JPH04234351A - アミノベンゾフェノンおよびビスアミノベンゾフェノン - Google Patents

アミノベンゾフェノンおよびビスアミノベンゾフェノン

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JPH04234351A
JPH04234351A JP3184514A JP18451491A JPH04234351A JP H04234351 A JPH04234351 A JP H04234351A JP 3184514 A JP3184514 A JP 3184514A JP 18451491 A JP18451491 A JP 18451491A JP H04234351 A JPH04234351 A JP H04234351A
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hydrogen atom
alkyl
atom
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JP3184514A
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English (en)
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Gunther Lamm
グンター、ラム
Friedhelm Teich
フリードヘルム、タイヒ
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BASF SE
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    • C07C309/01—Sulfonic acids
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、式Ｉ：
【０００２】
【化４】 ［式中、環Ａは、場合によってはベンゾ縮合環化されて
おり、Ｘ１　は水素原子またはヒドロキシスルホニル基
を表わし、Ｘ２　は水素原子、ヒドロキシスルホニル基
、ヒドロキシスルホニルフェニル基、ヒドロキシスルホ
ニルベンジル基またはヒドロキシスルホニルフェニルエ
チル基を表わし、Ｒ１　、Ｒ２　およびＲ３　は、同一
かまたは異なり、互いに独立にそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、Ｃ１　〜Ｃ１２−アルキル基、シクロヘキシ
ル基またはＣ１　〜Ｃ４　−アルコキシ基を表わすか、
或いはこれらの置換基の１個は、式：
【０００３】
【化５】 （式中、Ｌは１個の化学結合、Ｃ１　〜Ｃ４　−アルキ
レン基または式−Ｏ−ＣＨ２−の基を表わし、Ｙ１　、
Ｙ２　およびＹ３　は同一かまたは異なり、互いに独立
にそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１　〜Ｃ１２−
アルキル基またはＣ１　〜Ｃ４　−アルコキシ基を表わ
し、Ｒ４、Ｘ１　、Ｘ２　および環Ａはそれぞれ記載の
意味を有する）で示される基をも表わし、Ｒ４　は水素
原子または塩素原子を表わし、但し、Ｘ１　およびＸ２
　は同時には水素原子の意味を有しないものとする］で
示される新規のアミノベンゾフェノンに関する。
【０００４】更に、本発明は、式ＩＩ：
【０００５】
【化６】 ［式中、Ｌは１個の化学結合、Ｃ１　〜Ｃ４　−アルキ
レン基または式−Ｏ−ＣＨ２−の基を表わす］で示され
る新規のビスアミノベンゾフェノンに関連し、この場合
には、カルボニル基がそれぞれＮＨ２　基に対してメタ
またはパラ位にあるような式ＩＩの化合物が有利である
。
【０００６】新規のビスアミノベンゾフェノンは、式Ｉ
のアミノベンゾフェノンを製造するための重要な中間生
成物である。
【０００７】式Ｉの新規のアミノベンゾフェノンは、遊
離酸の形で記載されている。しかし、勿論、この遊離酸
の塩も一緒に包含される。
【０００８】この場合、塩として金属塩またはアンモニ
ウム塩がこれに該当する。金属塩は、殊にリチウム塩、
ナトリウム塩またはカリウム塩である。本発明の範囲内
のアンモニウム塩は、置換されていないかまたは置換さ
れたアンモニウム陽イオンを有する塩である。置換され
たアンモニウム陽イオンは、例えばモノアルキル−、ジ
アルキル−、トリアルキル−、テトラアルキル−もしく
はベンジルトリアルキルアンモニウム陽イオンであるか
、または窒素含有の５員または６員の飽和複素環式化合
物から誘導される陽イオン、例えばピロリジニウム−、
ピペリジニウム−、モルホリニウム−、ピペラジニウム
−もしくはＮ−アルキルピペラジニウム陽イオンまたは
これらのＮ−モノアルキル−もしくはＮ，Ｎ−ジアルキ
ル置換された生成物である。この場合、アルキルは、一
般に直鎖状または分枝鎖状Ｃ１　〜Ｃ２０−アルキルで
あり、このアルキルは、ヒドロキシル基によって置換さ
れていてもよくおよび／またはエーテル官能基中で酸素
原子によって中断されていてもよい。
【０００９】
【従来の技術】欧州特許出願公開第３０２４０１号明細
書の記載から、アミノベンゾフェノンは公知であるが、
しかしこの化合物は、分子中に酸基を有しない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】ところで、本発明の課
題は、少なくとも１個のヒドロキシスルホニル基を使用
する新規のアミノベンゾフェノンを提供することであっ
た。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この課題により、冒頭に
詳細に記載した式Ｉのアミノベンゾフェノンが見い出さ
れた。
【００１２】上記式Ｉ中で生じる全てのアルキル基およ
びアルキレン基は、直鎖状であっても、分枝鎖状であっ
てもよい。
【００１３】基Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　、Ｙ１　、Ｙ２
　およびＹ３　は、例えば弗素原子、塩素原子、臭素原
子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基
、ブチル基、イソブチル基、第２ブチル基、ペンチル基
、イソペンチル基、ネオペンチル基、第３ペンチル基、
ヘキシル基、２−メチルペンチル基、ヘプチル基、２−
メチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、２−
エチルヘキシル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基
、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基（上記の表
記イソオクチル基、イソノニル基およびイソデシル基は
、慣用的表記であり、かつオキソ合成により得られたア
ルコールに由来するものである。そのために、Ｕｌｌｍ
ａｎｎｓ　　Ｅｎｃｙｋｌｏｐａｅｄｉｅ　　ｄｅｒ　
　ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎＣｈｅｍｉｅ，　第４版、第
７巻、第２１５頁〜第２１７頁、ならびに同書第１１巻
、第４３５頁および第４３６頁参照のこと）、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブ
トキシ基、イソブトキシ基または第２ブトキシ基である
。
【００１４】基Ｌは、例えばメチレン基、エチレン基、
１，２−もしくは１，３−プロピレン基、イソプロピリ
デン基または１，２−、１，３−、２，３−もしくは１
，４−ブチレン基である。
【００１５】好ましいのは、式Ｉａ：
【００１６】
【化７】 ［式中、Ｘ１　は水素原子またはヒドロキシルスルホニ
ル基を表わし、Ｘ２　は水素原子またはヒドロキシスル
ホニル基を表わし、Ｒ１　、Ｒ２　およびＲ３　は、同
一かまたは異なり、互いに独立にそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子、Ｃ１　〜Ｃ６−アルキル基、シクロヘキシ
ル基またはＣ１　〜Ｃ４　−アルコキシ基を表わすか、
或いはこれらの置換基の１個は、式：
【００１７】
【化８】 （式中、Ｌは１個の化学結合、Ｃ１　〜Ｃ４　−アルキ
レン基または式−Ｏ−ＣＨ２−の基を表わし、Ｙ１　、
Ｙ２　およびＹ３　は同一かまたは異なり、互いに独立
にそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１　〜Ｃ６　−
アルキル基またはＣ１　〜Ｃ４　−アルコキシ基を表わ
し、Ｘ１　およびＸ２　はそれぞれ前記の記載の意味を
有する）で示される基をも表わす］に相当するアミノベ
ンゾフェノンである。
【００１８】更に、好ましいのは、２個の基Ｘ１　およ
びＸ２　の一方が水素原子を表わし、かつ他方がヒドロ
キシスルホニル基を表わすような式Ｉのアミノベンゾフ
ェノンである。
【００１９】強調すべきものは、Ｒ１　、Ｒ２　および
Ｒ３　が互いに独立に水素原子、塩素原子、Ｃ１　〜Ｃ
４　−アルキル基を表わすような式Ｉのアミノベンゾフ
ェノンであり、この場合には、殊にメチル基もしくはエ
チル基、メトキシ基もしくはエトキシ基またはこれらの
置換基の１個を表わし、また式：
【００２０】
【化９】 ［式中、ＬおよびＸ１　はそれぞれ上記の意味を有する
］で示される基をも表わす。
【００２１】特に重要なのは、式Ｉｂ：
【００２２】
【化１０】 ［式中、基Ｘ１　およびＸ２　の一方は水素原子を表わ
し、他方はヒドロキシスルホニル基を表わし、Ｒ１　は
塩素原子、Ｃ１　〜Ｃ４　−アルキル基（この場合には
、殊にメチル基またはエチル基を表わす）、メトキシ基
もしくはエトキシ基を表わすか、または式：
【００２３】
【化１１】 （式中、Ｌ、Ｘ１　およびＸ２　はそれぞれ上記の意味
を有する）で示される基を表わす］に相当するアミノベ
ンゾフェノンであり、この場合にカルボニル基は、ＮＨ
２　またはＸ１　に対してそれぞれパラ位に存在する。
【００２４】更に、特に重要なのは、式ＩｃまたはＩｄ
：
【００２５】
【化１２】 ［式中、基Ｘ１　およびＸ２　の一方は水素原子を表わ
し、他方はヒドロキシスルホニル基を表わし、Ｒ１　お
よびＲ２　は互いに独立に塩素原子、Ｃ１　〜Ｃ４　−
アルキル基（この場合には、殊にメチル基またはエチル
基を表わす）、メトキシ基もしくはエトキシ基を表わす
］に相当するアミノベンゾフェノンであり、この場合に
カルボニル基は、ＮＨ２　またはＸ１　に対してそれぞ
れパラ位に存在する。
【００２６】式Ｉの本発明によるアミノベンゾフェノン
は、自体公知の方法により得ることができる。
【００２７】例えば、式　ＩＩＩ：
【００２８】
【化１３】 ［式中、Ｚはアミノ基またはニトロ基を表わし、Ｑ１　
、Ｑ２　およびＱ３　は、同一かまたは異なり、互いに
独立にそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１　〜Ｃ１
２−アルキル基、シクロヘキシル基またはＣ１　〜Ｃ４
　−アルコキシ基を表わすか、或いはこれらの基の１個
は、式：
【００２９】
【化１４】 （式中、Ｒ４　、Ｚ、Ｌ、Ｙ１　、Ｙ２　、Ｙ３　およ
び環Ａはそれぞれ上記の意味を有する）で示される基を
も表わす］で示されるベンゾフェノン誘導体は、常法で
適当なスルホン化剤で処理することができる。
【００３０】適当なスルホン化剤は、例えば硫酸、クロ
ル硫酸、油またはこれらの混合物である。
【００３１】供給すべきヒドロキシスルホニル基１モル
当量あたり一般にスルホン化剤１モルが使用される。
【００３２】スルホン化は、一般に２０〜２００℃、特
に５０〜１８０℃の温度で行なわれる。
【００３３】この場合には、溶剤の存在下でも不在下で
も作業することができる。適当な溶剤は、例えば不活性
の有機溶剤、例えばｏ−ジクロルベンゾールまたはトリ
クロルベンゾールであるか、または過剰のスルホン化剤
でもある。
【００３４】式　ＩＩＩ（但し、Ｚはアミノ基である）
のアミノベンゾフェノン誘導体をスルホン化する場合に
は、スルホン化は、特に不活性の有機溶剤中で実施され
るが、しかし僅かに過剰のスルホン化剤（ベンゾフェノ
ン　ＩＩＩ１モルあたり約０．０１〜０．３モル）を用
いて実施される。
【００３５】スルホン化の終結後、後処理は、自体公知
の方法で行なわれる。例えば、場合によっては不活性の
有機溶剤を水蒸気蒸留により除去した後に残留物は、水
中に溶解することができ、かつ一般に１未満であるｐＨ
値で、例えば塩化ナトリウムを用いて塩析することがで
きる。
【００３６】スルホン化を式　ＩＩＩ（但し、Ｚはニト
ロ基である）のニトロベンゾフェノン誘導体を用いて実
施する場合には、引続きなおニトロ基は、還元によって
アミノ基に変換されねばならない。このことは、自体公
知の方法で、例えば水素を用いて触媒の存在下で成功す
る。 適当な触媒は、例えばラニーニッケル触媒またはカーボ
ン担体上のパラジウムである。
【００３７】式ＩＩまたは　ＩＩＩのベンゾフェノンは
、同様に自体公知の方法により製造される。例えば、式
ＩＶ：
【００３８】
【化１５】 ［式中、Ｒ４　は上記の意味を有する］で示される塩化
ベンゾイルは、フリーデル−クラフツ−アシル化の反応
条件下で式Ｖ：
【００３９】
【化１６】 ［式中、Ｗ１　、Ｗ２　およびＷ３　は、同一かまたは
異なり、互いに独立にそれぞれ水素原子、ハロゲン原子
、Ｃ１　〜Ｃ１２−アルキル基、シクロヘキシル基もし
くはＣ１　〜Ｃ４　−アルコキシ基を表わすか、または
これらの基の１個は、式：
【００４０】
【化１７】 （式中、Ｌ、Ｙ１　、Ｙ２　、Ｙ３　および環Ａはそれ
ぞれ上記の意味を有する）で示される基をも表わす］で
示される芳香族化合物と反応させることができ、生じる
ベンゾフェノンは、場合によっては還元することができ
る。
【００４１】式Ｉの本発明によるアミノベンゾフェノン
は、染料または作用物質を合成するための重要な中間生
成物である。
【００４２】
【実施例】次に、本発明を実施例につき詳説する。 実施例１ ４−アミノ−４´−メチルベンゾフェノン１０５．５ｇ
をｏ−ジクロルベンゾール５００ｍｌ中に懸濁させた。 次に、この混合物に（９６重量％の）硫酸６２ｇを添加
し、かつ沸騰加熱した（１７５〜１８０℃）。この場合
には、返送したｏ−ジクロルベンゾールを水分離器上に
導き、この水分離器中で反応水および硫酸中に存在する
水を分離した。約１時間後、水はもはや分離されなかっ
た。次に、水で湿ったｏ−ジクロルベンゾール凝縮物を
乾燥シリカゲル上に導いた。（新しい乾燥ｏ−ジクロル
ベンゾールによって代えることもできる）。こうして、
４−アミノ−４´−メチルベンゾフェノン−３−スルホ
ン酸
【００４３】
【化１８】 への変換は、実際に定量的に達成された。
【００４４】反応の終結後（約５〜７時間）、ｏ−ジク
ロルベンゾールを水蒸気蒸留によって分離した。残留物
を５０重量％の苛性ソーダ液と一緒に水中に溶解し、こ
の溶液を活性炭１ｇの添加によって澄明濾過した。この
濾液を濃塩酸を用いて、１未満であるｐＨ値に調節し、
かつ室温に冷却した。吸引濾過し、微少量の希塩酸で洗
浄し、かつ乾燥した後、４−アミノ−４´−メチルベン
ゾフェノン−３−スルホン酸１２０ｇが得られた。融点
：２８０℃（分解）λｍａｘ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド中で測定した）：３３２ｎｍ 実施例２ ４−メチル−４´−ニトロベンゾフェノン２４１ｇを室
温で（２４重量％の）油７００ｇ中に装入した。次に、
この混合物の温度を６５℃に上昇させ、かつこの温度で
５時間さらに撹拌した。その後に、反応は終結した。室
温に冷却し、氷水１６００ｍｌ上に沈殿させ、塩化ナト
リウム１５０ｇを添加し、かつ室温に冷却した。式：
【
００４５】
【化１９】 の沈殿した生成物を吸引濾過し、微少量の氷冷却した希
塩酸で洗浄し、かつ乾燥した。４−メチル−４´−ニト
ロベンゾフェノン−３−スルホン酸２４０ｇが得られた
。次に、この生成物をメタノール１５００ｍｌおよび水
１００ｍｌと一緒に撹拌し、５０重量％の苛性ソーダ液
で５．５のｐＨ値に調節し、次いで水素を用いて微粒状
ラニーニッケル３ｇの存在下に４０〜５０℃および常圧
下で水素化した。
【００４６】ニッケルを分離し、かつメタノールを留去
した後、実施例１の記載と同様に、約０．５のｐＨ値の
酸性にし、かつ式：
【００４７】
【化２０】 のアミノ化合物を塩析によって単離した。収量：２０８
ｇ、融点：＞３００℃；λｍａｘ　（水中で測定した）
：３３６、２５２ｎｍ 実施例３ 実施例１と同様にして作業したが、しかしベンゾフェノ
ンとして式：
【００４８】
【化２１】 のアミン１０５．５ｇ（融点：２２０℃）および濃硫酸
７４ｇを使用した。式：
【００４９】
【化２２】 の生成物が得られた。λｍａｘ　（Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド中で測定した）：３３１ｎｍ 実施例４ ４−アミノ−４´−イソプロピルベンゾフェノン４．７
８ｋｇに撹拌しながら１２０℃で３０分間で（９６重量
％の）硫酸２１００ｇを添加した。良好に撹拌可能な均
質混合物が得られ、この混合物を３時間で１６５〜１７
５℃に加熱し、かつ焙成法（　Ｂａｃｋｖｅｒｆａｈｒ
ｅｎ）で前記温度で窒素洗浄下に反応させて式：
【００５０】
【化２３】 の４−アミノ−４´−イソプロピルベンゾフェノン−３
−スルホン酸に変えた。
【００５１】反応は定量的に行なわれた。（また、化学
量論的量の硫酸（２０５０ｇ）をしようした場合にも、
スルホン化されていない出発生成物の痕跡のみが見い出
された）。
【００５２】灰色の粉末が得られ、これは苛性ソーダ液
の存在下に残留物なしに水に溶解した。λｍａｘ　（Ｎ
，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で測定した）：３３２ｎ
ｍ、収量：６．７６ｋｇ。（生成物は、なお硫酸４１６
ｇを含有していた）。
【００５３】同様にして、第１表および第２表中に記載
のベンゾフェノン誘導体を得ることができる。
【００５４】
【表１】
【００５５】
【表２】 実施例２６ ａ）塩化アルミニウム３２０ｇを無水塩化メチレン８０
０ｍｌ中に最大２０℃で装入した。その後に、十分に撹
拌しながら最大２０℃で滴下法でｐ−ニトロベンゾイル
クロリド３７２ｇを添加し、かつ引続き無水ナフタリン
２５６ｇを添加した。この場合、この混合物は塩化水素
を発生させた。室温で３時間さらに撹拌し、次にこの溶
融液を水上に分解し、かつ氷上に分解した。相分離の後
、有機相を１回水で振出し、かつ引続き塩化メチレンを
蒸留により除去した。残留物をメタノールと一緒に煮沸
し、室温に冷却し、かつソーダ液で７〜９のｐＨ値に調
節した。結晶性沈殿物を吸引濾過し、洗浄し、かつ乾燥
した。式：
【００５６】
【化２４】 の化合物５１９ｇが得られた（融点：９０℃）。（生成
物は、式：
【００５７】
【化２５】 のナフトフェノンを少量分なお含有していた。）ｂ）生
成物混合物を氷酢酸３０ｍｌおよび触媒量の活性化ニッ
ケル粉末と一緒にイソブタノール２５００ｍｌ中に懸濁
させ、この懸濁液を６０℃で十分に撹拌しながら水素で
水素化して式：
【００５８】
【化２６】 の相応するアミン（融点：１１９℃）に変えた。（生成
物は、なお少量分の相応する異性体を含有していた。）
常法と同様にして単離した後、生成物４４５ｇが得られ
た。 ｃ）９６％の硫酸１９２ｇを添加し、かつ強力に混合し
た後、ｂ）で得られた混合物を２００℃で窒素ガス雰囲
気下で焙成処理にかけた。式：
【００５９】
【化２７】 の化合物５８９ｇが得られた。λｍａｘ　（ｐＨ７〜９
で水中で測定した）：３３３ｎｍ（２４２ｎｍでショル
ダー）（ＵＶスペクトルは、２７６ｎｍで１つの最小値
を有する）。
【００６０】この新規のジアゾ成分は、なお式：
【００
６１】
【化２８】 で示される化合物の微少量分を含有していた。 実施例２７ 塩化アルミニウム３２０ｇを最大２０℃で無水塩化メチ
レン８００ｍｌ中に装入した。その後に、十分に撹拌し
ながら≦２０℃で滴下法でｍ−ニトロベンゾイルクロリ
ド３７２ｇを添加し、かつ引続き無水ナフタリン２５６
ｇを添加した。この混合物を実施例２６と同様に反応さ
せ、かつ後処理した。
【００６２】
【化２９】 実施例２８ ４−アミノ−１−ナフトフェノン−３−スルホン酸１５
０ｇを最大４０℃で（２４重量％の）油４００ｇ中に装
入した。反応混合物を室温で５時間撹拌し、かつ８０℃
で４時間撹拌した。引続き、この混合物を氷上で撹拌し
た。式：
【００６３】
【化３０】 のジアゾ成分の溶液が得られた。
【００６４】苛性ソーダ液で中和し、かつ沈殿した硫酸
ナトリウムを分離した後、ジアゾ成分の溶液（二ナトリ
ウム塩として）は、ＵＶスペクトルで３３０ｎｍで吸収
最大を有していた。 実施例２９ ２，４−ジメチル−４´−ニトロベンゾフェノン２５１
ｇを実施例２と同様に油中でスルホン化し、かつ引続き
還元して式：
【００６５】
【化３１】 で示されるジアゾ成分に変えた。λｍａｘ　（ｐＨ≧７
で水中で測定した）：３２８ｎｍ
【００６６】
【表３】
【００６７】
【表４】
【００６８】
【表５】 実施例５１ （無水）塩化メチレン２５００ｍｌ中に、室温で乾燥塩
化アルミニウム粉末４８０ｇを添加し、かつその後に滴
下法でｐ−ニトロベンゾイルクロリド６００ｇを添加し
た。引続き、この混合物に（無水）１，２−ジフェニル
エタン２７４ｇを添加し、かつ３５℃で１晩中撹拌した
。その後に、この錯化合物を水上に分解し、上の水相を
分離し、有機相を２回水で抽出し（ｐＨ約７）、次いで
有機溶剤を留去した。吸引濾過し、洗浄し、かつ残留物
を乾燥した後、式：
【００６９】
【化３２】 で示される化合物６８０ｇが得られた（融点：２００℃
）。
【００７０】この生成物３６０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド２５００ｍｌおよび氷酢酸３０ｍｌ中で水素
でニッケル触媒を用いて８０℃で水素化した。水素吸収
の終結後に触媒を分離し、かつ式：
【００７１】
【化３３】 で示されるジアミン（融点：２２０℃）を水を用いて沈
殿させた。生成物３１０ｇが得られた。 実施例５２ 実施例５１と同様にして実施したが、しかしｐ−ニトロ
ベンゾイルクロリドの代わりに同量のｍ−ニトロベンゾ
イルクロリドを使用した。
【００７２】相当量の式：
【００７３】
【化３４】 で示される生成物（融点：２１４℃）および式：
【００
７４】
【化３５】 で示される生成物（λｍａｘ　（メタノール）：２４４
、３３５ｎｍ）が得られた。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　式Ｉ： 【化１】 ［式中、環Ａは、場合によってはベンゾ縮合環化されて
    おり、Ｘ１　は水素原子またはヒドロキシスルホニル基
    を表わし、Ｘ２　は水素原子、ヒドロキシスルホニル基
    、ヒドロキシスルホニルフェニル基、ヒドロキシスルホ
    ニルベンジル基またはヒドロキシスルホニルフェニルエ
    チル基を表わし、Ｒ１　、Ｒ２　およびＲ３　は、同一
    かまたは異なり、互いに独立にそれぞれ水素原子、ハロ
    ゲン原子、Ｃ１　〜Ｃ１２−アルキル基、シクロヘキシ
    ル基またはＣ１　〜Ｃ４　−アルコキシ基を表わすか、
    或いはこれらの置換基の１個は、式： 【化２】 （式中、Ｌは１個の化学結合、Ｃ１　〜Ｃ４　−アルキ
    レン基または式−Ｏ−ＣＨ２−の基を表わし、Ｙ１　、
    Ｙ２　およびＹ３　は同一かまたは異なり、互いに独立
    にそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１　〜Ｃ１２−
    アルキル基またはＣ１　〜Ｃ４　−アルコキシ基を表わ
    し、Ｒ４、Ｘ１　、Ｘ２　および環Ａはそれぞれ記載の
    意味を有する）で示される基をも表わし、Ｒ４　は水素
    原子または塩素原子を表わし、但し、Ｘ１　およびＸ２
    　は同時には水素原子の意味を有しないものとする］で
    示されるアミノベンゾフェノン。
  2. 【請求項２】　　式ＩＩ： 【化３】 ［式中、Ｌは１個の化学結合、Ｃ１　〜Ｃ４　−アルキ
    レン基または式−Ｏ−ＣＨ２−の基を表わす］で示され
    るビスアミノベンゾフェノン。
JP3184514A 1990-07-30 1991-07-24 アミノベンゾフェノンおよびビスアミノベンゾフェノン Withdrawn JPH04234351A (ja)

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