JP2684434B2 - Electrophotographic photoreceptor - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor

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JP2684434B2
JP2684434B2 JP3395490A JP3395490A JP2684434B2 JP 2684434 B2 JP2684434 B2 JP 2684434B2 JP 3395490 A JP3395490 A JP 3395490A JP 3395490 A JP3395490 A JP 3395490A JP 2684434 B2 JP2684434 B2 JP 2684434B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及
び耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。特にCPC感
光体として性能の優れたものに関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, and more particularly, to an electrophotographic photoreceptor excellent in electrostatic characteristics and moisture resistance. In particular, it relates to a CPC photosensitive member having excellent performance.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは
適用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構
成をとる。
The electrophotographic photosensitive member has various configurations in order to obtain predetermined characteristics or according to the type of an applied electrophotographic process.

電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光
導電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備え
た感光体があり、広く用いられている。
Representative electrophotographic photoreceptors include a photoreceptor having a photoconductive layer formed on a support and a photoreceptor having an insulating layer on the surface, and are widely used.

支持体と少なくとも1つの光導電層から構成される感
光体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯
電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画
像形成に用いられる。
Photoreceptors composed of a support and at least one photoconductive layer are used for image formation by the most common electrophotographic processes, i.e. charging, image exposure and development, and, if necessary, transfer.

更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電
子写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に
近年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数千枚程度
の印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要
となってきている。
Further, a method using an electrophotographic photosensitive member as an offset master for direct plate making has been widely used. In particular, in recent years, direct electrophotographic lithographic printing has become important as a method for printing high-quality printed matter with a print number of several hundreds to several thousands.

電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する
結着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結
着樹脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録
体層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体
層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減
衰が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度
の変化によってこれら特性を安定に保持していることが
必要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具
備する必要がある。
The binder resin used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film forming properties of itself and the ability to disperse the photoconductive powder in the binder resin, and the formed recording material layer Has good adhesion to the substrate, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, low dark decay, large light decay, low pre-exposure fatigue, and changes in humidity during photography. It is necessary to have various electrostatic characteristics, such as a need to stably maintain these characteristics, and excellent imaging properties.

更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究
が鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特
性と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用
の結着樹脂が必要である。
Furthermore, research on a lithographic printing original plate using an electrophotographic photoreceptor has been earnestly conducted, and a binder resin for a photoconductive layer having both electrostatic characteristics as an electrophotographic photoreceptor and printing characteristics as a printing original plate. is required.

しかしながら従来公知の結着樹脂には、特に帯電性、
暗電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑
性等に多くの問題があった。
However, conventionally known binder resins include, in particular, chargeability,
There are many problems in dark charge retention, electrostatic characteristics such as photosensitivity, and smoothness of the photoconductive layer.

これらの問題を解決するために、結着樹脂として酸性
基を重合体の側鎖に含有する共重合体成分を0.05〜10重
量%含有する低分子量の樹脂又は酸性基を重合体主鎖の
末端に結合する低分子量の樹脂(w103〜104)を用い
ることにより、光導電層の平滑性及び静電特性を良好に
し、しかも地汚れのない画質を得ることがそれぞれ特開
昭63−217354号及び特開昭64−70761号に記載されてい
る。
In order to solve these problems, a low molecular weight resin containing 0.05 to 10% by weight of a copolymer component containing an acidic group in the side chain of the polymer as a binder resin or an acidic group at the end of the polymer main chain The use of a low molecular weight resin ( w 10 3 to 10 4 ) that binds to the resin improves the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer, and provides image quality free of background stains. 217354 and JP-A-64-70761.

また、結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含
有し、又は重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又
は光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を
用いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−39690号
に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は重合体主鎖
の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技術が特開平
1−102573号、特願昭63−39691号にそれぞれ開示さ
れ、更に該樹脂の低分子量体(重量平均分子量103〜1
04)を高分子量(重量平均分子量104以上)の樹脂と組
合せて用いる技術が特開昭64−564号、同63−220149
号、同63−220140号、特願昭62−273547号、特開平1−
116643号及び特開平1−169455号に、かかる低分子量体
を熱及び/又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術が特
開平1−211766号及び特願昭63−26561号にそれぞれ開
示されている。これらの技術により、側鎖又は末端に酸
性基を含有する樹脂を用いたことによる上記特性を阻害
せずにさらに光導電層の膜強度を充分ならしめ、機械的
強度が増大されることが記載されている。
Further, as a binder resin, a resin containing a polymerization component containing an acidic group in the side chain of the copolymer or bonded to the end of the polymer main chain and containing a heat and / or photocurable functional group. Is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-100554 and Japanese Patent Application No. 63-39690, in which a resin containing an acidic group in the side chain of the copolymer or bound to the end of the polymer main chain is used in combination with a crosslinking agent. The techniques are disclosed in JP-A-1-102573 and Japanese Patent Application No. 63-39691, respectively. Further, low molecular weight products of the resin (weight average molecular weight 10 3 to 1
0 4 ) in combination with a resin having a high molecular weight (weight average molecular weight of 10 4 or more) is disclosed in JP-A 64-564 and 63-220149.
No. 63-220140, Japanese Patent Application No. 62-273547, JP-A-1-
No. 116643 and JP-A No. 1-169455 disclose the techniques of using such a low molecular weight compound in combination with a heat-curable and / or photo-curable resin, respectively, in JP-A No. 1-211766 and Japanese Patent Application No. 63-26561. . According to these techniques, the film strength of the photoconductive layer is further sufficiently leveled and the mechanical strength is increased without impairing the above properties due to the use of a resin containing an acidic group at a side chain or at a terminal. Have been.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温
・高湿から低温・低湿まで著しく変動した場合における
安定した性能の維持においてはいまだ不充分であること
が判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング
露光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に
比べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約があ
ることから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に
対して、より高い性能が要求される。
(Problems to be Solved by the Invention) However, even if these resins are used, it is still insufficient to maintain stable performance when the environment fluctuates remarkably from high temperature and high humidity to low temperature and low humidity. Was. In particular, in the scanning exposure method using a semiconductor laser beam, the exposure time is longer and the exposure intensity is limited as compared with the conventional simultaneous exposure method using visible light. Higher performance is required for light sensitivity.

更には、電子写真式平版印刷用原版において、半導体
レーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場
合、従来の感光体で実際に試験してみると、上記の静電
特性が不満足であるとともに、特にE1/2とE1/10との
差が大きく複写画像の階調が軟調となり、更には露光後
の残留電位を小さくするのが困難となり、複写画像のカ
ブリが顕著となってしまい、又、オフセットマスターと
して印刷しても、印刷物に印刷原稿の貼り込み跡が出て
しまう等の重大な問題となって現れた。
Furthermore, in the electrophotographic lithographic printing plate precursor, when the scanning exposure method using the semiconductor laser light is adopted, when the conventional photoconductor is actually tested, the above electrostatic characteristics are unsatisfactory, In particular, the difference between E 1/2 and E 1/10 is large, the tone of the copied image becomes soft, and it becomes difficult to further reduce the residual potential after exposure, and the fog of the copied image becomes remarkable, In addition, even when printing is performed as an offset master, a serious problem such as sticking traces of a printed original appears on a printed material has appeared.

本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する
課題を改良するものである。
The present invention is to improve the problems of the conventional electrophotographic photoreceptor as described above.

本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あ
るいは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好
な静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写
真感光体を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having stable and good electrostatic characteristics and having a clear and high-quality image even when the environment at the time of forming a copy image fluctuates such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. To provide.

本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性
の小さいCPC電子写真感光体を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics and low environmental dependency.

本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキ
ャニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供するこ
とである。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

本発明の更なる目的は、電子写真式平版印刷原版とし
て、静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、
原画に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の
全面一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させ
ず、また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することで
ある。
A further object of the present invention is to provide an electrophotographic lithographic printing plate precursor having excellent electrostatic properties (particularly dark charge retention and light sensitivity),
By providing a lithographic printing original plate that reproduces a copy image that is faithful to the original image and that does not generate spotted background stains as well as uniform background stains on the printed material and that has excellent printing durability is there.

(課題を解決するための手段) 上記目的は無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含
有する光導電層を有する電子写真感光体において、該結
着樹脂が、下記に示される樹脂〔A〕の少なくとも1種
と樹脂〔B〕の少なくとも1種とを含有して成る事を特
徴とする電子写真感光体により達成されることが見出さ
れた。
(Means for Solving the Problems) An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor and a binder resin, wherein the binder resin is a resin [A] shown below. It has been found that this can be achieved by an electrophotographic photoreceptor characterized by comprising at least one kind and at least one kind of resin [B].

樹脂〔A〕; 1×103〜2×104の平均分子量を有し、−PO3H2基、
−COOH基、−SO3H基、フェノール性OH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基)を
示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少なくと
も1つの酸性基を含有する少なくとも1つの重合体成分
から成るAブロックと下記一般式(I)で示される重合
体成分を少なくとも含有するBブロックとから構成され
るABブロック共重合体を含有して成る樹脂。
Resin (A); an average molecular weight of 1 × 10 3 ~2 × 10 4 , -PO 3 H 2 group,
-COOH group, -SO 3 H group, a phenolic OH group, R represents a hydrocarbon group or an -OR 'group (R' is a hydrocarbon group) and A comprises at least one polymer component containing at least one acidic group selected from cyclic acid anhydride-containing groups. A resin containing an AB block copolymer composed of a block and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (I).

一般式(I) (式(I)中、R1は炭化水素基を表わす。) 樹脂〔B〕; 下記一般式(IV a)及び(IV b)で示される重合体成
分のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一方
の末端にのみ下記一般式(III)で示される重合性二重
結合基を結合して成る重量平均分子量2×104以下の一
官能性マクロモノマー(以下マクロモノマー(MA)と称
することもある)と下記一般式(V)で示されるモノマ
ーとから少なくとも成る共重合体である樹脂。
General formula (I) (In the formula (I), R 1 represents a hydrocarbon group.) Resin [B]; a polymer containing at least one of the polymer components represented by the following general formulas (IV a) and (IV b). A monofunctional macromonomer (hereinafter referred to as macromonomer (MA)) having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less formed by bonding a polymerizable double bond group represented by the following general formula (III) to only one end of the main chain And a monomer represented by the following general formula (V).

一般式(III) 〔式(III)中、V0は−COO−、−OCO−、−CH2OCO−、
−CH2COO−、−O−、−SO2−、−CO−、−CONHCOO−、
−CONHCONH−、−CONHSO2−、 を表わす(P3は、水素原子又は炭化水素基を表わす)。
General formula (III) Wherein (III), V 0 is -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO-,
-CH 2 COO -, - O - , - SO 2 -, - CO -, - CONHCOO-,
−CONHCONH−, −CONHSO 2 −, (P 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group).

c1、c2は、互いに同じでも異なってもよく、水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−
Z′又は炭化水素を介した−COO−Z′(Z′は水素原
子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わ
す。〕 〔式(IV a)又は(IV b)中、V1は、式(III)中のV0
と同一の内容を表わす。
c 1 and c 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-
Z'or -COO-Z 'through a hydrocarbon (Z' represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted) is represented. ] [In the formula (IV a) or (IV b), V 1 is V 0 in the formula (III).
Represents the same content as.

Q1は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳
香族基を表わす。
Q 1 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms.

d1、d2は、互いに同じでも異なってもよく、式(II
I)中のc1、c2と同一の内容を表わす。
d 1 and d 2 may be the same or different from each other;
Represents the same contents as c 1 and c 2 in I).

Q0は−CN、−CONH2又は を表わす。Q 0 is -CN, -CONH 2 or Represents

ここでTは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ア
ルコキシ基又は−COOZ″(Z″はアルキル基、アラルキ
ル基又はアリール基を示す)を表わす。〕 一般式(V) 〔式(V)中、V2は、式(IV a)中のV1と同一の内容を
表わし、Q2は、式(IV a)中のQ1と同一の内容を表わ
す。e1、e2は互いに同じでも異なってもよく、式(II
I)中のc1、c2と同一の内容を表わす。〕 本発明の結着樹脂は、上記特定の酸性基含有成分を含
有するAブロックと上記式(I)で示される重合体成分
を含有するBブロックとのABブロック共重合体を含有し
てなる樹脂〔A〕と、一般式(IV a)又は(IV b)の重
合体成分を少なくとも含有する重合体主鎖の一方の末端
に重合性二重結合基を結合する一官能性マクロモノマー
(MB)と一般式(V)のモノマーとを各々少なくとも1
種含むクシ型共重合体から成る樹脂〔B〕とから少なく
とも構成される。
Here, T represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group or -COOZ "(Z" represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group). General formula (V) Wherein (V), V 2 represents the V 1 same contents as in formula (IV a), Q 2 represents a Q 1 same contents as in formula (IV a). e 1 and e 2 may be the same or different from each other, and are represented by the formula (II
Represents the same contents as c 1 and c 2 in I). The binder resin of the present invention contains an AB block copolymer of an A block containing the specific acidic group-containing component and a B block containing the polymer component represented by the formula (I). The resin [A] and a monofunctional macromonomer having a polymerizable double bond group bonded to one end of the polymer main chain containing at least the polymer component of the general formula (IV a) or (IV b) (MB ) And the monomer of general formula (V) are each at least 1
And a resin [B] made of a comb-type copolymer containing seeds.

更には、低分子量の樹脂〔A〕としては、下記一般式
(I a)及び一般式(I b)で示される、2位に、及び/
又は2位と6位に特定の置換基を有するベンゼン環又は
無置換のナフタレン環を含有する、特定の置換基をもつ
メタクリレート成分と酸性基成分とを含有する樹脂
〔A〕(以降この低分子量体をとくに樹脂〔A′〕と称
する)であることが好ましい。
Furthermore, as the low molecular weight resin [A], 2-position represented by the following general formulas (Ia) and (Ib), and / or
Or a resin [A] containing a methacrylate component having a specific substituent and an acidic group component containing a benzene ring having a specific substituent at the 2- and 6-positions or an unsubstituted naphthalene ring; It is particularly preferable that the resin is a resin [A '].

〔式(I a)又は(I b)中、X1及びX2は互いに独立に、
それぞれ水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原
子、臭素原子、−COZ2又は−COOZ2(Z2は各々炭素数1
〜10の炭化水素基を示す)を表わす。但し、X1とX2がと
もに水素原子を表わすことはない。
[In the formula (I a) or (I b), X 1 and X 2 are independent of each other,
Each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, -COZ 2 or -COOZ 2 (Z 2 are each carbon atoms 1
~ 10 hydrocarbon groups). However, X 1 and X 2 are never both represent a hydrogen atom.

L1及びL2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合す
る、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わ
す。〕 本発明に用いられる樹脂〔A〕は、ABブロック共重合
体であり、Aブロックは、前記した特定の酸性基から選
ばれる少なくとも1種を含有する少なくとも1つの重合
成分から構成され、Bブロックは、式(I)で示される
メタクリレート成分を少なくと1種含有する重合体成分
を含有することから成り、且つ重量平均分子量が1×10
3〜2×104である事を特徴とする。
L 1 and L 2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms, each linking —COO— and a benzene ring. The resin [A] used in the present invention is an AB block copolymer, and the A block is composed of at least one polymerization component containing at least one selected from the above-mentioned specific acidic groups, and the B block. Comprises a polymer component containing at least one methacrylate component represented by formula (I) and having a weight average molecular weight of 1 × 10 5.
It is characterized by being 3 to 2 × 10 4 .

前述の光導電層の平滑性及び静電特性を良化させると
して公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用い
るものは、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダム
に存在する樹脂あるいは、重合体主鎖の片末端にのみ酸
性基を結合して成る樹脂であった。
Among the acidic group-containing binder resins known to improve the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer described above, those using a low-molecular-weight compound have an acidic group-containing polymer component randomly present in the polymer main chain. Or a resin having an acidic group bonded only to one terminal of the polymer main chain.

これに対し、本発明の結着樹脂で用いられる樹脂
〔A〕は、樹脂中に含有される酸性基が重合体主鎖中に
ランダムに存在するものでも重合体主鎖の末端にのみ結
合しているものでもなく、重合体主鎖中にブロックで存
在する様に、更に特定化された共重合体である。
On the other hand, the resin [A] used in the binder resin of the present invention binds only to the terminal of the polymer main chain even if the acidic group contained in the resin is randomly present in the polymer main chain. However, the copolymer is not specified, but is further specified so as to exist as a block in the polymer main chain.

本発明に従う共重合体は、重合体の主鎖のいずれか一
方の片側部分に偏在化された酸性基の部分の領域が無機
光導電体の化学量論的な欠陥に充分に吸着するととも
に、重合体主鎖を構成する他のブロック部分は、光導電
体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆していると推定さ
れる。その作用機構により、本発明に従う共重合体は無
機光導電体の化学量論的な欠陥部が多少変動しても、充
分な吸着領域をもつ事から常に安定した無機光導電体と
樹脂〔A〕との相互作用が保たれると推論され、本発明
に従えば従来公知の酸性基含有樹脂に比べて一段と良好
に光導電体のトラップを充分に補償すると共に湿度特性
を向上させる一方、光導電体の分散が充分に行なわれ、
凝集を抑制することを見出した。
The copolymer according to the present invention, while the region of the portion of the acidic group unevenly distributed to one side portion of either one of the main chain of the polymer is sufficiently adsorbed to the stoichiometric defect of the inorganic photoconductor, It is presumed that the other block portions constituting the polymer main chain cover the surface of the photoconductor slowly and sufficiently. Due to its action mechanism, the copolymer according to the present invention has a sufficient adsorption area even if the stoichiometric defect of the inorganic photoconductor fluctuates somewhat, so that the inorganic photoconductor and the resin [A According to the present invention, it is inferred that according to the present invention, the photoconductor traps can be more sufficiently compensated and the humidity characteristics can be improved more excellently than the conventionally known acidic group-containing resin, while the light characteristics can be improved. The conductor is sufficiently dispersed,
It has been found that aggregation is suppressed.

そして樹脂〔B〕は、樹脂〔A〕を用いたことによる
電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕の
みでは不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめる
とともに前記の如き環境が変動したり、低出力のレーザ
ー光を用いたりした場合でも十分に良好な撮像性を得る
ことができることが判った。
The resin [B] does not hinder the high performance of the electrophotographic properties due to the use of the resin [A] at all, and the resin [A] alone provides sufficient mechanical strength of the photoconductive layer, which is insufficient. It has been found that a sufficiently good imaging performance can be obtained even when the environment fluctuates as described above or a low output laser beam is used.

これは、無機光導電体の結着樹脂として、樹脂〔A〕
と樹脂〔B〕を各々樹脂の重量平均分子量並びに樹脂中
の酸性基の含有量及び結合位置等を特定化することで、
無機光導電体と樹脂との相互作用の強さを適度に変える
ことができたことによると推定される。即ち、相互作用
のより強い樹脂〔A〕が選択的に無機光導電体に適切に
吸着し、一方で樹脂〔A〕に比べて相互作用の弱い樹脂
〔B〕においては、電子写真特性を阻害しない程度に無
機光導電体とゆるやかに相互作用することで、上記した
如く電子写真特性及び機械的強度をともに著しく向上さ
せることができたと推定される。
This is a resin [A] as a binder resin for the inorganic photoconductor.
And the resin [B] by specifying the weight average molecular weight of the resin and the content and bonding position of the acidic group in the resin,
It is presumed that the strength of the interaction between the inorganic photoconductor and the resin was appropriately changed. That is, the resin [A] having a stronger interaction selectively and appropriately adsorbs to the inorganic photoconductor, while the resin [B] having a weaker interaction than the resin [A] inhibits the electrophotographic properties. It is presumed that by gently interacting with the inorganic photoconductor to such an extent that both the electrophotographic characteristics and the mechanical strength were remarkably improved as described above.

また、樹脂〔A′〕を用いると樹脂〔A〕の場合より
も、より一層電子写真特性(特にV10、D.R.R、E1/10
の向上が達成できる。
Further, when the resin [A '] is used, the electrophotographic properties (especially V 10 , DRR, E 1/10 ) are higher than those of the resin [A].
Can be improved.

この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メ
タクリレートのエステル成分である、オルト位に置換基
を有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果
により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖
の配列が適切に行なわれることによるものと考えられ
る。
Although the reason for this is unknown, one reason is that the ester component of methacrylate, a planar benzene ring having a substituent at the ortho-position, or the effect of a naphthalene ring at the zinc oxide interface in the film. It is considered that the arrangement of these polymer molecular chains is properly performed.

また、本発明では光導電層表面の平滑性が滑らかとな
る。一方、電子写真式平版印刷原版として光導電層表面
の平滑性の粗らい感光体を用いると、光導電体である酸
化亜鉛粒子と結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物
が存在する状態で光導電層が形成されるため、不感脂化
処理液による不感脂化処理をしても非画像部の親水化が
均一に充分に行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を
引き起こし、結果として印刷物の非画像部の地汚れが生
じてしまう。
Further, in the present invention, the smoothness of the photoconductive layer surface becomes smooth. On the other hand, when a photoconductor having a rough surface of the photoconductive layer is used as the electrophotographic lithographic printing plate precursor, the dispersion state of the zinc oxide particles as the photoconductor and the binder resin is not appropriate, and an aggregate exists. Since the photoconductive layer is formed in the state, even if the desensitizing treatment with the desensitizing solution is performed, the non-image portion is not sufficiently and sufficiently hydrophilized, causing adhesion of the printing ink during printing, and as a result, The background stain on the non-image portion of the printed matter occurs.

本発明の樹脂を用いた場合に、光導電体と結着樹脂の
吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層
の膜強度が保持されるものである。
When the resin of the present invention is used, the interaction between the adsorption and coating of the photoconductor and the binder resin is appropriately performed, and the film strength of the photoconductive layer is maintained.

本発明における低分子量体の樹脂〔A〕のみを結着樹
脂として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に
吸着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性
及び静電特性においても良好で、しかも地汚れのない画
質が得られ、更に、CPC感光体あるいは数千枚の印刷枚
数のオフセット原版としては充分な膜強度が保有され
る。しかし、ここで本発明の如く樹脂〔B〕を共存させ
ることで、樹脂〔A〕の機能を何ら疎外することなく樹
脂〔A〕のみではいまだ不充分な光導電層の機械的強度
をより向上させることができた。従って、本発明の感光
体は、環境条件が変動しても優れた静電特性を有し且
つ、膜強度も充分であり、過酷な印刷条件下(例えば、
大型印刷機で印圧が強くなる場合など)でも1万枚以上
の印刷枚数が可能となった。
Even when only the low molecular weight resin [A] in the present invention is used as the binder resin, the photoconductor and the binder resin are sufficiently adsorbed, and the surface of the particles can be coated. It has good electrostatic characteristics and an image quality free from background contamination. Further, it has sufficient film strength as a CPC photoreceptor or an offset original plate having thousands of printed sheets. However, by coexisting the resin [B] as in the present invention, the mechanical strength of the photoconductive layer which is still insufficient with the resin [A] alone without further alienating the function of the resin [A] is further improved. I was able to. Accordingly, the photoreceptor of the present invention has excellent electrostatic characteristics even when environmental conditions fluctuate, has sufficient film strength, and is subjected to severe printing conditions (for example,
Even when the printing pressure is increased with a large printing press), it is possible to print more than 10,000 sheets.

更に、樹脂〔B〕は、該クシ型共重合体主鎖の片末端
にのみ−PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、−OH基、−SH
基及び {R0は炭化水素基又は−OR0′(R0′は炭化水素基を示
す)基を表わす}から選ばれる少なくとも1つの酸性基
を更に結合して成る樹脂(以下樹脂〔B′〕と称するこ
ともある)であることが好ましい。
Furthermore, the resin (B), said comb copolymer mainly at one end of the chain only -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -OH group, -SH
Group and {R 0 represents a hydrocarbon group or a —OR 0 ′ (R 0 ′ represents a hydrocarbon group) group} and a resin (hereinafter referred to as resin [B ′]) further bound with at least one acidic group selected from (Sometimes referred to)).

樹脂〔B′〕を用いると、静電特性、特に、D.R.R.及
びE1/10がより良好となり、樹脂〔A〕を用いたことに
よる優れた特性を全く防げず、その効果は特に高温・高
湿・低温・低湿の如き環境変化においても変動が殆どな
く好ましい。更に、膜強度もより良好となり、耐刷性が
向上する。
When the resin [B '] is used, the electrostatic characteristics, especially DRR and E 1/10 are improved, and the excellent characteristics due to the use of the resin [A] cannot be prevented at all. It is preferable because there is almost no change even in environmental changes such as humidity, low temperature, and low humidity. Further, the film strength is further improved, and the printing durability is improved.

通常可視光〜赤外光域に光感度を保有させるために用
いる分光増感色素は、光導電体に吸着することでその分
光増感作用が充分機能するものであることから、本発明
の共重合体を含有する結着樹脂は、分光増感色素の吸着
を阻害しないで光導電体と適切に相互作用するものと推
定される。この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色
素として特に有効なシアニン色素あるいはフタロシアニ
ン系顔料で特に顕著な効果を示した。
Spectral sensitizing dyes that are usually used to maintain photosensitivity in the visible light to infrared light regions are those whose spectral sensitizing function sufficiently functions by being adsorbed to a photoconductor, and are therefore common to the present invention. It is assumed that the binder resin containing the polymer appropriately interacts with the photoconductor without inhibiting the adsorption of the spectral sensitizing dye. This effect was particularly remarkable with cyanine dyes or phthalocyanine pigments, which are particularly effective as dyes for spectral sensitization of near infrared to infrared light.

ブロック共重合体〔A〕における、特定の酸性基含有
成分の重合体成分量は、共重合体〔A〕100重量部当り
好ましくは0.5〜20重量部、より好ましくは3〜15重量
部の割合で含有される。
In the block copolymer [A], the polymer component amount of the specific acidic group-containing component is preferably 0.5 to 20 parts by weight, more preferably 3 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of the copolymer [A]. It is contained in.

一般式(I)で示されるメタクリレート成分を含有す
るブロック部分(Bブロック)における式(I)で示さ
れるメタクリレート成分量は、そのブロック全重量中、
好ましくは30重量%〜100重量%、より好ましくは50〜1
00重量%である。共重合体〔A〕の重量平均分子量は1
×103〜2×104、好ましくは2×103〜1×104である。
The amount of the methacrylate component represented by the formula (I) in the block portion (B block) containing the methacrylate component represented by the general formula (I) is calculated based on the total weight of the block.
Preferably from 30% to 100% by weight, more preferably from 50 to 1%
00% by weight. The weight average molecular weight of the copolymer [A] is 1
It is x10 3 to 2x10 4 , preferably 2x10 3 to 1x10 4 .

樹脂〔A〕の分子量が1×103より小さくなると、皮
膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、また分子量が
2×104より大きくなると本発明の樹脂〔A〕の効果が
少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の電子特性になっ
てしまう。
When the molecular weight of the resin [A] is less than 1 × 10 3 , the film-forming ability is reduced and sufficient film strength cannot be maintained. When the molecular weight is more than 2 × 10 4 , the effect of the resin [A] of the present invention may be reduced. And the electronic properties are about the same as those of conventionally known resins.

結着樹脂〔A〕における酸成基含有量が0.5重量%よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができず、該酸性基含有量が20重量%よりも多いと、
分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高湿特性
が低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに
地汚れが増大するため、好ましくない。
When the content of the acid group in the binder resin [A] is less than 0.5% by weight, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained, and when the content of the acidic group is more than 20% by weight,
It is not preferable because the dispersibility is reduced, the film smoothness and the high humidity property of the electrophotographic properties are reduced, and furthermore, the background smear increases when used as an offset master.

該樹脂〔A〕のガラス転移点は、−10℃〜100℃の範
囲のものが好ましいが、より好ましくは−5℃〜85℃で
ある。
The glass transition point of the resin [A] is preferably in the range of -10C to 100C, more preferably -5C to 85C.

本発明のABブロック共重合体(樹脂〔A〕)のAブロ
ックを構成する特定の酸性基を含有する重合成分につい
て、更に具体的に説明する。
The polymerization component containing a specific acidic group constituting the A block of the AB block copolymer (resin [A]) of the present invention will be described more specifically.

酸性基としては、−PO3H2基、−COOH基、−SO3H基、
フェノール性OH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基)を
示す}及び環状酸無水物含有基が挙げられ、好ましく
は、−COOH基、−SO3H基、フェノール性OH基、及び である。
The acidic group, -PO 3 H 2 group, -COOH group, -SO 3 H group,
Phenolic OH group, {R is a hydrocarbon group or -OR 'group (R' is a hydrocarbon group),} and include cyclic acid anhydride-containing group, preferably, -COOH group, -SO 3 H groups, phenolic OH groups ,as well as It is.

において、Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水
素基を表わす)を表わし、R及びR′は好ましくは炭素
数1〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル
基、2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、
アリル基、クロトニル基、ブチニル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フロロベン
ジル基、メトキシベンジル基等)、又は置換されてもよ
いアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、エチル
フェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル基、
フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル
−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル
基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、アセ
チルフェニル基、ブトキシフェニル基等)等を表わす。
In the above, R represents a hydrocarbon group or an -OR 'group (R' represents a hydrocarbon group), and R and R 'are preferably an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, Propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-methoxyethyl, 3-ethoxypropyl,
Allyl group, crotonyl group, butynyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or an aryl group which may be substituted (For example, phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophenyl group,
Fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.).

フェノール性OH基とは、ヒドロキシフェノール又はヒ
ドロキシフェニル基を置換基として含有するメタクリル
酸エステルもしくはアミド類を例として挙げることがで
きる。
Examples of the phenolic OH group include methacrylic acid esters or amides containing a hydroxyphenol or hydroxyphenyl group as a substituent.

また、環状酸無水物含有基としては、少なくとも1つ
の環状酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸
無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジ
カルボン酸無水物が挙げられる。
Further, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and the cyclic acid anhydride contained therein includes an aliphatic dicarboxylic acid anhydride and an aromatic dicarboxylic acid anhydride. To be

脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無
水物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、
シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセ
ン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ピシクロ〔2.2.
2〕オクタンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これ
らの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のア
ルキル基等が置換されていてもよい。
Examples of the aliphatic dicarboxylic anhydride include a succinic anhydride ring, a glutaconic anhydride ring, a maleic anhydride ring,
Cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride ring, 2,3-picyclo [2.2.
2] octanedicarboxylic anhydride rings and the like, and these rings are substituted with, for example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, and alkyl groups such as methyl group, ethyl group, butyl group and hexyl group. Is also good.

又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル
酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリ
ジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン
酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素
原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシ
ル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基
(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキ
シ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of the aromatic dicarboxylic anhydride include a phthalic anhydride ring, a naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, a pyridine-dicarboxylic anhydride ring, a thiophene-dicarboxylic anhydride ring, and the like. Is, for example, a chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (for the alkoxy group, for example, Methoxy group, ethoxy group, etc.) may be substituted.

以上の如き「特定の酸性基を含有する重合体成分」と
しては、例えば、本発明の樹脂〔A〕においてBブロッ
ク成分を構成する重合体成分、即ち一般式(I)で示さ
れるメタクリレート成分等の如き相当するビニル系化合
物と共重合する、該酸性基を含有するビニル系化合物で
あればいずれでも用いることができる。
Examples of the above-mentioned “polymer component containing a specific acidic group” include a polymer component constituting the B block component in the resin [A] of the present invention, that is, a methacrylate component represented by the general formula (I), and the like. Any vinyl compound containing the acidic group, which copolymerizes with the corresponding vinyl compound, can be used.

例えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック
〔基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されているビニ
ル系化合物を用いることができ、具体的には、アクリル
酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例えばα−アセト
キシ体、α−アセトキシメチル体、α−(2−アミノ)
メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ
体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロ
ロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、
α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、
イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、クロ
トン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペン
テン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン
酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オ
クテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、
マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビ
ニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホ
スホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エ
ステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸
のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該酸性基
を含有する化合物が挙げられる。
For example, vinyl compounds described in “Polymer Data Handbook [Basic Edition]” edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986) and the like can be used. Specifically, acrylic acid, α and / or β Substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α- (2-amino)
Methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form,
α, β-dichloro form), methacrylic acid, itaconic acid,
Itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid), maleic acid, maleic acid half esters,
Maleic acid semi-amides, vinyl benzene carboxylic acid, vinyl benzene sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, vinyl phosphoic acid, vinyl or allyl group half-ester derivatives of dicarboxylic acids, and ester or amide derivatives of these carboxylic or sulfonic acids And a compound containing the acidic group in the substituent.

これらの化合物の具体例として以下のものを挙げるこ
とができる。但し、以下の各例において、aは−H、−
CH3、−Cl、−Br、−CN−、−CH2COOCH3又は−CH2COOH
を示し、bは−H又は−CH3を示し、nは2〜18の整数
を示し、mは1〜12の整数を示し、lは1〜4の整数を
示す。
The following are specific examples of these compounds. However, in each of the following examples, a is -H,-
CH 3, -Cl, -Br, -CN -, - CH 2 COOCH 3 or -CH 2 COOH
Are shown, b represents -H or -CH 3, n is an integer of 2 to 18, m represents an integer of 1 to 12, l is an integer of 1-4.

(a−15) CH2=CH−CH2OCO(CH2)mCOOH (a−16) CH2=CHCH2lCOOH 上記の如き特定の酸性基を含有する重合成分は該Aブ
ロック中に2種以上含有されていてもよく、その場合に
おける該2種以上の酸性基含有成分は該Aブロック中に
おいてランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態
様で含有されていてもよい。
(A-15) CH 2 = CHCH 2 OCO (CH 2) mCOOH (a-16) CH 2 = CHCH 2 lCOOH Two or more types of polymerization components containing the specific acidic group as described above may be contained in the A block, and in that case, the two or more types of acidic group-containing components may be randomly copolymerized in the A block. It may be contained in any form of block copolymerization.

また、該酸性基を含有しない成分がAブロック中に含
まれていてもよく、該成分の例としては一般式(I)又
は(II)で示される成分等があげられる。かかる酸性基
非含有成分の含有量はAブロック中好ましくは0〜50重
量%、より好ましくは0〜20重量%であり、最も好まし
くは、かかる酸性基非含有成分はAブロック中に含まれ
ない。
Further, the component not containing the acidic group may be contained in the A block, and examples of the component include components represented by the general formula (I) or (II). The content of the acidic group-free component is preferably 0 to 50% by weight, more preferably 0 to 20% by weight in the A block, and most preferably, the acidic group-free component is not contained in the A block. .

次にABブロック共重合体〔A〕において、Bブロック
成分を構成する重合成分について詳しく説明する。
Next, the polymerization component constituting the B block component in the AB block copolymer [A] will be described in detail.

Bブロック成分は、少なくとも一般式(I)で示され
るメタクリレート成分を含有し、該式(I)のメタクリ
レート成分は好ましくはBブロック成分中、30〜100重
量%、より好ましくは50〜100重量%含有される。
The B block component contains at least a methacrylate component represented by the general formula (I), and the methacrylate component of the formula (I) is preferably 30 to 100% by weight, more preferably 50 to 100% by weight in the B block component. Contained.

一般式(I)で示される繰り返し単位において、R1
炭化水素基は置換されていてもよい。
In the repeating unit represented by the general formula (I), the hydrocarbon group of R 1 may be substituted.

R1は好ましくは炭素数1〜18の置換されていてもよい
炭化水素基を表わす。置換基としては上記該ABブロック
共重合体のAブロックを構成する重合成分に含有される
前記酸性基以外の置換基であればいずれでもよく、例え
ば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子等)−O−Z1、−COO−Z1、−OCO−Z1、(Z1は、
炭素数1〜22のアルキル基を表わし、例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタ
デシル基等である)等の置換基を挙げられる。好ましい
炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−
メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペン
テニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテ
ニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メ
チル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2
−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジ
ル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル
基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例
えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル
基、2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜12
の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナ
フチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシル
フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル
基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等)等があげられる。
R 1 preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. As the substituent, any substituent may be used as long as it is a substituent other than the acidic group contained in the polymerization component constituting the A block of the AB block copolymer. For example, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, bromine atom) -O-Z 1, -COO- Z 1, -OCO-Z 1, (Z 1 is
Represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, for example, a methyl group,
And a substituent such as an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a hexadecyl group and an octadecyl group). Preferred hydrocarbon groups include alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
A methoxyethyl group, a 3-bromopropyl group and the like, and an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-
Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc. ), An optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group,
-Naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (E.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or 6 to 12 carbon atoms.
Which may be substituted (for example, phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl) Group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, Dodecyloylamidophenyl group, etc.).

R1の炭化水素基において、R1が脂肪族基の場合には好
ましくは、炭素数1〜5の炭化水素基を式(I)で表わ
される成分中の60重量%以上含有することが好ましい。
In the hydrocarbon group of R 1, preferably when R 1 is an aliphatic group, preferably not less than 60% by weight of the component represented a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms in formula (I) .

更に、該樹脂〔A〕において、Bブロック成分を構成
する一般式(I)で示される繰り返し単位の一部又は全
部が下記一般式(I a)及び/又は(I b)で示される繰
り返し単位であることが好ましい。従ってBブロック成
分中下記一般式(I a)及び(I b)から選択される少な
くとも1つの繰り返し単位が該他のブロック中30重量%
以上、特に50〜100重量%含有されることが好ましい。
Further, in the resin [A], a part or all of the repeating unit represented by the general formula (I) constituting the B block component is a repeating unit represented by the following general formula (Ia) and / or (Ib). It is preferred that Therefore, at least one repeating unit selected from the following general formulas (Ia) and (Ib) in the B block component accounts for 30% by weight in the other block.
As described above, it is particularly preferable to contain 50 to 100% by weight.

[式(I a)又は(I b)中、X1及びX2は互いに独立に、
それぞれ水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原
子、臭素原子−COZ2又は−COOZ2(Z2は各々炭素数1〜1
0の炭化水素基を示す)を表わす。但し、X1とX2がとも
に水素原子を表わすことはない。
[In the formula (I a) or (I b), X 1 and X 2 are independent of each other,
Each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom -COZ 2 or -COOZ 2 (Z 2 each having a carbon number 1 to 1
0 represents a hydrocarbon group). However, X 1 and X 2 are never both represent a hydrogen atom.

L1及びL2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合す
る、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わ
す。〕 該式(I a)及び/又は(I b)で示される繰り返し単
位を酸性基を含有しないBブロック中に含有させること
により、より一層電子写真特性(特にV10、D.R.R、E
1/10)の向上が達成できる。
L 1 and L 2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms, each linking —COO— and a benzene ring. By containing the repeating unit represented by the formula (Ia) and / or (Ib) in a B block containing no acidic group, the electrophotographic properties (particularly, V 10 , DRR, E
1/10 ) improvement can be achieved.

この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メ
タクリレートのエステル成分である、オルト位に置換基
を有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果
により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖
の配列が適切に行なわれることによるものと考えられ
る。
Although the reason for this is unknown, one reason is that the ester component of methacrylate, a planar benzene ring having a substituent at the ortho-position, or the effect of a naphthalene ring at the zinc oxide interface in the film. It is considered that the arrangement of these polymer molecular chains is properly performed.

式(I a)において、好ましいX1及びX2としてそれぞ
れ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好まし
い炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭
素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、クロロベンジル基、
ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル
基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル基、
シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並びに−CO
Z2及び−COOZ2(好ましいZ2としては上記好ましい炭化
水素基として記載したものを挙げることができる)を挙
げることができる。但し、X1とX2がともに水素原子を表
わすことはない。
In formula (I a), preferable X 1 and X 2 are a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom, respectively, and a preferable hydrocarbon group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, Propyl group, butyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group,
A dichlorobenzyl group, a bromobenzyl group, a methylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a chloro-methyl-benzyl group and the like; and an aryl group (for example, a phenyl group, a tolyl group,
Silyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, etc.), and -CO
Z 2 and —COOZ 2 (preferable Z 2 can include those described as preferable hydrocarbon groups above). However, X 1 and X 2 are never both represent a hydrogen atom.

式(I a)において、L1は−COO−とベンゼン環を結合
する、直接結合又はCH2 n1(n1は1〜3の整数を表
わす)、−CH2CH2OCO−、(CH2O)n2(n1は1又は2の
整数を表わす)、−CH2CH2O−等の如き連結原子数1〜
4個の連結基を表わす。
In the formula (I a), L 1 is a direct bond or CH 2 n1 (n 1 represents an integer of 1 to 3) that bonds —COO— and the benzene ring, —CH 2 CH 2 OCO—, (CH 2 O) n2 (n 1 represents an integer of 1 or 2), - CH 2 CH 2 O- number such linking atom, such as 1
Represents 4 linking groups.

式(I b)におけるL2はL1と同一の内容を表わす。L 2 in the formula (I b) is the same meaning as L 1.

本発明の樹脂〔A〕のBブロックにおいて好ましく用
いられる、式(I a)又は(I b)で示される繰り返し単
位の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範囲は、
これらに限定されるものではない。
Specific examples of the repeating unit represented by the formula (Ia) or (Ib), which is preferably used in the B block of the resin [A] of the present invention, are shown below. However, the scope of the present invention is:
It is not limited to these.

前記の特定の酸性基を含有する重合成分から成るAブ
ロックとは別に構成される該Bブロックにおいて、前記
式(I){好ましくは(I a)又は(I b)}で示される
繰り返し単位は2種以上含有されていてもよく、更にこ
れら以外の他の重合成分を含有していてもよい。酸性基
を含有しないBブロックにおいて2種以上の重合成分が
含有される場合には、該ABブロック共重合成分は該Bブ
ロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の
いずれの態様で含有されていてもよいが、ランダムに含
有されることが好ましい。
In the B block formed separately from the A block comprising the specific acidic group-containing polymerization component, the repeating unit represented by the formula (I) {preferably (Ia) or (Ib)} is Two or more kinds may be contained, and other polymerization components other than these may be contained. When two or more polymerization components are contained in the B block containing no acidic group, the AB block copolymer component is contained in the B block in any mode of random copolymerization or block copolymerization. However, it is preferable to be contained at random.

前記した式(I),(I a)及び/又は(I b)で示さ
れる繰り返し単位から選ばれた重合成分とともにBブロ
ック中に含有され得る他の重合成分は、これらと共重合
する成分であればいずれでもよい。
Other polymerization components which can be contained in the B block together with the polymerization components selected from the repeating units represented by the above formulas (I), (Ia) and / or (Ib) are components copolymerized with these. Any may be used.

例えば下記一般式(II)で示される繰り返し単位が挙
げられる。
For example, a repeating unit represented by the following general formula (II) can be mentioned.

一般式(II) 〔式(II)中、Tは−COO−,−OCO−,CH2 m1OCO
−,CH2 m2COO−,−O−,−SO2−, −CONHCOO−,CONHCONH−,又は を表わし、m1,m2は、各々1〜2の整数を表わし、R
3は、式(I)中のR1と同一の内容を表わす。R2は式
(I)中のR1と同一の内容を表わす。
General formula (II) Wherein (II), T is -COO -, - OCO-, CH 2 m1 OCO
−, CH 2 m2 COO−, −O− , −SO 2 −, -CONHCOO-, CONHCONH-, or And m 1 and m 2 each represent an integer of 1 to 2;
3 represents the same contents as R 1 in the formula (I). R 2 is the same meaning as R 1 in formula (I).

a1及びa2は、互いに同じでも異なってもよく、各々水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8の炭化
水素基、−COO−Z3又は炭素数1〜8の炭化水素基を介
した−COO−Z3(Z3は炭素数1〜18の炭化水素基を表わ
す)を表わす。〕より好ましくは、a1,a2は、互いに同
じでも異なってもよく、水素原子、炭素数1〜3のアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
等)、−COO−Z3又は−CH2COO−Z3(Z3はより好ましく
は炭素数1〜18のアルキル基又はアルケニル基を表わ
し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オク
タデシル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル
基、デセニル基等が挙げられ、これらアルキル基、アル
ケニル基は前記R1で示したと同様の置換基を有していて
もよい)を表わす。
a 1 and a 2 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, -COO-Z 3 or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Represents —COO—Z 3 (Z 3 represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms). More preferably, a 1 and a 2 may be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.), —COO—Z 3 or -CH 2 COO-Z 3 (Z 3 more preferably represents an alkyl or alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl Group, dodecyl group,
Tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group and the like, and these alkyl group and alkenyl group have the same substituents as those described for R 1 above. ).

これら以外の繰り返し単位を構成する単量体として、
更にスチレン類(例えばスチレン、ビニルトルエン、ク
ロロスチレン、ブロモスチレン、ジクロロスチレン、ビ
ニルフェノール、メトキシスチレン、クロロメチルスチ
レン、メトキシメチルスチレン、アセトキシスチレン、
メトキシカルボニルスチレン、メチルカルバモイルスチ
レン、等)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
アクロレイン、メタクロレイン、ビニル基含有複素環化
合物(例えばN−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、
ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン等)、アクリロ
アミド、メタクリロアミド等が例として挙げられるが、
これらの他の共重合成分はこれらに限定されるものでは
ない。
As a monomer constituting a repeating unit other than these,
Further, styrenes (for example, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, bromostyrene, dichlorostyrene, vinylphenol, methoxystyrene, chloromethylstyrene, methoxymethylstyrene, acetoxystyrene,
Methoxycarbonylstyrene, methylcarbamoylstyrene, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile,
Acrolein, methacrolein, vinyl group-containing heterocyclic compounds (eg, N-vinylpyrrolidone, vinylpyridine,
Vinyl imidazole, vinyl thiophene, etc.), acrylamide, methacrylamide and the like.
These other copolymer components are not limited to these.

本発明のABブロック共重合体〔A〕は、従来公知の重
合反応法によって製造することができる。具体的には、
該特定の酸性基を含有する重合体成分に相当する単量体
において該酸性基を予め保護した官能基としておき、有
機金属化合物(例えばアルキルリチウム類、リチウムジ
イソプロピルアミド、アルキルマグネシウムハライド類
等)あるいはヨウ化水素/ヨウ素系等によるイオン重合
反応、ポリフィリン金属錯体を触媒とする光重合反応あ
るいはグループ移動重合反応等の公知のいわゆるリビン
グ重合反応でABブロック共重合体を合成した後、酸性基
を保護した官能基を加水分解反応、加水素分解反応、酸
化分解反応あるいは、光分解反応等によって脱保護反応
を行ない、酸性基を形成させる方法が挙げられる。その
1つの例を下記の反応スキーム(1)に示した。
The AB block copolymer [A] of the present invention can be produced by a conventionally known polymerization reaction method. In particular,
In the monomer corresponding to the polymer component containing the specific acidic group, the acidic group is preliminarily protected as a functional group, and an organometallic compound (for example, alkyllithium, lithium diisopropylamide, alkylmagnesium halide, etc.) or After synthesizing an AB block copolymer by a known so-called living polymerization reaction such as an ionic polymerization reaction with a hydrogen iodide / iodine system, a photopolymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst, or a group transfer polymerization reaction, the acidic group is protected. Examples of the method include forming a acidic group by performing a deprotection reaction on the functional group by a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, a photolysis reaction, or the like. One example is shown in the following reaction scheme (1).

例えば、P.Lutz,P.Masson etal,Polym.Bull.12.,79
(1984),B.C.Anderson,G.D.Andrews etal,Macromolecu
les,14,1601(1981),K.Hatada,K.Ute.etal,Polym.J.1
7,977(1985),18,1037(1986),右手浩一、畑田耕
一、高分子加工、36,366(1987),東村敏延、沢本光
男、高分子論文集、46,189(1989)、M.Kuroki,T.Aida,
J.Am.Chem.Soc.109,4737(1987)、相田卓三、井上祥
平、有機合成化学、43,300(1985)、D.Y.Sogah,W.R.He
rtler etal.Macromolecules,20,1473(1987)等に記載
の合成方法に従って容易に合成することができる。
For example, P. Lutz, P. Masson etal, Polym. Bull. 12 .
(1984), BCAnderson, GDAndrews etal, Macromolecu
les, 14 , 1601, (1981), K. Hatada, K. Ute. et al., Polym. J. 1
7, 977 (1985), 18, 1037 (1986), the right hand Koichi, Koichi Hatada, polymer processing, 36, 366 (1987), Higashimura Satoshinobe, Mitsuo Sawamoto, polymer Collected Papers, 46, 189 (1989), M.Kuroki, T.Aida,
J. Am. Chem. Soc. 109 , 4737 (1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 43 , 300 (1985), DYSogah, WRHe
Macromolecules, 20 , 1473 (1987), etc. can be easily synthesized.

更に、ABブロック共重合体〔A〕は、酸性基を保護し
ないままの単量体を用い、ジシオカーバメント化合物を
開始剤とした光イニファーター重合法によって合成する
こともできる。例えば、大津隆行、高分子、37,248(19
88)、桧森俊一、大津隆一、Polym.Rep.Jap.37.3508(1
988)、特開昭64−111号、特開昭64−26619号等に記載
の合成方法に従って合成することができる。
Further, the AB block copolymer [A] can also be synthesized by a photoiniferter polymerization method using a monomer without protecting the acidic group and using a disiocarbamate compound as an initiator. For example, Takayuki Otsu, polymeric, 37, 248 (19
88), Shunichi Hinomori, Ryuichi Otsu, Polym. Rep. Jap. 37. 3508 (1
988), JP-A-64-111, JP-A-64-26619, and the like.

又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその
保護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知
見を利用して容易に行なうことができる。例えば前記し
た引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義
男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談社刊(1977
年)、T.W.Greene,「Protective Groups in Organic Sy
nthesis」,John Wiley & Sons(1981年),J.F.W.McOmi
e,「Protective Groups in Organic Chemistry」Plenum
Press,(1973年)等の総説に詳細に記載されている方
法を適宜選択して行なうことができる。
Further, the protecting group for protecting the specific acidic group of the present invention and the elimination of the protecting group (deprotection reaction) can be easily carried out by utilizing conventionally known knowledge. For example, various descriptions are given in the above cited references, and furthermore, Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, “Reactive Polymers” published by Kodansha (1977)
TWGreene, "Protective Groups in Organic Sy
nthesis ", John Wiley & Sons (1981), JFW McOmi
e, `` Protective Groups in Organic Chemistry '' Plenum
Press, (1973) and the like can be carried out by appropriately selecting a method described in detail.

本発明では、更に、結着樹脂に、前記樹脂〔A]と前
述の高分子量(重量平均分子量3×104以上の樹脂
〔B〕の少なくとも1種を含有させると、更に電子写真
感光体の光導電層の機械的強度が向上することが判っ
た。
In the present invention, when the binder resin further contains at least one of the above-mentioned resin [A] and the above-mentioned high molecular weight (resin [B] having a weight average molecular weight of 3 × 10 4 or more), the electrophotographic photoreceptor is further improved. It was found that the mechanical strength of the photoconductive layer was improved.

樹脂〔B〕は、樹脂〔A〕のみでは不充分な光導電層
の機械的強度を充分ならしめるものである。
The resin [B] makes the mechanical strength of the photoconductive layer sufficient when the resin [A] alone is insufficient.

また、低分子量の樹脂〔A〕と高分子量の樹脂〔B〕
とを併用した本発明の電子写真感光体は、電子写真式平
板印刷用原版として用いた場合でも光導電層表面の平滑
性が良好であり、且つ、光導電体である酸化亜鉛粒子が
結着剤中で充分に分散しているため、不感脂化処理液に
よる不感脂化処理をすると、非画像部の親水化が均一に
充分行なわれる印刷時の印刷インキの非画像部への付着
が抑えられ、1万枚といった多数枚の印刷物を印刷して
も地汚れを生じないものである。
In addition, a low molecular weight resin [A] and a high molecular weight resin [B]
The electrophotographic photosensitive member of the present invention which is used in combination has a good smoothness of the photoconductive layer surface even when used as an electrophotographic lithographic printing original plate, and the zinc oxide particles as the photoconductive material are bound. Since it is well dispersed in the agent, the desensitizing treatment with the desensitizing treatment liquid makes the non-image area hydrophilic enough to prevent the adhesion of printing ink to the non-image area during printing. Therefore, even if a large number of printed matter such as 10,000 sheets are printed, the background stain is not generated.

即ち、本発明において、樹脂〔A〕と樹脂〔B〕とを
併用すると、無機光導電体と結着樹脂の吸着・被覆の相
互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層の膜強度がより
良好に保持されるものである。
That is, in the present invention, when the resin [A] and the resin [B] are used together, the interaction between adsorption and coating of the inorganic photoconductor and the binder resin is appropriately performed, and the film strength of the photoconductive layer is further improved. It is well retained.

樹脂〔A〕において、ABブロック共重合体中における
該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量は、樹脂
〔A〕100重量部中、0.5〜20重量%で、好ましくは3〜
15重量%である。樹脂〔A〕の重量平均分子量は好まし
くは3×103〜1×104である。
In the resin [A], the amount of the specific acidic group-containing polymer component in the AB block copolymer is 0.5 to 20% by weight, preferably 3 to 20% by weight in 100 parts by weight of the resin [A].
15% by weight. The weight average molecular weight of the resin [A] is preferably 3 × 10 3 to 1 × 10 4 .

次に本発明に供せられる樹脂〔B〕について説明す
る。
Next, the resin [B] used in the present invention will be described.

樹脂〔B〕は、前記した物性を満たし、一官能性マク
ロモノマー(MB)と一般式(V)で示される単量体とを
少なくとも含有するグラフト型の共重合体から成る樹脂
である事を特徴とする。
The resin [B] is a resin which is a graft type copolymer that satisfies the above-mentioned physical properties and contains at least a monofunctional macromonomer (MB) and a monomer represented by the general formula (V). Characterize.

樹脂〔B〕は、好ましくは重量平均分子量が3×104
以上の、グラフト型共重合体樹脂である。より好ましく
は重量平均分子量が5×104〜3×105である。
The resin [B] preferably has a weight average molecular weight of 3 × 10 4
The above is a graft copolymer resin. More preferably, the weight average molecular weight is from 5 × 10 4 to 3 × 10 5 .

樹脂〔B〕のガラス転移点は好ましくは0℃〜120℃
の範囲、より好ましくは10℃〜90℃である。
The glass transition point of the resin [B] is preferably 0 ° C to 120 ° C.
And more preferably from 10 ° C to 90 ° C.

一官能性マクロモノマー(MB)は、一般式(III)で
示される重合性二重結合基を、一般式(IV a)又は(IV
b)で示される重合体成分を少なくとも1種含有する重
合体主鎖の一方の末端にのみ結合して成る、重量平均分
子量2×104以下のものである。
The monofunctional macromonomer (MB) has a polymerizable double bond group represented by the general formula (III), a general formula (IV a) or (IV
It has a weight-average molecular weight of 2 × 10 4 or less which is bonded to only one end of a polymer main chain containing at least one polymer component represented by b).

一般式(III)、(IV a)及び(IV b)において、
c1、c2、V0、d1、d2、V1、Q1及びQ0に含まれる炭化水素
基は各々示された炭素数(未置換の炭化水素基として
の)を有するが、これら炭化水素基は置換基を有してい
てもよい。
In the general formulas (III), (IVa) and (IVb),
The hydrocarbon groups contained in c 1 , c 2 , V 0 , d 1 , d 2 , V 1 , Q 1 and Q 0 each have the indicated carbon number (as an unsubstituted hydrocarbon group), These hydrocarbon groups may have a substituent.

マクロモノマー(MB)を示す一般式(III)におい
て、V0は−COO−、−OCO−、−CH2OCO−、−CH2COO−、
−O−、−SO2−、−CO−、−CONHCOO−、−CONHCONH
−、−CONHSO2−、 を表わす。ここでP3は、水素原子のほか、好ましい炭化
水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエ
チル基:2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシ
エチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の
置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−
1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル
基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル
基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル
−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてい
てもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2
−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジ
ル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル
基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例
えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル
基、2−シクロペンチルエチル基等)又は、炭素数6〜
12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、
ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシル
フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル
基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等)が挙げられる。
Formula showing the macromonomer (MB) in (III), V 0 is -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO -, - CH 2 COO-,
-O -, - SO 2 -, - CO -, - CONHCOO -, - CONHCONH
−, −CONHSO 2 −, Represents Here, P 3 is, in addition to a hydrogen atom, a preferable hydrocarbon group as an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group). Group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2
-Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group: 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group and the like, and an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, , 2-methyl-
1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), An optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group,
-Naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (E.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or C6-C6.
12 optionally substituted aromatic groups (for example, phenyl group,
Naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, decyloxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, bromophenyl Group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc.).

V0を表わす場合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。
置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素
原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル
基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。
V 0 In the case where is represented, the benzene ring may have a substituent.
Examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group, Ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.).

c1及びc2は、互いに同じでも異なっていてもよく、好
ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、
臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COO−Z′又は炭化水素を介した−COO−Z′
(Z′は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、ア
ルケニル基、アラルキル基、脂環式基又はアリール基を
表わし、これらは置換されていてもよく、具体的には、
上記P3について説明したものと同様の内容を表わす)を
表わす。
c 1 and c 2 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom,
Bromine atom, etc.), cyano group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), -COO-Z 'or -COO-Z' via hydrocarbon.
(Z 'represents a hydrogen atom or an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group or aryl group having 1 to 18 carbon atoms, which may be substituted, and specifically,
It represents the same contents as those described for P 3 above).

上記炭化水素を介した−COO−Z′基における炭化水
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon in the -COO-Z 'group through the hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and the like.

更に好ましくは、一般式(III)において、V0は、−C
OO−、−OCO−、−CH2OCO−、−CH2COO−、−O−、−C
ONHCOO−、−CONHCONH−、−CONH、−SO2NH−又は を表わし、c1、c2は互いに同じでも異なってもよく、水
素原子、メチル基、−COO−Z′又は−CH2COOZ′(Z′
は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
等)を表わす。更により好ましくはc1、c2においていず
れか一方が必ず水素原子を表わす。
More preferably, in the general formula (III), V 0 is -C
OO -, - OCO -, - CH 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - C
ONHCOO -, - CONHCONH -, - CONH, -SO 2 NH- or And c 1 and c 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a methyl group, —COO—Z ′ or —CH 2 COOZ ′ (Z ′.
Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, etc.). Even more preferably, one of c 1 and c 2 always represents a hydrogen atom.

即ち、一般式(III)で表わされる重合性二重結合基
として、具体的には、 CH2=CH−O−、 が挙げられる。
That is, as the polymerizable double bond group represented by the general formula (III), specifically, CH 2 = CH-O-, Is mentioned.

一般式(IV a)において、V1は式(III)中のV0と同
一の内容を表わす。
In general formula (IV a), V 1 has the same meaning as V 0 in formula (III).

d1、d2は互いに同じでも異なってもよく、式(III)
中のc1、c2と同一の内容を表わす。
d 1 and d 2 may be the same or different from each other, and have the formula (III)
Represents the same content as c 1 and c 2 in .

Q1は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳
香族基を表わす。
Q 1 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms.

具体的には、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
−ヒドロキシルエチル基、2−メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、2−シアノエチル基、3−クロロプ
ロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、2−
テトラヒドロフリル基、2−チエニルエチル基、2−N,
N−ジメチルアミノエチル基、2−N,N−ジエチルアミノ
エチル基等)、炭素数5〜8のシクロアルキル基(例え
ばシクロヘプチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチ
ル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル
基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプ
ロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基、ジクロロベンジ
ル基、メチルベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル
基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、メト
キシベンジル基等)等の脂肪族基が挙げられる。
Specifically, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group,
Dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2
-Hydroxylethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-
Ethoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2- (trimethoxysilyl) ethyl group, 2-
Tetrahydrofuryl group, 2-thienylethyl group, 2-N,
N-dimethylaminoethyl group, 2-N, N-diethylaminoethyl group, etc., C5-C8 cycloalkyl group (for example, cycloheptyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, etc.), C7-C12 substitution Aralkyl groups (eg, benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, naphthylmethyl, 2-naphthylethyl,
Aliphatic groups such as chlorobenzyl group, bromobenzyl group, dichlorobenzyl group, methylbenzyl group, chloro-methyl-benzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group, and methoxybenzyl group.

更に炭素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例
えばフェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、ジクロロフェニル基、クロロ
−メチル−フェニル基、メトキシフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基
等)等の芳香族基が挙げられる。
Further, an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl, tolyl, xylyl, chlorophenyl, bromophenyl, dichlorophenyl, chloro-methyl-phenyl, methoxyphenyl, methoxycarbonylphenyl) , A naphthyl group, a chloronaphthyl group, etc.).

式(IV a)において好ましくは、V1は−COO−、−OCO
−、−CH2COO−、−CH2OCO−、−O−、−CO−、−CONH
COO−、−CONHCONH−、−CONH−、−SO2NH−、又は を表わす。
In the formula (IVa), preferably V 1 is -COO-, -OCO.
-, - CH 2 COO -, - CH 2 OCO -, - O -, - CO -, - CONH
COO -, - CONHCONH -, - CONH -, - SO 2 NH-, or Represents

d1、d2の好ましい例は、前記したc1、c2と同様の内容
を表わす。
Preferred examples of d 1 and d 2 represent the same contents as those of c 1 and c 2 described above.

式(IV b)において、Q0は、−CN、−CONH2又は を表わし、Tは水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原
子、臭素原子等)、炭化水素基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、フェニ
ル基等)、アルコキシ基、(例えばメトキシ基、エトキ
シ基等)又は−COO−Z″(Z″は好ましくは炭素数1
〜8のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基又はア
リール基を表わす)を表わす。
In formula (IV b), Q 0 represents —CN, —CONH 2 or Represents a hydrogen atom, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), a hydrocarbon group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, phenyl group, etc.), alkoxy group, ( For example, a methoxy group, an ethoxy group, etc.) or -COO-Z "(Z" is preferably 1 carbon atom.
Represents an alkyl group having 8 to 8, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms or an aryl group).

マクロモノマー(MB)は、式(IV a)又は(IV b)で
示される重合体成分を2種以上含有していてもよい。又
は(IV a)においてQ1が脂肪族基の場合、炭素数6〜12
の脂肪族基は、マクロモノマー(MB)中の全重合体成分
中の20重量%を越えない範囲で用いることが好ましい。
The macromonomer (MB) may contain two or more polymer components represented by the formula (IV a) or (IV b). Or in (IV a), when Q 1 is an aliphatic group, it has 6 to 12 carbon atoms.
It is preferable to use the aliphatic group in a range not exceeding 20% by weight based on the total polymer components in the macromonomer (MB).

更には、一般式(IV a)におけるV1が−COO−である
場合には、マクロモノマー(MB)中の全重合体成分中、
式(IV a)で示される重合体成分が少なくとも30重量%
以上含有されることが好ましい。
Furthermore, when V 1 in the general formula (IV a) is —COO—, in all the polymer components in the macromonomer (MB),
At least 30% by weight of the polymer component of the formula (IVa)
It is preferable to contain the above.

又、マクロモノマー(MB)において、式(IV a)及び
/又は(IV b)で示される重合体成分とともに共重合さ
れうる繰り返し単位に相当する単量体として、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン及びその誘導体(例えばビ
ニルトルエン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブ
ロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、N,N−ジメ
チルアミノメチルスチレン等)、複素環ビニル類(例え
ばビニルピリジン、ビニルイミドゾール、ビニルピロリ
ドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジ
オキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
Further, in the macromonomer (MB), acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamides as monomers corresponding to repeating units that can be copolymerized with the polymer component represented by the formula (IV a) and / or (IV b) , Methacrylamide, styrene and its derivatives (eg vinyltoluene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, hydroxymethylstyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, etc.), heterocyclic vinyls (eg vinylpyridine, vinylimidozole) , Vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.) and the like.

本発明の樹脂〔B〕において供されるマクロモノマー
(MB)は、上述の如き、一般式(IV a)及び/又は(IV
b)で示される繰返し単位から成る重合体主鎖の一方の
末端にのみ、一般式(III)で示される重合性二重結合
基が、直接結合するか、あるいは、任意の連結基で結合
された化学構造を有するものである。式(III)成分と
式(IV a)又は(IV b)成分を連結する基としては、炭
素−炭素結合(一重結合あるいは二重結合)、炭素−ヘ
テロ原子結合(ヘテロ原子としては例えば酸素原子、イ
オウ原子、窒素原子、ケイ素原子等)、ヘテロ原子−ヘ
テロ原子結合の原子団の任意の組合せで構成されるもの
である。
The macromonomer (MB) provided in the resin [B] of the present invention has the general formula (IV a) and / or (IV
The polymerizable double bond group represented by the general formula (III) is directly bonded to only one end of the polymer main chain composed of the repeating unit represented by b), or is bonded by any linking group. It has a different chemical structure. The group connecting the formula (III) component and the formula (IV a) or (IV b) component includes a carbon-carbon bond (single bond or double bond), a carbon-heteroatom bond (hetero atom is, for example, an oxygen atom). , Sulfur atom, nitrogen atom, silicon atom, etc.), and any combination of atomic groups of heteroatom-heteroatom bond.

本発明のマクロモノマー(MB)のうち好ましいものは
式(VI a)又は(VI b)で示される如きものである。
Preferred among the macromonomers (MB) of the present invention are those represented by the formula (VI a) or (VI b).

式(VI a)又は(VI b)中、c1、c2、d1、d2、V0
V1、Q1、Q0は各々、式(III)、式(IV a)及び式(IV
b)において説明したものと同一の内容を表わす。
In formula (VI a) or (VI b), c 1 , c 2 , d 1 , d 2 , V 0 ,
V 1 , Q 1 and Q 0 are the formula (III), the formula (IV a) and the formula (IV
Represents the same content as described in b).

W0は、単なる結合または、 〔h1、h2は、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシ
ル基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基等)等を示す〕、 CH=CH、 −O−、−S−、 −COO−、−SO2−、 −NHCOO−、−NHCONH−、 [h3、h4は各々水素原子、前記式(IV a)におけるQ1
同様の内容を表わす炭化水素基を示す]等の原子団から
選ばれた単独の連結基もしくは任意の組合せで構成され
た連結基を表わす。
W 0 is a simple bond or [H 1 and h 2 represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, a hydroxyl group, an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.) ], CH = CH, -O-, -S-, -COO -, - SO 2 -, -NHCOO-, -NHCONH-, [H 3 and h 4 each represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having the same content as Q 1 in the above formula (IV a)] or the like, and a single linking group selected from atomic groups or any combination thereof. Represents a linked group.

マクロモノマー(MB)の重量平均分子量が2×104
超えると、式(V)で示されるモノマーとの共重合性が
低下する。他方、分子量が小さすぎると感光層の電子写
真特性の向上効果が小さくなるので、1×103以上であ
ることが好ましい。
When the weight average molecular weight of the macromonomer (MB) exceeds 2 × 10 4 , the copolymerizability with the monomer represented by the formula (V) decreases. On the other hand, if the molecular weight is too small, the effect of improving the electrophotographic properties of the photosensitive layer will be small, so that it is preferably 1 × 10 3 or more.

本発明において樹脂〔B〕に供されるマクロモノマー
(MB)は、従来公知の合成方法によって製造することが
できる。例えば、アニオン重合あるいはカチオン重合に
よって得られるリビングポリマーの末端に種々の試薬を
反応させてマクロマーとするイオン重合法による方法、
分子中に、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基
等の反応性基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動
剤を用いて、ラジカル重合して得られる末端反応性基結
合のオリゴマーと種々の試薬を反応させてマクロマーに
するラジカル重合法による方法、重付加あるいは重縮合
反応により得られたオリゴマーに上記ラジカル重合方法
と同様にして、重合性二重結合基を導入する重付加縮合
法による方法等が挙げられる。
The macromonomer (MB) used for the resin [B] in the present invention can be produced by a conventionally known synthesis method. For example, a method by an ionic polymerization method in which various reagents are reacted with the ends of a living polymer obtained by anionic polymerization or cationic polymerization to form a macromer,
Oligomers of terminal reactive group bond obtained by radical polymerization using a polymerization initiator and / or chain transfer agent containing a reactive group such as carboxyl group, hydroxyl group, amino group in the molecule and various reagents By a radical polymerization method of reacting with a polymer to form a macromer, a polyaddition condensation method of introducing a polymerizable double bond group into the oligomer obtained by a polyaddition or polycondensation reaction in the same manner as the above radical polymerization method. Is mentioned.

具体的には、P.Dreyfuse & R.P.Quirk,Encycl.Poly
m.Sci.Eng.,,551(1987),P.F.Rempp,E.Franta,Adv.P
olym.Sci.,58,1(1984),V.Percec,Appl.Polym.Sci.,28
5,95(1984),R.Asami,M.TaKaRi,Makvamol.Chem.Supp
l.,12,163(1985),P.Rempp et al,Makvamol.Chem.Supp
l.,,3(1984),川上雄資、化学工業、38,56(198
7)、山下雄也、高分子、31,988(1982),小林四郎、
高分子、30,625(1981)、東村敏延、日本接着協会誌1
8,536(1982)、伊藤浩一、高分子加工、35,262(198
6)、東貴四郎、津田隆、機能材料、1987 No.10,5等の
総説及びそれに引例の文献・特許等に記載の方法に従っ
て合成することができる。
Specifically, P.Dreyfuse & RPQuirk, Encycl.Poly
m.Sci.Eng., 7 , 551 (1987), PFRempp, E.Franta, Adv.P
olym. Sci., 58 , 1 (1984), V. Percec, Appl. Polym. Sci., 28
5 , 95 (1984), R. Asami, M.TaKaRi, Makvamol.Chem.Supp
l., 12 , 163 (1985), P. Rempp et al, Makvamol. Chem. Supp
l., 8 , 3 (1984), Yusuke Kawakami, Chemical Industry, 38 , 56 (198
7), Yuya Yamashita, Polymer, 31 , 988 (1982), Shiro Kobayashi,
Polymer, 30, 625 (1981), Higashimura Satoshinobe, Journal of the Adhesion Society of Japan 1
8, 536 (1982), Koichi Ito, polymer processing, 35, 262 (198
6), can be synthesized according to the method described in the reviews such as Kishiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987 No. 10,5, and references and patents cited therein.

本発明のマクロモノマー(MB)は、よく具体的には、
下記の化合物を例として挙げることができる。但し、本
発明の範囲は、これらに限定されるものではない。
The macromonomer (MB) of the present invention is specifically,
The following compounds may be mentioned as examples: However, the scope of the present invention is not limited to these.

但し、以下の各例において、c1は−H又は、−CH3
示し、d1は−H又は−CH3を示し、d2は−H、−CH3又は
−CH2COOCH3を示し、R11は−CdH2d+1、−CH2C6H5、−C6
H5又は を示し、R12は−CdH2d+1、CH2 eC6H5又は を示し、R13は−CdH2d+1、−CH2C6H5又は−C6H5を示
し、R14は−CdH2d+1又は−CH2C6H5を示し、R15は−CdH
2d+1、−CH2C6H5又は を示し、R16は−CdH2d+1を示し、R17は−CdH2d+1、−CH
2C6H5又は を示し、R18は−CdH2d+1、−CH2C6H5又は を示し、V1は−COOCH3、−C6H5又は−CNを示し、V2は−
OCdH2d+1、−OCOCdH2d+1、−COOCH3、−C6H5又は−CNを
示し、V3は−COOCH3、−C6H5又は−CNを示し、V4は−OCOCdH2d+1、−CN、−CONH2
は−C6H5を示し、V5は−CN、−CONH2又は−C6H5を示
し、V6は−COOCH3、−C6H5又は を示し、T1は−CH3、−Cl、−Br又は−OCH3を示し、T2
は−CH3、−Cl又は−Brを示し、T3は−H、−Cl、−B
r、−CH3、−CN又は−COOCH3を示し、T4は−CH3、−Cl
又は−Brを示し、T5は−Cl、−Br、−F、−OH又は−CN
を示し、T6は−H、−CH3、−Cl、−Br、−OCH3又は−C
OOCH3を示し、dは1〜18の整数を示し、eは1〜3の
整数を示し、fは2〜4の整数を示す。
However, in each of the following examples, c 1 represents -H or -CH 3 , d 1 represents -H or -CH 3 , and d 2 represents -H, -CH 3 or -CH 2 COOCH 3 . , R 11 is -C d H 2d + 1 , -CH 2 C 6 H 5 , -C 6
H 5 or Wherein R 12 is -C d H 2d + 1 , CH 2 e C 6 H 5 or Are shown, R 13 is -C d H 2d + 1, shows a -CH 2 C 6 H 5 or -C 6 H 5, R 14 represents a -C d H 2d + 1 or -CH 2 C 6 H 5 , R 15 is -C d H
2d + 1, -CH 2 C 6 H 5 or R 16 represents -C d H 2d + 1 , R 17 represents -C d H 2d + 1 , -CH
2 C 6 H 5 or Wherein R 18 is -C d H 2d + 1 , -CH 2 C 6 H 5 or V 1 represents -COOCH 3 , -C 6 H 5 or -CN, and V 2 represents-
OC d H 2d + 1 , -OCOC d H 2d + 1 , -COOCH 3 , -C 6 H 5 or -CN, and V 3 is -COOCH 3 , -C 6 H 5 , Or indicates -CN, V 4 is -OCOC d H 2d + 1, -CN , shows a -CONH 2 or -C 6 H 5, V 5 represents -CN, a -CONH 2 or -C 6 H 5, V 6 is -COOCH 3 , -C 6 H 5 or And T 1 represents -CH 3 , -Cl, -Br or -OCH 3 , and T 2
Represents a -CH 3, -Cl or -Br, T 3 is -H, -Cl, -B
r, -CH 3, shows a -CN or -COOCH 3, T 4 is -CH 3, -Cl
Or indicates -Br, T 5 is -Cl, -Br, -F, -OH or -CN
Wherein T 6 is -H, -CH 3 , -Cl, -Br, -OCH 3 or -C
Indicates OOCH 3, d is an integer of 1 to 18, e is an integer of 1 to 3, f is an integer of 2-4.

前記したマクロモノマー(MB)と共重合する単量体
は、一般式(V)で示される。式(V)において、e1
e2は、互いに同じでも異なってもよく、式(III)の
c1、c2と同一の内容を表わす。V2は式(IV a)のV1と、
Q2は式(IV a)のQ1と各々同一の内容を表わす。
The monomer copolymerized with the macromonomer (MB) is represented by the general formula (V). In the formula (V), e 1 ,
e 2 may be the same or different from each other;
Represents the same content as c 1 and c 2 . V 2 is V 1 of the formula (IV a),
Q 2 has the same contents as Q 1 in formula (IV a).

更に、本発明の樹脂〔B〕は、前記したマクロモノマ
ー(MB)及び一般式(V)の単量体とともに、これら以
外の他の単量体を共重合成分として含有してもよい。
Further, the resin [B] of the present invention may contain other monomers as copolymer components in addition to the above-mentioned macromonomer (MB) and the monomer of the general formula (V).

例えば、酸性基を含有するビニル系化合物、α−オレ
フィン類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ア
クリルアミド、メタクリルアミド、スチレン、ビニル基
含有ナフタレン化合物(例えばビニル−ナフタレン、1
−イソペロペニルナフタリン等)ビニル基含有複素環化
合物(例えばビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニ
ルチオフェン、ビニル−テトラヒドロフラン、ビニル−
1,3−ジオキソラン、ビニルイミダゾール、ビニルチア
ゾール、ビニルオキサゾリン等)等の化合物が挙げられ
る。
For example, vinyl compounds containing an acidic group, α-olefins, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, methacrylamide, styrene, vinyl group-containing naphthalene compounds (for example, vinyl-naphthalene,
-Isoperopenylnaphthalene, etc.) vinyl group-containing heterocyclic compounds (for example, vinylpyridine, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinyl-tetrahydrofuran, vinyl-
Compounds such as 1,3-dioxolan, vinylimidazole, vinylthiazole, and vinyloxazoline).

樹脂〔B〕において、マクロマー(MB)を繰り返し単
位とする共重合成分と、一般式(V)で示される単量体
を繰り返し単位とする共重合成分の組成比は、1〜80/9
9〜20(重量組成比)であり、好ましくは5〜60/95〜40
重量組成比である。
In the resin [B], the composition ratio of the copolymer component having a macromer (MB) as a repeating unit and the copolymer component having a monomer represented by the general formula (V) as a repeating unit is 1 to 80/9.
9-20 (weight composition ratio), preferably 5-60 / 95-40
It is a weight composition ratio.

上記の酸性基を含有するビニル系化合物としては、例
えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック〔基
礎編〕」培風館(1986年)等に記載されている。具体的
には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例
えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α−
(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シア
ノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例
えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2
−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチ
ル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エ
ステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカル
ボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン
酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又は
アリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸
又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換
基中に酸性基を含有する化合物等が挙げられる。
The above-mentioned vinyl compound containing an acidic group is described, for example, in “Polymer Data Handbook [Basic Edition]” edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-acetoxy form)
(2-amino) methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-
Methoxy, α, β-dichloro), methacrylic acid,
Itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid,
-Octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinyl Examples include half-ester derivatives of vinyl or allyl groups of sulfonic acids, vinylphosphonic acids and dicarboxylic acids, and ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, and compounds containing an acidic group in the substituents of the amide derivatives.

他の共重合成分として、「酸性基を含有するビニル系
化合物」を繰り返し単位として含有する場合、該酸性基
含有共重合成分は共重合体中の10重量%を超えない事が
好ましい。
When the "vinyl compound containing an acidic group" is contained as a repeating unit as another copolymerization component, the acidic group-containing copolymerization component preferably does not exceed 10% by weight in the copolymer.

該酸性基含有成分が10重量%を超えると、無機光導電
体粒子との相互作用が著しくなり、感光体表面の平滑性
が阻害され、結果として、電子写真特性(特に、帯電
性、暗中電荷保持性)が悪化してしまう。
When the content of the acidic group-containing component exceeds 10% by weight, the interaction with the inorganic photoconductor particles becomes remarkable, and the smoothness of the photoreceptor surface is impaired. As a result, electrophotographic properties (particularly, chargeability, charge in the dark) (Retention) is deteriorated.

更に、本発明の好ましい態様として用いることのでき
る樹脂〔B′〕は一、一般式(V)で示される繰り返し
単位を少なくとも1種及びマクロモノマー(MB)で示さ
れる繰り返し単位を少なくとも1種含有する重合体主鎖
の片末端にのみ、−PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、−O
H基、−SH基および (R0は炭化水素基又は−OR0′(R0′は炭化水素基を示
す)基を表わす}から選ばれる少なくとも一つの酸性基
を結合して成る重合体である。
Further, the resin [B ′] which can be used as a preferred embodiment of the present invention contains at least one repeating unit represented by the general formula (V) and at least one repeating unit represented by the macromonomer (MB). Only at one end of the polymer main chain to -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -O
H group, -SH group and (R 0 represents a hydrocarbon group or a —OR 0 ′ (R 0 ′ represents a hydrocarbon group) group}, and is a polymer having at least one acidic group bonded thereto.

ここで、R0、R0′で表される炭化水素基としては、炭
素数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、
オクタデシル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシ
エチル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基
等)、炭素数7〜9の置換されてもよいアラルキル基
(例えベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピ
ル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜8の
脂環式基(例えばシクロベンチル基、シクロヘキシル基
等)、炭素数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例え
ば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、アルコキシフェ
ニル基(アルキル基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ドデシル基等)、アセトキシフェニル
基、メチル−クロロ−フェニル基、プロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、デシルフェニル基等)等が挙げ
られる。
Here, R 0 , as the hydrocarbon group represented by R 0 ′, an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group,
Octyl, decyl, dodecyl, tetradecyl,
Octadecyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-ethoxyethyl group, etc.) and aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms which may be substituted (eg, benzyl group, phenethyl group, 3 -Phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (eg cyclobenzyl group, cyclohexyl group, etc.), substitution having 6 to 12 carbon atoms Optionally aromatic group (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group,
Chlorophenyl group, bromophenyl group, alkoxyphenyl group (as alkyl group, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc.), acetoxyphenyl group, methyl -Chloro-phenyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, decylphenyl group, etc.) and the like.

又、上記酸性基を重合体主鎖の片未端に結合する場合
には、重合体主鎖中にカルボキシル基、スルホ基、ヒド
ロキシル基、ホスホノ基の極性基を含有する共重合成分
を含有しないことが好ましい。
When the acidic group is bonded to one end of the polymer main chain, the polymer main chain does not contain a copolymerization component containing a polar group such as a carboxyl group, a sulfo group, a hydroxyl group, or a phosphono group. It is preferable.

樹脂〔B′〕において、上記酸性基は重合体主鎖の一
方の末端に直接結合するか、あるいは任意の連結基を介
して結合した化学構造を有する。
In the resin [B '], the acidic group has a chemical structure in which it is directly bonded to one end of the polymer main chain or is bonded via an arbitrary linking group.

結合基としては炭素−炭素結合(一重結合あるいは二
重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子としては
例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子
等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の任意の組
合わせで構成されるものである。例えば、 〔h5、h6は前記のh1、h2と同一の内容表わす)CH=CH
(ここでh7、h8は前記のh3、h4と同一の内容を表わす)
等の原子団から選ばれた単独の連結基又は任意の組合せ
で構成された連結基等が挙げられる。
Examples of the bonding group include a carbon-carbon bond (single bond or double bond), a carbon-heteroatom bond (for example, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a silicon atom), and a heteroatom-heteroatom bond. It is composed of any combination of atomic groups. For example, [H 5 and h 6 represent the same contents as the above h 1 and h 2 ) CH = CH
, (Where h 7 and h 8 represent the same contents as h 3 and h 4 above)
And the like, or a single linking group selected from an atomic group such as the above, or a linking group composed of an arbitrary combination.

樹脂〔B′〕において重合体主鎖の片末端にのみに結
合する該酸性基の含有量は、樹脂〔B′〕100重量部当
り好ましくは0.1〜15重量%、より好ましくは0.5〜10重
量%である。0.1重量%未満では膜強度の向上効果が小
さくなり、15重量%以上では光導電体分散物の調整時に
光導電体が均一に分散されず、凝集が生じ、均一な塗膜
が形成されなくなる。
In the resin [B '], the content of the acidic group bonded only to one end of the polymer main chain is preferably 0.1 to 15% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight per 100 parts by weight of the resin [B']. %. If the amount is less than 0.1% by weight, the effect of improving the film strength is small, and if the amount is 15% by weight or more, the photoconductor is not uniformly dispersed at the time of preparing the photoconductor dispersion, so that aggregation occurs, and a uniform coating film is not formed.

重合体主鎖の片末端にのみ特定の酸性基を結合して成
る本発明の樹脂〔B′〕は、従来公知のアニオン重合あ
るいはカチオン重合によって得られるリビングポリマー
の末端に種々の試薬を反応させる方法(イオン重合法に
よる方法)、分子中に特定の酸性基を含有した重合開始
剤及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合させる方
法(ラジカル重合法による方法)、あるいは以上の如き
イオン重合法もしくはラジカル重合法によって得られた
末端に反応性基含有の重合体を高分子反応によって本発
明の特定の酸性基に変換する方法等の合成法によって容
易に製造することができる。
The resin [B '] of the present invention comprising a specific acidic group bonded to only one terminal of the polymer main chain is prepared by reacting various reagents with the terminal of a living polymer obtained by conventionally known anionic or cationic polymerization. Method (method by ionic polymerization), method of radical polymerization using a polymerization initiator and / or chain transfer agent containing a specific acidic group in the molecule (method by radical polymerization), or ionic polymerization as described above Alternatively, it can be easily produced by a synthesis method such as a method of converting a polymer having a terminal reactive group obtained by a radical polymerization method into a specific acidic group of the present invention by a polymer reaction.

具体的には、P.Dreyfuss,R.P.Quirk,Encycl.Polym.Sc
i.Eng.,:551(1987)、中條善樹、山下雄也「染料と
薬品」、30、232(1985)、上田明、永井進「科学と工
業」60、57(1986)等の総説及びそれに引用の文献等に
記載の方法によって製造することができる。
Specifically, P. Dreyfuss, RPQuirk, Encycl.Polym.Sc
i.Eng., 7 : 551 (1987), Yoshiki Chujo, Yuya Yamashita, "Dyes and Chemicals", 30 , 232 (1985), Akira Ueda, Susumu Nagai, "Science and Industry" 60 , 57 (1986) In addition, it can be produced by the method described in the cited document or the like.

本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂〔B〕(〔B′〕も
含む)の使用量の割合は、使用する無機光導電材料の種
類、粒径、表面状態によって異なるが一般に樹脂〔A〕
と樹脂〔B〕の用いる割合は5〜80対95〜20(重量比)
であり、好ましくは10〜60対90〜40(重量比)である。
The ratio of the amount of the resin [A] used in the present invention to the amount of the resin [B] (including [B ']) varies depending on the type, particle size and surface state of the inorganic photoconductive material used, but generally the resin [A]
And the resin [B] are used in a ratio of 5 to 80 to 95 to 20 (weight ratio).
And preferably 10 to 60 to 90 to 40 (weight ratio).

本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜
鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カド
ミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化
テルル、硫化鉛等が挙げられる。好ましくは、酸化亜
鉛、酸化チタン等が挙げられる。
Examples of the inorganic photoconductive material used in the present invention include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, and lead sulfide. Preferably, zinc oxide, titanium oxide and the like are used.

無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光
導電体100重量部に対して結着樹脂を10〜100重量部なる
割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で使用する。
The total amount of the binder resin used for the inorganic photoconductive material is 10 to 100 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photoconductor.

本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤と
して併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀
彦、イメージング1973(No.8)第12頁、C.J.Young等、R
C A Review 15、469(1954)、清田航平等、電気通信
学会論文誌J63−C(No.2),97(1980)、原崎勇次等、
工業化学雑誌66、78及び188(1963)、谷忠昭、日本写
真学会誌35、208(1972)等の総説引例のカーボニウム
系色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色
素、キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン
色素(例えばオキソノール、メロシアニン色素、シアニ
ン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素年)、フタロ
シアニン色素(金属を含有していてもよい)等が挙げら
れる。
In the present invention, various dyes can be used as spectral sensitizers as needed. For example, Harumiya Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No.8) page 12, CJ Young, R
CA Review 15 , 469 (1954), Kouhei Kiyota, The Institute of Electrical Communication, J63-C (No.2), 97 (1980), Yuji Harasaki, etc.,
Carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, which are cited as references in industrial chemistry magazines 66 , 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Japan Photographic Society magazine 35 , 208 (1972), etc. Examples thereof include polymethine dyes (for example, oxonol, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes), phthalocyanine dyes (which may contain a metal), and the like.

更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニル
メタン系色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素を
中心に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50−114227号、特開昭53−39130
号、特開昭53−82353号、米国特許第3052540号、米国特
許第4054450号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙
げられる。
More specifically, those using mainly carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes are described in JP-B-51-452,
0-90334, JP-A-50-114227, JP-A-53-39130
And JP-A-53-82353, U.S. Pat. No. 3,052,540, U.S. Pat. No. 4,054,450, and JP-A-57-16456.

オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素としてはF.M.
Hammer、「The Cyanine Dyes and Related Compounds」
等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には、
米国特許第3047384号、米国特許第3110591号、米国特許
第3121008号、米国特許第3125447号、米国特許第312817
9号、米国特許第3132942号、米国特許第36224317号、英
国特許第1226892号、英国特許第1309274号、英国特許第
1405898号、特公昭48−7814号、特公昭55−18892号等に
記載の色素が挙げられる。
Polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, and rhodacyanine dyes are FM
Hammer, `` The Cyanine Dyes and Related Compounds ''
Can be used, more specifically, more specifically,
U.S. Patent No. 3047384, U.S. Patent No.3110591, U.S. Patent No.3121008, U.S. Patent No.3125447, U.S. Patent No.
No. 9, U.S. Pat.No. 3,31,942, U.S. Pat.No. 36224317, U.K. Pat.No. 1226892, U.K. Pat.No. 1309274, U.K. Pat.
Dyes described in JP 1405898, JP-B-48-7814, JP-B-55-18892 and the like can be mentioned.

更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭47−840号、特
開昭47−44180号、特公昭51−41061号、特開昭49−5034
号、特開昭49−45122号、特開昭57−46245号、特開昭56
−35141号、特開昭57−157254号、特開昭61−26044号、
特開昭51−27551号、米国特許第3619154号、米国特許第
4175956号、「Research Disclosure」1982年、216、第1
17〜118頁等に記載のものが挙げられる。
Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-47-840, JP-A-47-44180, JP-B-51-41061, 1949-5034
No., JP-A-49-45122, JP-A-57-46245, JP-A-56
No. -35141, JP-A-57-157254, JP-A-61-26044,
JP-A-51-27551, U.S. Pat.No. 3619154, U.S. Pat.
4175956, "Research Disclosure", 1982, 216, No. 1
And those described on pages 17 to 118 and the like.

本発明の感光体は種々の増感色素を併用させても、そ
の性能が増感色素により変動しにくい点でも優れてい
る。
The photoreceptor of the present invention is also excellent in that even when various sensitizing dyes are used in combination, the performance is not easily changed by the sensitizing dye.

更には、必要に応じて、化額増感剤等の従来知られて
いる電子写真感光層用各種添加剤を併用することもでき
る。例えば、前記した総設:イメージング1973(No.8)
第12頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えばハロゲ
ン、ベンゾキノン、クラニル、酸無水物、有機カルボン
酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第4章〜第6章:日本科学情報(株)出版部
(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合物、
ヒンダートフェノール化合物、p−フェニレンジアミン
化合物等が挙げられる。
Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers, such as an sensitizer for a charge amount, can be used in combination. For example, the above-mentioned general installation: Imaging 1973 (No.8)
"Recent development and commercialization of photoconductive materials and photoreceptors", e.g., electron accepting compounds (eg, halogen, benzoquinone, cranyl, acid anhydride, organic carboxylic acid, etc.) described in the reviews on page 12, etc. Chapters 4 to 6: Polyarylalkane compounds, which are reviewed in Japanese Science Information Publishing Co., Ltd. (1986)
Hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds, and the like.

これら各種添加剤の添加量は特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0.001〜2.0重量部であ
る。
The amount of these various additives is not particularly limited,
Usually, it is 0.001 to 2.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoconductor.

光導電層の厚さは1〜100μ、特に10〜50μ、が好適
である。
The thickness of the photoconductive layer is preferably from 1 to 100 μm, particularly preferably from 10 to 50 μm.

また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷
発生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚
さは0.01〜1μ、特に0.05〜0.5μ、が好適である。
When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of the photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is preferably 0.01 to 1 μm, particularly preferably 0.05 to 0.5 μm.

感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主
目的として絶縁層を付設させる場合もある。この時は絶
縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プ
ロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設
定される。
In some cases, an insulating layer is provided for the main purpose of protecting the photoreceptor, improving durability, and improving dark attenuation characteristics. At this time, the insulating layer is set relatively thin, and the insulating layer provided when the photosensitive member is used in a specific electrophotographic process is set relatively thick.

後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、10
〜50μに設定される。
In the latter case, the thickness of the insulating layer is between 5 and 70 μm, especially 10
Set to ~ 50μ.

積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカル
バゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、ト
リフェニルメタン系色素などがある。電荷輸送層の厚さ
としては5〜40μ、特には10〜30μが好適である。
Examples of the charge transport material of the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, and triphenylmethane dyes. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 μm, particularly preferably 10 to 30 μm.

絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂として
は、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル
樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酸ピ共重合体樹脂、ポリ
アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂の熱可塑性
樹脂および硬化性樹脂が適宜用いられる。
As the resin used for forming the insulating layer or the charge transport layer, typical ones are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride-copolymer resin, A thermoplastic resin and a curable resin such as a polyacryl resin, a polyolefin resin, a urethane resin, an epoxy resin, a melamine resin, and a silicone resin are appropriately used.

本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設け
ることができる。一般に言って電子写真感光層の支持体
は、導電性であることが好ましく、導電性支持体として
は、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチック
シート等の基体に低抵抗性分質を含浸させるなどして導
電処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対
面)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目
的で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体
の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面
層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が
設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, just as in the conventional case, for example, a metal, paper, a plastic sheet or the like substrate having a low resistance property is used. Those which have been subjected to a conductive treatment such as impregnation, those which are coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and further preventing curling, A support having a water-resistant adhesive layer on the surface thereof, a support having at least one precoat layer provided on the surface layer thereof, a conductive electroconductive plastic substrate on which Al or the like is vapor-deposited on paper. A laminated product can be used.

具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例とし
て、坂本幸男,電子写真、14、(No.1)、第2〜11頁
(1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分子刊行
会(1975)、M.F.Hoover,J.Macromol.Sci.Chem.A−4
(6),第1327〜1417頁(1970)等に記載されているも
の等を用いる。
Specifically, as an example of a conductive substrate or a conductive material, Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No. 1), pp. 2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, “Chemistry of Introductory Specialty Paper” Molecular Publishing Association (1975), MFHoover, J. Macromol. Sci. Chem. A-4
(6), those described in pages 1327 to 1417 (1970) and the like are used.

(実施例) 以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容が
これらに限定されるものではない。
(Examples) Examples of the present invention will be described below, but the contents of the present invention are not limited thereto.

〔樹脂〔A〕の合成〕 樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 エチルメタクリレート95g及びテトラヒドロフラン200
gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−20℃に冷
却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.5gを加え12
時間反応した。更に、この混合溶液に、トリフェニルメ
チルメタクリレート5g及びテトラヒドロフラン5gの混合
溶液を窒素気流下に充分に脱気した後添加し、更に8時
間反応した。この混合物を0℃にした後、メタノール10
mlを加え30分間反応し、重合を停止させた。得られた重
合体溶液を撹拌下にて温度30℃とし、これに30%塩化水
素エタノール溶液3mlを加え1時間撹拌した。次に、減
圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶媒を留去
した後、石油エーテル1中に再沈した。
[Synthesis of Resin [A]] Synthesis Example 1 of Resin [A] 1: [A-1] 95 g of ethyl methacrylate and 200 of tetrahydrofuran
g of the mixed solution was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to -20 ° C. 1.5 g of 1,1-diphenylbutyllithium was added and 12
Reacted for hours. Further, to this mixed solution, a mixed solution of 5 g of triphenylmethyl methacrylate and 5 g of tetrahydrofuran was sufficiently degassed under a nitrogen stream, and then added, and the mixture was further reacted for 8 hours. The mixture was brought to 0 ° C.,
ml was added and reacted for 30 minutes to terminate the polymerization. The temperature of the resulting polymer solution was adjusted to 30 ° C. with stirring, to which 3 ml of a 30% ethanol solution of hydrogen chloride was added, followed by stirring for 1 hour. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure until the total amount of the reaction mixture became half, and the reaction mixture was reprecipitated in petroleum ether 1.

沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重合体は、
w8.5×103で収量70gであった。
The polymer obtained by collecting the precipitate and drying under reduced pressure is:
The yield was 70 g with a weight of 8.5 x 10 3 .

〔A−1〕 (重量比) b:ブロック結合を示す(以下同様) 樹脂〔A〕の合成例2:〔A−2〕 n−ブチルメタクリレート46g、(テトラフェニルポ
ルフェナート)アルミニウムメチル0.5g及び塩化メチレ
ン60gの混合溶液を窒素気流下にて温度30℃とした。こ
れに300W−キセノンランプ光をガラスフィルターを通し
て25cmの距離から光照射し、12時間反応した。この混合
物に更に、ベンジルメタクリレート4gを加え、同様に8
時間光照射した後、この反応混合物にメタノール3gを加
えて3分間撹拌し反応を停止させた。次にこの反応混合
物にPd−Cを加え、温度25℃で1時間接触還元反応を行
なった。
[A-1] (Weight ratio) b: Shows a block bond (same below) Synthesis Example 2 of resin [A]: [A-2] 46 g of n-butyl methacrylate, 0.5 g of (tetraphenylporphenate) aluminum methyl and 60 g of methylene chloride. The temperature of the mixed solution was 30 ° C. under a nitrogen stream. This was irradiated with light from a 300 W-xenon lamp through a glass filter from a distance of 25 cm, and reacted for 12 hours. To this mixture was further added 4 g of benzyl methacrylate.
After irradiating with light for a period of time, 3 g of methanol was added to this reaction mixture and stirred for 3 minutes to stop the reaction. Next, Pd-C was added to the reaction mixture, and a catalytic reduction reaction was performed at a temperature of 25 ° C. for 1 hour.

不溶物を濾別した後石油エーテル500ml中に再沈し、
沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量33gで
w9.3×103であった。
After filtering off the insoluble matter, the precipitate was reprecipitated in 500 ml of petroleum ether,
The precipitate was collected and dried. The obtained polymer was obtained in a yield of 33 g.
It was w9.3 × 10 3 .

〔A−2〕 樹脂〔A〕の合成例3:〔A−3〕 2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリレート90g
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
し0℃に冷却した。次いで1,1−ジフェニル−3−メチ
ルペンチルリチウム2.5gを加え、6時間撹拌した。更に
この混合物に4−ビニルフェニルオキシトリメチルシラ
ン10gを加え6時間撹拌した後、メタノール3gを加えて3
0分間撹拌した。
[A-2] Synthesis Example 3: Resin [A]: [A-3] 2-chloro-6-methylphenyl methacrylate 90 g
A mixed solution of 200 g of toluene and 200 g was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to 0 ° C. Then, 2.5 g of 1,1-diphenyl-3-methylpentyllithium was added, and the mixture was stirred for 6 hours. Further, 10 g of 4-vinylphenyloxytrimethylsilane was added to this mixture, and the mixture was stirred for 6 hours.
Stirred for 0 minutes.

次にこの反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液10
gを加え25℃で1時間撹拌した後、石油エーテル1中
に再沈し捕集した沈澱物をジエチルエーテル300mlで2
回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、収量58gでw7.
8×103であった。
The reaction mixture is then added to a 10% 30% hydrogen chloride ethanol solution.
g, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 1 hour. The precipitate was reprecipitated in petroleum ether 1 and the collected precipitate was extracted with 300 ml of diethyl ether.
Washed and dried twice. The obtained polymer was w7 with a yield of 58 g.
It was 8 × 10 3 .

〔A−3〕 樹脂〔A〕の合成例4:〔A−4〕 フェニルメタクリレート95g、ベンジルN,N−ジエチル
ジチオカーバメート4.8gの混合物を、窒素気流下に容器
に密閉し、温度60℃に加温した。これに、400Wの高圧水
銀灯で10cmの距離からガラスフィルターを通して、10時
間光照射し光重合した。
[A-3] Synthesis Example 4: Resin [A]: [A-4] A mixture of 95 g of phenyl methacrylate and 4.8 g of benzyl N, N-diethyldithiocarbamate was sealed in a vessel under a nitrogen stream, and heated to a temperature of 60 ° C. This was irradiated with light for 10 hours through a glass filter from a distance of 10 cm with a 400 W high-pressure mercury lamp, and photopolymerized.

これにアクリル酸5g及びメチルエチルケトン180gを加
えた後窒素置換し、再び10時間光照射した。
To this were added 5 g of acrylic acid and 180 g of methyl ethyl ketone, followed by purging with nitrogen and light irradiation again for 10 hours.

得られた反応物をヘキサン1.5に再沈、捕集し乾燥
した。得られた重合体は、68gでw9.5×103であった。
The obtained reaction product was reprecipitated in hexane 1.5, collected and dried. The obtained polymer had a weight of 9.5 × 10 3 in 68 g.

〔A−4〕 (樹脂〔B〕の製造例) 樹脂〔B〕の製造例1:樹脂〔B−1〕 エチルメタクリレート70g、マクロモノマー(M−
1)30g及びトルエン150gの混合溶液を窒素気流下温度7
0℃に加温した。次に、A.I.B.N.0.5gを加え、4時間反
応し、更に、A.I.B.N.0.3gを加えて6時間反応させた。
得られた共重合体〔B−1〕の重量平均分子量は9.8×1
04でガラス転移点は72℃であった 樹脂〔B−1〕 (重量比) 樹脂〔B〕の製造例2〜15:樹脂〔B−2〕〜〔B−1
5〕 樹脂〔B〕の製造例1と同様の重合条件で、下記表−
1の樹脂〔B〕を製造した。各樹脂のwは8×104
1.5×105の範囲であった。
[A-4] (Production Example of Resin [B]) Production Example 1 of Resin [B] 1: Resin [B-1] 70 g of ethyl methacrylate, macromonomer (M-
1) A mixed solution of 30 g and 150 g of toluene was heated under a nitrogen stream at a temperature of 7
Warmed to 0 ° C. Next, 0.5 g of AIBN was added and reacted for 4 hours. Further, 0.3 g of AIBN was added and reacted for 6 hours.
The weight average molecular weight of the obtained copolymer [B-1] is 9.8 × 1
Glass transition point was 72 ° C. at 0 4 Resin [B-1] (Weight Ratio) Production Examples 2 to 15 of Resin [B]: Resins [B-2] to [B-1]
5] Under the same polymerization conditions as in Production Example 1 of Resin [B], the following Table-
Resin No. 1 [B] was produced. The w of each resin is 8 × 10 4 ~
The range was 1.5 × 10 5 .

樹脂〔B〕の製造例16:樹脂〔B−16〕 エチルメタクレレート70g、マクロモノマー(M−
2)30g及びトルエン150g及びイソプロパノール50gの混
合溶液を窒素気流下温度70℃に加温した。次に、4,4′
−アゾビス(4−シアノ吉草酸0.8gを加え、10時間反応
させた。得られた共重合体の重量平均分子量(w)は
9.8×104でガラス転移点は72℃であった。
Production Example 16 of Resin [B]: Resin [B-16] 70 g of ethyl methacrylate, macromonomer (M-
2) A mixed solution of 30 g, 150 g of toluene and 50 g of isopropanol was heated to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream. Next, 4,4 '
0.8 g of -azobis (4-cyanovaleric acid was added and reacted for 10 hours. The weight average molecular weight (w) of the obtained copolymer was
The glass transition point was 72 ° C. at 9.8 × 10 4 .

樹脂〔B−16〕 樹脂〔B〕の製造例17〜24:樹脂〔B−17〕〜〔B−2
4〕 樹脂〔B〕の製造例16において、マクロモノマー(M
−2)の代わりに、下記表−2のマクロモノマーを用い
た他は、該製造例16と同様に操作して、各樹脂〔B〕を
製造した。各樹脂のwは9×104〜1.2×105であっ
た。
Resin [B-16] Production Examples 17 to 24 of Resin [B]: Resins [B-17] to [B-2]
4] In Production Example 16 of Resin [B], the macromonomer (M
Each resin [B] was produced in the same manner as in Production Example 16 except that macromonomers shown in Table 2 below were used instead of -2). The w of each resin was 9 × 10 4 to 1.2 × 10 5 .

樹脂〔B〕の製造例25〜31:樹脂〔B−25〕〜〔B−3
1〕 樹脂〔B〕の製造例16において、A.C.V.の代わりに、
下記表−3のアゾビス系化合物を用いた他は、該製造例
16と同様に操作して、重合体を各々製造した。
Production Examples 25 to 31 of Resin [B]: Resins [B-25] to [B-3]
1] In Production Example 16 of Resin [B], instead of ACV,
The production example except that the azobis compounds shown in Table 3 below were used.
By operating in the same manner as in 16, each polymer was produced.

樹脂〔B〕の製造例32:樹脂〔B−32〕 ブチルメタクリレート80g、マクロモノマー(M−
8)20g、チオグリコール酸1.0g、トルエン100g及びイ
ソプロパノール50gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃
に加温した。1,1′−アゾビス(シクロヘキサン−1−
カルボニトリル)(略称A.C.H.N.)0.5gを加え4時間撹
拌し、更にA.C.H.N.0.3gを加え4時間撹拌した。得られ
た重合体のwは8.0×104で、ガラス転移点は41℃であ
った。
Production Example 32 of Resin [B]: Resin [B-32] 80 g of butyl methacrylate, macromonomer (M-
8) A mixed solution of 20 g, 1.0 g of thioglycolic acid, 100 g of toluene and 50 g of isopropanol was heated to 80 ° C. under a nitrogen stream.
Was heated. 1,1'-azobis (cyclohexane-1-
(Carbonitrile) (abbreviation: ACHN) (0.5 g) was added and stirred for 4 hours. ACHN (0.3 g) was further added and stirred for 4 hours. The w of the obtained polymer was 8.0 × 10 4 and the glass transition point was 41 ° C.

樹脂〔B−32〕 樹脂〔B〕の製造例33〜39:樹脂〔B−33〕〜〔B−3
9〕 樹脂〔B〕の製造例32において、チオグリコール酸の
代わりに下記表−4の化合物を用いた他は該製造例32と
同様に操作して重合体を製造した。
Resin [B-32] Production Examples 33 to 39 of Resin [B]: Resins [B-33] to [B-3]
9] A polymer was produced in the same manner as in Production Example 32 of Resin [B] except that the compounds shown in Table 4 below were used instead of thioglycolic acid.

樹脂〔B〕の製造例40〜48:樹脂〔B−40〕〜〔B−4
8〕 樹脂〔B〕の製造例26と同様の重合条件で下記表−5
の共重合体を製造した。
Production Examples 40 to 48 of Resin [B]: Resins [B-40] to [B-4]
8] The following Table 5 was used under the same polymerization conditions as in Production Example 26 of Resin [B].
Was produced.

各樹脂のwは9.5×104〜1.2×105の範囲であった。The w of each resin ranged from 9.5 × 10 4 to 1.2 × 10 5 .

樹脂〔B〕の製造例49〜56: 〔B−49〕〜〔B−56〕 樹脂〔B〕の製造例16におけると同様の重合条件で、
下記表−6の各樹脂を製造した。得られた各樹脂〔B〕
のwは9.5×104〜1.1×105であった。
Production Examples 49 to 56 of Resin [B]: [B-49] to [B-56] Under the same polymerization conditions as in Production Example 16 of Resin [B],
The resins shown in Table 6 below were produced. Each resin obtained [B]
W was 9.5 × 10 4 to 1.1 × 10 5 .

実施例1及び比較例A〜C 樹脂〔A−4〕6g(固形分量として)、樹脂〔B−1
9〕34g(固形分量として)、下記構造のシアニン色素
〔I〕0.018g及びトルエン300gの混合物をボールミル中
で4時間分散して、感光層形成物を調製し、これを導電
処理した紙に、乾燥付着量が25g/m2となる様に、ワイヤ
ーバーで塗布し、110℃で30秒間乾燥し、ついで暗所で2
0℃65%RHの条件下で24時間放置することにより、電子
写真感光材料を作製した。
Example 1 and Comparative Examples AC Resin [A-4] 6 g (as solid content), Resin [B-1
9] 34 g (as solid content), a mixture of cyanine dye [I] 0.018 g having the following structure and toluene 300 g was dispersed in a ball mill for 4 hours to prepare a photosensitive layer-forming material, which was applied to a conductive-treated paper. Apply with a wire bar so that the dry adhesion amount becomes 25 g / m 2 , dry at 110 ° C for 30 seconds, and then 2 in the dark.
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by being left at 0 ° C. and 65% RH for 24 hours.

シアニン色素〔I〕 比較例A: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、下記構
造の樹脂〔R−1〕6g及びポリ(エチルメタクリレー
ト)(w2.4×105):樹脂〔R−2〕34gを用いる以外
は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製
した。
Cyanine dye [I] Comparative Example A: Instead of the binder resin used in Example 1, 6 g of resin [R-1] having the following structure and 34 g of poly (ethyl methacrylate) (w2.4 × 10 5 ): resin [R-2] were used. An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except for using it.

比較例B: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、下記構
造の樹脂〔R−3〕6g及び樹脂〔R−2〕34gを用いる
以外は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料を
作製した。
Comparative Example B: The procedure of Example 1 was repeated, except that 6 g of the resin [R-3] and 34 g of the resin [R-2] having the following structure were used instead of the binder resin used in Example 1. A photographic light-sensitive material was prepared.

比較例C: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、樹脂
〔R−3〕6g及び下記構造の樹脂〔R−4〕34gを用い
る以外は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料
を作製した。
Comparative Example C: The procedure of Example 1 was repeated, except that 6 g of resin [R-3] and 34 g of resin [R-4] having the following structure were used instead of the binder resin used in Example 1. A photographic light-sensitive material was prepared.

これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特
性、撮像性及び環境条件を30℃、80%RHとした時の撮像
性を調べた。更に、これらの感光材料をオフセットマス
ター用原版として用いた時の光導電性の不感脂化性(不
感脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わす)及び
印刷性(地汚れ、耐刷性等)を調べた。
The film properties (surface smoothness), electrostatic properties, imaging properties, and imaging properties of these photosensitive materials when the environmental conditions were 30 ° C. and 80% RH were examined. Further, when these photosensitive materials are used as an offset master, the photoconductive desensitizing property (expressed by the contact angle of the photoconductive layer with water after the desensitizing treatment) and printability (ground stain, Printing durability).

以上の結果をまとめて表−7に示す。 Table 7 summarizes the above results.

表−7に示した評価項目の実施の態様は以下の通りで
ある。
The embodiments of the evaluation items shown in Table-7 are as follows.

注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。
Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagaya Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc. It was measured.

注2)光導電層の機械的強度: 得られた感光材料面をヘイドン−14型表面性試験材
(新東化学(株)製)を用いて荷重60g/cm2のものでエ
メリー紙(#1000)で1000回繰り返し探り摩耗粉を取り
除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め機械的強
度とした。
Note 2) Mechanical strength of photoconductive layer: The surface of the obtained photosensitive material was emery paper (#) with a load of 60 g / cm 2 using a Haydon-14 type surface test material (manufactured by Shinto Chemical Co., Ltd.). The abrasion powder was removed 1000 times repeatedly to remove the abrasion powder, and the remaining film rate (%) was determined from the weight loss of the photosensitive layer, and the resulting value was defined as the mechanical strength.

注3)静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペーパー
アライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライザーSP
−428型)を用いて−6kVで20秒間コロナ放電させた後、
10秒間放置し、この時の表面電位V10を測定した。次い
でそのまま暗中で180秒間静置させた後の電位V180を測
定し、180秒間暗減衰させた後の電位の保持静、即ち、
暗減衰保持率〔DRR(%)〕を(V180/V10)×100(%)
で求めた。
Note 3) Electrostatic properties: Paper sensitizers (Kawaguchi Electric Co., Ltd. Paper Analyzer SP) are applied to each photosensitive material in a dark room at a temperature of 20 ° C and 65% RH
-428 type) and after corona discharge for 20 seconds at -6kV,
It was left for 10 seconds, and the surface potential V 10 at this time was measured. Then measure the potential V 180 after leaving still for 180 seconds in the dark as it is, holding the potential after dark decay for 180 seconds, that is,
Dark decay retention rate [DRR (%)] (V 180 / V 10 ) × 100 (%)
I asked for it.

又コロナ放電により光導電層表面を−500Vに帯電させ
た後、波長785nmの単色光で照射し、表面電位(V10)が
1/10に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E
1/10(erg/cm2)を算出する。更にE1/10測定と同様に
コロナ放電により−500Vに帯電させた後、波長785nmの
単色光で照射し、表面電位(V10)が1/100に減衰するま
での時間を求め、これから露光量E1/100(erg/cm2)を
算出する。
After charging the surface of the photoconductive layer to −500 V by corona discharge, the surface is irradiated with monochromatic light having a wavelength of 785 nm, and the surface potential (V 10 ) is reduced.
The time required to decay to 1/10 is determined, and the exposure E
Calculate 1/10 (erg / cm 2 ). Furthermore, after charging to -500 V by corona discharge in the same manner as in E 1/10 measurement, irradiation with monochromatic light having a wavelength of 785 nm was performed, and the time until the surface potential (V 10 ) attenuated to 1/100 was determined. The quantity E 1/100 (erg / cm 2 ) is calculated.

注4)撮像性: 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。次に
−5kVで帯電し、光源として2.8mW出力のガリウム−アル
ミニウム−ヒ素、半導体レーザー(発振波長785nm)を
用いて、感光材料表面上で50erg/cm2の照射量下、ピッ
チ25μm及びスキャニング速度330m/secのスピード露光
後液体現像剤として、ELP−T(富士写真フイルム
(株)製)を用いて現像し、定着することで得られた複
写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。
Note 4) Image-capturability: Each photosensitive material was allowed to stand for one day under the following environmental conditions. Next, gallium-aluminum-arsenic of 2.8 mW output and semiconductor laser (oscillation wavelength 785 nm) charged at -5 kV were used, and a pitch of 25 μm and scanning speed were applied on the surface of the photosensitive material at an irradiation dose of 50 erg / cm 2. After speed exposure at 330 m / sec, ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as a liquid developer, and the copied image (fogging, image quality) obtained by fixing was visually evaluated. .

撮像時の環境条件は20℃65%RHと30℃80%RHで実施し
た。
Environmental conditions at the time of imaging were 20 ° C 65% RH and 30 ° C 80% RH.

注5)水との接触角: 各感光材料を不感脂化処理液EPL−EX(富士写真フイ
ルム(株)製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用い
て、エッチングプロセッサーに1回通して光導電層面を
不感脂化処理した後、これに蒸留水2III−の水滴を乗
せ、形成された水との接触角をゴニオメーターで測定す
る。
Note 5) Contact angle with water: Each light-sensitive material was passed through an etching processor once using a desensitizing solution EPL-EX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) diluted twice with distilled water. After desensitizing the surface of the photoconductive layer with water, a drop of distilled water 2III- is placed on the surface, and the contact angle with the formed water is measured with a goniometer.

注6)耐刷性: 各感光材料を、上記注4)と同条件で、製版して、ト
ナー画像を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理
し、これをオフセットマスターとして、オフセット印刷
機(桜井製作所(株)オリバー52型)にかけ、印刷物の
非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで
印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐刷性が良
好なことを表わす〕。
Note 6) Printing durability: Each light-sensitive material is subjected to plate making under the same conditions as in Note 4) above to form a toner image, and subjected to desensitization treatment under the same conditions as in Note 5) above, and this is used as an offset master. The number of sheets that can be printed on an offset printing machine (Oliver 52 type, Sakurai Mfg. Co., Ltd.) without causing stains on the non-image area of the printed matter and on the image quality of the image area. Is good].

表−7に示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の
平滑性膜の強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像
も地カブリがなく複写画質も鮮明であった。このことは
光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を
被覆していることによるものと推定される。同様の理由
で、オフセットマスター原版として用いた場合でも不感
脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像
部の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親水化さ
れていることが判る。実際に診察して印刷物の地汚れを
観察しても地汚れは全く認められなかった。
As shown in Table 7, the photosensitive material of the present invention had good strength and electrostatic properties of the smooth film of the photoconductive layer, and the actual copied image was free of background fog and the copied image quality was clear. This is presumed to be due to the photoconductor and the binder resin being sufficiently adsorbed and covering the particle surface. For the same reason, even when used as an offset master master, the desensitizing treatment with the desensitizing solution proceeds sufficiently, the contact angle with water of the non-image area is as small as 10 degrees or less, and the hydrophilicity is sufficiently increased. You can see that Even when the printed matter was actually examined and the background stain was observed, no background stain was observed.

又、比較例A〜Cは、本発明の感光材料に比べると、
静電特性が低下してしまった。比較例Cは、膜強度が向
上し、静電特性においても、V10、D.R.R.、E1/10は、
ほぼ満足する値が得られた。しかし、E1/100値を見る
と、本発明の感光材料に比べ倍以上の大きな値となって
しまった。E1/100値は、実際の撮像性において、露光
後、非画像部(既に露光された部位)にどれだけの電位
が残っているかを示すものであり、この値が小さい程現
像後の非画像部の値汚れが生じなくなる事を示す。
Comparative Examples A to C are compared with the photosensitive material of the present invention.
The electrostatic characteristics have deteriorated. In Comparative Example C, the film strength was improved, and the electrostatic properties were also V 10 , DRR, and E 1/10 .
Almost satisfactory values were obtained. However, looking at the E 1/100 value, it was more than twice as large as that of the light-sensitive material of the present invention. The E 1/100 value indicates how much potential remains in the non-image portion (exposed portion) after exposure in the actual image pickup property. This indicates that the value stains on the image area will not occur.

具体的には−10V以下の残留電位にすることが必要と
なり、即ち実際にはVR−10V以下とするために、どれだ
け露光量が必要となるかということで、半導体レーザー
光によるスキャンニング露光方式では、小さい露光量で
VRを−10V以下にすることは、複写機の光学系の設計上
(装置のコスト、光学系光路の精度等)の非常に重要な
ことである。
Specifically, it is necessary to set the residual potential to -10 V or less, that is, scanning with a semiconductor laser beam depends on how much exposure is required in order to actually make V R -10 V or less. With the exposure method, a small exposure
To the V R below -10V, the (cost of the device, the accuracy of an optical system an optical path) optical system design of the copying machine is very important for.

以上の事より、露光照射量を少し少なくした装置で実
際に撮像すると、比較例Aは、D.R.R.が著しく低いた
め、満足な複写像はえられなかった。比較例Bは、高温
・高湿の条件下でその画像の悪化が著しく、画像部の濃
度低下、細線・文字のカスレが発生し、又、非画像部に
地カブリが発生してしまった。比較例Cは、常温・常湿
条件下では、ほぼ満足する画像であったが、高温・高湿
条件下では、地カブリの発生、画像部の細線のカスレ等
が発生してしまった。又、オフセットマスター原版とし
て用いた場合でも、本発明の感光材料が1万枚以上印刷
できる印刷条件で、比較例A〜Cのいずれも、刷り出し
の印刷物から、非画像部の地汚れが発生してしまった。
これは、鮮明な複写画像が得られず、地カブリが不感脂
化処理でも除去できずに生じたものであった。
From the above, when an image was actually taken with an apparatus with a slightly reduced exposure dose, Comparative Example A had a remarkably low DRR, and a satisfactory copy image was not obtained. In Comparative Example B, the image deteriorated remarkably under the conditions of high temperature and high humidity, and the density of the image portion was reduced, thin lines and characters were blurred, and the ground fog was generated in the non-image portion. In Comparative Example C, the image was almost satisfactory under the condition of normal temperature and normal humidity, but under the condition of high temperature and high humidity, the occurrence of ground fogging and the thinning of the thin line in the image portion occurred. Further, even when used as an offset master, under the printing conditions that the photosensitive material of the present invention can print 10,000 sheets or more, in each of Comparative Examples A to C, non-image area stains are generated from printed printouts. have done.
This was because a clear copied image was not obtained, and ground fog could not be removed by the desensitizing treatment.

以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静
電特性及び印刷適性を満足する電子写真感光体が得られ
る。
As described above, an electrophotographic photosensitive member that satisfies electrostatic characteristics and printability only when the resin of the present invention is used is obtained.

実施例2〜17 実施例1において、樹脂〔A−4〕及び樹脂〔B−1
9〕に代えて、下記表−11の各樹脂〔A〕及び各樹脂
〔B〕に代えた他は、実施例1と同様に操作して、各電
子写真感光体を作製した。
Examples 2 to 17 In Example 1, the resin [A-4] and the resin [B-1
9] was replaced with each resin [A] and each resin [B] shown in Table 11 below, and each electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1.

実施例1と同様にして静電特性を測定した。結果を表
−8に示す。
The electrostatic characteristics were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table-8.

又、オフセットマスター原版として用いて、実施例1
と同様にして印刷した所、いずれも1万枚以上印刷する
ことができた。
Example 1 was used as an offset master master.
When printing was performed in the same manner as described above, all of them could print 10,000 sheets or more.

以上から、本発明の各感光材料は光導電層の平滑性、
膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好な
ものであった。
From the above, each photosensitive material of the present invention, the smoothness of the photoconductive layer,
The film strength, electrostatic properties, and printability were all favorable.

さらに、樹脂〔A′〕を用いることにより静電特性が
さらに向上することが判った。
Furthermore, it was found that the use of the resin [A '] further improved electrostatic characteristics.

実施例18〜33 実施例1において結着樹脂として下記表−12の樹脂
〔A〕7.6g及び樹脂〔B〕34gに代え、又、シアニン色
素〔I〕0.02gの代わりに下記構造の色素〔II〕0.019g
に代えた他は、実施例1と同様の条件で電子写真感光材
料を作製した。
Examples 18 to 33 In Example 1, the binder resin was replaced by 7.6 g of resin [A] and 34 g of resin [B] shown in Table 12 below, and instead of 0.02 g of cyanine dye [I], a dye having the following structure [ II) 0.019g
An electrophotographic photosensitive material was produced under the same conditions as in Example 1 except that the above was changed to.

色素〔II〕 本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持
率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30
℃、80%RH)の過酷な条件においても、地カブリの発生
のない、鮮明な画像を与えた。
Dye (II) The photosensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity.
(80 ° C., 80% RH), a clear image without fog was obtained.

更に、これをオフセットマスターの原版として用いて
印刷した所、地カブリのない鮮明な画質の印刷物を1万
枚以上印刷できた。
Furthermore, when this was used as an offset master master, 10,000 or more printed materials with clear image quality without background fog could be printed.

実施例34及び35並びに比較例D 樹脂〔A−1〕(実施例34)又は樹脂〔A−10〕(実
施例35)のいずれか6.5g、樹脂〔B−16〕33.5g、酸化
亜鉛200g、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.04g、ブロ
ムフェノールブルー0.03g、無水フタル酸0.20g及びトル
エン300gの混合物をボールミル中で4時間分散して感光
層形成物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着
量が20g/m2となる様にワイヤーバーで塗布し、110℃で
1分間乾燥した。次いで暗所で20℃、65%RHの条件下で
24時間放置することにより各電子写真感光体を作製し
た。
Examples 34 and 35 and Comparative Example D Resin [A-1] (Example 34) or Resin [A-10] (Example 35) 6.5 g, Resin [B-16] 33.5 g, Zinc oxide 200 g , Uranine 0.02 g, rose bengal 0.04 g, bromphenol blue 0.03 g, phthalic anhydride 0.20 g and toluene 300 g were dispersed in a ball mill for 4 hours to prepare a photosensitive layer-forming material, which was then applied to electroconductive paper. Then, it was applied with a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g / m 2, and dried at 110 ° C. for 1 minute. Then, in the dark, at 20 ° C and 65% RH
Each electrophotographic photoreceptor was prepared by being left for 24 hours.

比較例D 実施例34において、樹脂〔A−2〕6.5g、樹脂〔B−
16〕33.5gの代わりに、樹脂〔R−3〕6.5g及び樹脂
〔R−4〕33.5gを用いた他は、実施例34と同様にし
て、感光材料を作製した。
Comparative Example D In Example 34, 6.5 g of resin [A-2] and 6.5 g of resin [B-
16] A photosensitive material was produced in the same manner as in Example 34 except that 6.5 g of resin [R-3] and 33.5 g of resin [R-4] were used instead of 33.5 g.

実施例1と同様に、各感光材料の各特性を調べた。そ
の結果を下記表−10にまとめた。
As in Example 1, each characteristic of each photosensitive material was examined. The results are summarized in Table 10 below.

上記の測定において、静電特性及び撮像性については
下記の操作に従った他は、実施例1と同様の操作で行な
った。
In the above measurement, the same operation as in Example 1 was performed, except that the following operation was performed for the electrostatic characteristics and the image capturing property.

注7)静電特性のE1/10及びE1/100の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電させた
後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で照射
し、表面電位(V10)が1/10又はE1/100に減衰するまで
の時間を求め、これから露光量E1/10又はE1/100(ル
ックス・秒)を算出する。
Note 7) Method for measuring E 1/10 and E 1/100 of electrostatic characteristics After charging the surface of the photoconductive layer to −400 V by corona discharge, irradiating the surface of the photoconductive layer with visible light having an illuminance of 2.0 lux. The time required for the surface potential (V 10 ) to decay to 1/10 or E 1/100 is determined, and the exposure amount E 1/10 or E 1/100 (lux seconds) is calculated from this.

注8)撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全
自動製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)製)でE
PL−Tをトナーとして用いて製版して得られた複写画像
(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像時の環境
条件は、20℃65%RH(I)と30℃80%RH(II)で実施し
た。但し、複写用の原稿(即ち、版下原稿)には、ほか
の原稿を切り抜いて、貼り込みを行なって作成したもの
を用いた。
Note 8) Imaging characteristics After each photosensitive material is left for one day and night under the following environmental conditions, E is used with a fully automatic plate making machine EPL-404V (Fuji Photo Film Co., Ltd.).
A copy image (fog, image quality) obtained by making a plate using PL-T as a toner was visually evaluated. Environmental conditions at the time of imaging were 20 ° C. and 65% RH (I) and 30 ° C. and 80% RH (II). However, a copy original (that is, a copy original) was prepared by cutting and pasting another original.

各感光材料において、光導電層の平滑性及び強度にお
いて、その差は認められなかった。しかし、静電特性に
おいて、比較例Dは、特に光感度E1/100の値が大きく
なった。本発明の感光材料の静電特性は良好であり、更
に、特定の置換基を有する樹脂〔A〕を用いた実施例35
は、非常に良好であり、特にE1/100の値が小さくなっ
た。
In each photosensitive material, no difference was observed in the smoothness and strength of the photoconductive layer. However, in Comparative Example D, the value of the light sensitivity E 1/100 was particularly large in the electrostatic characteristics. The photosensitive material of the present invention has good electrostatic characteristics, and furthermore, the photosensitive material of Example 35 using the resin [A] having a specific substituent was used.
Was very good, and the value of E 1/100 was particularly small.

実際の撮像性を調べて見ると、比較例Dは、複写画像
として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠(即
ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認められ
た。しかし、本発明のものは、いずれも、地汚れのな
い、鮮明な画像のものが得られた。
Investigation of the actual imaging performance revealed that in Comparative Example D, in addition to the original as a copy image, the frame of the cut and pasted portion (that is, the pasted trace) was recognized as background stain in the non-image portion. However, in each case of the present invention, clear images without background stains were obtained.

更に、これらをオフセット印刷用原版として不感脂化
処理して印刷した所、本発明のものはいずれも地汚れの
ない鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。しかし、比
較例Dは、上記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去
されず、刷り出しの印刷物から発生してしまった。
Further, when these were subjected to desensitization processing as an offset printing original plate and then printed, 10,000 sheets of clear images having no background stain were obtained in any of the present invention. However, in Comparative Example D, the sticking marks were not removed even by the desensitizing treatment, and were generated from the printed material.

以上のことより、本発明の感光材料のみが、良好な特
性を与えることができた。
As described above, only the photosensitive material of the present invention was able to give good characteristics.

実施例36〜49 実施例34において、樹脂〔A−2〕6.5g及び樹脂〔B
−16〕33.5gの代わりに、下記表−11の樹脂〔A〕6.5g
及び樹脂〔B〕33.5gを用いた他は、実施例34と同様に
して各感光材料を作製した。
Examples 36 to 49 In Example 34, 6.5 g of resin [A-2] and resin [B
-16] Instead of 33.5g, resin [A] 6.5g in Table-11 below
Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 34 except that 33.5 g of the resin [B] was used.

本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(30℃、80%
RH)の過酷な条件においても地カブリの発生や細線飛び
の発生等のない鮮明な画像を与えた。
All photosensitive materials of the present invention are chargeable, dark charge retention,
Excellent light sensitivity, real copy image is high temperature and humidity (30 ℃, 80%
Even under severe conditions (RH), a clear image was obtained without occurrence of ground fogging or fine line skipping.

更にオフセットマスター原版として印刷した所、1万
枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が
得られた。
Further, when printing was performed as an offset master plate, a printed matter of clear image quality free of background stain was obtained even after printing 10,000 sheets.

実施例50及び51 樹脂〔A−14〕(実施例50)又は樹脂〔A−15〕(実
施例51)のいずれか6.5g、樹脂〔B−2〕33.5g、酸化
亜鉛200g、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.04g、ブロ
ムフェノールブルー0.03g、無水フタル酸0.200及びトル
エン300gの混合物をボールミル中で3時間分散した。次
にこの分散物にグルタル酸0.6g(実施例50)又は1,6−
ヘキサンジオール0.5g(実施例51)を加え、更にボール
ミルで10分間分散した。
Examples 50 and 51 6.5 g of either resin [A-14] (Example 50) or resin [A-15] (Example 51), resin [B-2] 33.5 g, zinc oxide 200 g, uranine 0.02 g. A mixture of 0.04 g of rose bengal, 0.03 g of bromphenol blue, 0.200 of phthalic anhydride and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 3 hours. Next, 0.6 g of glutaric acid (Example 50) or 1,6-
Hexanediol 0.5 g (Example 51) was added, and further dispersed by a ball mill for 10 minutes.

これを導電処理した紙に、乾燥付着量が20g/m2となる
様にワイヤーバーで塗布し、110℃で1分間乾燥し、更
に120℃で1.5時間加熱した。次いで暗所で20℃、65%RH
の条件下で24時間放置することにより各電子写真感光体
を作製した。
This was applied to a conductive treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g / m 2 , dried at 110 ° C. for 1 minute, and further heated at 120 ° C. for 1.5 hours. Next, in a dark place, 20 ° C, 65% RH
Each electrophotographic photoreceptor was prepared by allowing to stand for 24 hours under the above conditions.

これらの感光材料を実施例34と同様にして、静電特性
及び撮像性を調べたところ、良好な性能を示した。
When these photosensitive materials were examined for electrostatic properties and imaging properties in the same manner as in Example 34, they showed good performance.

更に、オフセット印刷用原版として印刷した所、1万
枚以上の印刷が可能となった。
Further, when printed as an original plate for offset printing, it is possible to print more than 10,000 sheets.

(発明の効果) 本発明によれば、過酷な条件下においても優れた静電
特性と機械的強度を有する電子写真感光体を得ることが
できる。また、本発明の感光体は、半導体レーザー光を
用いたスキャンニング露光方式に有効である。
(Effects of the Invention) According to the present invention, it is possible to obtain an electrophotographic photosensitive member having excellent electrostatic characteristics and mechanical strength even under severe conditions. Further, the photoreceptor of the present invention is effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】無機光導電材料及び結着樹脂を少なくとも
含有する光導電層を有する電子写真感光体において、該
結着樹脂が、下記に示される樹脂〔A〕の少なくとも1
種と樹脂〔B〕の少なくとも1種とを含有して成る事を
特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔A〕; 1×103〜2×104の重量平均分子量を有し、−PO3H
2基、−COOH基、−SO3H基、フェノール性OH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基)を
示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少なくと
も1つの酸性基を含有する少なくとも1つの重合体成分
から成るAブロックと下記一般式(I)で示される重合
体成分を少なくとも含有するBブロックとから構成され
るABブロック共重合体を含有して成る樹脂。 一般式(I) (式(I)中、R1は炭化水素基を表わす。) 樹脂〔B〕; 下記一般式(IV a)及び(IV b)で示される重合体成分
のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一方の
末端にのみ下記一般式(III)で示される重合性二重結
合基を結合して成る重量平均分子量2×104以下の一官
能性マクロモノマーと下記一般式(V)で示されるモノ
マーとから少なくとも成る共重合体である樹脂。 一般式(III) 〔式(III)中、V0は−COO−、−OCO−、−CH2OCO−、
−CH2COO−、−O−、−SO2−、−CO−、−CONHCOO−、
−CONHCONH−、−CONHSO2−、 を表わす(P3は、水素原子又は炭化水素基を表わす)。 c1、c2は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−Z′又
は炭化水素を介した−COO−Z′(Z′は水素原子又は
置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わす。〕 〔式(IV a)又は(IV b)中、V1は、式(III)中のV0
と同一の内容を表わす。 Q1は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳香
族基を表わす。 d1、d2は、互いに同じでも異なってもよく、式(III)
中のc1、c2と同一の内容を表わす。 Q0は−CN、−CONH2又は を表わす。 ここでTは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アル
コキシ基又は−COOZ″(Z″はアルキル基、アラルキル
基又はアリール基を示す)を表わす。〕 一般式(V) 〔式(V)中、V2は、式(IV a)中のV1と同一の内容を
表わす。 Q2は、式(IV a)中のQ1と同一の内容を表わす。 e1、e2は互いに同じでも異なってもよく、式(III)中
のc1、c2と同一の内容を表わす。〕
An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following resins [A]:
An electrophotographic photosensitive member comprising a seed and at least one kind of resin [B]. Resin (A); 1 × 10 3 has a weight average molecular weight of ~2 × 10 4, -PO 3 H
2 group, -COOH group, -SO 3 H groups, phenolic OH groups, R represents a hydrocarbon group or an -OR 'group (R' is a hydrocarbon group) and A comprises at least one polymer component containing at least one acidic group selected from cyclic acid anhydride-containing groups. A resin containing an AB block copolymer composed of a block and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (I). General formula (I) (In the formula (I), R 1 represents a hydrocarbon group.) Resin [B]; a polymer containing at least one of the polymer components represented by the following general formulas (IV a) and (IV b). A monofunctional macromonomer having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less formed by bonding a polymerizable double bond group represented by the following general formula (III) to only one end of the united main chain and the following general formula (V) A resin which is a copolymer comprising at least a monomer represented by: General formula (III) Wherein (III), V 0 is -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO-,
-CH 2 COO -, - O - , - SO 2 -, - CO -, - CONHCOO-,
−CONHCONH−, −CONHSO 2 −, (P 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group). c 1 and c 2 may be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom,
It represents a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-Z 'or a hydrocarbon-mediated -COO-Z' (Z 'represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group). ] [In the formula (IV a) or (IV b), V 1 is V 0 in the formula (III).
Represents the same content as. Q 1 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms. d 1 and d 2 may be the same or different from each other, and have the formula (III)
Represents the same content as c 1 and c 2 in . Q 0 is -CN, -CONH 2 or Represents Here, T represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group or -COOZ "(Z" represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group). General formula (V) [In the formula (V), V 2 represents the same content as V 1 in the formula (IV a). Q 2 has the same meaning as Q 1 in formula (IV a). e 1 and e 2 may be the same or different and represent the same contents as c 1 and c 2 in formula (III). ]
【請求項2】該ABブロック共重合体におけるBブロック
が下記一般式(I a)及び一般式(I b)から選択される
少なくとも1つの繰り返し単位を30重量%以上含有する
事を特徴とする請求項(1)記載の電子写真感光体。 〔式(I a)又は(I b)中、X1及びX2は互いに独立に、
それぞれ水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原
子、臭素原子、−COZ2又は−COOZ2(Z2は各々炭素数1
〜10の炭化水素基を示す)を表わす。但し、X1とX2がと
もに水素原子を表わすことはない。 L1及びL2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合する、
単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす。〕
2. The AB block copolymer, wherein the B block contains at least 30% by weight of at least one repeating unit selected from the following formulas (Ia) and (Ib). The electrophotographic photosensitive member according to claim 1. [In the formula (I a) or (I b), X 1 and X 2 are independent of each other,
Each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, -COZ 2 or -COOZ 2 (Z 2 are each carbon atoms 1
~ 10 hydrocarbon groups). However, X 1 and X 2 are never both represent a hydrogen atom. L 1 and L 2 each connect -COO- and a benzene ring,
It represents a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms. ]
【請求項3】樹脂〔B〕における該共重合体が、更に−
PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、−OH基、−SH基及び {R0は炭化水素基又は−OR0′基(R0′は炭化水素基を
表わす)を表わす}から選ばれる少なくとも1つの酸性
基を該共重合体主鎖の片末端に結合して成ることを特徴
とする請求項(1)又は(2)記載の電子写真感光体。
3. The copolymer in the resin [B] further comprises:
PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -OH group, and -SH group At least one acidic group selected from {R 0 represents a hydrocarbon group or a --OR 0 ′ group (R 0 ′ represents a hydrocarbon group)} is bonded to one end of the main chain of the copolymer. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the electrophotographic photosensitive member is provided.
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