JPH0422961A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

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Publication number
JPH0422961A
JPH0422961A JP12678290A JP12678290A JPH0422961A JP H0422961 A JPH0422961 A JP H0422961A JP 12678290 A JP12678290 A JP 12678290A JP 12678290 A JP12678290 A JP 12678290A JP H0422961 A JPH0422961 A JP H0422961A
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JP
Japan
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group
resin
weight
binder resin
formula
Prior art date
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JP12678290A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0422961A publication Critical patent/JPH0422961A/en
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Abstract

PURPOSE:To maintain stable and good electrostatic characteristics and to obtain sharp and good-quality images by incorporating a specified binder resin, a thermo-and/or photo-setting resin, and a cross-linking agent. CONSTITUTION:The electrophotographic sensitive body has a photoconductive layer comprising at least an inorganic photoconductor and a binder resin composed of the cross-linking agent and the binder resin A having a weight average molecular weight of 1X10<3>-2X10<4> and at least repeating units each having an acid group, such as -PO3H2, -COOH, -SO3H, phenolic -OH, or a cyclic acid anhydride group, and the thermo-or photo-setting binder resin B having repeating units each represented by formula I, R1 being a hydrocarbon group, thus permitting the obtained image to be superior in electrostatic characteristics and of sharp and good image quality.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性、耐
湿性及び耐久性の優れた電子写真感光体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, and more particularly to an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic properties, moisture resistance, and durability.

(従来の技術) 電子写真感光体には所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応じて種々の構成を
とる。
(Prior Art) Electrophotographic photoreceptors have various configurations in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process to which they are applied.

電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。支持体と少なくと
も1層の光導電層から構成される感光体は、最も一般的
な電子写真プロセスによる、即ち、帯電、画像露光及び
現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用いられ
る。
As representative electrophotographic photoreceptors, there are photoreceptors having a photoconductive layer formed on a support and photoreceptors having an insulating layer on the surface, which are widely used. Photoreceptors comprising a support and at least one photoconductive layer are used for image formation by most common electrophotographic processes, ie, charging, image exposure and development, and optionally transfer.

更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。
Furthermore, a method of using an electrophotographic photoreceptor as an offset original plate for direct plate making is widely used.

電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
合剤は、それ自体の成膜性および光i電性粉末の結合剤
中への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少く、且つ、撮像時の湿度の変化
によってこれろ特性を安定に保持していることが必要で
ある等の各種の#%電特性および優れた撮像性を具備す
る必要がある。
The binder used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film-forming properties and dispersibility of the photo-iconductive powder into the binder, and also has excellent properties in the formation of the recording layer formed. It has good adhesion to the substrate, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, has low dark decay, large light decay, and low pre-exposure fatigue, and can be easily affected by changes in humidity during imaging. It is necessary to have various electrical properties such as stable filter properties and excellent imaging properties.

更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印si+原版としての印刷特性を両立させた光導電層
用の結着樹脂が必要である。
Furthermore, research is being carried out on lithographic printing original plates using electrophotographic photoreceptors, and a binder for the photoconductive layer that has both the electrostatic properties of an electrophotographic photoreceptor and the printing characteristics of an Si + original plate has been developed. Requires resin.

しかしながら、従来公知の樹脂においては、特に帯電性
、暗電荷保持性、光怒度の静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があり、実用上満足できるものではなか
った。
However, conventionally known resins have many problems, particularly in chargeability, dark charge retention, electrostatic properties of light intensity, smoothness of the photoconductive layer, etc., and are not practically satisfactory.

又、電子写真式平版印刷用原版として開発されたとする
結着樹脂においても、現実に評価してみると前記の静電
特性、印刷物の地汚れ等に問題があった。
Furthermore, even in the case of a binder resin which is said to have been developed as an original plate for electrophotographic lithographic printing, when actually evaluated, there were problems with the above-mentioned electrostatic properties, scumming of printed matter, etc.

更に、これらの問題点を解決するために、結着樹脂とし
て酸性基を重合体の側鎖に含有する共重合成分を0.0
5〜10重量%含有する低分子量の樹脂(編lO3〜1
0′)を用いる又は酸性基を重合体主鎖の片末端にのみ
結合して成る低分子量の樹脂C〜103〜104)を用
いることにより、光導電層の平滑性及び静電特性を良好
にし、しかも地汚れのない画質を得ることが特開昭63
−217354号、同6470761号および特開平2
−67563号にそれぞれ記載されている。
Furthermore, in order to solve these problems, a copolymer component containing an acidic group in the side chain of the polymer was used as a binder resin.
Low molecular weight resin containing 5-10% by weight (edited lO3-1
0') or a low molecular weight resin C~103~104) in which an acidic group is bonded only to one end of the polymer main chain, the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer can be improved. , and to obtain image quality without background smearing
-217354, 6470761 and JP-A-2
-67563, respectively.

また結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有し
、又は、重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又は
光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平1〜100554号、特願昭63−3
9690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は
重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技
術が特開平1−102573号、同2−874号にそれ
ぞれ開示され、更に前記低分子量の樹脂(重量平均分子
量103〜10“)を高分子量(重量平均分子量lO“
以上)の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭64−56
4号、同63−220149号、同63−220148
号、特開平1−280761号、同1−116643号
及び同1−169455号に、かかる低分子量体を熱及
び/又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術が特開平1
−211766号及び同2−34859号に、かかる低
分子量体をクシ型ポリマーと組合せて用いる技術が特開
平2〜53064号、同2−56558号及び特願昭6
3254786号にそれぞれ開示されている。これらの
技術により、側鎖又は末端に酸性基を含有する樹脂を用
いたことによる上記特性を阻害せずにさらに光導電層の
膜強度を充分ならしめ、機械的強度が増大されることが
記載されている。
Also, as a binder resin, a resin containing an acidic group in the side chain of the copolymer or a polymeric component bonded to the end of the main chain of the polymer and containing a heat- and/or photo-curable functional group. Techniques using
9690, and JP-A-1-102573 and JP-A-2-874 disclose a technique of using a resin containing an acidic group in the side chain of the copolymer or bonding to the end of the main chain of the polymer in combination with a crosslinking agent. Furthermore, the low molecular weight resin (weight average molecular weight 103 to 10") is mixed with a high molecular weight resin (weight average molecular weight lO").
The technology used in combination with the above resins was disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 64-56.
No. 4, No. 63-220149, No. 63-220148
JP-A-1-280761, JP-A-1-116643 and JP-A-1-169455 disclose the technique of using such low molecular weight substances in combination with heat and/or photo-curable resins.
JP-A-211766 and JP-A-2-34859 disclose techniques for using such low molecular weight substances in combination with comb-shaped polymers.
No. 3,254,786, respectively. It is stated that by these techniques, the film strength of the photoconductive layer can be made sufficient and the mechanical strength can be increased without impeding the above-mentioned properties due to the use of a resin containing an acidic group at the side chain or terminal end. has been done.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温・
高温から低温・低湿まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対
して、より高い性能が要求される。
(Problem to be solved by the invention) However, even when these resins are used, the environment is high temperature and
It has been found that it is still insufficient to maintain stable performance when the temperature fluctuates significantly from high temperature to low temperature and low humidity. In particular, scanning exposure methods using semiconductor laser light require longer exposure times than conventional simultaneous exposure methods using visible light across the entire surface, and there are restrictions on exposure intensity. , higher performance is required in terms of photosensitivity.

本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する課
題を改良するものである。
The present invention is intended to improve the problems of conventional electrophotographic photoreceptors as described above.

本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電気特性を維持し、鮮明で良質な画像を存する電子写
真感光体を提供することである。
An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that stably maintains good electrostatic properties and produces clear, high-quality images even when the environment during copy image formation fluctuates, such as low temperature and low humidity, or high temperature and high humidity. It is to be.

本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいcpc電子電子写真体光体供することである。
Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic material having excellent electrostatic properties and low environmental dependence.

本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that is effective in a scanning exposure method using semiconductor laser light.

本発明の他の目的は、電子写真式平版印刷原版として、
静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
−様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐剛性の優れた平版印刷原版を提供することである
Another object of the present invention is to provide an original plate for electrophotographic planographic printing.
It has excellent electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity), reproduces copied images that are faithful to the original, and does not cause not only full-surface stains on printed materials but also spot-like background stains. ,
Another object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate having excellent rigidity resistance.

(課題を解決するための手段) 上記目的は無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含有
する光導電層を有する電子写真感光体において、該結着
樹脂が、下記で表わされる結着樹脂[A]の少なくとも
1種と熱及び/又は光硬化性樹脂〔B〕及び架橋剤のう
ちの少なくともいずれか1種とを含有することを特徴と
する電子写真感光体により達成されることが見出された
(Means for Solving the Problems) The above object is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor and a binder resin, wherein the binder resin is a binder resin [A ], and at least one of a heat and/or photocurable resin [B] and a crosslinking agent. Ta.

結着樹脂〔A〕 IXIO’〜2X10’の平均分子量を有し、−PO3
Hz基、−COOH基、−5OzH基、フェノール性O
R基、炭化水素基を示す)を示す)及び環状酸無水物含
有基から選択される少なくとも1つの酸性基を含有する
少なくとも1つの重合体成分から成るAブロックと下記
一般式(1)で示される重合体成分を少なくとも含有す
るBブロックとから構成されるAB型ブロック共重合体
を含有して成る事を特徴とする電子写真感光体によって
達成される。
Binder resin [A] has an average molecular weight of IXIO' to 2X10', -PO3
Hz group, -COOH group, -5OzH group, phenolic O
An A block consisting of at least one polymer component containing at least one acidic group selected from R group, a hydrocarbon group) and a cyclic acid anhydride-containing group, and an A block represented by the following general formula (1). This is achieved by an electrophotographic photoreceptor characterized by containing an AB type block copolymer constituted by a B block containing at least a polymer component.

一般式(T )       CH。General formula (T) CH.

−fl−C)12−C−チー COO−R (弐N)中、R1ば炭化水素基を表わす。)即ち、本発
明に用いられる結着樹脂は、上記の如き特定の酸性基(
以下特にことわらない限り酸性基の中に環状酸無水吻合
を基を含むこととする)を含有する成分とメタクリレー
ト成分を含有する成分とをそれぞれブロック成分として
構成するブロック共重合体樹脂〔A〕と、熱及び/又は
光硬化性樹脂rB)及び架橋剤のうちの少なくともいず
れか1種とを含有して成る場合に、得られる感光体の電
子写真特性や機械的強度(印刷版として用いたときには
耐刷性)が向上することが判った。
-fl-C)12-C-COO-R In (2N), R1 represents a hydrocarbon group. ) That is, the binder resin used in the present invention contains specific acidic groups (
Block copolymer resin [A] comprising a component containing a cyclic acid anhydride anastomosis group (unless otherwise specified in the acidic group) and a component containing a methacrylate component, respectively. and at least one of a heat and/or photocurable resin (rB) and a crosslinking agent, the electrophotographic properties and mechanical strength of the resulting photoreceptor (when used as a printing plate) In some cases, it was found that the printing durability (printing durability) was improved.

本発明に用いられる樹脂〔A〕は、AB型ブロック共重
合体であり、Aブロックは、前記した特定の酸性基から
選ばれる少なくとも1種を含有する少なくとも1つの重
合成分から構成され、Bブロックは、式(1)で示され
るメタクリレート成分を少なくとも1種含有する重合体
成分を含をすることから成り、且つ重量平均分子量がl
Xl0’〜2×10″である事を特徴とする。
The resin [A] used in the present invention is an AB type block copolymer, the A block is composed of at least one polymeric component containing at least one kind selected from the above-mentioned specific acidic groups, and the B block comprises a polymer component containing at least one methacrylate component represented by formula (1), and has a weight average molecular weight of l.
It is characterized by being Xl0' to 2×10''.

前述の光導電層の平滑性及び静電特性を良化させるとし
て公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用いる
ものは、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに
存在する樹脂あるいは、重合体主鎖の片末端二このみ酸
性基を結合して成る樹脂であった。
Among the acidic group-containing binder resins known to improve the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer, those using low molecular weight polymers have acidic group-containing polymeric components randomly present in the polymer main chain. It was a resin made by bonding two acidic groups at one end of a polymer main chain.

これに対し、本発明の結着樹脂で用いられる樹脂iA]
は、樹脂中に含有される酸性基が重合体主鎖ウニこラン
ダムに存在するものでも重合体主鎖の末端にのみ結合し
ているものでもなく、重合体主鎖中にブロフクで存在す
る様に、更に特定化された共重合体である。
On the other hand, the resin iA used in the binder resin of the present invention]
This means that the acidic groups contained in the resin do not exist randomly in the polymer main chain or are bonded only to the ends of the polymer main chain, but rather exist in blocks within the polymer main chain. This is a more specific copolymer.

本発明に従う共重合体CA)は、重合体の主鎖のいずれ
か一方の片側部分Qこ偏在化された酸性基の部分の領域
が無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に吸着すると
ともに、重合体主鎖を構成する他のブロック部分(Bブ
ロック部分)は、光導電体の表面をゆるやかに且つ充分
に被覆しでいると推定される。その作用機構により、本
発明に従う共重合体は無機光導電体の化学量論的な欠陥
部が多少変動しても、充分な吸着領域をもつ事から常に
安定した無機光導電体と樹脂〔A;・との相互作用が保
たれると推論され、本発明に従えば従来公知の酸性基含
有樹脂に比べて一段と良好Oこ光導電体のトラップを充
分に補償すると共に湿度特性を向上させる一方、光導電
体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制するとともに、
高温・高温から低温・低湿まで環境変化が著しく変動し
でも安定した高性能の電子写真特性を維持することが判
った。そして熱及び/又は光硬化性樹脂CB)及び/又
は架橋剤は、樹脂〔A〕を用いたことによる上記電子写
真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂[A)のみでは
不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるもので
ある。特に半導体レーザーを用いたスキャニング露光方
式を用いる場合にを効である。また、光導電層表面の平
滑性が更に向上する。電子写真式平版印刷原版として光
導電層表面の平滑性の粗らい感光体を用いると、光導電
体である酸化亜鉛粒子と結着樹脂の分散状態が適切でな
く、凝集物が存在する状態で光導電層が形成されるため
、下体脂化処理液による下体脂化処理をしても非画像部
の親水化が均一に充分に行なわれず、印刷時に印刷イン
キの付着を引き起こし、結果として印刷物の非画像部の
地汚れが生してしまう。
In the copolymer CA) according to the present invention, the region of the unevenly distributed acidic group on one side of the main chain of the polymer (Q) sufficiently adsorbs the stoichiometric defects of the inorganic photoconductor. At the same time, it is presumed that the other block portion (B block portion) constituting the polymer main chain loosely and sufficiently covers the surface of the photoconductor. Due to its mechanism of action, the copolymer according to the present invention always has a stable inorganic photoconductor and resin [A It is inferred that the interaction between , the photoconductor is sufficiently dispersed to suppress agglomeration, and
It has been found that stable, high-performance electrophotographic properties can be maintained even under significant environmental changes, from high temperatures and high temperatures to low temperatures and low humidity. The heat and/or photocurable resin CB) and/or the crosslinking agent do not impede the high performance of the electrophotographic properties mentioned above due to the use of the resin [A], and the resin [A] alone is insufficient. This ensures sufficient mechanical strength of the photoconductive layer. This is particularly effective when using a scanning exposure method using a semiconductor laser. Moreover, the smoothness of the surface of the photoconductive layer is further improved. When a photoreceptor with a rough photoconductive layer surface is used as an electrophotographic lithographic printing original plate, the dispersion state of the zinc oxide particles that are the photoconductor and the binder resin is not appropriate, and aggregates may be present. Because a photoconductive layer is formed, even if the lower body fatening treatment is performed using a lower body fatening treatment liquid, the non-image areas are not made uniformly and sufficiently hydrophilic, causing printing ink to adhere during printing, and as a result, the printed matter deteriorates. Background stains occur in non-image areas.

本発明の樹脂を用いた場合無機光導電体と結着樹脂の吸
着・被覆の相互作用が適切に行われ、且つ光導電層の膜
強度が保持されるものである。
When the resin of the present invention is used, the adsorption/covering interaction between the inorganic photoconductor and the binder resin is properly performed, and the film strength of the photoconductive layer is maintained.

更に酸性基を重合体主鎖に連結する側鎖に含有するラン
ダム共重合体樹脂に比べて光感度が良好であることが判
った。
Furthermore, it was found that the photosensitivity was better than that of a random copolymer resin containing an acidic group in the side chain connecting to the main chain of the polymer.

通常可視光〜赤外光域Sこ光感度を保有させるために用
いる分光増悪色素は、光導電体に吸着することでその分
光増感作用が充分機能するものであることから、本発明
の共重合体を含有する結着樹脂は、分光増感色素の吸着
を阻害しないで光導電体と適切に相互作用するものと推
定される。この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色
素とじて特に有効なンアニン色素あるいはフタロシアニ
ン系顔料で特に顕著な効果を示した。
The spectral enhancing dye, which is normally used to maintain photosensitivity in the visible to infrared light range, has a sufficient spectral sensitizing effect when adsorbed to the photoconductor. It is assumed that the polymer-containing binder resin interacts appropriately with the photoconductor without inhibiting adsorption of the spectral sensitizing dye. This effect was particularly remarkable in the case of anine dyes or phthalocyanine pigments, which are particularly effective as dyes for spectral sensitization of near-infrared to infrared light.

本発明における低分子量体の樹脂〔A〕のみを結着樹脂
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性においても良好で、しかも地汚れのない画質
が得みれ、更に、CPC感光体あるいは数十枚の印刷枚
数のオフセット原版としては充分な膜強度が保をされる
。しかし、ここで本発明の如く樹脂[B]及び/又は架
橋剤を共存させることで、樹脂F A )の機能を何ら
疎外することなく樹脂〔A〕のみではいまだ不充分な光
導電層の機械的強度をより向上させることができた。従
って、本発明の感光体は、環境条件が変動しても優れた
静電特性を有し且つ、膜強度も充分であり、過酷な印刷
条件下(例えば大型印刷機で印圧が強くなる場合など)
でも最低6000枚の印刷枚数が可能となった。
Even when only the low molecular weight resin [A] in the present invention is used as the binder resin, the photoconductor and the binder resin can sufficiently adsorb and coat the particle surface, which improves the smoothness of the photoconductive layer. It has good electrostatic properties and provides image quality without background smearing, and also maintains sufficient film strength for use as a CPC photoreceptor or as an offset original plate for printing several tens of sheets. However, by coexisting the resin [B] and/or the crosslinking agent as in the present invention, the function of the resin F A ) is not impaired in any way, and the mechanical properties of the photoconductive layer, which are still insufficient with the resin [A] alone, can be improved. We were able to further improve the target strength. Therefore, the photoreceptor of the present invention has excellent electrostatic properties even under fluctuating environmental conditions, and has sufficient film strength. Such)
However, it is now possible to print at least 6,000 sheets.

ブロック共重合体〔A〕における、特定の酸性基含有樹
脂の重合体成分量は、共重合体CC100重量部当り好
ましくは0.5〜20重量部、より好ましくは3〜15
重量部の割合で含有される。
The polymer component amount of the specific acidic group-containing resin in the block copolymer [A] is preferably 0.5 to 20 parts by weight, more preferably 3 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of the copolymer CC.
Contained in parts by weight.

一般式([)で示されるメタクリレート成分を含有する
ブロック部分(Bブロック)における式(1)で示され
るメタクリレート成分量は、そのブロック全重量中、好
ましくは30重量%〜100重量%、より好ましくは5
0〜100重量%である。共重合体[A)の重量平均分
子量はlXl0’〜2×104、好ましくは3×103
〜lXl0’である。
The amount of the methacrylate component represented by formula (1) in the block portion (B block) containing the methacrylate component represented by general formula ([) is preferably 30% to 100% by weight, more preferably 30% to 100% by weight based on the total weight of the block. is 5
It is 0 to 100% by weight. The weight average molecular weight of the copolymer [A) is lXl0' to 2 x 104, preferably 3 x 103
~lXl0'.

樹脂〔A〕の分子量がlXl0’より小さくなると、皮
膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、また分子量が
2X10’より大きくなると本発明の樹脂〔A〕の効果
が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の電子特性にな
ってしまう。
When the molecular weight of the resin [A] is smaller than 1X10', the film forming ability decreases and sufficient film strength cannot be maintained, and when the molecular weight is larger than 2X10', the effect of the resin [A] of the present invention decreases, The electronic properties are comparable to those of known resins.

結着樹脂〔A〕における酸性基含有量が0.5重量%よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができず、該酸性基含有量が20重量%よりも多いと
、分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高温特
性が低下し、更にオフセットマスターとして用いるとき
に地汚れが増大するため、好ましくない。
If the acidic group content in the binder resin [A] is less than 0.5% by weight, the initial potential will be low and sufficient image density cannot be obtained; if the acidic group content is more than 20% by weight, This is not preferable because the dispersibility is lowered, the film smoothness and the high-temperature electrophotographic properties are lowered, and furthermore, when used as an offset master, background smudge is increased.

該樹脂[A]のガラス転移点は、−10°C〜100°
Cの範囲のものが好ましいが、より好ましくは5°C〜
85°Cである。
The glass transition point of the resin [A] is -10°C to 100°
C range is preferred, more preferably 5°C to
It is 85°C.

本発明のAB型ブロック共重合体(樹脂〔A))のAブ
ロックを構成する特定の酸性基を含有する重合成分につ
いて、更に具体的に説明する。
The polymerization component containing a specific acidic group constituting the A block of the AB type block copolymer (resin [A)) of the present invention will be explained in more detail.

酸性基としては、−PO2)12基、−COO)H基、
−3O,H基、フェノール性0)1基、−P−OH基(
Rは炭化水素基又は−OR’基(R’は炭化水素基)を
示す)及び環状酸無水物含有基が挙げられ、好ましくは
、−C00)1基、−5031(基、フェノール性OH
基、及びP−OH基である。
As acidic groups, -PO2)12 groups, -COO)H groups,
-3O,H group, 1 phenolic 0) group, -P-OH group (
R represents a hydrocarbon group or -OR' group (R' is a hydrocarbon group) and a cyclic acid anhydride-containing group, preferably -C00)1 group, -5031 (group, phenolic OH
group, and P-OH group.

基(R’ は炭化水素基を表わす) を表わし、 R及 びR′は好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(例えば
、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、2−クロロエチル基、2メトキソエチル基、3−
エトキシプロピル基、71Jル基、クロトニル基、ブテ
ニル基、シクロヘキシル基、ヘンシル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、メチルベンジル基、クロロ
ヘンシル基、フロロベンジル基、メトキシヘンシル基等
)、又は置換されてもよいアリール基(例えば、フェニ
ル基、トリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル
基、クロロフェニル基、フロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェニ
ル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、アセト
アミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキシフェ
ニル基等)等を表わす。
group (R' represents a hydrocarbon group), and R and R' are preferably aliphatic groups having 1 to 22 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group). , decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2methoxoethyl group, 3-
ethoxypropyl group, 71J group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, hensyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorohensyl group, fluorobenzyl group, methoxyhensyl group), or substituted optional aryl groups (e.g., phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group) , acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.).

フェノール性OH基としては、ヒドロキシフェノール又
はヒドロキシフェニル基を置換基として含有するメクク
リル酸エステルもしくはアミド類を例として挙げること
ができる。
Examples of the phenolic OH group include meccrylic acid esters or amides containing hydroxyphenol or hydroxyphenyl as a substituent.

また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ノカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
In addition, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic nocarboxylic acid anhydride and aromatic dicarboxylic acid anhydride. It will be done.

脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンクン−1,2−ジカルボン酸無水物環、フクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシク
ロC2,2,2Eオクタンジカルホン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
Examples of aliphatic dicarboxylic anhydrides include succinic anhydride ring, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopencune-1,2-dicarboxylic anhydride ring, and fuclohexane-1,2-dicarboxylic acid ring. Examples include anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, 2,3-bicycloC2,2,2E octanedicarphonic acid anhydride ring, etc. These rings include, for example, chlorine atom, bromine atom halogen atoms such as, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, butyl group, hexyl group, etc. may be substituted.

又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロナ゛ン原子、メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒトロキノル
基、ノア5′基、ニトロ基、アルコキノカルボニル!(
フルコキノ基としては、例えは、メトキ7/基、エトキ
ノ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic anhydrides include phthalic anhydride rings, naphthalene-dicarboxylic anhydride rings, pyridine-dicarboxylic anhydride rings, thiophene-dicarboxylic anhydride rings, etc. For example, halona atoms such as chlorine atom and bromine atom, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, human quinol group, noa 5' group, nitro group, alkokinocarbonyl! (
The flucoquino group may be substituted with, for example, a methoxy group, an ethoquino group, etc.

以」二の如き一特定の酸性基を含有する重合体成分、と
じては、例えば、本発明の樹脂SA〕においてBブロッ
ク成:v’1□を構成する重合体成分、即ち一般式(+
)で示されるメタクリレート成分等の如き相当するビニ
ル系化合物と共重合する、該酸性基を含有するビニル系
化合物であればいずれでも用いることができる。
A polymer component containing a specific acidic group as shown in "2" below, for example, a polymer component constituting the B block composition: v'1
) Any vinyl compound containing an acidic group can be used as long as it copolymerizes with a corresponding vinyl compound such as a methacrylate component shown in (a) and the like.

例えば、高分子学会編゛高分子データ・ハントブ、ツク
:基礎属]、培風館(1986刊)等に記載されている
ビニル系化合物を用いることができ、具体的シこは、ア
クリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例えばα−
ア七[キン体、α−アセトキ5メメチル体、α−(2−
アミノ)メチル体、αクロロ体、α−ブロモ体、α−フ
ロロ体、α−トリブチルノリル体、α−ノアノ体、β−
クロロ体、β−プロ七体、α−クロロ−β−メトキン体
、αβ−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、
イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、クロ
トン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペン
テン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸
、4−メチル−2−ヘキセン酸、71=エチル−2−オ
クテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、
マレイン酸半アミド類、ビニルヘンゼンカルボン酸、ビ
ニルヘンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホ
スホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エ
ステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸
のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該酸性基
を含有する化合物が挙げられる。
For example, it is possible to use vinyl compounds described in the Polymer Data Society of Japan (edited by Handbu, Tsuku: Basic Genus), Baifukan (published in 1986), and specific examples include acrylic acid, α and / or β-substituted acrylic acid (e.g. α-
A-7
amino) methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylnoryl form, α-noano form, β-
chloro form, β-propepta form, α-chloro-β-methquine form, αβ-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid,
itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 71=ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters,
half-ester derivatives of vinyl or allyl groups of maleic acid half-amides, vinyl hanzene carboxylic acid, vinyl hanzene sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, vinyl phosphonic acid, dicarboxylic acids, and ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids; Examples include compounds containing the acidic group in a substituent of an amide derivative.

これらの化合物の具体例として以下のものを挙げること
ができる。但し、以下の各個において、aは−H,−C
1,、−CL −Br 、−CN−1−CLCOOCH
i又は−CLCOOIIを示し、bは−H又は−CHj
を示し、nは2〜18の整数を示し、mは1〜12の整
数を示し、fは1〜4の整数を示す。
Specific examples of these compounds include the following. However, in each of the following, a is -H, -C
1,, -CL -Br , -CN-1-CLCOOCH
i or -CLCOOII, b is -H or -CHj
, n represents an integer of 2 to 18, m represents an integer of 1 to 12, and f represents an integer of 1 to 4.

(a ■) CHづ 0OH (a 1“。(a ■) CHzu 0OH (a 1".

CH= CH 0OH (a CHづ C00(CHz)ncOOH (a CH2=C C0NH(CHz)ncOOH (a CHz COO(CHz)nC00(CHz)noGO(CH z) CH2=C C0NH(CHz)nOcO(CHz)s+cOOH(
a CH2=C C0NHCOO(CHz)ncOOll(a CH,=C CONtlCONH(CHz)ncOOH(a−11) CONHCH CB、C00H (a 〒 (a−14) 〒 (mは同じでも異なってもよし)) (a CH。
CH= CH 0OH (a CHzuC00(CHz)ncOOH (a CH2=C C0NH(CHz)ncOOH (a CHz COO(CHz)nC00(CHz)noGO(CH z) CH2=C C0NH(CHz)nOcO(CH z) s+cOOH(
a CH2=C C0NHCOO(CHz)ncOOll(a CH,=C CONtlCONH(CHz)ncOOH(a-11) CONHCH CB, C00H (a 〒 (a-14) 〒 (m may be the same or different)) ( a CH.

C)I CHzOCO(CHz)mcOOH (a CHz ”” CH+C82¥−COOI+(a (a CH2=C Coo (CHz) n0cOH= CHC00)I(
a−19) (a−20) (a−21) (a−22) (a−23) 〒 〒 H (a (a 〒 (a−26) (a−27) H H H (a 2日) (a (a−30) CH,=C C=CC00(CHz):+1I (a φ (a−32) (a (a−34) (a−35) (a−36) (a C00(CHz)z C0N(CHzCHzCOOH)
 z(a So、)I (a (a oon (a−41) lh CH (a−42) (a−43) (a−44) CHz=CH CH (a 上記の如き特定の酸性基を含有する重合成分ばAブロッ
ク中に2種以上含有されていてもよく、その場合におけ
る該2種以上の酸性基含有成分はAブロック中において
ランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含
有されていてもよい。
C) I CHzOCO(CHz)mcOOH (a CHz ”” CH+C82¥-COOI+(a (a CH2=C Coo (CHz) n0cOH= CHC00)I(
a-19) (a-20) (a-21) (a-22) (a-23) 〒 〒 H (a (a 〒 (a-26) (a-27) H H H (a 2 days) (a (a-30) CH,=C C=CC00(CHz):+1I (a φ (a-32) (a (a-34) (a-35) (a-36) (a C00(CHz) z C0N (CHzCHzCOOH)
z(a So,)I (a (a oon (a-41) lh CH (a-42) (a-43) (a-44) CHz=CH CH (a Containing a specific acidic group as above Two or more types of polymerization components may be contained in the A block, and in this case, the two or more types of acidic group-containing components are contained in the A block in either random copolymerization or block copolymerization. Good too.

また、該酸性基を含有しない成分がAブロック中に含ま
れていてもよく、該成分の例としては前記一般弐H)又
は後記一般式(ff)で示される成分等があげられる。
Further, a component that does not contain the acidic group may be included in the A block, and examples of the component include the components represented by the above-mentioned general formula (2H) or the general formula (ff) described below.

かかる酸性基非含有成分の含有量はAブロンク中好まし
くは0〜50重量%、より好ましくは0〜20重量%で
あり、最も好ましくは、かかる酸性基非含有成分はAプ
ロ、り中に含まれない。
The content of such an acidic group-free component is preferably 0 to 50% by weight, more preferably 0 to 20% by weight in the A Bronc, and most preferably, the acidic group-free component is contained in the A Bronc. Not possible.

次にAB型ブロック共重合体(樹脂〔A〕)において、
Bブロック成分を構成する重合成分について詳しく説明
する。
Next, in the AB type block copolymer (resin [A]),
The polymerization components constituting the B block component will be explained in detail.

Bブロック成分は、少なくとも一般式(1)で示される
メタクリレート成分を含有し、該式(r)のメタクリレ
ート成分は好ましくはBブロック成分中、30〜100
重量%、より好ましくは50〜100重量%含有される
The B block component contains at least a methacrylate component represented by the general formula (1), and the methacrylate component of the formula (r) preferably accounts for 30 to 100% of the B block component.
It is contained in an amount of 50 to 100% by weight, preferably 50 to 100% by weight.

一般式(1)で示される繰り返し単位において、R1の
炭化水素基は置換されていてもよい。
In the repeating unit represented by general formula (1), the hydrocarbon group of R1 may be substituted.

R1は好ましくは炭素数1〜18の置換されていてもよ
い炭化水素基を表わす。置換基としては上記AB型ブロ
ック共重合体のAブロックを構成する重合成分に含有さ
れる前記酸性基以外の置換基であればいずれでもよく、
例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子
、臭素原子等)、0−Zl、−COO−Zl、 0CO
−Zl (Zlは、炭素数1〜22のアルキル基を表わ
し、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘ
キサデシル基、オクタデシル基等である)等の置換基が
挙げられる。好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜
工8の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−ブ
ロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカル
ボニルエチル基、2メトキシエチル基、3−ブロモプロ
ピル基等)、炭素数4〜18の置換されてもよいアルケ
ニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2ブ
テニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2ペンテニ
ル基、1−ペンテニル基、■−へキセニル基、2−へキ
セニル基、4−メチル−2−へキセニル基等)、炭素数
7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベ
ンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナ
フチルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジ
ル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベ
ンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、
ジメトキシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されて
もよい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シク
ロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基等)
又は炭素数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例え
ば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、
プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェ
ニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エ
トキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシ
フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、
ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニ
ル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニ
ルフェニル基、フトキシカルボニルフェニル基、アセト
アミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドブシ
ロイルアミドフェニル基等)等があげられる。
R1 preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. The substituent may be any substituent other than the acidic group contained in the polymerization component constituting the A block of the AB type block copolymer,
For example, halogen atoms (e.g., fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, etc.), 0-Zl, -COO-Zl, 0CO
-Zl (Zl represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, etc. ), and other substituents. A preferable hydrocarbon group has 1 to 1 carbon atoms.
An optionally substituted alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group) , 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-methyl -1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2pentenyl group, 1-pentenyl group, ■-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc. ), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group) group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group,
dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.)
or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group,
propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group,
bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylethyl group, ethoxycarbonylphenyl group, phthoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dobcyroylamidophenyl group, etc.). .

R+の炭化水素基において、It、が脂肪族基の場合に
は好ましくは、炭素数1〜5の炭化水素基を式(1)で
表わされる成分中の60重量%以上含有することが好ま
しい。
In the hydrocarbon group R+, when It is an aliphatic group, it is preferable that the component represented by formula (1) contains 60% by weight or more of a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.

更に、該樹脂〔A〕において、Bブロック成分を構成す
る一般式(1)で示される繰り返し単位の一部又は全部
が下記一般式(Ia)及び/又は(I b)で示される
繰り返し単位であることが好ましい。従ってBブロック
成分中下記一般式(Ia)及びN b)から選択される
少なくとも1つの繰り返し単位が該他のブロック中30
重量%以上、 特に50〜100重量%含有されることが好ましい。
Furthermore, in the resin [A], some or all of the repeating units represented by the general formula (1) constituting the B block component are repeating units represented by the following general formula (Ia) and/or (Ib). It is preferable that there be. Therefore, at least one repeating unit selected from the following general formulas (Ia) and Nb) in the B block component is 30 in the other block.
It is preferably contained in an amount of 50 to 100% by weight or more, particularly 50 to 100% by weight.

一般式(Ia) CI+3 一般式(I b) Hj −←Cl!−C→− 〔式(Ia)又は(I b)中、X、及びx2ハ互イニ
独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜10の炭化水素
基、塩素原子、臭素原子−COZ!又は−COOZz(
22は各々炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表わ
す。但し、xlと×2がともに水素原子を表わすことは
ない。
General formula (Ia) CI+3 General formula (I b) Hj −←Cl! -C→- [In formula (Ia) or (Ib), X and x2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom -COZ! or -COOZz(
22 each represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. However, both xl and x2 do not represent hydrogen atoms.

Ll及びL!はそれぞれ一〇〇〇−とベンゼン環を結合
する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす
。] 該式(Ia)及び/又は(Ib)で示される繰り返し単
位を酸性基を含有しないBブロンク中に含有させること
により、より一層電子写真特性(特にν1゜、D、R,
R−El/IQ )の向上が達成できる。
Ll and L! each represents a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects 1000- and a benzene ring. ] By incorporating the repeating unit represented by the formula (Ia) and/or (Ib) into the B bronch that does not contain an acidic group, electrophotographic properties (especially ν1°, D, R,
R-El/IQ) can be improved.

この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メタ
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換基を
有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。
The reason for this is unknown, but one reason is that the effect of the planar benzene ring or naphthalene ring with a substituent at the ortho position, which is the ester component of methacrylate, is due to the effect of the zinc oxide interface in the film. This is thought to be due to proper arrangement of these polymer molecular chains.

式(Ia)において、好ましい×1及び×2としてそれ
ぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好ま
しい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、
炭素数7〜9のアラルキル基(例えばヘンシル基、フェ
ネチル基、3−フェニルプロピル基、クロロベンジル基
、ジクロロベンジル基、ブロモヘンシル基、メチルヘン
シル基、メトキシヘンシル基、り四ローメチルーベンジ
ル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル基
、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロ7、zニル基等)、並びに
−COZz及び−COOZz  (好ましいZ2として
は上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙げる
ことができる)を挙げることができる。但し、Xlとx
2がともに水素原子を表わすことはない。
In formula (Ia), in addition to hydrogen, chlorine, and bromine atoms as preferred x1 and x2, preferred hydrocarbon groups include alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group). group, butyl group, etc.),
Aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (e.g., hensyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromohensyl group, methylhensyl group, methoxyhensyl group, di-4-methyl-benzyl group, etc.) and aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, silyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group,
chlorophenyl group, dichloro7, z-nyl group, etc.), -COZz and -COOZz (preferred examples of Z2 include those described as the above-mentioned preferred hydrocarbon groups). However, Xl and x
Both 2 do not represent a hydrogen atom.

式(Ia)において、L、は−COO−とベンゼン環を
結合する、直接結合又は +CH2+−T−(nlは1
〜3の整数を表わす) 、CHzCHzOCO−1(C
H20)、、2(nzはl又は2の整数を表わす) 、
−C)IZCH20等の如き連結原子数1〜4個の連結
基を表わす。
In formula (Ia), L is a direct bond connecting -COO- and a benzene ring or +CH2+-T- (nl is 1
~3), CHzCHzOCO-1 (C
H20), 2 (nz represents an integer of l or 2),
-C) Represents a linking group having 1 to 4 linking atoms, such as IZCH20.

式(Ib)におけるL2はり、と同一の内容を表わす。It represents the same content as L2 beam in formula (Ib).

本発明の樹脂[A)のBブロックにおいて好ましく用い
られる、式(la)又は([b)で示される繰り返し単
位の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範囲は、
これらに限定されるものではない。
Specific examples of the repeating unit represented by formula (la) or ([b)] that are preferably used in the B block of the resin [A) of the present invention are listed below. However, the scope of the invention is
It is not limited to these.

(b−1) (b−2) (b (b−4) Hx CB。(b-1) (b-2) (b (b-4) Hx C.B.

CHl CHユ (b−5) (b (b−7) (b −8) Hi CI。CHl CH Yu (b-5) (b (b-7) (b-8) Hi C.I.

しl CH3 (b−9) (b (b−11) (b−12) CB。Shil CH3 (b-9) (b (b-11) (b-12) C.B.

CH。CH.

Z CI(3 r し■3 (b (b (b (b−16) uff CH。Z CI(3 r ■3 (b (b (b (b-16) uff CH.

CH。CH.

(b (b (b (b CI(。(b (b (b (b CI(.

しI CI。I C.I.

CI H3 (b−21) (b −22) (b (b−24) Hs CH3 r CH。C.I. H3 (b-21) (b-22) (b (b-24) Hs CH3 r CH.

しI Hs (b (b −26) (b (b−28) CH3 lh CH3 L r b「 に83 (b−29) L (b CH。I Hs (b (b-26) (b (b-28) CH3 lh CH3 L r b" to 83 (b-29) L (b CH.

一←CH,−C→− (b−31) CI(3 (b −32) L (b −33) HI (b −34) CH。1←CH, -C→- (b-31) CI(3 (b-32) L (b-33) HI (b-34) CH.

(b−35) (b CH。(b-35) (b CH.

しLIUt;H3 (b −37) (b −38) (b −39) (b−40) CHコ HI CHツ C1l! しυりしn3 前記の特定の酸性基を含有する重合成分から成るAブロ
ックとは別に構成される該Bブロックにおいて、前記式
(■)(好ましくは(Ia)又は(I b) )で示さ
れる繰り返し単位は2種以上含をされていてもよく、更
にこれら以外の他の重合成分を含有していてもよい、a
l性基を含有しないBブロックにおいて2種以上の重合
成分が含有される場合には、該AB型ブロック共重合成
分は該Bブロック中においてランダム共重合又はブロッ
ク共重合のいずれの態様で含有されていてもよいが、ラ
ンダムに含有されることが好ましい。
LIUt;H3 (b -37) (b -38) (b -39) (b-40) CHKOHI CHTSC1l! In the B block constituted separately from the A block consisting of the polymerization component containing the specific acidic group, the B block is represented by the formula (■) (preferably (Ia) or (I b) ). may contain two or more types of repeating units, and may further contain other polymeric components other than these, a
When two or more types of polymerization components are contained in the B block that does not contain l-character groups, the AB type block copolymerization components are contained in the B block in either random copolymerization or block copolymerization mode. However, it is preferable that they be contained randomly.

前記した式(1)、(Ia)及び/又は(I b)で示
される繰り返し単位から選ばれた重合成分とともにBブ
ロック中に含有され得る他の重合成分は、これらと共重
合する成分であればいずれでもよい。
Other polymeric components that may be contained in the B block together with the polymeric components selected from the repeating units represented by formula (1), (Ia) and/or (Ib) described above may be any component that copolymerizes with these components. Either is fine.

例えば下記一般式(n)で示される繰り返し単位が挙げ
られる。
For example, a repeating unit represented by the following general formula (n) may be mentioned.

一般式(II) a、   a。General formula (II) a, a.

一−七CH−C→− T−R。1-7CH-C→- T-R.

〔式(It)中、Tは−COO−、−0CO−、HL 
h+0CO−。
[In formula (It), T is -COO-, -0CO-, HL
h+0CO-.

R3Rr −+CH1±−zcOo−、−0−.−5(h−、−C
ON−、−5OJ−。
R3Rr −+CH1±-zcOo-, -0-. -5(h-, -C
ON-, -5OJ-.

C0NHCOO−、−CON)ICONH−、又は−〇
−を表わし、”1.lag  は、各々1〜2の整数を
表わし、R1は、式(1)中の1と同一の内容を表わす
、Rzは式(1)中のR1と同一の内容を表わす。
C0NHCOO-, -CON)ICONH-, or -〇-, "1.lag" each represents an integer of 1 to 2, R1 represents the same content as 1 in formula (1), Rz It represents the same content as R1 in formula (1).

a、及びa□は、互いに同じでも異なってもよく、各々
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8の炭
化水素基、−COO−Zz又は炭素数1〜8の炭化水素
基を介したーCoo−Z3 (Zsは炭素数1〜18の
炭化水素基を表わす)を表わす、〕より好ましくは、a
l+ atは、互いに同じでも異なってもよく、水素原
子、炭素数1〜3のアルキル基(例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基等)、−COO−Zx又は−CHt
COO−Zs CZsはより好ましくは炭素数1〜18
のアルキル基又はアルケニル基を表わし、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ペン
テニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基等
が挙げられ、これらアルキル基、アルケニル基は前記R
3で示したと同様の置換基を有していてもよい)を表わ
す。
a and a□ may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, -COO-Zz, or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. -Coo-Z3 (Zs represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms)] More preferably, a
l+ at may be the same or different, and may be a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.), -COO-Zx or -CHt.
COO-Zs CZs more preferably has 1 to 18 carbon atoms
represents an alkyl group or alkenyl group, such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group,
Examples include octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, and these alkyl groups and alkenyl groups are
may have the same substituent as shown in 3).

これら以外の繰り返し単位を構成する単量体として、更
にスチレン類(例えばスチレン、ビニルトルエン、クロ
ロスチレン、ブロモスチレン、ジクロロスチレン、ビニ
ルフェノール、メトキシスチレン、クロロメチルスチレ
ン、メトキシメチルスチレン、アセトキシスチレン、メ
トキシカルボニルスチレン、メチルカルバモイルスチレ
ン、等)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ア
クロレイン、メタクロレイン、ビニル基含有複素II化
合物(例えばN−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、
ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン等)アクリロア
ミド、メタクリロアミド等が例として挙げられるが、こ
れらの他の共重合成分はこれらに限定されるものではな
い。
Monomers constituting repeating units other than these include styrenes (e.g. styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, bromostyrene, dichlorostyrene, vinylphenol, methoxystyrene, chloromethylstyrene, methoxymethylstyrene, acetoxystyrene, methoxystyrene, carbonylstyrene, methylcarbamoylstyrene, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, acrolein, methacrolein, vinyl group-containing hetero II compounds (e.g. N-vinylpyrrolidone, vinylpyridine,
Examples include vinylimidazole, vinylthiophene, etc.) acrylamide, methacrylamide, etc., but other copolymerizable components are not limited thereto.

更に、本発明の樹脂〔A〕は、更に、熱及び光のうちの
少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう官能
基、即ち「熱及び/又は光硬化性官能SJを含有するこ
とが好ましい。即ち、樹脂[A)はBブロック部分にお
いて、式(I)(式(Ia)、 (Ib)を含む〕に相
当する共重合体成分に加えて、更に熱及び/又は光硬化
性官能基を含有する共重合体成分を含有することが好ま
しく、それにより膜強度が更に向上し、電子写真感光体
の機械的強度が増大する。
Furthermore, it is preferable that the resin [A] of the present invention further contains a functional group that performs a curing reaction of the resin by at least one of heat and light, that is, a "thermally and/or photocurable function SJ." That is, in addition to the copolymer component corresponding to formula (I) (including formulas (Ia) and (Ib)), resin [A] further contains a heat and/or photocurable functional group in the B block portion. It is preferable to contain a copolymer component, which further improves the film strength and increases the mechanical strength of the electrophotographic photoreceptor.

本発明の樹脂[A)における上記「熱及び/又は光硬化
性官能基を含有する共重合体成分」の割合は、該樹脂〔
A〕中好ましくは0.5〜30重量%である。より好ま
しくは、1〜20重量%である。
The proportion of the above-mentioned "copolymer component containing a thermally and/or photocurable functional group" in the resin [A) of the present invention is determined by
A], preferably 0.5 to 30% by weight. More preferably, it is 1 to 20% by weight.

結着樹脂における熱及び/又は光硬化性の官能基が存在
する場合に、その含有量が1重量%より少ないと硬化反
応不足で硬化性官能基による光導電層の膜強度向上の効
果が見られない。一方含有量が30重量%を超えると、
本発明の結着樹脂CAIにおいても、優れた電子写真特
性の保持が難しくなり、従来公知の結着樹脂と同様の特
性に低下してしまう、更にオフセントマスターとして用
いた時に、印刷物の非画像部の地汚れが発生してしまう
When heat-curable and/or photo-curable functional groups are present in the binder resin, if the content is less than 1% by weight, the curing reaction will be insufficient and the effect of improving the film strength of the photoconductive layer due to the curable functional groups will not be observed. I can't. On the other hand, if the content exceeds 30% by weight,
Even with the binder resin CAI of the present invention, it is difficult to maintain excellent electrophotographic properties, and the properties deteriorate to the same as those of conventionally known binder resins. This will cause stains on the area.

光硬化性官能基として具体的には、乾英夫、永松元太部
、「感光性高分子」(講談社、1977年刊)、角田隆
弘、「新感光性樹脂」(印刷学会出版部、1981年刊
)加藤清視、「紫外線硬化システム 第5章〜第7章、
総合技術センター(1989年刊)、G、 E、 Gr
een and B、 P、 5trark  J、 
Macro、 Sci。
Specific examples of photocurable functional groups include Hideo Inui, Gentabe Nagamatsu, "Photosensitive Polymer" (Kodansha, published in 1977), Takahiro Tsunoda, "New Photosensitive Resin" (published by Printing Society Publishing Department, published in 1981) Kiyomi Kato, “Ultraviolet curing system Chapters 5 to 7,
General Technology Center (published in 1989), G, E, Gr.
een and B, P, 5trak J,
Macro, Sci.

Reas、 Macro Chew、、 C21(2)
、 187〜273(1981〜82)、C,G、 R
attey、  ’Photopolywirizat
ior+ of SurfaceCootingsJ(
A、 Wiley InterScience Pub
、 1982年刊)、等の総説に引例された光硬化性樹
脂として従来公知の感光性樹脂等に用いられる官能基が
用いられる。
Reas, Macro Chew, C21(2)
, 187-273 (1981-82), C, G, R
atty, 'Photopolywirizat
ior+ of SurfaceCootingsJ(
A. Wiley InterScience Pub
As the photocurable resin, functional groups used in conventionally known photosensitive resins are used as cited in the review articles of , et al., published in 1982).

また本発明における「熱硬化性官能基」は、前記の酸性
基以外の官能基であって、例えば、遠藤剛、「熱硬化性
高分子の精密化C,M、C(株)1986年刊)、原崎
勇次「最新バインダー技術便覧J第■−■章(総合技術
センター、1985年刊)、大津除行「アクリル樹脂の
合成・設計と新用途開発」(中部経営開発センター出版
部、1985年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹脂
」(テクノシステム、 1985年刊)等の総説に引例
の官能基を用いることができる。
Furthermore, the "thermosetting functional group" in the present invention refers to a functional group other than the above-mentioned acidic group, and includes, for example, Tsuyoshi Endo, "Refinement of Thermosetting Polymers, published by C, M, C Co., Ltd., 1986. , Yuji Harasaki, "Latest Binder Technology Handbook J Chapters ■-■" (General Technology Center, published in 1985), Yoshiyuki Otsu, "Synthesis, design and development of new applications of acrylic resin" (Chubu Management Development Center Publishing Department, published in 1985), The functional groups cited in the review articles such as Eizo Omori's "Functional Acrylic Resins" (Techno System, 1985) can be used.

例えば−〇H基、−5H基、JIH,基、−NHRsI
 [Rsは炭化水素基を表わし、例えば炭素数1〜10
の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル
基、2−シアノエチル基等)、炭素数4〜8の置換され
てもよいシクロアルキル基(例えばシクロへブチル基、
シクロへキシル基等)、炭素数7〜12の置換されても
よいアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、
3−フェニルプロピル基、クロロヘンシル基、メチルヘ
ンシル基、メトキシヘンシル基等)、置換されてもよい
アリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基
、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェ
ニル基、ナフチル基等)等が挙げられる〕、 C0NHCH20R&  CR&は水素原子又は炭素数
1〜8のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等)b+
  bz を表わす〕、−N=C・θ基及び −C−CH基(b+
及びbzは、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基等)を表わす)等を挙げること
ができる。又該重合性二重結合基として、具体的には一
般式(1)の繰り返し単位に相当する単量体の重合性よ
りも重合反応性か小さい重合性基、例えば、 CHs CHz・C−C0NH uff 、CH=CH−C0NH− CH=CH10−C−1 CH=CH15ow 、CH,=CH−C0−1C)I2=CI(−0ができ
る。
For example, -〇H group, -5H group, JIH, group, -NHRsI
[Rs represents a hydrocarbon group, for example, a carbon number of 1 to 10
an optionally substituted alkyl group (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, etc.), carbon 4 to 8 optionally substituted cycloalkyl groups (e.g. cyclohebutyl group,
cyclohexyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group,
3-phenylpropyl group, chlorohensyl group, methylhensyl group, methoxyhensyl group), optionally substituted aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, naphthyl group) ), C0NHCH20R&CR& is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, etc.) b+
bz], -N=C・θ group and -C-CH group (b+
and bz each represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.). In addition, the polymerizable double bond group is specifically a polymerizable group whose polymerization reactivity is lower than that of the monomer corresponding to the repeating unit of general formula (1), such as CHs CHz・C-C0NH uff, CH=CH-C0NH- CH=CH10-C-1 CH=CH15ow, CH,=CH-C0-1C) I2=CI (-0 is formed.

「熱/光硬化性官能基」含有の繰返し単位について例示
する。
An example of a repeating unit containing a "thermal/photocurable functional group" is given below.

但し、 以下の各偶において、b及び はそれぞれH又はCH。however, In each case below, b and are H or CH, respectively.

を示し、R1+ は−CI(−CH。and R1+ is -CI(-CH.

CHl 又は−C00CR=CH□を示し、RI!は〜C−〇H
1又は−C[I=CH− CB。
CHl or -C00CR=CH□, RI! Ha~C-〇H
1 or -C [I=CH- CB.

を示し、R+J は CH=CH1、 C=CH,又は−CH=CH−CH。and R+J teeth CH=CH1, C=CH, or -CH=CH-CH.

を示し、R4 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、 Qlは−5− 又は−0− を示し、Q、は−OH又は−Ni1zを示し、p及びq はそれぞれ1〜11の整数を示し、r は1〜IOの整数を示し、S は2〜11の整数を示し、 lは前記定義の通りである。and R4 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Ql is -5- or -0- , Q represents -OH or -Ni1z, p and q each represents an integer from 1 to 11, and r represents an integer from 1 to IO, and S represents an integer from 2 to 11, l is as defined above.

→coz−c+− ■ C00CR=CH□ −4−C1,−C−キー C00CHzCK=CHt 一←CH,−C−)− Coo(CL)p−Coo−R+ 1 cm4)b −(−CBg−C−≠− C00(CHz) pOcO(CBg)@−Coo−R
+ ++cI(−c→− COOCIhCHCHzooC−R+ xH +coz−c)− CONH(CHi)r−OCO4+a c−9) + CH! −C)− COOCCHt)1−CM−CKz−0−Co−R+5
O−CO−R+s (R+sは同じでも異なってもよい) 千CH,−C)− CONH(CHt)eCOOCHz−CHCHzooC
−RlgOH c + CI −C→− c−13) b +CB−C→− CONHCHzOH c−14) c 千CU−C+− CONHCHzOR+* c−15) c−18) ÷CB−C→− Coo(C)II)、−Q! −←CH−CH← c−21) 一+CO,−C−)− COO(CHz)g−NGO 本発明のAB型ブロック共重合体〔A〕は、従来公知の
重合反応法によって製造することができる。具体的には
、該特定の酸性基を含有する重合体成分に相当する単量
体において該酸性基を予め保護した官能基としておき、
有機金属化合物(例えばアルキルリチウム類、リチウム
ジイソプロピルアミド、アルキルマグネシウムハライド
類等)あるいはヨウ化水素/ヨウ素系等によるイオン重
合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とする光重合反応
あるいはグループ移動重合反応等の公知のいわゆるリビ
ング重合反応でAB型ブロック共重合体を合成した後、
酸性基を保護した官能基を加水分解反応、加水素分解反
応、酸化分解反応あるいは、光分解反応等によって脱保
護反応を行ない、酸性基を形成させる方法が挙げられる
。その1つの例を下記の反応スキーム(1)に示した。
→coz-c+- ■ C00CR=CH□ -4-C1, -C- key C00CHzCK=CHt 1←CH, -C-)- Coo(CL)p-Coo-R+ 1 cm4)b -(-CBg-C -≠- C00 (CHz) pOcO (CBg) @-Coo-R
+ ++cI(-c→- COOCIhCHCHzooC-R+ xH +coz-c)- CONH(CHi)r-OCO4+a c-9) + CH! -C)-COOCCHt)1-CM-CKz-0-Co-R+5
O-CO-R+s (R+s may be the same or different) 1,000CH, -C) - CONH(CHt)eCOOCHz-CHCHzooC
-RlgOH c + CI -C→- c-13) b +CB-C→- CONHCHzOH c-14) c 1,000 CU-C+- CONHCHzOR+* c-15) c-18) ÷CB-C→- Coo(C) II), -Q! -←CH-CH← c-21) 1+CO, -C-)-COO(CHz)g-NGO The AB type block copolymer [A] of the present invention can be produced by a conventionally known polymerization reaction method. can. Specifically, in a monomer corresponding to a polymer component containing the specific acidic group, the acidic group is previously protected as a functional group,
Known ionic polymerization reactions using organometallic compounds (e.g. alkyllithiums, lithium diisopropylamide, alkylmagnesium halides, etc.) or hydrogen iodide/iodine systems, photopolymerization reactions using porphyrin metal complexes as catalysts, group transfer polymerization reactions, etc. After synthesizing an AB type block copolymer using the so-called living polymerization reaction,
Examples include a method in which a functional group with a protected acidic group is deprotected by a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, a photolysis reaction, or the like to form an acidic group. One example is shown in reaction scheme (1) below.

紗 例えば、P、 Lutz、 p、 Masson et
al、 Po1ys、 Bull。
For example, P. Lutz, P. Masson et.
al, Polys, Bull.

u、+ 79 (1984)、 B、 C,^nder
son、 G、 D、^ndrewsetal、 Ma
crowolecules、 lj、  1601 (
1981)、 K。
u, + 79 (1984), B, C,^nder
son, G, D, ^ndrewsetal, Ma
crowolecules, lj, 1601 (
(1981), K.

Hatada、 K、 Ute、 etal、 Po1
ys、 J、 Q、 977 (1985)。
Hatada, K, Ute, etal, Po1
ys, J. Q., 977 (1985).

lfi、 1037 (1986)、  右手浩−1畑
田耕−1高分子加工、皿、 366 (1987)、東
村敏延、沢本光男、高分子論文集、並、 189 (1
989)、門、Kuroki、 T。
lfi, 1037 (1986), Hiroshi Migashi-1 Ko Hatada-1 Polymer Processing, Dish, 366 (1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Collection of Polymer Papers, parallel, 189 (1
989), Kuroki, T.

Aida、 J、 Am、 Chew、 Soc、 匪
4737 (1987)、相田卓三、井上祥平、有機合
成化学、4fi、 300 (1985)、D、  Y
、  Sogah+  It、  R,Hertler
  etal、  Macromolecules+f
i、 1473 (1987)等に記載の合成方法に従
って容易に合成することができる。
Aida, J, Am, Chew, Soc, 4737 (1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Organic Synthetic Chemistry, 4fi, 300 (1985), D, Y
, Sogah + It, R, Hertler
etal, Macromolecules+f
It can be easily synthesized according to the synthesis method described in J. I., 1473 (1987).

更に、A−B型ブロック共重合体〔A〕は、酸性基を保
護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント化合
物を開始剤とした光イニファーター重合法によって合成
することもできる0例えば、大津除行、高分子、鉦、 
24B (1988)、 檜森俊−大津隆一、Poly
m、 Rep、 Jap、」互3508 (1988)
、特開昭64−111号、特開昭64−26619号等
に記載の合成方法に従って合成することができる。
Furthermore, the A-B type block copolymer [A] can also be synthesized by a photoiniferter polymerization method using a monomer with unprotected acidic groups and using a dithiocarbament compound as an initiator. For example, Otsu Yogyo, polymers, gongs,
24B (1988), Shun Himori-Ryuichi Otsu, Poly
m, Rep, Jap,” Mutual 3508 (1988)
, JP-A-64-111, JP-A-64-26619, and the like.

又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
護基の脱H(脱保護反応)については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば前記した
引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義勇、
栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(1977年)
 、T、H,Greene。
Further, the protecting group for protecting the specific acidic group of the present invention and the dehydrogenation (deprotection reaction) of the protecting group can be easily carried out using conventionally known knowledge. For example, it is variously described in the cited documents mentioned above, and furthermore, Yoshiyu Iwakura,
Keisuke Kurita, “Reactive Polymer” ■Kodansha (1977)
, T.H., Greene.

rProtective Groups in Org
anic 5ynthesisJ。
rProtective Groups in Org
anic 5ynthesisJ.

John Wiley  & 5ons  (1981
年)、 J、 F、 Il、 McOmie。
John Wiley & 5ons (1981
), J, F, Il, McOmie.

’Protective Groups in Org
anic Chemistry」Plenum  Pr
ess+ (1973年)等の総説に詳細に記載されて
いる方法を適宜選択して行なうことができる。
'Protective Groups in Org
anic Chemistry” Plenum Pr
The method described in detail in reviews such as ess+ (1973) can be appropriately selected and carried out.

樹脂〔A〕において、AB型ブロック共重合体中におけ
る該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量は、樹
脂〔A〕100重量部中、0.5〜20重量%で、好ま
しくは3〜15重量%である。樹脂〔A〕の重量平均分
子量は好ましくば3X10’〜lXl0’である。
In the resin [A], the amount of the polymer component containing the specific acidic group in the AB type block copolymer is 0.5 to 20% by weight, preferably 0.5 to 20% by weight based on 100 parts by weight of the resin [A]. It is 3 to 15% by weight. The weight average molecular weight of the resin [A] is preferably 3X10' to 1X10'.

本発明において、樹脂〔A〕とともに用いることのでき
る熱及び/又は光硬化性樹脂CB)について説明する。
In the present invention, heat and/or photocurable resin CB) that can be used together with resin [A] will be explained.

樹脂〔B〕は、架橋性官能基、即ち熱及び光のうちの少
なくともいずれか一方により感光層を形成後、膜中で架
橋反応を生成し、ポリマー間の橋かけを形成する官能基
を含有する熱及び/又は光硬化性樹脂であり、好ましく
は、樹脂〔A〕中に含有され得る前記熱及び/又は光硬
化性官能基と反応して架橋構造を形成するものである。
The resin [B] contains a crosslinkable functional group, that is, a functional group that generates a crosslinking reaction in the film to form a bridge between polymers after forming a photosensitive layer using at least one of heat and light. It is a heat and/or photocurable resin that reacts with the heat and/or photocurable functional group that may be contained in the resin [A] to form a crosslinked structure.

即ち、縮合反応、付加反応等による分子間の結合、ある
いは重合反応による架橋等を熱及び/又は光によって生
じさせる反応様式を利用するものである。
That is, it utilizes a reaction mode in which bonding between molecules by condensation reaction, addition reaction, etc., or crosslinking by polymerization reaction is caused by heat and/or light.

熱硬化性官能基としては具体的には解離性の水素原子を
有する官能基(例えば−OH基、−5H基、NFIRz
+基(R1+は、水素原子、炭素数1〜12の置換され
てもよい脂肪族基又は置換されてもよいアリール基を表
わす))と −NC5、環状ジカルボン酸無水物との群から各々選ば
れた官能基の組合せを少なくとも1組含有する場合ある
いは−CONHCHzOR3z (R2gは水素原子又
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等の炭素数1〜6のアルキル基を表わす)又は重合
性二重結合基等が挙げられる。
Specifically, the thermosetting functional group includes a functional group having a dissociable hydrogen atom (for example, -OH group, -5H group, NFIRz
+ group (R1+ represents a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms, or an optionally substituted aryl group)), -NC5, and a cyclic dicarboxylic acid anhydride. -CONHCHzOR3z (R2g represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a hexyl group); Examples include polymerizable double bond groups.

解離性の水素原子を有する官能基として好ましくは一〇
〇基、−SO基、−NHRs+基が挙げられる。
Preferable examples of the functional group having a dissociable hydrogen atom include 100 group, -SO group, and -NHRs+ group.

該重合性二重結合基及び光硬化性官能基としては、具体
的には前記樹脂〔A〕中に含有される「熱及び/光硬化
性官能基」に記載した内容と同様のものがあげられる。
Specific examples of the polymerizable double bond group and photocurable functional group include those described in the "thermal and/or photocurable functional group" contained in the resin [A]. It will be done.

かかる官能基を含有する重合体又は共重合体が本発明の
樹脂〔B〕の例として挙げられる。具体的には、遠藤剛
「熱硬化性高分子の精密化」(C0M、C(株) 、1
988年刊)、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」第
1f−1章(総合技術センター1985年刊)、大津除
行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開発」(中部経
営開発センター出版部1985年刊)、大森英三「機能
性アクリル系樹脂」(テクノシステム1985年刊)等
の総説に引例された従来公知の樹脂が用いられる。例え
ば、ポリエステル樹脂、変圧されていないエポキシ樹脂
、ポリカーボネート樹脂、アルカン酸ビニル樹脂、変性
ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、変性アルキッド樹脂
、メラミン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂等が挙げ
られ、これら樹脂中に前記した架橋反応形成の官能基が
含有されていればよい。好ましくは、これらの樹脂中に
樹脂[A]で示される酸性基は含有しないか又は変性さ
れているものを本発明の樹脂として用いることができる
Examples of the resin [B] of the present invention include polymers or copolymers containing such functional groups. Specifically, Tsuyoshi Endo “Refinement of Thermosetting Polymers” (C0M, C Co., Ltd., 1)
(Published in 1988), Yuji Harasaki, "Latest Binder Technology Handbook" Chapter 1f-1 (Published by Sogo Technological Center, 1985), Yoshiyuki Otsu, "Synthesis, Design and Development of New Applications of Acrylic Resins" (Chubu Business Development Center Publishing Department, Published in 1985) , Eizo Omori, "Functional Acrylic Resins" (published by Technosystem, 1985), and other conventionally known resins are used. Examples include polyester resins, unconverted epoxy resins, polycarbonate resins, vinyl alkanoate resins, modified polyamide resins, phenolic resins, modified alkyd resins, melamine resins, acrylic resins, styrene resins, etc. It is sufficient that it contains a functional group capable of forming a crosslinking reaction. Preferably, these resins that do not contain the acidic group represented by resin [A] or have been modified can be used as the resin of the present invention.

これらの官能基を含有する共電体成分に相当する単量体
の具体的なものとして、例えば該官能基を含有するビニ
ル系化合物を挙げることができる。
Specific examples of monomers corresponding to the coelectric component containing these functional groups include vinyl compounds containing these functional groups.

例えば、高分子学会績「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。
For example, see the Polymer Data Handbook published by the Polymer Science Society of Japan.
Basic Edition] Baifukan (published in 1986), etc.

具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル
酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体
、α−(2−アミノメチル体、α−クロロ体、α−ブロ
モ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シ
アノ体、βクロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例
えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2
−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチ
ル−2−オクテンtcJ) 、マレイン酸、マレイン酸
半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼン
スルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホ
ン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又
はアリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン
tll又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体
の置換基中に、又はスチレン誘導体の置換基中に、前記
官能基が含有されたビニル化合物類が挙げられる。
Specifically, acrylic acid, α- and/or β-substituted acrylic acid (e.g. α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-(2-aminomethyl form, α-chloro form, α-bromo form, α- Fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-
methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid,
Itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid,
-Octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octene tcJ), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenesulfonic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfone Half ester derivatives of vinyl or allyl groups of acids, vinylphosphonic acids, dicarboxylic acids, and ester derivatives and amide derivatives of these carboxylates or sulfonic acids, or in substituents of styrene derivatives, Examples include vinyl compounds containing groups.

更に具体的には、前記した一般式(It)で示される単
量体を共重合成分として、その総量で30重量%以上含
有する(メタ)アクリル系共重合体を樹脂CB)の例と
して挙げることができる。
More specifically, a (meth)acrylic copolymer containing a total of 30% by weight or more of the monomer represented by the general formula (It) described above as a copolymerization component is cited as an example of resin CB). be able to.

樹脂〔B〕における「架橋し得る(架橋性)官能基を含
有する共重合成分」の含有量は0.5〜30重量%が好
ましい。
The content of the "copolymer component containing a crosslinkable (crosslinkable) functional group" in the resin [B] is preferably 0.5 to 30% by weight.

樹脂〔B〕の重量平均分子量は好ましくは1×I03〜
lXl0’であり、より好ましくは5X10’〜5X1
0’である。
The weight average molecular weight of the resin [B] is preferably 1×I03~
lXl0', more preferably 5X10' to 5X1
0'.

本発明に用いる樹脂[A3と樹脂[B]の使用量の割合
は、使用する無機光導電材料の種類、粒径、表面状態に
よって異なるが一般に樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の用いる
割合は5〜80対95〜20(重量比)であり、好まし
くは10〜50対90〜50(重量比)である。
The ratio of resin [A3] and resin [B] used in the present invention varies depending on the type, particle size, and surface condition of the inorganic photoconductive material used, but in general, the ratio of resin [A] and resin [B] used is The ratio is 5 to 80 to 95 to 20 (weight ratio), preferably 10 to 50 to 90 to 50 (weight ratio).

一方、本発明においては、樹脂〔A〕とともに、架橋剤
を含有することができる。架橋剤を含有する場合には、
樹脂〔A〕が光及び/又は熱硬化性官能基を含有するか
及び/又は樹脂CB)を併用することが好ましい。架橋
剤を用いることにより膜中での架橋を促進することがで
きる。
On the other hand, in the present invention, a crosslinking agent can be contained together with the resin [A]. When containing a crosslinking agent,
It is preferable that the resin [A] contains a photo- and/or thermosetting functional group and/or that resin CB) is used in combination. Crosslinking in the membrane can be promoted by using a crosslinking agent.

用いられる架橋剤としては、通常架橋側として用いられ
る化合物を使用することができる。具体的には、山下晋
三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(19
81年)高分子学会績「高分子データハンドブンク基礎
編」培風館(1986年)等に記載されている化合物を
用いることができる。
As the crosslinking agent used, compounds that are usually used as crosslinking agents can be used. Specifically, Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko ed. “Crosslinking Agent Handbook” published by Taiseisha (19
1981) Compounds described in the Society of Polymer Science, "Komunshi Data Handbook Basic Edition", Baifukan (1986), etc. can be used.

例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリブトキシシラン、γ−グリシド
キシプロビルトリメトキシ7ラン、T−メルカプトプロ
ピニトリエトキシシラン、Tアミノプロピルトリエトキ
シシラン等のシランカップリング剤等)、ポリイソシア
ナート系化合物(例えば、トルイレンジイソシアナート
、Oトルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジ
イソシアナート、トリフェニルメタントリイソシアナー
ト、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、ヘキサ
メチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナー
ト、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオール系化合
物(例えば、1.4ブタンジオール、ポリオキシプロピ
レングリコール、ポリオキシアルキレングリコール、1
. 11−トリメチロールプロパン等)、ポリアミン系
化合物(例えば、エチレンジアミン、γ−ヒドロキシプ
ロピル化エチレンジアミン、フェニレンジアミン、ヘキ
サメチレンジアミン、N−アミノエチルピペラジン、変
性脂肪族ポリアミン類等)、ポリエポキシ基含有化合物
及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編著「エポキシ樹脂
」昭晃堂(1985年刊)、橋本邦之編著「エポキシ樹
脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載された化
合物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一部、松永英夫
編著「ユリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社(196
9年刊)等に記載された化合物類)、ポリ(メタ)アク
リレート系化合物(例えば、大河原信、三枝武夫、東村
敏延纒「オリゴマー」講談社(1976年)大森英三「
機能性アクリル系樹脂jテクノシステム(1985年刊
)等に記載された化合物類が挙げられ、具体的には、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、ネノペンチルグ
リコールジアクリラート、1.6−ヘキサンジオールア
クリラート、トリメチロールプロパントリアクリラート
、ペンタエリスリトールポリアクリラート、ビスフェノ
ールA−ジグリシジルエーテルジアクリラート、オリゴ
エステルアクリラート:これらのメタクリラート体等が
ある。)等を挙げることができる本発明に用いられる架
橋剤の使用量は全結着樹脂量に対し0.5〜30重量%
、特に1〜10重量%であることが好ましい。
For example, silane coupling of organic silane compounds (e.g., vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy7rane, T-mercaptopropinitriethoxysilane, T-aminopropyltriethoxysilane, etc.) agents), polyisocyanate compounds (e.g. toluylene diisocyanate, O-toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, isocyanate, polymeric polyisocyanate, etc.), polyol compounds (e.g., 1.4 butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol, 1
.. 11-trimethylolpropane, etc.), polyamine compounds (e.g., ethylenediamine, γ-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylenediamine, hexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.), polyepoxy group-containing compounds, and Epoxy resins (e.g. compounds described in "Epoxy Resins" edited by Hiroshi Kakiuchi, Shokodo (1985), "Epoxy Resins" edited by Kuniyuki Hashimoto, Nikkan Kogyo Shimbunsha (1969), etc.), melamine resins (e.g. Miwa) A portion of “Uria Melamine Resin” edited by Hideo Matsunaga, Nikkan Kogyo Shimbunsha (196
Poly(meth)acrylate compounds (e.g. Shin Okawara, Takeo Saegusa, Toshinobu Higashimura "Oligomer" Kodansha (1976) Eizo Omori "
Examples include compounds described in Functional Acrylic Resin J Techno System (published in 1985), and specifically, polyethylene glycol diacrylate, nenopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol acrylate, Methylolpropane triacrylate, pentaerythritol polyacrylate, bisphenol A-diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate: methacrylates of these, and the like. ) etc. The amount of crosslinking agent used in the present invention is 0.5 to 30% by weight based on the total amount of binder resin.
, particularly preferably 1 to 10% by weight.

本発明では、感光層膜中での架橋反応を促進させるため
に、結着樹脂に必要に応じて反応促進剤を添加してもよ
い。
In the present invention, a reaction accelerator may be added to the binder resin as necessary in order to promote the crosslinking reaction in the photosensitive layer.

架橋反応が官能基間の化学結合を形成する反応様式の場
合には、例えば有機酸(酢酸、プロピオン酸、酪酸、ベ
ンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等)等が挙
げられる。
When the crosslinking reaction is a reaction mode in which a chemical bond is formed between functional groups, examples thereof include organic acids (acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.).

架橋反応が重合性反応様式の場合には、重合開始剤(過
酸化物、アゾビス系化合物等が挙げられ、好ましくは、
アゾビス系重合開始剤である)、多官能重合性含有の単
量体(例えばビニルメタクリレート、アリルメタクリレ
ート、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート、ジビニルコハク酸エステ
ル、ジビニルアジピン酸エステル、ジアリルコハク酸エ
ステル、2−メチルビニルメタクリレート、ジビニルベ
ンゼン等)等が挙げられる。
When the crosslinking reaction is a polymerizable reaction mode, a polymerization initiator (peroxide, azobis compound, etc.) may be used, and preferably,
azobis polymerization initiator), polyfunctional polymerizable monomers (e.g. vinyl methacrylate, allyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, divinyl succinate, divinyl adipate, diallyl succinate) , 2-methylvinyl methacrylate, divinylbenzene, etc.).

更に、本発明では、本発明の樹脂以外の他の樹脂を併用
させることもできる。それらの樹脂としては、例えば、
アルキッド樹脂、ポリブチラール樹脂、ポリオレフィン
類、エチレン−酢ビ共重合体、スチレン樹脂、スチレン
−ブタジェン樹脂、アクリレートブタジェン樹脂、アル
カン酸ビニル樹脂等が挙げられる。
Furthermore, in the present invention, resins other than the resin of the present invention can also be used in combination. Examples of these resins include:
Examples include alkyd resins, polybutyral resins, polyolefins, ethylene-vinyl acetate copolymers, styrene resins, styrene-butadiene resins, acrylate-butadiene resins, vinyl alkanoate resins, and the like.

アクリレートブタジェン樹脂、アルカン酸ビニル樹脂等
が挙げられる。
Examples include acrylate butadiene resin, vinyl alkanoate resin, and the like.

上記他の樹脂は、本発明の樹脂を用いた全結着樹脂量の
30%(重量比)を越えると本発明の効果(特に静電特
性の向上)が失われる。
If the above-mentioned other resin exceeds 30% (weight ratio) of the total binder resin amount using the resin of the present invention, the effects of the present invention (especially improvement in electrostatic properties) will be lost.

本発明の結着樹脂は、感光層形成物を塗布した後、架橋
又は熱硬化される。架橋又は熱硬化を行なうためには、
例えば、乾燥条件を従来の感光体作製時の乾燥条件より
厳しくする0例えば、乾燥条件を高温度及び/又は長時
間とする。あるいは塗布溶剤の乾燥後、更に加熱処理す
ることが好ましい。例えば60℃〜120℃で5〜12
0分間処理する。
The binder resin of the present invention is crosslinked or thermally cured after applying the photosensitive layer forming material. To perform crosslinking or thermosetting,
For example, the drying conditions may be made stricter than the drying conditions used in conventional photoreceptor production.For example, the drying conditions may be set to a high temperature and/or a long period of time. Alternatively, after drying the coating solvent, it is preferable to further perform a heat treatment. For example, 5 to 12 at 60℃ to 120℃
Process for 0 minutes.

上述の反応促進剤を併用すると、より穏やかな条件で処
理することができる。
When the above-mentioned reaction accelerator is used in combination, the treatment can be carried out under milder conditions.

本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛等が挙げられる。
Inorganic photoconductive materials used in the present invention include zinc oxide,
Examples include titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, lead sulfide, and the like.

無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導
電対100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。
The total amount of binder resin used for the inorganic photoconductive material is 10 to 100 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the photoconductive couple.

本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増悪荊とし
て併用することができる0例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング1l(Na8)第12頁、C,J、 Y
oung等、RCA Review且469(1954
)、清田航平等、電気通信学会論文誌ユUL−CLh2
)−97(1980)、原崎勇次等、工業科学雑誌i7
B及び188(1963) 、谷忠昭、日本写真学会誌
甚、208(1972)等の総説引例のカーボニウム系
色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素
、キサンチン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色
素(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フ
タロシアニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられ
る。
In the present invention, various dyes can be used in combination as spectral aggravating agents if necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1l (Na8), p. 12, C, J, Y
Oung et al., RCA Review and 469 (1954
), Wataru Kiyota, Journal of the Institute of Electrical Communication, UL-CLh2
)-97 (1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Science Magazine i7
Carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthine dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (e.g., oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain metal), and the like.

更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50−114227号、特開
昭53−39130号、特開昭53−82353号、米
国特許第3,052,540号、米国特許第4,054
,450号、特開昭57−16456号等に記載のもの
が挙げられる。
More specifically, examples using mainly carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthine dyes, and phthalein dyes include Japanese Patent Publication No. 51452 and Japanese Patent Publication No. 5
0-90334, JP 50-114227, JP 53-39130, JP 53-82353, U.S. Patent No. 3,052,540, U.S. Patent No. 4,054
, No. 450, and JP-A-57-16456.

オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ログシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、 
M、 Harmwer  ’The Cyanine 
Dyes aridRelated Compound
s J等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第3,047,384号、米国特許第3
.110,591号、米国特許第3,121.008号
、米国特許第3.125.447号、米国特許第3,1
28.179号、米国特許第3.132.942号、米
国特許第3.622.317号、英国特許第1.226
.892号、英国特許第1,309.274号、英国特
許第L405,898号、特公昭48−7814号、特
公昭55−18892号等に記載の色素が挙げられる。
oxonol dye, merocyanine dye, cyanine dye,
Polymethine dyes such as logcyanine dyes include F,
M, Harmwer'The Cyanine
Dyes aridRelated Compound
It is possible to use dyes described in US Pat. No. 3,047,384 and US Pat.
.. No. 110,591, U.S. Patent No. 3,121.008, U.S. Patent No. 3.125.447, U.S. Patent No. 3,1
No. 28.179, U.S. Patent No. 3.132.942, U.S. Patent No. 3.622.317, British Patent No. 1.226
.. 892, British Patent No. 1,309.274, British Patent No. L405,898, Japanese Patent Publication No. 48-7814, Japanese Patent Publication No. 55-18892, and the like.

更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭47840号、
特開昭47−44180号、特公昭51−41061号
、特開昭49−5034号、特開昭49−45122号
、特開昭57−46245号、特開昭56−35141
号、特開昭57457254号、特開昭61−2604
4号、特開昭61−27551号、米国特許第3.61
9.154号、米国特許第4,175,956号、rR
esearch Disclosure J 1982
年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙げ
られる。本発明の感光体は種々の増感色素を併用させて
も、その性能が増感色素により変動しにくい点において
優れている。更には、必要に応じて、化学増感側等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加量を併用する
こともできる0例えば、前記した総説:イメージング■
N(Na8)第12頁等の総説引例の電子受容性化合物
(例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無
水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の光導電
材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章二日本科
学情報(株)出版部(1986年)の総説引例のボリア
リールアルカン化合物、ヒンダードフェノール化合物、
P−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。
Furthermore, as a polymethine dye that spectrally sensitizes the near-infrared to infrared light region with a long wavelength of 700 nm or more, JP-A No. 47840,
JP 47-44180, JP 51-41061, JP 49-5034, JP 49-45122, JP 57-46245, JP 56-35141
No., JP 57457254, JP 61-2604
No. 4, JP-A No. 61-27551, U.S. Patent No. 3.61
No. 9.154, U.S. Pat. No. 4,175,956, rR
search Disclosure J 1982
216, pp. 117-118. The photoreceptor of the present invention is excellent in that its performance does not easily vary depending on the sensitizing dye, even when various sensitizing dyes are used together. Furthermore, if necessary, various conventionally known addition amounts for electrophotographic photosensitive layers, such as chemical sensitization, can be used in combination.For example, in the above-mentioned review: Imaging
Electron-accepting compounds (e.g., halogens, benzoquinone, chloranil, acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.) cited in reviews such as N(Na8), page 12, Hiroshi Komon et al., ``Recent research on photoconductive materials and photoreceptors''"Development and Practical Application", Chapters 4 to 6, Nihon Kagaku Information Co., Ltd. Publishing Department (1986), cited in the review of polyaryl alkane compounds, hindered phenol compounds,
Examples include P-phenylenediamine compounds.

これら各種添加量の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.
0重量部である。
The amounts of these various additives are not particularly limited, but
Usually 0.0001 to 2.0 parts per 100 parts by weight of photoconductor.
It is 0 parts by weight.

光導電層の厚さは1〜100μ、特に10〜50μが好
適である。
The thickness of the photoconductive layer is preferably 1 to 100 microns, particularly 10 to 50 microns.

また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特に0.05〜0.5μが好適であ
る。
In addition, when a photoconductive layer is used as a charge generation layer of a photoconductor with a stacked structure of a charge generation layer and a charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is preferably 0.01 to 1μ, particularly 0.05 to 0.5μ. It is.

感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。
In some cases, an insulating layer is added mainly for the purpose of protecting the photoreceptor, improving its durability, dark decay characteristics, etc.

この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and when the photoreceptor is used for a specific electrophotographic process, the insulating layer provided is set to be relatively thick.

後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
In the latter case, the thickness of the insulating layer is between 5 and 70μ, in particular 1
It is set to 0 to 50μ.

積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバ
ゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
Charge transport materials for the laminated photoreceptor include polyvinylcarbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes, and the like.

電荷輸送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜3
0μが好適である。
The thickness of the charge transport layer is 5 to 40 μm, particularly 10 to 3 μm.
0μ is suitable.

絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリア
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン
樹脂の熱可塑性樹脂及び効果性樹脂が適宜用いられる。
Typical resins used to form the insulating layer or charge transport layer include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride vinyl oxide copolymer resin, Thermoplastic resins and effective resins such as polyacrylic resins, polyolefin resins, urethane resins, polyester resins, epoxy resins, melamine resins, and silicone resins are used as appropriate.

本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基本に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基本の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、■等を蒸着した基体導電化プラスチック
を紙にラミネートしたもの等が使用できる。
The photoconductive layer according to the invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support for the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive.As the electrically conductive support, for example, metal, paper, plastic sheet, etc. are basically impregnated with a low-resistance substance, just as in the conventional case. those that have been subjected to conductive treatment, such as those that have been coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back side of the base (the side opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and to prevent curling, and those that have been coated with at least one layer for the purpose of preventing curling, etc. Those with a water-resistant adhesive layer on the surface of the body, those with at least one or more pre-coated layers provided on the surface layer of the support as required, and those with a conductive plastic base coated with vapor-deposited material, etc., laminated onto paper. You can use the ones that have been prepared.

具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、14(N[Ll)、P2〜11(
1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分子刊
行会(1975)、阿、 F、 1(oover、 J
、 Macrowol、 Sci。
Specifically, examples of conductive substrates or conductive materials include:
Yukio Sakamoto, electrophotography, 14(N[Ll), P2-11(
1975), Hiroyuki Moriga, “Introductory Chemistry of Special Papers” Kobunshi Publishing (1975), A, F, 1 (oover, J
, Macrowol, Sci.

Chew、 A −4(6)、第1327〜第1417
頁(1970)等に記載されているもの等を用いる。
Chew, A-4(6), No. 1327-1417
(1970) etc. are used.

(実施例) 以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。
(Example) Examples of the present invention are illustrated below, but the content of the present invention is not limited thereto.

〔樹脂〔A〕の合成〕 樹脂〔A〕の合成例1:(A−13 工チルメタクリレート95g及びテトラヒドロフラン2
00gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−20
℃に冷却した。1.l−ジフェニルブチルリチウム1.
5gを加え12時間反応した。更に、この混合溶液に、
トリフェニルメチルメタクリレート5g及びテトラヒド
ロフラン5gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気した
後添加し、更に8時間反応した。この混合物を0℃にし
た後、メタノール10dを加え30分間反応し、重合を
停止させた。得られた重合体溶液を攪拌下にて温度30
℃とし、これに30%塩化水素エタノール溶液3mを加
え1時間攪拌した0次に、減圧下に反応混合物を全体量
が半分になるまで溶媒を留去した後、石油エーテルIl
中に再沈した。
[Synthesis of resin [A]] Synthesis example 1 of resin [A]: (A-13 95 g of engineered methyl methacrylate and 2 of tetrahydrofuran
00g of the mixed solution was sufficiently degassed under a nitrogen stream to -20
Cooled to ℃. 1. l-diphenylbutyllithium 1.
5 g was added and reacted for 12 hours. Furthermore, to this mixed solution,
A mixed solution of 5 g of triphenylmethyl methacrylate and 5 g of tetrahydrofuran was added after sufficient degassing under a nitrogen stream, and the mixture was reacted for further 8 hours. After the mixture was cooled to 0° C., 10 d of methanol was added and reacted for 30 minutes to terminate the polymerization. The obtained polymer solution was heated to a temperature of 30°C while stirring.
℃, 3 m of 30% hydrogen chloride ethanol solution was added thereto, and the mixture was stirred for 1 hour.Next, the solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure until the total volume became half, and petroleum ether Il was added.
It sank back inside.

沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重合体は、−8
,5X10’で収量70gであった。
The polymer obtained by collecting the precipitate and drying it under reduced pressure was -8
, 5 x 10' and the yield was 70 g.

(A−1) (重量比) b=ニブロック合を示す(以下同様) 樹脂〔A〕の合成例2 : (A−23n−ブチルメタ
クリレート46g、(テトラフェニルボルフイナート)
アルミニウムメチル0.5g及び塩化メチレン60gの
混合溶液を窒素気流下にて温度30℃とした。これに3
00W−キセノンランプ光をガラスフィルターを通して
25c−の距離から光照射し、12時間反応した。この
混合物に更に、ベンジルメタクリレート4gを加え、同
様に8時間光照射した後、この反応混合物にメタノール
3gを加えて30分間攪拌し反応を停止させた0次にこ
の反応混合物にPd−Cを加え、温度25℃で1時間接
触還元反応を行なった。
(A-1) (Weight ratio) b = Indicates niblock combination (same below) Synthesis example 2 of resin [A]: (A-23 46 g of n-butyl methacrylate, (tetraphenylborufinate)
A mixed solution of 0.5 g of aluminum methyl and 60 g of methylene chloride was brought to a temperature of 30° C. under a nitrogen stream. 3 to this
Light from a 00W xenon lamp was irradiated from a distance of 25 cm through a glass filter, and the reaction was carried out for 12 hours. Furthermore, 4 g of benzyl methacrylate was added to this mixture, and after light irradiation for 8 hours, 3 g of methanol was added to this reaction mixture and stirred for 30 minutes to stop the reaction.Next, Pd-C was added to this reaction mixture. A catalytic reduction reaction was carried out at a temperature of 25° C. for 1 hour.

不溶物を濾別した後石油エーテル500m中に再沈し、
沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量33g
で〜9.3X10’であった。
After filtering out insoluble matter, it was reprecipitated in 500 m of petroleum ether,
The precipitate was collected and dried. The yield of the obtained polymer was 33g.
It was ~9.3X10'.

C00C4H*(n)      Cool樹脂〔A〕
の合成例3:(A−3) 2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリレート90g
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に充分に
脱気し0℃に冷却した0次いで1.1−ジフェニル−3
−メチルペンチルリチウム2.5gを加え、6時間攪拌
した。更にこの混合物に4−ビニルフェニルオキシトリ
メチルシランLOg’firmL6時間攪拌した後、メ
タノール3gを加えて30分間攪拌した。
C00C4H*(n) Cool resin [A]
Synthesis Example 3: (A-3) 90 g of 2-chloro-6-methylphenyl methacrylate
A mixed solution of 200 g of toluene was thoroughly degassed under a nitrogen stream and cooled to 0°C.
- 2.5 g of methylpentyl lithium was added and stirred for 6 hours. This mixture was further stirred with 4-vinylphenyloxytrimethylsilane LOg'firm for 6 hours, and then 3 g of methanol was added and stirred for 30 minutes.

次にこの反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液1
0gを加え25℃で1時間撹拌した後、石油エーテルl
l中に再沈し捕集した沈澱物をジエチルエーテル300
mで2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、収量58
g?〜7.8 X 102であった。
Next, add 1 part of 30% hydrogen chloride ethanol solution to this reaction mixture.
After adding 0 g of petroleum ether and stirring at 25°C for 1 hour,
The precipitate reprecipitated and collected in 300 g of diethyl ether
Washed twice with m and dried. The obtained polymer had a yield of 58
G? ~7.8 x 102.

(A−3) 樹脂〔A〕の合成例4:(A−4) フェニルメタクリレート95g、ヘンシルN、 N−ジ
エチルジチオカーハメート4.8gの混合物を、窒素気
流下に容器に密閉し、温度60°Cに加温した。
(A-3) Synthesis Example 4 of Resin [A]: (A-4) A mixture of 95 g of phenyl methacrylate, Hensyl N, and 4.8 g of N-diethyldithiocarhamate was sealed in a container under a nitrogen stream, and the temperature was increased. It was heated to 60°C.

これに、400Hの高圧水銀灯で10cmの距離からガ
ラフッイルターを通して、10時間光照射し光重合した
This was irradiated with light for 10 hours using a 400H high-pressure mercury lamp from a distance of 10 cm through a glass filter for photopolymerization.

これにアクリル酸5g及びメチルエチルケトン180g
を加えた後窒素置換し、再び10時間光照射した。
Add to this 5 g of acrylic acid and 180 g of methyl ethyl ketone.
After adding , the atmosphere was replaced with nitrogen, and light was irradiated again for 10 hours.

得られた反応物をヘキサン1,51に再沈、捕集し乾燥
した。得られた重合体は、68gで〜9.5×103で
あった。
The obtained reaction product was reprecipitated in hexane 1,51, collected and dried. The resulting polymer was 68 g and ˜9.5×10 3 .

CA−4,) H3 樹脂〔A〕の合成例5〜16 前記樹脂〔A〕の合成例と同様にして下記表−1に示す
樹脂〔A〕を合成した。
CA-4,) H3 Synthesis Examples 5 to 16 of Resin [A] Resin [A] shown in Table 1 below was synthesized in the same manner as in the synthesis example of resin [A].

表 CHl −すC)1.−C″JTb−fY士T COOR。table CHl -C)1. -C″JTb-fY士T COOR.

各樹脂[A)の本は6X10” 〜9.5xlO’ であ った。Each resin [A) book is 6X10” ~9.5xlO' And It was.

樹脂〔A〕の合成例19〜23 前記樹脂〔A〕の合成例〔4〕と同様にして下記表−1
−2に示す樹脂[A]を合成した。各樹脂の〜は8X1
0’〜lXl0’であった。
Synthesis Examples 19 to 23 of Resin [A] The following Table 1 was carried out in the same manner as in Synthesis Example [4] of Resin [A].
Resin [A] shown in -2 was synthesized. ~ of each resin is 8X1
0' to lXl0'.

実施例1〜2及び比較例A−C 実施例1 合成例1で製造した樹脂(A−t〕2og(固形分量と
して)、酸化亜鉛200g、下記構造のへブタメチンシ
アニン色素〔A〕0.02gフタルma水sO,15g
及びトルエン300gの混合物をボールミル中で4時間
分散した後に、更に下記構造の樹脂(B−1) 15.
及びN、 N’ 、N’ −トリメチルエチレンジアミ
ン5gを添加して5分間分散した。これを導電処理した
紙に、乾燥付着量が22g/m”となる様に、ワイヤー
バーで塗布し、100°Cで1時間乾燥し、ついで暗所
で20°C65%RHの条件下で24時間放置すること
により、電子写真感光材料を作製した。
Examples 1 to 2 and Comparative Examples A-C Example 1 2 og (as a solid content) of the resin (A-t) produced in Synthesis Example 1, 200 g of zinc oxide, and 0. 02g phthalate ma water sO, 15g
After dispersing a mixture of 300 g of toluene in a ball mill for 4 hours, a resin (B-1) having the following structure was added.15.
Then, 5 g of N, N', N'-trimethylethylenediamine was added and dispersed for 5 minutes. This was applied to conductive-treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 22 g/m'', dried at 100°C for 1 hour, and then kept in the dark at 20°C and 65% RH for 24 hours. An electrophotographic light-sensitive material was produced by allowing the mixture to stand for a period of time.

樹脂(B−1) CH。Resin (B-1) CH.

−すCHz−C′f′i′TtCL−1j1士信「ヤc
ut−co今一1一二3.6 ×104 (重量比) ノアニン色素〔A] 実施例2 実施例1において、樹脂CA−1〕20gの代わりに、
樹脂(A  5)20g(固形分量として)を用いた他
は、実施例1と同様に操作して、電子写真感光材料を作
製した。
-SCHz-C'f'i'TtCL-1j1 Shishin "Ya c
ut-co Imaichi 1-2 3.6 × 104 (weight ratio) Noanine dye [A] Example 2 In Example 1, instead of 20 g of resin CA-1,
An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 20 g (in terms of solid content) of resin (A5) was used.

比較例A 実施例1において、樹脂〔A−1)20gに代えて下記
構造の樹脂(R−1)20gを用いた他は、実施例1と
同様に操作して電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example A An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1, except that 20 g of resin (R-1) having the following structure was used in place of 20 g of resin [A-1]. .

比較用樹脂(R−13 CI(、C1l。Comparative resin (R-13 CI(, C1l.

)k:6X10’(ランダム共重合体)比較例B 実施例1において、樹脂(A−1)20gに代えて下記
構造の樹脂(R−2)20gとした他は、実施例1と同
様に操作して電子写真感光材料を作製した。
)k:6X10' (random copolymer) Comparative Example B Same as Example 1 except that 20 g of resin (R-2) having the following structure was used in place of 20 g of resin (A-1). An electrophotographic light-sensitive material was produced by this operation.

(R−2)         cHffHOOC−CH
I−5+CH!−C+ C00C,H5 Mw 8.0x103 比較例C 実施例1において、樹脂(A−1)20gの代わりに、
下記構造の樹脂(R−3)20gとした他は実施例1と
同様にして電子写真感光材料を作成した。
(R-2) cHffHOOC-CH
I-5+CH! -C+ C00C, H5 Mw 8.0x103 Comparative Example C In Example 1, instead of 20 g of resin (A-1),
An electrophotographic material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 20 g of resin (R-3) having the following structure was used.

(R−3) υ 8.5XI03 (重量比) これらの感光材料について、静電特性、撮像性及び環境
条件を(20’C165%R11)及び(30°C58
0%12Fl)とした時の撮像性を調べた。その結果を
表2に示す。
(R-3) υ 8.5XI03 (weight ratio) For these photosensitive materials, the electrostatic properties, imaging properties, and environmental conditions were determined at (20'C165%R11) and (30°C58
0% 12Fl) was investigated. The results are shown in Table 2.

表−2に記した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。
The implementation aspects of the evaluation items listed in Table-2 are as follows.

注1) 静電特性: 温度20°C165%RHの暗室中で、各感光材料にペ
ーパーアナライザー(川口電機(株)類ペーパーアナラ
イザー5P−428型)を用いて一6kVで20秒間コ
ロナ放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電
位V、。を測定した0次いでそのまま暗中で90秒間静
置した後の電位v1.。を測定し、90秒間暗減衰させ
た後の電位保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR(%)
〕を、(Vl@@/Lll)X100(%)で求めた。
Note 1) Electrostatic properties: In a dark room at a temperature of 20°C and 165% RH, each photosensitive material was subjected to corona discharge at -6 kV for 20 seconds using a paper analyzer (Paper Analyzer 5P-428 model manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.). After that, leave it for 10 seconds, and the surface potential at this time is V. 0 and then left to stand in the dark for 90 seconds, the potential v1. . The potential retention property after dark decaying for 90 seconds, that is, the dark decay retention rate (DRR (%)
] was determined by (Vl@@/Lll)×100(%).

又、コロナ放電により光導電層表面を一400vに帯電
させた後、該光導電層表面をガリウムーアルミニウムー
ヒ素半導体レーザー(発振波長780nm)光で照射し
、表面電位(V+O)が1710に減衰するまでの時間
を求め、これから露光量El/I・(erg/cm”)
を算出する。
Further, after the surface of the photoconductive layer was charged to -400V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer was irradiated with light from a gallium-aluminum-arsenide semiconductor laser (oscillation wavelength: 780 nm), and the surface potential (V+O) was attenuated to 1710V. Find the time until
Calculate.

測定時の環境条件は、20℃、65%RH(I)と30
℃、80%RH(II)で行なった。
The environmental conditions at the time of measurement were 20°C, 65%RH (I), and 30°C.
It was carried out at 80% RH (II).

注2) 撮像性: 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、各感
光材料を−6にνで帯電し、光電として268−出力の
ガリウムーアルミニウムーヒ素半導体レーザー(発振波
長780ns)を用いて、感光材料表面上で、64er
g/cm”の照射量下、ピッチ25a及びスキャニング
速度300m/secのスピードで露光後、液体現像剤
として、ELP−T (富士写真フィルム(株)製)を
用いて、現像し、定着することで得られた複写画像(カ
ブリ、画像の画質)を目視評価した。
Note 2) Imaging properties: After leaving each photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, each photosensitive material was charged with ν to -6, and a 268-output gallium-aluminum-arsenide semiconductor laser (oscillation wavelength 780 ns) was used as a photoelectric charge. ) on the surface of the photosensitive material.
After exposure at a pitch of 25a and a scanning speed of 300 m/sec under an irradiation dose of "g/cm", the film is developed and fixed using ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a liquid developer. The copied image (fogging, image quality) obtained was visually evaluated.

撮像時の環境条件は、20’C65%l?H(1)と3
0°C80%RH(I[)で実施した。
The environmental conditions at the time of imaging were 20'C65%l? H(1) and 3
It was carried out at 0°C and 80% RH (I[).

表−2に示す欅に、本発明の各感光材料は、静電特性が
良好で、実際の複写画像も地力ブリがなく複写両賞も鮮
明であった。
As shown in Table 2, each of the photosensitive materials of the present invention had good electrostatic properties, and the actual copied images were clear with no blurring and both copies were clear.

一方比較例A−Cは、帯!電位(ν1゜)の低下あるい
は、光感度(E’/+Jの低下が生し、実際の複写画像
でも画像の濃度(D9)の低下、それによる細線・文字
等のカスレ、地力ブリの発生が生してしまった。
On the other hand, Comparative Examples A-C are Obi! A decrease in electric potential (ν1°) or a decrease in photosensitivity (E'/+J) occurs, and even in actual copied images, the image density (D9) decreases, resulting in fading of fine lines, characters, etc., and occurrence of ground blur. I was born alive.

以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静電
特性を満足する電子写真感光体が得られる。
From the above, an electrophotographic photoreceptor that satisfies electrostatic properties can be obtained only when the resin of the present invention is used.

更に、本発明の樹脂を用いた場合においても、特定の置
換基を有するメタクリレート成分を含有する樹脂(A]
から成る実施例2の方が実施例1に比べてより静電特性
が向上5、特2こ半導体レーザー光スキヤニング露光方
式の感光体ンステムニこ優位になることが明らかとなっ
た。
Furthermore, even when using the resin of the present invention, the resin (A) containing a methacrylate component having a specific substituent
It has become clear that Example 2, which consists of the following, has improved electrostatic properties5 compared to Example 1, and is particularly advantageous over the photoconductor system using the semiconductor laser beam scanning exposure method.

実施例3 合成例6で製造した樹脂(A−6)10g(固形分量と
して)、下記構造の樹脂CB−210g、酸化亜鉛20
0g、下記構造のシアニン色素3B)0.018g、無
水フタル酸0.30g及びトルエン300gの混合物を
ボールミル中で4時間分散し、この分散物に、グルタコ
ン酸4gを添加し、更にボールミルで10分間分散して
、感光層形成物を調製し、これを導電処理した紙に、乾
燥付着量が22g/m”となる様に、ワイヤーバーで塗
布し、100°Cで30秒間乾燥し、ついで120’C
で1時間加熱した。
Example 3 10 g (as solid content) of the resin (A-6) produced in Synthesis Example 6, 10 g of resin CB-2 having the following structure, 20 g of zinc oxide
A mixture of 0 g, cyanine dye 3B) having the following structure, 0.30 g of phthalic anhydride, and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 4 hours, 4 g of glutaconic acid was added to this dispersion, and the mixture was further dispersed in a ball mill for 10 minutes. The photosensitive layer was dispersed to prepare a photosensitive layer-forming product, which was coated onto electrically conductive treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 22 g/m'', dried at 100°C for 30 seconds, and then coated at 120°C. 'C
It was heated for 1 hour.

ついで暗所で20”C65%RHの条件下で24時間放
置することにより、 電子写真感光材料を作製した。
Then, an electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours in a dark place at 20"C and 65% RH.

シアニン色素CB) (cHz)asoie (C1lz)−5(hK 樹脂〔B 2] CH3 CH。cyanine dye CB) (cHz) asoie (C1lz)-5(hK Resin [B 2] CH3 CH.

C00CtHs 0NHz COOCHz(JICHz \1 へ:4.5 ×104 この感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、膜強 度、 静電特性、 撮像性及び環境条件を30゛C180%RHとした時の
静電特性、 撮像性を調べた。
C00CtHs 0NHZ COOCHz (JICHz \1 to: 4.5 × 104 Film properties (surface smoothness), film strength, electrostatic properties, imaging performance, and static when the environmental conditions are 30゛C180%RH) The electrical properties and imaging properties were investigated.

以上の結果をまとめて表−3に示す。The above results are summarized in Table 3.

表 表−3に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。
The implementation modes of the evaluation items shown in Table 3 are as follows.

注3) 光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、へンク平滑度試験機(熊谷理工(
株)製)を用い、空気容111ccの条件にて、その平
滑度(sec/cc)を測定した。
Note 3) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was tested using a Henk smoothness tester (Kumagai Riko).
The smoothness (sec/cc) was measured under the condition of an air volume of 111 cc.

注4) 水との接触角: 各感光材料を不感脂化処理?F1.ELP−E  (富
士写真フィルム(株)製)を遺留水で2倍に希釈した溶
液ヲ用いて、エツチングプロセンサーに1回通して光導
電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留水2μ!の水
滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニオメータで測
定する。
Note 4) Contact angle with water: Is each photosensitive material desensitized? F1. Using a solution prepared by diluting ELP-E (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) twice with residual water, the surface of the photoconductive layer was desensitized by passing it through the Etching Prosensor once. ! A drop of water is placed on it, and the contact angle with the water formed is measured using a goniometer.

注5〕 耐刷性 前記性2)の撮像性と同様にして、製版した後、上記性
4)と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマス
ターとしてオフセット印刷機(桜井製作所(株)製オリ
バー52型)にかけ上質紙を印刷用紙として用いて、印
刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じ
ないで印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛
性が良好なことを表わす)。
Note 5] Printing durability After making a plate in the same manner as in the imaging property of property 2) above, it was desensitized under the same conditions as property 4) above, and this was used as an offset master in an offset printing machine (Sakurai Seisakusho Co., Ltd.). This indicates the number of sheets that can be printed using high-quality paper (manufactured by Oliver Model 52) as the printing paper without causing problems with scumming in the non-image areas and image quality in the image areas (the higher the number of sheets printed, the better the rigidity resistance. (represents something).

表−3に示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の平
滑性膜の機械的強度及び静電特性が良好で、実際の複写
画像も地力ブリがなく複写画質も鮮明であった。このこ
とは光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表
面を被覆していることによるものと推定される。同様の
理由で、オフセットマスター原版として用いた場合でも
不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非
画像部の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親
水化されていることが判る。実際に印刷して印刷物の地
汚れを観察しても地汚れは全く認められず、鮮明な画質
の印刷物が8000枚得られた。
As shown in Table 3, in the photosensitive material of the present invention, the smooth film of the photoconductive layer had good mechanical strength and electrostatic properties, and the actual copied images had no blurring and the quality of the copied images was clear. . This is presumed to be due to the photoconductor and the binder resin being sufficiently adsorbed and covering the particle surface. For the same reason, even when used as an offset master original, the desensitizing treatment with the desensitizing treatment liquid progresses sufficiently, and the contact angle with water in the non-image area is as small as 10 degrees or less, making it sufficiently hydrophilic. It can be seen that When actually printing and observing the background smear on the printed matter, no background smudge was observed, and 8,000 printed matter with clear image quality were obtained.

以上の事は、樹脂[A)の作用を疎外することなく、樹
脂〔B]あるいは樹脂〔B]と架橋剤の働きによって、
膜の強度を著しく向上させていることを示すものである
The above can be achieved by the function of resin [B] or resin [B] and crosslinking agent without alienating the effect of resin [A).
This shows that the strength of the film has been significantly improved.

実施例4 合成例13で製造した樹脂(A−13) 38g (固
形分量として)酸化亜鉛200g、下記構造のメチン色
素(C) 0.020g、無水マレイン酸0.30g及
びトルエン300gの混合物をボールミル中で4時間分
散した後、1.3−キシリレンジイソシアナート4gを
加え、更にボールミル中で10分間分散した。
Example 4 A mixture of 38 g (as solid content) of the resin (A-13) produced in Synthesis Example 13, 200 g of zinc oxide, 0.020 g of methine dye (C) having the following structure, 0.30 g of maleic anhydride, and 300 g of toluene was ball milled. After dispersing in a ball mill for 4 hours, 4 g of 1,3-xylylene diisocyanate was added, and the mixture was further dispersed in a ball mill for 10 minutes.

これを導電処理した紙に、乾燥付着量が22g/atと
なる様にワイヤーバーで塗布し、100”Cで15秒間
加熱した後、120″Cで2時間加熱した0次いで暗所
で20°C365%R1(の条件下で24時間放置する
ことにより電子写真感光材料を作製した。
This was applied to conductive-treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 22 g/at, heated at 100"C for 15 seconds, then heated at 120"C for 2 hours, then heated at 20°C in the dark. An electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours under the conditions of C365%R1.

メチン色素(C) 実施例3と同様にして、 各特性を測定し下表 実施例5〜12 実施例3において、樹脂(A−6)Log、樹脂〔B−
2)30g及び架橋剤としてのグルタコン酸4gの代わ
りに下記表−5の各樹脂及び架橋剤を各々用い、又、シ
アン色素〔B〕の代わりに下記構造のシアニン色素〔D
〕を0.020g用いた他は、実施例3と同様にして各
感光材料を作製した。
Methine dye (C) In the same manner as in Example 3, each characteristic was measured and shown in the table below.
2) In place of 30 g and 4 g of glutaconic acid as a crosslinking agent, each resin and crosslinking agent shown in Table 5 below was used, and in place of cyan dye [B], cyanine dye [D] having the following structure was used.
] Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 3, except that 0.020 g of .

シアニン色素(Dl C2H5CJs 実施例3と同様にして、各特性を測定した。表5には(
30℃、80%RH)条件下の静電特性を示した。
Cyanine dye (Dl C2H5CJs) Each characteristic was measured in the same manner as in Example 3. Table 5 shows (
The electrostatic properties were shown under conditions (30° C., 80% RH).

本発明の各感光材料は帯電性、暗電荷保持率、光感度に
優れ、実際の複写画像を高温高温(30°C180%R
1()の過酷な条件においても地力ブリの発生や細線飛
びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
Each of the photosensitive materials of the present invention has excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and can be used at high temperatures (30°C, 180% R
Even under the harsh conditions of 1(), clear images were produced without any occurrence of ground blur or fine line skipping.

オフセントマスター原版として印刷した所、いずれも、
地汚れのない、鮮明な画像の印刷物を6000枚以上印
刷できた。
All of the places printed as off-cent master originals,
We were able to print over 6,000 sheets with clear images and no background smudges.

実施例13〜16 下記の表−6樹脂〔A〕8g、下記表−6の樹脂CB)
X群20g、酸化亜鉛200g、前記シアニン色素(A
 ) O,OlBg、マレイン酸無水物0.30g及び
トルエン300.の混合物をボールミル中で4時間分散
した。
Examples 13 to 16 8 g of resin [A] in Table 6 below, resin CB in Table 6 below)
Group X 20g, zinc oxide 200g, the cyanine dye (A
) O, OlBg, maleic anhydride 0.30g and toluene 300. The mixture was dispersed in a ball mill for 4 hours.

これに下記表−6の樹脂[B)Y群を12g加え、ボー
ルミル中10分間更に分散した。これを導電処理した紙
に、乾燥付着量が25g/s+”となる様にワイヤーバ
ーで塗布し、100°Cで15秒間加熱した後、120
°Cで2時間更に加熱した。次いで、20’C165%
R1(の条件下で24時間放置することにより電子写真
感光材料を作製した。
To this was added 12 g of resin [B) group Y shown in Table 6 below, and further dispersed in a ball mill for 10 minutes. This was applied to conductive-treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g/s+'', and after heating at 100°C for 15 seconds,
Further heating was performed for 2 hours at °C. Then 20'C165%
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours under the conditions of R1.

本発明の各感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度Qこ優れ、実際の複写画像も高温高温(30°C
180%R旧の過酷な条件りこおいても、地力ブリの発
生のない鮮明な画像を得た。
Each of the photosensitive materials of the present invention has chargeability, dark charge retention,
The photosensitivity Q is excellent, and the actual copied images can be printed at high temperatures (30°C).
Even under the harsh conditions of 180% R, clear images were obtained with no soil burrs.

更に、これをオフセットマスター原版として用いて印刷
した所、6000枚でも鮮明な画質の印刷物を得た。
Furthermore, when this was used as an offset master master plate for printing, clear prints with clear image quality were obtained even after 6000 sheets.

実施例17 樹脂(A−5〕10g、下記樹脂CB −1,5) 1
.8g、酸化曲鉛200g、ローズヘンガルを0.50
g、テトラブロムフェノールブルーを0.25g、ウラ
ニンを0.30g、テトラヒドロフタル酸無水物0.3
0g及びトルエンを240ga合物し、ボールミル中で
4時間分散した。これに下記の樹脂[B −15) 1
2gを加え、10分間分散した。これを導電処理した紙
に、乾燥付着量が20g/m2となる様にワイヤーバー
で塗布し、110’Cで30秒間加熱した後、120°
Cで2時間加熱した。次いで、20°C165%RHの
条件下で24時間放置する二とにより電子写真感光材料
を作製した。
Example 17 Resin (A-5) 10g, following resin CB-1,5) 1
.. 8g, oxidized bent lead 200g, rose hengal 0.50g
g, 0.25 g of tetrabromophenol blue, 0.30 g of uranine, 0.3 g of tetrahydrophthalic anhydride
0g and 240ga of toluene were combined and dispersed in a ball mill for 4 hours. To this, the following resin [B-15) 1
2g was added and dispersed for 10 minutes. This was applied to conductive-treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g/m2, heated at 110'C for 30 seconds, and heated to 120°C.
The mixture was heated at C for 2 hours. Next, an electrophotographic light-sensitive material was prepared by allowing the mixture to stand for 24 hours at 20° C. and 165% RH.

樹脂:5−tS) CH3CH3 一1ニー CH2−C−−hB−↑CH,−C−光「−
C00C1lZC611,C00(CL) zOco(
C12COOH九 3.OXIO” (重量組成比) 実施例1と同様にしτ、各特性を測定しなところ以下の
結果が得られた。
Resin: 5-tS) CH3CH3 11 knee CH2-C--hB-↑CH,-C-light "-
C00C1lZC611, C00(CL) zOco(
C12COOH9 3. OXIO" (Weight composition ratio) The following results were obtained when τ and each characteristic were measured in the same manner as in Example 1.

光導電層の平滑性:  500(cc/5ea)静電特
性 V、、(V)  D、R,R(:)  E、/、0(f
fi 、、、・se0撮像性、(20°C165χRH
)及び(30°C180χRH)いずれの条件でも、良
好な複写画像を得た。
Smoothness of photoconductive layer: 500 (cc/5ea) Electrostatic properties V,, (V) D, R, R (:) E, /, 0 (f
fi , , se0 imaging performance, (20°C165χRH
) and (30°C, 180χRH) good copied images were obtained under both conditions.

耐剛性: 6000枚まで良好な印刷画像を得た。Rigidity resistance: Good printed images were obtained up to 6000 sheets.

以上の様に、本発明の感光材料は優れた電子写真特性と
高耐刷性を得ることができた。
As described above, the photosensitive material of the present invention was able to obtain excellent electrophotographic properties and high printing durability.

但し、静電特性及び盪像性は以下の通り↓こ行なった。However, the electrostatic properties and imageability were determined as follows.

静電特性: 温度20°C265%I?Hの暗室中で、各感光材料に
ペーパーアナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナ
ライザー5P−428型)を用いて6kVで20秒間コ
ロナ放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電
位ν、。を測定した。次いでそのまま暗中で60秒間静
置した後の電位v7゜を測定し、60秒間暗減衰させた
後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR(り 
]を、(V70/VIO) X 100(χ)で求めた
Electrostatic properties: Temperature 20°C 265% I? After corona discharge was applied to each photosensitive material for 20 seconds at 6 kV using a paper analyzer (Paper Analyzer 5P-428 model, manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.) in a dark room at 100 m, the surface potential at this time was measured. ν,. was measured. Next, the potential v7° was measured after being left in the dark for 60 seconds, and the retention of the potential after dark decay for 60 seconds, that is, the dark decay retention rate (DRR) was measured.
] was determined by (V70/VIO) x 100(χ).

又、コロナ放電により光導電層表面を一400vに帯電
させた後、該光導電層表面を照射2.0ルツクスの可視
光で照射し、表面電位(V、。)がl/10に減衰する
までの時間を求め、これから露光I E ly +。(
ルックス秒)を算出する。
Further, after the surface of the photoconductive layer is charged to -400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer is irradiated with visible light of 2.0 lux, and the surface potential (V,.) is attenuated to 1/10. Find the time until the exposure I E ly +. (
lux seconds).

邊像性: 感光材料の製版は、全自動製版機ELP404V(富士
写真フィルム(株)製)でELP−Tをトナーとして用
いて、トナー画像を形成した。
Side imageability: The photosensitive material was plate-made by using ELP-T as a toner with a fully automatic plate-making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) to form a toner image.

実施例18及び19 樹脂CA−22〕及びC123)各6.3g、下記表7
の樹脂(S)各33.7g、酸化亜鉛200g、ウラニ
ン0.02g、ローズヘンガル0.04 g、フロムフ
ェノールブルー0.03 g 、無水フタル酸0.40
g及びトルエン300gの混合物を、ボールミル中で4
時間分散して感光属形成物を調整し、これを導電処理し
た祇ふこ、乾燥付着量が24g/m”となる様にワイヤ
ーバーで塗布し、110 ’Cで1分間乾燥し1こ。次
に、高圧水銀灯で3分間露光した後、次いで暗所で20
゛C265%R1(の条件下で24時間放置することに
より各電子写真感光体を作製した。得られた感光体の特
性を表−8に示した。
Examples 18 and 19 Resin CA-22] and C123) 6.3 g each, Table 7 below
Resin (S) 33.7g each, zinc oxide 200g, uranine 0.02g, rose hengal 0.04g, fromphenol blue 0.03g, phthalic anhydride 0.40
A mixture of 300 g of toluene and 300 g of toluene was
The photosensitive material was prepared by dispersing it over time, and then applied with a wire bar to a conductive coating with a dry coating weight of 24 g/m'' and dried at 110'C for 1 minute.Next. After 3 minutes of exposure with a high-pressure mercury lamp, it was then exposed to light for 20 minutes in the dark.
Each electrophotographic photoreceptor was prepared by leaving it for 24 hours under the conditions of "C265%R1". The characteristics of the obtained photoreceptor are shown in Table 8.

本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高温の(30°
C−80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの
発生のない、鮮明な画像を与えた。
The photosensitive material of the present invention has chargeability, dark charge retention,
It has excellent photosensitivity, and the actual copied images can be used even at high temperatures (30°).
Even under the harsh conditions of (C-80% RH), clear images were produced with no soil blurring.

更に、これをオフセントマスターの原版として用いて、
印刷した所、5000〜6000枚でも鮮明な画質の印
刷物を得た。
Furthermore, using this as the original version of Offcent Master,
When printed, even 5,000 to 6,000 sheets were obtained with clear image quality.

実施例20〜28 結着樹脂として、下記表−9に記した樹脂〔A〕6.5
g及び樹脂(B ) 33.5g 、酸化亜鉛200g
、ローズベンガル0.05g 、テトラブロムフェノー
ルブルー0.03g、ウラニン0.02g、無水フター
ル酸0.01g及びトルエン240gの混合物をボール
ミル中で2時間分散した。この分散物に下記表−8の架
橋剤を所定量添加し、更に、ボールミル中で10分間分
散した。これを導電処理した紙に、乾燥付着量18g/
l12となる様にワイヤーパーで塗布し110℃で30
秒間加熱し、後、120°Cで2時間加熱した0次いで
20°C165%RHの条件下で24時間放置すること
により電子写真怒光材料を作製した。
Examples 20 to 28 As a binder resin, resin [A] 6.5 shown in Table 9 below
g and resin (B) 33.5g, zinc oxide 200g
A mixture of 0.05 g of Rose Bengal, 0.03 g of tetrabromophenol blue, 0.02 g of uranine, 0.01 g of phthalic anhydride, and 240 g of toluene was dispersed in a ball mill for 2 hours. A predetermined amount of the crosslinking agent shown in Table 8 below was added to this dispersion, and the mixture was further dispersed in a ball mill for 10 minutes. This was applied to conductive treated paper with a dry adhesion amount of 18g/
Apply it with a wire parr so that it becomes l12, and apply it at 110℃ to 30
An electrophotographic photoluminescent material was produced by heating for a second, then heating at 120°C for 2 hours, and then leaving it for 24 hours at 20°C and 165% RH.

本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高温の(30°
C−80%R1()の過酷な条件においても、地力ブリ
の発生のない、鮮明な画像を与えた。
The photosensitive material of the present invention has chargeability, dark charge retention,
It has excellent photosensitivity, and the actual copied images can be used even at high temperatures (30°).
Even under the harsh conditions of C-80%R1 (), clear images were provided with no soil blurring.

更に、これをオフセントマスターの原版として用いて印
刷した所、8000枚の所でも鮮明な画質の印刷物を得
た。
Furthermore, when printing was performed using this as an original plate of an off-cent master, prints with clear image quality were obtained even after printing 8,000 sheets.

(発明の効果) 本発明によれば、静電特性(とくに厳しい条件下での静
電特性)に優れた、鮮明で良質な画像を有し、更に優れ
た機械的強度を有する電子写真怒光体を得ることができ
る。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露光方
式に有効である。
(Effects of the Invention) According to the present invention, an electrophotographic flashlight that has excellent electrostatic properties (especially electrostatic properties under harsh conditions), clear and high-quality images, and furthermore has excellent mechanical strength. You can get a body. This is particularly effective for scanning exposure methods using semiconductor laser light.

式(Ia)又は(Ib)で示される特定のメタクリレー
ト成分を含有する繰り返し単位を本発明の樹脂に用いる
ことにより、更に静電特性が向上する。
By using a repeating unit containing a specific methacrylate component represented by formula (Ia) or (Ib) in the resin of the present invention, the electrostatic properties are further improved.

(ほか3名)(3 others)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含有する
光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記で表わされる結着樹脂〔A〕の少なくとも1種
と熱及び/又は光硬化性樹脂〔B〕及び架橋剤のうちの
少なくともいずれか1種とを含有することを特徴とする
電子写真感光体。 結着樹脂〔A〕 1×10^3〜2×10^4の重量平均分子量を有し、
−PO_3H_2基、−COOH基、−SO_3H基、
フェノール性OH基、▲数式、化学式、表等があります
▼基{Rは炭化水素基又は−OR′基(R′炭化水素基
を示す)を示す}及び環状酸無水物含有基から選択され
る少なくとも1つの酸性基を含有する少なくとも1つの
重合体成分から成るAブロックと下記一般式( I )で
示される重合体成分を少なくとも含有するBブロックと
から構成されるAB型ブロック共重合体。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式( I )中、R_1は炭化水素基を表わす。)(2
)該AB型ブロック共重合体におけるBブロックが下記
一般式( I a)及び一般式( I b)から選択される少
なくとも1つの繰り返し単位を30重量%以上含有する
事を特徴とする請求項(1)記載の電子写真感光体。 一般式( I a) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式( I b) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式( I a)又は( I b)中、X_1及びX_2は互
いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜10の炭化
水素基、塩素原子、臭素原子、−COZ_2又は−CO
OZ_2(Z_2は各々炭素数1〜10の炭化水素基を
示す)を表わす。但し、X_1とX_2がともに水素原
子を表わすことはない。 L_1及びL_2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を
結合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表
わす。] (3)該樹脂〔A〕が、更に熱及び/又は光硬化性官能
基を含有する繰り返し単位を共重合体成分として1〜3
0重量%含有する事を特徴とする請求項(1)又は(2
)記載の電子写真感光体。
Scope of Claims: (1) An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following binder resins [A]. 1. An electrophotographic photoreceptor comprising at least one of a thermosetting resin [B] and a crosslinking agent. Binder resin [A] has a weight average molecular weight of 1 x 10^3 to 2 x 10^4,
-PO_3H_2 group, -COOH group, -SO_3H group,
Phenolic OH group, ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ group {R represents a hydrocarbon group or -OR' group (R' indicates a hydrocarbon group)} and cyclic acid anhydride-containing group An AB type block copolymer comprising an A block comprising at least one polymer component containing at least one acidic group and a B block comprising at least a polymer component represented by the following general formula (I). General formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In formula (I), R_1 represents a hydrocarbon group.) (2
) A claim characterized in that the B block in the AB type block copolymer contains 30% by weight or more of at least one repeating unit selected from the following general formulas (Ia) and (Ib). 1) The electrophotographic photoreceptor described above. General formula ( I a) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula ( I b) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In formula ( I a) or ( I b), X_1 and X_2 are mutually independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, -COZ_2 or -CO
OZ_2 (Z_2 each represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). However, both X_1 and X_2 do not represent hydrogen atoms. L_1 and L_2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects -COO- to the benzene ring. ] (3) The resin [A] further contains 1 to 3 repeating units containing heat and/or photocurable functional groups as a copolymer component.
Claim (1) or (2) characterized in that it contains 0% by weight.
) The electrophotographic photoreceptor described above.
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EP90123810A EP0432727B1 (en) 1989-12-12 1990-12-11 Electrophotographic light-sensitive material
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009506135A (en) * 2005-07-14 2009-02-12 フイルメニツヒ ソシエテ アノニム Amphiphilic copolymer complex for controlled release of active molecules

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