JP2655361B2 - Electrophotographic photoreceptor - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor

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JP2655361B2
JP2655361B2 JP13258690A JP13258690A JP2655361B2 JP 2655361 B2 JP2655361 B2 JP 2655361B2 JP 13258690 A JP13258690 A JP 13258690A JP 13258690 A JP13258690 A JP 13258690A JP 2655361 B2 JP2655361 B2 JP 2655361B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及
び耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。特にCPC感
光体として性能の優れたものに関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, and more particularly, to an electrophotographic photoreceptor excellent in electrostatic characteristics and moisture resistance. In particular, it relates to a CPC photosensitive member having excellent performance.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは
適用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構
成をとる。
The electrophotographic photosensitive member has various configurations in order to obtain predetermined characteristics or according to the type of an applied electrophotographic process.

電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光
導電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備え
た感光体があり、広く用いられている。
Representative electrophotographic photoreceptors include a photoreceptor having a photoconductive layer formed on a support and a photoreceptor having an insulating layer on the surface, and are widely used.

支持体と少なくとも1つの光導電層から構成される感
光体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯
電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画
像形成に用いられる。
Photoreceptors composed of a support and at least one photoconductive layer are used for image formation by the most common electrophotographic processes, i.e. charging, image exposure and development, and, if necessary, transfer.

更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電
子写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に
近年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数千枚程度
の印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要
となってきている。
Further, a method using an electrophotographic photosensitive member as an offset master for direct plate making has been widely used. In particular, in recent years, direct electrophotographic lithographic printing has become important as a method for printing high-quality printed matter with a print number of several hundreds to several thousands.

電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する
結着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結
着樹脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録
体層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体
層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減
衰が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度
の変化によってこれら特性を安定に保持していることが
必要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具
備する必要がある。
The binder resin used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film forming properties of itself and the ability to disperse the photoconductive powder in the binder resin, and the formed recording material layer Has good adhesion to the substrate, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, low dark decay, large light decay, low pre-exposure fatigue, and changes in humidity during photography. It is necessary to have various electrostatic characteristics, such as a need to stably maintain these characteristics, and excellent imaging properties.

更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究
が鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特
性と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用
の結着樹脂が必要である。
Furthermore, research on a lithographic printing original plate using an electrophotographic photoreceptor has been earnestly conducted, and a binder resin for a photoconductive layer having both electrostatic characteristics as an electrophotographic photoreceptor and printing characteristics as a printing original plate. is required.

しかしながら従来公知の結着樹脂には、特に帯電性、
暗電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑
性等に多くの問題があった。
However, conventionally known binder resins include, in particular, chargeability,
There are many problems in dark charge retention, electrostatic characteristics such as photosensitivity, and smoothness of the photoconductive layer.

これらの問題を解決するために、結着樹脂として酸性
基を重合体の側鎖に含有する共重合体成分を0.05〜10重
量%含有する低分子量の樹脂又は酸性基を重合体主鎖の
末端に結合する低分子量の樹脂(w103〜104)を用い
ることにより、光導電層の平滑性及び静電特性を良好に
し、しかも地汚れのない画質を得ることがそれぞれ特開
昭63−217354号及び特開昭64−70761号および特開平2
−67563号に記載されている。
In order to solve these problems, a low molecular weight resin containing 0.05 to 10% by weight of a copolymer component containing an acidic group as a binder resin in the side chain of the polymer or an acidic group is added to the terminal of the polymer main chain. The use of a low molecular weight resin (w10 3 to 10 4 ) that binds to the photoconductive layer improves the smoothness and electrostatic characteristics of the photoconductive layer and obtains an image quality free from background contamination. And JP-A-64-70761 and JP-A-Hei 2
-67563.

また、結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含
有し、又は重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又
は光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を
用いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−39690号
に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は重合体主鎖
の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技術が特開平
1−102573号、同2−874号にそれぞれ開示され、更に
該樹脂の低分子量体(重量平均分子量103〜104)を高分
子量(重量平均分子量104以上)の樹脂と組合せて用い
る技術が特開昭64−564号、同63−220149号、同63−220
148号、特開平1−280761号、同1−116643号及び同1
−169455号に、かかる低分子量体を熱及び/又は光硬化
性樹脂と組合せて用いる技術が特開平1−211766号及び
同2−34859号、かかる低分子量体をクシ型ポリマーと
組合せて用いる技術が特開平2−53064号、同2−56558
号及び特願昭63−254786号にそれぞれ開示されている。
これらの技術により、側鎖又は末端に酸性基を含有する
樹脂を用いたことによる上記特性を阻害せずにさらに光
導電層の膜強度を充分ならしめ、機械的強度が増大され
ることが記載されている。
Further, as a binder resin, a resin containing a polymer component containing an acidic group in a side chain of a copolymer or bonding to a terminal of a polymer main chain and containing a heat and / or photo-curable functional group JP-A-1-100554, Japanese Patent Application No. 63-39690 discloses that a resin containing an acidic group in a side chain of a copolymer or a resin binding to an end of a polymer main chain is used in combination with a crosslinking agent. The techniques are disclosed in JP-A-1-102573 and JP-A-2-874, respectively. Further, a low molecular weight compound (weight average molecular weight of 10 3 to 10 4 ) is combined with a high molecular weight (weight average molecular weight of 10 4 or more) resin. Techniques used in combination are disclosed in JP-A-64-564, JP-A-63-220149 and JP-A-63-220.
No. 148, JP-A-1-280761, JP-A-1-116664 and JP-A-1
JP-A-169455 discloses a technique using such a low molecular weight compound in combination with a heat and / or photocurable resin, and JP-A 1-211766 and 2-34859, a technique using such a low molecular weight substance in combination with a comb-type polymer. Are disclosed in JP-A-2-53064 and JP-A-2-56558.
And Japanese Patent Application No. 63-254786, respectively.
According to these techniques, the film strength of the photoconductive layer is further sufficiently leveled and the mechanical strength is increased without impairing the above properties due to the use of a resin containing an acidic group at a side chain or at a terminal. Have been.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温
・高湿から低温・低湿まで著しく変動した場合における
安定した性能の維持においてはいまだ不充分であること
が判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング
露光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に
比べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約があ
ることから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に
対して、より高い性能が要求される。
(Problems to be Solved by the Invention) However, even if these resins are used, it is still insufficient to maintain stable performance when the environment fluctuates remarkably from high temperature and high humidity to low temperature and low humidity. Was. In particular, in the scanning exposure method using a semiconductor laser beam, the exposure time is longer and the exposure intensity is limited as compared with the conventional simultaneous exposure method using visible light. Higher performance is required for light sensitivity.

更には、電子写真式平版印刷用原版において、半導体
レーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場
合、従来の感光体で実際に試験してみると、上記の静電
特性が不満足であるとともに、特にE1/2とE1/10との
差が大きく複写画像の階調が軟調となり、更には露光後
の残留電位を小さくするのが困難となり、複写画像のカ
ブリが顕著となってしまい、又、オフセットマスターと
して印刷しても、印刷物に印刷原稿の貼り込み跡が出て
しまう等の重大な問題となって現れた。
Furthermore, in the electrophotographic lithographic printing plate precursor, when the scanning exposure method using the semiconductor laser light is adopted, when the conventional photoconductor is actually tested, the above electrostatic characteristics are unsatisfactory, In particular, the difference between E 1/2 and E 1/10 is large, the tone of the copied image becomes soft, and it becomes difficult to further reduce the residual potential after exposure, and the fog of the copied image becomes remarkable, In addition, even when printing is performed as an offset master, a serious problem such as sticking traces of a printed original appears on a printed material has appeared.

本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する
課題を改良するものである。
The present invention is to improve the problems of the conventional electrophotographic photoreceptor as described above.

本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あ
るいは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好
な静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写
真感光体を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having stable and good electrostatic characteristics and having a clear and high-quality image even when the environment at the time of forming a copy image fluctuates such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. To provide.

本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性
の小さいCPC電子写真感光体を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics and low environmental dependency.

本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキ
ャニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供するこ
とである。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

本発明の更なる目的は、電子写真式平版印刷原版とし
て、静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、
原画に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の
全面一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させ
ず、また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することで
ある。
A further object of the present invention is to provide an electrophotographic lithographic printing plate precursor having excellent electrostatic properties (particularly dark charge retention and light sensitivity),
By providing a lithographic printing original plate that reproduces a copy image that is faithful to the original image and that does not generate spotted background stains as well as uniform background stains on the printed material and that has excellent printing durability is there.

(課題を解決するための手段) 上記目的は無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含
有する光導電層を有する電子写真感光体において該結着
樹脂が、下記に示される樹脂〔A〕の少なくとも1種と
樹脂〔B〕の少なくとも1種とを含有して成る事を特徴
とする電子写真感光体により達成されることが見出され
た。
(Means for Solving the Problems) The object is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following resins [A]: It has been found that this can be achieved by an electrophotographic photoreceptor characterized by comprising one kind and at least one kind of resin [B].

樹脂〔A〕; 1×103〜2×104の平均分子量を有し、−PO3H2基、
−COOH基、−SO3H基、フェノール性OH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基)を
示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少なくと
も1つの酸性基を含有する少なくとも1つの重合体成分
から成るAブロックと下記一般式(I)で示される重合
体成分を少なくとも含有するBブロックとから構成され
るABブロック共重合体を含有して成る樹脂。
Resin (A); an average molecular weight of 1 × 10 3 ~2 × 10 4 , -PO 3 H 2 group,
-COOH group, -SO 3 H group, a phenolic OH group, R represents a hydrocarbon group or an -OR 'group (R' is a hydrocarbon group) and A comprises at least one polymer component containing at least one acidic group selected from cyclic acid anhydride-containing groups. A resin containing an AB block copolymer composed of a block and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (I).

一般式(I) (式(I)中、R1は炭化水素基を表わす。) 結着樹脂〔B〕: 下記一般式(IV a)及び(IV b)で示される重合体成
分のうちの少なくとも1種と−COOH基、−PO3H2基、−S
O3H基、−OH基、 (R0は前記Rと同一の内容を表わす)基、−CHO基及び
酸無水物含有基から選ばれる少なくとも1つの極性基を
含有する成分を少なくとも1種含有する重合体成分の少
なくとも1種とを含有する重合体主鎖の一方の末端にの
み下記一般式(III)で示される重合性二重結合基を結
合して成る重量平均分子量2×104以下の一官能性マク
ロモノマー(MB)と下記一般式(V)で示されるモノマ
ーとから少なくとも成る重量平均分子量5×104〜1×1
06の共重合体。
General formula (I) (In the formula (I), R 1 represents a hydrocarbon group.) Binder resin [B]: at least one of the polymer components represented by the following general formulas (IVa) and (IVb) and- COOH group, -PO 3 H 2 group, -S
O 3 H group, -OH group, (R 0 represents the same content as R above), at least one polymer component containing at least one component containing at least one polar group selected from the group consisting of a —CHO group and an acid anhydride-containing group. A monofunctional macromonomer (MB) having a weight-average molecular weight of 2 × 10 4 or less which is obtained by bonding a polymerizable double bond group represented by the following general formula (III) to only one end of a polymer main chain containing And a monomer represented by the following general formula (V): a weight average molecular weight of at least 5 × 10 4 to 1 × 1
Copolymers of 0 6.

一般式(III) 式(III)中、X0は−COO−、−OCO−、−CH2OCO−、
−CH2COO−、−O−、−SO2−、−CO−、−CONHCOO−、
−CONHCONH−、 又は を表わす(ここでR31は水素原子又は炭化水素基を表わ
す)。
General formula (III) In the formula (III), X 0 represents —COO—, —OCO—, —CH 2 OCO—,
-CH 2 COO -, - O - , - SO 2 -, - CO -, - CONHCOO-,
−CONHCONH−, Or Wherein R 31 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.

c1、c2は、互いに同じでも異なってもよく、各々水素
原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−Z
4又は炭化水素を介した−COO−Z4(Z4は各々水素原子又
は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わす。
c 1 and c 2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-Z
4 or —COO—Z 4 via a hydrocarbon (Z 4 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted).

一般式(IV a) 一般式(IV b) 式(IV a)又は(IV b)中、X1は式(III)中のX0
同一の内容を表わす。Q1は、炭素数1〜18の脂肪族基又
は炭素数6〜12の芳香族基を表わす。d1、d2は、互いに
同じでも、異なってもよく、式(III)中のc1、c2と同
一の内容を表わす。
General formula (IVa) General formula (IV b) Wherein (IV a) or (IV b), X 1 represents the same content as X 0 in formula (III). Q 1 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms. d 1 and d 2 may be the same or different from each other, and represent the same contents as c 1 and c 2 in formula (III).

Q0は−CN、−CONH2又は を表わし、Yは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基
又は−COOZ5(Z5はアルキル基、アラルキル基又はアリ
ール基を示す)を表わす。
Q 0 is -CN, -CONH 2 or The expressed, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group or -COOZ 5 (Z 5 represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group).

一般式(V) 式(V)中、X2は、式(IV a)中のX1と同一の内容を
表わし、Q2は式(IV a)中のQ1と同一の内容を表わす。
e1、e2は互いに同じでも異なってもよく、式(III)中
のc1、c2と同一の内容を表わす。
General formula (V) Wherein (V), X 2 represents a X 1 same contents as in formula (IV a), Q 2 represents Q 1 same contents as in formula (IV a).
e 1 and e 2 may be the same or different and represent the same contents as c 1 and c 2 in formula (III).

本発明の結着樹脂は、上記特定の酸性基含有成分を含
有するAブロックと上記式(I)で示される重合体成分
を含有するBブロックとのABブロック共重合体を含有し
てなる樹脂〔A〕と、一官能性マクロモノマー(MB)と
一般式(V)で示されるモノマーとを少なくとも含むグ
ラフト型共重合体から成る高分子量の樹脂〔B〕とから
少なくとも構成される。
The binder resin of the present invention is a resin comprising an AB block copolymer of the A block containing the specific acidic group-containing component and the B block containing the polymer component represented by the above formula (I). [A] and at least a high molecular weight resin [B] composed of a graft copolymer containing at least a monofunctional macromonomer (MB) and a monomer represented by the general formula (V).

更には、低分子量の樹脂〔A〕としては、下記一般式
(I a)及び一般式(I b)で示される、2位に、及び/
又は2位と6位に特定の置換基を有するベンゼン環又は
無置換のナフタレン環を含有する、特定の置換基をもつ
メタクリレート成分と酸性基成分とを含有する樹脂
〔A〕(以降この低分子量体をとくに樹脂〔A′〕と称
する)であることが好ましい。
Furthermore, as the low molecular weight resin [A], 2-position represented by the following general formulas (Ia) and (Ib), and / or
Or a resin [A] containing a methacrylate component having a specific substituent and an acidic group component containing a benzene ring having a specific substituent at the 2- and 6-positions or an unsubstituted naphthalene ring; It is particularly preferable that the resin is a resin [A '].

一般式(I a) 一般式(I b) 〔式(I a)又は(I b)中、M1及びM2は互いに独立に、
それぞれ水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原
子、臭素原子、−COZ2又は−COOZ2(Z2は各々炭素数1
〜10の炭化水素基を示す)を表わす。但し、M1とM2がと
もに水素原子を表わすことはない。
General formula (Ia) General formula (Ib) [In formula (Ia) or (Ib), M 1 and M 2 are independently of each other;
Each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, -COZ 2 or -COOZ 2 (Z 2 are each carbon atoms 1
~ 10 hydrocarbon groups). However, M 1 and M 2 are never both represent a hydrogen atom.

L1及びL2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合する、
単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす。〕 本発明に用いられる樹脂〔A〕は、ABブロック共重合
体であり、Aブロックは、前記した特定の酸性基から選
ばれる少なくとも1種を含有する少なくとも1つの重合
成分から構成され、Bブロックは、式(I)で示される
メタクリレート成分を少なくとも1種含有する重合体成
分を含有することから成り、且つ重量平均分子量が1×
103〜2×104である事を特徴とする。
L 1 and L 2 each connect -COO- and a benzene ring,
It represents a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms. The resin [A] used in the present invention is an AB block copolymer, and the A block is composed of at least one polymerization component containing at least one selected from the above-described specific acidic groups, and a B block. Comprises a polymer component containing at least one methacrylate component represented by the formula (I), and has a weight average molecular weight of 1 ×
It is characterized in that it is 10 3 to 2 × 10 4 .

前述の光導電層の平滑性及び静電特性を良化させると
して公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用い
るものは、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダム
に存在する樹脂あるいは、重合体主鎖の片末端にのみ酸
性基を結合して成る樹脂であった。
Among the acidic group-containing binder resins known to improve the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer described above, those using a low-molecular-weight compound have an acidic group-containing polymer component randomly present in the polymer main chain. Or a resin having an acidic group bonded only to one terminal of the polymer main chain.

これに対し、本発明の結着樹脂で用いられる樹脂
〔A〕は、樹脂中に含有される酸性基が重合体主鎖中に
ランダムに存在するものでも重合体主鎖の末端にのみ結
合しているものでもなく、重合体主鎖中にブロックで存
在する様に、更に特定化された共重合体である。
On the other hand, the resin [A] used in the binder resin of the present invention binds only to the terminal of the polymer main chain even if the acidic group contained in the resin is randomly present in the polymer main chain. However, the copolymer is not specified, but is further specified so as to exist as a block in the polymer main chain.

本発明に従う共重合体は、重合体の主鎖のいずれか一
方の片側部分に偏在化された酸性基の部分の領域が無機
光導電体の化学量論的な欠陥に充分に吸着するととも
に、重合体主鎖を構成する他のブロック部分は、光導電
体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆していると推定さ
れる。その作用機構により、本発明に従う共重合体は無
機光導電体の化学量論的な欠陥部が多少変動しても、充
分な吸着領域をもつ事から常に安定した無機光導電体と
樹脂〔A〕との相互作用が保たれると推論され、本発明
に従えば従来公知の酸性基含有樹脂に比べて一段と良好
に光導電体のトラップを充分に補償すると共に湿度特性
を向上させる一方、光導電体の分散が充分に行なわれ、
凝集を抑制することを見出した。
The copolymer according to the present invention, while the region of the portion of the acidic group unevenly distributed to one side portion of either one of the main chain of the polymer is sufficiently adsorbed to the stoichiometric defect of the inorganic photoconductor, It is presumed that the other block portions constituting the polymer main chain cover the surface of the photoconductor slowly and sufficiently. Due to its action mechanism, the copolymer according to the present invention has a sufficient adsorption area even if the stoichiometric defect of the inorganic photoconductor fluctuates somewhat, so that the inorganic photoconductor and the resin [A According to the present invention, it is inferred that according to the present invention, the photoconductor traps can be more sufficiently compensated and the humidity characteristics can be improved more excellently than the conventionally known acidic group-containing resin, while the light characteristics can be improved. The conductor is sufficiently dispersed,
It has been found that aggregation is suppressed.

そして樹脂〔B〕は、樹脂〔A〕を用いたことによる
電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕の
みでは不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめる
とともに前記の如き環境が変動したり、低出力のレーザ
ー光を用いたりした場合でも十分に良好な撮像性を得る
ことができることが判った。
The resin [B] does not hinder the high performance of the electrophotographic properties due to the use of the resin [A] at all, and the resin [A] alone provides sufficient mechanical strength of the photoconductive layer, which is insufficient. It has been found that a sufficiently good imaging performance can be obtained even when the environment fluctuates as described above or a low output laser beam is used.

これは、無機光導電体の結着樹脂として、樹脂〔A〕
と樹脂〔B〕を各々樹脂の重量平均分子量並びに樹脂中
の酸性基の含有量及び結合位置等を特定化することで、
無機光導電体と樹脂との相互作用の強さを適度に変える
ことができたことによると推定される。即ち、相互作用
のより強い樹脂〔A〕が選択的に無機光導電体に適切に
吸着し、一方で樹脂〔A〕に比べて相互作用の弱い樹脂
〔B〕においては、電子写真特性を阻害しない程度に無
機光導電体とゆるやかに相互作用することで、上記した
如く電子写真特性及び機械的強度をともに著しく向上さ
せることができたと推定される。
This is a resin [A] as a binder resin for the inorganic photoconductor.
And the resin [B] by specifying the weight average molecular weight of the resin and the content and bonding position of the acidic group in the resin,
It is presumed that the strength of the interaction between the inorganic photoconductor and the resin was appropriately changed. That is, the resin [A] having a stronger interaction selectively and appropriately adsorbs to the inorganic photoconductor, while the resin [B] having a weaker interaction than the resin [A] inhibits the electrophotographic properties. It is presumed that by gently interacting with the inorganic photoconductor to such an extent that both the electrophotographic characteristics and the mechanical strength were remarkably improved as described above.

また、樹脂〔A′〕を用いると樹脂〔A〕の場合より
も、より一層電子写真特性(特にV10、D.R.R、E1/10
の向上が達成できる。
Further, when the resin [A '] is used, the electrophotographic properties (especially V 10 , DRR, E 1/10 ) are higher than those of the resin [A].
Can be improved.

また、本発明では光導電層表面の平滑性が滑らかとな
る。一方、電子写真式平版印刷原版として光導電層表面
の平滑性の粗らい感光体を用いると、光導電体である酸
化亜鉛粒子と結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物
が存在する状態で光導電層が形成されるため、不感脂化
処理液による不感脂化処理をしても非画像部の親水化が
均一に充分に行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を
引き起こし、結果として印刷物の非画像部の地汚れが生
じてしまう。
Further, in the present invention, the smoothness of the photoconductive layer surface becomes smooth. On the other hand, when a photoconductor having a rough surface of the photoconductive layer is used as the electrophotographic lithographic printing plate precursor, the dispersion state of the zinc oxide particles as the photoconductor and the binder resin is not appropriate, and an aggregate exists. Since the photoconductive layer is formed in the state, even if the desensitizing treatment with the desensitizing solution is performed, the non-image portion is not sufficiently and sufficiently hydrophilized, causing adhesion of the printing ink during printing, and as a result, The background stain on the non-image portion of the printed matter occurs.

本発明の樹脂を用いた場合に、光導電体と結着樹脂の
吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層
の膜強度が保持されるものである。
When the resin of the present invention is used, the interaction between the adsorption and coating of the photoconductor and the binder resin is appropriately performed, and the film strength of the photoconductive layer is maintained.

本発明における低分子量体の樹脂〔A〕のみを結着樹
脂として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に
吸着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性
及び静電特性においても良好で、しかも地汚れのない画
質が得られ、更に、CPC感光体あるいは数千枚の印刷枚
数のオフセット原版としては充分な膜強度が保有され
る。しかし、ここで本発明の如く樹脂〔B〕を共存させ
ることで、樹脂〔A〕の機能を何ら疎外することなく樹
脂〔A〕のみではいまだ不充分な光導電層の機械的強度
をより向上させることができた。従って、本発明の感光
体は、環境条件が変動しても優れた静電特性を有し且
つ、膜強度も充分であり、過酷な印刷条件下(例えば、
大型印刷機で印圧が強くなる場合など)でも1万枚以上
の印刷枚数が可能となった。
Even when only the low molecular weight resin [A] in the present invention is used as the binder resin, the photoconductor and the binder resin are sufficiently adsorbed, and the surface of the particles can be coated. It has good electrostatic characteristics and an image quality free from background contamination. Further, it has sufficient film strength as a CPC photoreceptor or an offset original plate having thousands of printed sheets. However, by coexisting the resin [B] as in the present invention, the mechanical strength of the photoconductive layer which is still insufficient with the resin [A] alone without further alienating the function of the resin [A] is further improved. I was able to. Accordingly, the photoreceptor of the present invention has excellent electrostatic characteristics even when environmental conditions fluctuate, has sufficient film strength, and is subjected to severe printing conditions (for example,
Even when the printing pressure is increased with a large printing press), it is possible to print more than 10,000 sheets.

更に、樹脂〔B〕は、重合体主鎖の片末端にのみ−PO
3H2基、−SO3H基、−COOH基、−OH基、−SH基及び (R0′はRと同一の内容を表わす)および環状酸無水物
含有基から選ばれる少なくとも1つの極性基を更に結合
して成るグラフト共重合体(以下この高分子量体をとく
に樹脂〔B′〕と称する)であることが好ましい。
Further, the resin [B] has -PO at only one end of the polymer main chain.
3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -OH group, -SH group and (R 0 'represents the same content as R) and a graft copolymer further comprising at least one polar group selected from cyclic acid anhydride-containing groups (hereinafter, this high-molecular-weight product is preferably a resin [B' ]).

樹脂〔B′〕を用いると、静電特性、特にD.R.R及び
1/10がより良好となり、樹脂〔A〕を用いたことによ
る優れた特性を全く妨げず、その効果は特に高温・高
湿、低温低湿等の如き環境変化においても変動が殆どな
く好ましい。更に、膜強度もより良好となり、耐刷性が
向上する。
When the resin [B '] is used, the electrostatic characteristics, particularly DRR and E 1/10, are improved, and the excellent characteristics obtained by using the resin [A] are not hindered at all. It is preferable because there is almost no change even in environmental changes such as low temperature and low humidity. Further, the film strength is further improved, and the printing durability is improved.

通常可視光〜赤外光域に光感度を保有させるために用
いる分光増感色素は、光導電体に吸着することでその分
光増感作用が充分機能するものであることから、本発明
の共重合体を含有する結着樹脂は、分光増感色素の吸着
を阻害しないで光導電体と適切に相互作用するものと推
定される。この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色
素として特に有効なシアニン色素あるいはフタロシアニ
ン系顔料で特に顕著な効果を示した。
Spectral sensitizing dyes that are usually used to maintain photosensitivity in the visible light to infrared light regions are those whose spectral sensitizing function sufficiently functions by being adsorbed to a photoconductor, and are therefore common to the present invention. It is assumed that the binder resin containing the polymer appropriately interacts with the photoconductor without inhibiting the adsorption of the spectral sensitizing dye. This effect was particularly remarkable with cyanine dyes or phthalocyanine pigments, which are particularly effective as dyes for spectral sensitization of near infrared to infrared light.

ブロック共重合体〔A〕における、特定の酸性基含有
成分の重合体成分量は、共重合体〔A〕100重量部当り
好ましくは0.5〜20重量部、より好ましくは3〜15重量
部の割合で含有される。
In the block copolymer [A], the polymer component amount of the specific acidic group-containing component is preferably 0.5 to 20 parts by weight, more preferably 3 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of the copolymer [A]. It is contained in.

一般式(I)で示されるメタクリレート成分を含有す
るブロック部分(Bブロック)における式(I)で示さ
れるメタクリレート成分量は、そのブロック全重量中、
好ましくは30重量%〜100重量%、より好ましくは50〜1
00重量%である。共重合体〔A〕の重量平均分子量は1
×103〜1×104、好ましくは3×103〜1×104である。
The amount of the methacrylate component represented by the formula (I) in the block portion (B block) containing the methacrylate component represented by the general formula (I) is calculated based on the total weight of the block.
Preferably from 30% to 100% by weight, more preferably from 50 to 1%
00% by weight. The weight average molecular weight of the copolymer [A] is 1
× 10 3 to 1 × 10 4 , preferably 3 × 10 3 to 1 × 10 4 .

樹脂〔A〕の分子量が1×103より小さくなると、皮
膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、また分子量が
2×104より大きくなると本発明の樹脂〔A〕の効果が
少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の電子特性になっ
てしまう。
When the molecular weight of the resin [A] is less than 1 × 10 3 , the film-forming ability is reduced and sufficient film strength cannot be maintained. When the molecular weight is more than 2 × 10 4 , the effect of the resin [A] of the present invention may be reduced. And the electronic properties are about the same as those of conventionally known resins.

結着樹脂〔A〕における酸性基含有量が0.5重量%よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができず、該酸性基含有量が20重量%よりも多いと、
分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高湿特性
が低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに
地汚れが増大するため、好ましくない。
When the content of the acidic group in the binder resin [A] is less than 0.5% by weight, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained. When the content of the acidic group is more than 20% by weight,
It is not preferable because the dispersibility is reduced, the film smoothness and the high humidity property of the electrophotographic properties are reduced, and furthermore, the background smear increases when used as an offset master.

該樹脂〔A〕のガラス転移点は、−10℃〜100℃の範
囲のものが好ましいが、より好ましくは−5℃〜85℃で
ある。
The glass transition point of the resin [A] is preferably in the range of -10C to 100C, more preferably -5C to 85C.

本発明のABブロック共重合体(樹脂〔A〕)のAブロ
ックを構成する特定の酸性基を含有する重合成分につい
て、更に具体的に説明する。
The polymerization component containing a specific acidic group constituting the A block of the AB block copolymer (resin [A]) of the present invention will be described more specifically.

酸性基としては、−PO3H2基、−COOH基、−SO3H基、
フェノール性OH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基)を
示す}及び環状酸無水物含有基が挙げられ、好ましく
は、−COOH基、−SO3H基、フェノール性OH基、及び である。
The acidic group, -PO 3 H 2 group, -COOH group, -SO 3 H group,
Phenolic OH group, {R is a hydrocarbon group or -OR 'group (R' is a hydrocarbon group),} and include cyclic acid anhydride-containing group, preferably, -COOH group, -SO 3 H groups, phenolic OH groups ,as well as It is.

において、Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水
素基を表わす)を表わし、R及びR′は好ましくは炭素
数1〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル
基、2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、
アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フロロベン
ジル基、メトキシベンジル基等)、又は置換されてもよ
いアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、エチル
フェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル基、
フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル
−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル
基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、アセ
チルフェニル基、ブトキシフェニル基等)等を表わす。
In the above, R represents a hydrocarbon group or an -OR 'group (R' represents a hydrocarbon group), and R and R 'are preferably an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, Propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-methoxyethyl, 3-ethoxypropyl,
Allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or an optionally substituted aryl group (For example, phenyl, tolyl, ethylphenyl, propylphenyl, chlorophenyl,
Fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.).

フェノール性OH基としては、ヒドロキシフェノール又
はヒドロキシフェニル基を置換基として含有するメタク
リル酸エステルもしくはアミド類を例として挙げること
ができる。
Examples of the phenolic OH group include methacrylic esters or amides containing a hydroxyphenol or hydroxyphenyl group as a substituent.

また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環
状酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水
物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカル
ボン酸無水物が挙げられる。
Further, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride contained include aliphatic dicarboxylic anhydride and aromatic dicarboxylic anhydride. Can be

脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無
水物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、
シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセ
ン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ピシクロ〔2.2.
2〕オクタンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これ
らの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のア
ルキル基等が置換されていてもよい。
Examples of the aliphatic dicarboxylic anhydride include a succinic anhydride ring, a glutaconic anhydride ring, a maleic anhydride ring,
Cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride ring, 2,3-picyclo [2.2.
2] octanedicarboxylic anhydride rings and the like, and these rings are substituted with, for example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, and alkyl groups such as methyl group, ethyl group, butyl group and hexyl group. Is also good.

又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル
酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリ
ジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン
酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素
原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシ
ル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基
(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキ
シ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of the aromatic dicarboxylic anhydride include a phthalic anhydride ring, a naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, a pyridine-dicarboxylic anhydride ring, a thiophene-dicarboxylic anhydride ring, and the like. Is, for example, a chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (for the alkoxy group, for example, Methoxy group, ethoxy group, etc.) may be substituted.

以上の如き「特定の酸性基を含有する重合体成分」と
しては、例えば、本発明の樹脂〔A〕においてBブロッ
ク成分を構成する重合体成分、即ち一般式(I)で示さ
れるメタクリレート成分等の如き相当するビニル系化合
物と共重合する、該酸性基を含有するビニル系化合物で
あればいずれでも用いることができる。
Examples of the above-mentioned “polymer component containing a specific acidic group” include a polymer component constituting the B block component in the resin [A] of the present invention, that is, a methacrylate component represented by the general formula (I), and the like. Any vinyl compound containing the acidic group, which copolymerizes with the corresponding vinyl compound, can be used.

例えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック
〔基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されているビニ
ル系化合物を用いることができ、具体的には、アクリル
酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例えばα−アセト
キシ体、α−アセトキシメチル体、α−(2−アミノ)
エチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ
体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロ
ロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、
α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、
イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、クロ
トン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペン
テン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン
酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オ
クテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、
マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビ
ニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホ
スホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エ
ステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸
のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該酸性基
を含有する化合物が挙げられる。
For example, vinyl compounds described in “Polymer Data Handbook [Basic Edition]” edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986) and the like can be used. Specifically, acrylic acid, α and / or β Substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α- (2-amino)
Ethyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form,
α, β-dichloro form), methacrylic acid, itaconic acid,
Itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid), maleic acid, maleic acid half esters,
Maleic acid semi-amides, vinyl benzene carboxylic acid, vinyl benzene sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, vinyl phosphoic acid, vinyl or allyl group half-ester derivatives of dicarboxylic acids, and ester or amide derivatives of these carboxylic or sulfonic acids And a compound containing the acidic group in the substituent.

これらの化合物の具体例として以下のものを挙げるこ
とができる。但し、以下の各例において、aは−H、−
CH3、−Cl、−Br、−CN−、−CH2COOCH3又は−CH2COOH
を示し、bは−H又は−CH3を示し、nは2〜18の整数
を示し、mは1〜12の整数を示し、lは1〜4の整数を
示す。
The following are specific examples of these compounds. However, in each of the following examples, a is -H,-
CH 3, -Cl, -Br, -CN -, - CH 2 COOCH 3 or -CH 2 COOH
Are shown, b represents -H or -CH 3, n is an integer of 2 to 18, m represents an integer of 1 to 12, l is an integer of 1-4.

(mは同じでも異なってもよい) (a−15) CH2=CH−CH2OCO(CH2)mCOOH (a−16) CH2=CHCH2 lCOOH 上記の如き特定の酸性基を含有する重合成分は該Aブ
ロック中に2種以上含有されていてもよく、その場合に
おける該2種以上の酸性基含有成分は該Aブロック中に
おいてランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態
様で含有されていてもよい。
(M may be the same or different) (a-15) CH 2 CHCH—CH 2 OCO (CH 2 ) mCOOH (a-16) CH 2 CHCHCH 2 l COOH Two or more types of polymerization components containing the specific acidic group as described above may be contained in the A block, and in that case, the two or more types of acidic group-containing components may be randomly copolymerized in the A block. It may be contained in any form of block copolymerization.

また、該酸性基を含有しない成分がAブロック中に含
まれていてもよく、該成分の例としては一般式(I)又
は(II)で示される成分等があげられる。かかる酸性基
非含有成分の含有量はAブロック中好ましくは0〜50重
量%、より好ましくは0〜20重量%であり、最も好まし
くは、かかる酸性基非含有成分はAブロック中に含まれ
ない。
Further, the component not containing the acidic group may be contained in the A block, and examples of the component include components represented by the general formula (I) or (II). The content of the acidic group-free component is preferably 0 to 50% by weight, more preferably 0 to 20% by weight in the A block, and most preferably, the acidic group-free component is not contained in the A block. .

次にABブロック共重合体〔A〕において、Bブロック
成分を構成する重合成分について詳しく説明する。
Next, the polymerization component constituting the B block component in the AB block copolymer [A] will be described in detail.

Bブロック成分は、少なくとも一般式(I)で示され
るメタクリレート成分を含有し、該式(I)のメタクリ
レート成分は好ましくはBブロック成分中、30〜100重
量%、より好ましくは50〜100重量%含有される。
The B block component contains at least a methacrylate component represented by the general formula (I), and the methacrylate component of the formula (I) is preferably 30 to 100% by weight, more preferably 50 to 100% by weight in the B block component. Contained.

一般式(I)で示される繰り返し単位において、R1
炭化水素基は置換されていてもよい。
In the repeating unit represented by the general formula (I), the hydrocarbon group of R 1 may be substituted.

R1は好ましくは炭素数1〜18の置換されていてもよい
炭化水素基を表わす。置換基としては上記該ABブロック
共重合体のAブロックを構成する重合成分に含有される
前記酸性基以外の置換基であればいずれでもよく、例え
ば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子等)−O−Z1、−COO−Z1、−OCO−Z1、(Z1は、
炭素数1〜22のアルキル基を表わし、例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタ
デシル基等である)等の置換基が挙げられる。好ましい
炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−
メチル−2−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペン
テニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテ
ニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メ
チル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2
−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジ
ル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル
基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例
えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル
基、2−シクロペンチルエチ基等)又は炭素数6〜12の
置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、
ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブ
トキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シ
アノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボ
ニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブト
キシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、
プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニ
ル基等)等があげられる。
R 1 preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. As the substituent, any substituent may be used as long as it is a substituent other than the acidic group contained in the polymerization component constituting the A block of the AB block copolymer. For example, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, bromine atom) -O-Z 1, -COO- Z 1, -OCO-Z 1, (Z 1 is
Represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, for example, a methyl group,
Substituents such as ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, hexadecyl and octadecyl). Preferred hydrocarbon groups include alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
A methoxyethyl group, a 3-bromopropyl group and the like, and an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-
Methyl-2-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc. ), An optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group,
-Naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (Eg, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propyl Phenyl group,
Butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, decyloxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, bromophenyl, cyanophenyl, acetylphenyl, methoxycarbonylphenyl Group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group,
Propioamidophenyl group, dodecylylamidophenyl group, etc.).

R1の炭化水素基において、R1が脂肪族基の場合には好
ましくは、炭素数1〜5の炭化水素基を式(I)で表わ
される成分中の60重量%以上含有することが好ましい。
In the hydrocarbon group of R 1, preferably when R 1 is an aliphatic group, preferably not less than 60% by weight of the component represented a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms in formula (I) .

更に、該樹脂〔A〕において、Bブロック成分を構成
する一般式(I)で示される繰り返し単位の一部又は全
部が下記一般式(I a)及び/又は(I b)で示される繰
り返し単位であることが好ましい。従ってBブロック成
分中下記一般式(I a)及び(I b)から選択される少な
くとも1つの繰り返し単位が該他のブロック中30重量%
以上、特に50〜100重量%含有されることが好ましい。
Further, in the resin [A], a part or all of the repeating unit represented by the general formula (I) constituting the B block component is a repeating unit represented by the following general formula (Ia) and / or (Ib). It is preferred that Therefore, at least one repeating unit selected from the following general formulas (Ia) and (Ib) in the B block component accounts for 30% by weight in the other block.
As described above, it is particularly preferable to contain 50 to 100% by weight.

一般式(I a) 一般式(I b) 〔式(I a)又は(I b)中、M1及びM2は互いに独立に、
それぞれ水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原
子、臭素原子−COZ2又は−COOZ2(Z2は各々炭素数1〜1
0の炭化水素基を示す)を表わす。但し、M1とM2がとも
に水素原子を表わすことはない。
General formula (Ia) General formula (Ib) [In formula (Ia) or (Ib), M 1 and M 2 are independently of each other;
Each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom -COZ 2 or -COOZ 2 (Z 2 each having a carbon number 1 to 1
0 represents a hydrocarbon group). However, M 1 and M 2 are never both represent a hydrogen atom.

L1及びL2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合す
る、単結晶又は連結原子数1〜4個の連結基を表わ
す。〕 該式(I a)及び/又は(I b)で示される繰り返し単
位を酸性基を含有しないBブロック中に含有させること
により、より一層電子写真特性(特にV10、D.R.R、E
1/10)の向上が達成できる。
L 1 and L 2 respectively couples -COO- and the benzene ring, represents a single crystal or a linking atoms 1-4 linking groups. By containing the repeating unit represented by the formula (Ia) and / or (Ib) in a B block containing no acidic group, the electrophotographic properties (particularly, V 10 , DRR, E
1/10 ) improvement can be achieved.

この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メ
タクリレートのエステル成分である、オルト位に置換基
を有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果
により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖
の配列が適切に行なわれることによるものと考えられ
る。
Although the reason for this is unknown, one reason is that the ester component of methacrylate, a planar benzene ring having a substituent at the ortho-position, or the effect of a naphthalene ring at the zinc oxide interface in the film. It is considered that the arrangement of these polymer molecular chains is properly performed.

式(I a)において、好ましいM1及びM2としてそれぞ
れ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好まし
い炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭
素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、クロロベンジル基、
ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル
基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル基、
シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並びに−CO
Z2及び−COOZ2(好ましいZ2としては上記好ましい炭化
水素基として記載したものを挙げることができる)を挙
げることができる。但し、M1とM2がともに水素原子を表
わすことはない。
In the formula (Ia), as preferred M 1 and M 2 , in addition to a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom, as a preferred hydrocarbon group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, A propyl group, a butyl group, etc., an aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group,
A dichlorobenzyl group, a bromobenzyl group, a methylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a chloro-methyl-benzyl group and the like; and an aryl group (for example, a phenyl group, a tolyl group,
Silyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, etc.), and -CO
Z 2 and —COOZ 2 (preferable Z 2 can include those described as preferable hydrocarbon groups above). However, M 1 and M 2 are never both represent a hydrogen atom.

式(I a)において、L1は−COO−とベンゼン環を結合
する、直接結合又はCH2 n1(n1は1〜3の整数を表
わす)、−CH2CH2OCO−、(CH2O)n2(n2は1又は2の
整数を表わす)、−CH2CH2O−等の如き連結原子数1〜
4個の連結基を表わす。
In the formula (Ia), L 1 is a direct bond or —CH 2 n1 (n 1 represents an integer of 1 to 3), —CH 2 CH 2 OCO—, (CH 2 O) n2 (n 2 represents an integer of 1 or 2), - CH 2 CH 2 O- number such linking atom, such as 1
Represents 4 linking groups.

式(I b)におけるL2はL1と同一の内容を表わす。L 2 in the formula (I b) is the same meaning as L 1.

本発明の樹脂〔A〕のBブロックにおいて好ましく用
いられる、式(I a)又は(I b)で示される繰り返し単
位の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範囲は、
これらに限定されるものではない。
Specific examples of the repeating unit represented by the formula (Ia) or (Ib), which is preferably used in the B block of the resin [A] of the present invention, are shown below. However, the scope of the present invention is:
It is not limited to these.

前記の特定の酸性基を含有する重合成分から成分Aブ
ロックとは別に構成される該Bブロックにおいて、前記
式(I){好ましくは(I a)又は(I b)}で示される
繰り返し単位は2種以上含有されていてもよく、更にこ
れら以外の他の重合成分を含有していてもよい。酸性基
を含有しないBブロックにおいて2種以上の重合成分が
含有される場合には、該ABブロック共重合成分は該Bブ
ロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の
いずれの態様で含有されていてもよいが、ランダムに含
有されることが好ましい。
In the B block constituted separately from the component A block from the polymerization component containing the specific acidic group, the repeating unit represented by the formula (I) {preferably (Ia) or (Ib)} is Two or more kinds may be contained, and other polymerization components other than these may be contained. When two or more polymerization components are contained in the B block containing no acidic group, the AB block copolymer component is contained in the B block in any mode of random copolymerization or block copolymerization. However, it is preferable to be contained at random.

前記した式(I),(I a)及び/又は(I b)で示さ
れる繰り返し単位から選ばれた重合成分とともにBブロ
ック中に含有され得る他の重合成分は、これらと共重合
する成分であればいずれでもよい。
Other polymerization components which can be contained in the B block together with the polymerization components selected from the repeating units represented by the above formulas (I), (Ia) and / or (Ib) are components copolymerized with these. Any may be used.

例えば下記一般式(II)で示される繰り返し単位が挙
げられる。
For example, a repeating unit represented by the following general formula (II) can be mentioned.

一般式(II) 〔式(II)中、Tは−COO−,−COO−,CH2 m1OCO
−,CH2 m2COO−,−O−,SO2−, −CONHCOO−,−CONHCONH−,又は を表わし、m1,m2は、各々1〜2の整数を表わし、R
3は、式(I)中のR1と同一の内容を表わす。R2は式
(I)中のR1と同一の内容を表わす。
General formula (II) [In the formula (II), T is -COO-, -COO-, CH 2 m1 OCO
−, CH 2 m2 COO−, −O−, SO 2 −, −CONHCOO−, −CONHCONH−, or And m 1 and m 2 each represent an integer of 1 to 2;
3 represents the same contents as R 1 in the formula (I). R 2 is the same meaning as R 1 in formula (I).

a1及びa2は、互いに同じでも異なってもよく、各々水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8の炭化
水素基、−COO−Z3又は炭素数1〜8の炭化水素基を介
した−COO−Z3(Z3は炭素数1〜18の炭化水素基を表わ
す)を表わす。〕より好ましくは、a1,a2は、互いに同
じでも異なってもよく、水素原子、炭素数1〜3のアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
等)、−COO−Z3又は−CH2COO−Z3(Z3はより好ましく
は炭素数1〜18のアルキル基又はアルケニル基を表わ
し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オク
タデシル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル
基、デセニル基等が挙げられ、これらアルキル基、アル
ケニル基は前記R1で示したと同様の置換基を有していて
もよい)を表わす。
a 1 and a 2 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, -COO-Z 3 or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Represents —COO—Z 3 (Z 3 represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms). More preferably, a 1 and a 2 may be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.), —COO—Z 3 or -CH 2 COO-Z 3 (Z 3 more preferably represents an alkyl or alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl Group, dodecyl group,
Tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group and the like, and these alkyl group and alkenyl group have the same substituents as those described for R 1 above. ).

これら以外の繰り返し単位を構成する単量体として、
更にスチレン類(例えばスチレン、ビニルトルエン、ク
ロロスチレン、ブロモスチレン、ジクロロスチレン、ビ
ニルフェノール、メトキシスチレン、クロロメチルスチ
レン、メトキシメチルスチレン、アセトキシスチレン、
メトキシカルボニルスチレン、メチルカルバモイルスチ
レン、等)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
アクロレイン、メタクロレイン、ビニル基含有複素環化
合物(例えばN−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、
ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン等)、アクリロ
アミド、メタクリロアミド等が例として挙げられるが、
これらの他の共重合成分はこれらに限定されるものでは
ない。
As a monomer constituting a repeating unit other than these,
Further, styrenes (for example, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, bromostyrene, dichlorostyrene, vinylphenol, methoxystyrene, chloromethylstyrene, methoxymethylstyrene, acetoxystyrene,
Methoxycarbonylstyrene, methylcarbamoylstyrene, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile,
Acrolein, methacrolein, vinyl group-containing heterocyclic compounds (eg, N-vinylpyrrolidone, vinylpyridine,
Vinyl imidazole, vinyl thiophene, etc.), acrylamide, methacrylamide and the like.
These other copolymer components are not limited to these.

本発明のABブロック共重合体〔A〕は、従来公知の重
合反応法によって製造することができる。具体的には、
該特定の酸性基を含有する重合体成分に相当する単量体
において該酸性基を予め保護した官能基としておき、有
機金属化合物(例えばアルキルリチウム類、リチウムジ
イソプロピルアミド、アルキルマグネシウムハライド類
等)あるいはヨウ化水素/ヨウ素系等によるイオン重合
反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とする光重合反応あ
るいはグループ移動重合反応等の公知のいわゆるリビン
グ重合反応でABブロック共重合体を合成した後、酸性基
を保護した官能基を加水分解反応、加水素分解反応、酸
化分解反応あるいは、光分解反応等によって脱保護反応
を行ない、酸性基を形成させる方法が挙げられる。その
1つの例を下記の反応スキーム(1)に示した。
The AB block copolymer [A] of the present invention can be produced by a conventionally known polymerization reaction method. In particular,
In the monomer corresponding to the polymer component containing the specific acidic group, the acidic group is previously protected as a functional group, and an organometallic compound (eg, alkyl lithiums, lithium diisopropylamide, alkyl magnesium halides, etc.) or Protecting acidic groups after synthesizing AB block copolymer by known so-called living polymerization reaction such as ionic polymerization reaction by hydrogen iodide / iodine system, photopolymerization reaction using porphyrin metal complex as catalyst or group transfer polymerization reaction The deprotection reaction is performed by a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, a photodecomposition reaction, or the like to form an acidic group. One example is shown in the following reaction scheme (1).

例えば、P.Lutz,P.Masson etal,Polym.Bull.12.,79
(1984),B.C.Anderson,G.D.Andrews etal,Macromolecu
les,14,1601(1981),K.Hatada,K.Ute.etal,Polym.J.1
7,977(1985),18,1037(1986),右手浩一、畑田耕
一、高分子加工、36,366(1987),東村敏延、沢本光
男、高分子論文集、46,189(1989)、M.Kuroki,T.Aida,
J.Am.Chem.Soc.109,4737(1987)、相田卓三、井上祥
平、有機合成化学、43,300(1985)、D.Y.Sogah,W.R.He
rtler etal.Macromolecules,20,1473(1987)等に記載
の合成方法に従って容易に合成することができる。
For example, P. Lutz, P. Masson etal, Polym. Bull. 12 .
(1984), BCAnderson, GDAndrews etal, Macromolecu
les, 14 , 1601, (1981), K. Hatada, K. Ute. et al., Polym. J. 1
7, 977 (1985), 18, 1037 (1986), the right hand Koichi, Koichi Hatada, polymer processing, 36, 366 (1987), Higashimura Satoshinobe, Mitsuo Sawamoto, polymer Collected Papers, 46, 189 (1989), M.Kuroki, T.Aida,
J. Am. Chem. Soc. 109 , 4737 (1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 43 , 300 (1985), DYSogah, WRHe
Macromolecules, 20 , 1473 (1987), etc. can be easily synthesized.

更に、ABブロック共重合体〔A〕は、酸性基を保護し
ないままの単量体を用い、ジチオカルバメート化合物を
開始剤とした光イニファーター重合法によって合成する
こともできる。例えば、大津隆行、高分子、37,248(19
88)、槍森俊一、大津隆一、Polym.Rep.Jap.37.3508(1
988)、特開昭64−111号、特開昭64−26619号等に記載
の合成方法に従って合成することができる。
Further, the AB block copolymer [A] can also be synthesized by a photoiniferter polymerization method using a monomer without protecting the acidic group and using a dithiocarbamate compound as an initiator. For example, Takayuki Otsu, polymeric, 37, 248 (19
88), Shunichi Yarimori, Ryuichi Otsu, Polym.Rep.Jap. 37. 3508 (1
988), JP-A-64-111, JP-A-64-26619, and the like.

又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその
保護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知
見を利用して容易に行なうことができる。例えば前記し
た引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義
男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談社刊(1977
年)、T.W.Greene,「Protective Groups in Organic Sy
nthesis」,John Wiley & Sons(1981年),J.F.W.McOmi
e,「Protective Groups in Organic Chemistry」Plenum
Press,(1973年)等の総説に詳細に記載されている方
法を適宜選択して行なうことができる。
Further, the protecting group for protecting the specific acidic group of the present invention and the elimination of the protecting group (deprotection reaction) can be easily carried out by utilizing conventionally known knowledge. For example, various descriptions are given in the above cited references, and furthermore, Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, “Reactive Polymers” published by Kodansha (1977)
TWGreene, "Protective Groups in Organic Sy
nthesis ", John Wiley & Sons (1981), JFW McOmi
e, `` Protective Groups in Organic Chemistry '' Plenum
Press, (1973) and the like can be carried out by appropriately selecting a method described in detail.

樹脂〔A〕において、ABブロック共重合体中における
該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量は、樹脂
〔A〕100重量部中、0.5〜20重量%で、好ましくは3〜
15重量%である。樹脂〔A〕の重量平均分子量は好まし
くは3×103〜1×104である。
In the resin [A], the amount of the specific acidic group-containing polymer component in the AB block copolymer is 0.5 to 20% by weight, preferably 3 to 20% by weight in 100 parts by weight of the resin [A].
15% by weight. The weight average molecular weight of the resin [A] is preferably 3 × 10 3 to 1 × 10 4 .

一方、樹脂〔B〕の重量平均分子量は5×104〜1×1
06、好ましくは8×104〜5×105である。一官能性マク
ロモノマー(MB)の重合体中における存在割合は、1〜
70重量%であることが好ましく、また、一般式(V)で
示される単量体の重合体中における存在割合は30〜99重
量%であることが好ましい。
On the other hand, the weight average molecular weight of the resin [B] is 5 × 10 4 -1 × 1
0 6, preferably from 8 × 10 4 ~5 × 10 5 . The proportion of the monofunctional macromonomer (MB) in the polymer ranges from 1 to
It is preferably 70% by weight, and the proportion of the monomer represented by the general formula (V) in the polymer is preferably 30 to 99% by weight.

共重合体主鎖末端に極性基が結合する場合における該
極性基の共重合体中における存在割合は0.1〜10重量
%、好ましくは0.2〜5重量%である。
When the polar group is bonded to the terminal of the main chain of the copolymer, the proportion of the polar group in the copolymer is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.2 to 5% by weight.

樹脂〔B〕のガラス転移点は、好ましくは0℃〜110
℃、より好ましくは、20℃〜90℃である。
The glass transition point of the resin [B] is preferably 0 ° C to 110 ° C.
° C, more preferably 20 ° C to 90 ° C.

結着樹脂〔B〕の分子量が5×104より小さくなる
と、膜強度が充分に保てず、一方分子量が1×106より
大きくなると、分散性が低下し膜平滑度が劣化し、複写
画像の画質(特に、細線・文字の再現性が悪くなる)が
悪化し、更にオフセットマスターとして用いる時に地汚
れが著しくなってしまう。
When the molecular weight of the binder resin [B] is smaller than 5 × 10 4 , the film strength cannot be sufficiently maintained. On the other hand, when the molecular weight is larger than 1 × 10 6 , the dispersibility is reduced and the film smoothness is deteriorated. The image quality of the image (particularly, the reproducibility of fine lines and characters is deteriorated) deteriorates, and furthermore, when used as an offset master, the background smear becomes remarkable.

結着樹脂〔B〕における一官能性マクロモノマー(M
B)の含有量が1.0重量%より少ないと電子写真特性(特
に暗減衰率、光感度)が低下し、又環境条件での電子写
真特性の変動が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組
み合わせにおいて、大きくなる。これはグラフト部とな
るマクロモノマーが微かとなることで結果として従来の
ホモポリマーあるいはランダム共重合体と殆んど同じ組
成になってしまうことによると考えられる。
Monofunctional macromonomer (M
If the content of B) is less than 1.0% by weight, the electrophotographic properties (particularly, dark decay rate and light sensitivity) are reduced, and the fluctuation of the electrophotographic properties under environmental conditions is particularly near infrared to infrared spectral sensitization. In combination with a dye, it increases. It is considered that this is because the composition of the macromonomer serving as the graft portion becomes small, resulting in almost the same composition as the conventional homopolymer or random copolymer.

一方一官能性マクロモノマー(MB)の含有量が70%を
越えると、他の共重合成分に相当する単量体と本発明に
従うマクロモノマーとの共重合性が充分でなくなり、結
着樹脂として用いても充分な電子写真特性が得られなく
なってしまう。
On the other hand, when the content of the monofunctional macromonomer (MB) exceeds 70%, the copolymerizability between the monomer corresponding to the other copolymerization component and the macromonomer according to the present invention becomes insufficient, and as a binder resin, Even if used, sufficient electrophotographic characteristics cannot be obtained.

本発明の樹脂〔B〕において、グラフト型共重合樹脂
の共重合成分として供せられる、一官能性マクロモノマ
ー(MB)について更に具体的に説明する。一官能性マク
ロモノマー(MB)は、一般式(III)で示される重合性
二重結合基を、一般式(IV a)及び(IV b)で示される
重合体成分のうちの少なくとも1種と特定の極性基(−
COOH基、−PO3H2基、−SO3H基、−OH基、 −CHO基及び/又は酸無水物含有基)を含有する重合体
成分のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一
方の末端にのみ結合して成る、重量平均分子量2×104
以下のものである。
In the resin [B] of the present invention, the monofunctional macromonomer (MB) used as a copolymer component of the graft copolymer resin will be described more specifically. The monofunctional macromonomer (MB) is formed by combining a polymerizable double bond group represented by the general formula (III) with at least one of the polymer components represented by the general formulas (IVa) and (IVb). Certain polar groups (-
COOH group, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -OH group, A CHO group and / or an acid anhydride-containing group) and a weight-average molecular weight of 2 × 10 4 , which is bound to only one end of a polymer main chain containing at least one of the polymer components.
These are:

一般式(III)、(IV a)及び(IV b)において、
c1、c2、X0、d1、d2、X1、Q1及びQ0に含まれる炭化水素
基は各々示された炭素数(未置換の炭化水素基として
の)を有するが、これら炭化水素基は置換基を有してい
てもよい。
In the general formulas (III), (IVa) and (IVb),
The hydrocarbon groups contained in c 1 , c 2 , X 0 , d 1 , d 2 , X 1 , Q 1 and Q 0 each have the indicated carbon number (as an unsubstituted hydrocarbon group), These hydrocarbon groups may have a substituent.

一般式(III)において、X0は、−COO−、−OCO−、
−CH2OCO−、−CH2OO−、−O−、−SO2−、−CO−、−
CONHCOO−、−CONHCONH−、 又は を表わす。ここで、R31は水素原子のほか、好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、
2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノ
エチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メト
キシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜
18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチ
ル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニ
ル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル
基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル
−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されても
よいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル
基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−
ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル
基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、ジチルベンジル基、ジメトキシベンジル基
等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例え
ば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、
2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜12の置
換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチ
ル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブ
チルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブト
キシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェ
ニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シア
ノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキ
シカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プ
ロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル
基等)があげられる。
In the general formula (III), X 0 represents —COO—, —OCO—,
-CH 2 OCO -, - CH 2 OO -, - O -, - SO 2 -, - CO -, -
CONHCOO−, −CONHCONH−, Or Represents Here, R 31 is, in addition to a hydrogen atom, a preferable hydrocarbon group as an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
Butyl, heptyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl,
2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), having 4 to 4 carbon atoms.
18 alkenyl groups which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group and the like, and optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group,
A naphthylethyl group, a chlorobenzyl group, a bromobenzyl group, a methylbenzyl group, an ethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a ditylbenzyl group, a dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (for example, A cyclohexyl group, a 2-cyclohexylethyl group,
2-cyclopentylethyl group or the like and an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecyl) Phenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, decyloxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, bromophenyl, cyanophenyl, acetylphenyl, methoxycarbonylphenyl, ethoxycarbonylphenyl, butoxycarbonyl Phenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc.).

X0を表わす場合、ベンゼン環は置換基を有してもよい。置
換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原
子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル基
等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。
X 0 In the case where is represented, the benzene ring may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group, Ethoxy groups,
A propoxy group, a butoxy group, etc.).

c1及びc2は、互いに同じでも異なっていてもよく、好
ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、
臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COO−Z4又は炭化水素を介したCOOZ4(Z4は、好
ましくは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、アル
ケニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリール基を
表わし、これらは置換されていてもよく、具体的には、
上記R31について説明したものと同様の内容を表わす)
を表わす。
c 1 and c 2 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom,
A bromine atom), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), - COOZ COOZ 4 (Z 4 via the 4 or hydrocarbons Preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group or an aryl group, which may be substituted, and specifically,
Represents the same content as described for R 31 above)
Represents

上記炭化水素を介した−COO−Z4基における炭化水素
としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が
挙げられる。
Examples of the hydrocarbon in the —COO—Z 4 group via the above hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, and a propylene group.

更に好ましくは、一般式(III)について、X0は−COO
−、−OCO−、−CH2OCO−、−CH2COO−、−O−、−CON
HCOO−、−CONHCONH−、−CONH−、−SO2NH−又は を表わし、c1,c2は互いいに同じでも異なってもよく、
各々水素原子、メチル基、−COOZ6又は−CH2COOZ6{Z6
は、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基等)を表わす。}を表わす。更により好
ましくは、c1、c2においていずれか一方が水素原子を表
わす。
More preferably, for general formula (III), X 0 is -COO
-, - OCO -, - CH 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - CON
HCOO -, - CONHCONH -, - CONH -, - SO 2 NH- or And c 1 and c 2 may be the same or different from each other,
Each a hydrogen atom, a methyl group, -COOZ 6 or -CH 2 COOZ 6 {Z 6
Represents more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, etc.). Represents}. Still more preferably, either one of c 1 and c 2 represents a hydrogen atom.

即ち、一般式(III)で表わされる重合性二重結合基
として、具体的には、 等が挙げられる。
That is, as the polymerizable double bond group represented by the general formula (III), specifically, And the like.

一般式(IV a)又は(IV b)において、X1は式(II
I)中のX0と同一の内容を表わす。d1、d2は互いに同じ
でも異なってもよく、式(III)中のc1、c2と同一の内
容を表わす。
In the general formula (IVa) or (IVb), X 1 is a group represented by the formula (II)
Represents the same content as X 0 in I). d 1 and d 2 may be the same or different and represent the same contents as c 1 and c 2 in formula (III).

Q1は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳
香族基を表わす。
Q 1 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms.

具体的には、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
−ヒドロキシルエチル基、2−メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、2−シアノエチル基、3−クロロプ
ロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、2−
テトラヒドロフリル基、2−チエニルエチル基、2−N,
N−ジメチルアミノエチル基、2−N,N−ジエチルアミノ
エチル基等)、炭素数5〜8のシクロアルキル基(例え
ばシクロヘプチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチ
ル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル
基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニル
プロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、ジクロロベ
ンジル基、メチルベンジル基、クロロ−メチル−ベンジ
ル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、メ
トキシベンジル基等)等の脂肪族基、更に炭素数6〜12
の置換されてもよいアリール基(例えば、フェニル基、
トリル基、キシリル基、クロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、ジクロロフェニル基、クロロ−メチル−フェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、ナフチル基、クロロナフチル基等)等の芳香族基
が挙げられる。
Specifically, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group,
Dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2
-Hydroxylethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-
Ethoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2- (trimethoxysilyl) ethyl group, 2-
Tetrahydrofuryl group, 2-thienylethyl group, 2-N,
N-dimethylaminoethyl group, 2-N, N-diethylaminoethyl group, etc., C5-C8 cycloalkyl group (for example, cycloheptyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, etc.), C7-C12 substitution Aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, dichlorobenzyl group, methylbenzyl group, chloro-methyl An aliphatic group such as a benzyl group, a dimethylbenzyl group, a trimethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, and the like;
Optionally substituted aryl group (for example, phenyl group,
And aromatic groups such as a tolyl group, a xylyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, a dichlorophenyl group, a chloro-methyl-phenyl group, a methoxyphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, a naphthyl group and a chloronaphthyl group.

式(IV a)において、好ましくはX1は−COO−、−OCO
−、−CH2COO−、−CH2OCO−、−O−、−CO−、−CONH
COO−、−CONHCONH−、−CONH−、−SO2NH−又は を表わす。
In the formula (IVa), X 1 is preferably -COO-, -OCO
-, - CH 2 COO -, - CH 2 OCO -, - O -, - CO -, - CONH
COO -, - CONHCONH -, - CONH -, - SO 2 NH- or Represents

d1、d2の好ましい例は、前記したc1、c2と同様の内容
を表わす。
Preferred examples of d 1 and d 2 represent the same contents as those of c 1 and c 2 described above.

一般式(IV b)において、Q0は−CN、−CONH2又は を表わし、Yは水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原
子、臭素原子等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)又は−CO
OZ5(Z5は好ましくは炭素数1〜8のアルキル基、炭素
数7〜12のアラルキル基又はアリール基を表わす)を表
わす。
In the general formula (IV b), Q 0 is -CN, -CONH 2 or Y represents a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkoxy group (eg, a methoxy group,
Ethoxy, propoxy, butoxy, etc.) or -CO
OZ 5 (Z 5 preferably represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group having 7 to 12 carbon atoms having 1 to 8 carbon atoms).

マクロモノマー(MB)は、式(IV a)及び/又は (IV b)で示される重合体成分を2種以上含有してい
てもよい。又、Q1が脂肪族基の場合、炭素数6〜12の脂
肪族基は、マクロモノマー(MB)中の全重合体成分の20
重量%を越えない範囲で用いる事が好ましい。
The macromonomer (MB) may contain two or more polymer components represented by the formulas (IVa) and / or (IVb). When Q 1 is an aliphatic group, the aliphatic group having 6 to 12 carbon atoms accounts for 20% of the total polymer component in the macromonomer (MB).
It is preferable to use it in a range not exceeding the weight%.

更には、一般式(IV a)におけるX1が−COO−である
場合には、マクロモノマー(MB)中の全重合体成分中、
式(IV a)で示される重合体成分が少なくとも30重量%
以上含有されることが好ましい。
Further, when X 1 in the general formula (IVa) is —COO—, in all the polymer components in the macromonomer (MB),
At least 30% by weight of the polymer component of the formula (IVa)
It is preferable to contain the above.

さらに、マクロモノマー(MB)において、式(IV a)
及び/又は(IV b)で示される共重合体成分とともに第
3の成分として共重合する、極性基(−COOH基、−PO3H
2基、−SO3H基、OH基、 −CHO基、酸無水物含有基)を含有する成分としては、
前記のマクロモノマー(MB)と共重合し得る上記極性基
を含有するビニル系化合物であればいずれでも用いるこ
とができる、例えば、高分子学会編「高分子データ・ハ
ンドブック〔基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載され
ている。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換
アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシ
メチル体、α(2−アミノノエチル体、α−クロロ体、
α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル
体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−
クロロ体、β−メシキシ体、α,β−ジクロロ体等)、
メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、
イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカ
ルボキシ酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2
−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキ
セン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン
酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、
ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン
酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸
類、アルコール類のビニル基又はアリル基の半エステル
誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエス
テル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有
する化合物等が挙げられる。
Further, in the macromonomer (MB), the formula (IVa)
And / or copolymerized as a third component together with the copolymer component represented by (IV b), polar group (-COOH group, -PO 3 H
2 groups, -SO 3 H group, OH group, -CHO group, acid anhydride containing group) as a component containing
Any vinyl compound containing the above-mentioned polar group which can be copolymerized with the above-mentioned macromonomer (MB) can be used. For example, "Polymer Data Handbook [Basic Edition]" edited by The Society of Polymer Science, Baifukan ( 1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α (2-aminonoethyl form, α-chloro form,
α-bromo, α-fluoro, α-tributylsilyl, α-cyano, β-chloro, β-bromo, α-
Chloro form, β-mesoxy form, α, β-dichloro form, etc.),
Methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters,
Itaconic acid semiamides, crotonic acid, 2-alkenyl carboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2
-Hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides,
Vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acids, half-ester derivatives of vinyl or allyl groups of alcohols, and ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, and substituents of amide derivatives Among them, compounds containing the polar group are exemplified.

においてR0は前記Rと同一の内容を表わし、酸無水物含
有基についても前記の通りである。OH基としては、前記
樹脂〔A〕にて述べたフェノール性OH基の他にビニル基
又はアリル基含有のアルコール類(例えばアリルアルコ
ール、メタクリル酸エステル、アクリルアミド等のエス
テル置換基、N−置換基中に、−OH基を含有する化合物
等)を挙げることができる。
In the above, R 0 has the same contents as R, and the same applies to the acid anhydride-containing group. Examples of the OH group include, in addition to the phenolic OH group described in the resin [A], an alcohol having a vinyl group or an allyl group (for example, an ester substituent such as allyl alcohol, methacrylic acid ester and acrylamide, an N-substituent). Among them, compounds containing an -OH group and the like can be mentioned.

例えば以下に挙げられる単量体が例として示される
が、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
For example, the following monomers are shown as examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.

ここで、以下の各例において、P1は−H、−CH3、−C
l、−Br、−CN、−CH2COOCH3又は−CH2COOHを示し、P2
は−H又は−CH3を示し、jは2〜18の整数を示し、k
は2〜5の整数を示し、hは1〜4の整数を示し、iは
1〜12の整数を示す。
Here, in each of the following examples, P 1 is -H, -CH 3 , -C
indicates l, -Br, -CN, a -CH 2 COOCH 3 or -CH 2 COOH, P 2
Represents -H or -CH 3, j represents an integer of 2 to 18, k
Represents an integer of 2 to 5, h represents an integer of 1 to 4, and i represents an integer of 1 to 12.

(B−15) CH2=CH−CH2OCO(CH2iCOOH (B−16) CH2=CHCH2 hCOOH (B−49) CH2=CHCH2 hOH (B−52) CH2=CHCH2 hOCO(CH2 jOH マクロモノマー(MB)中の全重合体成分中、該極性基
を含有する共重合体成分として含有される量は、全重合
体成分100重量部当り好ましくは0.5〜50重量部、より好
ましくは1〜40重量部である。
(B-15) CH 2 = CHCH 2 OCO (CH 2) i COOH (B-16) CH 2 = CHCH 2 h COOH (B-49) CH 2 = CHCH 2 h OH (B-52) CH 2 = CHCH 2 h OCO (CH 2 j OH The amount of the polar group-containing copolymer component in the total polymer component in the macromonomer (MB) is preferably 0.5 to 50 parts by weight, more preferably 1 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the total polymer component. ~ 40 parts by weight.

これら極性基含有のランダム共重合体から構成される
一官能性マクロモノマー(MB)が共重合体成分として樹
脂〔B〕中に含有された時に、樹脂〔B〕中の全グラフ
ト部に含有される該極性基の含有成分の総量は、樹脂
〔B〕中の全重合体成分100重量部当り0.1〜10重量部含
有される事が好ましい。更に好ましくは、−COOH基、−
SO3H基及び−PO3H2基から選ばれる酸性基を含有する場
合には、樹脂〔B〕中、グラフト部に存在する総量は0.
1〜5重量%である。
When the monofunctional macromonomer (MB) composed of the polar group-containing random copolymer is contained in the resin [B] as a copolymer component, it is contained in all the graft portions in the resin [B]. The total amount of the polar group-containing components is preferably 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of all polymer components in the resin [B]. More preferably, a -COOH group,-
When it contains an acidic group selected from SO 3 H groups and -PO 3 H 2 groups, the resin (B), the total amount present in the graft portion 0.
It is 1 to 5% by weight.

マクロモノマー(MB)中の重合体成分として、これら
以外の他の重合体成分を含有してもよく、例えば重合し
うる他の繰り返し単位に相当する単量体として、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド類、
メタクリルアミド類、スチレン及びその誘導体(例えば
ビニルトルエン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、
ブロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、N,N−ジ
メチルアミノメチルスチレン等)、複素環ビニル類(例
えばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロ
リドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニル
ジオキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
As the polymer component in the macromonomer (MB), other polymer components other than these may be contained. For example, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide as monomers corresponding to other polymerizable repeating units Kind,
Methacrylamides, styrene and derivatives thereof (for example, vinyl toluene, chlorostyrene, dichlorostyrene,
Bromostyrene, hydroxymethylstyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, etc., and heterocyclic vinyls (eg, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.). .

これら他の単量体が含有される場合には、マクロモノ
マー(MB)の全重合体成分100重量部当り1〜20重量部
であることが好ましい。
When these other monomers are contained, the amount is preferably 1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the entire polymer component of the macromonomer (MB).

本発明において供されるマクロモノマー(MB)は、上
述の如き、一般式(IV a)及び/又は(IV b)で示され
る繰返し単位及び特定の極性基を含有する繰り返し単位
から少なくとも成るランダムな重合体主鎖の一方の末端
にのみ、一般式(III)で示される重合性二重結合基
が、直接結合するか、あるいは、任意の連結基で結合さ
れた化学構造を有するものである。式(III)成分と式
(IV a)もしくは(IV b)成分又は極性基含有成分とを
連結する連結基としては、炭素−炭素結合(一重結合あ
るいは二重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子
としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケ
イ素原子等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の
任意の組合せで構成されるものである。
As described above, the macromonomer (MB) used in the present invention is a random monomer comprising at least a repeating unit represented by the general formula (IVa) and / or (IVb) and a repeating unit containing a specific polar group. The polymerizable double bond group represented by the general formula (III) is directly bonded to only one terminal of the polymer main chain, or has a chemical structure in which it is bonded by an arbitrary linking group. Examples of the linking group for linking the component of the formula (III) with the component of the formula (IVa) or (IVb) or the component containing a polar group include a carbon-carbon bond (single bond or double bond) and a carbon-heteroatom bond ( The hetero atom includes, for example, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, a silicon atom, etc.), and an arbitrary combination of atomic groups of a hetero atom-hetero atom bond.

さらに具体的な連結基としては、 〔R32,R33は水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシ
ル基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基等)等を示す〕、 CH=CH、 −O−、−S−、 −COO−、−SO2−、 −NHCOO−、−NHCONH−、 〔R34、R35は、水素原子、 前記式(IV a)におけるQ1と同様の内容を表わす炭化
水素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基
もしくは任意の組合せで構成された2以上の連結基を表
わす。
More specific linking groups include [R 32 and R 33 represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, a hydroxyl group, an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.)] , CH = CH, -O-, -S-, -COO -, - SO 2 -, -NHCOO-, -NHCONH-, [R 34 and R 35 each represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having the same content as Q 1 in the formula (IVa) or the like] or a single linking group selected from an atomic group or an arbitrary combination thereof. Represents two or more linking groups configured.

マクロモノマー(MB)の重量平均分子量が2×104
超えると、式(V)で示されるモノマーとの共重合性が
低下するため好ましくない。他方、重量平均分子量が小
さすぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小さく
なるため、1×103以上であることが好ましい。
When the weight average molecular weight of the macromonomer (MB) exceeds 2 × 10 4 , the copolymerizability with the monomer represented by the formula (V) decreases, which is not preferable. On the other hand, if the weight average molecular weight is too small, the effect of improving the electrophotographic properties of the photosensitive layer is reduced, so that the weight average molecular weight is preferably 1 × 10 3 or more.

本発明に供されるマクロモノマー(MB)は、従来公知
の合成法によって製造することができる。具体的には、
分子中に、カルボキシル基、カルボキシハライド基、ヒ
ドロキシル基、アミノ基、ハロゲン原子、エポキシ基等
の反応性基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動剤
を用いて、ラジカル重合して得られる末端反応性基結合
のオリゴマーと種々の試薬を反応させて、マクロモノマ
ーにするラジカル重合法による方法等により合成され
る。
The macromonomer (MB) used in the present invention can be produced by a conventionally known synthesis method. In particular,
A terminal obtained by radical polymerization using a polymerization initiator and / or a chain transfer agent containing a reactive group such as a carboxyl group, a carboxy halide group, a hydroxyl group, an amino group, a halogen atom, and an epoxy group in a molecule. It is synthesized by a method such as a radical polymerization method in which an oligomer having a reactive group is reacted with various reagents to form a macromonomer.

具体的には、P.Dreyfuss & R.P.Quirk、Encycl.Poly
m.Sci.Eng.、、551(1987)、P.F.Rempp、E.Franta、
Adu、Polym.Sci.58、1(1984)、川上雄資、化学工
業、38、56(1987)、山下雄也、高分子、31、988(198
2)、小林四郎、高分子、30、伊藤浩一、高分子加工、3
5、262(1986)、東貴四郎、津田隆、機能材料、1987N
o.10、5等の総説及びそれに引例の文献・特許等に記載
の方法に従って合成することができる。
Specifically, P. Dreyfuss & RPQuirk, Encycl.Poly
m.Sci.Eng., 7 , 551 (1987), PFRempp, E.Franta,
Adu, Polym. Sci. 58 , 1 (1984), Yusuke Kawakami, Chemical Industry, 38 , 56 (1987), Yuya Yamashita, Polymer, 31 , 988 (198
2), Shiro Kobayashi, Polymer, 30 , Koichi Ito, Polymer Processing, 3
5 , 262 (1986), Kishiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987 N
It can be synthesized according to the methods described in o.10, 5 and other reviews and references and patents cited therein.

但し、本発明のマクロモノマー(MB)は、その繰り返
し単位の成立として酸性性基を含有している事から、合
成上、例えば次の配慮をして合成される。
However, since the macromonomer (MB) of the present invention contains an acidic group as the establishment of the repeating unit, it is synthesized in consideration of the following, for example, in the synthesis.

その1つの方法としては、例えば下記反応式(2)で
示される様に、該極性基を保護した官能基の形で含有す
る単量体を用いて上記の方法でラジカル重合及び末端反
応性基を導入するものである。
As one of the methods, for example, as shown in the following reaction formula (2), radical polymerization and terminal reactive groups are carried out by using a monomer containing a polar group-protected functional group in the form described above. Is introduced.

本発明に供せられるマクロモノマー(MB)中にランダ
ムに含有される該極性基(−SO3H基、−PO3H2基、−COO
H基、 −OH基、−CHO基、酸無水物含有基)の保護基反応及び
脱保護反応(例えば加水分解反応、加水素分解反応、酸
化分解反応等)については、従来公知の方法により行な
うことができる。具体的には、J.F.W.McOmie、“Protec
tive Gvoups in Organic Chemistry"、Plenum Press(1
973年)、T.W.Greene、“Protective Gvoups in Organi
c Synthesis"、John Wiley & Sous(1981年)、小田良
平「高分子ファインケミカル」講談社(1976年)、岩倉
義男、栗田恵輔「反応性高分子」講談社(1977年)、G.
Berneretal、J.Radiation Curing、1986、No.10、P10、
特開昭62−212669号、特開昭62−286064号、特開昭62−
210475号、特開昭62−195684号、特開昭62−258476号、
特開昭63−260439号、特願昭62−220510号、特願昭62−
226692号等に記載の方法を用いて合成する事ができる。
Polar group (-SO 3 H groups contained randomly in the macromonomer to be subjected to the present invention (MB), -PO 3 H 2 group, -COO
H group, The protecting group reaction and the deprotection reaction (for example, hydrolysis reaction, hydrogenolysis reaction, oxidative decomposition reaction, etc.) of -OH group, -CHO group, acid anhydride-containing group) can be performed by a conventionally known method. . Specifically, JFWMcOmie, “Protec
tive Gvoups in Organic Chemistry ", Plenum Press (1
973), TWGreene, “Protective Gvoups in Organi
c Synthesis ", John Wiley & Sous (1981), Ryohei Oda" Polymer Fine Chemicals "Kodansha (1976), Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita" Reactive Polymers "Kodansha (1977),
Berneretal, J. Radiation Curing, 1986, No. 10, P10,
JP-A-62-212669, JP-A-62-286064, JP-A-62-28664
No. 210475, JP-A-62-195684, JP-A-62-258476,
JP-A-63-260439, Japanese Patent Application No. 62-220510, Japanese Patent Application No. 62-220439
It can be synthesized using the method described in 226692 and the like.

他の1つの方法としては、例えば下記反応式(3)で
示される様に、前記の様にしてオリゴマーを合成した
後、オリゴマーの片末端に結合した「特定の反応性基」
とオリゴマー中に含有される該極性基との反応性の差を
利用して、「特定の反応性」とのみ反応する重合二重結
合性基含有の試薬と反応させることで合成する方法であ
る。
As another method, for example, as shown in the following reaction formula (3), after synthesizing an oligomer as described above, a “specific reactive group” bonded to one end of the oligomer is used.
Is a method of synthesizing by reacting with a reagent containing a polymerized double bond group that reacts only with “specific reactivity” by utilizing the difference in reactivity between the polymer and the polar group contained in the oligomer. .

反応式(3)に示した様に、各特定の官能基の組合せ
についての具体例を表−Aに示すと次の如くなる。しか
し、本発明はこれらに限定されるものでなく、重要なこ
とは通常の有機化学反応における反応の選択性を利用す
ることで、オリゴマー中の該極性基を保護することなく
マクロモノマー化が達成されればよいものである。
As shown in the reaction formula (3), specific examples of combinations of the specific functional groups are shown in Table A as follows. However, the present invention is not limited to these, and it is important that macromonomerization can be achieved without protecting the polar group in the oligomer by utilizing the selectivity of the reaction in a normal organic chemical reaction. That should be done.

用いることのできる連鎖移動剤としては、例えば該極
性基あるいは、後に該極性基に誘導しうる置換基含有の
メルカプト化合物(例えばチオグリコール酸、チオリン
ゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸、
3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト酪酸、N
−(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メル
カプトニコチン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチ
ル)カルバモイル〕プロピオン酸、3−〔N−(2−メ
ルカプトエチル)アミノ〕プロピオン酸、N−(3−メ
ルカプトプロピオニル)アラニン、2−メルカプトエタ
ンスルホン酸、3−メカルプトプロパンスルホン酸、4
−メルカプトブタンスルホン酸、2−メルカプトエタノ
ール、3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、1−
メルカプト−2−プロパノール、3−メルカプト−2−
ブタノール、メルカプトフェノール、2−メルカプトエ
チルアミン、2−メカルプイミダゾール、2−メルカプ
ト−3−ピリジノール等)又はこれらメルカプト化合物
の酸化体であるシスルフィド化合物、あるいは上記極性
基又は置換基含有のヨード化アルキル化合物(例えばヨ
ード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノー
ル、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパン
スルホン酸等)等が挙げられる。好ましくはメルカプト
化合物が挙げられる。
Examples of the chain transfer agent that can be used include, for example, the polar group or a mercapto compound containing a substituent that can be later derived into the polar group (eg, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid,
3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N
-(2-mercaptopropionyl) glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) carbamoyl] propionic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) amino] propionic acid, N- ( 3-mercaptopropionyl) alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptopropanesulfonic acid, 4
-Mercaptobutanesulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-
Mercapto-2-propanol, 3-mercapto-2-
Butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mercapimidazole, 2-mercapto-3-pyridinol) or an oxidized form of these mercapto compounds, or the above-mentioned polar group- or substituent-containing iodinated alkyl compound (E.g., iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, etc.). Preferably, a mercapto compound is used.

用いることのできる特定の反応性基含有の重合開始剤
としては、例えば、2,2′−アゾビス(2−シアノプロ
パノール)、2,2′−アゾビス(2−シアノペンタノー
ル)、4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、4,4′−
アゾビス(4−シアノ吉草酸クロライド)、2,2′−ア
ゾビス〔2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イ
ル)プロパン、2,2′−アゾビス〔2−(2−イミダゾ
リン−2−イル)プロパン〕、2,2′−アゾビス〔2−
(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロ
パン〕、2,2′−アゾビス{2−〔1−(2−ヒドロキ
シエチル)−2−イミダゾリン−2−イル〕プロパ
ン}、2,2′−アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒド
ロキシエチル)−プロピオンアミド〕等又はこれらの誘
導体等が挙げられる。
Specific reactive group-containing polymerization initiators that can be used include, for example, 2,2′-azobis (2-cyanopropanol), 2,2′-azobis (2-cyanopentanol), 4,4 ′ -Azobis (4-cyanovaleric acid), 4,4'-
Azobis (4-cyanovaleric acid chloride), 2,2'-azobis [2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl) propane, 2,2'-azobis [2- (2-imidazoline-2- Yl) propane], 2,2'-azobis [2-
(3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane], 2,2'-azobis {2- [1- (2-hydroxyethyl) -2-imidazolin-2-yl] propane}, 2 , 2'-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) -propionamide] and the like, and derivatives thereof.

これら連鎖移動剤あるいは重合開始剤は、各々全単量
体100重量部に対して0.1〜15重量%であり、好ましくは
0.5〜10重量%である。
These chain transfer agents or polymerization initiators are each 0.1 to 15% by weight based on 100 parts by weight of all monomers, and are preferably
0.5 to 10% by weight.

本発明のマクロモノマー(MB)は、具体的には、下記
の化合物を例として挙げることができる。但し、本発明
の範囲は、これらに限定されるものではない。また、以
下の各例において、P2は−H又はCH3を示し、P3は−
H、−CH3又は−CH2COOCH3を示し、R41は−CnH2n+1(n
は1〜18の整数を示す)、−CH2C6H5(Y1、Y2は各々−H、−Cl、−Br、−CH3、−COCH3又は
−COOCH3を示す)、 を示し、W1は−CN、−OCOCH3、−CONH2又は−C6H5を示
し、W2は−Cl、−Br、−CN又は−OCH3を示し、αは2〜
18の整数を示し、βは2〜12の整数を示し、γは2〜4
の整数を示す。
Specific examples of the macromonomer (MB) of the present invention include the following compounds. However, the scope of the present invention is not limited to these. In each of the following examples, P 2 represents -H or CH 3 , and P 3 represents-
H, indicates -CH 3 or -CH 2 COOCH 3, R 41 is -C n H 2n + 1 (n
Is an integer of 1~18), - CH 2 C 6 H 5, (Y 1 and Y 2 each represent —H, —Cl, —Br, —CH 3 , —COCH 3 or —COOCH 3 ), The illustrated, W 1 is -CN, -OCOCH 3, shows a -CONH 2 or -C 6 H 5, W 2 represents -Cl, -Br, -CN, or -OCH 3, alpha is 2
Represents an integer of 18, β represents an integer of 2 to 12, and γ represents 2 to 4
Indicates an integer.

他方、前記したマクロモノマー(MB)と共重合する単
量体は一般式(V)で示される。式(V)において、
e1、e2は互いに同じでも異なってもよく、式(III)のc
1、c2と同一の内容を表わす。X2は式(IV a)中のX
1と、Q2は式(IV a)中のQ1と各々同一の内容を表わ
す。
On the other hand, the monomer copolymerized with the macromonomer (MB) is represented by the general formula (V). In equation (V),
e 1 and e 2 may be the same or different from each other, and c of the formula (III)
1 represents a c 2 same content as. X 2 is X in the formula (IVa)
1 and, Q 2 represents the same content each and to Q 1 in the formula (IV a).

本発明の樹脂において、マクロモノマー(MB)を繰り
返し単位とする共重合成分と、一般式(V)で示される
単量体を繰り返し単位とする共重合成分の組成比は、好
ましくは1〜70/30〜99(重量組成比)、より好ましく
は5〜60/95〜40重量組成比である。
In the resin of the present invention, the composition ratio of the copolymer component having a macromonomer (MB) as a repeating unit and the copolymer component having a monomer represented by the general formula (V) as a repeating unit is preferably from 1 to 70. / 30-99 (weight composition ratio), more preferably 5-60 / 95-40 weight ratio.

又、重合主鎖中には、−PO3H2基、−SO3H基、−COOH
基、−OH基、及び−PO3R0H基の極性基を含有する共重合
成分を含有しないものが好ましい。また、本発明の樹脂
〔B〕は、前記したマクロモノマー(MB)及び一般式
(V)の単量体とともにこれら以外の単量体を更なる共
重合成分として含有してもよい。
The polymerization Lord in the chain, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH
Those which do not contain a copolymer component containing a polar group such as a group, a —OH group, and a —PO 3 R 0 H group are preferred. In addition, the resin [B] of the present invention may contain, in addition to the macromonomer (MB) and the monomer of the general formula (V), monomers other than these as a further copolymerization component.

例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又はア
リルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、スチレン類、複素環ビニル類(例えば、ビニ
ルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、
ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾ
ール、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルチア
ゾール、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
For example, α-olefins, vinyl alkanoate or allyl esters, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, acrylamides, methacrylamides, styrenes, heterocyclic vinyls (for example, vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole,
Vinyl thiophene, vinyl imidazoline, vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl quinoline, vinyl thiazole, vinyl oxazine, etc.).

ただし、マクロモノマー(MB)及び式(V)の単量体
以外のこれら他の単量体は、共重合体中20重量%を越え
ることはない。
However, these other monomers other than the macromonomer (MB) and the monomer of the formula (V) do not exceed 20% by weight in the copolymer.

更に、樹脂〔B〕は、一般式(V)で示される繰り返
し単位を少なくとも1種及びマクロモノマーで示される
繰り返し単位を少なくとも1種含有する重合体主鎖の片
末端にのみ、前記極性基のうちの少なくとも1種を結合
して成る共重合体(樹脂〔B′〕)であってもよい。ま
た共重合体〔B〕と〔B′〕を併用してもよい。ここ
で、該極性基は重合体主鎖の一方の末端に直接結合する
か、あるいは任意の連結基を介して結合した化学構造を
有する。
Further, the resin [B] has only one end of the polymer main chain containing at least one kind of the repeating unit represented by the general formula (V) and at least one kind of the repeating unit represented by the macromonomer. A copolymer (resin [B ']) formed by bonding at least one of them may be used. Further, the copolymers [B] and [B '] may be used in combination. Here, the polar group has a chemical structure in which the polar group is directly bonded to one end of the polymer main chain or is bonded via an arbitrary linking group.

結合基としては炭素−炭素結合(一重結合あるいは二
重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子としては
例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子
等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の任意の組
合わせで構成されるものである。例えば、 CH=CH、 −O−、−S−、 −COO−、−SO2−、 −NHCOO−、−NHCONH−、 (R32〜R35は各々前記R32〜R35と同一の内容を示す)等
から選ばれる原子団の単独あるいは2以上の組合せで構
成される連結基である。
Examples of the bonding group include a carbon-carbon bond (single bond or double bond), a carbon-heteroatom bond (for example, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a silicon atom), and a heteroatom-heteroatom bond. It is composed of any combination of atomic groups. For example, CH = CH, -O-, -S-, -COO -, - SO 2 -, -NHCOO-, -NHCONH-, (R 32 to R 35 are each the R 32 to R 35 the same showing the contents and) an atomic group selected from such alone, or two or more linking groups composed of combinations.

本発明に供される樹脂〔B〕において、重合体主鎖の
末端に該極性基を結合して成る樹脂〔B′〕を合成する
には、少なくとも前記したマクロモノマー(MB)と一般
式(V)で示される単量体との重合反応時に、該極性基
又はこれに誘導できる特定の反応基を分子中に含有した
重合開始剤又は連鎖移動剤を併用することで達成され
る。
In the resin [B] used in the present invention, in order to synthesize the resin [B ′] in which the polar group is bonded to the terminal of the polymer main chain, at least the above-mentioned macromonomer (MB) and the general formula ( This can be achieved by using a polymerization initiator or a chain transfer agent containing, in the molecule, the polar group or a specific reactive group derivable therefrom during the polymerization reaction with the monomer represented by V).

具体的には、マクロモノマーの合成において前記した
様に片末端反応基結合のオリゴマーの方法と同様にして
得ることができる。
Specifically, it can be obtained in the same manner as in the method of the oligomer having a single-terminal reactive group as described above in the synthesis of a macromonomer.

本発明の電子写真感光体において、その優れた電子写
真特性を保持しつつ、より大きな機械的強度が望まれる
場合がある。この目的の為には、グラフト型共重合体の
主鎖に熱及び/又は光硬化性官能基を導入する手法が適
用できる。
In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, higher mechanical strength may be desired while maintaining its excellent electrophotographic properties. For this purpose, a method of introducing a heat and / or photocurable functional group into the main chain of the graft copolymer can be applied.

即ち、本発明では、樹脂〔A〕及び/又は樹脂〔B〕
において、更に少なくとも1種の熱及び/又は光硬化性
官能基を含有するモノマーを共重合成分として含有して
もよい。かかる熱及び/又は光硬化性官能基が適宜ポリ
マー間を架橋させることでポリマーの間の相互作用を強
固に、膜としての強度を向上させるものである。従っ
て、かかる熱及び/又は光硬化性官能基を更に含有する
本発明の樹脂は、酸化亜鉛粒子表面と結着樹脂の適切な
吸着・被覆を疎外することなく、結着樹脂間の相互作用
を強め、その結果、皮膜強度がより向上する効果を有す
るものである。
That is, in the present invention, the resin [A] and / or the resin [B]
In the above, a monomer containing at least one heat and / or photocurable functional group may be further contained as a copolymerization component. The heat and / or photocurable functional group appropriately crosslinks the polymers, thereby strengthening the interaction between the polymers and improving the strength as a film. Therefore, the resin of the present invention further containing such a heat and / or photo-curable functional group can prevent the interaction between the binder resin and the appropriate adsorption / coating of the surface of the zinc oxide particles and the binder resin. It has the effect of strengthening the film and, as a result, improving the film strength.

本発明の熱及び/又は光硬化性官能基とは熱及び光の
うちの少なくともいずれか一方で樹脂を硬化し得る官能
基をいう。
The heat and / or light curable functional group of the present invention refers to a functional group capable of curing a resin by at least one of heat and light.

本発明の「熱硬化性官能基(熱硬化反応を行なう官能
基)」は、例えば、遠藤剛「熱硬化性高分子の精密化」
(C.M.C(株)、1986年刊)、原崎勇次「最新バインダ
ー技術便覧」第II−I章(総合技術センター、1985年
刊)、大津隆行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開
発」(中部経営開発センター出版部、1985年刊)、大森
英三「機能性アクリル系樹脂」(テクノシステム、1985
年刊)等の総説に引例の官能基を用いることができる。
The “thermosetting functional group (functional group that performs a thermosetting reaction)” in the present invention includes, for example, Tsuyoshi Endo “Refinement of thermosetting polymer”
(CMC Co., Ltd., 1986), Yuji Harasaki, "The latest binder technology handbook" Chapter II-I (General Technology Center, 1985), Takayuki Otsu, "Synthesis, design and new application development of acrylic resin" (Chubu Management Development) Center Publishing Department, 1985), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" (Techno System, 1985)
The functional groups described in the references can be used in reviews such as annual publications.

例えば−OH基、−SH基、−NH2基、−NHR21基(R21
炭化水素基を表わし、具体的には式(III)のXにて前
出のB1と同一の内容を表わす。) −CONHCH2OR22(R22は、水素原子又は炭素数1〜8のア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等)−N=C=O基
又は {γ及びγは、各々水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基等)を表わす}等を挙げ
ることができる。又該重合性二重結合として、具体的に
は、CH2=CH−、 CH2=CH−NHCO−、CH2=CH−CH2− NHCO−、CH2=CH−SO2−、 CH2=CH−CO−、CH2=CH−O−、 CH2=CH−S−、 等を挙げることができる。
For example -OH group, -SH group, -NH 2 group, -NHR 21 group (R 21 represents a hydrocarbon group, the B 1 same content as the previous in X of specifically formula (III) Express.) -CONHCH 2 OR 22 (R 22 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
Butyl group, hexyl group, octyl group, etc.) -N = C = O group or 1 and γ 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, etc.)}, and the like. . As the polymerizable double bond, specifically, CH 2 CHCH—, CH 2 = CH-NHCO-, CH 2 = CH-CH 2 - NHCO-, CH 2 = CH-SO 2 -, CH 2 = CH-CO-, CH 2 = CH-O-, CH 2 = CH-S -, And the like.

本発明の「光硬化性官能基」としては、例えば、角田
隆弘、「感光性樹脂」印刷学会出版部(1972年)、永松
元太郎、乾英夫、「感光性高分子」講談社(1977年)G.
A.Delgerne,“Encyclopedia of Polymer Science and T
echnology,Supplement."Vol I(1976年)等に記載の
官能基を用いることができる。具体的には、アリルエス
テル基、ビニルエステル基等の付加重合基、シンナモイ
ル基、置換されてもよいマレイイミド環基等の二重化基
等が挙げられる。
Examples of the “photo-curable functional group” of the present invention include, for example, Takahiro Tsunoda, “Photosensitive Resin”, Printing Society Publishing Division (1972), Mototaro Nagamatsu, Hideo Inui, “Photosensitive Polymer” Kodansha (1977) G .
A. Delgerne, “Encyclopedia of Polymer Science and T
Functional groups described in, for example, echnology, Supplement. "Vol I (1976). Specifically, addition polymerization groups such as allyl ester groups and vinyl ester groups, cinnamoyl groups, and optionally substituted maleimides And a duplex group such as a ring group.

本発明において、熱及び/又は光硬化性官能基を含有
する樹脂を合成するには、該熱及び/又は光硬化性官能
基を含有する共重合体成分として該熱及び/又は光硬化
性官能基を含有する単量体を用いればよい。
In the present invention, in order to synthesize a resin containing a heat and / or photocurable functional group, the heat and / or photocurable functional group is used as a copolymer component containing the heat and / or photocurable functional group. A monomer containing a group may be used.

本発明の樹脂が該熱硬化性官能基を含有する場合に
は、感光層膜中での架橋反応を促進させるために、必要
に応じて反応促進剤を添加してもよい。官能基間の化学
結合を形成する反応様式の場合には、例えば有機酸(酢
酸、プロピオン酸、酪酸、ベンゼンスルホン酸、p−ト
ルエンスルホン酸等)、架橋剤等が挙げられる。
When the resin of the present invention contains the thermosetting functional group, a reaction accelerator may be added as necessary in order to promote a crosslinking reaction in the photosensitive layer film. In the case of a reaction mode for forming a chemical bond between functional groups, for example, an organic acid (acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and the like), a cross-linking agent and the like can be mentioned.

架橋剤としては、具体的には、山下晋三、金子東助編
「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)等に記載さ
れている化合物等を用いることができる。例えば、通常
用いられる有機シラン、ポリウレタン、ポリイソシアナ
ートの如き架橋剤、エポキシ樹脂、メラミン樹脂の如き
硬化剤等を用いることができる。
Specific examples of the cross-linking agent include compounds described in Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, “Cross-Linking Agent Handbook”, Taiseisha (1981) and the like. For example, commonly used crosslinking agents such as organic silane, polyurethane, and polyisocyanate, and curing agents such as epoxy resin and melamine resin can be used.

重合性反応様式の場合には、重合開始剤(過酸化物、
アゾビス系化合物等が挙げられ、好ましくは、アゾビス
系重合開始剤である)、多官能重合性基含有の単量体
(例えばビニルメタクリレート、アクリルメタクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、ジビニルコハク酸エステ
ル、ジビニルアジピン酸エステル、ジアリルコハク酸エ
ステル、2−メチルビニルメタクリレート、ジビニルベ
ンゼン等)等が挙げられる。
In the case of the polymerization reaction mode, a polymerization initiator (peroxide,
Azobis-based compounds and the like, preferably azobis-based polymerization initiators), and monomers having a polyfunctional polymerizable group (for example, vinyl methacrylate, acrylic methacrylate, ethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, divinyl succinate) Acid esters, divinyl adipates, diallylsuccinates, 2-methylvinyl methacrylate, divinylbenzene, etc.).

また、本発明において、かかる熱硬化性官能基を含有
する結着樹脂を用いる場合には熱硬化処理が行われる。
この熱硬化処理は従来の感光体作製時の乾燥条件を厳し
くすることにより行うことができる。例えば、60℃〜12
0℃で5分〜120分間処理すればよい。上述の反応促進剤
を併用すると、より穏やかな条件で処理することが可能
となる。
In the present invention, when a binder resin containing such a thermosetting functional group is used, a thermosetting treatment is performed.
This thermosetting treatment can be performed by strictly setting the drying conditions at the time of the conventional photoreceptor production. For example, 60 ℃ ~ 12
The treatment may be performed at 0 ° C. for 5 minutes to 120 minutes. When the above-described reaction accelerator is used in combination, the treatment can be performed under milder conditions.

本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用量の割
合は、使用する無機光導電材料の種類、粒径、表面状態
によって異なるが一般に樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の用い
る割合は5〜80対95〜20(重量比)であり、好ましくは
10〜60対90〜40(重量比)である。
The ratio of the amount of the resin [A] and the amount of the resin [B] used in the present invention depends on the type, particle size, and surface state of the inorganic photoconductive material used, but generally the ratio of the resin [A] and the resin [B] used. Is 5 to 80 to 95 to 20 (weight ratio), preferably
It is 10-60 to 90-40 (weight ratio).

本発明では、本発明に従う樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕
(〔B′〕も含む)の他に他の樹脂を併用させることも
できる。それらの樹脂としては、例えば、アルキッド樹
脂、ポリブチラール樹脂、ポリオレフィン類、エチレン
−酢ビ共重合体、スチレン樹脂、スチレン−ブタジエン
樹脂、アクリレートブタジエン樹脂、アルカン酸ビニル
樹脂等が挙げられる。
In the present invention, the resin [A] and the resin [B] according to the present invention
(Including [B ']), other resins may be used in combination. Examples of such resins include alkyd resins, polybutyral resins, polyolefins, ethylene-vinyl acetate copolymers, styrene resins, styrene-butadiene resins, acrylate butadiene resins, and vinyl alkanoate resins.

上記他の樹脂は、本発明の樹脂を用いた全結着樹脂量
の30%(重量比)を越えると本発明の効果(特に静電特
性の向上)が失われる。
When the other resin exceeds 30% (weight ratio) of the total amount of the binder resin using the resin of the present invention, the effect of the present invention (especially, improvement of electrostatic characteristics) is lost.

本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜
鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カド
ミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化
テルル、硫化鉛、等が挙げられる。
Examples of the inorganic photoconductive material used in the present invention include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, and lead sulfide.

無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光
導電体100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重量部な
る割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で使用する。
The total amount of the binder resin used for the inorganic photoconductive material is 10 to 100 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photoconductor.

本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤と
して併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀
彦、イメージング1973(No.8)第12頁、C.J.Young等,RC
A Review15,469(1954),清田航平等、電気通信学会論
文誌J 63−C(No.2),97(1980)、原崎勇次等、工
業化学雑誌66 78及び188(1963)、谷忠昭,日本写真
学会誌35,208(1972)等の総説引例のカーボニウム系色
素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、
キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素
(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタ
ロシアニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられ
る。
In the present invention, various dyes can be used as spectral sensitizers as needed. For example, Harumiya Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No.8), page 12, CJ Young et al., RC
A Review 15, 469 (1954), Wataru equality Kiyota, Telecommunications Society of J 63-C (No.2), 97 (1980), Yuji like Yuji, Industrial Chemistry Journal 66 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani , Journal of Japan photographic Society 35, 208 (1972) carbonium-based dyes review references such as, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes,
Xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (for example, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, and the like), phthalocyanine dyes (which may contain metals), and the like.

更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニル
メタン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素を中
心に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭50
−90334号、特開昭50−114227号、特開昭53−39130号、
特開昭53−82353号、米国特許第3,052,540号、米国特許
第4,054,450号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙
げられる。
More specifically, those using mainly carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes are described in JP-B-51-452,
-90334, JP-A-50-114227, JP-A-53-39130,
JP-A-53-82353, U.S. Pat. No. 3,052,540, U.S. Pat. No. 4,054,450, and JP-A-57-16456 are examples.

オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F.
M.Hamar「The Cyanine Dyes and Related Compounds」
等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には、
米国特許第3,047,384号、米国特許第3,110,591号、米国
特許第3,121,008号、米国特許第3,125,447号、米国特許
第3,128,179号、米国特許第3,132,942号、米国特許第3,
622,317号、英国特許第1,226,892号、英国特許第1,309,
274号、英国特許第1,405,898号、特公昭48−7814号、特
公昭55−18892号等に記載の色素が挙げられる。
Oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, polymethine dyes such as rhodacyanine dyes, F.
M. Hamar `` The Cyanine Dyes and Related Compounds ''
Can be used, more specifically, more specifically,
U.S. Patent 3,047,384, U.S. Patent 3,110,591, U.S. Patent 3,121,008, U.S. Patent 3,125,447, U.S. Patent 3,128,179, U.S. Patent 3,132,942, U.S. Pat.
622,317, UK Patent 1,226,892, UK Patent 1,309,
No. 274, British Patent No. 1,405,898, JP-B-48-7814, JP-B-55-18892 and the like.

更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭47−840号、特
開昭47−44180号、特公昭51−41061号、特開昭49−5034
号、特開昭49−45122号、特開昭57−46245号、特開昭56
−35141号、特開昭57−157254号、特開昭61−26044号、
特開昭61−27551号、米国特許第3,619,154号、米国特許
第4,175,956号、「Research Disclosure」1982年、21
6、第117〜118頁等に記載のものが挙げられる。本発明
の感光体は種々の増感色素を併用させても、その性能が
増感色素により変動しにくい点において優れている。更
には、必要に応じて、化学増感剤等の従来知られている
電子写真感光層用各種添加剤を併用することもできる。
例えば、前記した総説:イメージング1973(No.8)第12
頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物、有機カルボ
ン酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開
発・実用化」第4章〜第6章:日本科学情報(株)出版
部(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、p−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。
Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-47-840, JP-A-47-44180, JP-B-51-41061, 1949-5034
No., JP-A-49-45122, JP-A-57-46245, JP-A-56
No. -35141, JP-A-57-157254, JP-A-61-26044,
JP-A-61-27551, U.S. Pat.No. 3,619,154, U.S. Pat.No.4,175,956, `` Research Disclosure '' 1982, 21
6, pages 117 to 118 and the like. The photoreceptor of the present invention is excellent in that even when various sensitizing dyes are used in combination, the performance is hardly changed by the sensitizing dye. Furthermore, various conventionally known additives for an electrophotographic photosensitive layer such as a chemical sensitizer can be used in combination, if necessary.
For example, the review mentioned above: Imaging 1973 (No. 8) No. 12
"Recent development and commercialization of photoconductive materials and photoreceptors", e.g., electron accepting compounds (e.g., halogen, benzoquinone, chloranil, acid anhydride, organic carboxylic acid, etc.) and Hiroshi Komon, which are described in pages and other reviews. Chapters 4 to 6 include polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds, and the like, which are reviewed in Japanese Science Information Co., Ltd., Publishing Division (1986).

これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではない
が、通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.0重量部
である。
The amounts of these various additives are not particularly limited, but are usually 0.0001 to 2.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoconductor.

光導電層の厚さは1〜100μ、特には10〜50μが好適
である。
The thickness of the photoconductive layer is preferably from 1 to 100 μm, particularly preferably from 10 to 50 μm.

また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷
発生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚
さは0.01〜1μ、特には0.05〜0.5μが好適である。
When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of the photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is preferably 0.01 to 1 μm, particularly preferably 0.05 to 0.5 μm.

感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主
目的として絶縁層を付設させる場合もある。この時は絶
縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プ
ロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設
定される。
In some cases, an insulating layer is provided for the main purpose of protecting the photoreceptor, improving durability, and improving dark attenuation characteristics. At this time, the insulating layer is set relatively thin, and the insulating layer provided when the photosensitive member is used in a specific electrophotographic process is set relatively thick.

後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、10
〜50μに設定される。
In the latter case, the thickness of the insulating layer is between 5 and 70 μm, especially 10
Set to ~ 50μ.

積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカル
バゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、ト
リフェニルメタン系色素などがある。電荷輸送層の厚さ
としては5〜40μ、特には10〜30μが好適である。
Examples of the charge transport material of the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, and triphenylmethane dyes. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 μm, particularly preferably 10 to 30 μm.

絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂として
は、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル
樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酢ビ共重合体樹脂、ポリ
アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹
脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
Typical examples of the resin used for forming the insulating layer or the charge transport layer include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, A thermoplastic resin of a polyacryl resin, a polyolefin resin, a urethane resin, an epoxy resin, a melamine resin, a silicone resin, and a curable resin are appropriately used.

本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設け
ることができる。一般に云って電子写真感光層の支持体
は、導電性であることが好ましく、導電性支持体として
は、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチック
シート等の基体の低抵抗性物質を含浸させるなどして導
電処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対
面)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目
的で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体
の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面
層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が
設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive, and the conductive support may be completely impregnated with a low-resistance substance such as a metal, paper, or plastic sheet in the same manner as in the related art. A substrate that has been subjected to a conductive treatment, for example, by applying a conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided), and further coated with at least one layer for the purpose of preventing curling and the like. A substrate provided with a water-resistant adhesive layer on its surface, a substrate provided with at least one or more precoat layers as necessary on the surface layer of the support, or a substrate conductive plastic on which Al or the like is deposited is laminated on paper. Can be used.

具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例とし
て、坂本幸男,電子写真,14,(No.1),p2〜11(197
5)、森賀弘之,「入門特殊紙の化学」高分子刊行会(1
975),M.F.Hoover,J.Macromol.Sci.Chem.A−4(6),
第1327〜1417頁(1970)等に記載されているもの等を用
いる。
Specifically, as an example of a conductive substrate or a conductive material, Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No. 1), p2-11 (197)
5), Hiroyuki Moriga, “Chemistry of Introductory Special Paper”, Polymer Publishing Association (1
975), MF Hoover, J. Macromol. Sci. Chem. A-4 (6),
Those described in pages 1327 to 1417 (1970) and the like are used.

(実施例) 以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容が
これに限定されるものではない。
(Example) An example of the present invention will be described below, but the content of the present invention is not limited thereto.

〔樹脂〔A〕の合成〕 樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 エチルメタクリレート95g及びテトラヒドロフラン200
gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−20℃に冷
却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.5gを加え12
時間反応した。更に、この混合溶液に、トリフェニルメ
チルメタクリレート5g及びテトラヒドロフラン5gの混合
溶液を窒素気流下に充分に脱気した後添加し、更に8時
間反応した。この混合物を0℃にした後、メタノール10
mlを加え30分間反応し、重合を停止させた。得られた重
合体溶液を撹拌下にて温度30℃とし、これに30%塩化水
素エタノール溶液3mlを加え1時間撹拌した。次に、減
圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶媒を留去
した後、石油エーテル1中に再沈した。
[Synthesis of Resin [A]] Synthesis Example 1 of Resin [A] 1: [A-1] 95 g of ethyl methacrylate and 200 of tetrahydrofuran
g of the mixed solution was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to -20 ° C. 1.5 g of 1,1-diphenylbutyllithium was added and 12
Reacted for hours. Further, to this mixed solution, a mixed solution of 5 g of triphenylmethyl methacrylate and 5 g of tetrahydrofuran was sufficiently degassed under a nitrogen stream, and then added, and the mixture was further reacted for 8 hours. The mixture was brought to 0 ° C.,
ml was added and reacted for 30 minutes to terminate the polymerization. The temperature of the resulting polymer solution was adjusted to 30 ° C. with stirring, to which 3 ml of a 30% ethanol solution of hydrogen chloride was added, followed by stirring for 1 hour. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure until the total amount of the reaction mixture became half, and the reaction mixture was reprecipitated in petroleum ether 1.

沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重合体は、
w8.5×103で収量70gであった。
The polymer obtained by collecting the precipitate and drying under reduced pressure is:
The yield was 70 g with a weight of 8.5 x 10 3 .

樹脂〔A〕の合成例2:〔A−2〕 n−ブチルメタクリレート46g、(テトラフェニルポ
ルフィナート)アルミニウムメチル0.5g及び塩化メチレ
ン60gの混合溶液を窒素気流下にて温度30℃とした。こ
れに300W−キセノンランプ光をガラスフィルターを通し
て25cmの距離から光照射し、12時間反応した。この混合
物に更に、ベンジルメタクリレート4gを加え、同様に8
時間光照射した後、この反応混合物にメタノール3gを加
え30分間撹拌し反応を停止させた。次にこの反応混合物
にPd−Cを加え、温度25℃で1時間接触還元反応を行な
った。
Synthesis Example 2 of Resin [A]: [A-2] A mixed solution of 46 g of n-butyl methacrylate, 0.5 g of (tetraphenylporphinato) aluminum methyl and 60 g of methylene chloride was heated to 30 ° C. under a nitrogen stream. This was irradiated with light from a 300 W-xenon lamp through a glass filter from a distance of 25 cm, and reacted for 12 hours. To this mixture was further added 4 g of benzyl methacrylate.
After light irradiation for 3 hours, 3 g of methanol was added to the reaction mixture, followed by stirring for 30 minutes to terminate the reaction. Next, Pd-C was added to the reaction mixture, and a catalytic reduction reaction was performed at a temperature of 25 ° C. for 1 hour.

不溶物を濾別した後石油エーテル500ml中に再沈し、
沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量33gで
w9.3×103であった。
After filtering off the insoluble matter, the precipitate was reprecipitated in 500 ml of petroleum ether,
The precipitate was collected and dried. The obtained polymer was obtained in a yield of 33 g.
It was w9.3 × 10 3 .

樹脂〔A〕の合成例3:〔A−3〕 2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリレート90g
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
し0℃に冷却した。次いで1,1−ジフェニル−3−メチ
ルペンチルリチウム2.5gを加え、6時間撹拌した。更に
この混合物に4−ビニルフェニルオキシトリメチルシラ
ン10gを加え6時間撹拌した後、メタノール3gを加えて3
0分間撹拌した。
Synthesis Example 3: Resin [A]: [A-3] 2-chloro-6-methylphenyl methacrylate 90 g
A mixed solution of 200 g of toluene and 200 g was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to 0 ° C. Then, 2.5 g of 1,1-diphenyl-3-methylpentyllithium was added, and the mixture was stirred for 6 hours. Further, 10 g of 4-vinylphenyloxytrimethylsilane was added to this mixture, and the mixture was stirred for 6 hours.
Stirred for 0 minutes.

次にこの反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液10
gを加え25℃で1時間撹拌した後、石油エーテル1中
に再沈し捕集した沈澱物をジエチルエーテル300mlで2
回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、収量58gでw7.
8×103であった。
The reaction mixture is then added to a 10% 30% hydrogen chloride ethanol solution.
g, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 1 hour. The precipitate was reprecipitated in petroleum ether 1 and the collected precipitate was extracted with 300 ml of diethyl ether.
Washed and dried twice. The obtained polymer was w7 with a yield of 58 g.
It was 8 × 10 3 .

樹脂〔A〕の合成例4:〔A−4〕 フェニルメタクリレート95g、ベンジルN,N−ジエチル
ジチオカーバメート4.8gの混合物を、窒素気流下に容器
に密閉し、温度60℃に加温した。これに、400Wの高圧水
銀灯で10cmの距離からガラスフィルターを通して、10時
間光照射し光重合した。
Synthesis Example 4: Resin [A]: [A-4] A mixture of 95 g of phenyl methacrylate and 4.8 g of benzyl N, N-diethyldithiocarbamate was sealed in a vessel under a nitrogen stream, and heated to a temperature of 60 ° C. This was irradiated with light for 10 hours through a glass filter from a distance of 10 cm with a 400 W high-pressure mercury lamp, and photopolymerized.

これにアクリル酸5g及びメチルエチルケトン180gを加
えた後窒素置換し、再び10時間光照射した。
To this were added 5 g of acrylic acid and 180 g of methyl ethyl ketone, followed by purging with nitrogen and light irradiation again for 10 hours.

得られた反応物をヘキサン1.5に再沈、捕集し乾燥
した。得られた重合体は、68gでw9.5×103であった。
The obtained reaction product was reprecipitated in hexane 1.5, collected and dried. The obtained polymer had a weight of 9.5 × 10 3 in 68 g.

マクロモノマー(MB)の合成例1:M−1 エチルメタクリレート90g、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート10g、チオグリコール酸5g及びトルエン200
gの混合溶液を、窒素気流下撹拌しながら、温度75℃に
加温した。2,2′−アゾビスイソブチロニトリル(略称
A.I.B.N.)1.0gを加え、8時間反応した。次にこの反応
溶液にグリシジルメタクリレート8g、N,N−ジメチルド
デシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロキノン0.5gを
加え、温度100℃にて12時間撹拌した。冷却後この反応
溶液をn−ヘキサン2中に再沈し、白色粉末を82g得
た。重合体の重量平均分子量は3.8×103であった。
Synthesis Example 1 of Macromonomer (MB) 1: M-1 90 g of ethyl methacrylate, 10 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 5 g of thioglycolic acid and 200 of toluene
g of the mixed solution was heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviation)
(AIBN) 1.0 g and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate, 1.0 g of N, N-dimethyldodecylamine and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to the reaction solution, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C. for 12 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in n-hexane 2 to obtain 82 g of a white powder. The weight average molecular weight of the polymer was 3.8 × 10 3 .

マクロモノマー(MB)の合成例2:M−2 ブチルメタクリレート90g、メタアクリル酸10g、2−
メルカプトエタノール4g、テトラヒドロフラン200gの混
合溶液を窒素気流下温度70℃に加温した。A.I.B.N.1.2g
を加え、8時間反応した。
Synthesis Example 2 of Macromonomer (MB): 90 g of M-2 butyl methacrylate, 10 g of methacrylic acid, 2-
A mixed solution of 4 g of mercaptoethanol and 200 g of tetrahydrofuran was heated to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream. AIBN1.2g
Was added and reacted for 8 hours.

次にこの反応溶液を水浴中で冷却した温度20℃とし、
トリエチルアミン10.2gを加え、メタクリル酸クロライ
ド14.5gを温度25℃以下で撹拌下滴下した。滴下後その
まま1時間更に撹拌した。その後、t−ブチルハイドロ
キノン0.5gを加え温度60℃に加温し、4時間撹拌した。
冷却後、水1中に撹拌しながら滴下し(約10分間)、
そのまま1時間撹拌して静置後、水をデカンテーション
で除去した。水での洗浄を更に2回行なった後、テトラ
ヒドロフラン100mlに溶解し、石油エーテル2中に再
沈した。沈澱物をデカンテーションで補集し、減圧下に
乾燥した。得られた粘稠物の収量は65gで重量平均分子
量5.6×103であった。
Next, the reaction solution was cooled to 20 ° C. in a water bath,
Triethylamine (10.2 g) was added, and methacrylic acid chloride (14.5 g) was added dropwise with stirring at a temperature of 25 ° C. or lower. After the addition, the mixture was further stirred for 1 hour. Thereafter, 0.5 g of t-butylhydroquinone was added, the mixture was heated to a temperature of 60 ° C., and stirred for 4 hours.
After cooling, it is dropped into water 1 with stirring (about 10 minutes)
After stirring for 1 hour as it was and standing, water was removed by decantation. After washing twice with water, the residue was dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran and reprecipitated in petroleum ether 2. The precipitate was collected by decantation and dried under reduced pressure. The yield of the obtained viscous material was 65 g, and the weight average molecular weight was 5.6 × 10 3 .

マクロモノマー(MB)の合成例3:M−3 ベンジルメタクリレート95g、2−ホスホノエチルメ
タクリレート5g、2−アミノエチルメルカプタン4g及び
テトラヒドロフラン200gの混合溶液を、窒素気流下撹拌
下に温度70℃に加温した。
Synthesis Example 3 of Macromonomer (MB): M-3 A mixed solution of 95 g of benzyl methacrylate, 5 g of 2-phosphonoethyl methacrylate, 4 g of 2-aminoethyl mercaptan and 200 g of tetrahydrofuran was added to a temperature of 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Warmed.

A.I.B.N.1.5gを加え4時間反応させ、更にA.I.B.N.0.
5gを加えて4時間反応させた。次に、この反応溶液を温
度20℃に冷却し、アクリル酸無水物10gを加えて温度20
〜25℃で1時間撹拌した。次にt−ブチルハイドロキノ
ン1.0gを加え温度50〜60℃で4時間撹拌した。冷却後、
水1中に撹拌しながら、この反応混合物を約10分間で
滴下し、そのまま1時間撹拌した後静置して、水をデカ
ンテーションで除去した。水での洗浄を更に2回繰り返
した後、テトラヒドロフラン100mlに溶解し、石油エー
テル2中に再沈した。沈澱物をデカンテーションで補
集し、減圧下に乾燥した。得られた粘稠物の収量は70g
で重量平均分子量は7.4×103であった。
Add 1.5g of AIBN and let it react for 4 hours.
5 g was added and reacted for 4 hours. Next, the reaction solution was cooled to a temperature of 20 ° C., and 10 g of acrylic acid anhydride was added thereto.
Stirred at 2525 ° C. for 1 hour. Next, 1.0 g of t-butylhydroquinone was added, and the mixture was stirred at a temperature of 50 to 60 ° C for 4 hours. After cooling,
While stirring in water 1, the reaction mixture was added dropwise over about 10 minutes, stirred for 1 hour and allowed to stand, and water was removed by decantation. After repeating the washing with water twice more, it was dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran and reprecipitated in petroleum ether 2. The precipitate was collected by decantation and dried under reduced pressure. The yield of the obtained viscous material is 70 g.
And the weight average molecular weight was 7.4 × 10 3 .

マクロモノマー(MB)の合成例4:M−4 2−クロロフェニルメタクリレート95g、下記構造
(I)の単量体5g、チオグリコール酸4g及びトルエン20
0gの混合溶液を、窒素気流下温度70℃に加温した。A.I.
B.N.1.5gを加え5時間反応し、更にA.I.B.N.0.5gを加え
4時間反応した。次にグリシジルメタクリレート12.4
g、N,N−ジメチルドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハ
イドロキノン1.5gを加え温度110℃で8時間反応した。
冷却後この反応混合物をp−トルエンスルホン酸3g、90
vol%テトラヒドロフラン水溶液100mlに溶液に加え、温
度30〜35℃で1時間撹拌した。水/エタノール〔(1/
3)容積比〕の混合溶液2中に、上記混合物を再沈
し、デカンテーションで沈澱物を補集した。この沈澱物
をテトラヒドロフラン200mlに溶解しn−ヘキサン2
中に再沈し、粉末58gを得た。重量平均分子量は7.6×10
3であった。
Synthesis Example 4 of Macromonomer (MB): M-4 95 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 5 g of monomer having the following structure (I), 4 g of thioglycolic acid and 20 parts of toluene
0 g of the mixed solution was heated to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream. AI
1.5 g of BN was added and reacted for 5 hours, and 0.5 g of AIBN was further added and reacted for 4 hours. Next, glycidyl methacrylate 12.4
g, 1.0 g of N, N-dimethyldodecylamine and 1.5 g of t-butylhydroquinone were added and reacted at 110 ° C. for 8 hours.
After cooling, the reaction mixture was mixed with 3 g of p-toluenesulfonic acid, 90 g
The solution was added to 100 ml of a vol% aqueous tetrahydrofuran solution and stirred at a temperature of 30 to 35 ° C for 1 hour. Water / ethanol [(1 /
3) The mixture was reprecipitated in a mixed solution 2 (volume ratio), and the precipitate was collected by decantation. This precipitate was dissolved in 200 ml of tetrahydrofuran and n-hexane 2 was added.
It was re-precipitated in the inside to obtain 58 g of powder. Weight average molecular weight is 7.6 × 10
Was 3 .

マクロモノマー(MB)の合成例5:M−5 2,6−ジクロロフェニルメタクリレート95g、3−
(2′−ニトロベンジルオキシスルホニル)プロピルメ
タクリレート5g、トルエン150g及びイソプロピルアルコ
ール50gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃に加温し
た。2,2′−アゾビス(2−シアノ吉草酸)(略称:A.C.
V.)5.0gを加え5時間反応し、更にA.C.V.1.0gを加えて
4時間反応した。冷却後、メタノール2中にこの反応
物を再沈し、粉末を濾集し、減圧乾燥した。
Synthesis example 5 of macromonomer (MB): M-5 95 g of 2,6-dichlorophenyl methacrylate, 3-g
A mixed solution of 5 g of (2′-nitrobenzyloxysulfonyl) propyl methacrylate, 150 g of toluene and 50 g of isopropyl alcohol was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream. 2,2'-azobis (2-cyanovaleric acid) (abbreviation: AC
V.) 5.0 g was added and reacted for 5 hours, and ACV 1.0 g was further added and reacted for 4 hours. After cooling, the reaction product was reprecipitated in methanol 2, and the powder was collected by filtration and dried under reduced pressure.

上記粉末50gグリシジルメタクリレート14g、N,N−ジ
メチルドシルアミン0.6g、t−ブチルハイドロキノン1.
0g及びトルエン100gの混合物を温度110℃で10時間撹拌
した。室温に冷却後80Wの高圧水銀灯にて、この混合物
を撹拌下に1時間光照射した。その後反応混合物をメタ
ノール1中に再沈し、粉末を濾集・減圧乾燥した。収
量34gで重量平均分子量は7.3×103であった。
50 g of the above powder, 14 g of glycidyl methacrylate, 0.6 g of N, N-dimethyldosylamine, t-butyl hydroquinone 1.
A mixture of 0 g and 100 g of toluene was stirred at a temperature of 110 ° C. for 10 hours. After cooling to room temperature, the mixture was irradiated with light for 1 hour with stirring using a high-pressure mercury lamp of 80 W. Thereafter, the reaction mixture was reprecipitated in methanol 1, and the powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. The yield was 34 g and the weight average molecular weight was 7.3 × 10 3 .

本発明の樹脂〔B〕の合成例1:〔B−1〕 ベンジルメタクリレート80g、マクロモノマー(MB)
の合成例2の化合物(M−2)20g及びトルエン100gの
混合溶液を、窒素気流下に温度75℃に加温した。1,1′
−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニアニド)
(略称A.B.C.C.)0.8gを加え4時間反応し、更にA.I.B.
N.0.5gを加え3時間反応した。
Synthesis Example 1: Resin [B] of the present invention 1: [B-1] Benzyl methacrylate 80 g, macromonomer (MB)
A mixed solution of 20 g of the compound (M-2) of Synthesis Example 2 and 100 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. 1,1 ′
-Azobis (cyclohexane-1-carbonianide)
(Abbreviation: ABCC) 0.8g and react for 4 hours, then AIB
N. 0.5 g was added and reacted for 3 hours.

得られた共重合体のwは1.0×105であった。W of the obtained copolymer was 1.0 × 10 5 .

本発明の樹脂〔B〕の合成例2:〔B−2〕 2−クロロフェニルメタクリレート70g、マクロモノ
マー(MB)の合成例1の化合物(M−1)30g、チオグ
リコール酸0.7g及びトルエン150gの混合溶液を窒素気流
下に温度80℃に加温した。A.B.C.C.0.5gを加え5時間反
応し、後にA.B.C.C.0.3gを加え3時間、更にA.B.C.C.0.
2gを加え3時間反応した。
Synthesis Example 2: Resin [B] of the present invention: [B-2] 70 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 30 g of compound (M-1) of Synthesis Example 1 of macromonomer (MB), 0.7 g of thioglycolic acid and 150 g of toluene The mixed solution was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream. After adding 0.5 g of ABCC and reacting for 5 hours, 0.3 g of ABCC was added and added for 3 hours.
2 g was added and reacted for 3 hours.

得られた共重合体のwは9.2×104であった。W of the obtained copolymer was 9.2 × 10 4 .

本発明の樹脂〔B〕の合成例3:〔B−3〕 エチルメタクリレート60g、マクロモノマー(MB)の
合成例4の化合物:(M−4)25g、メチルアクリレー
ト15及びトルエン150gの混合溶液を窒素気流下温度75℃
に加温した。A.C.V.0.5gを加え5時間反応し更にA.C.V.
0.3gを加え4時間反応した。得られた共重合体のwは
1.1×105であった。
Synthesis Example 3 of Resin [B] of the Present Invention: [B-3] 60 g of ethyl methacrylate, compound of Synthesis Example 4 of macromonomer (MB): A mixed solution of 25 g of (M-4), 15 g of methyl acrylate and 150 g of toluene. 75 ° C under nitrogen flow
Was heated. Add 0.5g of ACV and react for 5 hours.
0.3 g was added and reacted for 4 hours. W of the obtained copolymer is
It was 1.1 × 10 5 .

本発明の樹脂[B]の合成例4〜11:[B−4]〜[B
−11] 樹脂〔B〕の合成例1と同様にして、下記表−1に相
当するメタクリレートとマクロモノマーを用いて、各樹
脂〔B〕を合成した。
Synthesis Examples 4 to 11 of Resin [B] of the Present Invention: [B-4] to [B
-11] Resin [B] was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 of resin [B], using methacrylates and macromonomers corresponding to Table 1 below.

本発明の樹脂[B]の合成例12〜19:[B−12]〜[B
−19] 樹脂〔B〕の合成例2と同様にして、メタクリレー
ト、マクロモノマーメルカプト化合物を各々代えて下記
表−2の樹脂〔B〕を各々合成した。
Synthesis Examples 12 to 19 of Resin [B] of the Present Invention: [B-12] to [B
-19] Resin [B] shown in Table 2 below was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 of resin [B], except that the methacrylate and the macromonomer mercapto compound were each replaced.

各樹脂のwは9×104〜1.1×105であった。The w of each resin was 9 × 10 4 to 1.1 × 10 5 .

本発明の樹脂[B]の合成例20〜27:[B−20]〜[B
−27] 樹脂〔B〕の合成例3と同様にして、メタクリレー
ト、マクロモノマー及びアゾビス系化合物を各々代え
て、下記表−3の樹脂〔B〕を各々合成した。
Synthesis Examples 20 to 27 of Resin [B] of the Present Invention: [B-20] to [B
-27] Resin [B] in Table 3 below was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 3 of resin [B], except that the methacrylate, the macromonomer, and the azobis compound were each replaced.

各樹脂〔B〕のwは9.5×104〜1.5×105であった。The w of each resin [B] was 9.5 × 10 4 to 1.5 × 10 5 .

実施例1及び比較例A〜C 樹脂〔A−3〕6g(固形分量として)、樹脂〔B−
1〕34g(固形分量として)、下記構造のシアニン色素
〔I〕0.018g及びトルエン300gの混合物をボールミル中
で4時間分散して、感光層形成物を調製し、これを導電
処理した紙に、乾燥付着量が25g/m2となる様に、ワイヤ
ーバーで塗布し、110℃で30秒間乾燥し、ついで暗所で2
0℃65%RHの条件下で24時間放置することにより、電子
写真感光材料を作製した。
Example 1 and Comparative Examples A to C Resin [A-3] 6 g (as solid content), resin [B-
1] A mixture of 0.018 g of cyanine dye [I] having the following structure and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 4 hours to prepare a photosensitive layer-forming product. Apply with a wire bar so that the dry adhesion amount becomes 25 g / m 2 , dry at 110 ° C for 30 seconds, and then
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by being left at 0 ° C. and 65% RH for 24 hours.

比較例A: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、下記構
造の樹脂〔R−1〕6g及びポリ(エチルメタクリレー
ト)(w2.4×105):樹脂〔R−2〕34gを用いる以外
は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製
した。
Comparative Example A: Instead of the binder resin used in Example 1, 6 g of resin [R-1] having the following structure and 34 g of poly (ethyl methacrylate) (w2.4 × 10 5 ): resin [R-2] were used. An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except for using it.

比較例B: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、下記構
造の樹脂〔R−3〕6g及び樹脂〔R−2〕34gを用いる
以外は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料を
作製した。
Comparative Example B: The procedure of Example 1 was repeated, except that 6 g of the resin [R-3] and 34 g of the resin [R-2] having the following structure were used instead of the binder resin used in Example 1. A photographic light-sensitive material was prepared.

比較例C: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、樹脂
〔R−3〕6g及び下記構造の樹脂〔R−4〕34gを用い
る以外は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料
を作製した。
Comparative Example C: The procedure of Example 1 was repeated, except that 6 g of resin [R-3] and 34 g of resin [R-4] having the following structure were used instead of the binder resin used in Example 1. A photographic light-sensitive material was prepared.

これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特
性、撮像性及び環境条件を30℃、80%RHとした時の撮像
性を調べた。更に、これらの感光材料をオフセットマス
ター用原版として用いた時の光導電性の不感脂化性(不
感脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わす)及び
印刷性(地汚れ、耐刷性等)を調べた。
The film properties (surface smoothness), electrostatic properties, imaging properties, and imaging properties of these photosensitive materials when the environmental conditions were 30 ° C. and 80% RH were examined. Further, when these photosensitive materials are used as an offset master, the photoconductive desensitizing property (expressed by the contact angle of the photoconductive layer with water after the desensitizing treatment) and printability (ground stain, Printing durability).

以上の結果をまとめて表−4に示す。 The above results are summarized in Table-4.

表−4に示した評価項目の実施の態様は以下の通りで
ある。
The embodiments of the evaluation items shown in Table 4 are as follows.

注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。
Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagaya Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc. It was measured.

注2)光導電層の機械的強度: 得られた感光材料面をヘイドン−14型表面性試験材
(新東化学(株)製)を用いて荷重60g/cm2のものでエ
メリー紙(#1000)で1000回繰り返し探り摩耗粉を取り
除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め機械的強
度とした。
Note 2) Mechanical strength of photoconductive layer: The surface of the obtained photosensitive material was emery paper (#) with a load of 60 g / cm 2 using a Haydon-14 type surface test material (manufactured by Shinto Chemical Co., Ltd.). The abrasion powder was removed 1000 times repeatedly to remove the abrasion powder, and the remaining film rate (%) was determined from the weight loss of the photosensitive layer, and the resulting value was defined as the mechanical strength.

注3)静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペーパー
アナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライザー
SP−428型)を用いて−6kVで20秒間コロナ放電させた
後、10秒間放置し、この時の表面電位V10を測定した。
次いでそのまま暗中で120秒間静置させた後の電位V130
を測定し、120秒間暗減衰された後の電位の保持性、即
ち、暗減衰保持率〔DRR(%)〕を(V130/V10)×100
(%)で求めた。
Note 3) Electrostatic properties: Paper analyzer (Kawaguchi Electric Co., Ltd. paper analyzer) in a dark room at a temperature of 20 ° C and 65% RH.
After 20 seconds corona discharge -6kV with SP-428 type), allowed to stand for 10 seconds to measure the surface potential V 10 at this time.
Next, the potential V 130 after being allowed to stand in the dark for 120 seconds.
Is measured, and the retention of the potential after dark decay for 120 seconds, that is, the dark decay retention [DRR (%)] is (V 130 / V 10 ) × 100.
(%).

又コロナ放電により光導電表面を−500Vに帯電させた
後、波長785nmの単色光で照射し、表面電位(V10)が1/
10に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E1/10
(erg/cm2)を算出する。更にE1/10測定と同様にコロ
ナ放電により−500Vに帯電させた後、波長785nmの単色
光で照射し、表面電位(V10)が1/10に減衰するまでの
時間を求め、これから露光量E1/100(erg/cm2)を算出
する。
After charging the photoconductive surface to −500 V by corona discharge, the surface is irradiated with monochromatic light having a wavelength of 785 nm, and the surface potential (V 10 ) becomes 1 /
The time required to decay to 10 is obtained, and the exposure amount E 1/10
(Erg / cm 2 ) is calculated. Furthermore, after charging to -500 V by corona discharge in the same manner as in E 1/10 measurement, irradiation with monochromatic light having a wavelength of 785 nm was performed, and the time until the surface potential (V 10 ) attenuated to 1/10 was determined. The quantity E 1/100 (erg / cm 2 ) is calculated.

注4)撮像性: 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。次に
−5kVで帯電し、光源として、2.8mW出力のガリウム−ア
ルミニウム−ヒ素、半導体レーザー(発振波長785nm)
を用いて、感光材料表面上で50erg/cm2の照射量下、ピ
ッチ25μm及びスキャニング速度300m/secのスピード露
光後液体現像剤として、ELP−T(富士写真フイルム
(株)製)を用いて現像し、定着することで得られた複
写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。
Note 4) Image-capturability: Each photosensitive material was allowed to stand for one day under the following environmental conditions. Next, it is charged with -5kV, and as a light source, gallium-aluminum-arsenic with 2.8mW output, semiconductor laser (oscillation wavelength 785nm)
Using ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a liquid developer after exposure at a pitch of 25 μm and a scanning speed of 300 m / sec under an irradiation dose of 50 erg / cm 2 on the surface of the photosensitive material. The copied image (fog, image quality) obtained by developing and fixing was visually evaluated.

撮像時の環境条件は20℃65%RHと30℃80%RHで実施し
た。
Environmental conditions at the time of imaging were 20 ° C 65% RH and 30 ° C 80% RH.

注5)水との接触角: 各感光材料を不感脂化処理液EPL−EX(富士写真フイ
ルム(株)製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用い
て、エッチングプロセッサーに1回通して光導電層面を
不感脂化処理した後、これを蒸留水2III−の水滴を乗
せ、形成された水との接触角をゴニオメーターで測定す
る。
Note 5) Contact angle with water: Each photosensitive material is passed through an etching processor once using a solution obtained by diluting a desensitizing solution EPL-EX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) twice with distilled water. After desensitizing the surface of the photoconductive layer, a drop of distilled water 2III- is placed on the surface and the contact angle with the formed water is measured with a goniometer.

注6)耐刷性: 各感光材料を、上記注4)と同条件で、製版して、ト
ナー画像を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理
し、これをオフセットマスターとして、オフセット印刷
機(桜井製作所(株)オリバー52型)にかけ、印刷物の
非画像物の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで
印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐刷性が良
好なことを表わす)。
Note 6) Printing durability: Each photosensitive material is plate-made under the same conditions as in Note 4) to form a toner image, and desensitized under the same conditions as in Note 5) above, and used as an offset master. This indicates the number of sheets that can be printed on an offset printing machine (Sakurai Seisakusho Co., Ltd. Oliver 52) without causing background contamination of the non-image material of the printed matter and no problem in the image quality of the image portion. Is good).

表−4に示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の
平滑性膜の強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像
も地カブリがなく複写画像も鮮明であった。このことは
光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を
被覆していることによるものと推定される。同様の理由
で、オフセットマスター原版として用いた場合でも不感
脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像
部の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親水化さ
れていることが判る。実際に診察して印刷物の地汚れを
観察しても地汚れは全く認められなかった。
As shown in Table 4, the photosensitive material of the present invention had good strength and electrostatic properties of the smooth film of the photoconductive layer, and the actual copied image was clear without background fog and the copied image was clear. This is presumed to be due to the photoconductor and the binder resin being sufficiently adsorbed and covering the particle surface. For the same reason, even when used as an offset master master, the desensitizing treatment with the desensitizing solution proceeds sufficiently, the contact angle with water of the non-image area is as small as 10 degrees or less, and the hydrophilicity is sufficiently increased. You can see that Even when the printed matter was actually examined and the background stain was observed, no background stain was observed.

又、比較例A〜Cは、本発明の感光材料に比べると、
静電特性が低下してしまった。比較例Cは、膜強度が向
上し、静電特性においても、V10、D.R.R.、E1/10は、
かなり良好な値が得られた。しかし、E1/10値を見る
と、本発明の感光材料に比べ倍以上の大きな値となって
しまった。E1/100値は、実際の撮像性において、露光
後、非画像部(既に露光された部位)にどれだけの電位
が残っているかを示すものであり、この値が小さい程現
像後の非画像部の地汚れが生じなくなる事を示す。
Comparative Examples A to C are compared with the photosensitive material of the present invention.
The electrostatic characteristics have deteriorated. In Comparative Example C, the film strength was improved, and the electrostatic properties were also V 10 , DRR, and E 1/10 .
Very good values were obtained. However, the E 1/10 value was twice as large as that of the light-sensitive material of the present invention. The E 1/100 value indicates how much potential remains in the non-image area (exposed area) after exposure in the actual imaging performance. This indicates that background contamination of the image portion will not occur.

具体的には−10V以下の残留電位にすることが必要と
なり、即ち実際にはVR−10V以下とするために、どれだ
け露光量が必要となるかということで、半導体レーザー
光によるスキャンニング露光方式では、小さい露光量で
VRを−10V以下にすることは、複写機の光学系の設計上
(装置のコスト、光学系光路の精度等)非常に重要なこ
とである。
Specifically, it is necessary to set the residual potential to -10 V or less, that is, scanning with a semiconductor laser beam depends on how much exposure is required in order to actually make V R -10 V or less. With the exposure method, a small exposure
To the V R below -10V, the (cost of the device, the accuracy of an optical system an optical path) optical system design of the copying machine is very important.

以上の事より、露光照射量を少し少なくした装置で実
際に撮像すると、比較例Aは、D.R.R.が著しく低いた
め、満足な複写画像はえられなかった。比較例Bは、高
温・高湿の条件下でその画像の悪化が著しく、画像部の
濃度低下、細線・文字のカスレが発生し、又、非画像部
に地カブリが発生してしまった。比較例Cは、常温・常
湿条件下では、ほぼ満足する画像であったが、高温・高
湿条件下では、地カブリの発生、画像部の細線のカスレ
等が発生してしまった。又、オフセットマスター原版と
して用いた場合でも、本発明の感光材料が1万枚以上印
刷できる印刷条件で、比較例A〜Cのいずれも、刷り出
しの印刷物から、非画像部の地汚れが発生してしまっ
た。これは、鮮明な複写画像が得られず、地カブリが不
感脂化処理でも除去できずに生じたものであった。
From the above, when an image was actually taken with an apparatus having a slightly reduced exposure dose, Comparative Example A had a remarkably low DRR, so that a satisfactory copied image could not be obtained. In Comparative Example B, the image deteriorated remarkably under the conditions of high temperature and high humidity, and the density of the image portion was reduced, thin lines and characters were blurred, and the ground fog was generated in the non-image portion. In Comparative Example C, the image was almost satisfactory under the condition of normal temperature and normal humidity, but under the condition of high temperature and high humidity, the occurrence of ground fogging and the thinning of the thin line in the image portion occurred. Further, even when used as an offset master, under the printing conditions that the photosensitive material of the present invention can print 10,000 sheets or more, in each of Comparative Examples A to C, non-image area stains are generated from printed printouts. have done. This was because a clear copied image was not obtained, and ground fog could not be removed by the desensitizing treatment.

以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静
電特性及び印刷適性を満足する電子写真感光体が得られ
る。
As described above, an electrophotographic photosensitive member that satisfies electrostatic characteristics and printability only when the resin of the present invention is used is obtained.

実施例2〜17 実施例1において、樹脂〔A−3〕及び樹脂〔B−1
1〕に代えて、下記表−5の各樹脂〔A〕及び各樹脂
〔B〕に代えた他は、実施例1と同様に操作して、各電
子写真感光体を作製した。
Examples 2 to 17 In Example 1, the resin [A-3] and the resin [B-1
Each electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example 1 except that each resin [A] and each resin [B] in Table 5 below were used instead of [1].

実施例1と同様にして静電特性を測定した。結果を表
−5に示す(但し、30℃,80%RHの条件下のみ記載)。
The electrostatic characteristics were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5 (however, described only under conditions of 30 ° C. and 80% RH).

又、オフセットマスター原版として用いて、実施例1
と同様にして印刷した所、いずれも1万枚以上印刷する
ことができた。
Example 1 was used as an offset master master.
When printing was performed in the same manner as described above, all of them could print 10,000 sheets or more.

以上から、本発明の各感光材料は光導電層の平滑性、
膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好な
ものであった。
From the above, each photosensitive material of the present invention, the smoothness of the photoconductive layer,
The film strength, electrostatic properties, and printability were all favorable.

さらに、樹脂〔A′〕を用いることにより静電特性が
さらに向上することが判った。
Furthermore, it was found that the use of the resin [A '] further improved electrostatic characteristics.

実施例18〜33 実施例1において結着樹脂として下記表−6の樹脂
〔A〕7.6g及び樹脂〔B〕34gに代え、又、シアニン色
素〔I〕0.02gの代わりに下記構造の色素〔II〕0.019g
に代えた他は、実施例1と同様の条件で電子写真感光材
料を作製した。
Examples 18 to 33 In Example 1, as a binder resin, 7.6 g of resin [A] and 34 g of resin [B] shown in Table 6 below were used, and instead of 0.02 g of cyanine dye [I], a dye having the following structure [ II) 0.019 g
An electrophotographic photosensitive material was produced under the same conditions as in Example 1 except that the above was changed to.

本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持
率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30
℃、80%RH)の過酷な条件においても、地カブリの発生
のない、鮮明な画像を与えた。
The photosensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity.
(80 ° C., 80% RH), a clear image without fog was obtained.

更に、これをオフセットマスターの原版として用いて
印刷した所、地カブリのない鮮明な画質の印刷物を1万
枚以上印刷できた。
Furthermore, when this was used as an offset master master, 10,000 or more printed materials with clear image quality without background fog could be printed.

実施例34及び35並びに比較例D 樹脂〔A−1〕(実施例34)又は樹脂〔A−10〕(実
施例35)のいずれか6.5g、樹脂〔B−16〕33.5g、酸化
亜鉛200g、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.04g、ブロ
ムフェノールブルー0.03g、無水フタル酸0.20g及びトル
エン300gの混合物をボールミル中で4時間分散して感光
層形成物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着
量が25g/m2となる様にワイヤーバーで塗布し、110℃で
1分間乾燥した。次いで暗所で20℃、65%RHの条件下で
24時間放置することにより各電子写真感光体を作製し
た。
Examples 34 and 35 and Comparative Example D Either 6.5 g of resin [A-1] (Example 34) or resin [A-10] (Example 35), 33.5 g of resin [B-16], and 200 g of zinc oxide , 0.02 g of uranine, 0.04 g of rose bengal, 0.03 g of bromophenol blue, 0.20 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene were dispersed in a ball mill for 4 hours to prepare a photosensitive layer-formed product, which was then subjected to a conductive treated paper. It was applied with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g / m 2, and dried at 110 ° C. for 1 minute. Then, in the dark, at 20 ° C and 65% RH
Each electrophotographic photoreceptor was prepared by being left for 24 hours.

比較例D 実施例34において、樹脂〔A−1〕6.5g、樹脂〔B−
16〕33.5gの代わりに、樹脂〔R−3〕6.5g及び樹脂
〔R−4〕33.5gを用いた他は、実施例34と同様にし
て、感光材料を作製した。
Comparative Example D In Example 34, 6.5 g of resin [A-1] and resin [B-
16] A photosensitive material was produced in the same manner as in Example 34 except that 6.5 g of resin [R-3] and 33.5 g of resin [R-4] were used instead of 33.5 g.

実施例1と同様に、各感光材料の各特性を調べた。そ
の結果を下記表−7にまとめた。
As in Example 1, each characteristic of each photosensitive material was examined. The results are summarized in Table 7 below.

上記の測定において、静電特性及び撮像性については
下記の操作に従った他は、実施例1と同様の操作で行な
った。
In the above measurement, the same operation as in Example 1 was performed, except that the following operation was performed for the electrostatic characteristics and the image capturing property.

注7)静電特性のE1/10及びE1/100の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電させた
後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で照射
し、表面電位(V10)が1/10又は1/100に減衰するまでの
時間を求め、これから露光量E1/10又はE1/100(ルッ
クス・秒)を算出する。
Note 7) Method for measuring E 1/10 and E 1/100 of electrostatic characteristics After charging the surface of the photoconductive layer to −400 V by corona discharge, irradiating the surface of the photoconductive layer with visible light having an illuminance of 2.0 lux. The time required for the surface potential (V 10 ) to decay to 1/10 or 1/100 is determined, and the exposure amount E 1/10 or E 1/100 (lux seconds) is calculated from this.

注8)撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全
自動製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)製)でE
PL−Tをトナーとして用いて製版して得られた複写画像
(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像時の環境
条件は、20℃65%RH(I)と30℃80%RH(II)で実施し
た。但し、複写用の原稿(即ち、版下原稿)には、ほか
の原稿を切り抜いて、貼り込みを行なって作成したもの
を用いた。
Note 8) Imaging characteristics After each photosensitive material is left for one day and night under the following environmental conditions, E is used with a fully automatic plate making machine EPL-404V (Fuji Photo Film Co., Ltd.).
A copy image (fog, image quality) obtained by making a plate using PL-T as a toner was visually evaluated. Environmental conditions at the time of imaging were 20 ° C. and 65% RH (I) and 30 ° C. and 80% RH (II). However, a copy original (that is, a copy original) was prepared by cutting and pasting another original.

各感光材料において、光導電層の平滑性及び強度にお
いて、その差は認められなかった。しかし、静電特性に
おいて、比較例Dは、特に光感度E1/100の値が大きく
なった。本発明の感光材料の静電特性は良好であり、更
に、特定の置換基を有する樹脂〔A〕を用いた実施例35
は、非常に良好であり、特にE1/100の値が小さくなっ
た。
In each photosensitive material, no difference was observed in the smoothness and strength of the photoconductive layer. However, in Comparative Example D, the value of the light sensitivity E 1/100 was particularly large in the electrostatic characteristics. The photosensitive material of the present invention has good electrostatic characteristics, and furthermore, the photosensitive material of Example 35 using the resin [A] having a specific substituent was used.
Was very good, and the value of E 1/100 was particularly small.

実際の撮像性を調べて見ると、比較例Dは、複写画像
として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠(即
ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認められ
た。しかし、本発明のものは、いずれも、地汚れのな
い、鮮明な画像のものが得られた。
Investigation of the actual imaging performance revealed that in Comparative Example D, in addition to the original as a copy image, the frame of the cut and pasted portion (that is, the pasted trace) was recognized as background stain in the non-image portion. However, in each case of the present invention, clear images without background stains were obtained.

更に、これらをオフセット印刷用原版として不感脂化
処理して印刷した所、本発明のものはいずれも地汚れの
ない鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。しかし、比
較例Dは、上記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去
されず、刷り出しの印刷物から発生してしまった。
Further, when these were subjected to desensitization processing as an offset printing original plate and then printed, 10,000 sheets of clear images having no background stain were obtained in any of the present invention. However, in Comparative Example D, the sticking marks were not removed even by the desensitizing treatment, and were generated from the printed material.

以上のことより、本発明の感光材料のみが、良好な特
性を与えることができた。
As described above, only the photosensitive material of the present invention was able to give good characteristics.

実施例36〜49 実施例34において、樹脂〔A−1〕6.5g及び樹脂〔B
−16〕33.5gの代わりに、下記表−8の樹脂〔A〕6.5g
及び樹脂〔B〕33.5gを用いた他は、実施例34と同様に
して各感光材料を作製した。
Examples 36 to 49 In Example 34, 6.5 g of resin [A-1] and resin [B
-16] instead of 33.5 g, use the resin [A] 6.5 g shown in Table 8 below.
Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 34 except that 33.5 g of the resin [B] was used.

本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(30℃、80%
RH)の過酷な条件においても地カブリの発生や細線飛び
の発生等のない鮮明な画像を与えた。
All photosensitive materials of the present invention are chargeable, dark charge retention,
Excellent light sensitivity, real copy image is high temperature and humidity (30 ℃, 80%
Even under severe conditions (RH), a clear image was obtained without occurrence of ground fogging or fine line skipping.

更にオフセットマスター原版として印刷した所、1万
枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が
得られた。
Further, when printing was performed as an offset master plate, a printed matter of clear image quality free of background stain was obtained even after printing 10,000 sheets.

実施例50 下記構造の樹脂〔A−21〕8g及び樹脂〔B−14〕28
g、酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.04
g、ブロモフェノールブルー0.03g、無水フタル酸0.20g
及びトルエン300gの混合物をボールミル中で4時間分散
し、更に、1,3−キシリレンジイソシアナート3.5gを加
え、更にボールミルで10分間分散した。
Example 50 8 g of resin [A-21] and resin [B-14] 28 having the following structure
g, zinc oxide 200g, uranine 0.02g, rose bengal 0.04
g, bromophenol blue 0.03 g, phthalic anhydride 0.20 g
And a mixture of 300 g of toluene were dispersed in a ball mill for 4 hours, 3.5 g of 1,3-xylylene diisocyanate was further added, and the mixture was further dispersed in a ball mill for 10 minutes.

これを導電処理した紙に、乾燥付着量が18g/m2となる
様にワイヤーバーで塗布し、110℃で30秒間加熱し、
後、120℃で2時間加熱した。次いで暗所で20℃、65%R
Hの条件下で24時間放置することにより各電子写真感光
体を作製した。
This was applied to a conductive treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 18 g / m 2, and heated at 110 ° C. for 30 seconds.
Thereafter, the mixture was heated at 120 ° C. for 2 hours. Then in dark place at 20 ℃, 65% R
Each electrophotographic photoreceptor was prepared by being left under H condition for 24 hours.

本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持
率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30
℃,80%RH)の過酷な条件においても、地カブリの発生
のない、鮮明な画像を与えた。
The photosensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity.
(80 ° C, 80% RH), a clear image with no ground fog was obtained.

更に、これをオフセットマスターの原版として用いて
印刷した所、1万枚の所でも鮮明な画質の印刷物を得
た。
Further, when this was used as an offset master plate and printing was performed on 10,000 sheets, printed matter of clear image quality was obtained.

(発明の効果) 本発明によれば、静電特性(特に厳しい条件下での静
電特性)に優れた、鮮明で良質な画像を有し、更に優れ
た機械的強度わ有する電子写真感光体を得ることができ
る。特に半導体レーサー光を用いたスキャニング露光方
式に有効である。
(Effects of the Invention) According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics (particularly electrostatic characteristics under severe conditions), a clear and high-quality image, and further excellent mechanical strength. Can be obtained. In particular, it is effective for a scanning exposure method using semiconductor racer light.

式(I a)又は(I b)で示される特定のメタクリレー
ト成分を含有する繰り返し単位を本発明の樹脂に用いる
ことにより、更に静電特性が向上する。
By using the repeating unit containing the specific methacrylate component represented by the formula (Ia) or (Ib) in the resin of the present invention, the electrostatic properties are further improved.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】無機光導電材料及び結着樹脂を少なくとも
含有する光導電層を有する電子写真感光体において、該
結着樹脂が、下記に示される樹脂〔A〕の少なくとも1
種と樹脂〔B〕の少なくとも1種とを含有して成る事を
特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔A〕; 1×103〜2×104の重量平均分子量を有し、−PO3H
2基、−COOH基、−SO3H基、フェノール性OH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基)を
示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少なくと
も1つの酸性基を含有する少なくとも1つの重合体成分
から成るAブロックと下記一般式(I)で示される重合
体成分を少なくとも含有するBブロックとから構成され
るABブロック共重合体。 一般式(I) 〔式(I)中、R1は炭化水素基を表わす。〕 樹脂〔B〕; 下記一般式(IV a)及び(IV b)で示される重合体成分
のうちの少なくとも1種と−COOH基、−PO3H2基、−SO3
H基、−OH基、 (R0は前記Rと同一の内容を表わす)基、−CHO基及び
環状酸無水物含有基から選ばれる少なくとも1つの極性
基を含有する成分を少なくとも1種含有する重合体成分
の少なくとも1種とを含有する重合体主鎖の一方の末端
にのみ下記一般式(III)で示される重合性二重結合基
を結合して成る重量平均分子量2×104以下の一官能性
マクロモノマー(MB)と下記一般式(V)で示されるモ
ノマーとから少なくとも成る重量平均分子量5×104
1×106の共重合体。 一般式(III) 〔式(III)中、X0は−COO−、−OCO−、−CH2OCO−、
−CH2COO−、−O−、−SO2−、−CO−、−CONHCOO−、
−CONHCONH−、 を表わす(ここでR31は水素原子又は炭化水素基を表わ
す)。 c1、c2は、互いに同じでも異なってもよく、各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−Z4
又は炭化水素を介した−COO−Z4(Z4は各々水素原子又
は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わす。〕 一般式(IV a) 一般式(IV b) 〔式(IV a)又は(IV b)中、X1は式(III)中のX0
同一の内容を表わす。Q1は、炭素数1〜18の脂肪族基又
は炭素数6〜12の芳香族基を表わす。d1、d2は、互いに
同じでも異なってもよく、式(III)中のc1、c2と同一
の内容を表わす。 Q0は−CN、−CONH2又は を表わし、Yは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基
又は−COOZ5(Z5はアルキル基、アラルキル基又はアリ
ール基を示す)を表わす。〕 一般式(V) 〔式(V)中、X2は式(IV a)中のX1と同一の内容を表
わし、Q2は式(IV a)中のQ1と同一の内容を表わす。
e1、e2は互いに同じでも異なってもよく、式(III)中
のc1、c2と同一の内容を表わす。〕
An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following resins [A]:
An electrophotographic photosensitive member comprising a seed and at least one kind of resin [B]. Resin (A); 1 × 10 3 has a weight average molecular weight of ~2 × 10 4, -PO 3 H
2 group, -COOH group, -SO 3 H groups, phenolic OH groups, R represents a hydrocarbon group or an -OR 'group (R' is a hydrocarbon group) and A comprises at least one polymer component containing at least one acidic group selected from cyclic acid anhydride-containing groups. An AB block copolymer comprising a block and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (I). General formula (I) [In the formula (I), R 1 represents a hydrocarbon group. ] Resin [B], at least one and -COOH groups of the polymer component represented by the following general formula (IV a) and (IV b), -PO 3 H 2 group, -SO 3
H group, -OH group, (R 0 represents the same content as R above), at least one polymer component containing at least one component containing at least one polar group selected from the group consisting of —CHO group and cyclic acid anhydride-containing group And a monofunctional macromonomer (MB) having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less formed by bonding a polymerizable double bond group represented by the following general formula (III) to only one end of a polymer main chain containing ) at least comprising a weight-average molecular weight and a monomer represented by the following general formula (V) 5 × 10 4 ~
1 × 10 6 copolymer. General formula (III) Wherein (III), X 0 is -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO-,
-CH 2 COO -, - O - , - SO 2 -, - CO -, - CONHCOO-,
−CONHCONH−, Wherein R 31 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. c 1 and c 2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-Z 4
Or —COO—Z 4 via a hydrocarbon (Z 4 each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted). General formula (IVa) General formula (IV b) Wherein (IV a) or (IV b), X 1 represents the same content as X 0 in formula (III). Q 1 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms. d 1 and d 2 may be the same or different from each other, and represent the same contents as c 1 and c 2 in the formula (III). Q 0 is -CN, -CONH 2 or The expressed, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group or -COOZ 5 (Z 5 represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group). General formula (V) [In formula (V), X 2 represents the same content as X 1 in formula (IVa), and Q 2 represents the same content as Q 1 in formula (IV a).
e 1 and e 2 may be the same or different and represent the same contents as c 1 and c 2 in formula (III). ]
【請求項2】該ABブロック共重合体におけるBブロック
が下記一般式(I a)及び一般式(I b)から選択される
少なくとも1つの繰り返し単位を30重量%以上含有する
事を特徴とする請求項(1)記載の電子写真感光体。 一般式(I a) 一般式(I b) 〔式(I a)又は(I b)中、M1及びM2は互いに独立に、
それぞれ水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原
子、臭素原子、−COZ2又は−COOZ2(Z2は各々炭素数1
〜10の炭化水素基を示す)を表わす。但し、M1とM2がと
もに水素原子を表わすことはない。 L1及びL2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合する、
単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす。〕
2. The AB block copolymer, wherein the B block contains at least 30% by weight of at least one repeating unit selected from the following formulas (Ia) and (Ib). The electrophotographic photosensitive member according to claim 1. General formula (Ia) General formula (Ib) [In formula (Ia) or (Ib), M 1 and M 2 are independently of each other;
Each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, -COZ 2 or -COOZ 2 (Z 2 are each carbon atoms 1
~ 10 hydrocarbon groups). However, M 1 and M 2 are never both represent a hydrogen atom. L 1 and L 2 each connect -COO- and a benzene ring,
It represents a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms. ]
【請求項3】該樹脂〔B〕が、−PO3H2基、−SO3H基、
−COOH基、−OH基、 (R0′はRと同一の内容を表わす)および環状酸無水物
含有基から選択される少なくとも1種の極性基を該共重
合体主鎖の片末端に結合して成る樹脂である請求項
(1)又は(2)記載の電子写真感光体。
3. The resin [B] comprises a —PO 3 H 2 group, a —SO 3 H group,
-COOH group, -OH group, (R 0 'represents the same content as R) and a resin comprising at least one polar group selected from cyclic acid anhydride-containing groups bonded to one end of the main chain of the copolymer. The electrophotographic photosensitive member according to (1) or (2).
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