JPH04238651A - 金属薄帯の連続鋳造装置 - Google Patents

金属薄帯の連続鋳造装置

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JPH04238651A
JPH04238651A JP252891A JP252891A JPH04238651A JP H04238651 A JPH04238651 A JP H04238651A JP 252891 A JP252891 A JP 252891A JP 252891 A JP252891 A JP 252891A JP H04238651 A JPH04238651 A JP H04238651A
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recessed parts
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功 水地
Toshiyuki Suehiro
末広 利行
Hidema Takeuchi
竹内 英磨
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は双ドラム方式、単ドラム
方式等の連続鋳造装置に関し、特に、該装置で使用され
る冷却ドラムの周面構造に関する。
【0002】
【従来の技術】ホットストリップと同等かあるいはそれ
に近い厚さの鋳片を連続鋳造によって製造する同期式連
続鋳造プロセスにおいて、単ドラム方式、双ドラム方式
等で使用される冷却ドラムの周面構造を改善した技術が
種々提案されている。たとえば、双ドラム方式の連続鋳
造装置は図1に示すように、タンデイッシュ1、一対の
冷却ドラム2,2及びサイド堰7で構成されており、こ
れら冷却ドラムとサイド堰で形成した湯溜り部3へ溶湯
を注入することにより、溶湯と冷却ドラムとの接触部で
凝固シェルを形成し、キッシングポイント4で該凝固シ
ェルを圧着して鋳片を成形するが、かかる鋳片板厚が1
〜7mm(程度)の薄鋳帯状鋳片であるため、凝固シェ
ルの形成状態によりその鋳片表面性状が著しく影響を受
け、不均一厚みの成形シェルにより製品表面に欠陥が生
じる。
【0003】かかる問題点を解決するために、冷却ドラ
ム表面に凹凸を設けることが特開昭60−184449
号公報で開示されている。この凹凸によって冷却ドラム
と凝固シェルとの間に断熱層となるエアギャップを形成
し、冷却ドラムの抜熱量を小さくして溶湯の緩慢な冷却
を行い、凝固シェル厚を板幅方向に均一にしようとする
ものである。
【0004】更に、薄肉鋳片の表面割れを効率的に防止
するために、前記凹凸の形状や窪みの大きさまたは冷却
ドラム周面における窪みの分布などを規定した技術が特
開昭64−83340号公報、特開昭64−83342
号公報などに開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
かかる技術ではいずれも冷却ドラムの全周面に所定の範
囲の深さや直径の窪みを一律に低面積率で形成していた
ので、薄板製品の表面割れを防止できても、表面の光沢
むらを防止することができなかった。本発明はかかる薄
板製品の二大欠陥である表面割れと光沢むらの発生を同
時に防止することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、冷却ドラム周面に深い窪みを低面積率で設
けると同時に浅い窪みを高面積率で設けることを特徴と
するもので、その具体的構成は、前記冷却ドラムの周面
に50〜 200μmの深さの窪みを15〜30%の面
積率で形成し、更に10〜50μmの深さの窪みを40
〜60%の面積率で形成しているものである。
【0007】以下、本発明の作用について説明する。
【0008】
【作用】本発明者らは鋳片の表面性状と窪みとの関係を
種々研究した結果、冷却ドラム周面に深い窪みを低面積
率で形成すると、この窪みは互いに連続しない独立した
エアギャップを形成し、このエアギャップによって溶湯
は緩冷却され、剛性の低い高温部分を形成し、しかも凝
固シェルの表面上を連続することなく互いに分断された
状態となり、この周囲を冷却ドラムが直接接触するので
充分に冷却された剛性の大きな部分がその周囲を取囲む
ことになり、従って割れの原因になる応力集中部の分散
が図られ亀裂のない表面性状が得られることになるが、
この面積率を30%を超えて形成すると上記窪みに連続
部分又は窪み同士が非常に接近した部分が生じて表面割
れが発生する。一方、上記鋳片を冷間圧延すると、冷却
ドラムの周面の窪みの存在によって鋳片表面の結晶粒の
大きさが不均一に分布して組織むらが生じ、これに起因
して光沢むらが発生するが、この光沢むらは上記窪みの
面積率が40%未満であると発生することが確認された
【0009】そこで、本発明者らは先ず、製品表面割れ
を防止するために、冷却ドラム周面に15〜30%の低
面積率で50〜 200μmの深い窪みを設け(Aパタ
ーン)、これに加えて該周面に、製品の光沢むらを防止
するために、40〜60%の高面積率で10〜50μm
の浅い窪みを設けたところ(Bパターン)、最終製品の
表面品質を大きく改善することができた。
【0010】なお、Aパターンの加工には、窪みを低面
積率でかつ分散させて形成する必要があるところより、
フォットエッチングが最適であるが、その他電子ビーム
加工、レーザ加工、プラズマ加工等が好ましい。また、
Bパターンの加工は窪みを浅くかつ広い範囲に亘って加
工するところより噴射圧力、時間又は球径を調節したシ
ョットブラストフォーミングを用いるのが好ましい。
【0011】
【実施例】下記成分からなるオーステナイト系ステンレ
ス鋼を図1に示す双ドラム式連続鋳造機により板厚3m
mの帯状薄肉鋳片5に鋳造し、冷間圧延して薄板製品を
製造した。上記鋳片5を鋳造するに際し、幅 800m
m、径1200mmの冷却ドラム2,2の周面を下記3
種類の条件で加工した。 (溶鋼成分)(wt%) (冷却ドラム周面加工条件) (1)フォットエッチングにより深さ90〜 100μ
mの範囲の窪みを20%の面積率で形成した。図2(A
) に加工された冷却ドラム表面の断面(縦倍率×20
0 、横倍率×10)を示す。
【0012】(2)ショットブラストにより深さ10〜
30μmの範囲の窪みを50%の面積率で形成した。図
2(B)に加工された冷却ドラム表面の断面(縦倍率×
200 、横倍率×10)を示す。 (3)上記条件(1)で深い窪みを形成したあとで、直
ちに条件(2)で浅い窪みを形成した。図2(C)に加
工された冷却ドラム表面の断面(縦倍率×200 、横
倍率×10)を示す。
【0013】最終的に得られた薄板製品の表面品質は下
記の通りであった。 (1)の場合:薄板製品の表面に光沢むらが生じ、表面
品質は不良。 (2)の場合:薄板製品の表面に割れが発生し、表面品
質は不良。 (3)の場合:薄板製品の表面には光沢むらも割れもな
く、表面品質は極めて良好。
【0014】なお、上述の表面光沢は鋳片を冷延および
焼鈍酸洗後に肉眼観察により判定した。
【0015】
【発明の効果】本発明によれば、連続鋳造した製品厚さ
に近い厚さの薄帯状鋳片を冷間圧延して製品薄板を製造
するに際し、該薄板製品のもっとも大きい表面欠陥であ
る表面割れと光沢むらを同時に改善したものであるから
、その工業的効果は極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の冷却ドラムを組込んだ双ドラム方式の
連続鋳造機を示す概略正面図である。
【図2】冷却ドラム周面の断面図で、(A),(B)は
従来技術による冷却ドラム周面の断面図、(C)は本発
明の冷却ドラム周面の断面図である。
【符号の説明】
1…タンデイッシュ 2…冷却ドラム 3…湯溜り部 4…キッシングポイント 5…薄帯状鋳片 6…ピンチロール 7…サイド堰

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  回転する一対の冷却ドラムと一対のサ
    イド堰とで形成した湯溜り部に溶融金属を連続的に供給
    して金属薄帯を連続鋳造する装置において、前記冷却ド
    ラムの周面に50〜 200μmの深さの窪みを15〜
    30%の面積率で形成すると共に、10〜50μmの深
    さの窪みを40〜60%の面積率で形成したことを特徴
    とする金属薄帯の連続鋳造装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6896033B2 (en) 2000-05-12 2005-05-24 Nippon Steel Corporation Cooling drum for continuously casting thin cast piece and fabricating method and device therefor and thin cast piece and continuous casting method therefor
US7159641B2 (en) 2000-05-12 2007-01-09 Nippon Steel Corporation Cooling drum for thin slab continuous casting, processing method and apparatus thereof, and thin slab and continuous casting method thereof

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