JPH0430170A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

Info

Publication number
JPH0430170A
JPH0430170A JP13541790A JP13541790A JPH0430170A JP H0430170 A JPH0430170 A JP H0430170A JP 13541790 A JP13541790 A JP 13541790A JP 13541790 A JP13541790 A JP 13541790A JP H0430170 A JPH0430170 A JP H0430170A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin
formulas
tables
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13541790A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP13541790A priority Critical patent/JPH0430170A/en
Publication of JPH0430170A publication Critical patent/JPH0430170A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enhance electrostatic characteristics by using 2 kinds of specified binder resins. CONSTITUTION:One of the binder resins is an A-B graft copolymer having a weight average molecular weight of 1X10<3> - 2X10<4> and comprising A blocks each composed of at least one kind of repeating unit having an acid group, such as -PO3H2, -COOH, -SO3H, phenolic OH, and cyclic acid anhydrides, and B blocks each composed of at least one kind of repeating unit represented by formula I, and monofunctional macromonoers (MA) each having a weight average molecular weight of 1X10<3> - 2X10<4> and a polymerizable double bond and combined with the terminal of polymer chain of each B block of the A-B block copolymer. In formula I, each of a1 and a2 is H, halogen, cyano, or a hydrocarbon group, and A1 is -COO-, -OCO-, -O-, -SO2-, -CO-, -CONHCOO-, or -CONHCONH-, thus permitting electrostatic characteristics to be enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及び
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, and more particularly to an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic properties and moisture resistance.

特にCPC感光体として性能の優れたものに関す〔従来
の技術〕 電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構成
をとる。
[Prior art] Particularly related to CPC photoreceptors with excellent performance Electrophotographic photoreceptors take various configurations in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process to which they are applied.

電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。
As representative electrophotographic photoreceptors, there are photoreceptors having a photoconductive layer formed on a support and photoreceptors having an insulating layer on the surface, which are widely used.

支持体と少なくとも1つの光導電層から構成される感光
体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電
、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像
形成に用いられる。
Photoreceptors, consisting of a support and at least one photoconductive layer, are used for imaging by most common electrophotographic processes, ie, charging, imagewise exposure and development, and optionally transfer.

更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数十枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている。
Furthermore, a method of using an electrophotographic photoreceptor as an offset original plate for direct plate making is widely used. Particularly in recent years, direct electrophotographic lithography has become important as a method for printing high-quality printed matter with a print count of several hundred to several dozen sheets.

電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着
樹脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体
層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層
の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰
が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度の
変化によってこれら特性を安定に保持していることが必
要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備
する必要がある。
The binder resin used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film-forming properties itself and ability to disperse photoconductive powder into the binder resin. The photoconductive layer of the recording layer has excellent adhesion to the base material, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, has low dark decay, large light decay, and low pre-exposure fatigue, and is highly resistant to changes in humidity during photographing. It is necessary to have various electrostatic properties such as the need to stably maintain these properties and excellent imaging performance.

更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。
Furthermore, research is being carried out on lithographic printing original plates using electrophotographic photoreceptors, and a binder resin for the photoconductive layer that has both the electrostatic properties of an electrophotographic photoreceptor and the printing properties of a printing original plate has been developed. is necessary.

しかしながら従来公知の結着樹脂には、特に帯電性、暗
電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があった。
However, conventionally known binder resins have many problems, particularly in electrostatic properties such as chargeability, dark charge retention, photosensitivity, and smoothness of the photoconductive layer.

これらの問題を解決するために、結着樹脂として酸性基
を重合体の側鎖に含有する共重合体成分を0.05〜l
O重量%含有する低分子量の樹脂又は酸性基を重合体主
鎖の末端に結合する低分子量の樹脂(Frw103〜1
04)を用いることにより、光導電層の平滑性及び静電
特性を良好にし、しかも地汚れのない画質を得ることが
それぞれ特開昭63−217354号及び特開昭64−
70761号及び特開平2−67563号に記載されて
いる。
In order to solve these problems, 0.05 to 1 liters of a copolymer component containing an acidic group in the side chain of the polymer was used as a binder resin.
A low molecular weight resin containing 0% by weight or a low molecular weight resin that binds an acidic group to the end of the polymer main chain (Frw103-1
04), the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer are improved, and image quality without background smear is obtained, as disclosed in JP-A-63-217354 and JP-A-64-1, respectively.
No. 70761 and JP-A-2-67563.

また、結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有
し、又は重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又は
光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−3
9690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は
重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技
術が特開平1−102573号、同2−874号にそれ
ぞれ開示され、更にVk樹脂の低分子量体(重量平均分
子量10”〜104)を高分子量(重量平均分子量10
4以上)の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭64−5
64号、同63−220149号、同63−22014
8号、特開平1−280761号、同1−116643
号及び同1−169455号に、かかる低分子量体を熱
及び/又は光硬化性*mと組合せて用いる技術が特開平
1−211766号及び同2−34859号にそれぞれ
開示されている、これらの技錯により、I!l鎖又は末
端に酸性基を含有する樹脂を用いたことによる上記特性
を阻害せずにさらに光導電層の膜強度を充分ならしめ、
機械的強度が増大されることが記載されている。
In addition, as a binder resin, a resin containing a polymeric component containing an acidic group in the side chain of the copolymer, or bonded to the end of the main chain of the polymer, and containing a thermally and/or photocurable functional group. The technique using this is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 1-100554 and Japanese Patent Application No. 1983-3.
9690, and JP-A-1-102573 and JP-A-2-874 disclose a technique of using a resin containing an acidic group in the side chain of the copolymer or bonding to the end of the main chain of the polymer in combination with a crosslinking agent. Furthermore, the low molecular weight form of Vk resin (weight average molecular weight 10'' to 104) is mixed with high molecular weight form (weight average molecular weight 10'').
The technology used in combination with resins of 4 or more is disclosed in JP-A-64-5
No. 64, No. 63-220149, No. 63-22014
No. 8, JP-A No. 1-280761, JP-A No. 1-116643
JP-A No. 1-211766 and JP-A No. 2-34859 disclose techniques for using such low molecular weight materials in combination with heat and/or photo-curable *m. By a trick, I! Furthermore, the film strength of the photoconductive layer is made sufficient without impeding the above-mentioned properties due to the use of a resin containing an acidic group at the l chain or terminal,
It is stated that mechanical strength is increased.

(発明が解決しようとする課l1l) しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温・
高温から低温・低湿まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対
して、より高い性能が要求される。
(Issues to be solved by the invention) However, even when these resins are used, the environment is high temperature and
It has been found that it is still insufficient to maintain stable performance when the temperature fluctuates significantly from high temperature to low temperature and low humidity. In particular, scanning exposure methods using semiconductor laser light require longer exposure times than conventional simultaneous exposure methods using visible light across the entire surface, and there are restrictions on exposure intensity. , higher performance is required in terms of photosensitivity.

更には、電子写真式平版印刷用原版において、半導体レ
ーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場合
、従来の感光体で実際に試験してみると、上記の静電特
性が不満足であるとともに、特にEl/!とE、、、、
との差が大きく複写画像の階調が軟調となり、更には露
光後の残留電位を小さくするのが困難となり、複写画像
のカブリが顕著となってしまい、又、オフセットマスタ
ーとして印刷しても、印刷物に印刷原稿の貼り込み跡が
出てしまう等の重大な問題となって現れた。
Furthermore, when a scanning exposure method using semiconductor laser light is adopted in an electrophotographic lithographic printing original plate, actual tests using a conventional photoreceptor show that the electrostatic properties described above are unsatisfactory. Especially El/! and E...
The large difference between the gradation and the gradation of the copied image becomes soft, and furthermore, it becomes difficult to reduce the residual potential after exposure, resulting in noticeable fogging of the copied image.Also, even when printed as an offset master, This has resulted in serious problems such as the appearance of pasted marks from printed manuscripts on printed matter.

本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する課
題を改良するものである。
The present invention is intended to improve the problems of conventional electrophotographic photoreceptors as described above.

本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである。
An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that stably maintains good electrostatic properties and produces clear, high-quality images even when the environment during copy image formation changes such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. It is to provide.

本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいCPC電子写真感光体を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photoreceptor with excellent electrostatic properties and low environmental dependence.

本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that is effective in a scanning exposure method using semiconductor laser light.

本発明の更なる目的は、電子写真式平版印刷原版として
、静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原
画に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全
面−様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず
、また耐剛性の優れた平版印刷原版を提供することであ
る。
A further object of the present invention is to use an electrophotographic lithographic printing original plate that has excellent electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity), reproduces a copy image that is faithful to the original image, and is capable of covering the entire surface of a printed matter. It is an object of the present invention to provide a lithographic printing original plate which does not generate not only such background stains but also dotted background stains and which has excellent rigidity resistance.

(課題を解決するための手段) 上記目的は、無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含
有する光導電層を有する電子写真感光体において、該結
着樹脂が、下記で表わされる結着樹脂〔A〕の少なくと
も1種及び結着樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有する
事を特徴とする電子写真感光体により達成されることが
見出された。
(Means for Solving the Problems) The above object is an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor and a binder resin, wherein the binder resin is a binder resin represented by the following: It has been found that this can be achieved by an electrophotographic photoreceptor characterized by containing at least one type of binder resin [A] and at least one type of binder resin [B].

樹脂〔A〕; POJm基、−coon基、−801基、フェノール性
(R’は炭化水素基)を示す)及び環状酸無水物含有基
から選択される少なくとも1つの酸性基を含有する重合
体成分を少なくとも1種含有するAブロックと、下記一
般式(1)で示される重合体成分を少なくとも含有する
Bブロックとから構成されるA−Bブロック共重合体の
Bブロックの重合体主鎖の末端に重合性二重結合基を結
合して成る一官i性マクロモノマー(以下マクロモノマ
ー(MA)と称することもある)を少なくとも1種共重
合成分として含有する重量平均分子量lXIO3〜2X
10’のグラフト型共重合体。
Resin [A]; Polymer containing at least one acidic group selected from POJm group, -coon group, -801 group, phenolicity (R' is a hydrocarbon group), and cyclic acid anhydride-containing group The polymer main chain of the B block of an A-B block copolymer composed of an A block containing at least one component and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (1). A weight average molecular weight lXIO3-2X containing at least one monofunctional i-character macromonomer (hereinafter sometimes referred to as macromonomer (MA)) having a polymerizable double bond group bonded to the terminal as a copolymerization component.
10' graft copolymer.

一般式(1) %式% 〔式(1)中、al及び幻はそれぞれ水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。
General formula (1) % formula % [In formula (1), al and phantom each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group.

A、は−coo−−oco−1→C11g馳−oco 
−t 一5O,N−−CONHCOO− −CONHCONII− 又は 化水素基を表わす)。
A, -coo--oco-1→C11ghas-oco
-t -5O, N--CONHCOO- -CONHCONII- or a hydrogen chloride group).

を表わす場合、R1は水素原子又は炭化水素基を表わす
、〕 結着樹脂〔B〕 : 下記一般式(I[[a)及び一般式(nib)で示され
る、重量平均分子量lXl0”〜1.5 X 10’の
ポリエステル型マクロモノマー(MB)のうちの少なく
とも1つを少なくとも重合体成分として含有する重量平
均分子量3XlO’〜l×106の共重合体。
When R1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, Binder resin [B]: Weight average molecular weight lXl0'' to 1. A copolymer having a weight average molecular weight of 3X1O' to 1x106 and containing at least one of 5X10' polyester type macromonomers (MB) as at least a polymer component.

一般式(Ia) X、 −Yl −COG +w+ −oco−111g
−COO+−R61一般式(Ifib) Xz−Yx  COO+Ws  Coo)Rat式(l
la)および(Illb)中、 単位を表わす。
General formula (Ia) X, -Yl -COG +w+ -oco-111g
-COO+-R61 general formula (Ifib) Xz-Yx COO+Ws Coo) Rat formula (l
In la) and (Illb), represents the unit.

[ 〕内は繰り返し fl及びf2は、互いに同じでも異なってもよく、各々
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8の炭
化水素基、−COO−T+又は炭素数1〜8の炭化水素
基を介したーC00−Tz (T+およびT、は各々炭
素数1〜18の炭化水素基を表わす)を表わす。
[ ] repeats fl and f2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, -COO-T+, or a carbonization group having 1 to 8 carbon atoms. -C00-Tz (T+ and T each represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms) via a hydrogen group.

Xlは、単結合もしくは−coo−−oco−+CHz
珍rCOO−1+C’ 両70CO(” +、U、は1
d。
Xl is a single bond or -coo--oco-+CHz
rare rCOO-1+C' both 70CO(" +, U, is 1
d.

は炭素数1〜12の炭化水素基を表わす)、又は−3o
w−を表わす。
represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms), or -3o
Represents w-.

Ylは、X、と−000−とを連結する基を表わす。Yl represents a group connecting X and -000-.

W、及びhは、互いに同じでも異なってもよく、各々二
価の脂肪族基、二価の芳香族基(各々の二d茸 価の有機残基の結合中に−0−−3−−N−(diは水
素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表わす) 、
−5on    Coo   −0CO0NHCO −NHCONH −CON  (dsはd2と同− d。
W and h may be the same or different, and each is a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group (-0--3-- in the bond of each 2d-valent organic residue). N- (di represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms),
-5on Coo -0CO0NHCO -NHCONH -CON (ds is the same as d2 - d.

1つの結合基を介在させてもよい)又はこれら残基の組
合せにより構成された有機残基を表わす。
may include one bonding group) or a combination of these residues.

R&lは水素原子、又は炭化水素基を表わす。R&l represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.

一般式(11b)ニおけるfl、f4、Xz、 Yz及
びれ、は各々一般式(Ia)におけるfl、ft、 X
1sY1及びR41と同一の内容を表わす。
fl, f4, Xz, Yz, and Y in general formula (11b) are respectively fl, ft,
Represents the same content as 1sY1 and R41.

賀、は二価の脂肪族基を表わす。, represents a divalent aliphatic group.

即ち、本発明に供される結着樹脂は、上記特定の酸性基
含有成分を含有するAブロックと上記一般式(1)で示
される重合体成分を含有するBブロックとのABブロッ
ク共重合体のBブロックの重合体主鎖の末端に重合性二
重結合基を結合して成る一官能性マクロモノマー(MA
)を少なくとも1種共重合成分として含有するグラフト
型共重合体から成る樹脂〔A〕と、一般式(n[a)又
は(Illb)で示されるマクロモノマー(1’lB)
のうちの少なくとも1種を含有する高分子量のグラフト
共重合体の樹脂〔B〕とから少なくとも構成される。
That is, the binder resin provided in the present invention is an AB block copolymer of an A block containing the above specific acidic group-containing component and a B block containing the polymer component represented by the above general formula (1). A monofunctional macromonomer (MA
) as a copolymerization component, and a macromonomer (1'lB) represented by the general formula (n[a) or (Illb)].
and a high molecular weight graft copolymer resin [B] containing at least one of the following.

前述の光導電層の平滑性及び静電特性を良化させるとし
て公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用いる
ものとして、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダ
ムに存在する樹脂あるいは重合体主鎖の片末端にのみ酸
性基を結合して成る樹脂が挙げられる。これに対し、本
発明の結着樹脂〔A〕は樹脂中に含有される酸性基が、
グラフト部分に存在し、且つ重合体主鎖から離れた所に
ブロック(即ちAブロック)で存在する様にした、著し
くポリマー分子鎖の化学構造を特定化したものである。
Among the acidic group-containing binder resins known to improve the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer mentioned above, low molecular weight polymers are used, and acidic group-containing polymeric components are randomly present in the polymer main chain. Examples include resins in which an acidic group is bonded only to one end of the polymer main chain. On the other hand, in the binder resin [A] of the present invention, the acidic groups contained in the resin are
It is a highly specific chemical structure of the polymer molecular chain, which is present in the graft portion and in the form of a block (ie, A block) at a location away from the polymer main chain.

本発明の樹脂〔A〕は重合体中のグラフト部の末端領域
に偏在する酸性基群が無機光導電体の化学量論的な欠陥
に充分に吸着し、重合体主鎖を構成する他のブロック部
分は、無機光導電体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆
していると推定される。この無機光導電体表面への充分
な吸着と、表面近傍の被覆の効果が公知の樹脂に比べ、
より一層効果的に行なわれることにより無機光導電体の
化学量論的な欠陥部が多少と変動しても、充分な吸着領
域をもつ事から常に安定した無機光導電体と樹脂〔A〕
との相互作用が保たれると推論され、本発明に従えば従
来公知の酸性基含有樹脂に比べて一段と良好に光導電体
のトラップを充分に補償すると共に湿度特性を向上させ
る一方、光導電体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制
することを見出した。
In the resin [A] of the present invention, the acidic groups unevenly distributed in the terminal region of the graft portion in the polymer sufficiently adsorb to the stoichiometric defects of the inorganic photoconductor, and the other acid groups constituting the main chain of the polymer It is estimated that the block portion loosely and sufficiently covers the surface of the inorganic photoconductor. Compared to known resins, this resin has sufficient adsorption to the surface of the inorganic photoconductor and coating effect near the surface.
Even if the stoichiometric defect area of the inorganic photoconductor varies slightly, the inorganic photoconductor and resin are always stable because they have a sufficient adsorption area.
It is inferred that the interaction between the photoconductor and the photoconductor is maintained, and the present invention can sufficiently compensate for traps in the photoconductor and improve the humidity characteristics, compared with conventionally known acidic group-containing resins. It was found that the particles were sufficiently dispersed and aggregation was suppressed.

従って、電子写真式平版印刷原版として光導電層表面の
平滑性の粗らい感光体を用いると、光導電体である酸化
亜鉛粒子と結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が
存在する杖履で光導電層が形成されるため、不感脂化処
理液による不惑脂化処理をしても非画像部の親水化が均
一に充分に行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を引
き起こし、結果として印刷物の非画像部の地汚れが生じ
てしまう。
Therefore, if a photoreceptor with a rough surface of the photoconductive layer is used as an electrophotographic planographic printing original plate, the dispersion state of the zinc oxide particles that are the photoconductor and the binder resin is not appropriate, resulting in the presence of aggregates. Since a photoconductive layer is formed on the sandals, even if the non-image areas are made hydrophilic even if treated with a desensitizing liquid, the non-image areas will not be made uniformly and sufficiently hydrophilic, causing printing ink to adhere during printing, resulting in As a result, background stains occur in non-image areas of printed matter.

そして樹脂〔B〕は、樹脂〔A〕を用いたことによる電
子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕のみ
では不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめると
ともに前記の如き環境が変動したり、低出力のレーザー
光を用いたりした場合でも十分に良好な撮像性を得るこ
とができることが判った。
Resin [B] does not impede the high performance electrophotographic properties obtained by using resin [A], and provides sufficient mechanical strength to the photoconductive layer, which is insufficient with resin [A] alone. It has been found that sufficiently good imaging performance can be obtained even when the environment changes as described above or when a low-output laser beam is used.

これは、無機光導電体の結着樹脂として、樹脂〔A〕と
樹脂〔B〕を各々樹脂の重量平均分子量並びに樹脂中の
酸性基の含有量及び結合位置等を特定化することで、無
機光導電体と樹脂との相互作用の強さを適度に変えるこ
とができたことによると推定される。即ち、相互作用の
より強い樹脂〔A〕が選択的に無機光導電体に適切に吸
着し、一方で樹脂〔A〕に比べて相互作用の弱い樹脂C
B)においては、電子写真特性を阻害しない程度に無機
光導電体とゆるやかに相互作用することで、上記した如
く電子写真特性及び機械的強度をともに著しく向上させ
ることができたと推定され本発明の樹脂を用いた場合に
、光導電体と結着樹脂の吸着・被覆の相互作用が適切に
行なわれ、且つ光導電層の膜強度が保持されるものであ
る。
This is achieved by specifying the weight average molecular weight of resin [A] and resin [B] as the binder resin of the inorganic photoconductor, as well as the content and bonding position of acidic groups in the resin. This is presumed to be due to the ability to appropriately change the strength of the interaction between the photoconductor and the resin. That is, resin [A] with stronger interaction is selectively and appropriately adsorbed to the inorganic photoconductor, while resin C with weaker interaction than resin [A]
In B), it is presumed that by interacting gently with the inorganic photoconductor to the extent that the electrophotographic properties are not inhibited, both the electrophotographic properties and the mechanical strength can be significantly improved as described above. When a resin is used, the adsorption/coating interaction between the photoconductor and the binder resin is properly performed, and the film strength of the photoconductive layer is maintained.

本発明における低分子量体の樹脂〔A〕のみを結着樹脂
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性においても良好で、しかも地汚れのない画質
が得られ、更に、CPC感光体あるいは数十枚の印刷枚
数のオフセット原版としては充分な膜強度が保有される
。しかし、ここで本発明の如(樹脂〔B〕を共存させる
ことで、樹脂〔A〕の機能を何ら疎外することなく樹I
I 〔A〕のみではいまだ不充分な光導電層の機械的強
度をより向上させることができた。従って、本発明の感
光体は、環境条件が変動しても優れた静電特性を有し且
つ、膜強度も充分であり、過酷な印刷条件下(例えば、
大型印刷機で印圧が強くなる場合など)でも1万枚以上
の印刷枚数が可能となった。
Even when only the low molecular weight resin [A] in the present invention is used as the binder resin, the photoconductor and the binder resin can sufficiently adsorb and coat the particle surface, which improves the smoothness of the photoconductive layer. It has good electrostatic properties, provides image quality without background staining, and has sufficient film strength to be used as a CPC photoreceptor or as an offset original plate for printing several tens of sheets. However, according to the present invention (by coexisting with resin [B], the resin I can be used without alienating the function of resin [A] at all)
I [A] alone was able to further improve the mechanical strength of the photoconductive layer, which was still insufficient. Therefore, the photoreceptor of the present invention has excellent electrostatic properties even under fluctuating environmental conditions, has sufficient film strength, and has excellent electrostatic properties even under harsh printing conditions (e.g.
It is now possible to print more than 10,000 sheets even when using large printing presses that require strong printing pressure.

本発明の樹脂〔A〕における該マクロモノマー(MA)
中の重合体成分は、上記の如く、A−ブロックとB−ブ
ロックとから構成されるが、このA−ブロック/B−ブ
ロックの存在割合は、好ましくは1〜70/99〜30
(重量比)であり、より好ましくは3〜50/97〜5
0(重量比)である。
The macromonomer (MA) in the resin [A] of the present invention
The polymer component therein is composed of A-block and B-block as described above, and the ratio of A-block/B-block is preferably 1 to 70/99 to 30.
(weight ratio), more preferably 3-50/97-5
0 (weight ratio).

本発明のグラフト共重合体[A)において、マクロモノ
マー(MA)と他の単量体(例えば式(It)の単量体
)の存在割合は、1〜60/99〜40(重量比)であ
り、好ましくは5〜40/95〜60(重量比)である
In the graft copolymer [A) of the present invention, the ratio of the macromonomer (MA) to other monomers (for example, the monomer of formula (It)) is 1 to 60/99 to 40 (weight ratio). and preferably 5-40/95-60 (weight ratio).

本発明の樹脂〔A〕における、マクロモノマー(MA)
中に含有される酸性基含有成分の存在量は、樹脂〔A〕
100重量部中に1〜30重量部であり、好ましくは5
〜20重量部である。即ち、上記樹脂〔A〕中での酸性
基の存在割合は、マクロモノマー(PI^)中でのA−
ブロックの組成比及び樹脂〔A〕でのマクロモノマー(
MA)の共重合比によって、好ましい比率に調整するこ
とができるものである。
Macromonomer (MA) in the resin [A] of the present invention
The amount of the acidic group-containing component contained in the resin [A]
It is 1 to 30 parts by weight in 100 parts by weight, preferably 5 parts by weight.
~20 parts by weight. That is, the proportion of acidic groups present in the resin [A] is the same as that of A- in the macromonomer (PI^).
Block composition ratio and macromonomer in resin [A] (
The ratio can be adjusted to a preferable value depending on the copolymerization ratio of MA).

更にこの樹脂〔A〕において、マクロモノマー(MA)
と共重合する成分として、下記一般式(II)で示され
る単量体が好ましく、特に下記一般式(na)及び/又
は(I[b)から選ばれる単量体が好ましい。
Furthermore, in this resin [A], macromonomer (MA)
As the component to be copolymerized with, a monomer represented by the following general formula (II) is preferable, and a monomer selected from the following general formula (na) and/or (I[b) is particularly preferable.

oo−Rg 〔式(It)中、R2は炭化水素基を表わす。oo-Rg [In formula (It), R2 represents a hydrocarbon group.

〕 〔式中、xl及びx2は互いに独立に、それぞれ水素原
子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素原子
、−COZ3又は−COOZs (Zsは各々炭素数1
〜10の炭化水素基を示す)を表わす、但し、Xlとx
2がともに水素原子を表わすことはない。
[In the formula, xl and x2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, -COZ3 or -COOZs (Zs each has 1 carbon number
~10 hydrocarbon groups), with the proviso that Xl and x
Both 2 do not represent a hydrogen atom.

L、及びり、はそれぞれ−C00−とベンゼン環を結合
する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす
、〕 樹脂〔A〕においてマクロモノマー(MA)と共重合す
る単量体として上記一般式(na)及び/又は一般式(
I[b)で示される置換ベンゼン環又はナフタレン環を
含有する置換基含有のメタクリレート単量体との共重合
体とを少な(とも含有する樹脂(以降この樹脂〔A〕を
樹脂(A′〕と称する)の場合には、より一層の電子写
真特性(特ニVto 、D、R,R,E+z+*)の向
上が達成される。
L, and each represent a single bond or a linking group with 1 to 4 linking atoms that connects -C00- to the benzene ring.] Monomer copolymerized with the macromonomer (MA) in the resin [A] The above general formula (na) and/or general formula (
A resin containing a small amount of a copolymer with a substituent-containing methacrylate monomer containing a substituted benzene ring or a naphthalene ring represented by I[b) (hereinafter, this resin [A] will be referred to as a resin (A')) ), further improvement in electrophotographic properties (especially Vto, D, R, R, E+z+*) is achieved.

この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メタ
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換基を
有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。
The reason for this is unknown, but one reason is that the effect of the planar benzene ring or naphthalene ring with a substituent at the ortho position, which is the ester component of methacrylate, is due to the effect of the zinc oxide interface in the film. This is thought to be due to proper arrangement of these polymer molecular chains.

結着樹脂〔A〕の分子量がlXIO3より小さくなると
、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方分子
量が2X10’より大きくなると本発明の樹脂であって
も高温・高温・低温・低湿の過酷な条件下での電子写真
特性(特に初期電位、暗減衰保持率)の変動が大きくな
り、安定した複写画像が得られるという本発明の効果が
薄れてしまう。
When the molecular weight of the binder resin [A] is smaller than 1XIO3, the film forming ability decreases and sufficient film strength cannot be maintained.On the other hand, when the molecular weight is larger than 2X10', even the resin of the present invention is susceptible to high temperature - Fluctuations in electrophotographic characteristics (particularly initial potential and dark decay retention) under harsh conditions of low humidity become large, and the effect of the present invention in obtaining stable copied images is diminished.

結着樹脂〔A〕におけるマクロモノマー(門^)含有量
が1.0重量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰
率、光感度)が低下し、又環境条件での電子写真特性の
変動が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせ
において、大きくなる。
If the macromonomer (monomer) content in the binder resin [A] is less than 1.0% by weight, electrophotographic properties (especially dark decay rate and light sensitivity) will decrease, and electrophotographic properties will fluctuate depending on environmental conditions. becomes particularly large in combination with a near-infrared to infrared spectral sensitizing dye.

これはグラフト部となるマクロモノマーが微かとなるこ
とで結果として従来のホモポリマーあるいはランダム共
重合体と殆んど同じ組成になってしまうことによると考
えられる。
This is thought to be due to the fact that the amount of the macromonomer that forms the graft portion is small, resulting in a composition that is almost the same as that of conventional homopolymers or random copolymers.

一層マクロモノマー(MA)の含有量が60%を越える
と、他の共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマ
クロモノマーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂
として用いても充分な電子写真特性が得られなくなって
しまう。
If the content of the macromonomer (MA) exceeds 60%, the copolymerizability of the macromonomer according to the present invention with monomers corresponding to other copolymerization components will not be sufficient, and even when used as a binder resin. It becomes impossible to obtain sufficient electrophotographic characteristics.

更に、高分子量の樹脂〔B〕は、上記マクロモノマー(
MB)のうちの少なくとも1種を含み且つ重合体主鎖の
末端に−POJz基、−5O3H基、COOH基、−O
H基、−P−11,基および環状酸無水H 吻合有基から選ばれる少なくとも1つの極性基を結合し
て成るグラフト型共重合体(以陵この高分子量体をとく
に樹脂〔B′〕とする)であることが好ましい。
Furthermore, the high molecular weight resin [B] contains the above macromonomer (
MB) and -POJz group, -5O3H group, COOH group, -O
A graft-type copolymer formed by bonding at least one polar group selected from H group, -P-11, group, and cyclic acid anhydride H anastomotic group (this polymer is especially suitable for use with resin [B']). ) is preferred.

特に、樹脂〔B〕の一般式(lla)及び/又は(Il
lb)のマクロモノマー(MB)において、R1又はR
th、が炭化水素基を表わす場合には、重合体主鎖に該
極性基を結合した樹脂であることが特に好ましい。
In particular, the general formula (lla) and/or (Il
In the macromonomer (MB) of lb), R1 or R
When th represents a hydrocarbon group, a resin in which the polar group is bonded to the main chain of the polymer is particularly preferable.

樹脂〔B〕の中でもとくに、重合体主鎖の末端に特定の
極性基を結合する樹脂〔B′〕では、樹脂〔A〕に比べ
、相互作用の弱い樹脂〔B′〕では、樹脂中の重合体主
鎖の末端の位置に結合した極性基が電子写真特性を疎外
しない程度に無機光導電体とゆるやかに相互作用するた
めより好ましい。
Among resins [B], in particular, resins [B'] that bond a specific polar group to the end of the polymer main chain have weaker interactions than resins [A]. A polar group bonded to the terminal position of the polymer main chain is more preferable because it interacts gently with the inorganic photoconductor to the extent that the electrophotographic properties are not adversely affected.

結合樹脂〔A〕と高分子量体:樹脂CB)の使用割合は
5〜60重量部重量部−95〜40であり、好ましくは
10〜40重量部対90〜60重量部である。
The ratio of the binder resin [A] and the polymer (resin CB) is 5 to 60 parts by weight - 95 to 40 parts by weight, preferably 10 to 40 parts by weight to 90 to 60 parts by weight.

次に本発明に供される結着樹脂〔A〕及び結着樹Ml 
〔B〕の詳細について説明する。
Next, the binder resin [A] and the binder tree Ml used in the present invention
[B] will be explained in detail.

本発明のグラフト型共重合体に供される一官能性マクロ
モノマー(HA)について更に具体的に説明する。
The monofunctional macromonomer (HA) used in the graft copolymer of the present invention will be explained in more detail.

マクロモノマー(MA)のA−ブロックを構成する成分
中に含有される酸性基としては、 POJz基、−Co
ol基、−801基、フェノール性OH基、厘 麗 炭化水素基)を示す)及び/又は環状酸無水物含有基が
挙げられ、好ましくは、−C0OH基、−5O3H(R
’は炭化水素基を表わす)を表わし、R及びR′は好ま
しくは炭素数1〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、2−ク
ロロエチル基、2−メトキシエチル基、3−エトキシプ
ロピル基、アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シク
ロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロヒル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、
フロロベンジル基、メトキシベンジル基等)、又は置換
されてもよい了り−ル基(例えば、フェニル基、トリル
基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、クロロフ
ェニル基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロ
ロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキ
シフェニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニ
ル基、アセチルフェニル基、ブトキシフェニル基等)等
を表わす。
The acidic groups contained in the components constituting the A-block of the macromonomer (MA) include POJz group, -Co
ol group, -801 group, phenolic OH group, Rinli hydrocarbon group) and/or cyclic acid anhydride-containing group, preferably -C0OH group, -5O3H (R
'represents a hydrocarbon group), and R and R' preferably represent an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (for example, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, allyl group, crotonyl group, butenyl group, Cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylproyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group,
fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or an optionally substituted aryl group (e.g., phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro -methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.).

また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
In addition, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic acid anhydride and aromatic dicarboxylic acid anhydride. It will be done.

脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシク
ロ(2,2,2)オクタンジカルボン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
Examples of aliphatic dicarboxylic anhydrides include succinic anhydride ring, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, and cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring. Examples include anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, 2,3-bicyclo(2,2,2)octane dicarboxylic acid anhydride ring, etc., and these rings include, for example, chlorine atom, bromine atom A halogen atom such as an atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a hexyl group, etc. may be substituted.

又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基
、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等
)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic anhydrides include phthalic anhydride rings, naphthalene-dicarboxylic anhydride rings, pyridine-dicarboxylic anhydride rings, thiophene-dicarboxylic anhydride rings, etc. For example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, methyl group, ethyl group,
It may be substituted with an alkyl group such as a propyl group or a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, etc.).

以上の如き「特定の酸性基を含有する重合体成分」は、
例えば、本発明のマクロモノマー(MA)の他のブロッ
ク成分を構成する重合体成分、即ち一般式(1)で示さ
れるメタクリレート成分等の相当するビニル系化合物と
共重合する、該酸性基を含有するビニル系化合物であれ
ばいずれでも用いることができる。
The above “polymer component containing a specific acidic group” is
For example, the polymer component constituting the other block components of the macromonomer (MA) of the present invention, that is, the acidic group that copolymerizes with the corresponding vinyl compound such as the methacrylate component represented by the general formula (1) Any vinyl compound that can be used can be used.

例えば、高分子学会績「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。
For example, see the Polymer Data Handbook published by the Polymer Science Society of Japan.
Basic Edition] Baifukan (published in 1986), etc.

具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル
酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体
、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブ
ロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−
シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−
βメトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸
、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半
アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(
例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、
2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エ
チル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半
エステル類、マレイン酸半アミド頬、ビニルベンゼンカ
ルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン
酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はア
リル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又
はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基
中に該酸性基を含有する化合物が挙げられる。
Specifically, acrylic acid, α- and/or β-substituted acrylic acid (e.g. α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-(2-amino)methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α -fluoro form, α-tributylsilyl form, α-
Cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-
β-methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (
For example, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid,
2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amide, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, Examples include half-ester derivatives of vinyl or allyl groups of vinyl sulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acids, and ester derivatives and amide derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, and compounds containing the acidic group in a substituent thereof.

これらの化合物の具体例として以下のものを挙げること
ができる。但し、以下の各側において、aは−H,−C
H3、−C1,−Br 、−CN−1−CHtCOOC
H3又は cozcoouを示し、 bは−H又は−〇Lを示し、 は2〜18の整数を示し、 mは1〜12の整数を示し、 lは1〜4の整数を示す。
Specific examples of these compounds include the following. However, on each side below, a is -H, -C
H3, -C1, -Br, -CN-1-CHtCOOC
H3 or cozcoou, b represents -H or -○L, represents an integer of 2 to 18, m represents an integer of 1 to 12, l represents an integer of 1 to 4.

(a oon 0OH (a−3) (a−4) (a−5) (a−6) (a−7) 〒 (a−8) デ (a−9) (a−10) 〒 (a−11) 0NHCH cttzcoo。(a oon 0OH (a-3) (a-4) (a-5) (a-6) (a-7) 〒 (a-8) de (a-9) (a-10) 〒 (a-11) 0NHCH cttzcoo.

(a−13) (a (mは同じでも異なってもよい) (a−15) CHz=CHCHzOCO(CHz)mcOOH(a−
16) CH2= CH+ cut +−coon(a−17) C00CHzCHCHz00C(CHz)−COOH(
a−18) (a−19) (a 〒 (a−21) (a−22) (a−23) H (a−24) (a−25) (a−26) (a−27) H H H (a−28) (a (a−30) (a−31) (a−32) (a−33) (a−34) (a−35) (a−36) CON (CHgGHzcOOH) t(a−37) C00(CHz)I C0N(CH2CH2COOH)
 z(a−38) 03H (a−39) (a−40) 〒 UOH (a−41) (a−42) (a−43) (a−44) (a−45) OH 上記の如き酸性基含有成分はへブロック中に2種以上含
有されていてもよく、これら2種以上の酸性基含有成分
はAブロック中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれで含有されていてもよい。 更に、酸性基
含有成分とともに、酸性基を含有しない成分(例えば後
述式(1)で示される成分)をAブロック中に含有して
いてもよいが、酸性基含有成分はAブロック中において
30〜100重量%存在することが好ましい。
(a-13) (a (m may be the same or different) (a-15) CHz=CHCHzOCO(CHz)mcOOH(a-
16) CH2= CH+ cut +-coon (a-17) C00CHzCHCHz00C(CHz)-COOH(
a-18) (a-19) (a 〒 (a-21) (a-22) (a-23) H (a-24) (a-25) (a-26) (a-27) H H H (a-28) (a (a-30) (a-31) (a-32) (a-33) (a-34) (a-35) (a-36) CON (CHgGHzcOOH) t(a -37) C00 (CHz) I C0N (CH2CH2COOH)
z (a-38) 03H (a-39) (a-40) UOH (a-41) (a-42) (a-43) (a-44) (a-45) OH Acidic group as above Two or more types of components may be contained in the A block, and these two or more types of acidic group-containing components may be contained in the A block by either random copolymerization or block copolymerization. Furthermore, together with the acidic group-containing component, a component not containing an acidic group (for example, a component represented by formula (1) described below) may be contained in the A block, but the acidic group-containing component is Preferably it is present at 100% by weight.

次に上記マクロモノマーにおいて、B−ブロックを構成
する成分即ち一般式(1)で表われる繰り返し単位につ
いて説明する。
Next, the components constituting the B-block in the macromonomer, ie, the repeating unit represented by general formula (1), will be explained.

一般式(1)においてA1は−000−1−OCO−+
CH!丈0CO−1千CH,鳩coo −C1+ 、 
lxは1〜3の整数を表わす)、−0−1−5Offi
ここで、ZIは水素原子のほか、 好ましい炭化水 素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエ
チル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキ
シエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜1
8の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチ
ルl−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル
基、3−メチル−2−ペンテニル基、1ペンテニル基、
1−へキセニル基、2−へキセニル基、4−メチル−2
−へキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよ
いアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、
3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフ
チルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、
メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)
、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、
シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−
シクロペンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12の置
換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチ
ル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブ
チルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブト
キシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェ
ニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シア
ノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキ
シカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プ
ロピオアミドフェニル基、ドブシロイルアミドフェニル
基等)があげられる。
In general formula (1), A1 is -000-1-OCO-+
CH! Length 0CO-1000CH, pigeon coo-C1+,
lx represents an integer from 1 to 3), -0-1-5Offi
Here, in addition to a hydrogen atom, ZI preferably includes an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group). , octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2
-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), carbon number 4-1
8 optionally substituted alkenyl groups (e.g., 2-methyl l-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group,
1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2
-hexenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group,
3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group,
methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.)
, an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (for example,
Cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-
cyclopentylethyl group, etc.), or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group) group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dobcyroylamidophenyl group, etc.).

R1は炭化水素基を表わし、好ましくは上記zlで好ま
しい炭化水素基として挙げたものと同様のものである。
R1 represents a hydrocarbon group, preferably the same as those listed as preferred hydrocarbon groups in zl above.

の池水素原子を表わし、更にベンゼン環は置換基を有し
てもよい、置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メト
キシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げ
られる。
Furthermore, the benzene ring may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy group (e.g. methoxy group,
ethoxy group, propioxy group, butoxy group, etc.).

al及びa、は、互いに同じでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等) 、−cooz、又は炭化水素を介したCC00Z
  (Z!は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリ
ール基を表わし、これらは置換されていてもよく、具体
的には、上記zlについて説明したものと同様の内容を
表わす)を表わす。
al and a may be the same or different from each other,
Preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), -cooz, or CC00Z via hydrocarbons
(Z! represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, or an aryl group, which may be substituted. Specifically, regarding the above zl) represents the same content as that described).

上記炭化水素を介した一Coo−Zz基における炭化水
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon in one Coo-Zz group via the hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and the like.

更に好ましくは、 一般式(1) %式% ってもよく、水素原子、メチル基、−COOZ、又はC
HzCOOZz (Zはより好ましくは水素原子又は炭
素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)を表わす)を表
わす。更により好ましくは、al+ azにおいていず
れか一方が水素原子を表わす。
More preferably, the general formula (1) may be a hydrogen atom, a methyl group, -COOZ, or C
HzCOOZz (Z is more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group,
represents a propyl group, a butyl group, a hexyl group, etc.). Even more preferably, one of al+az represents a hydrogen atom.

更には該B−ブロック中に式(1)の単量体以外の重合
体成分が含有されていてもよく、式(1)に示される重
合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し単位に相当
する単量体として、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニル
イミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジ
ン等)等が挙げられる。これら他の単量体はB−プロッ
クの全重合体成分100重量部中20重量部を越えない
範囲で用いられる。又、該Bブロック中には、該A−ブ
ロックの構成成分である酸性基を含有する重合体成分を
含有しない事が好ましい、Bブロックにおいて2種以上
の共重合成分が存在する場合には、これら2種以上の共
重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又はブロ
ック共重合のいずれで含有されていてもよいが、合成の
簡便さよりランダムに含有されることが好ましい。
Furthermore, the B-block may contain a polymer component other than the monomer of formula (1), which corresponds to another repeating unit that can be copolymerized with the polymer component represented by formula (1). Examples of monomers include acrylonitrile, methacrylonitrile, heterocyclic vinyls (e.g. vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene,
vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl oxazine, etc.). These other monomers are used in an amount not exceeding 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total polymer components of B-block. In addition, it is preferable that the B block does not contain a polymer component containing an acidic group, which is a constituent component of the A-block. When two or more types of copolymer components are present in the B block, These two or more types of copolymerization components may be contained in the B block by either random copolymerization or block copolymerization, but it is preferable to contain them randomly for ease of synthesis.

次に本発明のマクロモノマー(M)において上記した酸
性基を含有する成分から成るAブロックと一般式(1)
で示される重合体成分を含有することから成るBブロッ
クをA−B型で連結し且つA−ブロックと連結するBブ
ロックの他の末端に連結される重合性二重合基について
説明する。
Next, in the macromonomer (M) of the present invention, the A block consisting of the component containing the above-mentioned acidic group and the general formula (1)
A description will be given of the polymerizable double group that connects the B block containing the polymer component represented by the formula in an AB type and is connected to the other end of the B block that is connected to the A-block.

具体的には下記一般式(IV)で示される重合性二重結
合基が例として挙げられる。
Specifically, a polymerizable double bond group represented by the following general formula (IV) can be mentioned as an example.

一般式(IV) b+  bz CH=C A、− 〔式(IV)中、^、は式(1)中のA1と同一の内容
を表わす。b、、 b!は互いに同一でも異なってもよ
く、式(1)中のal、 agと同一の内容を表わす。
General formula (IV) b+ bz CH=C A, - [In formula (IV), ^ represents the same content as A1 in formula (1). b,, b! may be the same or different from each other, and represent the same contents as al and ag in formula (1).

〕即ち、一般式(IV)で示される重合性二重結合基C
Hz=CH+CL)g  C0O− C1(、=C)I−CO− CHz =CH−(CTo) 2 0  C−等が挙げ
られる。
] That is, the polymerizable double bond group C represented by the general formula (IV)
Hz=CH+CL)gC0O-C1(,=C)I-CO-CHz=CH-(CTo)20C-, and the like.

本発明に供されるマクロモノマー(M)は上述の如きB
−ブロックの片末端に、一般式(IV)で示される如き
重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任意
の連結基で結合された化学構造を有するものである。連
結する基としては、炭素−炭素結合(−重結合あるいは
二重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子として
は例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原
子等)へテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組
合せで構成されるものである。即ち、具体的には、単な
る結合または、−f−1−(as+ R,はそれぞれ水
素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシ/L4、アルキ
ル基(例えはメチル基、エチル基、プロピル基等)等を
示す〕、 R1 SO□ C0N−−5o□N−−NHCOO Rs       Rs R1 Rも 子、前記式(1)におけるR1と同様の内容を表わす炭
化水素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結
基もしくは任意の組合せで構成された連結基を表わす。
The macromonomer (M) used in the present invention is B as described above.
- It has a chemical structure in which a polymerizable double bond group as represented by general formula (IV) is directly bonded to one end of the block or bonded by an arbitrary linking group. Linking groups include carbon-carbon bonds (-double bonds or double bonds), carbon-heteroatom bonds (heteroatoms include, for example, oxygen atoms, sulfur atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, etc.), heteroatoms, etc. It is composed of any combination of atomic groups of teloatomic bonds. That is, specifically, a simple bond or -f-1-(as+ R, each represents a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, a hydroxy/L4, an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.)], R1 SO□ C0N--5o□N--NHCOO Rs Rs R1 R also represents the same content as R1 in the above formula (1) represents a single linking group or a linking group composed of any combination selected from atomic groups such as [indicating hydrocarbon groups, etc.].

マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×104を
超えると、他のモノマー(例えば式(It)との共重合
性が低下するため好ましくない、他方、重量平均分子量
が小さすぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小
さくなるため、lXl0’以上であることが好ましい。
If the weight average molecular weight of the macromonomer (M) exceeds 2 x 104, the copolymerizability with other monomers (for example, formula (It)) will decrease, which is undesirable. On the other hand, if the weight average molecular weight is too small, the photosensitive layer Since the effect of improving electrophotographic properties becomes small, it is preferable that it is lXl0' or more.

本発明のマクロモノマー(M)は、従来公知の合成方法
よって製造することができる。例えば、該特定の酸性基
を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸性
基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物(
例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソピルアミド
、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨウ化
水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応で、ポルフィリ
ン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ
移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でA
−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングポリ
マーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基
を導入する。この後、酸性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは、光分
解反応等によって、脱保護反応を行ない、酸性基を形成
させる方法が挙げられる。その1つの例を下記の反応ス
キーム(1)に示した。
The macromonomer (M) of the present invention can be produced by a conventionally known synthesis method. For example, in the monomer corresponding to the polymer component containing the specific acidic group, the acidic group is previously protected as a functional group, and the organometallic compound (
Ionic polymerization reactions using hydrogen iodide, iodine, etc.), photopolymerization reactions using porphyrin metal complexes as catalysts, or group transfer polymerization reactions. In the so-called living polymerization reaction of A
After synthesizing the -B block copolymer, various reagents are reacted at the ends of this living polymer to introduce polymerizable double bond groups. Thereafter, the functional group with the protected acidic group is deprotected by hydrolysis reaction, hydrogenolysis reaction, oxidative decomposition reaction, photolysis reaction, etc. to form an acidic group. One example is shown in reaction scheme (1) below.

例えば、P、Lutz、 P、Masson etal
、 Polym、Bull、。
For example, P, Lutz, P, Masson et al.
, Polym, Bull.

1i+ 79(1984)  B、C,Anderso
n、 G、D、Andrews eta1Macron
+olecules、  14. 1601(1981
)  K、Hatada、  KUte、etal、 
Po1y+++、J、17.977(1985)、18
.1037(1986)。
1i+ 79 (1984) B, C, Anderso
n, G, D, Andrews eta1Macron
+olecules, 14. 1601 (1981
) K, Hatada, KUte, etal,
Po1y+++, J, 17.977 (1985), 18
.. 1037 (1986).

右手浩−1畑田耕−1高分子加工、皿、 366(19
87)東村敏延、沢本光男、高分子論文集、46.18
9(1989)  M、にuroki、 T、^ida
、 T、Am、Chem、Soc、 1094737 
(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、4
3、300(1985)  D、Y、Sogah、 W
、R,Hertler etal。
Hiroshi Migashi-1 Ko Hatada-1 Polymer processing, plate, 366 (19
87) Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Collection of Polymer Papers, 46.18
9 (1989) M, Niuroki, T, ^ida
, T,Am,Chem,Soc, 1094737
(1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 4
3, 300 (1985) D, Y., Sogah, W.
, R. Hertler et al.

Macromolecules、 別、 1473(1
987)等に記載の合成方法に従って容易にリビングポ
リマーを合成することができる。又、該リビングポリマ
ーの末端に重合性二重結合基を導入する方法としては、
従来公知のマクロモノマー法の合成法に従って容易に本
発明のマクロモノマーとすることができる。
Macromolecules, separate, 1473 (1
Living polymers can be easily synthesized according to the synthesis method described in 987) and others. In addition, as a method for introducing a polymerizable double bond group to the terminal of the living polymer,
The macromonomer of the present invention can be easily prepared according to the conventionally known macromonomer synthesis method.

具体的には、P、Dreyfuss & R,P、Qu
irk、 EncyclPolym、Sci、Eng、
、 1L551(1987)、 P、F、Rempp。
Specifically, P, Dreyfuss & R, P, Qu
irk, EncyclePolym, Sci, Eng,
, 1L551 (1987), P.F. Rempp.

E、Franta、 Adu、、 Polym、Sci
、l、 1(1984)、V、Per−cec、App
l、、 Polym、Sci、、肢95(1984)、
 R,^samiM−TakaRit Makva*o
1.Che+a、5upp1.12.163(19B5
LP、Rempp、etal、  門akvamo1.
chem、5upp1.8 3(1984)用上雄資、
化学工業、川、 56(1987)、山下雄也、高分子
、31.988(1982) 、小林四部、高分子、共
625(1981) 、東村敏延、日本接着協会訪 1
8,536(1982)、伊藤浩−1高分子加工、剥、
262(1986)、東責四部、津田隆、機能材料、1
987  No、10.5等の総説及びそれに引例の文
献・特許等に記載の方法に従って合成することができる
E, Franta, Adu, Polym, Sci.
, l, 1 (1984), V, Per-cec, App.
l, Polym, Sci, Limb 95 (1984),
R, ^samiM-TakaRit Makva*o
1. Che+a, 5upp1.12.163 (19B5
LP, Rempp, etal, phylum akvamo1.
Yuji Kami for chem, 5upp1.8 3 (1984),
Chemical Industry, Kawa, 56 (1987), Yuya Yamashita, Polymer, 31.988 (1982), Yobe Kobayashi, Polymer, 625 (1981), Toshinobu Higashimura, Japan Adhesive Association Visit 1
8,536 (1982), Hiroshi Ito-1 Polymer processing, peeling,
262 (1986), Tosaku Shibu, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1
It can be synthesized according to the methods described in reviews such as 987 No. 10.5 and the literature/patents cited therein.

又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
護基の脱1ii1(脱保護反応)については、従来公知
の知見を利用して容易に行なうことができる。例えば前
記した引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉
義男、栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(197
7年) 、T、W、GreenerProtectiv
e Groups in Organic 5ynth
esis」、John Wiley & 5ous(1
981年) 、J、F、W、McOmie。
Furthermore, the protecting group that protects the specific acidic group of the present invention and the removal (deprotection reaction) of the protecting group can be easily carried out using conventionally known knowledge. For example, there are various descriptions in the cited literature mentioned above, and furthermore, Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymer" ■ Published by Kodansha (197
7 years), T, W, GreenerProtectiv.
e Groups in Organic 5ynth
John Wiley & 5ous (1
(981), J., F., W., McOmie.

’Protective  Groups  in  
Organic  Che+n1stry」Plenu
m Press、(1973年)等の総説に詳細に記載
されている方法を適宜選択して行なうことができる。
'Protective Groups in
Organic Che+n1stry” Plenu
This can be carried out by appropriately selecting a method described in detail in a review article such as M Press, (1973).

他のA−B型ブロック共重合体の合成法とじてば、ジシ
オカーバメント化合物を開始剤とした光イニファーター
重合法によって合成することもできる。例えば、大津除
行、高分子、釘、 248(1988)、檜森俊−1大
津隆−1Polym、Rep、Jap、37.3508
(1988)、特開昭64−111号、特開昭64−2
6619号等に記載の合成方法に従って合成される。こ
れを上記したマクロモノマー合成法を利用して本発明の
マクロモノマーを得ることができる。
As for other methods of synthesizing AB type block copolymers, they can also be synthesized by a photoiniferter polymerization method using a dithiocarbament compound as an initiator. For example, Yoshiyuki Otsu, Polymer, Nail, 248 (1988), Shun Himori-1 Takashi Otsu-1 Polym, Rep, Jap, 37.3508
(1988), JP-A-64-111, JP-A-64-2
It is synthesized according to the synthesis method described in No. 6619 and the like. The macromonomer of the present invention can be obtained using the macromonomer synthesis method described above.

本発明のマクロモノマー(MA)は、具体的には、下記
の化合物を例として挙げることができる。但し、本発明
の範囲は、これらに限定されるものではない、但し、下
記化合物例において、c、d及びeはそれぞれ、−H,
−C1(3又は−CH2COOCH3を示し、fは−H
又は−CH,を示し、R1は−CJp++(pは1〜1
8の整数) 、−(CHz)acJs (qは1〜−C
H,、−0CH3又は−COCH3を示す)又はを示す
、R8は C5H2s−+(s は1〜8の整数) 又は (CH2)、C,ll、を示し、 v2は OH。
Specific examples of the macromonomer (MA) of the present invention include the following compounds. However, the scope of the present invention is not limited to these. However, in the following compound examples, c, d and e are respectively -H,
-C1 (3 or -CH2COOCH3, f is -H
or -CH, and R1 is -CJp++ (p is 1 to 1
8 integer) , -(CHz)acJs (q is 1 to -C
H,, -0CH3 or -COCH3) or R8 is C5H2s-+ (s is an integer of 1 to 8) or (CH2), C,ll, v2 is OH.

C0OH。C0OH.

5O3H。5O3H.

CH CH 示し、 tは2〜12の整数を示し、 Uは2〜6の 整数を示す。CH CH show, t represents an integer from 2 to 12, U is from 2 to 6 Indicates an integer.

(MA−1) (MA−2) (11A (MA−6) (M八−7) (M八−8) H@ しOUビア しυU(Lllth−Y3 (M八 CI(2 (MA−10) (MA−11) (M八−12) CH。(MA-1) (MA-2) (11A (MA-6) (M8-7) (M8-8) H@ Shiou Beer しυU(Lllth-Y3 (M8 CI(2 (MA-10) (MA-11) (M8-12) CH.

(M^ (MA−14) (MA (MA 前記したマクロモノマー(MA)と共重合する単量体は
例えば一般式(It)で示される。式(It)において
R2は式(1)中のR1と同一の内容を表わす。
(M^ (MA-14) (MA (MA) The monomer copolymerized with the macromonomer (MA) described above is represented by, for example, the general formula (It). In the formula (It), R2 is the one in the formula (1). Represents the same content as R1.

又、重合体主鎖中には、−P03H2基、 5O3H基
、coon基、−OH基、−5H基及び−PO3RH基
の酸性基を含有する共重合成分を含有しないものが好ま
しい。
Further, it is preferable that the main chain of the polymer does not contain copolymerization components containing acidic groups such as -P03H2 group, 5O3H group, Coon group, -OH group, -5H group and -PO3RH group.

更に、本発明の低分子量の樹脂〔A〕は、一般式(Il
a)及び/又は一般式(I[b)で示される2位又は2
.6−位に特定の置換基を有するベンゼン環又はナフタ
レン環を含有する特定の置換基をもつメタクリレートを
共重合成分として含有するグラフト共重合体〔A′〕で
ある事が好ましい。
Furthermore, the low molecular weight resin [A] of the present invention has the general formula (Il
a) and/or the 2-position or 2-position represented by the general formula (I[b)
.. A graft copolymer [A'] containing as a copolymer component a methacrylate having a specific substituent containing a benzene ring or a naphthalene ring at the 6-position is preferable.

一般式(Ila)において、好ましいxl及びx2とし
てそれぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに
、好ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばヘンシル基
、フェネチル基、3フエニルプロピル基、クロロベンジ
ル基、ジクロロベンジルL ブロモヘンシル基、メチル
ヘンシル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチルベン
ジル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル
基、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基
、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並びに
−COZ、及び−COOZ3  (好ましい2.として
は上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙げる
ことができる)を挙げることができる。但し、×1とX
2がともに水素原子を表わすことはない。
In the general formula (Ila), in addition to hydrogen, chlorine, and bromine atoms as preferable xl and x2, preferable hydrocarbon groups include alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group). , butyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (e.g. hensyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl L bromohensyl group, methylhensyl group, methoxybenzyl group, chloro-methylbenzyl group) etc.), aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, silyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, etc.), -COZ, and -COOZ3 (preferable 2. is the above-mentioned preferred hydrocarbon group) ) can be mentioned. However, ×1 and
Both 2 do not represent a hydrogen atom.

式目1)において、Llは一〇〇〇−とベンゼン環を結
合する、単結合又は +CH2±[(−1は1〜3の整
数を表わす) 、CHtCHzOCO、−(CHzO)
tT(−2は1又は2の整数を表わす) 、−CH2C
)120等の如き連結原子数1〜4個の連結基を表わす
In formula 1), Ll is a single bond or +CH2±[(-1 represents an integer from 1 to 3), CHtCHzOCO, -(CHzO) that connects 1000- to the benzene ring.
tT (-2 represents an integer of 1 or 2), -CH2C
) 120 etc. represents a linking group having 1 to 4 linking atoms.

式(II b)におけるL2はし、と同一の内容を表わ
す。
L2 in formula (II b) represents the same content as .

本発明の樹脂〔A′〕で用いられる、式(Ila)又は
(It b)で示される単量体の具体例を以下に挙げる
。しかし、本発明の範囲は、これらに限定さされるもの
ではない。
Specific examples of the monomer represented by formula (Ila) or (It b) used in the resin [A'] of the present invention are listed below. However, the scope of the present invention is not limited thereto.

■−1)        CH3 ■−2) ■ ■−4) ■−6) CHl CH。■-1) CH3 ■-2) ■ ■-4) ■-6) CHl CH.

CH3 CH3 C,H。CH3 CH3 C,H.

■ CH3 CH2=C し! ■ CH3 r ■ CH3 If−10) CH。■ CH3 CH2=C death! ■ CH3 r ■ CH3 If-10) CH.

■ ■ II−13) n−14) CH。■ ■ II-13) n-14) CH.

r CH3 CO。r CH3 C.O.

CH。CH.

■ ■ ■ ■ CH。■ ■ ■ ■ CH.

CI。C.I.

CI(。CI(.

しl ■ ■ ■ ■ L C)+3 CI CH。Shil ■ ■ ■ ■ L C) +3 C.I. CH.

■ ■ ■ ■ CH3 CH3 しI CH。■ ■ ■ ■ CH3 CH3 I CH.

■ CH3 ■ CH3 It−29) CI(。■ CH3 ■ CH3 It-29) CI(.

■ CH。■ CH.

■ CH3 ■ CH3 CH,=c If−33) II−34) CH3 CH,=c ■ ■ U−37) ■ CH。■ CH3 ■ CH3 CH,=c If-33) II-34) CH3 CH,=c ■ ■ U-37) ■ CH.

CH3 CH。CH3 CH.

H3 ■ CHl ■ C)+3 更には、本発明のグラフト型共重合体において上記マク
ロモノマー(MA)と共重合する成分としては、一般式
(II)、(na)又は(Ilb)以外の単量体であっ
てもよく、例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニ
ル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例え
ば窒素原子以外の非金属原子(酸素原子、イオウ原子等
)を1〜3個含有する5員〜7員環の複素環であり、具
体的な化合物として、ビニルチオフェン、ビニルジオキ
サン、ビニルフラン等〕等が挙げられる。
H3 ■ CHl ■ C)+3 Furthermore, as a component to be copolymerized with the above macromonomer (MA) in the graft copolymer of the present invention, monomers other than general formula (II), (na) or (Ilb) For example, α-olefins, vinyl alkanoates or allyl esters, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, acrylamides, methacrylamides, styrenes, heterocyclic vinyls [e.g. It is a 5- to 7-membered heterocyclic ring containing 1 to 3 nonmetallic atoms (oxygen atoms, sulfur atoms, etc.), and specific examples include vinylthiophene, vinyl dioxane, vinylfuran, etc. It will be done.

好ましい例としては、例えば、炭素数1〜3のアルカン
酸ビニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、スチレン及びスチレンm1体(例え
ばビニルトルエン、ブチルスチレン、メトキシスチレン
、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン
、エトキシスチレン等)等が挙げられる。
Preferred examples include vinyl or allyl alkanoates having 1 to 3 carbon atoms, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene, and styrene m1 (for example, vinyltoluene, butylstyrene, methoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromo styrene, ethoxystyrene, etc.).

本発明の結着樹脂は、前記マクロモノマ−(MA)及び
他の単量体(例えば一般式(II)で示される単量体)
のうちから各々少なくとも1種選ばれた化合物を所望の
割合で共重合させることによって製造することができる
。重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、乳
化重合等の公知の方法を用いることにより製造すること
ができる。例えば溶液重合ではベンゼン、トルエン等の
溶媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合
物、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せ
しめ共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥また
は負溶剤に添加することにより所望の共重合体を得るこ
とができる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコール
、ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体を
懸濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せしめ
共重合体を得ることができる。
The binder resin of the present invention includes the macromonomer (MA) and other monomers (for example, a monomer represented by general formula (II)).
It can be produced by copolymerizing at least one compound selected from among these in a desired ratio. As the polymerization method, it can be produced by using known methods such as solution polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization, and emulsion polymerization. For example, in solution polymerization, a copolymer solution can be obtained by adding monomers at a predetermined ratio in a solvent such as benzene or toluene, and polymerizing with an azobis compound, a peroxide compound, or a radical polymerization initiator. A desired copolymer can be obtained by drying it or adding it to a negative solvent. In suspension polymerization, monomers are suspended in the presence of a dispersant such as polyvinyl alcohol or polyvinylpyrrolidone, and copolymerized in the presence of a radical polymerization initiator to obtain a copolymer.

樹脂〔A〕において、A−B型ブロック共重合体中にお
ける該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量は、
樹脂〔A〕100重量部中、好ましくは1〜30重量%
で、より好ましくは5〜20重量%である。
In the resin [A], the amount of the polymer component containing the specific acidic group in the AB type block copolymer is:
Preferably 1 to 30% by weight in 100 parts by weight of resin [A]
The content is more preferably 5 to 20% by weight.

樹脂〔A)の重量平均分子量は好ましくは3×103〜
lXl0’である。
The weight average molecular weight of the resin [A) is preferably 3 x 103~
lXl0'.

樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは−40″C〜1
10°C1好ましくは一20°C〜90°Cである。
The glass transition point of the resin [A] is preferably −40″C to 1
10°C, preferably -20°C to 90°C.

次に本発明に供せられる樹脂CB)について説明する。Next, resin CB) used in the present invention will be explained.

樹脂〔B〕の重量平均分子量は3X10’〜1×106
、好ましくは5X10’〜5X10Sである。
The weight average molecular weight of resin [B] is 3 x 10' to 1 x 106
, preferably 5X10' to 5X10S.

−C式(I[la)及び/又は(I[Ib)で示される
マクロモノマーの重合体中における存在割合は、0.5
〜80重量%であることが好ましく、特に一般式(I[
la)及び(nlb)において、R61又はR64が水
素原子の場合のマクロモノマーの場合にはその存在割合
は、0.5〜30重量%であることが好ましい。
The abundance ratio of the macromonomer represented by the -C formula (I[la) and/or (I[Ib)] in the polymer is 0.5
It is preferable that the amount is 80% by weight, especially for general formula (I[
In la) and (nlb), in the case of a macromonomer in which R61 or R64 is a hydrogen atom, the proportion thereof is preferably 0.5 to 30% by weight.

樹脂CB)のガラス転移点は、好ましくは0°C〜11
0″C1より好ましくは、20°C〜90°Cである。
The glass transition point of the resin CB) is preferably 0°C to 11°C.
The temperature is more preferably 20°C to 90°C than 0″C1.

又、結着樹脂〔B〕の分子量が3X10’より小さくな
ると、膜強度が充分に保てず、一方分子量が106より
大きくなると、分散性が低下し膜平滑度が劣下し、複写
画像の画質(特に、細線・文字の再現性が悪くなる)が
悪化し、更にオフセットマスターとして用いる時に地汚
れが著しくなってしまう。
Furthermore, if the molecular weight of the binder resin [B] is smaller than 3X10', the film strength cannot be maintained sufficiently, while if the molecular weight is larger than 106, the dispersibility decreases and the film smoothness deteriorates, resulting in poor quality of the copied image. The image quality (particularly the reproducibility of fine lines and characters deteriorates) deteriorates, and furthermore, when used as an offset master, background stains become significant.

結着樹脂CB)におけるマクロモノマー含有量が0.5
重量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰律、光感
度)が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動が特
に近赤外〜赤外光分光増悪色素との組み合わせにおいて
、大きくなる。これはグラフト部となるマクロモノマー
が微かとなることで結果として従来のホモポリマーある
いはランダム共重合体と殆んど同し組成になってしまう
ことによると考えられる。
Macromonomer content in binder resin CB) is 0.5
If it is less than % by weight, electrophotographic properties (especially dark decay law, photosensitivity) will deteriorate, and fluctuations in electrophotographic properties under environmental conditions will become large, especially in combination with near-infrared to infrared spectral-enhancing dyes. . This is thought to be due to the fact that the amount of macromonomer that becomes the graft portion is small, resulting in a composition that is almost the same as that of conventional homopolymers or random copolymers.

一層マクロ七ツマーの含有量が80%を超えると、他の
共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマクロモノ
マーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂として用
いても充分な電子写真特性が得られなくなってしまう。
If the content of the macromonomer exceeds 80%, the copolymerizability of the macromonomer according to the present invention with monomers corresponding to other copolymerization components will not be sufficient, and even when used as a binder resin, the copolymerizability will be insufficient. Electrophotographic characteristics cannot be obtained.

さらに、一般式(I[[a)および(I[lb)におけ
るR61又はRhZが水素原子の場合のマクロモノマー
が30重量%を趙えると分散性が低下し、膜平滑度が劣
化し、複写画像の画質の悪化及びオフセットマスターと
して用いた時の印刷物の地汚れ増加を生ずる。この事は
、マクロモノマーが含有するCool基が多くなり、分
散性に無機光導電体との相互作用が強くなり、無機光導
電体の凝集を引き起こしてしまうためと考えられる。
Furthermore, when R61 or RhZ in the general formulas (I[[a) and (I[lb)] is a hydrogen atom, if the amount of the macromonomer exceeds 30% by weight, the dispersibility decreases, the film smoothness deteriorates, and copying This results in deterioration of image quality and increase in scumming of printed matter when used as an offset master. This is thought to be because the macromonomer contains more Cool groups, which strengthens its dispersibility and interaction with the inorganic photoconductor, causing aggregation of the inorganic photoconductor.

樹脂〔B′〕における前記特定の極性基含有の結合成分
の存在量は、樹脂CB’)100重量部当たり0.1〜
10重量%であり、好ましくは0.5〜5重量%である
The amount of the specific polar group-containing bonding component present in the resin [B'] is 0.1 to 100 parts by weight of the resin CB').
The amount is 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight.

極性基含量が0.1%より少ないと光導電層の膜強度向
上の効果が小さくなってしまい、また5%を趨えると無
機導電体の分散物の凝集が発生してしまう。
If the polar group content is less than 0.1%, the effect of improving the film strength of the photoconductive layer will be reduced, and if it exceeds 5%, agglomeration of the inorganic conductor dispersion will occur.

結着樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用割合は、5〜60重
量部重量部−95〜40であり、好ましくは10〜40
重量部対90〜60重量部である。
The ratio of binder resin [A] and resin [B] used is 5 to 60 parts by weight -95 to 40 parts by weight, preferably 10 to 40 parts by weight.
parts by weight versus 90 to 60 parts by weight.

本発明の樹脂CB)は、式(I[la)及び/又は式(
I[[b)で示される重量平均分子量1.0X103〜
1.5X10’のマクロモノマー(MB)を共重合成分
として含有する、重量平均分子量5X10’〜lXl0
”のグラフト共重合体であり、好ましくは、更に、該グ
ラフト共重合体の重合体主鎖の末端に−POsHz(R
eはRと同一の内容を表わす、)および環状酸無水物含
有基から選ばれる少なくとも1種の酸性基を結合して成
る高分子量の樹脂〔B′〕である。
The resin CB) of the present invention has the formula (I[la) and/or the formula (
I[[b] Weight average molecular weight 1.0X103~
Contains a macromonomer (MB) of 1.5X10' as a copolymerization component, weight average molecular weight 5X10' to lXl0
It is a graft copolymer of
(e represents the same content as R) and at least one acidic group selected from cyclic acid anhydride-containing groups [B'].

iM脂〔B〕の共重合成分として供せられる、方の末端
に重合性二重結合基を、他の末端にカルボキシル基を各
々結合した、ポリエステル構造を有するマクロモノマ−
(MB)について、更に具体的に説明する。
A macromonomer having a polyester structure with a polymerizable double bond group bonded to one end and a carboxyl group bonded to the other end, which is provided as a copolymerization component of iM resin [B].
(MB) will be explained more specifically.

一般式(I[Ia)及び(II[b)において、〔]丙
は、式(I[Ia)及び/又は(Ilb)のマクロモノ
マー(?IB)の重量平均分子量をlXIO3〜1.5
×10’とするに十分な、繰り返し単位を表わす。
In the general formulas (I[Ia) and (II[b)], []H represents the weight average molecular weight of the macromonomer (?IB) of the formula (I[Ia) and/or (Ilb) from 1XIO3 to 1.5
x10' represents enough repeating units.

一般式(I[[a)のマクロモノマー(MB)において
、好ましくは、f、及びf、は、互いに同じでも異なっ
てもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原
子、臭素原子、フッ素原子)、シアノ基、炭素数1〜3
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
等) 、−COOT、又は−cutcoorよ(T、お
よびT2は各々炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数7〜9のアラルキ
ル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニル
プロピル基等)又は置換されてもよいフェニル基(例え
ばフェニル基、トリル基、キシリル基、メトキシフェニ
ル基等)を表わす)を表わす。
In the macromonomer (MB) of general formula (I [[a)], preferably f and f may be the same or different, and each is a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom). ), cyano group, carbon number 1-3
an alkyl group (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), -COOT, or -cutcoor (T and T2 are each an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group) group, pentyl group,
hexyl group, octyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, etc.), or optionally substituted phenyl group (e.g., phenyl group, tolyl group, xylyl group, methoxyphenyl group, etc.).

より好ましくは、fl及びf2のうちのいずれが方が水
素原子を表わす。
More preferably, either fl or f2 represents a hydrogen atom.

X、は、好ましくは、−COO−1−OCO−1−C)
12COO−1CH,0CO−1−CONH−1−CO
NHCONH−2−CONHCOO−又はまた、d、は
、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−メトキシエ
チル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、ヘ
ンシル基、メチルヘンシル基、クロロベンジル基、メト
キシヘンシル基、フェネチル基、フェニル基、トリル基
、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ブチルフェ
ニル基等)を表わす。
X is preferably -COO-1-OCO-1-C)
12COO-1CH,0CO-1-CONH-1-CO
NHCONH-2-CONHCOO- or d is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group) , 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, hensyl group, methylhensyl group, chlorobenzyl group, methoxyhensyl group, phenethyl group, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, butylphenyl (base, etc.).

YIは、χ1と−COO−とを連結する基を表わし、単
結合又は連結する基を表わす。
YI represents a group that connects χ1 and -COO-, and represents a single bond or a group that connects.

連結する基として N−−CON−−5o□N−2−NHCOO−−NHC
ONH−及びes       e6        
e?C−から選択される連結基又はこれらの連結基の組
合せによって形成される結合基を表わす(ここで、81
〜e4は各々同じでも異なってもよく、水素原子、ハロ
ゲン原子(好ましくは、例えば、フッ素原子、塩素原子
、臭素原子等)又は炭素数1〜7の炭化水素基(好まし
くは、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、ベンジル基、メトキシ
ヘンシル基、フェニル基゛、メトキシフェニル基、メト
キシカルボニルフェニル基等)を表わし、e5〜e7は
上記のd、の内容と同一のものを表わす)。
N--CON--5o□N-2-NHCOO--NHC as a connecting group
ONH- and es e6
e? represents a linking group selected from C- or a linking group formed by a combination of these linking groups (herein, 81
~e4 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (preferably, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms (preferably, for example, a methyl group) , ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2
-methoxycarbonylethyl group, benzyl group, methoxyhensyl group, phenyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, etc.), and e5 to e7 are the same as the above d).

1及び−2は互いに同しでも異なってもよく、各々二価
の有機残基を表わし、−0−−5−、−NSO−1−5
O□−−COO−−0CO−−CONHCO−1d3d
a     d3 NHCONH−1−CON−−5o□N−及び −3i
−から選ばれた結合基を介在させてもよい、二価の脂肪
族基もしくは二価の芳香族基、又はこれらの二価の残基
の組合せにより構成された有機残基を表わす。
1 and -2 may be the same or different and each represents a divalent organic residue, -0--5-, -NSO-1-5
O□--COO--0CO--CONHCO-1d3d
a d3 NHCONH-1-CON--5o□N- and -3i
- represents an organic residue composed of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination of these divalent residues, which may include a bonding group selected from -.

ここで、d2〜d4はd、と同一の内容を表わす。Here, d2 to d4 represent the same content as d.

二価の脂肪族基として、例えば、+C+−1e8及びe
9は、互いに同じでも異なってもよく、各々水素原子、
ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子
等)又は炭素数1〜12のアルキル基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、ブロモメチ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基等)を表わす。0は−0−−S−又は−NR6
:l−を表わし、R6ffは炭素数1〜4のアルキル基
、−CHz6’又はCH,Brを表わす。
Examples of divalent aliphatic groups include +C+-1e8 and e
9 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom,
Halogen atoms (e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.) or alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group,
decyl group, etc.). 0 is -0--S- or -NR6
:l-, and R6ff represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, -CHz6' or CH, Br.

二価の芳香族基としては、例えばヘンゼン環基、ナフタ
レン環基及び5又は6員の複素環基(複素環を構成する
ヘテロ原子として、酸素原子、イオウ原子、窒素原子か
ら選ばれたヘテロ原子を少なくとも1種含有する)が挙
げられる。これらの芳香族基は置換基を有していてもよ
く、例えばハロゲン原子(例えばフン素原子、塩素原子
、臭素原子等)、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
、オクチル基等)、炭素数1〜6のアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ
基等)が置換基の例として挙げられる。
Examples of the divalent aromatic group include a Hensen ring group, a naphthalene ring group, and a 5- or 6-membered heterocyclic group (the hetero atom constituting the heterocycle is a hetero atom selected from an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom). (containing at least one kind of). These aromatic groups may have a substituent, such as a halogen atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, etc.). Examples of substituents include C1-C6 alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.).

複素環基としては、例えばフラン環、チオフェン環、ピ
リジン環、ピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロフ
ラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン環、1.3−
オキサゾリン環等が挙げられる。
Examples of the heterocyclic group include furan ring, thiophene ring, pyridine ring, pyrazine ring, piperazine ring, tetrahydrofuran ring, pyrrole ring, tetrahydropyran ring, 1.3-
Examples include oxazoline rings.

R61は好ましくは水素原子又は炭素数1〜8の炭化水
素基を表わし、炭化水素基の具体例としてはfl、r2
にて前記したと同様のものを挙げることができる。
R61 preferably represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and specific examples of the hydrocarbon group include fl, r2
The same examples as those mentioned above can be mentioned.

式(I[lb)におイテ、好ましイf3、r4、x2、
Y2及びRbZは式(I[la)のfls ft、xl
、Y+及びR61にて好ましいと記載したものと各々同
一の内容を表わす。
Formula (I [lb), preferably f3, r4, x2,
Y2 and RbZ are fls ft, xl of the formula (I[la)
, Y+ and R61 each represent the same contents as those described as preferable.

−3は、二価の脂肪族残基を表わし、具体的には1“ +CH,→TT(n+は2〜18の整数) 、−cL−
c(g+及びg2は各々水素原子又はメチル基、エチル
基、プロピル基等のアルキル基を表わし、glと8□の
いずれもが水素原子を表わす事はない)、CH+CH2
−+−i−2(g3は炭素数1〜8のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基等)を表わし、n2は1〜16の整数
を表わす)等が挙げられる。
-3 represents a divalent aliphatic residue, specifically 1" +CH, →TT (n+ is an integer from 2 to 18), -cL-
c (g+ and g2 each represent a hydrogen atom or an alkyl group such as a methyl group, ethyl group, or propyl group, and neither gl nor 8□ represents a hydrogen atom), CH + CH2
-+-i-2 (g3 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, etc.), and n2 represents an integer of 1 to 16 ) etc.

一般式(II[a)及び一般式(I[b)におけるマf
+  fz クロモノマー(MB)における CH=C及びx、−y
Ma f in general formula (II[a) and general formula (I[b)]
+ fz CH=C and x, -y in chromomonomer (MB)
.

x、−y、− 各々次のものが挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
x, -y, - Examples include, but are not limited to, the following.

但し、以下の各側において、Qlは一■、−CH,、−
CHzCOOCH3、−6′、−Br又は−CNを示し
、Q2は−H又は−CH,を示し、nは2〜12の整数
を示し、mは1〜12の整数を示す。
However, on each side below, Ql is one ■, -CH,, -
CHzCOOCH3, -6', -Br or -CN, Q2 represents -H or -CH, n represents an integer of 2 to 12, and m represents an integer of 1 to 12.

(Z ■) CI(2=C (Z CH。(Z ■) CI(2=C (Z CH.

CI (Z HI C00(CHz)− (Z CH。C.I. (Z HI C00(CHz)- (Z CH.

C0NH(CHり、1 (Z CH。C0NH(CHri, 1 (Z CH.

CH2=C C0NIC0NH(CHz)、 (Z CH。CH2=C C0NIC0NH (CHz), (Z CH.

CH2 C0NHCOO(CH2) 1l (Z CH2 Coo (C)l z) 、1OCO(CHz) 11
(Z CH2=C CONH(CI(2)llOCO(CH2)。
CH2 C0NHCOO(CH2) 1l (Z CH2 Coo (C)l z) , 1OCO(CHz) 11
(Z CH2=C CONH(CI(2)llOCO(CH2).

(Z (Z−11) CHz=C OCO(CHり、1− (Z CH2 C00(CHz)nOcOcH C)I (Z CH2 CH CH2 (Z CH2 CFI−CH,CH2 (Z CB ! = CH CH2 C0O(CHz)−0CO(CHz)−(Z 口2 CI(、=C C00(CHz)l、So□N)I(CHz)TI(Z CH,=C C00(CH2)3NHCOO(CuI2)、1(Z X cnz=c COO(CHz) 3NH (Z−22) coz=c COOCHzCHCHzOOC(CHz)ll=CH (Z CI(2=CH CHzOcO(CHz) − CH,=CH−5o□(CIZ)ll (Z CH2−CH CON(CHz)、1− C)13 (Z (Z −27) (Z t CH −1及び−2の具体的な例として、各々以下の有機残基
が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
(Z (Z-11) CHz=C OCO(CHri, 1- (Z CH2 C00(CHz)nOcOcH C) I (Z CH2 CH CH2 (Z CH2 CFI-CH, CH2 (Z CB ! = CH CH2 C0O( CHz)-0CO(CHz)-(Z 口2 CI(,=C C00(CHz)l, So□N) I(CHz)TI(Z CH,=C C00(CH2)3NHCOO(CuI2), 1(Z X cnz=c COO(CHz) 3NH (Z-22) coz=c COOCHzCHCHzOOC(CHz)ll=CH (Z CI(2=CH CHzOcO(CHz) - CH,=CH-5o□(CIZ)ll ( Z CH2 -CH CON(CHz), 1-C)13 (Z (Z -27) (Z t Specific examples of CH -1 and -2 include the following organic residues, but the present invention It is not limited to.

但し、以下の各側において、R64は炭素数1〜4のア
ルキル基、−CH2(J又は−CH,Brを示し、R6
Sは炭素数1〜8のアルキル基、 →cot−〜−OR,,(R,、は上記の意味を表わし
、lは2〜8の整数を表わす) 、−CH2C1又は−
CHJrを示し、R6&は−H又は−CH3を示し、R
6?は炭素数1〜4のアルキル基を示し、Qは−0−1
−5−又はN  (R&4は上記の意味を表わす)を示
し、pは1〜26の整数を示し、qは0又は1〜4の整
数を示し、rは1〜10の整数を示し、JはO又は1〜
4の整数を示し、kは2〜6の整数を示す。
However, on each side below, R64 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, -CH2 (J or -CH, Br, and R6
S is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, →cot- to -OR,, (R,, represents the above meaning, l represents an integer of 2 to 8), -CH2C1 or -
CHJr, R6 & represents -H or -CH3, R
6? represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Q is -0-1
-5- or N (R&4 represents the above meaning), p represents an integer of 1 to 26, q represents an integer of 0 or 1 to 4, r represents an integer of 1 to 10, J is O or 1~
An integer of 4 is shown, and k is an integer of 2 to 6.

(W−1) →CH2→1− (W−2) CH= CH (W−3) (讐−5) CH− A4 (L6) 一←CH CHz%− (jl−8) CH2 C−CH。(W-1) →CH2→1- (W-2) CH= CH (W-3) (enemy-5) CH- A4 (L6) 1←CH Hz%- (jl-8) CH2 C-CH.

R&4 (R,4 は同じでも異なってもよい) (R5゜ は同じでも異なってもよい) (W−11) +CHzC1hOCH2CH2→ynOcHzcH2+
V(W−12) +CHzCHtS CH2CHz→7−(W−13) +CHzCHzSC1bCHzOCHtCHz→7−C
H3 しH3 CH3 N 、N 一般式(nla)で示されるマクロモノマー(MB)は
、高分子学余線、[高分子データハンドブンク(基礎W
) J  (1986年刊)培風館 等に例示される、
ジオール類とジカルボン酸類、ジカルボン酸無水物又は
ジカルボン酸エステル類との重縮合反応によって合成さ
れた、重量平均分子量1×103〜1.5×104のポ
リエステルオリゴマーの片末端のヒドロキシル基におい
てのみ、高分子反応により、重合性二重結合基を導入す
る方法で容易に製造する事ができる。
R&4 (R,4 may be the same or different) (R5° may be the same or different) (W-11) +CHzC1hOCH2CH2→ynOcHzcH2+
V (W-12) +CHzCHtS CH2CHz→7-(W-13) +CHzCHzSC1bCHzOCHtCHz→7-C
H3 CH3 N,N The macromonomer (MB) represented by the general formula (nla) is described in Polymer Science Yoshin, [Polymer Data Handbook (Basic W
) J (published in 1986) Baifukan et al.
Only in the hydroxyl group at one end of a polyester oligomer with a weight average molecular weight of 1 x 103 to 1.5 x 104 synthesized by a polycondensation reaction of diols and dicarboxylic acids, dicarboxylic acid anhydrides, or dicarboxylic acid esters, high It can be easily produced by introducing a polymerizable double bond group through a molecular reaction.

ポリエステルの合成法は、従来公知の重縮合反応によっ
て合成されるが、具体的には、滝山栄−部「ポリエステ
ル樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社(1986年刊)
、高分子学余線「重縮合と重付加」井守出版(1980
年刊) 、1.Goodman  rEncyclop
edia of  Polymer 5cience 
and  EngineeringVOI 12J p
i、 John Wiley & 5ons  (19
85年刊)等に記載の方法に従って合成することができ
る。
Polyester is synthesized by a conventionally known polycondensation reaction, but specifically, Eibe Takiyama, "Polyester Resin Handbook," Nikkan Kogyo Shimbunsha (published in 1986)
, Polymer Science Extra Line “Polycondensation and Polyaddition” Imori Publishing (1980
Annual), 1. Goodman rEncyclop
edia of Polymer 5science
and Engineering VOI 12J p
i, John Wiley & 5ons (19
It can be synthesized according to the method described in 1985).

ポリエステルオリゴマーの片末端のヒドロキシル基のみ
に重合性二重結合基を導入する方法は、従来公知の低分
子化合物におけるアルコール類からエステル化する反応
あるいはアルコール類からウレタン化する反応を用いる
事で合成することができる。
The method of introducing a polymerizable double bond group only into the hydroxyl group at one end of a polyester oligomer is to synthesize it by using a conventionally known reaction of esterifying an alcohol from a low-molecular compound or a reaction of converting an alcohol into a urethane. be able to.

即ち、分子内に重合性二重結合基を含有するカルボン酸
類、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハライド類又は
カルボン酸無水物類との反応でエステル化し、マクロモ
ノマーを合成する方法あるいは、分子内に重合性二重結
合基を含有するモノイソシアナート類との反応でウレタ
ン化し、マクロモノマーを合成する方法によって達せら
れる。
That is, a method in which a macromonomer is synthesized by esterification by reaction with carboxylic acids, carboxylic acid esters, carboxylic acid halides, or carboxylic acid anhydrides containing a polymerizable double bond group in the molecule; This can be achieved by a method in which a macromonomer is synthesized by reacting with a monoisocyanate containing a polymerizable double bond group to form a urethane.

具体的には、日本化学余線「新実験化学講座■。Specifically, Nippon Kagaku Yoshin's ``New Experimental Chemistry Course ■''.

有機化合物の合成と反応〔■〕」、第5章、丸善■、(
1977年刊)、「同、有機化合物の合成と反応〔■〕
、第1652頁、丸善■(1978年刊)等に詳細に記
載された方法を用いて合成することができる。
Synthesis and Reactions of Organic Compounds [■], Chapter 5, Maruzen■, (
(published in 1977), “Synthesis and Reactions of Organic Compounds [■]
, p. 1652, Maruzen (published in 1978).

−S式(I[lb)で示されるマクロモノマー(MB)
は、分子内にヒドロキシル基を含有するカルホン酸類を
自己重縮合反応によりポリエステルオリゴマーを合成し
た後、一般式([[la)のマクロ千ツマー合成と同様
の高分子反応でマクロモノマーを合成する方法は、重合
性二重結合基含有のカルボン酸類とラクトン類のリビン
グ重合反応で合成する方法によって、製造する事ができ
る。具体的には、T、Yasuda、 T、Aida 
and S、Inoue  J、Macromol、S
ci。
-Macromonomer (MB) represented by formula (I[lb)
is a method in which a polyester oligomer is synthesized by a self-polycondensation reaction of carbonic acids containing hydroxyl groups in the molecule, and then a macromonomer is synthesized by a polymer reaction similar to the macromolecular synthesis of the general formula ([[la)]. can be produced by a living polymerization reaction of carboxylic acids containing a polymerizable double bond group and lactones. Specifically, T, Yasuda, T, Aida
and S, Inoue J, Macromol, S
ci.

Chem、、 A、 21.1035 (1984)、
  T、Yasuda、 T、Aidaand S、I
noue、 Macromlecules、 17.2
217 (1984LS、Sosnowski、 S、
5ton+kowski and S、Penczek
  Makroa+o1. CheIll、+月3f1
.1347 (1987)、 Y、Gnanou an
dP、Rempp、、 Makromol、Chem、
、 188 2267 (1987)。
Chem, A, 21.1035 (1984),
T, Yasuda, T, Aida and S, I
noue, Macromolecules, 17.2
217 (1984LS, Sosnowski, S.
5ton+kowski and S, Penczek
Makroa+o1. CheIll, +Mon 3f1
.. 1347 (1987), Y, Gnanou an
dP, Rempp, Makromol, Chem.
, 188 2267 (1987).

T、5hiota and Y、Goto、 J、Ap
pl、Po1ya+、Sci、、 u。
T, 5hiota and Y, Goto, J, Ap.
pl, Polya+, Sci,, u.

753 (1967)等に記載の方法によって製造する
ことができる。
753 (1967) and the like.

以下に本発明に用いることのできる式(Iota)又は
(Illb)で表わされるマクロモノマー(MB)の具
体例を以下に示す。
Specific examples of the macromonomer (MB) represented by formula (Iota) or (Illb) that can be used in the present invention are shown below.

但し、以下の各側において、〔〕内はマクロモノマーの
重量平均分子量をI XIO3〜1.5 X 10’と
するに十分な繰り返し単位を示し、Q、は上記と同様の
内容を示し、o3は−H又は−fi13を示し、 l?
thI+及びR69は同しでも異なってもよく各々−C
H,又はCJ5を示し、R’IO及びR1は同しでも異
なってもよく各々−ct、−Br 、 −CH2(J又
は −CHzBrを示し、Sは1〜25の整数を示し、
tは2〜12の整数を示し、Uは2〜12の整数を示し
、Xは2〜4の整数を示し、yは2〜6の整数を示し、
2は1〜4の整数を示す。
However, in each side below, [ ] indicates a repeating unit sufficient to make the weight average molecular weight of the macromonomer IXIO3 to 1.5X10', Q indicates the same content as above, o3 indicates -H or -fi13, l?
thI+ and R69 may be the same or different and each -C
R'IO and R1 may be the same or different and each represents -ct, -Br, -CH2 (J or -CHzBr, S represents an integer from 1 to 25,
t represents an integer of 2 to 12, U represents an integer of 2 to 12, X represents an integer of 2 to 4, y represents an integer of 2 to 6,
2 represents an integer from 1 to 4.

(MB−1) Q。(MB-1) Q.

(MB−2) (MB−3) Q。(MB-2) (MB-3) Q.

CH。CH.

C00(CI(z)zOcO(CHz七に00(MB−
4) (MB−5) R,啼 (MB−6) l CH,=C C00(CHz+v−NFICOO−車(MB−8) CHz=CH−C1hCHz COO−* (MB−9) (MB (MB (MB (MB−13) CH,=C C00(CHz)i−Coo−* (MB−14) 口。
C00(CI(z)zOcO(CHz700(MB-
4) (MB-5) R, (MB-6) l CH,=C C00(CHz+v-NFICOO-car (MB-8) CHz=CH-C1hCHz COO-* (MB-9) (MB (MB ( MB (MB-13) CH,=C C00(CHz)i-Coo-* (MB-14) Mouth.

Q。Q.

CH,=C CONH(CHz)−0CO(CHz)r−COO−寧
(MB−16) (MB−17) (MB−18) (MB−19) I (MB−20) Q。
CH,=C CONH(CHz)-0CO(CHz)r-COO-Ning (MB-16) (MB-17) (MB-18) (MB-19) I (MB-20) Q.

(MB−21) (阿B−22) Q。(MB-21) (A B-22) Q.

(?1B−23) Q。(?1B-23) Q.

しH3 (MB−24) 本発明の結着樹脂に用いられる樹脂CB)は、前記した
一般式(I[la)及び(I[Ib)から選択される少
なくとも1つのマクロモノマーを少なくとも共重合成分
とするグラフト共重合体であり、他の共重合成分として
は、前記した結着樹脂の物性を満足し、且つ該マクロモ
ノマーとラジカル共重合し得る単量体であればいずれで
もよい。
H3 (MB-24) The resin CB used in the binder resin of the present invention is a copolymerization component containing at least one macromonomer selected from the general formulas (I[la) and (I[Ib)]. The other copolymerization components may be any monomer that satisfies the physical properties of the binder resin described above and can be radically copolymerized with the macromonomer.

好ましくは、樹脂〔A)にて示した一般式(1)で示さ
れる共重合成分に相当する単量体を共重合成分として共
重合体中30重量%〜99.5重置%含有する。
Preferably, the copolymer contains 30% to 99.5% by weight of a monomer corresponding to the copolymerization component represented by the general formula (1) shown in the resin [A) as a copolymerization component.

樹脂〔B〕においては、一般式(1)で示される共重合
成分以外の他の共重合成分を含有してもよく、具体的に
は、樹脂〔A〕で説明した他の共重合成分に相当する各
単量体等が挙げられる。
The resin [B] may contain other copolymerization components other than the copolymerization component represented by the general formula (1), and specifically, the resin [B] may contain other copolymerization components other than the copolymerization component shown in the general formula (1). Each corresponding monomer etc. are mentioned.

これら他の単量体が共重合成分として存在する割合は、
樹脂CB)の全重合体成分中多くても30重量%を趙え
ない方が好ましく、より好ましくは20重置%以下であ
る。
The proportion of these other monomers as copolymer components is
It is preferable that at most 30% by weight of the total polymer components of the resin CB) be present, and more preferably 20% by weight or less.

さらに、本発明の電子写真感光体においてその優れた電
子写真特性を保持しつつ、より大きな機械的強度が望ま
れる場合がある。この目的の為には、グラフト型共重合
体の主鎖に、樹脂〔A〕で述べたと同様の熱及び/又は
光硬化性官能基を導入する手法が適用できる。
Further, in some cases, the electrophotographic photoreceptor of the present invention is desired to have greater mechanical strength while maintaining its excellent electrophotographic properties. For this purpose, the same method as described for resin [A] of introducing heat-curable and/or photo-curable functional groups into the main chain of the graft copolymer can be applied.

即ち、樹脂CB)においても、前記した式(I[la)
及び/又は(llb)のマクロモノマー(MB)及び好
ましくは一般式(1)で示される繰り返し単位に相当す
る七ツマ−とともに、少なくとも1種の熱及び/又は光
硬化性官能基を含有するモノマーを共重合成分として含
有することが好ましい。かかる熱及び/又は光硬化性官
能基が適宜ポリマー間を架橋させることでポリマーの間
の相互作用を強固に、膜としての強度を向上させるもの
である。従って、かかる熱及び/又は光硬化性官能基を
更に含有する本発明の樹脂は、酸化亜鉛粒子表面と結着
樹脂の適切な吸着・被覆を疎外することなく、結着樹脂
間の相互作用を強め、その結果、皮膜強度がより向上す
る効果を有するものである。
That is, also in resin CB), the above formula (I[la)
and/or (llb) macromonomer (MB) and preferably a monomer containing at least one heat-curable and/or photo-curable functional group together with a heptamer corresponding to the repeating unit represented by general formula (1) It is preferable to contain as a copolymerization component. Such heat-curable and/or photo-curable functional groups suitably crosslink the polymers, thereby strengthening the interaction between the polymers and improving the strength of the film. Therefore, the resin of the present invention further containing such a heat-curable and/or photo-curable functional group can prevent the interaction between the binder resin and the zinc oxide particle surface without hindering the adsorption and coating of the binder resin. This has the effect of further improving the film strength.

重合体主鎖の片末端にのみ特定の酸性基を結合して成る
本発明の樹脂〔B′〕は、従来公知のアニオン重合ある
いはカチオン重合によって得られるリビングポリマーの
末端に種々の試薬を反応させる方法(イオン重合法によ
る方法)、分子中に特定の酸性基を含有した重合開始剤
及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合させる方法
(ラジカル重合法による方法)、あるいは以上の如きイ
オン重合法もしくはラジカル重合法によって得られた末
端に反応性基(例えばアミノ基、ハロゲン原子、エポキ
シ基、酸ハライド基等)含有の重合体を高分子反応によ
って本発明の特定の酸性基に変換する方法等の合成法に
よって容易に製造することができる。
The resin [B'] of the present invention, which has a specific acidic group bonded only to one end of the polymer main chain, can be obtained by reacting various reagents at the end of a living polymer obtained by conventionally known anionic or cationic polymerization. method (ionic polymerization method), radical polymerization method using a polymerization initiator and/or chain transfer agent containing a specific acidic group in the molecule (radical polymerization method), or the above ionic polymerization method Alternatively, a method of converting a polymer containing a reactive group (for example, an amino group, a halogen atom, an epoxy group, an acid halide group, etc.) at the end obtained by a radical polymerization method into the specific acidic group of the present invention by a polymer reaction. It can be easily produced by the following synthesis method.

具体的には、P、叶eyfuss+ R,P、Quir
k+ Encycl。
Specifically, P, Kano eyfuss + R, P, Quir
k+ Encycle.

Polym、 Sci、 Eng、+  7.551 
(1987)、中條善樹、山下雄也「染料と薬品j、a
、232 (1985)、上田明、永井進「科学と工業
」聾、57 (1986)等の総説及びそれに引用の文
献等に記載の方法によって製造することができる。
Polym, Sci, Eng, +7.551
(1987), Yoshiki Nakajo, Yuya Yamashita “Dye and Medicine j, a
, 232 (1985), Akira Ueda and Susumu Nagai, "Science and Industry" Deaf, 57 (1986), and other reviews and documents cited therein.

具体的には、用いる連鎖移動剤としては、例えば、該酸
性基あるいは、上記反応性基(即ち該酸性基に誘導しう
る基)を含有するメルカプト化合物(例えばチオグリコ
ール酸、千オリンゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカプ
トプロピオン酸、3メルカプトプロピオン酸、3−メル
カプト酪酸、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリ
シン、2−メルカプトニコチン酸、3− (N (2−
メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピオン酸、3C
N−C2−メルカプトエチル)アミノコプロピオン酸、
N−(3−メルカプトプロピオニル)アラニン、2−メ
ルカプトエタンスルホン酸、3メルカプトプロパンスル
ホン酸、4−メルカプトブタンスルホン酸、2−メルカ
プトエタノール、3−メルカプト−1,2−プロパンジ
オール、1−メルカプト−2−プロパツール、3−メル
カプト2−ブタノール、メルカプトフェノール、2−メ
ルカプトエチルアミン、2−メルカプトイミダゾール、
2−メルカプト−3ビリジノール、4(2−メルカプト
エチルオキシカルボニル)フタル酸無水物、2−メルカ
プトエチルホスホノ酸、2−メルカプトエチルホスホノ
酸モノメチルエステル等)、あるいは上記極性基又は置
換基を含有するヨード化アルキル化合物(例えばヨード
酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノール、2
ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンスルホン
酸等)が挙げられる。好ましくはメルカプト化合物が挙
げられる。
Specifically, the chain transfer agent to be used is, for example, a mercapto compound containing the acidic group or the above-mentioned reactive group (i.e., a group that can be induced into the acidic group) (for example, thioglycolic acid, thiomalic acid, thioglycolic acid, etc.). Salicylic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N-(2-mercaptopropionyl)glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3- (N (2-
Mercaptoethyl)carbamoyl]propionic acid, 3C
N-C2-mercaptoethyl) aminocopropionic acid,
N-(3-mercaptopropionyl)alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto- 2-propatol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mercaptoimidazole,
2-mercapto-3 pyridinol, 4(2-mercaptoethyloxycarbonyl)phthalic anhydride, 2-mercaptoethylphosphonoic acid, 2-mercaptoethylphosphonoic acid monomethyl ester, etc.), or the above polar groups or substituents. iodized alkyl compounds (e.g. iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanol,
iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, etc.). Preferred are mercapto compounds.

該酸性基あるいは、特定の反応性基を含有する重合開始
剤としては、具体的には、4,4゛−アゾビス(4−シ
アノ吉草酸”) 、4.4’−アゾビス(4−シアノ吉
草酸クロライド) 、2.2’−アゾビス(2シアツブ
ロバノール) 、2.2’−アゾビス(2−シアノペン
タノール) 、2.2”−アゾビス(2−メチル−N−
(2−ヒドロキシエチル)−プロピオアミド) 、 2
.2’−アゾビス(2−メチル−N−〔1,1−ビス(
ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピオ
アミド) 、2.2’−アゾビス(2−[1−(2−ヒ
ドロキシエチル)−2−イミダシリン−2−イル]プロ
パン) 、2.2’−アゾビス(2−(2イミダシリン
−2−イル)プロパン) 2.2’−アゾビス[2−(
4,5,6,7−テトラヒドロ−18−,1,3−ジア
ゾピン−2−イル)プロパン〕等が挙げられる。
Specific examples of the polymerization initiator containing the acidic group or a specific reactive group include 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid) and 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid). grass acid chloride), 2.2'-azobis(2cyatuburobanol), 2.2'-azobis(2-cyanopentanol), 2.2''-azobis(2-methyl-N-
(2-hydroxyethyl)-propioamide), 2
.. 2'-Azobis(2-methyl-N-[1,1-bis(
hydroxymethyl)-2-hydroxyethyl]propioamide), 2,2'-azobis(2-[1-(2-hydroxyethyl)-2-imidacillin-2-yl]propane), 2,2'-azobis(2 -(2imidacylin-2-yl)propane) 2.2'-Azobis[2-(
4,5,6,7-tetrahydro-18-,1,3-diazopin-2-yl)propane] and the like.

これらの連鎖移動剤あるいは重合開始剤は、各々全単量
体100重量部に対して、0.05〜10重量部であり
、好ましくは0.5〜5重量部である。
The amount of each of these chain transfer agents or polymerization initiators is 0.05 to 10 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total monomers.

本発明では、本発明に従う樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕(
(B’ )も含む)の他に他の樹脂を併用させることも
できる。それらの樹脂としては、例えば、アルキッド樹
脂、ポリブチラール樹脂、ポリオレフィン類、エチレン
−酢ビ共重合体、スチレン樹脂、スチレン−ブタジェン
樹脂、アクリレートブタジェン樹脂、アルカン酸ビニル
樹脂等が挙げられる。
In the present invention, resin [A] and resin [B] (
(B') can also be used in combination with other resins. Examples of such resins include alkyd resins, polybutyral resins, polyolefins, ethylene-vinyl acetate copolymers, styrene resins, styrene-butadiene resins, acrylate-butadiene resins, vinyl alkanoate resins, and the like.

上記他の樹脂は、本発明の樹脂を用いた全結着樹脂量の
30%(重量比)を超えると本発明の効果(特に静電特
性の向上)が失われる。
When the above-mentioned other resin exceeds 30% (weight ratio) of the total binder resin amount using the resin of the present invention, the effects of the present invention (especially improvement in electrostatic properties) are lost.

また、本発明の樹脂〔A〕及び/又は〔B〕が該熱硬化
性官能基を含有する場合には、感光層膜中での架橋反応
を促進させるために、必要に応して反応促進剤を添加し
てもよい。官能基間の化学結合を形成する反応様式の場
合には、例えば有機酸(酢酸、プロピオン酸、酪酸、ヘ
ンゼンスルホン酸、P−)ルエンスルホン酸等)、架橋
剤等が挙げられる。
In addition, when the resin [A] and/or [B] of the present invention contains the thermosetting functional group, in order to promote the crosslinking reaction in the photosensitive layer film, reaction promotion may be performed as necessary. Agents may also be added. In the case of a reaction mode that forms a chemical bond between functional groups, examples thereof include organic acids (acetic acid, propionic acid, butyric acid, henzensulfonic acid, P-)luenesulfonic acid, etc.), crosslinking agents, and the like.

架橋剤としては、具体的には、山下晋三、金子東助編「
架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)等に記載
されている化合物等を用いることができる。例えば、通
常用いられる有機シラン、ポリウレタン、ポリイソシア
ナートの如き架橋剤、エポキシ樹脂、メラミン樹脂の如
き硬化剤等を用いることができる。
As a crosslinking agent, specifically, Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko ed.
Compounds described in "Crosslinking Agent Handbook" published by Taiseisha (1981) and the like can be used. For example, commonly used crosslinking agents such as organic silanes, polyurethanes, and polyisocyanates, and curing agents such as epoxy resins and melamine resins can be used.

重合性反応様式の場合には、重合開始剤(過酸化物、ア
ゾビス系化合物等が挙げられ、好ましくは、アゾビス系
重合開始剤である)、多官能重合性基含有の単量体(例
えばビニルメタクリレート、アリルメタクリレート、エ
チレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ジビニルコハク酸エステル、ジビ
ニルアジピン酸エステル、ジアリルコハク酸エステル、
2メチルビニルメタクリレート、ジビニルヘンゼン等)
等が挙げられる。
In the case of a polymerizable reaction mode, a polymerization initiator (peroxide, azobis-based compound, etc., preferably an azobis-based polymerization initiator), a monomer containing a polyfunctional polymerizable group (for example, vinyl Methacrylate, allyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, divinyl succinate, divinyl adipate, diallyl succinate,
2-methylvinyl methacrylate, divinylhenzen, etc.)
etc.

また、本発明において、かかる熱硬化性官能基を含有す
る結着樹脂を用いる場合には熱硬化処理が行われる。こ
の熱硬化処理は従来の感光体作製時の乾燥条件を厳しく
することにより行うことができる0例えば、60°C〜
120°Cで5分〜120分間処理すればよい。上述の
反応促進剤を併用すると、より穏やかな条件で処理する
ことが可能となる。
Further, in the present invention, when using a binder resin containing such a thermosetting functional group, a thermosetting treatment is performed. This heat curing treatment can be carried out by tightening the drying conditions during conventional photoreceptor production. For example, from 60°C to
What is necessary is just to process at 120 degreeC for 5 minutes - 120 minutes. When the above-mentioned reaction accelerator is used in combination, it becomes possible to perform the treatment under milder conditions.

本発明に用いる樹脂〔A〕((A’ 〕も含む)と樹脂
〔B〕((B’ )も含む)の使用量の割合は、使用す
る無機光導電材料の種類、粒径、表面状態によって異な
るが一般に樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の用いる割合は5〜
60対95〜40(重量比)であり、好ましくは10〜
40対90〜60 (重量比)である。
The ratio of the amount of resin [A] (including (A')) and resin [B] (including (B')) used in the present invention depends on the type, particle size, and surface condition of the inorganic photoconductive material used. Although it varies depending on the situation, the ratio of resin [A] and resin [B] used is generally 5 to 5.
60:95-40 (weight ratio), preferably 10-40
The ratio is 40 to 90 to 60 (weight ratio).

本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛、等が挙げられる。
Inorganic photoconductive materials used in the present invention include zinc oxide,
Examples include titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, lead sulfide, and the like.

無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導
電体100重量部に対して、結着樹脂をlO〜1(10
重量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合
で使用する。
The total amount of binder resin used for the inorganic photoconductive material is 10 to 1 (10
It is used in a proportion of 15 to 50 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight.

本発明では、必要に応して各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (No、 8 )第12頁、
C,J、Young等、 RCA Review15.
469 (1954)清田航平等、電気通信学会論文誌
J 63−C(No、2)97 (1980) 、原崎
勇次等、工業化学雑誌筋、7B及び188 (1963
)、谷忠昭1日本写真学会誌剥、208(1972)等
の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色
素、トリフェニルメタン色素、キサンチン系色素、フタ
レイン系色素、ポリメチン色素(例えば、オキソノール
色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ログシアニン
色素、スチリル色素等)、フタロシアニン色素(金属含
有してもよい)等が挙げられる。
In the present invention, various dyes can be used in combination as spectral sensitizers, if necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No. 8) p. 12,
C, J, Young et al. RCA Review 15.
469 (1954) Wataru Kiyota, Transactions of the Institute of Electrical Communication Engineers J 63-C (No, 2) 97 (1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Chemistry Journal, 7B and 188 (1963)
), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan, 208 (1972), etc., carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthine dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (e.g., oxonol dyes, merocyanine dyes) , cyanine dye, logocyanine dye, styryl dye, etc.), phthalocyanine dye (which may contain metal), and the like.

更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭
50−90334号、特開昭50−114227号、特
開昭53−39130号、特開昭53−82353号、
米国特許第3,052,540号、米国特許第4.05
4,450号、特開昭57−16456号等に記載のも
のが挙げられる。
More specifically, examples of those mainly using carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthine dyes, and phthalein dyes include Japanese Patent Publication No. 452/1983, Japanese Patent Application Laid-open No. 90334/1983, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-90334. -114227, JP 53-39130, JP 53-82353,
U.S. Patent No. 3,052,540, U.S. Patent No. 4.05
Examples thereof include those described in No. 4,450, JP-A-57-16456, and the like.

オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ログシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、M
、Harm+*ar  rThe Cyanine D
yes andRelated Compounds 
」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には
、米国特許第3.047.384号、同3,110,5
91号、同3,121,008号、同3,125、44
7号、同3.128.179号、同3,132.942
号、同3.622,317号、英国特許第1,226,
892号、同1,309.274号、同1,405,8
98号、特公昭48−7814号、同55−18892
号等に記載の色素が挙げられる。
oxonol dye, merocyanine dye, cyanine dye,
Polymethine dyes such as logcyanine dyes include F, M
,Harm+*ar rThe Cyanine D
yes and Related Compounds
” etc., and more specifically, U.S. Pat. Nos. 3.047.384 and 3,110,5
No. 91, No. 3,121,008, No. 3,125, 44
No. 7, No. 3.128.179, No. 3,132.942
No. 3,622,317, British Patent No. 1,226,
No. 892, No. 1,309.274, No. 1,405,8
No. 98, Special Publication No. 48-7814, No. 55-18892
Examples include the dyes described in No.

更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分
光増感するポリメチン色素として、特開昭47840号
、特開昭47−44180号、特公昭51−41061
号、特開昭49−5034号、特開昭49−45122
号、特開昭5746245号、特開昭56−35141
号、特開昭57−157254号、特開昭61−260
44号、特開昭61−27551号、米国特許第3,6
19.154号、米国特許第4,175,956号、r
Research Disclosure J 19B
2年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙
げられる。
Furthermore, as a polymethine dye that spectrally sensitizes the near-infrared to infrared light region with a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-47840, JP-A-47-44180, and JP-B-Sho 51-41061 are used.
No., JP-A-49-5034, JP-A-49-45122
No., JP-A-5746245, JP-A-56-35141
No., JP-A-57-157254, JP-A-61-260
No. 44, JP-A No. 61-27551, U.S. Patent No. 3,6
No. 19.154, U.S. Pat. No. 4,175,956, r
Research Disclosure J 19B
2, 216, pp. 117-118.

本発明の感光体は種々の増感色素を併用させても、その
性能が増感色素により変動しにくい点において優れてい
る。
The photoreceptor of the present invention is excellent in that its performance does not easily vary depending on the sensitizing dye, even when various sensitizing dyes are used together.

更には、必要に応じて、化学増感剤等の従来知られてい
る電子写真感光層用各種添加側を併用することもできる
0例えば、前記した総説:イメージング、19p (k
 8 )第12頁等の総説引例の電子受容性化合物(例
えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物
、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料
と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章二日本科学情
報(株)出版部(1986年)の総説引例のボリアリー
ルアルカン化合物、ヒンダードフェノール化合物、p−
フユニレンジアミン化合物等が挙げられる。
Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers, such as chemical sensitizers, may be used in combination.
8) Electron-accepting compounds (e.g., halogens, benzoquinone, chloranil, acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.) cited in the review on page 12, Hiroshi Komon et al., ``Recent development of photoconductive materials and photoreceptors. ``Practical Applications'' Chapters 4 to 6 2 Nippon Scientific Information Co., Ltd. Publishing Department (1986) Review Cited Boaryl Alkane Compounds, Hindered Phenol Compounds, p-
Examples include fluorine diamine compounds and the like.

これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.
0重量部である。
The amount of these various additives added is not particularly limited, but
Usually 0.0001 to 2.0 parts per 100 parts by weight of photoconductor.
It is 0 parts by weight.

光導電層の厚さは1〜100μ、特には10〜50μが
好適である。
The thickness of the photoconductive layer is preferably 1 to 100 microns, particularly 10 to 50 microns.

また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特には0.05〜0.5μが好適で
ある。
In addition, when a photoconductive layer is used as a charge generation layer in a laminated photoreceptor consisting of a charge generation layer and a charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1μ, particularly 0.05 to 0.5μ. suitable.

感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。
In some cases, an insulating layer is added mainly for the purpose of protecting the photoreceptor, improving its durability, dark decay characteristics, etc.

この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and when the photoreceptor is used for a specific electrophotographic process, the insulating layer provided is set to be relatively thick.

後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
In the latter case, the thickness of the insulating layer is between 5 and 70μ, in particular 1
It is set to 0 to 50μ.

積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバ
ゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
Charge transport materials for the laminated photoreceptor include polyvinylcarbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes, and the like.

電荷輸送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜3
0μが好適である。
The thickness of the charge transport layer is 5 to 40 μm, particularly 10 to 3 μm.
0μ is suitable.

絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としでは
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリア
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポ
キシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可イ性樹脂
及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
Typical resins used to form the insulating layer or charge transport layer include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride vinyl oxide copolymer resin, Thermoplastic resins and curable resins such as polyacrylic resins, polyolefin resins, urethane resins, epoxy resins, melamine resins, and silicone resins are used as appropriate.

本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、Affi等を蒸着した基体導電化プラス
チックを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
The photoconductive layer according to the invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support for the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive.As the electrically conductive support, for example, a base material such as metal, paper, or plastic sheet impregnated with a low-resistance substance is used in the same manner as in the past. those that have been subjected to conductive treatment, such as those that have been coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and also to prevent curling, and those that have been coated with at least one layer for the purpose of preventing curling, etc. Those with a water-resistant adhesive layer on the surface of the body, those with at least one or more pre-coated layers provided on the surface layer of the support as required, and those with a conductive plastic base coated with Affi, etc., laminated on paper. You can use the ones that have been prepared.

具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、「電子写真」、14、(No、1)、22〜
11 (1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学j
高分子刊行会(1975)、M、F、Hoover+J
、Macrosol、Sci、Che+*、A  4 
(6) 、第1327〜第1417頁(1970)等に
記載されているもの等を用いる。
Specifically, examples of conductive substrates or conductive materials include:
Yukio Sakamoto, "Electronic Photography", 14, (No. 1), 22~
11 (1975), Hiroyuki Moriga, “Introductory Special Paper Chemistry”
Kobunshi Publishing Association (1975), M, F, Hoover+J
, Macrosol, Sci, Che++, A 4
(6), pages 1327 to 1417 (1970), etc. are used.

(実施例) 以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。
(Example) Examples of the present invention are illustrated below, but the content of the present invention is not limited thereto.

マクロモノマー(MA)の合成例1 : (MM−1)
トリフェニルメチルメタクリレート30g及びトルエン
100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し一20
℃に冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.
0gを加え10時間反応した。
Synthesis example 1 of macromonomer (MA): (MM-1)
A mixed solution of 30 g of triphenylmethyl methacrylate and 100 g of toluene was thoroughly degassed under a nitrogen stream and heated to 120 g.
Cooled to ℃. 1,1-diphenylbutyllithium 1.
0g was added and reacted for 10 hours.

更にこの混合溶液に、エチルメタクリレート70g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後、添加し、更に10時間反応した。
Further, a mixed solution of 70 g of ethyl methacrylate and 100 g of toluene was added to this mixed solution after sufficiently degassing under a nitrogen stream, and the mixture was reacted for further 10 hours.

この混合物を0°Cにした後炭酸ガスを60m!/si
nの流量で30分間通気し、重合反応を停止させた。
After bringing this mixture to 0°C, add 60m of carbon dioxide gas! /si
Aeration was performed for 30 minutes at a flow rate of n to stop the polymerization reaction.

得られた反応液を撹拌下に、温度25°Cとし、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート6gを加え、更に、ジシ
クロへキシルカルボジイミド12g、4−N、N−ジメ
チルアミノピリジン1.0g及び塩化メチレン20gの
混合溶液を30分間で滴下し、そのまま3時間攪拌した
The resulting reaction solution was brought to a temperature of 25°C with stirring, and 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate was added, followed by 12 g of dicyclohexylcarbodiimide, 1.0 g of 4-N,N-dimethylaminopyridine, and 20 g of methylene chloride. The mixed solution was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was stirred as it was for 3 hours.

析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に、30%塩化
水素エタノール溶液10IIiを加え1時間撹拌した0
次に、減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶
媒を留去した後、石油エーテルll中に再沈した。沈殿
物を補集し、減圧乾燥して得られた重合体は、FSw 
6.5X10’で収量56gであった。
After filtering off the precipitated insoluble matter, 10IIi of a 30% hydrogen chloride ethanol solution was added to this mixed solution and stirred for 1 hour.
Next, the solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure until the total volume was reduced to half, and then reprecipitated into 1 l of petroleum ether. The polymer obtained by collecting the precipitate and drying it under reduced pressure is FSw
The yield was 56 g at 6.5 x 10'.

(MM−1> L マクロモノマー(MA)の合成例2 :  (MM−2
)ベンジルメタクリレート5g、(テトラフェニルボル
フイナート)アルミニウムメチル0.1g及び塩化メチ
レン60gの混合溶液を窒素気流下に温度30°Cとし
た。これに300W−キセノンランプ光をガラスフィル
ターを通して251の距離から光照射し、12時間反応
した。この混合物に更にブチルメタクリレート45gを
加え、同様に8時間光照射した後、この反応混合物に4
−ブロモメチルスチレン10gを加え、30分間攪拌し
反応を停止させた。
(MM-1>L Synthesis example 2 of macromonomer (MA): (MM-2
) A mixed solution of 5 g of benzyl methacrylate, 0.1 g of aluminum methyl (tetraphenylborufinate) and 60 g of methylene chloride was brought to a temperature of 30° C. under a nitrogen stream. This was irradiated with 300 W xenon lamp light from a distance of 251 cm through a glass filter, and reacted for 12 hours. After further adding 45 g of butyl methacrylate to this mixture and irradiating it with light for 8 hours, the reaction mixture was added with 45 g of butyl methacrylate.
- 10 g of bromomethylstyrene was added and stirred for 30 minutes to stop the reaction.

次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25°Cで
1時間接触還元反応を行なった。
Next, Pd-C was added to this reaction mixture, and a catalytic reduction reaction was carried out at a temperature of 25°C for 1 hour.

不溶物を濾別した後石油エーテル500−中に再沈し、
沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量33g
″cF1117×103テアツタ。
After filtering out insoluble matter, it was reprecipitated in petroleum ether 500-
The precipitate was collected and dried. The yield of the obtained polymer was 33g.
″cF1117×103 Tea Tsuta.

(MM−2) マクロモノマー(MA)の合成例3: (MM−3) 4−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱
気し、0°Cに冷却した。1.1−ジフェニル3−メチ
ルペンチルリチウム2gを加え、6時間攪拌した。更に
この混合物に2−クロロ−6メチルフ工ニルメタクリレ
ート80g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流
下に充分脱気した後、添加して8時間反応した。この反
応混合物に充分に攪拌しながらエチレンオキサイドを3
0d/minの流量で30分間通気した後、温度15°
Cに冷却しメタクリル酸クロライド12gを30分間で
滴下し、更にそのまま3時間攪拌した。
(MM-2) Synthesis Example 3 of Macromonomer (MA): (MM-3) A mixed solution of 20 g of 4-vinylphenyloxytrimethylsilane and 100 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen stream and heated to 0°C. Cooled. 2 g of 1.1-diphenyl 3-methylpentyllithium was added and stirred for 6 hours. Further, a mixed solution of 80 g of 2-chloro-6 methylphenyl methacrylate and 100 g of toluene was added to this mixture after thorough degassing under a nitrogen stream, and the mixture was reacted for 8 hours. Add 3 ethylene oxide to this reaction mixture with thorough stirring.
After venting for 30 minutes at a flow rate of 0 d/min, the temperature was 15°.
C., 12 g of methacrylic acid chloride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 3 hours.

次にこの反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液1
0gを加え、25°Cで1時間攪拌した後、石油エーテ
ルIf中に再沈し、補集した沈殿物をジエチルエーテル
300mで2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、収
量55gで〜7.8 X 10’であった。
Next, add 1 part of 30% hydrogen chloride ethanol solution to this reaction mixture.
After adding 0g of the mixture and stirring at 25°C for 1 hour, it was reprecipitated in petroleum ether If, and the collected precipitate was washed twice with 300ml of diethyl ether and dried. The resulting polymer was ˜7.8×10′ with a yield of 55 g.

(MM−3) CH3 マクロモノマー(MA)の合成例4 :  (MM−4
)トリフェニルメチルメタクリレート40g及びトルエ
ン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−
20℃に冷却した。
(MM-3) Synthesis example 4 of CH3 macromonomer (MA): (MM-4
) A mixed solution of 40 g of triphenylmethyl methacrylate and 100 g of toluene was thoroughly degassed under a nitrogen stream, and -
Cooled to 20°C.

5ec−ブチルリチウム2gを加え10時間反応した。2 g of 5ec-butyllithium was added and reacted for 10 hours.

次に、この混合溶液に、スチレン60g及びトルエン1
00gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後、添
加し12時間反応した。この混合物を0℃にした後、ベ
ンジルブロマイドl1gを加え1時間反応し、温度25
℃で更に2時間反応させた。
Next, add 60 g of styrene and 1 gram of toluene to this mixed solution.
After fully deaerating 00 g of the mixed solution under a nitrogen stream, it was added and reacted for 12 hours. After the mixture was cooled to 0°C, 1 g of benzyl bromide was added and reacted for 1 hour.
The reaction was continued for an additional 2 hours at °C.

この反応混合物に30%塩水素含有エタノール溶液10
gを加え、2時間攪拌した。不溶物を濾別後、n−へ牛
サンll中に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥した。
To this reaction mixture was added 10% of a 30% hydrogen salt solution in ethanol.
g and stirred for 2 hours. After filtering off the insoluble matter, it was reprecipitated in n-hegyusan 11, and the precipitate was collected and dried under reduced pressure.

得られた重合体の収量は58gでへ4.5XIO” であった。The yield of the obtained polymer was 58g and 4.5XIO” Met.

(MM−4) マクロモノマ−(MA)の合成例5 :  (MM−5
)フェニルメタクリレート70g、ヘンシル−N−ヒド
ロキシルエチル−N−エチルジチオカーバメ−)4.8
gの混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60℃
に加温した。これに40咋の高圧水銀灯で10C11の
距離からガラスフィルターを通して、10時間光照射し
光重合した。これにアクリル酸30g及びメチルエチル
ケトン180gを加えた後、窒素置換し再び10時間光
照射した。
(MM-4) Synthesis example 5 of macromonomer (MA): (MM-5
) phenyl methacrylate 70g, hensyl-N-hydroxylethyl-N-ethyldithiocarbame-) 4.8
g of the mixture was sealed in a container under nitrogen flow and kept at a temperature of 60°C.
It was heated to This was irradiated with light for 10 hours using a 40 cm high pressure mercury lamp from a distance of 10C11 through a glass filter for photopolymerization. After adding 30 g of acrylic acid and 180 g of methyl ethyl ketone to this, the mixture was replaced with nitrogen and irradiated with light for 10 hours again.

得られた反応混合物に、2−イソシアナートエチルメタ
クリレ−)12gを、温度30℃で1時間で滴下し、更
に2時間攪拌した。
To the obtained reaction mixture, 12 g of 2-isocyanatoethyl methacrylate was added dropwise at a temperature of 30° C. over 1 hour, and the mixture was further stirred for 2 hours.

得られた反応物をヘキサン1.5fに再沈、補集し乾燥
した。得られた重合体は、68gで〜6.0×10″で
あった。
The obtained reaction product was reprecipitated in 1.5f hexane, collected and dried. The resulting polymer weighed 68 g and measured ~6.0 x 10''.

(MM−5) CH。(MM-5) CH.

樹脂[A)の合成例1:(A−1) エチルメタクリレート80g、マクロモノマー(MM−
1)120g、トルエン150gの混合溶液を窒素気流
下に温度95℃に加温した。2.2′−アゾビス(イソ
ブチロニトリル)(^IBN) 6 gを加え3時間反
応し、更に2時間毎にA、1.B、N 2 gを加え反
応した。
Synthesis example 1 of resin [A]: (A-1) 80 g of ethyl methacrylate, macromonomer (MM-
1) A mixed solution of 120 g and 150 g of toluene was heated to 95° C. under a nitrogen stream. 2. Add 6 g of 2'-azobis(isobutyronitrile) (^IBN) and react for 3 hours, then add A, 1. B and 2 g of N were added to react.

得られた共重合体の〜は9X103であった。~ of the obtained copolymer was 9X103.

(A−13 樹脂〔A〕の合成例1(A−2) 2−クロロフェニルメタクリレート70g、マク1:l
モ/?−(MM−2)30g、n−ドデシルメルカプタ
ン2g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下に
温度80°Cに加温した。2.2′−アゾビス(イソバ
レロニトリル)  (AIVN)  3 gを加え3時
間反 応し、更にA、1.V、N、 I gを加え2時
間反応した。次にA、1.B、N、 1 gを加え温度
90’Cに加温して3時間反応した。得られた共重合体
の〜は7.6×103であった。
(A-13 Synthesis example 1 of resin [A] (A-2) 2-chlorophenyl methacrylate 70 g, Mac 1:l
Mo/? A mixed solution of 30 g of -(MM-2), 2 g of n-dodecylmercaptan, and 100 g of toluene was heated to 80° C. under a nitrogen stream. 2. Add 3 g of 2'-azobis(isovaleronitrile) (AIVN) and react for 3 hours, and then add A, 1. V, N, and Ig were added and reacted for 2 hours. Next, A.1. 1 g of B and N were added, heated to 90'C, and reacted for 3 hours. ~ of the obtained copolymer was 7.6 x 103.

(A−2) 樹脂〔A〕の合成例3〜18 : [A−3]〜[A−
18]樹脂[A)の合成例1と同様の重合条件で、エチ
ルメタクリレートを他の単量体に代えて下記表−1の共
重合体を合成した。得られた各重合体の〜は5X10’ 〜9X10’ であった。
(A-2) Synthesis examples 3 to 18 of resin [A]: [A-3] to [A-
18] Copolymers shown in Table 1 below were synthesized under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 1 of Resin [A), except that ethyl methacrylate was replaced with another monomer. ~ of each obtained polymer was 5X10' to 9X10'.

表−1 x + y +20=100(重量比)樹脂〔A〕の合
成例19〜35 : [A−19]〜[A−35]樹脂
[A]の合成例2において、マクロ七ツアー(MM−2
)の代わりに他のマクロモノマー(MA)を用いた他は
、合成例2と同様の重合条件で下記表−2の共重合体を
合成した。得られた各重合体のFl−は2X10’〜l
Xl0’であった。
Table-1 x + y + 20 = 100 (weight ratio) Synthesis Examples 19 to 35 of Resin [A]: [A-19] to [A-35] In Synthesis Example 2 of Resin [A], Macro Seven Tour (MM -2
) The copolymers shown in Table 2 below were synthesized under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 2, except that another macromonomer (MA) was used instead of . The Fl- of each obtained polymer is 2X10'~l
It was Xl0'.

マ ロモ マーMBの    :M− 1,4−ブタンジオール90.1g、無水コハク酸10
5.1g、p−)ルエンスルホン酸1水和物1.6g及
ヒドルエン200gの混合物を、Dean−3tarR
還流装置を付したフラスコ中で攪拌しながら還流下に4
時間加熱した。トルエン溶媒とともに共沸で留去された
水の量は17.5 gであ−った。
Maromo Mar MB: M-1,4-butanediol 90.1g, succinic anhydride 10
5.1 g, p-) A mixture of 1.6 g of luenesulfonic acid monohydrate and 200 g of hydrene was added to a Dean-3tarR
4 hours under reflux with stirring in a flask equipped with a reflux device.
heated for an hour. The amount of water distilled off azeotropically with the toluene solvent was 17.5 g.

次に、アクリル酸17.2g及びトルエン150gの混
1[とt−ブチルハイドロキノン1.0gを上記反応物
に加えた後、更に攪拌しながら還流下に4時間反応した
。室温に冷却後、メタノール21中に再沈し、析出した
固形物を濾集し、減圧乾燥した。
Next, a mixture of 17.2 g of acrylic acid and 150 g of toluene and 1.0 g of t-butylhydroquinone were added to the above reaction mixture, and the mixture was reacted under reflux for 4 hours with further stirring. After cooling to room temperature, it was reprecipitated into methanol 21, and the precipitated solid was collected by filtration and dried under reduced pressure.

収量は135gで、得られたマクロモノマー(M−1)
の重量平均分子量は6.8 X 10”であった。
The yield was 135 g, and the obtained macromonomer (M-1)
The weight average molecular weight was 6.8 x 10''.

(M−1) C1,−CH−COO廿CH!すrOco(CH*テr
cOo +Hマ ロモ マーMBの    :M− 1i6−ヘキサンジオール120L無水ゲルタン酸11
4.1g5p−)ルエンスルホン酸1水和物3.0g及
びトルエン250gの混合物を、マクロモノマー(MB
)の合成例1と同様の条件で反応した。共沸で留去した
水の量は17.5gであった。
(M-1) C1, -CH-COO-CH! srOco(CH*ter
cOo +H malomer MB: M- 1i6-hexanediol 120L geltanic anhydride 11
A mixture of 3.0 g of 4.1 g5p-) luenesulfonic acid monohydrate and 250 g of toluene was added to the macromonomer (MB
) was reacted under the same conditions as in Synthesis Example 1. The amount of water distilled off azeotropically was 17.5 g.

室温に冷却後n−へキサン2I!、中に再沈し、液状物
をデカント後補集し、減圧下に乾燥した。
After cooling to room temperature, n-hexane 2I! , and the liquid was collected after decantation and dried under reduced pressure.

上記反応生成物をトルエンに溶解し、0. IN水酸化
カリウムメタノール溶液で中和滴定する方法によりカル
ボキシル基含量を測定したところ、500μmol/g
となった。
The above reaction product was dissolved in toluene and 0.0% was dissolved in toluene. When the carboxyl group content was measured by neutralization titration with IN potassium hydroxide methanol solution, it was found to be 500 μmol/g.
It became.

上記固形物100g、メタクリル88.6g5L−ブチ
ルハイドロキノン1.0g及び塩化メチレン200gの
混合物を、室温で攪拌下に溶解した。
A mixture of 100 g of the above solid, 88.6 g of methacrylic, 1.0 g of 5L-butylhydroquinone, and 200 g of methylene chloride was dissolved at room temperature with stirring.

ジシクロへキシルカルボジイミド(D、C,C,)20
.3g、4−(N、N−ジメチル)アミノピリジン0.
5g及び塩化メチレン100gの混合溶液を、攪拌下に
上記混合物に1時間で滴定した。更にそのまま4時間攪
拌した。
Dicyclohexylcarbodiimide (D, C, C,) 20
.. 3g, 4-(N,N-dimethyl)aminopyridine 0.
A mixed solution of 5 g and 100 g of methylene chloride was titrated into the above mixture under stirring for 1 hour. The mixture was further stirred for 4 hours.

D、C,C,溶液を滴下するにつれ、不溶の結晶が析出
した0反応混合物を200メツシユのナイロン布を通し
て不溶物を濾別した。
D, C, C. As the solution was added dropwise, insoluble crystals precipitated. The reaction mixture was filtered to remove insoluble matter through a 200 mesh nylon cloth.

濾液をヘキサン2j!中に再沈し、粉末を濾集した。こ
れにアセトン50(1+dを加え1時間攪拌した後、不
溶画分を濾紙を用いて自然濾過した。濾液を全体量がη
になるまで減圧濃縮した後、この溶液をエーテルll中
に加え1時間攪拌した。析出した固形物を濾集し、減圧
乾燥した。
Hexane 2j for the filtrate! The powder was collected by filtration. After adding acetone 50 (1+d) and stirring for 1 hour, the insoluble fraction was gravity filtered using filter paper.The total volume of the filtrate was η
After concentrating under reduced pressure until the solution was dissolved, the solution was added to 1 liter of ether and stirred for 1 hour. The precipitated solid was collected by filtration and dried under reduced pressure.

収量53gで得られたマクロモノマー(M−2)の重量
平均分子量は8.2 X 10’であった。
The weight average molecular weight of the macromonomer (M-2) obtained in a yield of 53 g was 8.2 x 10'.

(M−2) 12−ヒドロキシステアリン酸500gを、外温150
℃の油浴中で、10〜15smHgの減圧下、生成する
水を留去しながら10時間攪拌した。
(M-2) 500 g of 12-hydroxystearic acid was heated to an external temperature of 150 g.
The mixture was stirred in an oil bath at 10° C. under reduced pressure of 10 to 15 smHg for 10 hours while distilling off the water produced.

得られた液状物のカルボキシル基含量は600μmol
/gであった。上記液状物100g、メタクリル酸無水
物18.5g St−ブチルハイドロキノン1.5g及
びテトラヒドロフラン200gの混合溶液を、温度40
〜45℃で6時間攪拌した0反応混合物を水ll中に、
攪拌下に1時間で滴下し、更に1時間撹拌した。静置し
て、沈降した液状物をデカンチーシランで取り出し、↑
IF 200gに溶解し、メタノールll中に再沈した
。沈降した液状物をデカンチーシランで取り出し、減圧
乾燥した。
The carboxyl group content of the obtained liquid was 600 μmol.
/g. A mixed solution of 100 g of the above liquid, 18.5 g of methacrylic anhydride, 1.5 g of St-butylhydroquinone, and 200 g of tetrahydrofuran was mixed at a temperature of 40 g.
The reaction mixture was stirred for 6 hours at ~45°C in 1 liter of water.
The mixture was added dropwise over 1 hour while stirring, and further stirred for 1 hour. Leave it to stand, remove the settled liquid with decanty silane, and remove it.
It was dissolved in 200 g of IF and reprecipitated in 1 liter of methanol. The precipitated liquid material was taken out using decanthisilane and dried under reduced pressure.

収量62gで得られたマクロモノマー(M−3)の重量
平均分子量は6.7 X 10’であった。
The weight average molecular weight of the macromonomer (M-3) obtained in a yield of 62 g was 6.7 x 10'.

(M−3) S、Penczek  et  al、  Makro
mol、Chem、+188+  1347(1987
)に記載の合成法に従って、下記構造のマクロモノマー
(M−4)を合成した。
(M-3) S, Penczek et al, Makro
mol, Chem, +188+ 1347 (1987
), a macromonomer (M-4) having the following structure was synthesized.

(M−4) 重量平均分子量: ?、3X10” マクロモノマー耶のム   :M− マクロモノマー(M−4) 50g、メタノール3g。(M-4) Weight average molecular weight: ? , 3X10” Macromonomer: M- Macromonomer (M-4) 50g, methanol 3g.

t〜ブチルハイドロキノン0.5g及び塩化メチレン1
50gの混合溶液に、[1,C,C,6g 、 4−N
、N−ジメチルアミノピリジン0.1g及び塩化メチレ
ン10gの混合溶液を温度20〜25°Cで攪拌下に3
0分間で滴下し、そのまま更に4時間攪拌した。この反
応混合物にギ酸5gを加えて1時間攪拌した後、析出し
た不溶物を濾別した。濾液をメタノールll中に再沈し
、溶媒をデカンチーシランで取り除き沈澱物を補集し減
圧乾燥した。得られた粘稠物は、収量28gで重量平均
分子量(Frw )は?、5 X 10’であった。
t ~ 0.5 g of butylhydroquinone and 1 part of methylene chloride
To 50 g of mixed solution, [1, C, C, 6 g, 4-N
A mixed solution of 0.1 g of N-dimethylaminopyridine and 10 g of methylene chloride was stirred at a temperature of 20 to 25°C for 3 hours.
The mixture was added dropwise over a period of 0 minutes, and the mixture was further stirred for 4 hours. After adding 5 g of formic acid to this reaction mixture and stirring for 1 hour, the precipitated insoluble matter was filtered off. The filtrate was reprecipitated into 1 liter of methanol, the solvent was removed with decanethisilane, and the precipitate was collected and dried under reduced pressure. The yield of the obtained viscous substance was 28 g, and what was the weight average molecular weight (Frw)? , 5 x 10'.

(M−5) CHl ot−c COO−HCCoo−HCH+cHs B のA、B エチルメタクリレ−1−85g、マクロモノマー(MB
)の合成例1の化合物(M−1) 15g及びトルエ2
00gの混合物を窒素気流下に温度75℃に加温した。
(M-5) CHl ot-c COO-HCCoo-HCH+cHs B A, B Ethyl methacrylate-1-85g, macromonomer (MB
) 15 g of compound (M-1) of Synthesis Example 1 and toluene 2
00 g of the mixture was heated to a temperature of 75° C. under nitrogen flow.

1.1′−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニト
リル)(略称^、B、C,C,)0.6gを加え4時間
撹拌した。更に、A、B、C,C,を0.3g加え3時
間、その後更にA、B、C,C,を0.2g加え4時間
攪拌した。得られた共重合体の重量平均分子量(〜)は
9.1×104であった。
1.0.6 g of 1'-azobis(cyclohexane-1-carbonitrile) (abbreviation ^, B, C, C,) was added and stirred for 4 hours. Further, 0.3 g of A, B, C, and C were added for 3 hours, and then 0.2 g of A, B, C, and C were added and stirred for 4 hours. The weight average molecular weight (~) of the obtained copolymer was 9.1 x 104.

(B−1) ベンジルメタクリレ−)95g、マクロモノマー(MB
) ノ合成例4の化合物(M−4) 5 g 、  ト
ルx 7200gの混合物を、窒素気流下に温度75℃
に加温した。
(B-1) 95 g of benzyl methacrylate, macromonomer (MB
) A mixture of 5 g of the compound (M-4) of Synthesis Example 4 and 7200 g of Torx was heated to 75°C under a nitrogen stream.
It was heated to

4.4°−アゾビス(2−シアノ吉草酸)(略称:^、
c。
4.4°-azobis(2-cyanovaleric acid) (abbreviation: ^,
c.

V、) 0.6 gを加え、4時間攪拌した0次に、^
、c。
V,) 0.6 g was added and stirred for 4 hours.
,c.

V、を0.3g加え3時間、更にその後A、C,V、を
0.2g加え3時間攪拌した。得られた共重合体の重量
平均分子量は1.2 X 10’であった。
0.3g of V was added and stirred for 3 hours, and then 0.2g of A, C, and V were added and stirred for 3 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 1.2 x 10'.

(B−23 樹脂〔B〕の合成例1と同様の重合条件で、下記表−3
の各樹脂[B−3]〜[B−13]を合成した。
(B-23 Under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 1 of Resin [B], Table 3 below
Each of the resins [B-3] to [B-13] were synthesized.

得られた各樹脂の重量平均分子量は8.5 X 10’
〜1.OX 10’であった。
The weight average molecular weight of each resin obtained was 8.5 x 10'
~1. It was OX 10'.

(以下余白) B の人  4〜3: B−1〜B−2樹脂〔B〕の合
成例1において、連鎖移動剤として下記メルカプト化合
物を用いて、同様の重合条件で、下記表−4の各樹脂(
B−14]〜[B−23]を製造した。
(Blank below) Person B 4-3: In Synthesis Example 1 of B-1 to B-2 resin [B], the following mercapto compound was used as a chain transfer agent and the polymerization conditions shown in Table 4 below were carried out under the same polymerization conditions. Each resin (
B-14] to [B-23] were produced.

得られた各樹脂の重量平均分子量は8.OX 10’〜
1.0X10’であった。
The weight average molecular weight of each resin obtained was 8. OX 10'~
It was 1.0×10'.

(以下余白) B のA   〜1:B−〜B−3 樹脂〔B〕の合成例2において、アゾビス化合物として
、A、C,ν、の代わりに他のアゾビス化合物に代えて
、同様の重合条件で表−5の樹脂CB)を各々製造した
(Blank below) A of B ~1: B- ~ B-3 In Synthesis Example 2 of Resin [B], similar polymerization was carried out by replacing A, C, and ν with other azobis compounds as the azobis compounds. Resin CB) shown in Table 5 was produced under the following conditions.

得られた各樹脂〔B〕の重量平均分子量は8.0×10
4〜2X10’であった。
The weight average molecular weight of each resin [B] obtained was 8.0×10
It was 4-2X10'.

(以下余白) B のA   〜 二B−〜B−4 樹脂〔B〕の合成例1における、重合条件と同様にして
、下記表−6の各樹脂〔B〕を合成した。
(Hereinafter, blank spaces) A to 2B- to B-4 of B Each resin [B] in Table 6 below was synthesized under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 1 of Resin [B].

得られた共重合体の重量平均分子量は9.0XlO’〜
1.2XlO’であった。
The weight average molecular weight of the obtained copolymer is 9.0XlO'~
It was 1.2XlO'.

(以下余白) 招1」コロ〕梗合成七本し一口り二収〕ベンジルメタク
リレート80g、マクロモノマー(MB)の合成例5の
化合物(M−5) 20g、  トルエン200gの混
合物を、樹脂〔B〕の合成例2と同様の重合条件で反応
し、樹脂(B−42)を合成した。
(Leaving space below) A mixture of 80 g of benzyl methacrylate, 20 g of the compound (M-5) of Synthesis Example 5 of macromonomer (MB), and 200 g of toluene was added to the resin [B]. ] The reaction was carried out under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 2 to synthesize resin (B-42).

得られた共重合体の重量平均分子量は9.8 X 10
’であった。
The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 9.8 x 10
'Met.

(B−423 樹脂(A−2)6g(固形分量として)、樹脂(B−1
334g(固形分量として)、下記構造のシアニン色素
(1) 0.018g、及びトルエン300gの混合物
をボールミル中で4時間分散して、感光層形成物を調製
し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25gノボ
となる様に、ワイヤーバーで塗布し、110°Cで30
秒間乾燥し、ついで暗所で20”C65%RHの条件下
で24時間放置することにより、電子写真感光材料を作
製した。
(B-423 Resin (A-2) 6g (as solid content), Resin (B-1
A mixture of 334 g (as solid content), 0.018 g of cyanine dye (1) having the following structure, and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 4 hours to prepare a photosensitive layer-forming product, and this was applied to conductive-treated paper. Apply with a wire bar so that the dry coating weight is 25g, and heat it at 110°C for 30 minutes.
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by drying for a second and then leaving it in a dark place under conditions of 20"C and 65% RH for 24 hours.

シアニン色素(1) 此1uIN: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、下記構造
の樹脂(R−1)6g及びポリ(エチルメタクリレート
) (ffw 2.4 X 10ゝ):樹脂(R−2)
34gを用いる以外は、実施例1と同様の操作で、電子
写真感光材料を作製した。
Cyanine dye (1) 1 uIN: Instead of the binder resin used in Example 1, 6 g of resin (R-1) with the following structure and poly(ethyl methacrylate) (ffw 2.4 x 10ゝ): Resin (R -2)
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that 34 g was used.

(R−1) COOCzHs   CC00 Hf  6.5X10’ 此1tfu: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、下記構造
の樹脂(R−3)6g及び樹脂(R−2)34gを用い
る以外は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料
を作製した。
(R-1) COOCzHs CC00 Hf 6.5X10' This 1 tfu: Except for using 6 g of resin (R-3) and 34 g of resin (R-2) having the following structure instead of the binder resin used in Example 1. An electrophotographic material was prepared in the same manner as in Example 1.

(R−3) H3 HOOC−CHg−3−(CI富−αトーCC00Cz
ll sff  6.5X10コ 此1u1q: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、樹脂[R
−3)6g及び下記構造の樹脂〔R−434gを用いる
以外は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料を
作製した。
(R-3) H3 HOOC-CHg-3-(CI rich-α to CC00Cz
ll sff 6.5X10 1u1q: Instead of the binder resin used in Example 1, resin
-3) An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1, except that 6 g and a resin [R-434 g] having the following structure were used.

(R−4) 〕 (重量比) Frw  8.0X10’ これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性
、撮像性及び環境条件を30℃、80%RHとした時の
撮像性を調べた。更に、これらの感光材料をオフセット
マスター用原版として用いた時の光導電性の不悪脂化性
(不感脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わす)
及び印刷性(地汚れ、耐剛性等)を調べた。
(R-4)] (Weight ratio) Frw 8.0X10' Film properties (surface smoothness), electrostatic properties, imaging properties, and imaging when the environmental conditions are 30°C and 80% RH of these photosensitive materials I looked into gender. Furthermore, when these photosensitive materials are used as original plates for offset masters, the photoconductive non-greasing property (expressed as the contact angle with water of the photoconductive layer after desensitizing treatment)
and printability (scumming, rigidity resistance, etc.) were investigated.

以上の結果をまとめて表−7に示す。The above results are summarized in Table-7.

(以下余白) 表 表−7に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。
(The following is a blank space) The manner in which the evaluation items shown in Table 7 are implemented is as follows.

注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was tested using a Beck smoothness tester (Kumagai Riko ■
The smoothness (
sec/cc) was measured.

注2)光導電層の機械的強度: 得られた感光材料面をヘイトン−14型表面性試験材(
新来化学■製)を用いて荷重70g/c+6のものでエ
メリー紙(11000)で500回繰り返し探り摩耗粉
を取り除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め機
械的強度とした。
Note 2) Mechanical strength of photoconductive layer: The surface of the photosensitive material obtained was tested using a Hayton-14 type surface test material (
Abrasion powder was removed by repeated probing with emery paper (11000) 500 times at a load of 70 g/c+6 using a photosensitive layer (manufactured by Shinrai Kagaku ■), and the residual film rate (%) was determined from the weight loss of the photosensitive layer, which was taken as the mechanical strength.

注3)静電特性: 温度20°C165%RHの暗室中で、各感光材料にペ
ーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザ
ー5P−428型)を用いて一6kVで20秒間コロナ
放電させた後、10秒間放置し、この時の表面電位v1
゜を測定した0次いでそのまま暗中で120秒間静置さ
せた後の電位v13゜を測定し、120秒間暗減衰させ
た後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR(χ
))を(V+3o/V+o)X100(%)で求めた。
Note 3) Electrostatic properties: In a dark room at a temperature of 20°C and 165% RH, each photosensitive material was subjected to corona discharge at -6 kV for 20 seconds using a paper analyzer (Paper Analyzer 5P-428 model manufactured by Kawaguchi Denki ■), and then Leave it for 10 seconds, and at this time the surface potential v1
The potential v13° was measured after being allowed to stand still for 120 seconds in the dark.
)) was determined by (V+3o/V+o)X100(%).

又コロナ放電により光導電層表面を一500vに帯電さ
せた後、波長785na+の単色光で照射し、表面電位
(V+O)が1 /10に減衰するまでの時間を求め、
これから露光量E17.。(erg/cd)を算出する
In addition, after the surface of the photoconductive layer was charged to -500 V by corona discharge, it was irradiated with monochromatic light with a wavelength of 785 na+, and the time required for the surface potential (V + O) to attenuate to 1/10 was determined.
From now on, exposure amount E17. . (erg/cd) is calculated.

更にE1/、。測定と同様にコロナ放電により一500
■に帯電させた後、波長785nmの単色光で照射し、
表面電位(V+。)が1/100に減衰するまでの時間
を求め、これから露光量E171゜。(erg/cd)
を算出する。
Furthermore, E1/. -500 by corona discharge as in the measurement
After being charged to ■, irradiating it with monochromatic light with a wavelength of 785 nm,
The time required for the surface potential (V+.) to attenuate to 1/100 is determined, and from this the exposure amount is E171°. (erg/cd)
Calculate.

注4)撮像性: 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。Note 4) Imaging performance: Each photosensitive material was left for one day and night under the following environmental conditions.

次に一5kVで帯電し、光源として2.8mW出力のガ
リウムーアルミニウムーヒ素、半導体レーザー(発振波
長785nm)を用いて、感光材料表面上で50erg
/cjの照射量下、ピッチ25pl及びスキャニング速
度300■/secのスピード露光後液体現像剤として
、ELP−7(富士写真フィルム■製)を用いて現像し
・、定着することで得られた複写画像(カプリ、画像の
画質)を目視評価した。
Next, the surface of the photosensitive material was charged at -5 kV, and using a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 785 nm) with an output of 2.8 mW as a light source, a 50 erg
A copy obtained by developing and fixing using ELP-7 (manufactured by Fuji Photo Film) as a liquid developer after exposure at a pitch of 25 pl and a scanning speed of 300 cm/sec under an irradiation dose of /cj. Images (capri, image quality) were visually evaluated.

撮像時の環境条件は20°C65%R11と30°C8
0%R11で実施した。
Environmental conditions during imaging were 20°C65%R11 and 30°C8
It was carried out at 0% R11.

注5)水との接触角: 各感光材料を不惑脂化処理液EPL−EX (富士写真
フィルム■製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用いて
、エツチングプロセッサーに1回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水23′の水滴を乗せ、
形成された水との接触角をゴニオメータ−で測定する。
Note 5) Contact angle with water: Each photosensitive material is exposed to light by passing it through an etching processor once using a solution prepared by diluting the fat-free processing liquid EPL-EX (manufactured by Fuji Photo Film) twice with distilled water. After desensitizing the surface of the conductive layer, droplets of distilled water 23' are placed on it.
The formed contact angle with water is measured with a goniometer.

注6)耐刷性: 各感光材料を、上記注4)と同条件で、製版して、トナ
ー画像を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理し
、これをオフセットマスターとして、オフセット印刷a
(桜井製作所■オリバー52型)にかけ、印刷物の非画
像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷
できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛性が良好な
ことを表わす)。
Note 6) Printing durability: Each photosensitive material is plate-made under the same conditions as Note 4) above to form a toner image, desensitized under the same conditions as Note 5) above, and this is used as an offset master. , offset printing a
(Sakurai Seisakusho Oliver Model 52) indicates the number of sheets that can be printed without causing problems with background stains in the non-image areas of the printed matter and image quality in the image areas (the higher the number of prints, the better the rigidity resistance) .

表−7に示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の平
滑性膜の強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像も
地力ブリがなく複写画質も鮮明であった。このことは光
導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を被
覆していることによるものと推定される。同様の理由で
、オフセットマスター原版として用いた場合でも不惑脂
化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像部
の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親水化さ
れていることが判る。実際に診察して印刷物の地汚れを
観察しても地汚れは全く認められなかった。
As shown in Table 7, in the photosensitive material of the present invention, the smooth film of the photoconductive layer had good strength and electrostatic properties, and the actual copied images had no ground blur and the quality of the copied images was clear. This is presumed to be due to the photoconductor and the binder resin being sufficiently adsorbed and covering the particle surface. For the same reason, even when used as an offset master original, the desensitizing treatment with the degreasing treatment liquid progresses sufficiently, and the contact angle with water in the non-image area is as small as 10 degrees or less, making it sufficiently hydrophilic. It can be seen that When I actually examined and observed the background stains on the printed matter, no background stains were observed.

又、比較例A−Cは、本発明の感光材料に比べると、静
電特性が低下してしまった。比較例Cは、膜強度が向上
し、静電特性においてもV、。、D、R,R,、E17
1゜は、はぼ満足する値が得られた。
Moreover, the electrostatic properties of Comparative Examples A to C were lower than those of the photosensitive materials of the present invention. In Comparative Example C, the film strength was improved and the electrostatic properties were also V. ,D,R,R,,E17
A value of 1° was quite satisfactory.

しかし、[!17.。。値を見ると、本発明の感光材料
に比べ信販上の大きな値となってしまった。E171゜
but,[! 17. . . Looking at the value, the value was higher than that of the photosensitive material of the present invention. E171°.

値は、実際の撮像性において、露光後、非画像部(既に
露光された部位)にどれだけの電位が残っているかを示
すものであり、この値が小さい程現像後の非画像部の地
汚れが生じなくなる事を示す。
In actual imaging performance, the value indicates how much potential remains in the non-image area (already exposed area) after exposure. Indicates that stains will no longer occur.

具体的には一10V以下の残留電位にすることが必要と
なり、即ち実際にはv、−10V以下とするために、ど
れだけ露光量が必要となるかということで、半導体レー
ザー光によるスキャンニング露光方式では、小さい露光
量でvlを一10V以下にすることは、複写機の光学系
の設計上(装置のコスト、光学系光路の精度等)非常に
重要なことである。
Specifically, it is necessary to make the residual potential below -10V, that is, how much exposure is required to actually make it below -10V?Scanning with semiconductor laser light In the exposure method, it is very important to reduce vl to -10 V or less with a small exposure amount in terms of the design of the optical system of the copying machine (device cost, precision of the optical system optical path, etc.).

以上の事より、露光照射量を少し少なくした装置で実際
に撮像すると、比較例Aは、D、R,R,が著しく低い
ため、満足な複写画像はえられなかった。
From the above, when an image was actually captured using an apparatus with a slightly lower exposure dose, Comparative Example A could not obtain a satisfactory copy image because D, R, and R were extremely low.

比較例Bは、高温・高湿の条件下でその画像の悪化が著
しく、画像部の濃度低下、細線・文字のカスレが発生し
、又、非画像部に地力プリが発生してしまった。比較例
Cは、常温・常温条件下では、はぼ満足する画像であっ
たが、高温・高温条件下では、地力ブリの発生、画像部
の細線のカスレ等が発生してしまった。又、オフセット
マスター原版として用いた場合でも、本発明の感光材料
が1万枚以上印刷できる印刷条件で、比較例A−Cのい
ずれも、刷り出しの印刷物から、非画像部の地汚れが発
生してしまった。これは、鮮明な複写画像が得られず、
地力ブリが不感脂化処理でも除去できずに生じたもので
あった。
In Comparative Example B, the image deteriorated significantly under conditions of high temperature and high humidity, resulting in a decrease in density in the image area, fading of thin lines and characters, and occurrence of soil retention in the non-image area. In Comparative Example C, the image was quite satisfactory under room temperature and room temperature conditions, but under high temperature and high temperature conditions, ground blurring, fading of fine lines in the image area, etc. occurred. In addition, even when used as an offset master original plate, under printing conditions that allow the photosensitive material of the present invention to print 10,000 sheets or more, in all of Comparative Examples A to C, background stains occurred in the non-image areas of the printed matter at the beginning of printing. have done. This means that a clear copy image cannot be obtained.
This was caused by the fact that the soil was unable to be removed even with desensitization treatment.

以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静電
特性及び印刷適性を満足する電子写真感光体が得られる
From the above, an electrophotographic photoreceptor that satisfies electrostatic properties and printability can be obtained only when the resin of the present invention is used.

災隻斑)二H 実施例1において、樹脂(A−2)及び樹脂(B−1)
に代えて、下記表−8の各樹脂〔A〕及び各樹脂〔B〕
に代えた他は、実施例Iと同様に操作して、各電子写真
感光体を作製した。
Resin (A-2) and Resin (B-1) in Example 1
In place of, each resin [A] and each resin [B] in Table 8 below
Each electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example I, except that .

実施例1と同様にして静電特性を測定した。結果を表−
8に示す。
Electrostatic properties were measured in the same manner as in Example 1. Display the results -
8.

(以下余白) 表 静電特性は、 (30℃、(資)%R11)条件下での測定値又、オフ
セットマスター原版として用いて、実施例1と同様にし
て印刷した所、いずれも1万枚以上印刷することができ
た。
(Margins below) The surface electrostatic properties are measured values under the conditions (30°C, %R11), and when printed in the same manner as in Example 1 using as an offset master original, both values were 10,000 yen. I was able to print more than one page.

以上から、本発明の各感光材料は光導電層の平滑性、膜
強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった。
From the above, each of the photosensitive materials of the present invention was good in all respects of the smoothness of the photoconductive layer, film strength, electrostatic properties, and printability.

さらに、樹脂〔A′〕を用いることにより静電特性がさ
らに向上することが判った。
Furthermore, it was found that the electrostatic properties were further improved by using resin [A'].

裏隻a二刹 実施例1において結着樹脂として下記表−9の樹脂〔A
〕6.5.及び樹脂〔B〕33.5gに代え、又、シア
ニン色素(1) G、02gの代わりに下記構造の色素
(II)  0.019gに代えた他は、実施例1と同
様の条件で電子写真感光材料を作製した。
In Example 1, the resin shown in Table 9 below was used as the binder resin [A
]6.5. Electrophotography was carried out under the same conditions as in Example 1, except that 33.5 g of resin [B] was replaced with 0.019 g of dye (II) having the following structure in place of 0.2 g of cyanine dye (1) G. A photosensitive material was produced.

色素(II) (Cl1g) asOs ”       (C1,)
 asOJ表 本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高温の(30℃
、80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発
生のない、鮮明な画像を与えた。
Dye (II) (Cl1g) asOs” (C1,)
asOJ table The photosensitive materials of the present invention all have chargeability, dark charge retention,
It has excellent photosensitivity, and the actual copied images can be used even at high temperatures (30℃).
, 80% RH), it provided clear images with no soil blurring.

更に、これをオフセットマスターの原版として用いて印
刷した所、地力ブリのない鮮明な画質の印刷物を1万枚
以上印刷できた。
Furthermore, when this was used as an original plate for an offset master, more than 10,000 copies of clear image quality prints with no background blur were printed.

び     に     D 樹脂(A−13(実施例34)又は樹脂(A−83(実
施例35)のいずれか6.5g、樹脂(B−2333,
5g、酸化亜鉛200 g 、ウラニン0.02g、下
記構造のメチン色素(III)0.035g、下記構造
のメチン色素(IV)0.02g、無水フタル酸0.2
0g及びトルエン300gの混合物をホモジナイザー(
日本精機■製)中、I X 10’r、p、s、で15
分間分散して感光層形成物を調整し、これを導電処理し
た紙に、乾燥付着量が25g/ rdとなる様にワイヤ
ーバーで塗布し、110℃で1分間乾燥した0次いで暗
所で20’C,65%RHの条件下で24時間放置する
ことにより各電子写真感光体を作製した。
and D 6.5 g of either resin (A-13 (Example 34) or resin (A-83 (Example 35)), resin (B-2333,
5g, zinc oxide 200g, uranine 0.02g, methine dye (III) with the following structure 0.035g, methine dye (IV) with the following structure 0.02g, phthalic anhydride 0.2
0g and 300g of toluene using a homogenizer (
Made by Nippon Seiki ■) Medium, I x 10'r, p, s, 15
Disperse for 1 minute to prepare a photosensitive layer formed product, apply it to conductive treated paper with a wire bar so that the dry coating weight is 25 g/rd, dry for 1 minute at 110°C, and then dry in the dark for 20 minutes. Each electrophotographic photoreceptor was produced by leaving it for 24 hours under the conditions of 'C and 65% RH.

メチン色素(I[l) メチン色素(IV) 実施例34において、樹脂(A−136,5g、樹脂(
B −2) 33.5gの代わりに、前記の樹脂[R3
]6.5g及び樹脂(R−4) 33.5gを用いた他
は、実施例34と同様にして、感光材料を作製した。
Methine dye (I[l) Methine dye (IV) In Example 34, resin (A-136, 5g, resin (
B-2) Instead of 33.5 g, the above resin [R3
] A photosensitive material was produced in the same manner as in Example 34, except that 6.5 g of the resin (R-4) and 33.5 g of the resin (R-4) were used.

実施例1と同様に、各感光材料の各特性を調べた。その
結果を下記表−10にまとめた。
In the same manner as in Example 1, the characteristics of each photosensitive material were investigated. The results are summarized in Table 10 below.

表 上記の測定において、静電特性及び撮像性については下
記の操作に従った他は、実施例1と同様の操作で行なっ
た。
In the measurements shown in the table above, the electrostatic properties and imaging properties were carried out in the same manner as in Example 1, except that the following procedures were followed.

注7)静電特性のEl/+6及びE、7.。。の測定方
法コロナ放電により光導電層表面を一400vに帯電さ
せた後、該光導電層表面を照度2.0ルツクスの可視光
で照射し、表面電位(V+。)が1ノ10又はE、71
゜。に減衰するまでの時間を求め、これから露光量El
/l。又はE、/、。。(ルックス・秒)を算出する。
Note 7) Electrostatic characteristics El/+6 and E, 7. . . Measuring method: After the surface of the photoconductive layer is charged to -400V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer is irradiated with visible light at an illuminance of 2.0 lux, and the surface potential (V+.) is 1/10 or E, 71
゜. Find the time it takes for the light to attenuate, and then calculate the exposure amount El
/l. Or E, /,. . Calculate (looks/seconds).

注8)撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機1!PL−404V (富士写真フィルム■製
)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られた
複写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像
時の環境条件は、20°C65%R11(1) と30
℃80%RH(It)で実施した。但し、複写用の原稿
(即ち、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、貼
り込みを行なって作成したものを用いた。
Note 8) Imaging properties After leaving each photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, use a fully automatic plate making machine 1! A copy image (fogging, image quality) obtained by plate making using EPL-T as a toner with PL-404V (manufactured by Fuji Photo Film ■) was visually evaluated. The environmental conditions during imaging were 20°C, 65% R11(1) and 30°C.
It was carried out at 80% RH (It). However, the manuscript for copying (ie, the draft manuscript) was created by cutting out and pasting other manuscripts.

各感光材料において、光導電層の平滑性及び強度におい
て、その差は認められなかった。しかし、静電特性にお
いて、比較例りは、特に光感度E17.。。の値が大き
くなった。本発明の感光材料の静電特性は良好であり、
更に、特定の置換基を有する樹脂〔A〕を用いた実施例
35は、非常に良好であり、特にEl/I11゜の値が
小さくなった。
No difference was observed in the smoothness and strength of the photoconductive layer among the photosensitive materials. However, in terms of electrostatic properties, the comparative example has a particularly high photosensitivity E17. . . The value of has increased. The photosensitive material of the present invention has good electrostatic properties,
Furthermore, Example 35 using the resin [A] having a specific substituent group had very good results, especially the value of El/I11° was small.

実際の撮像性を調べて見ると、比較例りは、複写画像と
して原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠(即ち
、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認められた。
When examining the actual imaging performance, it was found that in the comparative example, in addition to the original, the frame of the cut out and pasted portion (i.e. pasting trace) was observed as background stains in the non-image area.

しかし、本発明のものは、いずれも、地汚れのない、鮮
明な画像のものが得られた。
However, in all cases of the present invention, clear images without background stains were obtained.

更に、これらをオフセット印刷用原版として不感脂化処
理して印刷した所、本発明のものはいずれも地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。しかし、比較
例りは、上記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去さ
れず、刷り出しの印刷物から発生してしまった。
Furthermore, when these were desensitized and printed as offset printing original plates, 10,000 prints with clear image quality and no background smudge were obtained for all of the products of the present invention. However, in the comparative example, the above-mentioned pasting marks were not removed even with the desensitizing treatment, and were generated from the printed matter.

以上のことより、本発明の感光材料のみが、良好な特性
を与えることができた。
From the above, only the photosensitive material of the present invention was able to provide good characteristics.

実1」1をヱ侍 実施例34において、樹脂(A  I)6.5g及び樹
脂[B −2] 33.5gの代わりに、下記表−11
の樹脂〔A〕6.5g及び樹脂〔B〕33.5gを用い
た他は、実施例34と同様にして各感光材料を作製した
In Example 34, in place of 6.5 g of resin (A I) and 33.5 g of resin [B-2], 1 was added to Table 11 below.
Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 34, except that 6.5 g of resin [A] and 33.5 g of resin [B] were used.

表−11 本発明の感光材料はいずれも帯電性、 暗電荷保 持重、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高温(30
″C180%RH)の過酷な条件においても地力ブリの
発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
Table 11 All of the photosensitive materials of the present invention have excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity.
Even under the harsh conditions of "C180%RH", it provided clear images with no occurrence of ground blur or fine line skipping.

更にオフセットマスター原版として印刷した所、1万枚
印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が得
られた。
Furthermore, when printed as an offset master original plate, clear prints with no background staining were obtained even after printing 10,000 sheets.

災旌貫匝 下記構造の樹脂(A−36) 6 g、樹脂(B−40
)30g、酸化亜鉛200 g、ウラニン0.02g、
ローズベンガル0.04 g 、ブロムフェノールブル
ー0.03 g 。
6 g of resin (A-36) with the following structure, resin (B-40)
) 30g, zinc oxide 200g, uranine 0.02g,
Rose Bengal 0.04 g, Bromphenol Blue 0.03 g.

無水フタル酸0.20g及びトルエン300gの混合物
をボールミル中で3時間分散した0次にこの分散物に1
.3−キシリレンジイソシアナート2.5gを加え、更
にボールミルで5分間分散した。
A mixture of 0.20 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 3 hours.
.. 2.5 g of 3-xylylene diisocyanate was added and further dispersed in a ball mill for 5 minutes.

これを導電処理した紙に、乾燥付着量が20g/ rd
となる様にワイヤーバーで塗布し、110℃で1分間乾
燥し、更に120℃で1.5時間加熱した。次いで暗所
で20℃、65%RHの条件下で24時間放置すること
により各電子写真感光体を作製した。
The dry adhesion amount is 20g/rd on conductive treated paper.
It was coated with a wire bar so that Next, each electrophotographic photoreceptor was prepared by leaving it for 24 hours in a dark place at 20° C. and 65% RH.

樹脂〔A 36] これらの感光材料を実施例34と同様にして、静電特性
及び撮像性を調べたところ、良好な性能を示した。
Resin [A 36] When these photosensitive materials were examined for electrostatic properties and imaging properties in the same manner as in Example 34, they showed good performance.

更に、オフセット印刷用原版として印刷した所、1万枚
以上の印刷が可能となった。
Furthermore, when printed as an original plate for offset printing, it became possible to print more than 10,000 sheets.

(発明の効果) 本発明によれば、過酷な条件下においても優れた静電特
性と機械的強度を有する電子写真感光体を得ることがで
きる。また、本発明の感光体は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効である。
(Effects of the Invention) According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic properties and mechanical strength even under severe conditions can be obtained. Further, the photoreceptor of the present invention is effective in a scanning exposure method using semiconductor laser light.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)無機光導電材料及び結着樹脂を少なくとも含有す
る光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹
脂が、下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び下記樹脂〔
B〕の少なくとも1種を含有して成ることを特徴とする
電子写真感光体。 樹脂〔A〕; −PO_3H_2基、−COOH基、−SO_3H基、
フェノール性OH基、▲数式、化学式、表等があります
▼基{Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素
基)を示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少
なくとも1つの酸性基を含有する重合体成分を少なくと
も1種含有するAブロックと、下記一般式( I )で示
される重合体成分を少なくとも含有するBブロックとか
ら構成されるA−Bブロック共重合体のBブロックの重
合体主鎖の末端に重合性二重結合基を結合して成る一官
能性マクロモノマー(MA)を少なくとも1種共重合成
分として含有する重量平均分子量1×10^3〜2×1
0^4のグラフト型共重合体。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式( I )中、a_1及びa_2はそれぞれ水素原子
、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。 A_1は−COO−、−OCO−、▲数式、化学式、表
等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼(
l_1、l_2は1〜3の整数を 表わす)、−O−、−SO_2−、−CO−、−CON
−、▲数式、化学式、表等があります▼、−CONHC
OO−、−CONHCONH−又は▲数式、化学式、表
等があります▼を表わす(ここでZ_1は水素原子又は
炭化水素基を表わす)。 R_1は、炭化水素基を表わす、但しA_1が▲数式、
化学式、表等があります▼を表わす場合、R_1は水素
原子又は炭化水素基を表わす。〕 結着樹脂〔B〕; 下記一般式(IIIa)及び一般式(IIIb)で示される、
重量平均分子量1×10^3〜1.5×10^4のポリ
エステル型マクロモノマー(MB)のうちの少なくとも
1つを少なくとも重合体成分として含有する重量平均分
子量3×10^4〜1×10^6の共重合体。 一般式(IIIa) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(IIIb) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式(IIIa)および(IIIb)中、〔 〕内は繰り返し単
位を表わす。 f_1及びf_2は、互いに同じでも異なってもよく、
各々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8
の炭化水素基、−COO−T_1又は炭素数1〜8の炭
化水素基を介した−COOT_2(T_1およびT_2
は各々炭素数1〜18の炭化水素基を表わす)を表わす
。 X_2は、単結合もしくは−COO−、−OCO−、▲
数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表
等があります▼(u_1u_2は1 〜3の整数を表わす)、−CON−(d_1は水素原子
又は炭素数1〜12の炭化水素基を表わす)、−CON
HCONH−、−CONHCOO−、−O−、▲数式、
化学式、表等があります▼又は−SO_2−を表わす。 Y_1は、X_1と−COO−とを連結する基を表わす
。 W_1及びW_2は、互いに同じでも異なってもよく、
各々二価の脂肪族基、二価の芳香族基{各々の二価の有
機残基の結合中に−O−、−S−、▲数式、化学式、表
等があります▼(d_2は水素原子又は炭素数1〜12
の炭化水素基を表す)、−SO_2−、−COO−、−
OCO−、−CONHCO−、−NHCONH−、▲数
式、化学式、表等があります▼(d_3はd_2と同一
の内容を表わす)、−SO_2N−(d_4はd_2と
同一の内容を表わす)及び▲数式、化学式、表等があり
ます▼から選ばれた少なくとも1つの結合基を介在させ
てもよい)又はこれら残基の組合せにより構成された有
機残基を表わす。 R_6_1は水素原子、又は炭化水素基を表わす。 一般式(IIIb)におけるf_3、f_4、X_2、Y
_2及びR_6_2は各々一般式(IIIa)におけるf
_1、f_2、X_1、Y_1及びR_6_1と同一の
内容を表わす。 W_3は二価の脂肪族基を表わす。 (2)該樹脂〔A〕において、該マクロモノマー(MA
)とともに下記一般式(II)で表わされる単量体を少な
くとも1種共重合成分として含有する事を特徴とする請
求項(1)に記載の電子写真感光体。 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(II)において、R_2は炭化水素基を表わす。〕
(3)該樹脂〔A〕において、該マクロモノマー(M)
とともに、下記一般式(IIa)及び一般式(IIb)で示
される単量体のうちの少なくとも1種を共重合成分とし
て30重量%以上含有する事を特徴とする請求項(2)
記載の電子写真感光体。 一般式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(IIb) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、X_1、及びX_2は互いに独立に、それぞれ
水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭
素原子、−COZ_3又は−COOZ_3(Z_3は各
々炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表わす。但し
、X_1とX_2がともに水素原子を表わすことはない
。 L_1及びL_2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を
結合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表
わす。〕 (4)該樹脂〔B〕が、−PO_3H_2基、−SO_
3H基、−COOH基、−OH基、▲数式、化学式、表
等があります▼基(R_0はRと同一の内容を表わす)
および環状酸無水物含有基から選択される少なくとも1
種の極性基を該共重合体の重合体主鎖部の末端に結合し
て成る樹脂である請求項(1)〜(3)のいずれかに記
載の電子写真感光体。
[Scope of Claims] (1) An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material and a binder resin, wherein the binder resin includes at least one of the following resins [A] and the following resins: [
An electrophotographic photoreceptor comprising at least one of B). Resin [A]; -PO_3H_2 group, -COOH group, -SO_3H group,
At least one selected from phenolic OH group, ▲mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ group {R represents a hydrocarbon group or -OR' group (R' is a hydrocarbon group)}, and a cyclic acid anhydride-containing group. An A-B block copolymer composed of an A block containing at least one polymer component containing one acidic group and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (I) containing as a copolymerization component at least one monofunctional macromonomer (MA) formed by bonding a polymerizable double bond group to the end of the main chain of the polymer main chain of the B block, with a weight average molecular weight of 1 x 10^3 to 2 ×1
0^4 graft copolymer. General formula (I) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available▼ [In formula (I), a_1 and a_2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group. A_1 is -COO-, -OCO-, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (
l_1, l_2 represent integers from 1 to 3), -O-, -SO_2-, -CO-, -CON
-, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, -CONHC
Represents OO-, -CONHCONH- or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (here, Z_1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group). R_1 represents a hydrocarbon group, provided that A_1 is ▲ formula,
There are chemical formulas, tables, etc. When representing ▼, R_1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. ] Binder resin [B]; represented by the following general formula (IIIa) and general formula (IIIb),
A weight average molecular weight of 3 x 10^4 to 1 x 10 containing at least one polyester type macromonomer (MB) having a weight average molecular weight of 1 x 10^3 to 1.5 x 10^4 as a polymer component. ^6 copolymer. General formula (IIIa) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (IIIb) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ In formulas (IIIa) and (IIIb), the brackets [ ] represent repeating units. f_1 and f_2 may be the same or different from each other,
Each hydrogen atom, halogen atom, cyano group, carbon number 1-8
hydrocarbon group, -COO-T_1 or -COOT_2 (T_1 and T_2
each represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. X_2 is a single bond or -COO-, -OCO-, ▲
There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (u_1u_2 represents an integer from 1 to 3), -CON- (d_1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms ), -CON
HCONH-, -CONHCOO-, -O-, ▲ Formula,
There are chemical formulas, tables, etc. Represents ▼ or -SO_2-. Y_1 represents a group connecting X_1 and -COO-. W_1 and W_2 may be the same or different from each other,
Each divalent aliphatic group, divalent aromatic group {-O-, -S-, ▲mathematical formula, chemical formula, table, etc. are present in the bond of each divalent organic residue▼(d_2 is a hydrogen atom or carbon number 1-12
represents a hydrocarbon group), -SO_2-, -COO-, -
OCO-, -CONHCO-, -NHCONH-, ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(d_3 represents the same content as d_2), -SO_2N-(d_4 represents the same content as d_2), and ▲Mathematical formulas , chemical formula, table, etc.) (which may include at least one bonding group selected from ▼) or an organic residue composed of a combination of these residues. R_6_1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. f_3, f_4, X_2, Y in general formula (IIIb)
_2 and R_6_2 are each f in general formula (IIIa)
It represents the same content as _1, f_2, X_1, Y_1 and R_6_1. W_3 represents a divalent aliphatic group. (2) In the resin [A], the macromonomer (MA
) and at least one monomer represented by the following general formula (II) as a copolymerization component. General formula (II) ▲There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In formula (II), R_2 represents a hydrocarbon group. ]
(3) In the resin [A], the macromonomer (M)
Claim (2) characterized in that it contains at least 30% by weight of at least one of the monomers represented by the following general formulas (IIa) and (IIb) as a copolymerization component.
The electrophotographic photoreceptor described above. General formula (IIa) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (IIb) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, X_1 and ~10 hydrocarbon group, chlorine atom, bromine atom, -COZ_3 or -COOZ_3 (Z_3 each represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). However, both X_1 and X_2 do not represent hydrogen atoms. L_1 and L_2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects -COO- to the benzene ring. ] (4) The resin [B] has -PO_3H_2 groups, -SO_
There are 3H groups, -COOH groups, -OH groups, ▲mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ groups (R_0 represents the same content as R)
and at least one selected from cyclic acid anhydride-containing groups
The electrophotographic photoreceptor according to any one of claims 1 to 3, which is a resin in which a polar group of a species is bonded to an end of a polymer main chain portion of the copolymer.
JP13541790A 1990-05-28 1990-05-28 Electrophotographic sensitive body Pending JPH0430170A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13541790A JPH0430170A (en) 1990-05-28 1990-05-28 Electrophotographic sensitive body

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13541790A JPH0430170A (en) 1990-05-28 1990-05-28 Electrophotographic sensitive body

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0430170A true JPH0430170A (en) 1992-02-03

Family

ID=15151249

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13541790A Pending JPH0430170A (en) 1990-05-28 1990-05-28 Electrophotographic sensitive body

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0430170A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0425850A (en) Electrophotographic sensitive body
JPH0619147A (en) Electrophotographic sensitive body
JPH03225344A (en) Electrophotographic sensitive body
JP2670884B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH0430170A (en) Electrophotographic sensitive body
JP2684433B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP2676645B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3112704B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP2684435B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP2640146B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3115362B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3112712B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3166110B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP2722125B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3176976B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP2622771B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3112715B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3115365B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP2982081B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3130958B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3262375B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP2684434B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3112725B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH04358156A (en) Electrophotographic sensitive body
JPH0430169A (en) Electrophotographic sensitive body