JPH04239131A - ウエハの清浄方法及び装置 - Google Patents
ウエハの清浄方法及び装置Info
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- JPH04239131A JPH04239131A JP1263391A JP1263391A JPH04239131A JP H04239131 A JPH04239131 A JP H04239131A JP 1263391 A JP1263391 A JP 1263391A JP 1263391 A JP1263391 A JP 1263391A JP H04239131 A JPH04239131 A JP H04239131A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハの清浄方法及び
装置に係り、ウエハ表面やその近傍に存在する微粒子を
捕集、除去する方法及び装置に関する。本発明の清浄方
法及び装置は、半導体分野等におけるウエハの保管庫、
キャリヤーボックス、搬送空間、（各種気体存在下ある
いは真空中）等、ウエハを保存、保管あるいはウエハを
搬送する器具や装置に適用できる。
装置に係り、ウエハ表面やその近傍に存在する微粒子を
捕集、除去する方法及び装置に関する。本発明の清浄方
法及び装置は、半導体分野等におけるウエハの保管庫、
キャリヤーボックス、搬送空間、（各種気体存在下ある
いは真空中）等、ウエハを保存、保管あるいはウエハを
搬送する器具や装置に適用できる。
【０００２】
【従来の技術】従来の技術を半導体分野におけるウエハ
保管庫中の気体の清浄を例に、図２を用いて説明する。 図２において、密閉空間であるウエハ保管庫１中の気体
２の清浄は、ファン（気体吸引のための動力）３と高性
能フィルタ４で実施される。すなわち、ウエハ保管庫１
中の気体２は、ファン３の吸引により高性能フィルタ（
ＨＥＰＡフィルタ）４に通され、気体２中の粒子（微粒
子）が捕集除去され、気体の浄化が行われる。
保管庫中の気体の清浄を例に、図２を用いて説明する。 図２において、密閉空間であるウエハ保管庫１中の気体
２の清浄は、ファン（気体吸引のための動力）３と高性
能フィルタ４で実施される。すなわち、ウエハ保管庫１
中の気体２は、ファン３の吸引により高性能フィルタ（
ＨＥＰＡフィルタ）４に通され、気体２中の粒子（微粒
子）が捕集除去され、気体の浄化が行われる。
【０００３】このように構成されているため、気体の清
浄のために気体をファンで流動化する必要がある。この
ような方法では、気体の清浄能力に限界があり、高清浄
のためには気体２の高性能フィルタ４への循環回数を多
くする必要があるため、動力費が高く課題があった。ま
た、気体の流動化が必要であるため、流動化に伴う粒子
の再発生等の課題があった。また、真空状態の密閉空間
で発生した微粒子は、系内が真空状態であるため、迅速
なる微粒子の捕集・除去が出来ない課題があった。
浄のために気体をファンで流動化する必要がある。この
ような方法では、気体の清浄能力に限界があり、高清浄
のためには気体２の高性能フィルタ４への循環回数を多
くする必要があるため、動力費が高く課題があった。ま
た、気体の流動化が必要であるため、流動化に伴う粒子
の再発生等の課題があった。また、真空状態の密閉空間
で発生した微粒子は、系内が真空状態であるため、迅速
なる微粒子の捕集・除去が出来ない課題があった。
【０００４】一方、本発明者は従来法であるフィルタ方
式に代わる新規清浄法として、光電子放出材に紫外線照
射及び／又は放射線照射を行う空気等の流動気体中、あ
るいは真空を含めた密閉空間中の清浄化方法及び装置を
提案している。
式に代わる新規清浄法として、光電子放出材に紫外線照
射及び／又は放射線照射を行う空気等の流動気体中、あ
るいは真空を含めた密閉空間中の清浄化方法及び装置を
提案している。
【０００５】本発明者が気体清浄化関係において提案し
たものの内、本発明と関連を有するものは次のとおりで
ある。 （１）特開昭６１−１７８０５０号（米国特許第４，７
５０，９１７号） （２）特開昭６２−２４４４５９号 （３）特開昭６３−７７５５７号 （４）特開昭６３−１００９５５号 （５）特開昭６３−１４７５６５号 （６）特開平１−２６２９５４号 （７）特開平２−８６３８号 （８）特開平２−８６３９号 （９）特開平２−１００３４号 （１０） 特願平２−８９１８５号 （１１） 特願平２−２９５４２２号また、荷電条件関
係で提案したものには、 （１）特願平１−１２０５６３号 （２）特願平１−１２０５６４号がある。
たものの内、本発明と関連を有するものは次のとおりで
ある。 （１）特開昭６１−１７８０５０号（米国特許第４，７
５０，９１７号） （２）特開昭６２−２４４４５９号 （３）特開昭６３−７７５５７号 （４）特開昭６３−１００９５５号 （５）特開昭６３−１４７５６５号 （６）特開平１−２６２９５４号 （７）特開平２−８６３８号 （８）特開平２−８６３９号 （９）特開平２−１００３４号 （１０） 特願平２−８９１８５号 （１１） 特願平２−２９５４２２号また、荷電条件関
係で提案したものには、 （１）特願平１−１２０５６３号 （２）特願平１−１２０５６４号がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記方法は、いずれも
ウエハの置かれた空間中は清浄に保持することができる
が、ウエハ表面に付着している微粒子を除去することは
できない。これらの方式は適用分野によっては有効であ
るが、特定の分野の特定の用途においては改善の余地が
ある。本発明は、ウエハが存在する空間中を清浄にする
だけでなく、ウエハ表面に付着する微粒子も除去するこ
とができるウエハの清浄方法及び清浄装置を提供するこ
とを目的とする。
ウエハの置かれた空間中は清浄に保持することができる
が、ウエハ表面に付着している微粒子を除去することは
できない。これらの方式は適用分野によっては有効であ
るが、特定の分野の特定の用途においては改善の余地が
ある。本発明は、ウエハが存在する空間中を清浄にする
だけでなく、ウエハ表面に付着する微粒子も除去するこ
とができるウエハの清浄方法及び清浄装置を提供するこ
とを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、ウエハに紫外線、放射線、レーザーか
ら選ばれた少なくとも１種類を照射することにより、ウ
エハから光電子を放出せしめ、該光電子によりウエハ表
面及びその近傍の微粒子を荷電させて、荷電された微粒
子を捕集、除去することを特徴とするウエハの清浄方法
としたものである。
に、本発明では、ウエハに紫外線、放射線、レーザーか
ら選ばれた少なくとも１種類を照射することにより、ウ
エハから光電子を放出せしめ、該光電子によりウエハ表
面及びその近傍の微粒子を荷電させて、荷電された微粒
子を捕集、除去することを特徴とするウエハの清浄方法
としたものである。
【０００８】また、本発明では、ウエハに紫外線、放射
線、レーザーから選ばれた少なくとも１種類を照射する
ための照射源と荷電された微粒子を捕集するための荷電
微粒子捕集部とを備えたことを特徴とするウエハの清浄
装置としたものである。すなわち、本発明は、ウエハ表
面及びその近傍に存在している微粒子を、ウエハを光電
子放出材として用いて荷電させた後、荷電した微粒子を
ウエハ近傍より除去するものである。次に、本発明を詳
しく説明する。
線、レーザーから選ばれた少なくとも１種類を照射する
ための照射源と荷電された微粒子を捕集するための荷電
微粒子捕集部とを備えたことを特徴とするウエハの清浄
装置としたものである。すなわち、本発明は、ウエハ表
面及びその近傍に存在している微粒子を、ウエハを光電
子放出材として用いて荷電させた後、荷電した微粒子を
ウエハ近傍より除去するものである。次に、本発明を詳
しく説明する。
【０００９】ウエハの設置位置や反射面の形状は、装置
の規模、形状、構造あるいは希望する効率等により異な
り、適宜決めることができる。紫外線の種類は、その照
射により光電子放出しうるものであれば何れでも良い。 本発明の電場電圧は、本発明の気体は流動していないの
で、弱い電場でも効果がある。該電場電圧は０．１Ｖ／
ｃｍ〜２ｋＶ／ｃｍであり、好適な電場の強さは、装置
形状、規模、効果、経済性等で適宜予備試験や検討を行
い決めることが出来る。
の規模、形状、構造あるいは希望する効率等により異な
り、適宜決めることができる。紫外線の種類は、その照
射により光電子放出しうるものであれば何れでも良い。 本発明の電場電圧は、本発明の気体は流動していないの
で、弱い電場でも効果がある。該電場電圧は０．１Ｖ／
ｃｍ〜２ｋＶ／ｃｍであり、好適な電場の強さは、装置
形状、規模、効果、経済性等で適宜予備試験や検討を行
い決めることが出来る。
【００１０】荷電微粒子の捕集材は、荷電微粒子が捕集
できるものであればいずれも使用できる。通常の荷電装
置における集じん板（集じん電極）や静電フィルター方
式が一般的であるが、スチールウールあるいはタングス
テンウールのようなウール状物質を電極（ウール状電極
材）としたような捕集部自体が電極を構成する構造のも
のも有効である。エレクトレット材も好適に使用できる
。また、空気中の微粒子への荷電方式として、荷電部に
電場を形成して荷電する方式について説明したが、電場
を形成しないで光電子放出材に紫外線を照射することに
より、光電子を放出せしめ、気体中の微粒子を荷電せし
めることも出来る。
できるものであればいずれも使用できる。通常の荷電装
置における集じん板（集じん電極）や静電フィルター方
式が一般的であるが、スチールウールあるいはタングス
テンウールのようなウール状物質を電極（ウール状電極
材）としたような捕集部自体が電極を構成する構造のも
のも有効である。エレクトレット材も好適に使用できる
。また、空気中の微粒子への荷電方式として、荷電部に
電場を形成して荷電する方式について説明したが、電場
を形成しないで光電子放出材に紫外線を照射することに
より、光電子を放出せしめ、気体中の微粒子を荷電せし
めることも出来る。
【００１１】また、紫外線を照射する代りに放射線の照
射によっても、同様に微粒子に荷電せしめ、同様の効果
を得ることができる。放射線の照射については、本発明
者がすでに提案している（特開昭６２−２４４５９号公
報）。また、レーザの照射によっても、同様に荷電せし
め、同様の効果を得ることができる。レーザの照射につ
いては、本発明者の別の提案がある（特開昭６１−１８
６７４４号公報）。ウエハへのレーザ照射は、光電子の
放出に加えて、ウエハ表面の付着微粒子のはくり（表面
より離す）作用が比較的強く、又熱泳動によるウエハへ
の微粒子付着の防止作用があるので、装置によっては好
まし。これらの照射源は装置の種類や規模、効果等によ
り１種類又は２種類組合せて用いることができる。
射によっても、同様に微粒子に荷電せしめ、同様の効果
を得ることができる。放射線の照射については、本発明
者がすでに提案している（特開昭６２−２４４５９号公
報）。また、レーザの照射によっても、同様に荷電せし
め、同様の効果を得ることができる。レーザの照射につ
いては、本発明者の別の提案がある（特開昭６１−１８
６７４４号公報）。ウエハへのレーザ照射は、光電子の
放出に加えて、ウエハ表面の付着微粒子のはくり（表面
より離す）作用が比較的強く、又熱泳動によるウエハへ
の微粒子付着の防止作用があるので、装置によっては好
まし。これらの照射源は装置の種類や規模、効果等によ
り１種類又は２種類組合せて用いることができる。
【００１２】また、荷電微粒子捕集材は、電場設定用電
極を兼ねることもできるが、これらは夫々個別にも設置
できる。荷電部と捕集部の位置（例えば、紫外線ランプ
、ウエハ、電場設定用電極、荷電微粒子捕集材の位置）
は、装置の種類や規模により適宜の位置に設置できる。 また、清浄化空間内の一部に攪拌（混合）部例えば小動
力のファンの設置、あるいは加温部及び／又は冷却部（
温度差による対流の利用）の設置を適宜行うと、該空間
内が攪拌（混合）されるので、効果が高まり好ましい。 この内、温度差の利用は、容易にでき、効果が大きいの
で好ましい。例えば、温度差の利用は、清浄化空間内の
適宜の位置にヒータを取付けてでき、温度差は該空間内
で対流が生ずる温度差であれば良く、適用装置の種類、
規模、形状等で適宜予備試験を行い決めることができる
。
極を兼ねることもできるが、これらは夫々個別にも設置
できる。荷電部と捕集部の位置（例えば、紫外線ランプ
、ウエハ、電場設定用電極、荷電微粒子捕集材の位置）
は、装置の種類や規模により適宜の位置に設置できる。 また、清浄化空間内の一部に攪拌（混合）部例えば小動
力のファンの設置、あるいは加温部及び／又は冷却部（
温度差による対流の利用）の設置を適宜行うと、該空間
内が攪拌（混合）されるので、効果が高まり好ましい。 この内、温度差の利用は、容易にでき、効果が大きいの
で好ましい。例えば、温度差の利用は、清浄化空間内の
適宜の位置にヒータを取付けてでき、温度差は該空間内
で対流が生ずる温度差であれば良く、適用装置の種類、
規模、形状等で適宜予備試験を行い決めることができる
。
【００１３】本発明では、空間中に空気が存在する場合
以外、例えば窒素やアルゴン等他の気体中あるいは真空
中でも同様に実施でき、装置種類、規模等で適宜用いる
ことができる。また、本発明は、清浄化空間が密閉空間
（静止空間）の場合以外でも、気体が流動している場合
も同様に実施できることは言うまでもない。
以外、例えば窒素やアルゴン等他の気体中あるいは真空
中でも同様に実施でき、装置種類、規模等で適宜用いる
ことができる。また、本発明は、清浄化空間が密閉空間
（静止空間）の場合以外でも、気体が流動している場合
も同様に実施できることは言うまでもない。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。半導体
工場におけるウエハ保管庫における空気清浄を、図１に
示した本発明の基本構成図を用いて説明する。密閉空間
（気体かほとんど流動せず、静止状態とみなせる空間）
であるウエハ保管庫１０の空気清浄は、ウエハ保管庫１
０の外側に設置された紫外線ランプ１１、紫外線の反射
面１２、ウエハ１３、電場設置のための電極１４及び荷
電微粒子の捕集材１４（本構成では、電極が捕集材を兼
用）にて実施される。。
るが、本発明はこれに限定されるものではない。半導体
工場におけるウエハ保管庫における空気清浄を、図１に
示した本発明の基本構成図を用いて説明する。密閉空間
（気体かほとんど流動せず、静止状態とみなせる空間）
であるウエハ保管庫１０の空気清浄は、ウエハ保管庫１
０の外側に設置された紫外線ランプ１１、紫外線の反射
面１２、ウエハ１３、電場設置のための電極１４及び荷
電微粒子の捕集材１４（本構成では、電極が捕集材を兼
用）にて実施される。。
【００１５】すなわち、ウエハ保管庫中のウエハ表面及
びその近傍の微粒子１５は、紫外線ランプ１１が照射さ
れたウエハ１３から放出される光電子１６により荷電さ
れ、荷電微粒子１７となり（荷電部）、該荷電微粒子１
７は荷電微粒子の捕集材１４に捕集（捕集部）される。 ここで、ウエハ１３は、紫外線照射により光電子１６を
放出する光電子放出材の役割りをしている。
びその近傍の微粒子１５は、紫外線ランプ１１が照射さ
れたウエハ１３から放出される光電子１６により荷電さ
れ、荷電微粒子１７となり（荷電部）、該荷電微粒子１
７は荷電微粒子の捕集材１４に捕集（捕集部）される。 ここで、ウエハ１３は、紫外線照射により光電子１６を
放出する光電子放出材の役割りをしている。
【００１６】このようにして、ウエハ保管庫１０中の微
粒子（粒子状物質）は捕集・除去されウエハ保管庫は清
浄空気となる。又、ウエハは該表面の微粒子（粒子状物
質）が除去されるので、高清浄となる。上記において、
光電子放出材への紫外線の照射は、曲面状の反射面１２
を用い、紫外線ランプ１１から紫外線を効率よく照射し
ている。
粒子（粒子状物質）は捕集・除去されウエハ保管庫は清
浄空気となる。又、ウエハは該表面の微粒子（粒子状物
質）が除去されるので、高清浄となる。上記において、
光電子放出材への紫外線の照射は、曲面状の反射面１２
を用い、紫外線ランプ１１から紫外線を効率よく照射し
ている。
【００１７】電極１４は、微粒子１５の荷電を電場で行
うために設置している。すなわち、ウエハ１３と電極１
４の間に電場を形成している。微粒子の荷電は、電場に
おいて光電子放出材１３に紫外線照射することにより効
率よく実施される。ここでの電場の電圧は、５０Ｖ／ｃ
ｍである。また、荷電粒子の捕集は、集じん板１４を用
いて行っている。１８は、ウエハ１３のケースであり、
上記電場設定のための電極も兼ねている。１９は紫外線
透過性ガラス窓である。
うために設置している。すなわち、ウエハ１３と電極１
４の間に電場を形成している。微粒子の荷電は、電場に
おいて光電子放出材１３に紫外線照射することにより効
率よく実施される。ここでの電場の電圧は、５０Ｖ／ｃ
ｍである。また、荷電粒子の捕集は、集じん板１４を用
いて行っている。１８は、ウエハ１３のケースであり、
上記電場設定のための電極も兼ねている。１９は紫外線
透過性ガラス窓である。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば次のような効果を奏する
。 （１）紫外線、放射線、レーザの内１種類以上をウエハ
に照射することにより、■ ウエハから光電子が放出
され、ウエハ表面及びその近傍の微粒子が効果的に荷電
された。■ 該照射は、ウエハ表面への付着微粒子に
対し、はくり作用を及ぼすので、ウエハ表面の清浄化に
効果的となった。 （２）（１）において、荷電微粒子捕集材（荷電微粒子
捕集部）を設置することにより、■ 荷電微粒子が荷
電微粒子捕集材で捕集・除去されるので、ウエハ及びウ
エハボックスが効果的に高清浄にできた。■ 清浄化
したい空間中のみの取扱い（処理）で良いので、取扱い
が容易となり、コンパクトで安価な清浄法及び装置とな
った（構成が簡易となった）。■ 空間で発生する微
粒子も効果的に捕集・除去できるので、実用性が向上し
た。■ 真空中、又は真空に近い状態でも実施できる
ので、実用上有効となった。 （３）（１）、（２）の荷電及び／又は捕集を、攪拌部
あるいは加温部及び／又は冷却部を設置して行うことに
より、■ 荷電、捕集効果が高まり、効果的となった
。 ■ ■により、装置がコンパクト化した。
。 （１）紫外線、放射線、レーザの内１種類以上をウエハ
に照射することにより、■ ウエハから光電子が放出
され、ウエハ表面及びその近傍の微粒子が効果的に荷電
された。■ 該照射は、ウエハ表面への付着微粒子に
対し、はくり作用を及ぼすので、ウエハ表面の清浄化に
効果的となった。 （２）（１）において、荷電微粒子捕集材（荷電微粒子
捕集部）を設置することにより、■ 荷電微粒子が荷
電微粒子捕集材で捕集・除去されるので、ウエハ及びウ
エハボックスが効果的に高清浄にできた。■ 清浄化
したい空間中のみの取扱い（処理）で良いので、取扱い
が容易となり、コンパクトで安価な清浄法及び装置とな
った（構成が簡易となった）。■ 空間で発生する微
粒子も効果的に捕集・除去できるので、実用性が向上し
た。■ 真空中、又は真空に近い状態でも実施できる
ので、実用上有効となった。 （３）（１）、（２）の荷電及び／又は捕集を、攪拌部
あるいは加温部及び／又は冷却部を設置して行うことに
より、■ 荷電、捕集効果が高まり、効果的となった
。 ■ ■により、装置がコンパクト化した。
【図１】本発明の清浄装置を示す基本構成図である。
【図２】従来のウエハ保管庫中の気体の清浄方法を示す
説明図である。
説明図である。
１０ ウエハ保管庫
１１ 紫外線ランプ
１２ 紫外線の反射面
１３ ウエハ
１４ 電場設置のための電極及び荷電微粒子の捕集材
１５ 微粒子 １６ 光電子 １７ 荷電微粒子
１５ 微粒子 １６ 光電子 １７ 荷電微粒子
Claims (8)
- 【請求項１】 ウエハに紫外線、放射線、レーザーか
ら選ばれた少なくとも１種類を照射することにより、ウ
エハから光電子を放出せしめ、該光電子によりウエハ表
面及びその近傍の微粒子を荷電させて、荷電された微粒
子を捕集、除去することを特徴とするウエハの清浄方法
。 - 【請求項２】 前記光電子の放出は電場で行うことを
特徴とする請求項１記載のウエハの清浄方法。 - 【請求項３】 前記電場は、電圧が０．１Ｖ／ｃｍ〜
２ｋＶ／ｃｍである請求項２記載のウエハの清浄方法。 - 【請求項４】 荷電微粒子の捕集は、集じん板、静電
フィルタ、エレクトレツト材、ウール状電極材から選ば
れた１種以上で行うことを特徴とする請求項１記載のウ
エハの清浄方法。 - 【請求項５】 前記微粒子の荷電及び／又は捕集は、
温度差を設けた空間で行うことを特徴とする請求項１，
２，３又は４記載のウエハの清浄方法。 - 【請求項６】 ウエハに紫外線、放射線、レーザーか
ら選ばれた少なくとも１種類を照射するための照射源と
荷電された微粒子を捕集するための荷電微粒子捕集部と
を備えたことを特徴とするウエハの清浄装置。 - 【請求項７】 前記清浄装置は、さらに電場設定部を
備えていることを特徴とする請求項６記載のウエハの清
浄装置。 - 【請求項８】 前記清浄装置は、さらに温度差設定部
を備えていることを特徴とする請求項６又は７記載のウ
エハの清浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1263391A JPH04239131A (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | ウエハの清浄方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1263391A JPH04239131A (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | ウエハの清浄方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04239131A true JPH04239131A (ja) | 1992-08-27 |
Family
ID=11810787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1263391A Pending JPH04239131A (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | ウエハの清浄方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04239131A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0840357A2 (en) * | 1996-11-05 | 1998-05-06 | Ebara Corporation | Method and apparatus for removing particles from surface of article |
| US6387333B2 (en) | 2000-06-20 | 2002-05-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Gas purifying system |
| KR100884253B1 (ko) * | 2007-07-04 | 2009-02-17 | 주식회사 아이엠티 | 건식세정장치 및 방법 |
| JP2013514658A (ja) * | 2009-12-17 | 2013-04-25 | ラム リサーチ コーポレーション | 回転式シャッタを有する脱ガスチャンバのｕｖランプアセンブリ |
-
1991
- 1991-01-11 JP JP1263391A patent/JPH04239131A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0840357A2 (en) * | 1996-11-05 | 1998-05-06 | Ebara Corporation | Method and apparatus for removing particles from surface of article |
| EP0840357A3 (en) * | 1996-11-05 | 2001-05-16 | Ebara Corporation | Method and apparatus for removing particles from surface of article |
| US6240931B1 (en) * | 1996-11-05 | 2001-06-05 | Ebara Corporation | Method for removing particles from a surface of an article |
| US6391118B2 (en) * | 1996-11-05 | 2002-05-21 | Ebara Corporation | Method for removing particles from surface of article |
| US6387333B2 (en) | 2000-06-20 | 2002-05-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Gas purifying system |
| KR100884253B1 (ko) * | 2007-07-04 | 2009-02-17 | 주식회사 아이엠티 | 건식세정장치 및 방법 |
| JP2013514658A (ja) * | 2009-12-17 | 2013-04-25 | ラム リサーチ コーポレーション | 回転式シャッタを有する脱ガスチャンバのｕｖランプアセンブリ |
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