JPH0423572B2 - - Google Patents

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JPH0423572B2
JPH0423572B2 JP4719986A JP4719986A JPH0423572B2 JP H0423572 B2 JPH0423572 B2 JP H0423572B2 JP 4719986 A JP4719986 A JP 4719986A JP 4719986 A JP4719986 A JP 4719986A JP H0423572 B2 JPH0423572 B2 JP H0423572B2
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JP
Japan
Prior art keywords
membrane
dithiethane
tetrakis
trifluoromethyl
sec
Prior art date
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Expired
Application number
JP4719986A
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English (en)
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JPS62204826A (ja
Inventor
Shunichi Samejima
Hide Nakamura
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP4719986A priority Critical patent/JPS62204826A/ja
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、気体の分離膜に関し、特に膜分離法
により天然ガス中からヘリウムを選択性よく効率
的に分離取得し得る分離膜に関するものである。
[従来の技術] ヘリウムガスは例えば核融合反応、リニアモー
ター等の超電導用の極低温媒体として有用であ
り、今後かなりの量の使用が見込まれる。
かかるヘリウムは天然ガスや空気中に含まれ、
特に天然ガス中にはかなり多量に含まれている。
従来ヘリウムはこのような天然ガスから深冷分離
等の手段により分離取得されてきたが、これは設
備的にかなり大規模となり、操作的にも保守管理
的にもかなり煩雑なものであつた。
更に、前記の如き超電導に用いたヘリウムガス
の回収に当つては従来それ程有効な手段は提案さ
れていない。
他方、混合ガス中からヘリウムを得る方法とし
て膜分離法が提案されている。この方法は直接ヘ
リウムガスが得られ、操作的に簡単であり、又経
済的にも有利である。このような分離膜として代
表されるものにオルガノポリシロキサン系の膜が
種々提案されている。この膜は一般に酸素に対す
る透過速度や酸素透過係数比(p02/pN2)につい
ては比較的満足し得るものの、ヘリウムガスにつ
いては透過係数比が小さく、実用性についてあま
り期待し得るものでない。
[発明の解決しようとする問題点] 本発明者はかかる点に鑑み、ヘリウム透過係数
比(pHe/pN2)とヘリウムの透過速度が高いレベ
ルでバランスし、しかもその性能が安定して持続
し得る分離膜を得ることを目的として種々研究、
検討した結果、特定のパーフルオロ化合物を膜素
材として用いることにより前記目的を達成し得る
ことを見出した。
[問題点を解決するための手段] かくして、本発明は、多孔質膜上にテトラキス
(トリフルオロメチル)ジチエタンのプラズマ重
合薄膜を形成せしめてなることを特徴とする気体
の分離膜を新規に提供するものである。
本発明に用いられる多孔質膜としては、その物
性が平均細孔径10〜2000Å、空気の透過速度が4
×10-4〜4×10-1cm3/cm2・sec・cmHgを有するも
のが適当である。
これら物性が前記範囲を逸脱する場合には、充
分なガス透過速度が得難く、又超薄膜を積層する
際欠陥を生じ易くなる虞れがあるので好ましくな
い。
かかる膜の材質としては、例えばポリスルホ
ン、ポリアミド、ポリアクリロニトリル、ポリエ
チレン、ポリビニルアルコール、ポリテトラフル
オロエチレン等が挙げられる。
そして、本発明においては、前述の多孔質支持
膜上にテトラキス(トリフルオロメチル)ジチエ
タンを薄膜状にプラズマ重合せしめる。
プラズマ重合に供せられるテトラキス(トリフ
ルオロメチル)ジチエタンは、例えば、次に示す
反応でヘキサフルオロプロペンとイオウとから製
造され得る。
又、プラズマ重合手段としては、モノマー供給
弁、電極、アース電極、アース電極冷却部、高周
波電源、ガラス製ベルジヤー排気系より構成され
る通常よく知られているベルジヤー型プラズマ重
合装置を用いることができる。
プラズマ重合条件としては前記ベルジヤー型プ
ラズマ重合装置を用いれば圧力0.01〜5torr、テ
トラキス(トリフルオロメチル)ジチエタン流量
1〜1000cm3/min、高周波出力1〜200Wを採用
するのが適当である。前記以外の重合装置を用い
ても、これらの条件を最適化してプラズマ重合を
行なうのはこの技術に習熟している者にとつて比
較的容易である。
プラズマ重合により多孔質膜上に設けられるテ
トラキス(トリフルオロメチル)ジチエタン重合
体薄膜の厚さは0.01〜5μ、好ましくは0.03〜3μ程
度を採用するのが適当である。
膜の厚さが前記範囲を逸脱する場合には、膜に
欠陥を生じ易くなるか、又は充分なガス透過速度
が得難くなる等の虞れがあるので好ましくない。
かくして得られた気体の分離膜は、特にヘリウ
ムに対する選択分離透過性が優れているが、その
他酸素や炭酸ガス等のガスに対する選択透過性も
実用的であり、これらガスの濃縮或は分離等にも
有用である。
[実施例] 次に本発明を実施例により説明する。
実施例 ベルジヤー型プラズマ重合装置を用い、空気の
透過速度が4×10-2cm3/cm2・sec・cmHg、平均細
孔径が30Å、直径80mmのポリスルホン多孔質膜を
アース電極上に固定した。
真空ポンプによりベルジヤー内を脱気し、排気
を続けながらモノマー供給バルブを通してテトラ
キス(トリフルオロメチル)ジチエタンを55cm3
minで供給した。ベルジヤー内の圧力は0.3torrと
なつた。電極間に13.56MHz、20Wの高周波出力
を印加してテトラキス(トリフルオロメチル)ジ
チエタンを多孔質膜上へ3分間プラズマ重合し
た。
得られたプラズマ重合膜の膜厚は1.8μであつ
た。
He、CO2、O2、N2の各ガスの透過性能を測定
した結果を以下に示す。
Heの透過速度 1.8×10-4cm3/cm2・sec・cmHg Heの透過係数 3.3×10-8cm3・cm/cm2・sec・cm
Hg CO2の透過速度 4.4×10-5cm3/cm2・sec・cmHg CO2の透過係数 8.0×10-9cm3・cm/cm2・sec・cm
Hg O2の透過速度 1.6×10-5cm3/cm2・sec・cmHg O2の透過係数 2.9×10-9cm3・cm/cm2・sec・cm
Hg N2の透過速度 5.6×10-6cm3/cm2・sec・cmHg N2の透過係数 1.0×10-9cm3・cm/cm2・sec・cm
Hg He/N2の透過係数比 33 CO2/N2の透過係数比 8.0 O2/N2の透過係数比 2.9 [発明の効果] 本発明の特定パーフルオロ化合物のプラズマ重
合薄膜を有する気体分離膜は、特にヘリウム透過
係数比とヘリウム透過速度が高いレベルでバラン
スするという優れた効果を有する。しかも、本発
明の気体分離膜は、この優れた性能を安定して持
続し得るという効果も認められる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 多孔質膜上にテトラキス(トリフルオロメチ
    ル)ジチエタンのプラズマ重合薄膜を形成せしめ
    てなることを特徴とする気体の分離膜。 2 多孔質膜は平均細孔径10〜2000Å、空気の透
    過速度が4×10-4〜4×10-1cm3/cm2・sec・cmHg
    である特許請求の範囲第1項記載の分離膜。 3 多孔質膜はポリスルホン、ポリアミド、ポリ
    アクリロニトリル、ポリエチレン、ポリビニルア
    ルコール、ポリテトラフルオロエチレンである特
    許請求の範囲第1項又は第2項のいずれかに記載
    の分離膜。 4 テトラキス(トリフルオロメチル)ジチエタ
    ン重合体の膜厚は0.01〜5μである特許請求の範囲
    第1項記載の分離膜。
JP4719986A 1986-03-06 1986-03-06 気体分離膜 Granted JPS62204826A (ja)

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JP4719986A JPS62204826A (ja) 1986-03-06 1986-03-06 気体分離膜

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JPS62204826A JPS62204826A (ja) 1987-09-09
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EP3130888A1 (en) 2015-08-12 2017-02-15 Topcon Corporation Automatic survey instrument

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JP2671072B2 (ja) * 1991-11-26 1997-10-29 宇部興産株式会社 ガス分離膜の製造法

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