JPH04230993A

JPH04230993A - シート状又は平面状の製品を処理するための超高周波適用装置

Info

Publication number: JPH04230993A
Application number: JP3125686A
Authority: JP
Inventors: Andre-Jean Berteaud; アンドレージヤン・ベルトー; Alain Germain; アレン・ジエルマン
Original assignee: Microondes Energie Systemes SA
Current assignee: Microondes Energie Systemes SA
Priority date: 1990-03-07
Filing date: 1991-03-07
Publication date: 1992-08-19
Also published as: FR2659518A1; EP0446114A1; FR2659518B1; US5278375A; CA2037518A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シート状又は平面状の
製品を処理するための超高周波即ちマイクロ波適用装置
に係わる。この装置は、三直角座標Ｏｘ、Ｏｙ、Ｏｚで
ａｘｂｘＬという寸法をもつ平行六面体導波空胴を規定
する箱を含み、この箱がＯｚ方向に長く延び、処理すべ
き製品を平面Ｏｘ、Ｏｚと平行な平面に沿って前記空胴
内に通すためのスリットを備えている。この装置は更に
、Ｏｘとほぼ平行な方向に従って前記空胴内に電界を発
生させるべく、前記空胴をＴＥモードで励起する手段も
含む。

【０００２】ここで超高周波又はマイクロ波というのは
、周波数０．３ＧＨｚ〜３００ＧＨｚの電波、より特定
的には周波数帯Ｓ［１．５５ＧＨｚ〜５．２ＧＨｚ］の
電波のことである。

【０００３】本発明は、非限定的ではあるが特に重要な
用途として、厚み約２０ｍｍ以下の薄いシート状又は平
面状製品の乾燥、特に製紙工業、印刷工業（インクの乾
燥）及び皮革工業での皮の製造における乾燥、又は平面
状にデポジットされた湿潤粉末の乾燥に使用される。特
に有利には、２．４５ＧＨｚに等しい標準周波数のマイ
クロ波を使用する。

【０００４】但し本発明は、前記以外の処理、特に前記
厚みより大きい厚いみをもつシート状製品を前記と異な
るマイクロ波周波数で熱処理する場合にも使用できる。

【０００５】シート状製品をマイクロ波で処理する装置
は既に知られている。この種の装置は通常、「メアンダ
（ｍｅａｎｄｒｅ）」と称するジクザグに折曲げられた
構造をもつ導波箱か、処理すべき製品を通すためのスリ
ットを大きい方の側面に設けた前述タイプの平行六面体
導波箱を使用して、電界の基本モードの電流線の乱れを
防止する。

【０００６】これら公知の装置はかなり均一な処理を行
うことができるが、強度の小さい電界しか使用できない
ためにサイズが大きく構造が複雑である（「メアンダ」
構造の場合）か、又は製品の所期の処理を行うのに十分
な時間にわたってマイクロ波を作用させることができな
いために用途が限定される（スリット付き導波箱の場合
）。実際、後者の場合について言えば、公知の平行六面
体「導波」箱は横断面の幅ａが小さい。例えば、箱の横
断面ａｘｂの標準寸法は欧州では４．３ｃｍｘ８．６ｃ
ｍ、米国では３．４ｃｍｘ７．２ｃｍである。従って、
箱のスリットを介して横断方向に移動するシート状製品
は、ＴＥモードで励起された空胴内に余り長く滞留でき
ない。

【０００７】勿論、製品の移動速度を遅くするか又は製
品を箱内で停止させることによって滞留時間を延ばすこ
とはできる。しかしながら、このような方法をとると処
理の均一性という別の要件が満たされなくなる。実際、
製品を移動させながら処理する装置の場合は、移動方向
に係わりなくコンベヤベルトの幅全体にわたってほぼ均
一な電界が得られさえすれば、製品が箱を横断する時に
吸収されるエネルギが統計的に均一になる。しかしなが
ら、製品を静止した状態で処理する装置の場合はそうは
行かない。

【０００８】電界の強度が小さいという欠点を解消し且
つ装置を小型化するために、同一のマイクロ波出力でよ
り強い電界が得られる共振型マイクロ波適用装置が開発
された。

【０００９】実際、共振波の場合は、周知のように電界
が過電圧の平方根倍の強さになる。過電圧は、共振器に
貯蔵された総エネルギと周期当たりの散逸エネルギ（モ
ジュロ２π）との比であると定義される。

【００１０】しかしながら、共振型装置の使用には、処
理すべきシート状製品の幅全体にわたって均一な処理を
実施することができないという問題がある。これは、電
界の強さに節と腹があるからである。

【００１１】この問題を解決するために、少なくとも２
つの同じ共振型導波空胴を含み、シート状製品をこれら
の空胴を横断するように移動させて処理するシステムが
提案された。空胴は、最大電界効果が製品の幅全体にわ
たって分配されるように、相互間に（１／Ｎ）ｘλ／２
の距離をおいて配置される［ＦＲ　　２，５２３，７９
７号参照］。

【００１２】このシステムは満足な結果をもたらすもの
ではあるが、改善の余地もある。このシステムは複数の
導波空胴を必要とし、また共振空胴は周知のようにしば
しば特定の適応問題を有するからである。

【００１３】実際、共振空胴の機能は電荷変化に大きく
依存し、共振に対する正確な同調を得るには周波数を電
界の強度変化に合わせて制御することがしばしば必要に
なる。

【００１４】本発明の目的は、特に共振型導波装置を使
用しなくてもよい（但し使用してもよい）という点、ま
た処理すべき製品に対するマイクロ波の作用時間を簡単
に且つ経済的に増加させることができ、従って例えば乾
燥等の処理を既存の装置より効果的に実施することがで
きるという点で、実施上の要件を公知の装置より良く満
たす装置を提供することにある。

【００１５】この目的を達成すべく、本発明では特に、
シート状又は平面状の製品を処理するための前述タイプ
の超高周波適用装置であって、空胴の寸法ａが寸法ｂに
ほぼ等しい値より大きいことを特徴とする装置を提案す
る。

【００１６】本発明の特定実施例の１つでは、箱の一部
分が寸法ａｘｂｘＬの平行六面体導波空胴（又は空胴部
分）を規定し、前記空胴部分の寸法ａが前記空胴部分の
寸法ｂにほぼ等しい値を上回る。

【００１７】ｂにほぼ等しい値というのは、ｂよりやや
大きい値、例えば１．２ｂを意味すると理解されたい。

【００１８】従ってこの特定実施例の装置は、ｂの値が
同じであれば（ｂの値は後述のように使用周波数に依存
するため任意には決定できない）、公知の装置（ａ／ｂ
の比が０．５以下）より長い時間にわたって移動製品を
処理することができる。実際、マイクロ波の作用範囲が
より長い距離に及ぶ。静止した製品を処理する場合にも
、製品のＯｘ方向（辺ａと平行）の寸法をより長くし得
る。

【００１９】このような比ａ／ｂの条件は、当業者には
全く想到できないことであった。実際、標準的断面ａｘ
ｂ（例えば４．３ｃｍｘ８．６ｃｍ）の導波空胴はＴＥ
モードで励起されるとＴＥ０１モード、即ち電界がＯｘ
方向で一定であり且つＯｘと平行な方向を有するような
モードを伝搬することが知られている。

【００２０】このＴＥモードは、シート状製品を処理す
る装置を特に乾燥に使用する場合に有用なモードである
。なぜなら、このモードでは、電界が製品に効果的且つ
最適に作用するからである。（この場合は電界がシート
の平面上に存在する。）しかるに、これも周知のことで
あるが、辺ａの値を大きくすると、ａが臨界値ａｃをと
った時に導波空胴が別のエネルギ配分モードを伝搬する
ようになる。前記臨界値はマイクロ波の周波数ｆ及び寸
法ｂによって決まる。

【００２１】この臨界値ａｃは、数学的には式ａｃ＝λ
／２［式中、λは使用マイクロ波の自由空間における波
長を表す］で示され、ａがａｃを越え且つｂより大きく
なると、ＴＥ０１モード以外に、電界をＯｙと平行（シ
ート状製品の平面と直角）にするＴＥ１０モードが発生
し得るとされている。また、ａがｂより大きくなればな
るほど、ＴＥ０１モードがＴＥ１０モードに対して不安
定になるとも言われている。

【００２２】ところが驚くべきことに、公知の装置が教
示し得たことに反し且つ導波空胴を規定する平行六面体
箱内でのマイクロ波の挙動に関する前述のごとき理論的
アプローチの論拠にも反して、本発明者の実験では、寸
法ａを寸法ｂにほぼ等しい値より大きくし、ｂの何倍も
の大きさにしても、シート状製品を平面Ｏｘ，Ｏｚに沿
って導入するための側方スリットを備えた平行六面体空
胴内には十分に安定なＴＥ０１モードが得られることが
判明した。これは当業者には全く予想外のことであった
。

【００２３】有利な実施例の１つでは、ａ／ｂの比を２
より大きくする。

【００２４】実際、実験の結果、標準より大きい導波空
胴、即ち辺ａが辺ｂの２倍又は３倍ある導波空胴を用い
た場合に得られるエネルギ効率は、辺ａ＝４３ｍｍの標
準的導波空胴を用いた場合より明らかに大きいことが確
認された。

【００２５】例えば、水を一杯に吸収した吸取紙の乾燥
では、標準より大きい導波空胴を用いた時の方が標準的
導波空胴を使用した時より１０〜１５％高い効率が得ら
れた（ａ＝２００ｍｍの空胴では９０％、ａ＝４３ｍｍ
の空胴では７５％）。

【００２６】別の有利な実施例では、ａ／ｂの比を４よ
り大きくする。

【００２７】このような構成にすると、乾燥時間を長く
することができる他に、製品内で作用する内部電界が印
加電界に近付くという利点が得られる。これは、寸法ａ
が大きくなると減極電界がゼロに近付くからである。

【００２８】しかるに、本発明では前述のごとく、辺ａ
が３５０ｍｍ以上であり辺ｂが標準的寸法８６ｍｍであ
る装置を、単一のモードＴＥ０１の励起を損なわずに実
現することができた。そのため、更に大きなエネルギ効
率が得られるようになった。

【００２９】有利な実施例の１つでは、平行六面体導波
空胴を規定する箱部分又は箱が、平面Ｏｘ，Ｏｚに含ま
れない方向に従って延びる補足的空胴部分を規定する補
足的箱部分につながり、箱が、前記空胴部分内の平面Ｏ
ｘ，Ｏｚ上の方向と平面Ｏｘ，Ｏｚに含まれない前記補
足的空胴部分内の方向との間で超高周波伝搬方向を転換
させる手段を備える。

【００３０】マイクロ波適用装置にこのような湾曲部（
ｃｏｕｄａｇｅ）を設ければ、ＴＥ０１モード励起を変
化させずに波の伝搬方向を変えることができる。

【００３１】平面Ｏｘ，Ｏｚに含まれない前記方向は、
有利には軸線Ｏｙの方向である。

【００３２】別の有利な措置として、以下の構成の１つ
及び／又はその他を適用することができる。

【００３３】１）箱が、前記補足的空胴部分に方向転換
回されなかった波を捕らえるべく前記補足的箱部分を挟
んで前記箱部分と反対の側で該箱部分の延長上に位置す
る先端部分を含む。

【００３４】２）箱が、第２の補足的空胴部分を規定す
る第２の補足的箱部分と、三直角座標Ｏｘ，Ｏｙ，Ｏｚ
でａｘｂｘＬ’という寸法をもつ第２の平行六面体空胴
部分を規定する第２の箱部分とを含み、前記第２の補足
的箱部分が第１の補足的空胴部分の近傍にあって平面Ｏ
ｘ，Ｏｚに含まれない方向に従って延び、前記第２の箱
部分が平面Ｏｘ，Ｏｚに沿って第１の空胴部分の延長上
にあり且つ前記第１及び第２の補足的箱部分を挟んで第
１の箱部分と反対の側に位置し、装置が、Ｏｘとほぼ平
行の方向に従って前記第２の空胴部分内に電界Ｅ’を発
生させるべく第２の空胴部分をＴＥモードで励起する手
段を含む。Ｅ’はＥと同じでも又は異なっていてもよい
。

【００３５】３）装置が、平面Ｏｘ，Ｏｚに沿って互い
の延長上に位置する少なくとも２つの箱部分を含み、こ
れらの各部分が補足的箱部分に接続される。

【００３６】４）装置が、平行六面体空胴部分を規定す
る箱部分とこれに接続された補足的箱部分とで構成され
た各モジュール毎に、前記空胴部分の一端に波を導入す
るための第１の超高周波発生器と、前記補足的空胴部分
の端部に波を導入するための第２の超高周波発生器とを
含む。

【００３７】本発明の装置は、空胴内で製品をＯｚと平
行な方向に移動させる手段を含むと有利である。

【００３８】このような措置が可能なのは、寸法ａが大
きいからである。例えば、ａ＝２５０ｍｍであれば、２
５０ｍｍに近い幅（公知の装置の４３ｍｍを遥かに上回
る）の製品を波の伝搬方向に従って移動させ得ることに
なる。電界は幅ａの全長にわたって一定であるから、こ
のようにすれば特に均一な作用を製品に与えることがで
きる。

【００３９】別の有利な実施例では、装置が共振型であ
る。

【００４０】次のような有利な措置、即ち寸法ｂの長さ
を標準寸法より小さくし、文献で公知の臨界値ｂｃ＝ｃ
／２ｆ［式中、ｃは真空中の光の速度であり、ｆは超高
周波の周期である］に近くするという措置をとることも
できる。

【００４１】実際、周知のように、ＴＥ０１モードを伝
搬する矩形導波管では、波の周波数と辺ｂの寸法と箱内
を通る波の波長λｇとの間に相関関係が存在する。この
関係は下記の式で示される。

【００４２】式中、ｃは真空中の光の速度を表す。

【００４３】この式から明らかなように、寸法ｂを減少
させればλｇが極めて大きくなる（伝搬方向での波の伸
長）。極端な例としてλｇが無限になる時の条件を遮断
条件という。この条件ではｂ＝ｃ／２ｆであり，従って
ｆ＝２．４５ＧＨｚの場合はｂが６１．２ｍｍになる。

【００４４】本発明者は、ｂをこのような最小臨界値（
６１．２ｍｍ）まで縮小せずに、ｂ＝６３ｍｍの装置を
形成した。この装置では、誘導波の波長λｇが４８０ｍ
ｍに達し、従って極めて均一な作用領域が約１００ｍｍ
にわたって得られる。本発明に従って形成したこのよう
な構造の装置を用いると、１００ｍｍｘ２００ｍｍの平
らで均一な作用領域が得られた。

【００４５】別の有利な実施例では、共振波の腹が前記
空胴の長手方向で軸線Ｏｚと平行に特定の状態で分配さ
れるように寸法ｂを決定する。

【００４６】この分配は前出の式に基づき、使用する波の波長に応じて行われる。

【００４７】λｇがｂに応じて制御されるということに
関連して、別の実施例では、エネルギの腹が優先的に処
理すべき製品部分と厳密に直角に位置するようにｂを選
択する。

【００４８】例えば、移動する支持体上に互いに平行な
複数の帯の形状に配置した接着剤を乾燥する場合は、マ
イクロ波エネルギが処理すべき帯状接着剤部分に集中す
るようにｂを選択する。相互間隔７５ｍｍで配置した帯
状接着剤部分を乾燥すべく、辺ａ＝１６０ｍｍ、辺ｂ＝
１０３．５ｍｍで形成した本発明の共振型装置は、赤外
線又は高周波処理で通常得られる性能より大きい乾燥性
能を示した。

【００４９】別の有利な実施例では、装置が共振型では
ない。

【００５０】長手方向縁部が平面Ｏｙ，Ｏｚと平行に折
曲げられたプレート状の着脱式蓋を有する箱を使用して
も有利である。長手方向縁部の周縁は平行Ｏｘ，Ｏｙと
平行であり、蓋は箱の上面の一部分を構成する。

【００５１】この場合は、蓋の長手方向縁部が製品を通
すためのスリットの上縁と合致すると有利である。

【００５２】この実施例には、標準より大きい導波管で
のＴＥ０１モードの使用によって得られる別の利点の１
つがある。即ち、切断部（ｄｅｃｏｕｐｅ）をこのよう
に構成すると箱の壁面上における電流分布の連続性が保
持され、切断部を別の状態に構成した場合に見られる上
部と下部との間の放電現象が全く発生しない。

【００５３】また、箱の内部にアクセスできるため、移
動する製品が詰まりを起こして導入スリット部分に溜ま
るという重大な問題も解決される。

【００５４】

【実施例】以下、添付図面に基づき非限定的実施例を挙
げて本発明をより詳細に説明する。図１は、シート状又
は平面状製品２を処理するための、本発明の第１実施例
による超高周波適用装置１を示している。この装置は、
三直角座標Ｏｘ，Ｏｙ，ＯｚでａｘｂｘＬという寸法の
平行六面体導波空胴を規定する箱３を含む。寸法ａは寸
法ｂより大きく、例えば約３ｂである。

【００５５】箱３はＯｚ方向に長く延びており、大きい
方の側面５の各々に矩形スリット４を１つずつ有する。これら２つのスリットは、処理すべき製品を平面６に沿
って導入するのに使用される。この平面は平面Ｏｘ，Ｏ
ｚと平行であり、有利には例えば箱の底面７からｂ／２
の距離をおいて位置する。

【００５６】製品２は例えば、それ自体公知のベルトコ
ンベヤ９を含む移動手段８の上に配置される。但し、そ
れが適当であれば、製品を２つのマンドレル（図示せず
）の間で引っ張りながらスリット４から空胴内に挿入し
、継続的又は断続的に移動させることもできる。

【００５７】この装置は、空胴をＴＥモードで励起する
、即ち空胴内で発生し且つそれに沿って進む超高周波の
伝搬方向と直交する電界Ｅが得られるように励起する手
段１０も有する。この手段は公知のように、マグネトロ
ンもしくは超高周波発生器１１と、波を空胴方向に送る
トランジションガイド１２とを含み、例えば２．４５Ｇ
Ｈｚの周波数帯の超高周波を発生させて、寸法ａｘｂｘ
Ｌの空胴の内部に例えば出力Ｉ　　ＫＷの電界を発生さ
せる。前述のごとく、この電界Ｅは驚くべきことに、寸
法ａがｂより大きいにも拘わらず、Ｏｘとほぼ平行な方
向を有する（即ちＴＥ０１モードを保持する）。

【００５８】前記周波数２．４５ＧＨｚの場合の標準的
導波箱はａ＝４３ｍｍ、ｂ＝８６ｍｍであるが、本発明
では一例として、ａ＝２５０ｍｍ（以上）、ｂ＝８６ｍ
ｍの箱をこの周波数で使用してみた。それでもＴＥ０１
モード励起は消滅しなかった。従ってこの場合は、図１
のように移動する処理すべき製品が、標準的導波箱内を
通過する場合の時間に比べて、比２５０／４３に相当す
る倍数の時間にわたり電界Ｅの作用を受けることになる
。

【００５９】図２には、製品１５を空胴内でＯｚと平行
な方向１６に従って移動させるための手段１４を含む箱
１３を示した。超高周波発生手段１７は点線で簡単に示
すように、製品の移動を妨害しないように箱の側面に具
備されている。

【００６０】箱１３は２つの小さい方の側面１９に、互
いに平行な２つの矩形スリット１８を有する。

【００６１】図３は本発明の第３実施例を示している。この実施例の装置は着脱式の蓋２１を備えた共振箱２０
を含み、前記蓋には例えば取っ手のような捕捉手段２２
が具備されている。蓋２１は、長手方向縁部２４が平面
Ｏｙ，Ｏｚと平行に折曲げられたプレート２３の形状を
有する。

【００６２】前記蓋は、長手方向縁部の周縁２５が処理
すべき製品２８（鎖線で図示）を通すための矩形スリッ
ト２７の上方エッジを構成するように設計されている。製品自体は、箱の底面からｂ／２の距離をおいた平面上
を移動するのが有利である。図３には短絡用可動ピスト
ン２９も点線で示した。このピストンは箱の長手方向端
部の１つに配置され、箱を共振させるべくロッド３０に
よって作動する。箱のもう一方の端部、即ち発生器３１
側の端部には、波発生器３１から見た電荷を公知の方法
で適合させるために容量及び／又は誘導インピーダンス
が具備されている。このインピーダンスは例えば絞り３
２からなる（点線で図示）。

【００６３】箱の上面が、表面を流れる電流の線を乱さ
ないような設計で取外し可能になっていることも大きな
利点の１つである。

【００６４】図４は、寸法ｂを臨界値ｃ／２ｆ近くまで
縮小した共振箱４０を示している。寸法ｂをこのように
小さくすると、製品４１が前述のごとく例えば１００ｘ
２００ｍｍのような広い面積にわたって均一に処理され
る。

【００６５】製品はベルトコンベヤ４３上に配置され、
スリット４２を介して断続的に導入される。

【００６６】図５は本発明の別の実施例による共振箱５
０を断面図で示している。

【００６７】公知のように短絡ピストン５３（点線で図
示）を介して間隔が調整される共振波５２の腹５１は、
箱の長手方向スリット５６を通って移動するシート状製
品５５の処理すべき部分５４と向かい合うように配置さ
れる。

【００６８】図６は本発明の別の実施例の箱６０を示し
ている。この箱は垂直方向の補足的箱部分６１を含み、
波は４５°傾斜した２つのフラップ６３、６３’と波の
漏洩を防止する捕捉プレート６４、６５とによって前記
補足的箱部分に方向変換６２する。図面の左方６６から
送られてくる波は２つのフラップの作用で垂直方向に向
きを変え、処理すべき偏平製品６７は三直角座標Ｏｘ，
Ｏｙ，ＯｚでａｘｂｘＬという寸法をもつ平行六面体空
胴部分６９’を規定する箱部分６９の中にスリット６８
を介して導入され、そこで側方部が処理される。この装
置では、空気との接触又は保管の不備に起因して中心部
より縁部の方が湿潤度が高い平面状厚紙製品の縁部をよ
り良く乾燥することができた。

【００６９】図７は、寸法ａｘｂｘＬ及びａｘｂｘＬ’
の２つの平行六面体空胴部分８０’及び８１’を規定す
る２つの箱部分８０及び８１を備えた、本発明の別の実
施例による箱７０を示している。部分８０及び８１には
、これらの部分の間で、垂直の補足的箱部分８２及び８
３が接続されている。この箱には、２つの一般的なマイ
クロ波入力及び出力に代えて、４つのアクセス７１〜７
４が設けられている。波を偏向させるフラップ７５、７
６、７７、７８の作用で、アクセス７１と７２並びに７
３と７４は確実につながり合う。例えば、アクセス７２
及び７４に発生器（図示せず）を配置し且つアクセス７
１及び７３にアダプタ（図示せず）を配置すれば、偏平
製品の中心部へのマイクロ波の作用を縁部への作用より
大きくすることができる。

【００７０】アクセス７２に導入された波はアクセス７
１方向に進み、アクセス７４に導入された波はアクセス
７３方向に進む。この装置を、平面Ｏｘ，Ｏｚ上で側方
スリット７９及び７９’を介して導入した偏平製品の幅
全長にわたって熱プロフィルを補正し調整する実験にか
けた。勿論、図７に示した箱部分の長さＬ及びＬ’の比
は任意に決定し得る。

【００７１】ここで、本発明の装置の作動方法を、より
特定的には図１を参照しながら説明する。

【００７２】最初に、通常は２．４５ＧＨｚである保持
周波数で導波空胴を励起させる。次いで、調整の余地が
あれば、処理すべき製品の技術的特徴に合わせてこの励
起を調整する。その後、処理すべき製品を公知の方法で
支持用ベルトコンベヤ上に配置する。このベルトコンベ
ヤは例えば、ガラス繊維で強化したＴＥＦＬＯＮと称す
る公知の材料からなる複合ベルトコンベヤである。

【００７３】次いで、連続操作の場合はベルトコンベヤ
の移動速度を調整し、断続的操作の場合はベルトコンベ
ヤの前進ピッチを調整する。プログラム可能な自動装置
を使用すれば、システムを自動的に制御することができ
る。従って、製品は箱の中に入りそこで所定の処理を所
望の時間だけ受けることになる。

【００７４】以上の説明から明らかなように、本発明の
装置では公知の装置と同じ出力及び大きさでより大きい
効率が得られる。また、本発明の装置を使用すれば、マ
イクロ波を用いる技術で従来制御が難しかった熱処理操
作を工業的に実施することができる。本発明の装置では
、例えば静止面を１００ｘ２００ｍｍの面積にわたって
処理することができ、又は幅２５０ｍｍの帯を極めて均
一に連続処理することができる。

【００７５】本発明の装置は更に、例えば陳列包装物形
態の製品、繊維状製品、又は厚みが薄く面積の小さい（
例えば約５〜１０ｃｍ２）エレメントをコンベヤベルト
上に等間隔でもしくは接近させて並べたもの等の処理に
も使用できる。

【００７６】本発明はまた、板ガラスの処理、特にガラ
ス上のエナメルの乾燥にも極めて有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例による非共振型マイクロ波
適用装置の斜視図である。シート状又は平面状製品は軸
線Ｏｘの方向で移動している。

【図２】本発明の装置の第２実施例を示す斜視図である
。シート状又は平面状製品は軸線Ｏｚ方向に従って移動
している。

【図３】本発明の装置の第３実施例を示す斜視図である
。この装置は共振空胴と開放可能な上部とを有するマイ
クロ波適用箱を含む。

【図４】本発明の別の実施例による共振箱、より特定的
には静止した製品を広範囲にわたって処理するように設
計された箱を簡単に示す説明図である。

【図５】箱の空胴内に発生したマイクロ波のエネルギの
腹の位置で正確に製品部分を処理するように設計された
共振箱の断面図である。

【図６】垂直方向の補足的箱部分と側方の波捕捉部分（
単一湾曲部）とを有する本発明の別の実施例による箱を
一部分除去して示す斜視図である。

【図７】２つの隣接する補足的エネルギ注入用垂直箱部
分を備えた（湾曲部が２つある）本発明の別の実施例に
よる箱を一部分除去して示す斜視図である。

【符号の説明】

３、１３、２０、４０、５０　　箱４、１８、２７、４２、５６　　スリット１０、１７、
３１　　励起手段

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】シート状又は平面状の製品を処理するため
の超高周波適用装置であって、三直角座標Ｏｘ，Ｏｙ，
ＯｚでａｘｂｘＬという寸法の平行六面体導波空胴を規
定しＯｚ方向に長く延びており且つ処理すべき製品を平
面Ｏｘ，Ｏｚに沿って前記空胴内に導入するためのスリ
ットを備えた箱と、Ｏｘと平行又はほぼ平行な方向に従
って前記空胴内に電界を発生させるべく前記空胴をＴＥ
モードで励起させる手段とを含み、前記空胴の寸法ａが
該空胴の寸法ｂにほぼ等しい値より大きいことを特徴と
するシート状又は平面状の製品を処理するための超高周
波適用装置。
【請求項２】導波空胴を規定する箱と、Ｏｘ方向とほぼ
平行な方向に従って前記空胴内に電界を発生させるべく
前記空胴をＴＥモードで励起させる励起手段とを含み、
前記箱がＯｚ方向に長く延びる部分を少なくとも１つ有
し、この部分に処理すべき製品を平面Ｏｘ，Ｏｚに沿っ
て前記空胴内に導入するためのスリットが設けられてお
り、この箱部分が三直角座標Ｏｘ，Ｏｙ，Ｏｚでａｘｂ
ｘＬという寸法の平行六面体導波空胴部分を規定してお
り、この空胴部分の寸法ａが該空胴部分の寸法ｂにほぼ
等しい値より大きいことを特徴とするシート状又は平面
状の製品を処理するための超高周波適用装置。
【請求項３】前記箱部分が平面Ｏｘ，Ｏｚに含まれない
方向に従って延びる補足的空胴部分を規定する補足的箱
部分につながっており、箱が、前記空胴部分内の平面Ｏ
ｘ，Ｏｚ上の波方向と前記補足的空胴部分内の平面Ｏｘ
，Ｏｚに含まれない方向との間で高周波伝搬方向を転換
させる手段を含むことを特徴とする請求項２に記載の装
置。
【請求項４】平面Ｏｘ，Ｏｚに含まれない方向が軸線Ｏ
ｙの方向であることを特徴とする請求項３に記載の装置
。
【請求項５】箱が、補足的箱部分を挟んで前記箱部分と
反対の側で該箱部分の延長上に存在する先端部分を含み
、この先端部分が前記補足的空胴部分に方向転換しなか
った波を捕捉する機能を果たすようになっていることを
特徴とする請求項３又は４に記載の装置。
【請求項６】箱が、第２の補足的空胴部分を規定する第
２の補足的箱部分と、三直角座標Ｏｘ，Ｏｙ，Ｏｚでａ
ｘｂｘＬ’という寸法をもつ第２の平行六面体空胴部分
を規定する第２の箱部分とを含み、前記第２の補足的箱
部分が第１の補足的空胴部分の近傍に位置して平面Ｏｘ
，Ｏｚに含まれない方向に従って延び、前記第２の箱部
分が平面Ｏｘ，Ｏｚに沿って第１の空胴部分の延長上に
あり且つ前記第１及び第２の補足的箱部分を挟んで第１
の箱部分と反対の側に位置し、装置が更に、Ｏｘとほぼ
平行の方向に従って前記第２の空胴部分内に電界Ｅ’を
発生させるべく第２の空胴部分をＴＥモードで励起する
手段を含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項７】平面Ｏｘ，Ｏｚに沿って互いの延長上に位
置する少なくとも２つの箱部分を含み、これらの箱部分
が夫々の補足的箱部分につながっていることを特徴とす
る請求項４に記載の装置。
【請求項８】平行六面体空胴部分を規定する箱部分とこ
れにつながる補足的箱部分とで構成された各モジュール
毎に、前記空胴部分の一端に波を導入するための第１の
超高周波発生器と、前記補足的空胴部分の端部に波を導
入するための第２の超高周波発生器とを含むことを特徴
とする請求項３から７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】比ａ／ｂが２より大きいことを特徴とする
請求項１から８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】比ａ／ｂが４より大きいことを特徴とす
る請求項７に記載の装置。
【請求項１１】空胴内で製品をＯｚと平行な方向に移動
させるための手段を含むことを特徴とする請求項１から
１０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】共振型であることを特徴とする請求項１
から１１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１３】空胴の寸法ｂの長さが、共振波の腹を前
記空胴の長手方向で軸線Ｏｚと平行に特定の状態で分配
せしめるように決定されていることを特徴とする請求項
５に記載の装置。
【請求項１４】空胴の寸法ｂが値ｃ／２ｆ［式中、ｃは
真空中の光の速度であり、ｆは超高周波の周期である］
に近いことを特徴とする請求項１から１３のいずれか一
項に記載の装置。
【請求項１５】共振型ではないことを特徴とする請求項
１から４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１６】導波空胴を規定する箱部分が着脱式の蓋
を含み、この蓋が平面Ｏｙ，Ｏｚと平行に折曲げられた
長手方向縁部を有するプレートの形状を有し、前記長手
方向縁部の周縁が平面Ｏｘ，Ｏｚと平行であり、この蓋
が箱の上面の一部分を構成することを特徴とする請求項
１から１５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１７】蓋の長手方向縁部が処理すべき製品を空
胴内に導入するためのスリットの上縁と合致しているこ
とを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１８】湿潤粉末の乾燥、又は平面状に並置して
分配した面積の小さい湿潤エレメントの乾燥における請
求項１から１７のいずれか一項に記載の装置の適用。
【請求項１９】板ガラスの処理、特にガラス上のエナメ
ルの乾燥における請求項１から１７のいずれか一項に記
載の装置の適用。