JPH04230018A - ホトレジストの光灰化装置 - Google Patents

ホトレジストの光灰化装置

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JPH04230018A
JPH04230018A JP2418605A JP41860590A JPH04230018A JP H04230018 A JPH04230018 A JP H04230018A JP 2418605 A JP2418605 A JP 2418605A JP 41860590 A JP41860590 A JP 41860590A JP H04230018 A JPH04230018 A JP H04230018A
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JP
Japan
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ashing
ozone
slit
photoresist
substrate
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JP2418605A
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English (en)
Inventor
Norio Ishibashi
紀雄 石橋
Izumi Serizawa
和泉 芹澤
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Orc Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Orc Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板上に半導体集積回路
等を形成する一連の工程中、ホトレジストを除去する際
に使用される光灰化装置、特に基板表面に施したホトレ
ジストの光化学的酸化分解反応を基板全面に渡って均一
に起こさせ得るホトレジストの光灰化装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】シリコンウエハ等の基板に施したホトレ
ジストを光灰化させる装置として図５及び図６に示すも
のがある。この装置は下方が開放した中空のチャンバー
１と、このチャンバー１内に回転自在に配置され且つ上
部に基板２を載置した円形のテーブル３と、前記テーブ
ル３の上面に相対するように前記チャンバー１内に配設
した紫外線ランプ４と、前記テーブル３の上面に近接し
て配置した多数のオゾン供給口５、５、５・・・・等か
らなり、この装置によると紫外線ランプ４が２種類の波
長（２５３．７ナノメートル及び１８４．９ナノメート
ル）の遠紫外線を同時に照射し且つオゾン供給口５、５
、５・・・・がテーブル３に近接して配置されているの
で酸素ラジカルＯ＊によるホトレジストの光化学的酸化
分解反応が促進されるという利点がある。（詳細は実開
平１〜８４４２７号参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記の装置に
よると、オゾン供給口５の直下を通過するレジスト部分
の酸化分解反応が局所的に促進され、これ以外の部分の
反応が比較的活発でないため、基板全体の光灰化反応が
完了するまでに長時間を必要とし、その結果、オゾンの
消費量が増大するという問題点があった。
【０００４】前記の問題点を解決するため、図７ないし
図９に示す装置が本願と同一の出願人によって提案され
ている（詳細は実開平１−１３５７３２号参照）。この
装置は図８に示すように、スリット状の流路６を有し且
つ先端側をフレア状に拡大させたオゾン供給用ノズル７
を基板２の上面に近接させて配置したもので、この装置
によるとノズル７から吹き出したオゾンガスが図７に示
すように基板２の上面に沿ってテーブル３の半径方向に
、又は図８に示すように円周方向に流れるので、従来の
装置に比べて光灰化反応を均一に起こさせることができ
る。
【０００５】しかし、この装置を実施した結果、更に改
良を必要とする点が認められた。すなわち基板上面の凹
凸のためオゾンの流れが下流側で剥離しやすく、また一
旦、剥離したオゾンの流れ（矢印ｂ）は上方に配設した
紫外線ランプ４の間に取り込まれるので、再び酸化反応
に関与する機会が少なく、そのためオゾンが無駄に消費
される。
【０００６】本発明は前記の問題点に鑑み、基板全面に
渡ってホトレジストに均一な光灰化反応を起こさせるこ
とによって処理時間を短縮することができ且つオゾンを
有効に利用できるホトレジストの光灰化装置を提供する
ことを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
め本発明では次の手段を構成した。 （１）基板上面に施したホトレジストを紫外線とオゾン
を利用して光化学的に酸化分解するホトレジストの光灰
化装置において、基板を載置して水平面内で回転する円
形のテーブルと、前記テーブルの周縁部に近接してテー
ブルを取り囲み且つテーブル上面とほぼ同じレベルにあ
る平らな部分にオゾン供給用スリット及びオゾン排出用
スリットをそれぞれ開口させたアッシング台と、前記ア
ッシング台の上部を密閉及び開放し得るようにアッシン
グ台に取り付けられ且つ上部に設けた箱体の内部に紫外
線ランプを、更に前記紫外線ランプの直下に透明な窓板
を装着したアッシング上蓋とを備え、各スリットの開口
は前記テーブルを挟んでその両側に配設されており、前
記アッシング上蓋が密閉位置にあるときに、前記アッシ
ング台とアッシング上蓋間に偏平な空間が形成され且つ
前記偏平な空間が前記テーブルの上面及び各スリットの
開口を覆っていることを特徴とするホトレジストの光灰
化装置。 （２）オゾン供給用スリットの入口側にオゾン溜が設け
てある請求項１に記載のホトレジストの光灰化装置。
【０００８】
【作用】（１）　　オゾン供給用スリットから供給され
たオゾンガスは基板を載置したテーブル上方の偏平な空
間を通ってオゾン排出用スリットから排出される。従っ
て基板の上面に沿って均一なオゾンガスの流れが形成さ
れる。従って、光化学的酸化分解反応を均一に起こさせ
ることができる。 （２）　　基板上面で剥離したオゾンガスの流れは偏平
な空間の天井に突き当ったのち再び基板上面に降下して
酸化分解反応に関与する。従ってオゾンの利用度が向上
し、オゾンガスの消費量が節減される。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１及び図２は本発明の第１の実施例を示すもの
で、この実施例の主要部は基板１１を載置して水平面内
で回転する円形のテーブル１２と、このテーブル１２の
周縁部に近接してテーブル１２を取り囲み且つテーブル
上面とほぼ同じレベルにある平坦な部分１３にオゾン供
給用スリット１４及びオゾン排出用スリット１５をそれ
ぞれ開口させたアッシング台１６と、ヒンジ機構１７を
介してアッシング台１６の上部を密閉及び開放し得るよ
うにアッシング台１６に取り付けたアッシング上蓋１８
等からなり、このアッシング上蓋１８の上部に設けた箱
体１９の内部には紫外線ランプ２０が、更に前記紫外線
ランプ２０の直下には透明なアクリル材又は石英ガラス
でつくった窓板２２が装着されている。
【００１０】テーブルには電熱線（図示せず）を内部に
組み込んだ本体２３と、この本体２３の頂部に取り付け
られ且つ基板１１を受け入れる凹所を花弁状に配設した
円板状の受皿２４（図２参照）等からなり、前記本体２
３の下面の中心部には中空の駆動軸２５が固定されてお
り、この駆動軸２５は歯車２６、２７を介して減速機付
モーター２８によって駆動されるようになっている。
【００１１】更に、駆動軸２５の下端には給電用の回転
式コネクター２９が取り付けられており、この回転式コ
ネクター２９の入力側は給電線３０に、また出力側はリ
ード線３１、３２にそれぞれ接続しており、前記リード
線３１、３２は駆動軸２５の中空部を貫通して上方に延
び、その末端は前記の電熱線（図示せず）に接続してい
る。尚、回転式コネクター２９は公知のものを使用する
ので説明を省略する。
【００１２】アッシング台１６はテーブル１２を取り囲
む碗状の凹状部３３と、この凹状部３３の上部に一体に
取り付けた円板状部３４と、前記凹状部３３の下部に固
定した筒状部３５等からなり、この筒状部３５はその内
側に設けた軸受３６、３７を介して駆動軸２５を回転自
在に支承している。尚、図中の３８、３８、３９、４０
はオゾンガスの漏洩を防止するシール装置（Ｏリング）
である。
【００１３】先に述べたスリット１４、１５は図２に示
すように、テーブル１２を挟んで左右対称に配設されて
おり、また図１に示すように円板状部３４を上下方向に
貫通してその下端は長方体状のオゾン溜４２、４３に連
通している。尚、図２に示すように各スリット１４、１
５の開口はいずれも直線状に且つ相互に平行に配置して
あるが、開口の形状を直線状に形成する代りに、例えば
円弧状に形成して左右対称に配置してもよい。
【００１４】アッシング上蓋１８上のヒンジ機構の反対
側には、開閉用把手４４が取り付けられており、またア
ッシング上蓋１８の下面中央部には長方形をした底の浅
い凹所４５が穿設されており、この凹所４５は、図示し
ていない締付装置によってアッシング上蓋１８をアッシ
ング台１６に締め付けた際、アッシング台１６とアッシ
ング上蓋１８との間に偏平な空間４６を形成し、この偏
平な空間４６は図２に示すように、テーブル１２の上面
及びスリット１４、１５の開口を覆うようになっている
。
【００１５】尚、箱体１９の上部には紫外線ランプ２０
を冷却するための窒素ガスの供給管４７及び排出管４８
が、また箱体１９をアッシング上蓋１８に取り付けるフ
ランジ部４９にはシール用パッキン５０が装着されてい
る。
【００１６】次のこの実施例の装置の取扱要領及び作動
について説明する。先ず、テーブル１２上の受皿２４に
基板１１を載置し、アッシング上蓋１８でアッシング台
１６の上部を密閉すると、基板１１及びスリット１４、
１５の開口は偏平な空間４６によって覆われる。
【００１７】次に、モーター２８を起動してテーブル１
２を定速度で回転すると共に紫外線ランプ２０を点灯し
、オゾン供給源５２から供給側のオゾン溜４２にオゾン
ガスを供給すると、オゾンガスはオゾン供給用スリット
１４を通って偏平な空間４６内に吹き出し、基板１１の
上面に沿ってオゾン排出用スリット１５に向って矢印ａ
方向に向って流れ、紫外線ランプ２０から照射された遠
紫外線と共同して基板上面のレジスト（図示せず）を光
化学的に酸化分解し、更に排出側のオゾン溜４３を通っ
て外部に排出される。
【００１８】供給側のオゾン溜４２によって均圧された
オゾンガスがスリット１４から吹き出し、またスリット
１４、１５がテーブル１２を挟んでその両側に配置され
ているので、偏平な空間４６内のオゾンの流れ（矢印ａ
）はスリット１４、１５の長さ方向に均等に分布してい
る。従ってホトレジストの光灰化反応が均一に進行する
。またホトレジストの表面から剥離したオゾンガスの流
れは凹所４５の天井に衝突したのち再び降下して酸化分
解作用に関与するのでオゾンの利用度が向上し、オゾン
の消費量を節減することができる。
【００１９】本発明の第２の実施例を図３に示す。この
実施例はアッシング上蓋１８に凹部を設ける代りに、ア
ッシング台１６の上面に同形の凹所４５ａを設け、アッ
シング上蓋１８の下面を平坦に形成したもので、それ以
外は第１の実施例と変わるところはない。
【００２０】本発明の第３の実施例を図４に示す。この
実施例はアッシング台１６又はアッシング上蓋１８に凹
所を設ける代りに、アッシング台１６とアッシング上蓋
１８間のシール装置３８ａ、３８ａの形状及び断面の高
さ等を増大させてアッシング台１６とアッシング上蓋１
８間に偏平な空間４６ａを形成したもので、それ以外は
第１の実施例と変わるところはない。
【００２１】尚、本発明は前述の実施例にのみ限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々
の変更を加え得ることは勿論である。
【００２２】
【発明の効果】以上に述べたように本発明は次の優れた
効果を発揮する。 （１）　　テーブルを挟んでその両側にオゾン提供用ス
リット及びオゾン排出用スリットを配置し、各スリット
の開口及びテーブル上面を偏平な空間で覆うようにした
ので、テーブル上に載置した基板上面のホトレジストに
対しその全面に渡って光化学的酸化分解反応を均一に起
こさせることが可能になり、処理時間の短縮とオゾン消
費量の節減を図ることができる。 （２）　　スリットのオゾン供給側にオゾン溜を配置す
ることによって、偏平な空間内のオゾンの流れを更に平
均化することが可能になり、酸化分解反応を均一に起こ
させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例である光灰化装置の切断側面
図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ方向からの矢視図である。
【図３】本発明の第２の実施例である光灰化装置の部分
を示す切断側面図（この図は横長に図示されている）で
ある。
【図４】本発明の第３の実施例である光灰化装置の部分
を示す切断側面図（この図は横長に図示されている）で
ある。
【図５】従来の光灰化装置の切断側面図である。
【図６】図５に示す装置の部分を示す斜視図である。
【図７】従来の別の光灰化装置の切断側面図である。
【図８】図７に示す装置の部分を示す斜視図である。
【図９】図７に示すオゾン供給用ノズルの切断図である
。
【符号の説明】
１１　　基板 １２　　テーブル １３　　平坦な部分 １４　　オゾン供給用スリット １５　　　　　　〃　　　　排出用　　　　〃１６　　
アッシング台 １８　　アッシング上蓋 １９　　箱体 ２０　　紫外線ランプ ２１　　窓板 ４２、４３　　オゾン溜 ４６、４６ａ　　偏平な空間

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　基板上面に施したホトレジストを紫外
    線とオゾンを利用して光化学的に酸化分解するホトレジ
    ストの光灰化装置において、基板を載置して水平面内で
    回転する円形のテーブルと、前記テーブルの周縁部に近
    接してテーブルを取り囲み且つテーブル上面とほぼ同じ
    レベルにある平らな部分にオゾン供給用スリット及びオ
    ゾン排出用スリットをそれぞれ開口させたアッシング台
    と、前記アッシング台の上部を密閉及び開放し得るよう
    にアッシング台に取り付けられ且つ上部に設けた箱体の
    内部に紫外線ランプを、更に前記紫外線ランプの直下に
    透明な窓板を装着したアッシング上蓋とを備え、各スリ
    ットの開口は前記テーブルを挟んでその両側に配設され
    ており、前記アッシング上蓋が密閉位置にあるときに、
    前記アッシング台とアッシング上蓋間に偏平な空間が形
    成され且つ前記偏平な空間が前記テーブルの上面及び各
    スリットの開口を覆っていることを特徴とするホトレジ
    ストの光灰化装置。
  2. 【請求項２】　　オゾン供給用スリットの入口側にオゾ
    ン溜が設けてある請求項１に記載のホトレジストの光灰
    化装置。
JP2418605A 1990-12-27 1990-12-27 ホトレジストの光灰化装置 Pending JPH04230018A (ja)

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