも上げることができる
。例えばシリカ分として10%を超える濃度で、合成す
ることが可能である。
にメタノール14,800ml及び25%アンモニア水
4,090mlを入れて混合し、30℃の恒温槽にセッ
トした。この液にテトラエトキシシラン1,110ml
の全量を撹拌しながら一度に添加し、まず平均粒径0.
3μmの粒子を生成させた。6時間以上熟成したのち、
ロータリーエバポレーターを用いてアルコール及びアン
モニアを取り除き、13.0重量%のシリカ微粒子の水
分散液とした。
mlを、20l反応容器中でメタノール8,780ml
及び25%アンモニア水5,480mlと混合し、次い
でテトラエトキシシラン3,500mlを撹拌下におい
て5g/分の速さで滴下した。滴下終了から6時間以上
撹拌しながら熟成を行なった。液中には1.0μmの単
分散微粒子が生成していた。ロータリーエバポレーター
でアルコール及びアンモニアを取り除いて12.0重量
%のシリカ微粒子の水分散液を得た。
lを、20l反応容器中でメタノール11,600ml
及び25%アンモニア水5,000mlと混合し、次い
でテトラエトキシシラン1,950mlを撹拌下10.
0g/分の速さで滴下した。滴下終了から6時間以上撹
拌しながら熟成を行なった。液中にはお互いに重なり合
わない2種の分布をもつ球状粒子が生成していた。
果、大きい方の平均粒径RL は1.90μm、小さい
分布の粒子は、最大径Smax が0.73μm、平均
粒径Rs も0.73μmであり、Smax /RL
=0.388であった。ロータリーエバポレーターによ
ってアルコール及びアンモニアを取り除いて水分散液と
したのち、湿式分級して平均粒径の小さい方の分布の粒
子を取り除いた。得られた単分散1.90μm粒子の平
均粒径は粒子径の変動率(=標準偏差[μm]/平均粒
径[μm])は2.2%であった。
子を13.4重量%含む水分散液143ml、25%ア
ンモニア水429ml及びメタノール1143mlを2
000mlの容器に入れ、30℃の恒温槽にセットし撹
拌下テトラエトキシシラン286mlを毎分1gの割合
で滴下した。滴下終了後6時間以上撹拌しながら熟成を
行った。
、お互いに重なり合わない2種の分布をもつ球状粒子を
得た。電子顕微鏡による粒径の測定を行なった結果、分
布の大きい方の平均粒径XL は2.99μmであり、
小さい分布の方は最大径Smax が1.16μm、平
均粒径は0.82μmであり、Smax /XL =0
.39であった。得られた粒子の分散液をエバポレータ
ーによってアンモニア及びメタノールを取り除いて水分
散液としたのち、湿式分級して粒径分布が小さい方の粒
子を取り除いた。最終的に得られた単分散シリカ微粒子
の平均粒径は2.99μm、粒子径の標準偏差は0.0
48μm、変動率は1.61%となった。
3.0μmの単分散シリカ微粒子をシード粒子とした。 前記シード粒子を16.6重量%含む水分散液を196
ml用意し、また25%アンモニア水500ml及びメ
タノール1000ml、テトラエトキシシランを250
mlとする他は実施例1にしたがってシリカ微粒子を作
製した。 電子顕微鏡による粒径の測定を行なった結果、分布の大
きい方の平均粒径XL は4.18μmであり、分布の
小さい方は最大径Smax が2.0μm、平均粒径は
1.14μmであり、Smax /XL =0.48で
あった。得られた微粒子を湿式分級して小さい方の粒子
を取り除いたところ、平均粒径4.18μm、粒子径の
標準偏差は0.056μm、変動率は1.35%となっ
た。
3.0μmのものをシード粒子とした。前記シード粒子
を16.6重量%含む水分散液を142ml用意し、ま
た25%アンモニア水636ml及びメタノール727
ml、テトラエトキシシランを455mlとする他は実
施例1にしたがってシリカ微粒子を作製した。電子顕微
鏡による粒径の測定を行なった結果、分布の大きい方の
平均粒径XL は4.97μmであり、分布の小さい方
は最大径Rmax が2.2μm、平均粒径は1.54
μmであり、Rmax /XL =0.45であった。 湿式分級して小さい方の粒子を取り除いたところ、平均
粒径は4.97μm、粒子径の標準偏差は0.083μ
m、変動率は1.68%となった。
本発明にかかる製造方法は、数段階かけて粒径を大きく
する方法であるが、例えば1μmから2μm粒子を合成
する場合、同数の1μm粒子から重量で8倍の2μmシ
リカが生成する。言い換えればシリカ濃度を同じくして
合成すると1回の1μmの粒子で約8回2μmのシリカ
微粒子の合成ができることになる。したがって各粒径の
粒子をシード粒子としてストックしておけば、短時間で
目的の粒子径の合成が可能となる。
最大で約10%まで高めても単分散微粒子を得ることが
できることから、小さいバッチ容量で大量の単分散微粒
子の合成が可能となる。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3020344A JP2512835B2 (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | シリカ微粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3020344A JP2512835B2 (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | シリカ微粒子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04240112A true JPH04240112A (ja) | 1992-08-27 |
JP2512835B2 JP2512835B2 (ja) | 1996-07-03 |
Family
ID=12024521
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3020344A Expired - Lifetime JP2512835B2 (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | シリカ微粒子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2512835B2 (ja) |
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- 1991-01-22 JP JP3020344A patent/JP2512835B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2512835B2 (ja) | 1996-07-03 |
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