JP2684435B2 - Electrophotographic photoreceptor - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor

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JP2684435B2
JP2684435B2 JP3395890A JP3395890A JP2684435B2 JP 2684435 B2 JP2684435 B2 JP 2684435B2 JP 3395890 A JP3395890 A JP 3395890A JP 3395890 A JP3395890 A JP 3395890A JP 2684435 B2 JP2684435 B2 JP 2684435B2
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及
び耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。特にCPC感
光体として性能の優れたものに関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, and more particularly, to an electrophotographic photoreceptor excellent in electrostatic characteristics and moisture resistance. In particular, it relates to a CPC photosensitive member having excellent performance.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは
適用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構
成をとる。
The electrophotographic photosensitive member has various configurations in order to obtain predetermined characteristics or according to the type of an applied electrophotographic process.

電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光
導電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備え
た感光体があり、広く用いられている。
Representative electrophotographic photoreceptors include a photoreceptor having a photoconductive layer formed on a support and a photoreceptor having an insulating layer on the surface, and are widely used.

支持体と少なくとも1つの光導電層から構成される感
光体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯
電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画
像形成に用いられる。
Photoreceptors composed of a support and at least one photoconductive layer are used for image formation by the most common electrophotographic processes, i.e. charging, image exposure and development, and, if necessary, transfer.

更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電
子写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に
近年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数千枚程度
の印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要
となってきている。
Further, a method using an electrophotographic photosensitive member as an offset master for direct plate making has been widely used. In particular, in recent years, direct electrophotographic lithographic printing has become important as a method for printing high-quality printed matter with a print number of several hundreds to several thousands.

電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する
結着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結
着樹脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録
体層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体
層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減
衰が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度
の変化によってこれら特性を安定に保持していることが
必要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具
備する必要がある。
The binder resin used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film forming properties of itself and the ability to disperse the photoconductive powder in the binder resin, and the formed recording material layer Has good adhesion to the substrate, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, low dark decay, large light decay, low pre-exposure fatigue, and changes in humidity during photography. It is necessary to have various electrostatic characteristics, such as a need to stably maintain these characteristics, and excellent imaging properties.

更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究
が鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特
性と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用
の結着樹脂が必要である。
Furthermore, research on a lithographic printing original plate using an electrophotographic photoreceptor has been earnestly conducted, and a binder resin for a photoconductive layer having both electrostatic characteristics as an electrophotographic photoreceptor and printing characteristics as a printing original plate. is required.

しかしながら従来公知の結着樹脂には、特に帯電性、
暗電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑
性等に多くの問題があった。
However, conventionally known binder resins include, in particular, chargeability,
There are many problems in dark charge retention, electrostatic characteristics such as photosensitivity, and smoothness of the photoconductive layer.

これらの問題を解決するために、結着樹脂として酸性
基を重合体の側鎖に含有する共重合体成分を0.05〜10重
量%含有する低分子量の樹脂又は酸性基を重合体主鎖の
末端に結合する低分子量の樹脂(w103〜104)を用い
ることにより、光導電層の平滑性及び静電特性を良好に
し、しかも地汚れのない画質を得ることがそれぞれ特開
昭63−217354号及び特開昭64−70761号に記載されてい
る。
In order to solve these problems, a low molecular weight resin containing 0.05 to 10% by weight of a copolymer component containing an acidic group in the side chain of the polymer as a binder resin or an acidic group at the end of the polymer main chain By using a low-molecular-weight resin (w10 3 to 10 4 ) that binds to, it is possible to improve the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer and to obtain image quality free of background stains. And JP-A-64-70761.

また、結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含
有し、又は重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又
は光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を
用いる技術が特開平1−100554、特願昭63−39690号
に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は重合体主鎖
の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技術が特開平
1−102573号、特願昭63−39691号にそれぞれ開示さ
れ、更に該樹脂の低分子量体(重量平均分子量103〜1
04)を高分子量(重量平均分子量104以上)の樹脂と組
合せて用いる技術が特開昭64−564号、同63−220149
号、同63−220140号、特願昭62−273547号、特開平1−
116643号及び特開平1−169455号に、かかる低分子量体
を熱及び/又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術が特
開平1−211766号及び特願昭63−26561号にそれぞれ開
示されている。これらの技術により、側鎖又は末端に酸
性基を含有する樹脂を用いたことによる上記特性を阻害
せずにさらに光導電層の膜強度を充分ならしめ、機械的
強度が増大されることが記載されている。
Further, as a binder resin, a resin containing a polymerization component containing an acidic group in the side chain of the copolymer or bonded to the end of the polymer main chain and containing a heat and / or photocurable functional group. JP-A-1-100554 and Japanese Patent Application No. 63-39690 disclose a technique of using a resin containing an acidic group in the side chain of the copolymer or a resin bonded to the end of the polymer main chain together with a crosslinking agent. Are disclosed in JP-A-1-102573 and Japanese Patent Application No. 63-39691, respectively. Further, a low molecular weight product of the resin (weight average molecular weight 10 3 to 1
0 4 ) in combination with a resin having a high molecular weight (weight average molecular weight of 10 4 or more) is disclosed in JP-A 64-564 and 63-220149.
No. 63-220140, Japanese Patent Application No. 62-273547, JP-A-1-
No. 116643 and JP-A No. 1-169455 disclose the techniques of using such a low molecular weight compound in combination with a heat-curable and / or photo-curable resin, respectively, in JP-A No. 1-211766 and Japanese Patent Application No. 63-26561. . According to these techniques, the film strength of the photoconductive layer is further sufficiently leveled and the mechanical strength is increased without impairing the above properties due to the use of a resin containing an acidic group at a side chain or at a terminal. Have been.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温
・高湿から低温・低湿まで著しく変動した場合における
安定した性能の維持においてはいまだ不充分であること
が判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング
露光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に
比べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約があ
ることから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に
対して、より高い性能が要求される。
(Problems to be Solved by the Invention) However, even if these resins are used, it is still insufficient to maintain stable performance when the environment fluctuates remarkably from high temperature and high humidity to low temperature and low humidity. Was. In particular, in the scanning exposure method using a semiconductor laser beam, the exposure time is longer and the exposure intensity is limited as compared with the conventional simultaneous exposure method using visible light. Higher performance is required for light sensitivity.

更には、電子写真式平版印刷用原版において、半導体
レーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場
合、従来の感光体で実際に試験してみると、上記の静電
特性が不満足であるとともに、特にE1/2とE1/10との
差が大きく複写画像の階調が軟調となり、更には露光後
の残留電位を小さくするのが困難となり、複写画像のカ
ブリが顕著となってしまい、又、オフセットマスターと
して印刷しても、印刷物に印刷原稿の貼り込み跡が出て
しまう等の重大な問題となって現れた。
Furthermore, in the electrophotographic lithographic printing plate precursor, when the scanning exposure method using the semiconductor laser light is adopted, when the conventional photoconductor is actually tested, the above electrostatic characteristics are unsatisfactory, In particular, the difference between E 1/2 and E 1/10 is large, the tone of the copied image becomes soft, and it becomes difficult to further reduce the residual potential after exposure, and the fog of the copied image becomes remarkable, In addition, even when printing is performed as an offset master, a serious problem such as sticking traces of a printed original appears on a printed material has appeared.

本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する
課題を改良するものである。
The present invention is to improve the problems of the conventional electrophotographic photoreceptor as described above.

本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あ
るいは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好
な静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写
真感光体を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having stable and good electrostatic characteristics and having a clear and high-quality image even when the environment at the time of forming a copy image fluctuates such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. To provide.

本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性
の小さいCPC電子写真感光体を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics and low environmental dependency.

本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキ
ャニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供するこ
とである。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

本発明の更なる目的は、電子写真式平版印刷原版とし
て、静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、
原画に対して忠実な複写画像は再現し、且つ、印刷物の
全面一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させ
ず、また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することで
ある。
A further object of the present invention is to provide an electrophotographic lithographic printing plate precursor having excellent electrostatic properties (particularly dark charge retention and light sensitivity),
By providing a lithographic printing original plate that reproduces a copy image that is faithful to the original image, does not cause spot stains as well as uniform stains on the entire surface of the printed matter, and has excellent printing durability. is there.

(課題を解決するための手段) 上記目的は、無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも
含有する光導電層を有する電子写真感光体において、該
結着樹脂が、下記で表わされる結着樹脂〔A〕の少なく
とも1種及び結着樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有す
る事を特徴とする電子写真感光体により達成されること
が見出された。
(Means for Solving the Problems) An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor and a binder resin, wherein the binder resin is a binder resin represented by the following: It has been found that an electrophotographic photoreceptor characterized in that it contains at least one kind of A) and at least one kind of binder resin [B].

樹脂〔A〕; −PO3H2基、−COOH基、−SO3基、フエノール性OH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基)を
示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少なくと
も1つの酸性基を含有する重合体成分を少なくとも1種
含有するAブロックと、下記一般式(I)で示される重
合体成分を少なくとも含有するBブロックとから構成さ
れるA・Bブロック共重合体のBブロックの重合体主鎖
の末端に重合性二重結合基を結合して成る一官能性マク
ロモノマー(以下マクロモノマー(MA)と称することも
ある)を少なくとも1種共重合成分として含有する重量
平均分子量1×103〜2×104のグラフト型共重合体。
Resin (A); -PO 3 H 2 group, -COOH group, -SO 3 group, phenolic OH groups, At least one polymer component containing at least one acidic group selected from {R represents a hydrocarbon group or an --OR 'group (R' is a hydrocarbon group) and a cyclic acid anhydride-containing group is contained. A polymerizable double bond is added to the end of the polymer main chain of the B block of the A / B block copolymer composed of the A block and the B block containing at least the polymer component represented by the following general formula (I). Graft-type copolymer having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 containing at least one monofunctional macromonomer (hereinafter sometimes referred to as macromonomer (MA)) having a group bonded thereto as a copolymerization component. Polymer.

一般式(I) 〔式(I)中、a1及びa2はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。A1は−COO
−、−OCO−、 (l1、l2は1〜3の整数を表わす)、−O−、−SO
2−、−CO−、 −CONHCO−、−CONHCONH−又は を表わす(ここでZ1は水素原子又は炭化水素基を表わ
す。) R1は、炭化水素基を表わす。但しA1を表わす場合、R1は水素原子又は炭化水素基を表わ
す。〕 結着樹脂〔B〕; 下記一般式(IV a)及び(IV b)で示される重合体成
分のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一方
の末端にのみ下記一般式(III)で示される重合性二重
結合基を係合して成る重量平均分子量2×104以下の一
官能性マクロモノマー(以下マクロモノマー(MB)と称
することもある)と下記一般式(V)で示されるモノマ
ーとから少なくとも成る共重合体である樹脂。
General formula (I) [In the formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. A 1 is −COO
−, −OCO−, (L 1 and l 2 represent an integer of 1 to 3), -O-, -SO
2- , -CO-, -CONHCO-, -CONHCONH- or (Wherein Z 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group) R 1 represents a hydrocarbon group. Where A 1 is When R 1 represents R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Binder resin [B]; The following general formula (III) is provided only at one end of the polymer main chain containing at least one of the polymer components represented by the following general formulas (IV a) and (IV b). ) Monofunctional macromonomers (hereinafter sometimes referred to as macromonomers (MB)) having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less formed by engaging a polymerizable double bond group represented by the following general formula (V) A resin which is a copolymer comprising at least a monomer represented by:

一般式(III) 〔式(III)中、V0は−COO−、−OCO−、−CH2OCO−、
−CH2COO−、−O−、−SO2−、−CO−、−CONHCOO−、
−CONHCONH−、−CONHSO2−、 又は を表わす(P3は、水素原子又は炭化水素基を表わす)。
General formula (III) Wherein (III), V 0 is -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO-,
-CH 2 COO -, - O - , - SO 2 -, - CO -, - CONHCOO-,
−CONHCONH−, −CONHSO 2 −, Or (P 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group).

c1、c2は、互いに同じでも異なってもよく、水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−
Z′又は炭化水素を介した−COO−Z′(Z′は水素原
子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わ
す。〕 一般式(IV a) 一般式(IV b) 〔式(IV a)又は(IV b)中、V1は、式(III)中のV0
と同一の内容を表わす。
c 1 and c 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-
Z'or -COO-Z 'through a hydrocarbon (Z' represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted) is represented. General formula (IVa) General formula (IV b) [In the formula (IV a) or (IV b), V 1 is V 0 in the formula (III).
Represents the same content as.

Q1は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳
香族基を表わす。
Q 1 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms.

d1、d2は、互いに同じでも異なってもよく、式(II
I)中のc1、c2と同一の内容を表わす。
d 1 and d 2 may be the same or different from each other;
Represents the same contents as c 1 and c 2 in I).

Q0は−CN−、−CONH2又は を表わす。Q 0 is -CN-, -CONH 2 or Represents

ここでTは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ア
ルコキシ基又は−COOZ″(Z″はアルキル基、アラルキ
ル基又はアリール基を示す)を表わす。〕 一般式(V) 〔式(V)中、V2は、式(IV a)中のV1と同一の内容を
表わす。
Here, T represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group or -COOZ "(Z" represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group). General formula (V) [In the formula (V), V 2 represents the same content as V 1 in the formula (IV a).

Q2は、式(IV a)中のQ1と同一の内容を表わす。Q 2 has the same meaning as Q 1 in formula (IV a).

e1、e2は互いに同じでも異なってもよく、式(III)
中のc1、c2と同一の内容を表わす。〕 即ち、本発明に供される結着樹脂は、上記特定の酸性
基含有成分を含有するAブロックと上記一般式(I)で
示される重合体成分を含有するBブロックとのABブロッ
ク共重合体のBブロックの重合体主鎖の末端に重合性二
重結合基を結合して成る一官能性マクロモノマー(MA)
を少なくとも1種共重合成分として含有するグラフト型
共重合体から成る樹脂〔A〕と、一般式(IV a)又は
(IV b)の重合体成分を少なくとも含有する重合体主鎖
の一方の末端に重合性二重結合基を結合する一官能性マ
クロモノマー(MB)と一般式(V)のモノマーとを各々
少なくとも1個含むクシ型共重合体から成る樹脂〔B〕
とから少なくとも構成される。
e 1 and e 2 may be the same or different from each other, and have the formula (III)
Represents the same content as c 1 and c 2 in . That is, the binder resin used in the present invention has an AB block copolymerization of an A block containing the specific acidic group-containing component and a B block containing the polymer component represented by the general formula (I). Monofunctional macromonomer (MA) in which a polymerizable double bond group is bonded to the end of the polymer main chain of the combined B block
[A] comprising a graft-type copolymer containing at least one as a copolymerization component, and one end of a polymer main chain containing at least a polymer component of the general formula (IV a) or (IV b) Resin comprising a comb-type copolymer containing at least one monofunctional macromonomer (MB) having a polymerizable double bond group and at least one monomer represented by the general formula (V).
At least.

前述の光導電層の平滑性及び静電特性を良化させると
して公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用い
るものとして、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にラン
ダムに存在する樹脂あるいは重合体主鎖の片末端にのみ
酸性基を結合して成る樹脂が挙げられる。これに対し、
本発明の結着樹脂〔A〕は樹脂中に含有される酸性基
が、グラフト部分に存在し、且つ重合体主鎖から離れた
所に2ブロック(即ちAブロック)で存在する様にし
た、著しくポリマー分子鎖の化学構造を特定化したもの
である。
The acidic group-containing polymer component is randomly present in the polymer main chain as a low molecular weight polymer among the acidic group-containing binder resins known to improve the smoothness and electrostatic characteristics of the photoconductive layer. And a resin in which an acidic group is bonded only to one end of the polymer main chain. In contrast,
In the binder resin [A] of the present invention, the acidic groups contained in the resin are present in the graft portion and in two blocks (that is, A block) at a position distant from the polymer main chain, It remarkably specifies the chemical structure of the polymer molecular chain.

本発明の樹脂〔A〕は重合体中のグラフト部の末端領
域に偏在する酸性基群が無機光導電体の化学量論的な欠
陥に充分に吸着し、重合体主鎖を構成する他のブロック
部分は、無機光導電体の表面をゆるやかに且つ充分に被
覆していると推定される。この無機光導電体表面への充
分な吸着と、表面近傍の被覆の効果が公知の樹脂に比
べ、より一層効果的に行なわれることにより無機光導電
体の化学量論的な欠陥部が多少と変動しても、充分な吸
着領域をもつ事から常に安定した無機光導電体と樹脂
〔A〕との相互作用が保たれると推論され、本発明に従
えば従来公知の酸性基含有樹脂に比べて一段と良好に光
導電体のトラップを充分に補償すると共に湿度特性を向
上させる一方、光導電体を分散が充分に行なわれ、凝集
を抑制することを見出した。
In the resin [A] of the present invention, the acidic groups which are unevenly distributed in the terminal region of the graft portion in the polymer are sufficiently adsorbed to the stoichiometric defects of the inorganic photoconductor to form the polymer main chain. It is presumed that the block portion gently and sufficiently covers the surface of the inorganic photoconductor. This inorganic photoconductor is sufficiently adsorbed on the surface and the effect of coating near the surface is more effectively performed as compared with the known resin, so that the stoichiometric defects of the inorganic photoconductor are somewhat reduced. It is inferred that a stable interaction between the inorganic photoconductor and the resin [A] is always maintained because it has a sufficient adsorption region even if it fluctuates, and according to the present invention, the conventionally known acidic group-containing resin is used. It has been found that the photoconductor is sufficiently dispersed and the humidity characteristics are improved, while the photoconductor is sufficiently dispersed and aggregation is suppressed.

従って、電子写真式平版印刷原版として光導電層表面
の平滑性の粗らい感光体を用いると、光導電体である酸
化亜鉛粒子と結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物
が存在する状態で光導電層が形成されるため、不感脂化
処理液による不感脂化処理をしても非画像部の親水化が
均一に充分に行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を
引き起こし、結果として印刷物の非画像部の地汚れが生
じてしまう。
Therefore, when a photoconductor having a rough surface of the photoconductive layer is used as the electrophotographic lithographic printing plate precursor, the dispersion state of the zinc oxide particles as the photoconductor and the binder resin is not appropriate, and aggregates are present. Since the photoconductive layer is formed in the state, even if the desensitizing treatment with the desensitizing solution is performed, the non-image portion is not sufficiently and sufficiently hydrophilized, causing adhesion of the printing ink during printing, and as a result, The background stain on the non-image portion of the printed matter occurs.

そして樹脂〔B〕は、樹脂〔A〕を用いたことによる
電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕の
みでは不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめる
とともに前記の如き環境が変動したり、低出力のレーザ
ー光を用いたりした場合でも十分に良好な撮像性を得る
ことができることが判った。
The resin [B] does not hinder the high performance of the electrophotographic properties due to the use of the resin [A] at all, and the resin [A] alone provides sufficient mechanical strength of the photoconductive layer, which is insufficient. It has been found that a sufficiently good imaging performance can be obtained even when the environment fluctuates as described above or a low output laser beam is used.

これは、無機光導電体の結着樹脂として、樹脂〔A〕
と樹脂〔B〕を各々樹脂の重量平均分子量並びに樹脂中
の酸性基の含有量及び結合位置等を特定化することで、
無機光導電体と樹脂との相互作用の強さを適度に変える
ことができたことによると推定される。即ち、相互作用
のより強い樹脂〔A〕が選択的に無機光導電体に適切に
吸着し、一方で樹脂〔A〕に比べて相互作用の弱い樹脂
〔B〕においては、電子写真特性を阻害しない程度に無
機光導電体とゆるやかに相互作用することで、上記した
如く電子写真特性及び機械的強度をともに著しく向上さ
せることができたと推定される。
This is a resin [A] as a binder resin for the inorganic photoconductor.
And the resin [B] by specifying the weight average molecular weight of the resin and the content and bonding position of the acidic group in the resin,
It is presumed that the strength of the interaction between the inorganic photoconductor and the resin was appropriately changed. That is, the resin [A] having a stronger interaction selectively and appropriately adsorbs to the inorganic photoconductor, while the resin [B] having a weaker interaction than the resin [A] inhibits the electrophotographic properties. It is presumed that by gently interacting with the inorganic photoconductor to such an extent that both the electrophotographic characteristics and the mechanical strength were remarkably improved as described above.

本発明の樹脂を用いた場合に、光導電体と結着樹脂の
吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層
の膜強度が保持されるものである。
When the resin of the present invention is used, the interaction between the adsorption and coating of the photoconductor and the binder resin is appropriately performed, and the film strength of the photoconductive layer is maintained.

本発明における低分子量体の樹脂〔A〕のみを結着樹
脂として用いる場合には、光導電体と結着樹脂が充分に
吸着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性
及び静電特性においても良好で、しかも地汚れのない画
質が得られ、更に、CPC感光体あるいは数千枚の印刷枚
数のオフセット原版としては充分な膜強度が保有され
る。しかし、ここで本発明の如く樹脂〔B〕を共存させ
ることで、樹脂〔A〕の機能を何ら疎外することなく樹
脂〔A〕のみではいまだ不充分な光導電層の機械的強度
をより向上させることができた。従って、本発明の感光
体は、環境条件が変動しても優れた静電特性を有し且
つ、膜強度も充分であり、過酷な印刷条件下(例えば、
大型印刷機で印圧が強くなる場合など)でも1万枚以上
の印刷枚数が可能となった。
When only the low molecular weight resin [A] of the present invention is used as the binder resin, the photoconductor and the binder resin are sufficiently adsorbed and the particle surface can be covered. It also has good electrostatic characteristics, and provides image quality without scumming. Furthermore, it has sufficient film strength as a CPC photoconductor or an offset master plate for printing several thousand sheets. However, by coexisting the resin [B] as in the present invention, the mechanical strength of the photoconductive layer which is still insufficient with the resin [A] alone without further alienating the function of the resin [A] is further improved. I was able to. Accordingly, the photoreceptor of the present invention has excellent electrostatic characteristics even when environmental conditions fluctuate, has sufficient film strength, and is subjected to severe printing conditions (for example,
Even when the printing pressure is increased with a large printing press), it is possible to print more than 10,000 sheets.

更に、樹脂〔B〕は、該クシ型共重合体主鎖の片末端
にのみ−PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、−OH基、−SH
基及び {R0は炭化水素基又は−OR0′(R0′は炭化水素基を示
す)基を表わす}から選ばれる少なくとも1つの酸性基
を更に結合して成る樹脂(以下樹脂〔B′〕と称するこ
ともある)であることが好ましい。
Furthermore, the resin (B), said comb copolymer mainly at one end of the chain only -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -OH group, -SH
Group and {R 0 represents a hydrocarbon group or a —OR 0 ′ (R 0 ′ represents a hydrocarbon group) group} and a resin (hereinafter referred to as resin [B ′]) further bound with at least one acidic group selected from (Sometimes referred to)).

樹脂〔B′〕を用いると、静電特性、特に、D.R.R.及
びE1/10がより良好となり、樹脂〔A〕を用いたことに
よる優れた特性を全く妨げず、その効果は特に高温・高
湿、低温・低湿の如き環境変化においても変動が殆どな
く好ましい。更に、膜強度もより良好となり、耐刷性が
向上する。
When the resin [B '] is used, the electrostatic characteristics, particularly DRR and E 1/10 are improved, and the excellent characteristics due to the use of the resin [A] are not hindered at all. It is preferable because there is almost no change even in environmental changes such as humidity, low temperature and low humidity. Further, the film strength is further improved, and the printing durability is improved.

本発明の樹脂〔A〕における該マクロモノマー(MA)
中の重合体成分は、上記の如く、A−ブロックとB−ブ
ロックとから構成されるが、このA−ブロック/B−ブロ
ックの存在割合は、好ましくは1〜70/99〜30(重量
比)であり、よく好ましくは3〜50/97〜50(重量比)
である。
The macromonomer (MA) in the resin [A] of the present invention
The polymer component therein is composed of A-blocks and B-blocks as described above, and the proportion of the A-block / B-block is preferably 1-70 / 99-30 (weight ratio). ), And preferably 3-50 / 97-50 (weight ratio)
It is.

本発明のグラフト共重合体〔A〕において、マクロモ
ノマー(MA)と他の単量体(例えば式(II)の単量体)
の存在割合は、1〜60/99〜40(重量比)であり、好ま
しくは5〜40/95〜60(重量比)である。
In the graft copolymer [A] of the present invention, a macromonomer (MA) and another monomer (for example, a monomer of the formula (II))
Is 1 to 60/99 to 40 (weight ratio), preferably 5 to 40/95 to 60 (weight ratio).

本発明の樹脂〔A〕における、マクロモノマー(MA)
中に含有される酸性基含有成分の存在量は、樹脂〔A〕
100重量部中に1〜30重量部であり、好ましくは3〜20
重量部である。即ち、上記樹脂〔A〕中での酸性基の存
在割合は、マクロモノマー(MA)中でのA−ブロックの
組成比及び樹脂〔A〕でのマクロモノマー(MA)の共重
合比によって、好ましい比率に調整することがでるもの
である。
Macromonomer (MA) in the resin [A] of the present invention
The amount of the acidic group-containing component contained in the resin [A]
1 to 30 parts by weight in 100 parts by weight, preferably 3 to 20 parts
Parts by weight. That is, the abundance ratio of the acidic groups in the resin [A] is preferably determined by the composition ratio of the A-block in the macromonomer (MA) and the copolymerization ratio of the macromonomer (MA) in the resin [A]. It can be adjusted to the ratio.

更にこの樹脂〔A〕において、マクロモノマー(MA)
と共重合する成分として、下記一般式(II)で示される
単量体が好ましく、特に下記一般式(II a)及び/又は
(II b)から選ばれる単量体が好ましい。
Furthermore, in this resin [A], macromonomer (MA)
As the component that copolymerizes with, a monomer represented by the following general formula (II) is preferable, and a monomer selected from the following general formulas (IIa) and / or (IIb) is particularly preferable.

〔式(II)中、R2は炭化水素基を表わす。〕 〔式中、X1及びX2は互いに独立に、それぞれ水素原子、
炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−CO
Z3又は−COOZ3(Z3は各々炭素数1〜10の炭化水素基を
示す)を表わす。但し、X1とX2がともに水素原子を表わ
すことはない。
[In the formula (II), R 2 represents a hydrocarbon group. ] Wherein X 1 and X 2 are each independently a hydrogen atom,
Hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, chlorine atom, bromine atom, -CO
Z 3 or —COOZ 3 (Z 3 each represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms) is represented. However, X 1 and X 2 are never both represent a hydrogen atom.

L1及びL2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合す
る、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わ
す。〕 樹脂〔A〕においてマクロモノマー(MA)と共重合す
る単量体として上記一般式(II a)及び/又は一般式
(II b)で示される置換ベンゼン環又はナフタレン環を
含有する置換基含有のメタクリレート単量体との共重合
体とを少なくとも含有する樹脂(以降この樹脂〔A〕を
樹脂〔A′〕と称する)の場合には、より一層の電子写
真特性(特にV10、D.R.R.E1/10)の向上が達成される。
L 1 and L 2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms, each linking —COO— and a benzene ring. In the resin [A], a substituent containing a substituted benzene ring or naphthalene ring represented by the above general formula (IIa) and / or general formula (IIb) as a monomer copolymerizable with the macromonomer (MA) In the case of a resin containing at least the copolymer of the methacrylate monomer with (the resin [A] is referred to as a resin [A '] hereinafter), more excellent electrophotographic characteristics (particularly V 10 , DRRE 1) are obtained. / 10 ) improvement is achieved.

この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メ
タクリレートのエステル成分である、オルト位に置換基
を有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果
により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖
の配列が適切に行なわれることによるものと考えられ
る。
Although the reason for this is unknown, one reason is that the ester component of methacrylate, a planar benzene ring having a substituent at the ortho-position, or the effect of a naphthalene ring at the zinc oxide interface in the film. It is considered that the arrangement of these polymer molecular chains is properly performed.

結着樹脂〔A〕の分子量が1×103より小さくなる
と、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方分
子量が2×104より大きくなると本発明の樹脂であって
も高温・高湿・低温・低湿の過酷な条件下での電子写真
特性(特に初期電位、暗減衰保持率)の変動が大きくな
り、安定した複写画像が得られるという本発明の効果が
薄れてしまう。
When the molecular weight of the binder resin [A] is smaller than 1 × 10 3 , the film-forming ability is lowered and sufficient film strength cannot be maintained. On the other hand, when the molecular weight is larger than 2 × 10 4 , even if the resin of the present invention is used. Under the severe conditions of high temperature, high humidity, low temperature, and low humidity, the fluctuation of electrophotographic characteristics (particularly, initial potential and dark decay retention) becomes large, and the effect of the present invention that a stable copied image can be obtained is weakened. .

結着樹脂〔A〕におけるマクロモノマー(MA)含有量
が1.0重量%より少ないと電子写真特性(特に暗 減衰
率、光感度)が低下し、又環境条件での電子写真特性の
変動が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせ
において、大きくなる。これはグラフト部となるマクロ
モノマーが微かとなることで結果として従来のホモポリ
マーあるいはランダム共重合体と殆んど同じ組成になっ
てしまうことによると考えられる。
When the content of the macromonomer (MA) in the binder resin [A] is less than 1.0% by weight, the electrophotographic characteristics (especially dark decay rate and photosensitivity) are deteriorated, and the variation of the electrophotographic characteristics under environmental conditions is particularly close. In the combination with infrared to infrared spectral sensitizing dyes, it becomes large. It is considered that this is because the composition of the macromonomer serving as the graft portion becomes small, resulting in almost the same composition as the conventional homopolymer or random copolymer.

一方マクロモノマー(MA)の含有量が60%を越える
と、他の共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマ
クロモノマーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂
として用いても充分な電子写真特性が得られなくなって
しまう。
On the other hand, when the content of the macromonomer (MA) exceeds 60%, the copolymerizability of the monomer corresponding to the other copolymerization component and the macromonomer according to the present invention becomes insufficient, and even when it is used as a binder resin. Sufficient electrophotographic characteristics cannot be obtained.

結合樹脂〔A〕と高分子量体:樹脂〔B〕の使用割合
は5〜80重量部対95〜20重量部であり、好ましくは10〜
60重量部対90〜40重量部である。
The use ratio of the binder resin [A] and the high molecular weight polymer: resin [B] is 5 to 80 parts by weight to 95 to 20 parts by weight, preferably 10 to
60 to 90-40 parts by weight.

次に本発明に供される結着樹脂〔A〕及び結着樹脂
〔B〕の詳細について説明する。
Next, the details of the binder resin [A] and the binder resin [B] used in the present invention will be described.

本発明のグラフト型共重合体に供される一官能性マク
ロモノマー(MA)について更に具体的に説明する。
The monofunctional macromonomer (MA) used in the graft copolymer of the present invention will be described more specifically.

マクロモノマー(MA)のA−ブロックを構成する成分
中に含有される酸性基としては、−PO3H2基、−COOH
基、−SO3H基、フエノール性OH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基)を
示す}及び/又は環状酸無水物含有基が挙げられ、好ま
しくは、−COOH基、−SO3H基、フェノール性OH基、又は である。
The acidic groups contained in the components making up the A- block of the macromonomer (MA), -PO 3 H 2 group, -COOH
Group, --SO 3 H group, phenolic OH group, {R is a hydrocarbon group or -OR 'group (R' is a hydrocarbon group),} and / or include cyclic acid anhydride-containing group, preferably, -COOH group, -SO 3 H group, a phenolic OH group, or It is.

の場合、Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素
基を表わす)を表わし、R及びR′は好ましくは炭素数
1〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル
基、2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、
アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フロロベン
ジル基、メトキシベンジル基等)、又は置換されてもよ
いアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、エチル
フェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル基、
フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル
−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル
基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、アセ
チルフェニル基、ブトキシフェニル基等)等を表わす。
In the formula, R represents a hydrocarbon group or an -OR 'group (R' represents a hydrocarbon group), and R and R 'are preferably an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group) , Propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-methoxyethyl, 3-ethoxypropyl,
Allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or an optionally substituted aryl group (For example, phenyl, tolyl, ethylphenyl, propylphenyl, chlorophenyl,
Fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.).

また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環
状酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水
物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカル
ボン酸無水物が挙げられる。
Further, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride contained include aliphatic dicarboxylic anhydride and aromatic dicarboxylic anhydride. Can be

脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無
水物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、
シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセ
ン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシクロ〔2.2.
2〕オクタンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これ
らの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のア
ルキル基等が置換されていてもよい。
Examples of the aliphatic dicarboxylic anhydride include a succinic anhydride ring, a glutaconic anhydride ring, a maleic anhydride ring,
Cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride ring, 2,3-bicyclo [2.2.
2] octanedicarboxylic anhydride rings and the like, and these rings are substituted with, for example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, and alkyl groups such as methyl group, ethyl group, butyl group and hexyl group. Is also good.

又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル
酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリ
ジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン
酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素
原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシ
ル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基
(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキ
シ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of the aromatic dicarboxylic anhydride include a phthalic anhydride ring, a naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, a pyridine-dicarboxylic anhydride ring, a thiophene-dicarboxylic anhydride ring, and the like. Is, for example, a chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (for the alkoxy group, for example, Methoxy group, ethoxy group, etc.) may be substituted.

以上の如き「特定の酸性基を含有する重合体成分」
は、例えば、本発明のマクロモノマー(MA)の他のブロ
ック成分を構成する重合体成分、即ち一般式(I)で示
されるメタクリレート成分等の相当するビニル系化合物
と共重合する、該酸性基を含有するビニル系化合物であ
ればいずれでも用いることができる。
As described above, “polymer component containing specific acidic group”
Is, for example, a polymer component that constitutes another block component of the macromonomer (MA) of the present invention, that is, the acidic group that is copolymerized with a corresponding vinyl compound such as a methacrylate component represented by the general formula (I). Any vinyl-based compound containing can be used.

例えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック
〔基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。具
体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロ
モ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シ
アノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β
−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル
酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸
半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類
(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン
酸、2−オクテン酸、−メチル−2−ヘキセン酸、4−
エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸
半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼン
カルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホ
ン酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又は
アリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸
又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換
基中に該酸性基を含有する化合物が挙げられる。
For example, it is described in “Polymer Data Handbook [Basic Edition]” edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form,
α- (2-amino) methyl, α-chloro, α-bromo, α-fluoro, α-tributylsilyl, α-cyano, β-chloro, β-bromo, α-chloro- β
-Methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half-esters, itaconic acid half-amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg 2-pentenoic acid, 2-methyl- 2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, -methyl-2-hexenoic acid, 4-
Ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half-esters, maleic acid half-amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acid vinyl group or allyl group Examples thereof include half-ester derivatives, and ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, and compounds containing the acidic group in the substituents of amide derivatives.

これらの化合物の具体例として以下のものを挙げるこ
とができる。但し、以下の各例において、aは−H、−
CH3、−Cl、−Br、−CN−、−CH2COOCH3又は−CH2COOH
を示し、bは−H又は−CH3を示し、nは2〜18の整数
を示し、mは1〜12の整数を示し、lは1〜4の整数を
示す。
The following are specific examples of these compounds. However, in each of the following examples, a is -H,-
CH 3, -Cl, -Br, -CN -, - CH 2 COOCH 3 or -CH 2 COOH
Are shown, b represents -H or -CH 3, n is an integer of 2 to 18, m represents an integer of 1 to 12, l is an integer of 1-4.

(a−15) CH2=CH−CH2OCO(CH2)mCOOH (a−16) CH2=CHCH2 lCOOH 上記の如き酸性基含有成分はAブロック中に2種以上
含有されていてもよく、これら2種以上の酸性含有成分
はAブロック中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれで含有されていてもよい。更に、酸性基含
有成分とともに、酸性基を含有しない成分(例えば後述
式(I)で示される成分)をAブロック中に含有してい
てもよいが、酸性基含有成分はAブロック中において30
〜100重量%存在することが好ましい。
(A-15) CH 2 = CHCH 2 OCO (CH 2) mCOOH (a-16) CH 2 = CHCH 2 l COOH Two or more kinds of the acidic group-containing components as described above may be contained in the A block, and these two or more kinds of acidic group-containing components may be contained in the A block by random copolymerization or block copolymerization. Good. Further, together with the acidic group-containing component, a component that does not contain an acidic group (for example, a component represented by the formula (I) described later) may be contained in the A block, but the acidic group-containing component is 30 in the A block.
It is preferably present at .about.100% by weight.

次に上記マイクロモノマーにおいて、B−ブロックを
構成する成分即ち一般式(I)で表われる繰り返し単位
について説明する。
Next, in the above-mentioned micromonomer, the component constituting the B-block, that is, the repeating unit represented by the general formula (I) will be described.

一般式(I)においてはA1は−COO−、−OCO−、 (l1,l2は1〜3の整数を表わす)、−O−、−SO2−、
−CO−、 −CONHCOO−、−CONHCONH−又は を表わす。
In the general formula (I), A 1 is -COO-, -OCO-, (L 1 , l 2 represents an integer of 1 to 3), -O-, -SO 2- ,
-CO-, -CONHCOO-, -CONHCONH- or Represents

ここで、Z1は水素原子のほか、好ましい炭化水素基と
しては、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−ク
ロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエ
チル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置
換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1
−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、
3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1
−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−
ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいア
ラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチル
エチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロペンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12の置換さ
れてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等)があげられる。
Here, in addition to the hydrogen atom, Z 1 is preferably a hydrocarbon group which may be substituted and has 1 to 18 carbon atoms, such as an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, a hexyl group). Group, octyl group, decyl group,
Dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), having 4 to 18 carbon atoms An optionally substituted alkenyl group (e.g., 2-methyl-1
-Propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group,
3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1
-Hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-
Hexenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-
Phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.),
An optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (for example, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.), or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (For example, phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, decyloxyphenyl, chlorophenyl) , Dichlorophenyl, bromophenyl, cyanophenyl, acetylphenyl, methoxycarbonylphenyl, ethoxycarbonylphenyl, butoxycarbonylphenyl, acetamidophenyl, propioamidophenyl, dodecylylamidophenyl, etc.) can give.

R1は炭化水素基を表わし、好ましくは上記Z1で好まし
い炭化水素基として挙げたものと同様のものである。
R 1 represents a hydrocarbon group, and preferably the same as those listed as the preferable hydrocarbon group for Z 1 above.

A1を表わす場合、R1は上記炭化水素の他水素原子を表わ
し、更にベンゼン環は置換基を有してもよい。置換基と
しては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子
等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル基
等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。
A 1 is In the formula, R 1 represents a hydrogen atom other than the above-mentioned hydrocarbon, and the benzene ring may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group, Ethoxy groups,
And a propoxy group and a butoxy group).

a1及びa2は、互いに同じでも異なっていてもよく、好
ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、
臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COOZ2又は炭化水素を介したCOOZ2(Z2は、水素
原子又は炭素数1〜18のアルキル基、アルケニル基、ア
ラルキル基、脂環式基またはアリール基を表わし、これ
らは置換されていてもよく、具体的には、上記Z1につい
て説明したものと同様の内容を表わす)を表わす。
a 1 and a 2 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom,
A bromine atom), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), - COOZ COOZ 2 (Z 2 via the 2 or hydrocarbons, hydrogen An atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group or an aryl group, which may be substituted, and specifically, the same as those described for Z 1 above. Represents the contents of).

上記炭化水素を介した−COO−Z2基における炭化水素
としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が
挙げられる。
Examples of the hydrocarbon in the —COO—Z 2 group via the above hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, and a propylene group.

更に好ましくは、一般式(I)においては、A1は−CO
O−、−OCO−、−CH2OCO−、−CH2COO−、−O−、−CO
NH−、−SO2NH−又は を表わし、a1、a2は互いに同じでも異なってもよく、水
素原子、メチル基、−COOZ2又は−CH2COOZ2{Zはより
好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基等)を表わす}を表わす。更により好ましくは、
a1,a2においていずれか一方が水素原子を表わす。
More preferably, in the general formula (I), A 1 is —CO
O -, - OCO -, - CH 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - CO
NH -, - SO 2 NH- or And a 1 and a 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a methyl group, —COOZ 2 or —CH 2 COOZ 2 {Z is more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms ( For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.). Even more preferably,
One of a 1 and a 2 represents a hydrogen atom.

更には該B−ブロック中に式(I)の単量体以外の重
合体成分が含有されていてもよく、式(I)に示される
重合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し単位に相
当する単量体として、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニ
ルイミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェ
ン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキ
サジン等)等が挙げられる。これら他の単量体はB−ブ
ロックの全重合体成分100重量部中20重量部を越えない
範囲で用いられる。又、該Bブロック中には、該A−ブ
ロックの構成成分である酸性基を含有する重合体成分を
含有しない事が好ましい。Bブロックにおいて2種以上
の共重合成分が存在する場合には、これら2種以上の共
重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又はブロ
ック共重合のいずれで含有されていてもよいが、合成の
簡便さよりランダムに含有されることが好ましい。
Furthermore, the B-block may contain a polymer component other than the monomer of the formula (I), and corresponds to another repeating unit copolymerizable with the polymer component of the formula (I). Examples of the monomer to be used include acrylonitrile, methacrylonitrile, and heterocyclic vinyls (eg, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.). These other monomers are used in an amount not exceeding 20 parts by weight per 100 parts by weight of the total polymer components of the B-block. Further, it is preferable that the B block does not contain a polymer component containing an acidic group which is a component of the A-block. When two or more copolymer components are present in the B block, these two or more copolymer components may be contained in the B block by either random copolymerization or block copolymerization. More preferably, it is contained at random.

次に本発明のマクロモノマー(M)において上記した
酸性基を含有する成分から成るAブロックと一般式
(I)で示される重合体成分を含有することから成るB
ブロックをA−B型で連結し且つA−ブロックと連結す
るBブロックの他の末端に連結される重合性二重合基に
ついて説明する。
Next, in the macromonomer (M) of the present invention, an A block comprising the above-mentioned component containing an acidic group and a B block containing the polymer component represented by the general formula (I)
The polymerizable dipolymer group that connects the blocks in an AB type and is connected to the other end of the B block that connects to the A-block will be described.

具体的には下記一般式(VII)で示される重合性二重
結合基が例として挙げられる。
Specifically, a polymerizable double bond group represented by the following general formula (VII) is exemplified.

一般式(VII) 〔式(VII)中、A2は式(I)中のA1と同一の内容を表
わす。b1,b2は互いに同一でも異なってもよく、式
(I)中のa1,a2と同一の内容を表わす。〕即ち、一般
式(VII)で示される重合性二重結合基として、より具
体的には、 CH2=CHCH2 −COO−、CH2=CH−CO−、 等が挙げられる。
General formula (VII) [In formula (VII), A 2 has the same meaning as A 1 in formula (I). b 1 and b 2 may be the same or different from each other and represent the same contents as a 1 and a 2 in the formula (I). That is, as the polymerizable double bond group represented by the general formula (VII), more specifically, CH 2 = CHCH 2 2 -COO-, CH 2 = CH-CO-, And the like.

本発明に供されるマクロモノマー(M)は上述の如き
B−ブロックの片末端に、一般式(VII)で示される如
き重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任
意の連結基で結合された化学構造を有するものである。
連結する基としては、炭素−炭素結合(一重結合あるい
は二重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の任意
の組合せで構成されるものである。即ち、具体的には、
単なる結合または、 〔R3,R4はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子(例えば、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒド
ロキシル基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基等)等を示す〕、 CH=CH、 −O−、 〔R5,R6はそれぞれ水素原子、前記式(I)におけるR1
と同様の内容を表わす炭化水素基等を示す〕等の原子団
から選ばれた単独の連結基もしくは任意の組合せで構成
された連結基を表わす マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×104
超えると、他のモノマー(例えば式(II)との共重合性
が低下するため好ましくない。他方、重量平均分子量が
小さすぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小さ
くなるため、1×103以上であることが好ましい。
In the macromonomer (M) used in the present invention, a polymerizable double bond group represented by the general formula (VII) is directly bonded to one end of the B-block as described above, or any linking is carried out. It has a chemical structure bonded by a group.
Examples of the linking group include a carbon-carbon bond (single bond or double bond), a carbon-hetero atom bond (for example, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, a silicon atom, etc.), a hetero atom-hetero atom. It is composed of any combination of bonding atomic groups. That is, specifically,
Mere union or [R 3 and R 4 are each a hydrogen atom and a halogen atom (eg,
A fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc., a cyano group, a hydroxyl group, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group,
Propyl group etc.), CH = CH, -O-, [R 5 and R 6 are each a hydrogen atom, and R 1 in the above formula (I)
And a weight average molecular weight of the macromonomer (M) that represents a linking group selected from atomic groups such as] and a linking group composed of any combination of 2 × 10 5. If it exceeds 4 , it is not preferable because the copolymerizability with other monomers (for example, the formula (II) decreases). On the other hand, if the weight average molecular weight is too small, the effect of improving the electrophotographic properties of the photosensitive layer decreases. It is preferably 1 × 10 3 or more.

本発明のマクロモノマー(M)は、従来公知の合成方
法よって製造することができる。例えば、該特定の酸性
基を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸
性基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物
(例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソピルアミ
ド、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨウ
化水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応で、ポルフィ
リン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグルー
プ移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応で
A−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングポ
リマーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合
基を導入する。この後、酸性基を保護した官能基を加水
分解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは、光
分解反応等によって、脱保護反応を行ない、酸性基を形
成させる方法が挙げられる。その1つの例を下記の反応
スキーム(1)に示した。
The macromonomer (M) of the present invention can be produced by a conventionally known synthesis method. For example, in a monomer corresponding to the polymer component containing the specific acidic group, the acidic group is preliminarily protected as a functional group, and an organometallic compound (eg, alkyllithium, lithium diisopyramide, alkylmagnesium halide) is used. Or the like) or an ionic polymerization reaction with hydrogen iodide, an iodine system or the like, a photopolymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst, or a known so-called living polymerization reaction such as a group transfer polymerization reaction to form an AB block copolymer. After synthesis, various reagents are reacted with the ends of this living polymer to introduce a polymerizable double bond group. Thereafter, a method in which a functional group protecting the acidic group is subjected to a deprotection reaction by a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, a photolysis reaction, or the like to form an acidic group is used. One example is shown in the following reaction scheme (1).

例えば、P.Lutz,P.Masson etal,Polym.Bull.,12,79
(1984)B.C.Anderson,G.D.Andrews etal,Mecromolecul
es,14,1601(1981)K.Hatada,K.Ute.etal,Polym.J.17,9
77(1985),18,1037(1986),右手浩一、畑田耕一、
高分子加工、36、366(1987)東村敏延、沢本光男、高
分子論文集、46,189(1989)M.Kuroki,T.Aida,T.Am.Che
m.Soc.109,4737(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合
成化学、43,300(1985)D.Y.Sogah,W.R.Hertler etal,M
acromolecules,20,1473(1987)等に記載の合成方法に
従って容易にリビングポリマーを合成することができ
る。又、該リビングポリマーの末端に重合性二重結合基
を導入する方法としては、従来公知のマクロモノマー法
の合成法に従って容易に本発明のマクロモノマーとする
ことができる。
For example, P. Lutz, P. Masson etal, Polym. Bull., 12 , 79
(1984) BCAnderson, GDAndrews etal, Mecromolecul
es, 14 , 1601 (1981) K. Hatada, K. Ute. et al., Polym. J. 17 , 9,
77 (1985), 18 , 1037 (1986), Koichi Ute, Koichi Hatada,
Polymer Processing, 36, 366 (1987) Higashimura Satoshinobe, Mitsuo Sawamoto, polymer Collected Papers, 46, 189 (1989) M.Kuroki , T.Aida, T.Am.Che
m.Soc. 109 , 4737 (1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 43 , 300 (1985) DYSogah, WRHertler et al, M
A living polymer can be easily synthesized according to the synthetic method described in acromolecules, 20 , 1473 (1987) and the like. As a method for introducing a polymerizable double bond group into the terminal of the living polymer, the macromonomer of the present invention can be easily obtained according to a conventionally known synthesis method of a macromonomer method.

具体的には、P.Dreyfuss&R.P.Quirk,Encycl,Polym.S
ci.Eng.,,551(1987),P.F.Rempp,E.Franta,Adu.,Pol
ym.Sci.58,1(1984),V.Percec,Appl.,Polym.Sci.,285,
95(1984),R.Asami,M.TakaRi,Makvamol.Chem.Suppl.1
2,163(1985),P.Rempp.etal,Makvamol.Chem.Suppl.,
3(1984)川上雄資、化学工業、38,56(1987)、山下雄
也、高分子、31、988(1982)、小林四郎、高分子、30,
625(1981)、東村敏信、日本接着協会誌 18,536(198
2)、伊藤浩一、高分子加工、35、262(1986)、東貴四
郎、津田隆、機能材料、1987 No.10,5等の総説及びそ
れに引例の文献・特許等に記載の方法に従って合成する
ことができる。
Specifically, P.Dreyfuss & R.P.Quirk, Encycl, Polym.S
ci.Eng., 7 , 551 (1987), PFRempp, E.Franta, Adu., Pol
ym.Sci. 58 , 1 (1984), V. Percec, Appl., Polym. Sci., 285 ,
95 (1984), R. Asami, M. TakaRi, Makvamol. Chem. Suppl. 1
2, 163 (1985), P.Rempp.etal , Makvamol.Chem.Suppl. 8,
3 (1984) Yusuke Kawakami, Chemical Industry, 38 , 56 (1987), Yuya Yamashita, Polymer, 31 , 988 (1982), Shiro Kobayashi, Polymer, 30 ,
625 (1981), Higashi-son Toshinobu, Journal of the Adhesion Society of Japan 18, 536 (198
2), Koichi Ito, Polymer Processing, 35 , 262 (1986), Higashi Kishiro, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987 No.10,5, etc. can do.

又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその
保護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知
見を利用して容易に行なうことができる。例えば前記し
て引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義
男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談社刊(1977
年)、T.W.Greene「Protective Groups in Organic Syn
thesis」、John Wiley&Sous(1981年)、J.F.W.McOmi
e,「Protective Groups in Organic Chemistry」Plenum
Press,(1973年)等の総説に詳細に記載されている方
法を適宜選択して行なうことができる。
Further, the protecting group for protecting the specific acidic group of the present invention and the elimination of the protecting group (deprotection reaction) can be easily carried out by utilizing conventionally known knowledge. For example, various references are given in the cited document, and further, Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymer", published by Kodansha Ltd. (1977
), TWGreene "Protective Groups in Organic Syn
thesis ", John Wiley & Sous (1981), JFW McOmi
e, `` Protective Groups in Organic Chemistry '' Plenum
Press, (1973) and the like can be carried out by appropriately selecting a method described in detail.

他のA−B型ブロック共重合体の合成法としては、ジ
シオカーバメント化合物を開始剤として光イニファータ
ー重合法によって合成することもできる。例えば、大津
隆行、高分子、37,248(1988)、桧森俊一、大津隆一、
Polym.Rep.Jap.37,3508(1988)、特開昭64−111号、特
開昭64−26619号等に記載の合成方法に従って合成され
る。これを上記したマクロモノマー合成法を利用して本
発明のマクロモノマーを得ることができる。
As another method for synthesizing an AB block copolymer, it can be synthesized by a photoiniferter polymerization method using a diciocarbamate compound as an initiator. For example, Takayuki Otsu, polymeric, 37, 248 (1988), Hinokimori Shunichi, Ryuichi Otsu,
Jap. 37 , 3508 (1988), JP-A-64-111, JP-A-64-26619, and the like. The macromonomer of the present invention can be obtained by utilizing the above-mentioned macromonomer synthesis method.

本発明のマクロモノマー(M)は、具体的には、下記
の化合物を例として挙げることができる。但し、本発明
の範囲は、これらに限定されるものではない。但し、下
記化合物例において、c,d及びeはそれぞれ、−H、−C
H3又は−CH2COOCH3を示し、fは−H又は−CH3を示し、
R7は−CpH2p+1(pは1〜18の整数)、−(CH2qC6H5
(qは1〜3の整数)、 (YCは−H、−Cl、−Br、−CH3、−OCH3又は−COCH3
示す)又は (rは0又は1〜3の整数) を示す、R8は−CSH2S+1(sは1〜8の整数)又は−(C
H2qC6H5を示し、Y2は−OH、−COOH、−SO3H、 を示し、Y3は−COOH、−SO3H、 を示し、tは2〜12の整数を示し、uは2〜6の整数を
示す。
Specific examples of the macromonomer (M) of the present invention include the following compounds. However, the scope of the present invention is not limited to these. However, in the following compound examples, c, d and e are respectively -H, -C
H 3 or indicates -CH 2 COOCH 3, f represents -H or -CH 3,
R 7 is -C p H 2p + 1 (p is 1 to 18 integer), - (CH 2) q C 6 H 5
(Q is an integer of 1 to 3), (YC represents -H, -Cl, -Br, -CH 3 , a -OCH 3 or -COCH 3) or (R is an integer of 0 or 1 to 3) shows a, R 8 is -C S H 2S + 1 (s is an integer of 1 to 8) or - (C
H 2) shows the q C 6 H 5, Y 2 is -OH, -COOH, -SO 3 H, Are shown, Y 3 is -COOH, -SO 3 H, Is shown, t shows the integer of 2-12, u shows the integer of 2-6.

前記したマクロモノマー(MA)と共重合する単量体は
例えば一般式(II)で示される。式(II)においてR2
式(I)中のR1と同一の内容を表わす。
The monomer copolymerizable with the macromonomer (MA) is represented by the general formula (II). In the formula (II), R 2 has the same contents as R 1 in the formula (I).

又、重合体主鎖中には、−PO3H2基、−SO3H基、−COO
H基、−OH基、−SH基及び−PO3RH基の酸性基を含有する
共重合成分を含有しないものが好ましい。
Moreover, in the polymer main chain, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COO
Those which do not contain a copolymer component containing an acidic group such as H group, -OH group, -SH group and -PO 3 RH group are preferred.

更に、本発明の低分子量の樹脂〔A〕は、一般式(II
a)及び/又は一般式(II b)で示される2位又は2,6
−位に特定の置換基を有するベンゼン環又はナフタレン
環を含有する特定の置換基をもつメタクリレートを共重
合成分として含有するグラフト共重合体〔A′〕である
事が好ましい。
Further, the low-molecular-weight resin [A] of the present invention has the general formula (II)
a) and / or 2-position or 2,6 represented by general formula (IIb)
It is preferable that the graft copolymer [A '] contains, as a copolymer component, methacrylate having a specific substituent having a benzene ring or a naphthalene ring having a specific substituent at the -position.

一般式(II a)において、好ましいX1及びX2としてそ
れぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好
ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、クロロベ
ンジル基、ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メ
チルベンジル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル
−ベンジル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、
トリル基、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェ
ニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、
並びに−COZ3及び−COOZ3(好ましいZ3としては上記好
ましい炭化水素基として記載したものを挙げることがで
きる)を挙げることができる。但し、X1とX2がともに水
素原子を表わすことはない。
In the general formula (IIa), as preferred X 1 and X 2 , in addition to a hydrogen atom, a chlorine atom, and a bromine atom, as a preferred hydrocarbon group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group) , A propyl group, a butyl group, etc.), an aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group) , A chloro-methyl-benzyl group, etc.) and an aryl group (for example, a phenyl group,
Tolyl, silyl, bromophenyl, methoxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, etc.),
And (Preferred Z 3 may be mentioned those described as the preferred hydrocarbon groups) -COZ 3 and -COOZ 3 can be exemplified. However, X 1 and X 2 are never both represent a hydrogen atom.

式(II a)において、L1は−COO−とベンゼン環を結
合する、単結合又はCH2 m1(m1は1〜3の整数を表
わす)、−CH2CH2OCO−、CH2Om2(m2は1又は2の
整数を表わす)、−CH2CH2O−等の如き連結原子数1〜
4個の連結基を表わす。
In the formula (IIa), L 1 is a single bond or —CH 2 m1 (m 1 represents an integer of 1 to 3), —CH 2 CH 2 OCO—, CH 2 O, which connects —COO— to a benzene ring. m @ 2 (m 2 represents an integer of 1 or 2), - CH 2 CH 2 O- number such linking atom, such as 1
Represents 4 linking groups.

式(II b)におけるL2はL1と同一の内容を表わす。L 2 in formula (II b) is the same meaning as L 1.

本発明の樹脂〔A′〕で用いられる、式(II a)又は
(II b)で示される単量体の具体例を以下に挙げる。し
かし、本発明の範囲は、これらに限定さされるものでは
ない。
Specific examples of the monomer represented by the formula (IIa) or (IIb) used in the resin [A '] of the present invention are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to these.

更には、本発明のグラフト型共重合体において上記マ
クロモノマー(MA)と共重合する成分としては、一般式
(II)、(II a)又は(II b)以外の単量体であっても
よく、例えば、α−オレフィン類、アルカン類ビニル又
はアリルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタク
リルアミド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例えば窒
素原子以外の非金属原子(酸素原子、イオウ原子等)を
1〜3個含有する5員〜7員環の複素環であり、具体的
な化合物として、ビニルチオフェン、ビニルジオキサ
ン、ビニルフラン等〕等が挙げられる。好ましい例とし
ては、例えば、炭素数1〜3のアルカン酸ビニル又はア
リルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、スチレン及びスチレン誘導体(例えばビニルトルエ
ン、ブチルスチレン、メトキシスチレン、クロロスチレ
ン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、エトキシスチ
レン等)等が挙げられる。
Furthermore, as the component copolymerizable with the macromonomer (MA) in the graft copolymer of the present invention, a monomer other than the general formula (II), (IIa) or (IIb) may be used. Well, for example, α-olefins, alkanes vinyl or allyl esters, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, acrylamides, methacrylamides, styrenes, heterocyclic vinyls (for example, non-metal atoms other than nitrogen atom ( It is a 5- to 7-membered heterocyclic ring containing 1 to 3 oxygen atoms, sulfur atoms and the like), and specific compounds include vinylthiophene, vinyldioxane, vinylfuran and the like]. Preferred examples include, for example, vinyl or allyl esters having 1 to 3 carbon atoms, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene and styrene derivatives (for example, vinyltoluene, butylstyrene, methoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene). , Ethoxystyrene, etc.).

本発明の結着樹脂は、前記マクロモノマー(MA)及び
他の単量体(例えば一般式(II)で示される単量体)の
うちから各々少なくとも1種選ばれた化合物を所望の割
合で共重合させることによって製造することができる。
重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、乳化
重合等の公知の方法を用いることにより製造することが
できる。例えば溶液重合ではベンゼン、トルエン等の溶
媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合
物、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せ
しめ共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥また
は負荷剤に添加することにより所望の共重合体を得るこ
とができる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体
を懸濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せし
め共重合体を得ることができる。
The binder resin of the present invention contains at least one compound selected from the macromonomer (MA) and another monomer (for example, a monomer represented by the general formula (II)) at a desired ratio. It can be produced by copolymerization.
As the polymerization method, it can be produced by using a known method such as solution polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization, and emulsion polymerization. For example, in solution polymerization, a monomer can be added in a predetermined ratio in a solvent such as benzene or toluene, and polymerized with an azobis compound, a peroxide compound, and a radical polymerization initiator to obtain a copolymer solution. The desired copolymer can be obtained by adding this to a drying or loading agent. In the suspension polymerization, a monomer can be suspended in the presence of a dispersant such as polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone, and then copolymerized in the presence of a radical polymerization initiator to obtain a copolymer.

樹脂〔A〕において、A−B型ブロック共重合体中に
おける該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量
は、樹脂〔A〕100重量部中、好ましくは1〜20重量%
で、より好ましくは3〜15重量%である。
In the resin [A], the amount of the specific acidic group-containing polymer component in the AB type block copolymer is preferably in the range of 1 to 20% by weight in 100 parts by weight of the resin [A].
And more preferably 3 to 15% by weight.

樹脂〔A〕の重量平均分子量は好ましくは3×103
1×104である。
The weight average molecular weight of the resin [A] is preferably 3 × 10 3 to
It is 1 × 10 4 .

樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは−40℃〜110
℃、好ましくは−20℃〜90℃である。
The glass transition point of the resin [A] is preferably -40 ° C to 110 ° C.
C, preferably -20 to 90 ° C.

次に本発明に供せられる樹脂〔B〕について説明す
る。
Next, the resin [B] used in the present invention will be described.

樹脂〔B〕は、前記した物性を満たし、一官能性マク
ロモノマー(MB)と一般式(V)で示される単量体とを
少なくとも含有するグラフト型の共重合体から成る樹脂
である事を特徴とする。
The resin [B] is a resin which is a graft type copolymer that satisfies the above-mentioned physical properties and contains at least a monofunctional macromonomer (MB) and a monomer represented by the general formula (V). Characterize.

樹脂〔B〕は、好ましくは重量平均分子量が3×104
以上の、グラフト型共重合体樹脂である。より好ましく
は重量平均分子量が5×104〜3×105である。
The resin [B] preferably has a weight average molecular weight of 3 × 10 4
The above is a graft copolymer resin. More preferably, the weight average molecular weight is from 5 × 10 4 to 3 × 10 5 .

樹脂〔B〕のガラス転移点は好ましくは0℃〜120℃
の範囲、より好ましくは10℃〜90℃である。
The glass transition point of the resin [B] is preferably 0 ° C to 120 ° C.
And more preferably from 10 ° C to 90 ° C.

一官能性マクロモノマー(MB)は、一般式(III)で
示される重合性二重結合基を、一般式(IV a)又は(IV
b)で示される重合体成分を少なくとも1種含有する重
合体主鎖の一方の末端にのみ結合して成る、重量平均分
子量2×104以下のものである。
The monofunctional macromonomer (MB) has a polymerizable double bond group represented by the general formula (III), a general formula (IV a) or (IV
It has a weight-average molecular weight of 2 × 10 4 or less which is bonded to only one end of a polymer main chain containing at least one polymer component represented by b).

一般式(III)、(IV a)及び(IV b)において、
c1、c2、V0、d1、d2、V1、Q1及びQ0に含まれる炭化水素
基は各々示された炭素数(未置換の炭化水素基として
の)を有するが、これら炭化水素基は置換基を有してい
てもよい。
In the general formulas (III), (IVa) and (IVb),
The hydrocarbon groups contained in c 1 , c 2 , V 0 , d 1 , d 2 , V 1 , Q 1 and Q 0 each have the indicated carbon number (as an unsubstituted hydrocarbon group), These hydrocarbon groups may have a substituent.

マクロモノマー(MB)を示す一般式(III)におい
て、V0は−COO−、−OCO−、−CH2OCO−、−CH2COO−、
−O−、−SO2−、−CO−、−CONHCOO−、−CONHCONH
−、−CONHSO2−、 を表わす。ここでP3は、水素原子のほか、好ましい炭化
水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエ
チル基:2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシ
エチル基、3−プロモプロピル基等)、炭素数4〜18の
置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−
1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル
基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル
基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル
−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてい
てもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2
−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジ
ル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル
基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例
えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル
基、2−シクロペンチルエチル基等)又は、炭素数6〜
12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、
ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシル
フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル
基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等)が挙げられる。
Formula showing the macromonomer (MB) in (III), V 0 is -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO -, - CH 2 COO-,
-O -, - SO 2 -, - CO -, - CONHCOO -, - CONHCONH
−, −CONHSO 2 −, Represents Here, P 3 is, in addition to a hydrogen atom, a preferable hydrocarbon group as an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group). Group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2
-Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group: 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-promopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, , 2-methyl-
1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), An optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group,
-Naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (E.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or C6-C6.
12 optionally substituted aromatic groups (for example, phenyl group,
Naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, decyloxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, bromophenyl Group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc.).

V0を表わす場合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。
置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素
原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル
基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。
V 0 In the case where is represented, the benzene ring may have a substituent.
Examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group, Ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.).

c1及びc2は、互いに同じでも異なっていてもよく、好
ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、
臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COO−Z′又は炭化水素を介した−COO−Z′
(Z′は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、ア
ルケニル基、アラルキル基、脂環式基又はアリール基を
表わし、これらは置換されていてもよく、具体的には、
上記P3について説明したものと同様の内容を表わす)を
表わす。
c 1 and c 2 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom,
Bromine atom, etc.), cyano group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), -COO-Z 'or -COO-Z' via hydrocarbon.
(Z 'represents a hydrogen atom or an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group or aryl group having 1 to 18 carbon atoms, which may be substituted, and specifically,
It represents the same contents as those described for P 3 above).

上記炭化水素を介した−COO−Z′基における炭化水
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon in the -COO-Z 'group through the hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and the like.

更に好ましくは、一般式(III)において、V0は、−C
OO−、−OCO−、−CH2OCO−、−CH2COO−、−O−、−C
ONHCOO−、−CONHCONH−、−CONH−、−SO2NH−又は を表わし、c1、c2は互いに同じでも異なってもよく、水
素原子、メチル基、−COO−Z′又は−CH2COOZ′(Z′
は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
等)を表わす。更により好ましくはc1、c2においていず
れか一方が必ず水素原子を表わす。
More preferably, in the general formula (III), V 0 is -C
OO -, - OCO -, - CH 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - C
ONHCOO -, - CONHCONH -, - CONH -, - SO 2 NH- or And c 1 and c 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a methyl group, —COO—Z ′ or —CH 2 COOZ ′ (Z ′.
Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, etc.). Even more preferably, one of c 1 and c 2 always represents a hydrogen atom.

即ち、一般式(III)で表わされる重合性二重結合基
として、具体的には、 等が挙げられる。
That is, as the polymerizable double bond group represented by the general formula (III), specifically, And the like.

一般式(IV a)において、V1は式(III)中のV0と同
一の内容を表わす。
In general formula (IV a), V 1 has the same meaning as V 0 in formula (III).

d1、d2は互いに同じでも異なってもよく、式(III)
中のc1、c2と同一の内容を表わす。
d 1 and d 2 may be the same or different from each other, and have the formula (III)
Represents the same content as c 1 and c 2 in .

Q1は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳
香族基を表わす。
Q 1 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms.

具体的には、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、、オクタ
デシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、
2−ヒドロキシルエチル基、2−メトキシエチル基、2
−エトキシエチル基、2−シアノエチル基、3−クロロ
プロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、2
−テトラヒドロフリル基、2−チエニルエチル基、2−
N,N−ジメチルアミノエチル基、2−N,N,−ジエチルア
ミノエチル基等)、炭素数5〜8のシクロアルキル基
(例えばシクロヘプチル基、シクロヘキシル基、シクロ
オクチル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラ
ルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、ジクロロ
ベンジル基、メチルベンジル基、クロロ−メチル−ベン
ジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、
メトキシベンジル基等)等の脂肪族基が挙げられる。
Specifically, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group,
Dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group,
2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2
-Ethoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2- (trimethoxysilyl) ethyl group, 2
-Tetrahydrofuryl group, 2-thienylethyl group, 2-
N, N-dimethylaminoethyl group, 2-N, N, -diethylaminoethyl group, etc.), cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms (eg, cycloheptyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, etc.), 7 carbon atoms 12 optionally substituted aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, dichlorobenzyl group, methylbenzyl group, chloro group -Methyl-benzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group,
Aliphatic groups such as methoxybenzyl group).

更に炭素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例
えばフェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、ジクロロフェニル基、クロロ
−メチル−フェニル基、メトキシフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基
等)等の芳香族基が挙げられる。
Further, an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl, tolyl, xylyl, chlorophenyl, bromophenyl, dichlorophenyl, chloro-methyl-phenyl, methoxyphenyl, methoxycarbonylphenyl) , A naphthyl group, a chloronaphthyl group, etc.).

式(IV a)において好ましくは、V1は−COO−、−OCO
−、−CH2COO−、−CH2OCO−、−O−、−CO−、−CONH
COO−、−CONHCONH−、−CONH−、−SO2NH−、又は を表わす。
In the formula (IVa), preferably V 1 is -COO-, -OCO.
-, - CH 2 COO -, - CH 2 OCO -, - O -, - CO -, - CONH
COO -, - CONHCONH -, - CONH -, - SO 2 NH-, or Represents

d1、d2の好ましい例は、前記したc1、c2と同様の内容
を表わす。
Preferred examples of d 1 and d 2 represent the same contents as those of c 1 and c 2 described above.

式(IV b)において、Q0は−CN、−CONH2又は を表わし、Tは水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原
子、臭素原子等)、炭化水素基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、フェニ
ル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基等)又は−COO−Z″(Z″は好ましくは炭素数1〜
8のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基又はアリ
ール基を表わす)を表わす。
In formula (IV b), Q 0 is —CN, —CONH 2 or Represents a hydrogen atom, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), a hydrocarbon group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, phenyl group, etc.), an alkoxy group (eg, Methoxy group, ethoxy group, etc.) or --COO--Z ″ (Z ″ is preferably 1 to 1 carbon atoms.
8 represents an alkyl group, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms or an aryl group).

マクロモノマー(MB)は、式(IV a)又は(IV b)で
示される重合体成分を2種以上含有していてもよい。又
式(IV a)においてQ1が脂肪族基の場合、炭素数6〜12
の脂肪族基は、マクロモノマー(MB)中の全重合体成分
中の20重量%を越えない範囲で用いることが好ましい。
The macromonomer (MB) may contain two or more polymer components represented by the formula (IV a) or (IV b). When Q 1 is an aliphatic group in formula (IV a), it has 6 to 12 carbon atoms.
It is preferable to use the aliphatic group in a range not exceeding 20% by weight based on the total polymer components in the macromonomer (MB).

更には、一般式(IV a)におけるV1が−COO−である
場合には、マクロモノマー(MB)中の全重合体成分中、
式(IV a)で示される重合体成分が少なくとも30重量%
以上含有されることが好ましい。
Furthermore, when V 1 in the general formula (IV a) is —COO—, in all the polymer components in the macromonomer (MB),
At least 30% by weight of the polymer component of the formula (IVa)
It is preferable to contain the above.

又、マクロモノマー(MB)において、式(IV a)及び
/又は(IV b)で示される重合体成分とともに共重合さ
れうる繰り返し単位に相当する単量体として、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン及びその誘導体(例えばビ
ニルトルエン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブ
ロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、N,N−ジメ
チルアミノメチルスチレン等)、複素環ビニル類(例え
ばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリ
ドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジ
オキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
Further, in the macromonomer (MB), acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamides as monomers corresponding to repeating units that can be copolymerized with the polymer component represented by the formula (IV a) and / or (IV b) , Methacrylamides, styrene and derivatives thereof (eg vinyltoluene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, hydroxymethylstyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene etc.), heterocyclic vinyls (eg vinylpyridine, vinylimidazole, Vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.) and the like.

本発明の樹脂〔B〕において供されるマクロモノマー
(MB)は、上述の如き、一般式(IV a)及び/又は(IV
b)で示される繰返し単位から成る重合体主鎖の一方の
未満にのみ、一般式(III)で示される重合性二重結合
基が、直接結合するか、あるいは、任意の連結基で係合
された化学構造を有するものである。式(III)成分と
式(IV a)又は(IV b)成分を連結する基としては、炭
素−炭素結合(一重結合あるいは二重結合)、炭素−ヘ
テロ原子結合(ヘテロ原子としては例えば、酸素原子、
イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等)、ヘテロ原子−
ヘテロ原子結合の原子団の任意の組合せで構成されるも
のである。
The macromonomer (MB) provided in the resin [B] of the present invention has the general formula (IV a) and / or (IV
The polymerizable double bond group represented by the general formula (III) is directly bonded to only one less than one of the polymer main chains composed of the repeating unit represented by b) or engaged with any linking group. It has a defined chemical structure. The group connecting the formula (III) component and the formula (IV a) or (IV b) component includes a carbon-carbon bond (single bond or double bond), a carbon-heteroatom bond (as a hetero atom, for example, oxygen). atom,
Sulfur atom, nitrogen atom, silicon atom, etc.), hetero atom-
It is composed of any combination of heteroatom-bonded atomic groups.

本発明のマクロモノマー(MB)のうち好ましいものは
式(VI a)又は(VI b)で示される如きものである。
Preferred among the macromonomers (MB) of the present invention are those represented by the formula (VI a) or (VI b).

式(VI a)又は(VI b)中、c1、c2、d1、d2、V0
V1、Q1、Q0は各々、式(III)、式(IV a)及び式(IV
b)において説明したものと同一の内容を表わす。
In formula (VI a) or (VI b), c 1 , c 2 , d 1 , d 2 , V 0 ,
V 1 , Q 1 and Q 0 are the formula (III), the formula (IV a) and the formula (IV
Represents the same content as described in b).

W0は、単なる結合または、 〔h1、h2は、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシ
ル基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基等)等を示す〕、 CH=CH、 −O−、−S−、 −COO−、−SO2−NHCOO−、−NHCONH−、 [h3、h4は各々水素原子、前記式(IV a)におけるQ1
同様の内容を表わす炭化水素基を示す]等の原子団から
選ばれた単独の連結基もしくは任意の組合せで構成され
た連結基を表わす。
W 0 is a simple bond or [H 1 and h 2 represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, a hydroxyl group, an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.) ], CH = CH, -O-, -S-, −COO−, −SO 2 , -NHCOO-, -NHCONH-, [H 3 and h 4 each represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having the same content as Q 1 in the above formula (IV a)] or the like, and a single linking group selected from atomic groups or any combination thereof. Represents a linked group.

マクロモノマー(MB)の重量平均分子量が2×104
超えると、式(V)で示されるモノマーとの共重合性が
低下する。他方、分子量が小さすぎると感光層の電子写
真特性の向上効果が小さくなるので、1×103以上であ
ることが好ましい。
When the weight average molecular weight of the macromonomer (MB) exceeds 2 × 10 4 , the copolymerizability with the monomer represented by the formula (V) decreases. On the other hand, if the molecular weight is too small, the effect of improving the electrophotographic properties of the photosensitive layer will be small, so that it is preferably 1 × 10 3 or more.

本発明において樹脂〔B〕に供されるマクロモノマー
(MB)は、従来公知の合成方法によって製造することが
できる。例えば、アニオン重合あるいはカチオン重合に
よって得られるリビングポリマーの末端に種々の試薬を
反応させてマクロマーとするイオン重合法による方法、
分子中に、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基
等の反応性基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動
剤を用いて、ラジカル重合して得られる末端反応性基結
合のオリゴマーと種々の試薬を反応させてマクロマーに
するラジカル重合法による方法、重付加あるいは重縮合
反応により得られたオリゴマーに上記ラジカル重合方法
と同様にして、重合性二重結合基を導入する重付加縮合
法による方法等が挙げられる。
The macromonomer (MB) used for the resin [B] in the present invention can be produced by a conventionally known synthesis method. For example, a method by an ionic polymerization method in which various reagents are reacted with the ends of a living polymer obtained by anionic polymerization or cationic polymerization to form a macromer,
Oligomers of terminal reactive group bond obtained by radical polymerization using a polymerization initiator and / or chain transfer agent containing a reactive group such as carboxyl group, hydroxyl group, amino group in the molecule and various reagents By a radical polymerization method of reacting with a polymer to form a macromer, a polyaddition condensation method of introducing a polymerizable double bond group into the oligomer obtained by a polyaddition or polycondensation reaction in the same manner as the above radical polymerization method. Is mentioned.

具体的には、P.Dreyfuss&R.P.Quirk,Encycl.Polym.S
ci.Eng.,,551(1987),P.F.Rempp,E.Franta,Adv.Poly
m.Sci.,58,1(1984),V.Percec,Appl.Polym.Sci.,285,9
5(1984),R.Asami,M.TakaRi,Makvamol.Chem.Suppl.,1
2,163(1985),P.Rempp et al,Makvamol.Chem.Suppl.,
,3(1984),川上雄資、化学工業、38,56(1987)、
山下雄也、高分子、31,988(1982),小林四郎、高分
子、30,625(1981)、東村敏延、日本接着協会誌18,536
(1982)、伊藤浩一、高分子加工、35,262(1986)、東
貴四郎、津田隆、機能材料、1987 No.10,5等の総説及
びそれに引例の文献・特許等に記載の方法に従って合成
することができる。
Specifically, P.Dreyfuss & R.P.Quirk, Encycl.Polym.S
ci.Eng., 7 , 551 (1987), PFRempp, E.Franta, Adv.Poly
m.Sci., 58 , 1 (1984), V.Percec, Appl.Polym.Sci., 285 , 9
5 (1984), R. Asami, M. TakaRi, Makvamol. Chem. Suppl., 1
2 , 163 (1985), P. Rempp et al, Makvamol. Chem. Suppl.,
8 , 3 (1984), Yusuke Kawakami, Chemical Industry, 38 , 56 (1987),
Yuya Yamashita, polymer, 31, 988 (1982), Shiro Kobayashi, polymer, 30, 625 (1981), Higashimura Satoshinobe, Journal of the Adhesion Society of Japan, 18, 536
(1982), Koichi Ito, polymer processing, 35, 262 (1986), AzumaTakashi Shiro, Takashi Tsuda, functional materials, according to the method described in the review, such as 1987 Nanba10,5 and it references the literature, patents, etc. Can be synthesized.

本発明のマクロモノマー(MB)は、よく具体的には、
下記の化合物を例として挙げることができる。但し、本
発明の範囲は、これらに限定されるものではない。
The macromonomer (MB) of the present invention is specifically,
The following compounds may be mentioned as examples: However, the scope of the present invention is not limited to these.

但し、以下の各例において、c1は−H又は−CH3を示
し、d1は−H又は−CH3を示し、d2は−H、−CH3又は−
CH2COOCH3を示し、R11は−CdH2d+1、−CH2C6H5、−C6H5
又は を示し、R12は、−CdH2d+1、CH2 eC6H5又は を示し、R13は−CdH2d+1、−CH2C6H5又は−C6H5を示
し、R14は−CdH2d+1又は−CH2C6H5を示し、R15は−CdH
2d+1、−CH2C6H5又は を示し、R16は−CdH2d+1を示し、R17は−CdH2d+1、−CH
2C6H5又は を示し、R18は−CdH2d+1、−CH2C6H5又は を示し、V1は−COOCH3、−C6H5又は−CNを示し、V2は−
OCdH2d+1、−OCOCdH2d+1、−COOCH3、−C6H5又は−CNを
示し、V3は−COOCH3、−C6H5又は−CNを示し、V4は−OCOCdH2d+1、−CN、−CONH2
は−C6H5を示し、V5は−CN、−CONH2又は−C6H5を示
し、V6は−COOCH3、−C6H5又は を示し、T1は−CH3、−Cl、−Br又は−OCH3を示し、T2
は−CH3、−Cl又は−Brを示し、T3は−H、−Cl、−B
r、−CH3、−CN又は−COOCH3を示し、T4は−CH3、−Cl
又は−Brを示し、T5は−Cl、−Br、−F、−OH又は−CN
を示し、T6は−H、−CH3、−Cl、−Br、−OCH3又は−C
OOCH3を示し、dは1〜18の整数を示し、eは1〜3の
整数を示し、fは2〜4の整数を示す。
However, in the following examples, c 1 represents -H or -CH 3, d 1 represents -H or -CH 3, d 2 is -H, -CH 3 or -
CH 2 COOCH 3 indicates, R 11 is -C d H 2d + 1, -CH 2 C 6 H 5, -C 6 H 5
Or Are shown, R 12 is, -C d H 2d + 1, CH 2 e C 6 H 5 or Are shown, R 13 is -C d H 2d + 1, shows a -CH 2 C 6 H 5 or -C 6 H 5, R 14 represents a -C d H 2d + 1 or -CH 2 C 6 H 5 , R 15 is -C d H
2d + 1, -CH 2 C 6 H 5 or R 16 represents -C d H 2d + 1 , R 17 represents -C d H 2d + 1 , -CH
2 C 6 H 5 or Wherein R 18 is -C d H 2d + 1 , -CH 2 C 6 H 5 or V 1 represents -COOCH 3 , -C 6 H 5 or -CN, and V 2 represents-
OC d H 2d + 1 , -OCOC d H 2d + 1 , -COOCH 3 , -C 6 H 5 or -CN, and V 3 is -COOCH 3 , -C 6 H 5 , Or indicates -CN, V 4 is -OCOC d H 2d + 1, -CN , shows a -CONH 2 or -C 6 H 5, V 5 represents -CN, a -CONH 2 or -C 6 H 5, V 6 is -COOCH 3 , -C 6 H 5 or And T 1 represents -CH 3 , -Cl, -Br or -OCH 3 , and T 2
Represents a -CH 3, -Cl or -Br, T 3 is -H, -Cl, -B
r, -CH 3, shows a -CN or -COOCH 3, T 4 is -CH 3, -Cl
Or indicates -Br, T 5 is -Cl, -Br, -F, -OH or -CN
Wherein T 6 is -H, -CH 3 , -Cl, -Br, -OCH 3 or -C
Indicates OOCH 3, d is an integer of 1 to 18, e is an integer of 1 to 3, f is an integer of 2-4.

前記したマクロモノマー(MB)と共重合する単量体
は、一般式(V)で示される。式(V)において、e1
e2は、互いに同じでも異なってもよく、式(III)の
c1、c2と同一の内容を表わす。V2は式(IV a)のV1と、
Q2は式(IV a)のQ1と各々同一の内容を表わす。
The monomer copolymerized with the macromonomer (MB) is represented by the general formula (V). In the formula (V), e 1 ,
e 2 may be the same or different from each other;
Represents the same content as c 1 and c 2 . V 2 is V 1 of the formula (IV a),
Q 2 has the same contents as Q 1 in formula (IV a).

更に、本発明の樹脂〔B〕は、前記したマクロモノマ
ー(MB)及び一般式(V)の単量体とともに、これら以
外の他の単量体を共重合成分として含有してもよい。
Further, the resin [B] of the present invention may contain other monomers as copolymer components in addition to the above-mentioned macromonomer (MB) and the monomer of the general formula (V).

例えば、酸性基を含有するビニル系化合物、α−オレ
フィン類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ア
クリルアミド、メタクリルアミド、スチレン、ビニル基
含有ナフタレン化合物(例えばビニル−ナフタレン、1
−イソペロペニルナフタリン等)ビニル基含有複素環化
合物(例えばビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニ
ルチオフェン、ビニル−テトラヒドロフラン、ビニル−
1,3−ジオキソラン、ビニルイミダゾール、ビニルチア
ゾール、ビニルオキサゾリン等)等の化合物が挙げられ
る。
For example, vinyl compounds containing an acidic group, α-olefins, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, methacrylamide, styrene, vinyl group-containing naphthalene compounds (for example, vinyl-naphthalene,
-Isoperopenylnaphthalene, etc.) vinyl group-containing heterocyclic compounds (for example, vinylpyridine, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinyl-tetrahydrofuran, vinyl-
Compounds such as 1,3-dioxolan, vinylimidazole, vinylthiazole, and vinyloxazoline).

樹脂〔B〕において、マクロマー(MB)を繰り返し単
位とする共重合成分と、一般式(V)で示される単量体
を繰り返し単位とする共重合成分の組成比は、1〜80/9
9〜20(重量組成比)であり、好ましくは5〜60/95〜40
重量組成比である。
In the resin [B], the composition ratio of the copolymer component having a macromer (MB) as a repeating unit and the copolymer component having a monomer represented by the general formula (V) as a repeating unit is 1 to 80/9.
9-20 (weight composition ratio), preferably 5-60 / 95-40
It is a weight composition ratio.

上記の酸性基を含有するビニル系化合物としては、例
えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック〔基
礎編〕」培風館(1986年)等に記載されている。具体的
には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例
えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α−
(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シア
ノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例
えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2
−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチ
ル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エ
ステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカル
ボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン
酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又は
アリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸
又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換
基中に酸性基を含有する化合物等が挙げられる。
The above-mentioned vinyl compound containing an acidic group is described, for example, in “Polymer Data Handbook [Basic Edition]” edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-acetoxy form)
(2-amino) methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-
Methoxy, α, β-dichloro), methacrylic acid,
Itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid,
-Octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinyl Examples include half-ester derivatives of vinyl or allyl groups of sulfonic acids, vinylphosphonic acids and dicarboxylic acids, and ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, and compounds containing an acidic group in the substituents of the amide derivatives.

他の共重合成分として、「酸性基を含有するビニル系
化合物」を繰り返し単位として含有する場合、該酸性基
含有共重合成分は共重合体中の10重量%を超えない事が
好ましい。
When the "vinyl compound containing an acidic group" is contained as a repeating unit as another copolymerization component, the acidic group-containing copolymerization component preferably does not exceed 10% by weight in the copolymer.

該酸性基含有成分が10重量%を超えると、無機光導電
体粒子との相互作用が著しくなり、感光体表面の平滑性
が阻害され、結果として、電子写真特性(特に、帯電
性、暗中電荷保持性)が悪化してしまう。
When the content of the acidic group-containing component exceeds 10% by weight, the interaction with the inorganic photoconductor particles becomes remarkable, and the smoothness of the photoreceptor surface is impaired. As a result, electrophotographic properties (particularly, chargeability, charge in the dark) (Retention) is deteriorated.

更に、本発明の好ましい態様として用いることのでき
る樹脂〔B′〕は、一般式(V)で示される繰り返し単
位を少なくとも1種及びマクロモノマー(MB)で示され
る繰り返し単位を少なくとも1種含有する重合体主鎖の
片末端にのみ、−PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、−OH
基、−SH基および (R0は炭化水素基又は−OR0′(R0′は炭化水素基を示
す)基を表わす}から選ばれる少なくとも一つの酸性基
を結合して成る重合体である。
Further, the resin [B '] which can be used as a preferred embodiment of the present invention contains at least one kind of a repeating unit represented by the general formula (V) and at least one kind of a repeating unit represented by a macromonomer (MB). at one end of the polymer main chain only, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -OH
Group, -SH group and (R 0 represents a hydrocarbon group or a —OR 0 ′ (R 0 ′ represents a hydrocarbon group) group}, and is a polymer having at least one acidic group bonded thereto.

ここで、R0、R0′で表される炭化水素基としては、炭
素数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、
オクタデシル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシ
エチル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基
等)、炭素数7〜9の置換されてもよいアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロ
ピル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メト
キシベンジル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜8
の脂環式基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル
基等)、炭素数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例
えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、アルコキシ
フェニル基(アルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、
ノニル基、デシル基、ドデシル基等)、アセトキシフェ
ニル基、メチル−クロロ−フェニル基、プロピルフェニ
ル基、ブチルフェニル基、デシルフェニル基等)等が挙
げられる。
Here, R 0 , as the hydrocarbon group represented by R 0 ′, an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group,
Octyl, decyl, dodecyl, tetradecyl,
Octadecyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-ethoxyethyl group, etc.) and aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms and which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3 -Phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), carbon number 5-8
Alicyclic group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), and optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group) , An alkoxyphenyl group (as an alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group,
Nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc.), acetoxyphenyl group, methyl-chloro-phenyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, decylphenyl group, etc.).

又、上記酸性基を重合体主鎖の片末端に結合する場合
には、重合体主鎖中にカルボキシル基、スルホ基、ヒド
ロキシル基、ホスホノ基の酸性基を含有する共重合成分
を含有しないことが好ましい。
When the above acidic group is bonded to one end of the polymer main chain, the polymer main chain should not contain a copolymerization component containing an acidic group such as a carboxyl group, a sulfo group, a hydroxyl group or a phosphono group. Is preferred.

樹脂〔B′〕において、上記酸性基は重合体主鎖の一
方の末端に直接結合するか、あるいは任意の連結基を介
して結合した化学構造を有する。
In the resin [B '], the acidic group has a chemical structure in which it is directly bonded to one end of the polymer main chain or is bonded via an arbitrary linking group.

結合基としては炭素−炭素結合(一重結合あるいは二
重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子としては
例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子
等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の任意の組
合わせで構成されるものである。例えば、 〔h5、h6は前記のh1、h2と同一の内容を表わす)CH=
CH、 (ここでh7、h8は前記のh3、h4と同一の内容を表わす)
等の原子団から選ばれた単独の連結基又は任意の組合せ
で構成された連結基等が挙げられる。
Examples of the bonding group include a carbon-carbon bond (single bond or double bond), a carbon-heteroatom bond (for example, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a silicon atom), and a heteroatom-heteroatom bond. It is composed of any combination of atomic groups. For example, [H 5, h 6 represents h 1, h 2 same contents as the) CH =
CH, (Where h 7 and h 8 represent the same contents as h 3 and h 4 above)
And the like, or a single linking group selected from an atomic group such as the above, or a linking group composed of an arbitrary combination.

樹脂〔B′〕において重合体主鎖の片末端にのみに結
合する該酸性基の含有量は、樹脂〔B′〕重量部当り好
ましくは0.1〜15重量%、より好ましくは0.5〜10重量%
である。0.1重量%未満では膜強度の向上効果が小さく
なり、15重量%以上では光導電体分散物の調整時に光導
電体が均一に分散されず、凝集が生じ、均一な塗膜が形
成されなくなる。
The content of the acidic group bonded to only one end of the polymer main chain in the resin [B '] is preferably 0.1 to 15% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, based on parts by weight of the resin [B'].
It is. If the amount is less than 0.1% by weight, the effect of improving the film strength is small, and if the amount is 15% by weight or more, the photoconductor is not uniformly dispersed at the time of preparing the photoconductor dispersion, so that aggregation occurs, and a uniform coating film is not formed.

重合体主鎖の片末端にのみ特定の酸性基を結合して成
る本発明の樹脂〔B′〕は、従来公知のアニオン重合あ
るいはカチオン重合によって得られるリビングポリマー
の末端に種々の試薬を反応させる方法(イオン重合法に
よる方法)、分子中に特定の酸性基を含有した重合開始
剤及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合させる方
法(ラジカル重合法による方法)、あるいは以上の如き
イオン重合法もしくはラジカル重合法によって得られた
末端に反応性基含有の重合体を高分子反応によって本発
明の特定の酸性基に変換する方法等の合成法によって容
易に製造することができる。
The resin [B '] of the present invention comprising a specific acidic group bonded to only one terminal of the polymer main chain is prepared by reacting various reagents with the terminal of a living polymer obtained by conventionally known anionic or cationic polymerization. Method (method by ionic polymerization), method of radical polymerization using a polymerization initiator and / or chain transfer agent containing a specific acidic group in the molecule (method by radical polymerization), or ionic polymerization as described above Alternatively, it can be easily produced by a synthesis method such as a method of converting a polymer having a terminal reactive group obtained by a radical polymerization method into a specific acidic group of the present invention by a polymer reaction.

具体的には、P.Dreyfuss,R.P.Quirk,Encycl.Polym.Sc
i.Eng.,:551(1987)、中條善樹、山下雄也「染料と
薬品」、30、232(1985)、上田明、永井進「化学と工
業」60、57(1986)等の総説及びそれに引用の文献等に
記載の方法によって製造することができる。
Specifically, P. Dreyfuss, RPQuirk, Encycl.Polym.Sc
i.Eng., 7 : 551 (1987), Yoshiki Nakajo, Yuya Yamashita "Dyes and Drugs" 30 , 232 (1985), Akira Ueda, Susumu Nagai "Chemistry and Industry" 60 , 57 (1986) and others. In addition, it can be manufactured by the method described in the cited documents.

本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂〔B〕(〔B′〕も
含む)の使用料の割合は、使用する無機光導電材料の種
類、粒径、表面状態によって異なるが一般に樹脂〔A〕
と樹脂〔B〕の用いる割合は5〜80対95〜20(重量比)
であり、好ましくは10〜60対90〜40(重量比)である。
The ratio of the resin [A] and the resin [B] (including [B ']) used in the present invention varies depending on the type, particle size and surface condition of the inorganic photoconductive material used, but the resin [A] is generally used.
And the resin [B] are used in a ratio of 5 to 80 to 95 to 20 (weight ratio).
And preferably 10 to 60 to 90 to 40 (weight ratio).

本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜
鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カド
ミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化
テルル、硫化鉛等が挙げられる。好ましくは、酸化亜
鉛、酸化チタン等が挙げられる。
Examples of the inorganic photoconductive material used in the present invention include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, and lead sulfide. Preferably, zinc oxide, titanium oxide and the like are used.

無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光
導電体100重量部に対して結着樹脂を10〜100重量部なる
割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で使用する。
The total amount of the binder resin used for the inorganic photoconductive material is 10 to 100 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photoconductor.

本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤と
して併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀
彦、イメージング1973(No.8)第12頁、C.J.Young等、R
C A Review 15、469(1954)、清田航平等、電気通信
学会論文誌J63−C(No.2),97(1980)、原崎勇次等、
工業化学雑誌66、78及び188(1963)、谷忠昭、日本写
真学会誌35、208(1972)等の総説引例のカーボニウム
系色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色
素、キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン
色素(例えばオキソノール、メロシアニン色素、シアニ
ン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素年)、フタロ
シアニン色素(金属を含有していてもよい)等が挙げら
れる。
In the present invention, various dyes can be used as spectral sensitizers as needed. For example, Harumiya Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No.8) page 12, CJ Young, R
CA Review 15 , 469 (1954), Kouhei Kiyota, The Institute of Electrical Communication, J63-C (No.2), 97 (1980), Yuji Harasaki, etc.,
Carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, which are cited as references in industrial chemistry magazines 66 , 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Japan Photographic Society magazine 35 , 208 (1972), etc. Examples thereof include polymethine dyes (for example, oxonol, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes), phthalocyanine dyes (which may contain a metal), and the like.

更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニル
メタン系色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素を
中心に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50−114227号、特開昭53−39130
号、特開昭53−82353号、米国特許第3052540号、米国特
許第4054450号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙
げられる。
More specifically, those using mainly carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes are described in JP-B-51-452,
0-90334, JP-A-50-114227, JP-A-53-39130
And JP-A-53-82353, U.S. Pat. No. 3,052,540, U.S. Pat. No. 4,054,450, and JP-A-57-16456.

オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素としてはF.M.
Hammer、「The Cyanine Dyes and Ralated Compounds」
等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には、
米国特許第3047384号、米国特許第3110591号、米国特許
第3121008号、米国特許第3125447号、米国特許第312817
9号、米国特許第3132942号、米国特許第3622317号、英
国特許第1226892号、英国特許第1309274号、英国特許第
1405898号、特公昭48−7814号、特公昭55−18892号等に
記載の色素が挙げられる。
Polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, and rhodacyanine dyes are FM
Hammer, "The Cyanine Dyes and Ralated Compounds"
Can be used, more specifically, more specifically,
U.S. Patent No. 3047384, U.S. Patent No.3110591, U.S. Patent No.3121008, U.S. Patent No.3125447, U.S. Patent No.
No. 9, U.S. Patent No. 3,129,342, U.S. Patent No. 3,622,317, U.K. Patent No. 1,228,892, U.K. Patent No. 1,309,274, U.K. Patent No.
Dyes described in JP 1405898, JP-B-48-7814, JP-B-55-18892 and the like can be mentioned.

更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチレン色素として、特開昭47−840号、
特開昭47−44180号、特公昭51−41061号、特開昭49−50
34号、特開昭49−45122号、特開昭57−46245号、特開昭
56−35141号、特開昭57−157254号、特開昭61−26044
号、特開昭61−27551号、米国特許第3619154号、米国特
許第4175956号、「Research Disclosure」1982年、21
6、第117〜118頁等に記載のものが挙げられる。
Further, as a polymethylene dye that spectrally sensitizes the near infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-47-840,
JP-A-47-44180, JP-B-51-41061, JP-A-49-50
No. 34, JP-A-49-45122, JP-A-57-46245, JP-A
No. 56-35141, JP-A-57-157254, JP-A-61-26044
No., JP-A-61-27551, U.S. Pat.No. 3,619,154, U.S. Pat.No. 4,175,596, `` Research Disclosure '' 1982, 21
6, pages 117 to 118 and the like.

本発明の感光体は種々の増感色素を併用させても、そ
の性能が増感色素により変動しにくい点でも優れてい
る。
The photoreceptor of the present invention is also excellent in that even when various sensitizing dyes are used in combination, the performance is not easily changed by the sensitizing dye.

更には、必要に応じて、化学増感剤等の従来知られて
いる電子写真感光層用各種添加剤を併用することもでき
る。例えば、前記した総説:イメージング1973(No.8)
第12頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えばハロゲ
ン、ベンゾキノン、クラニル、酸無水物、有機カルボン
酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第4章〜第6章:日本科学情報(株)出版部
(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合物、
ヒンダートフェノール化合物、p−フェニレンジアミン
化合物等が挙げられる。
Furthermore, various conventionally known additives for an electrophotographic photosensitive layer such as a chemical sensitizer can be used in combination, if necessary. For example, the review mentioned above: Imaging 1973 (No. 8)
"Recent development and commercialization of photoconductive materials and photoreceptors", e.g., electron accepting compounds (eg, halogen, benzoquinone, cranyl, acid anhydride, organic carboxylic acid, etc.) described in the reviews on page 12, etc. Chapters 4 to 6: Polyarylalkane compounds, which are reviewed in Japanese Science Information Publishing Co., Ltd. (1986)
Hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds, and the like.

これら各種添加剤の添加量は特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0.001〜2.0重量部であ
る。
The amount of these various additives is not particularly limited,
Usually, it is 0.001 to 2.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoconductor.

光導電層の厚さは1〜100μ、特に10〜50μ、が好適
である。
The thickness of the photoconductive layer is preferably from 1 to 100 μm, particularly preferably from 10 to 50 μm.

また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷
発生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚
さは0.01〜1μ、特に0.05〜0.5μ、が好適である。
When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of the photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is preferably 0.01 to 1 μm, particularly preferably 0.05 to 0.5 μm.

感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主
目的として絶縁層を付設させる場合もある。この時は絶
縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プ
ロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設
定される。
In some cases, an insulating layer is provided for the main purpose of protecting the photoreceptor, improving durability, and improving dark attenuation characteristics. At this time, the insulating layer is set relatively thin, and the insulating layer provided when the photosensitive member is used in a specific electrophotographic process is set relatively thick.

後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、10
〜50μに設定される。
In the latter case, the thickness of the insulating layer is between 5 and 70 μm, especially 10
Set to ~ 50μ.

積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカル
バゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、ト
リフェニルメタン系色素などがある。電荷輸送層の厚さ
としては5〜40μ、特には10〜30μが好適である。
Examples of the charge transport material of the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, and triphenylmethane dyes. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 μm, particularly preferably 10 to 30 μm.

絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂として
は、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル
樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酸ピ共重合体樹脂、ポリ
アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂の熱可塑性
樹脂および硬化性樹脂が適宜用いられる。
As the resin used for forming the insulating layer or the charge transport layer, typical ones are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride-copolymer resin, A thermoplastic resin and a curable resin such as a polyacryl resin, a polyolefin resin, a urethane resin, an epoxy resin, a melamine resin, and a silicone resin are appropriately used.

本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設け
ることができる。一般に言って電子写真感光層の支持体
は、導電性であることが好ましく、導電性支持体として
は、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチック
シート等の基体に低抵抗性分質を含浸されるなどして導
電処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対
面)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目
的で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体
の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面
層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が
設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, just as in the conventional case, for example, a metal, paper, a plastic sheet or the like substrate having a low resistance property is used. Those that have been subjected to a conductive treatment such as impregnation, those that are coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the base (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and further preventing curling, Paper having a water-resistant adhesive layer provided on the surface of the support, one having at least one precoat layer provided on the surface layer of the support, if necessary, and a conductive electroconductive plastic substrate on which Al or the like is deposited. Those laminated to can be used.

具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例とし
て、坂本幸男、「電子写真」、14、(No.1)、第2〜11
頁(1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分子刊
行会(1975)、M.F.Hoover,J.Macromol.Sci.Chm.A−4
(6)、第1327〜第1417頁(1970)等に記載されている
もの等を用いる。
Specifically, as examples of the conductive substrate or the conductive material, Yukio Sakamoto, “Electrophotography”, 14, (No. 1), Nos. 2 to 11
Page (1975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to Special Paper Chemistry" Polymer Publishing (1975), MF Hoover, J. Macromol. Sci. Chm. A-4
(6), and those described in pages 1327 to 1417 (1970) and the like are used.

(実施例) 以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容が
これらに限定されるものではない。
(Examples) Examples of the present invention will be described below, but the contents of the present invention are not limited thereto.

マクロモノマー(MA)の合成例1:(MM−1) トリフェニルメチルメタクリレート30g及びトルエン1
00gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20℃に冷
却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.0gを加え10
時間反応した。
Synthesis example of macromonomer (MA) 1: (MM-1) 30 g of triphenylmethyl methacrylate and toluene 1
00 g of the mixed solution was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to -20 ° C. 1.0 g of 1,1-diphenylbutyllithium was added and 10
Reacted for hours.

更にこの混合溶液に、エチルメタクリレート70g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気した
後、添加し、更に10時間反応した。この混合物を0℃に
した後炭酸ガス60ml/minの流量で30分間通気し、重合反
応を停止させた。
Further, to this mixed solution, a mixed solution of 70 g of ethyl methacrylate and 100 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen gas stream, and then added, followed by further reacting for 10 hours. After the mixture was heated to 0 ° C., it was bubbled with carbon dioxide at a flow rate of 60 ml / min for 30 minutes to stop the polymerization reaction.

得られた反応液を撹拌下に、温度25℃とし、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート6gを加え、更に、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド12g、4−N,N−ジメチルアミノ
ピリジン1.0g及び塩化メチレン20gの混合溶液を30分間
で滴下し、そのまま3時間撹拌した。
The obtained reaction solution was stirred at a temperature of 25 ° C., 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate was added, and a mixed solution of 12 g of dicyclohexylcarbodiimide, 1.0 g of 4-N, N-dimethylaminopyridine and 20 g of methylene chloride was further added to 30 g. Then, the mixture was added dropwise for 3 minutes and stirred for 3 hours.

析出した不溶物を濾過後、この混合溶液に、30%塩化
水素メタノール溶液10mlを加え1時間撹拌した。次に、
減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶媒を留
去した後、石油エーテル1中に再沈した。沈殿物を補
集し、減圧乾燥して得られた重合体は、w6.5×103
収量56gであった。
After filtering the precipitated insoluble matter, 10 ml of 30% hydrogen chloride methanol solution was added to this mixed solution, and the mixture was stirred for 1 hour. next,
The solvent was distilled off under reduced pressure until the total amount of the reaction mixture was reduced to half, and then reprecipitated in petroleum ether 1. The precipitate was collected, and dried under reduced pressure to obtain a polymer having a weight of 6.5 × 10 3 and a yield of 56 g.

マクロモノマー(MA)の合成例2:(NM−2) ベンジルメタクリレート5g、(テトラフェニルポルフ
ィナート)アルミニウムメチル0.1g及び塩化メチレン60
gの混合溶液を窒素気流下に温度30℃とした。これに300
W−キセノンランプ光をガラスフィルターを通して25cm
の距離から光照射し、12時間反応した。この混合物に更
にブチルメタクリレート45gを加え、同様に8時間光照
射した後、この反応混合物に4−プロモメチルスチレン
10gを加え、30分間撹拌し反応を停止させた。
Macromonomer (MA) Synthesis Example 2: (NM-2) benzyl methacrylate 5 g, (tetraphenylporphinato) aluminum methyl 0.1 g and methylene chloride 60
g of the mixed solution was adjusted to a temperature of 30 ° C. under a nitrogen stream. 300 for this
W-xenon lamp light 25cm through glass filter
And irradiated for 12 hours. 45 g of butyl methacrylate was further added to this mixture, and the mixture was similarly irradiated with light for 8 hours, and then 4-bromomethylstyrene was added to the reaction mixture.
10 g was added, and the mixture was stirred for 30 minutes to stop the reaction.

次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25℃で1時
間接触還元反応を行なった。
Next, Pd-C was added to the reaction mixture, and a catalytic reduction reaction was performed at a temperature of 25 ° C. for 1 hour.

不溶物を濾別した後石油エーテル500ml中に再沈し、
沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量33gで
w7×103であった。
After filtering off the insoluble matter, the precipitate was reprecipitated in 500 ml of petroleum ether,
The precipitate was collected and dried. The obtained polymer was obtained in a yield of 33 g.
It was w7 × 10 3 .

マクロモノマー(MA)の合成例3:(NM−3) 4−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱気
し、0℃に冷却した。1,1−ジフェニル−3−メチルペ
ンチルリチウム2gを加え、6時間撹拌した。更にこの混
合物に2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリレート
80g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分脱
気した後、添加して8時間反応した。この反応混合物に
充分に撹拌しながらエチレンオキサイドを30ml/minの流
量で30分間通気した後、温度15℃に冷却しメタクリル酸
クラロイド12gを30分間で滴下し、更にそのまま3時間
撹拌した。
Macromonomer (MA) Synthesis Example 3: (NM-3) A mixed solution of 20 g of 4-vinylphenyloxytrimethylsilane and 100 g of toluene was thoroughly degassed under a nitrogen stream and cooled to 0 ° C. 2 g of lithium 1,1-diphenyl-3-methylpentyl was added, and the mixture was stirred for 6 hours. Furthermore, 2-chloro-6-methylphenyl methacrylate is added to this mixture.
A mixed solution of 80 g and 100 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen stream, and then added and reacted for 8 hours. Ethylene oxide was bubbled through the reaction mixture at a flow rate of 30 ml / min for 30 minutes with sufficient stirring, then cooled to a temperature of 15 ° C., 12 g of methacrylic acid claroids was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 3 hours.

次にこの反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液10
gを加え、25℃で1時間撹拌した後、石油エーテル1
中に再沈し、補集した沈殿物をジエチルエーテル300ml
で2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、収量55gで
w7.8×103であった。
The reaction mixture is then added to a 10% 30% hydrogen chloride ethanol solution.
g and stirred at 25 ° C. for 1 hour.
Re-precipitated in, the collected precipitate was diethyl ether 300ml
And dried twice. The obtained polymer was obtained in a yield of 55 g.
w 7.8 × 10 3

マクロモノマー(MA)の合成例4:(NM−4) トリフェニルメチルメタクリレート40g及びトルエン1
00gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−20℃に
冷却した。
Synthesis Example 4 of Macromonomer (MA): (NM-4) 40 g of triphenylmethyl methacrylate and toluene 1
00 g of the mixed solution was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to -20 ° C.

sec−ブチルリチウム2gを加え10時間反応した。次
に、この混合溶液に、スチレン60g及びトルエン100gの
混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後、添加し12時
間反応した。この混合物を0℃にした後、ベンジルブロ
マイド11gを加え1時間反応し、温度25℃で更に2時間
反応させた。
2 g of sec-butyllithium was added and reacted for 10 hours. Next, to this mixed solution, a mixed solution of 60 g of styrene and 100 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen stream, and then added, followed by a reaction for 12 hours. After the mixture was cooled to 0 ° C., 11 g of benzyl bromide was added and reacted for 1 hour, and further reacted at a temperature of 25 ° C. for 2 hours.

この反応混合物に30%塩水素含有エタノール溶液10g
を加え、2時間撹拌した。不溶物を濾別後、n−ヘキサ
ン1中に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥した。得
られた重合体の収量は58gでw4.5×103であった。
10 g of a 30% salt hydrogen-containing ethanol solution was added to the reaction mixture.
Was added and stirred for 2 hours. After filtering off the insoluble matter, the precipitate was reprecipitated in n-hexane 1, and the precipitate was collected and dried under reduced pressure. The yield of the obtained polymer was 58 g and w 4.5 × 10 3 .

マクロモノマー(MA)の合成例5:(NM−5) フェニルメタクリレート70g、ベンジル−N−ヒドロ
キシエチル−N−エチルジチオカーバメート4.8gの混合
物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60℃に加温し
た。これに400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフ
ィルターを通して、10時間光照射した光重合した。これ
にアクリル酸30g及びメチルエチルケトン180gを加えた
後、窒素置換し再び10時間光照射した。
Macromonomer (MA) Synthesis Example 5: (NM-5) Phenylmethacrylate 70 g, benzyl-N-hydroxyethyl-N-ethyldithiocarbamate 4.8 g mixture was sealed in a container under a nitrogen stream, and the temperature was raised to 60 ° C. Heated. This was subjected to photopolymerization by irradiating with light for 10 hours through a glass filter from a distance of 10 cm with a high pressure mercury lamp of 400 W. After 30 g of acrylic acid and 180 g of methyl ethyl ketone were added thereto, the atmosphere was replaced with nitrogen and light irradiation was performed again for 10 hours.

得られた反応混合物に、2−イソシアナートエチルメ
タクリレート12gを、温度30℃で1時間で滴下し、更に
2時間撹拌した。
12 g of 2-isocyanatoethyl methacrylate was added dropwise to the obtained reaction mixture at a temperature of 30 ° C. for 1 hour, and the mixture was further stirred for 2 hours.

得られた反応物をヘキサン1.5に再沈、補集し乾燥
した。得られた重合体は、68gでw6.0×103であった。
The obtained reaction product was reprecipitated in hexane 1.5, collected, and dried. The obtained polymer was 68 g and had a weight of 6.0 × 10 3 .

樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 エチルメタクリレート80g、マクロモノマー(MM−
1)120g、トルエン150gの混合溶液を窒素気流下に温度
95℃に加温した。2,2′−アゾビス(イソブチロニトリ
ル)(AIBN)6gを加え3時間反応し、更に2時間毎にA.
I.B.N2gを加え反応した。
Synthesis Example of Resin [A] 1: [A-1] 80 g of ethyl methacrylate, macromonomer (MM-
1) Heat a mixed solution of 120 g and 150 g of toluene under a nitrogen stream.
Heated to 95 ° C. 6 g of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (AIBN) was added and reacted for 3 hours.
IBN2g was added and reacted.

得られた共重合体のwは9×103であった。W of the obtained copolymer was 9 × 10 3 .

樹脂〔A〕の合成例2:〔A−2〕 2−クロロフェニルメタクリレート70g、マクロモノ
マー(MM−2)30g、n−ドデシルメルカプタン2g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃に加温
した。2,2′−アゾビス(イソバレロニトリル)(AIV
N)3gを加え3時間反応し、更にA.I.V.N.1gを加え2時
間反応した。次にA.I.B.N.1gを加え温度90℃に加温して
3時間反応した。得られた共重合体のwは7.6×103
あった。
Synthesis Example 2 of Resin [A]: [A-2] A mixed solution of 70 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 30 g of macromonomer (MM-2), 2 g of n-dodecyl mercaptan and 100 g of toluene was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream. Warmed. 2,2'-azobis (isovaleronitrile) (AIV
N) 3 g was added and reacted for 3 hours, and 1 g of AIVN was further added and reacted for 2 hours. Next, 1 g of AIBN was added, and the mixture was heated to a temperature of 90 ° C. and reacted for 3 hours. W of the obtained copolymer was 7.6 × 10 3 .

樹脂〔A〕の合成例3〜18:[A−3]〜[A−18] 樹脂〔A〕の合成例1と同様の重合条件で、エチルメ
タクリレートを他の単量体に代えて下記表−1の共重合
体を合成した。得られた各重合体のwは5×103〜9
×103であった。
Synthetic Examples 3 to 18 of Resin [A]: [A-3] to [A-18] The following table was used under the same polymerization conditions as in Synthetic Example 1 of Resin [A], except that ethyl methacrylate was replaced by another monomer. -1 was synthesized. The w of each polymer obtained is 5 × 10 3 to 9
× was 10 3.

樹脂〔A〕の合成例19〜35:[A−19]〜[A−35] 樹脂〔A〕の合成例2において、マクロモノマー(MM
−2)の代わりに他のマクロモノマー(MA)を用いた他
は、合成例2と同様の重合条件で下記表−1の共重合体
を合成した。得られた各重合体のwは2×103〜1×1
02であった。
Synthesis Examples 19 to 35 of Resin [A]: [A-19] to [A-35] In Synthesis Example 2 of Resin [A], the macromonomer (MM
The copolymers shown in Table 1 below were synthesized under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 2 except that another macromonomer (MA) was used instead of -2). W of each of the obtained polymers is 2 × 10 3 to 1 × 1
It was 0 2 .

(樹脂〔B〕に用いるマクロモノマーの製造例) マクロモノマー(MB)の製造例1:(M−1) メチルメタクリレート95g、チオグリコール酸5g及び
トルエン200gの混合溶液を、窒素気流下撹拌しながら、
温度75℃に加温した。2,2′−アゾビス(シアノ吉草
酸)(略称A.C.V)1.0gを加え、8時間反応した。次に
この反応溶液にグリシジルメタクリレート8g、N,N−ジ
メチルドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロキノ
ン0.5gを加え、温度100℃にて、12時間撹拌した。冷却
後この反応溶液をメタノール2中に再沈し、白色粉末
82gを得た。重合体(M−1)の数平均分子量は6,500で
あった。
(Production Example of Macromonomer Used in Resin [B]) Production Example of Macromonomer (MB) 1: (M-1) While stirring a mixed solution of 95 g of methyl methacrylate, 5 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene under a nitrogen stream. ,
Heated to a temperature of 75 ° C. 1.0 g of 2,2'-azobis (cyanovaleric acid) (abbreviated as ACV) was added and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate, 1.0 g of N, N-dimethyldodecylamine and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to the reaction solution, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C. for 12 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in methanol 2 to give a white powder.
I got 82g. The number average molecular weight of the polymer (M-1) was 6,500.

マクロモノマー(MB)の製造例2:(M−2) メチルメタクリレート95g、チオグリコール酸5g及び
トルエン200gの混合溶液を窒素気流下撹拌しながら、温
度70℃に加温した。2,2′−アゾビス(イソブチロニト
リル)(略称A.I.B.N.)1.5gを加え、8時間反応した。
次にこの反応溶液に、グリシジルメタクリレート7.5g、
N,N−ジメチルドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハイ
ドロキノン0.8gを加え、温度100℃にて、12時間撹拌し
た。冷却後、この反応溶液をメタノール2中に再沈
し、無色透明の粘稠物85gを得た。重合体(M−2)の
数平均分子量は2,400であった。
Production Example 2 of Macromonomer (MB): (M-2) A mixed solution of 95 g of methyl methacrylate, 5 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to 70 ° C while stirring under a nitrogen stream. 1.5 g of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (abbreviation: AIBN) was added and reacted for 8 hours.
Next, to this reaction solution, 7.5 g of glycidyl methacrylate,
1.0 g of N, N-dimethyldodecylamine and 0.8 g of t-butylhydroquinone were added, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C. for 12 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in methanol 2 to obtain 85 g of a colorless and transparent viscous substance. The number average molecular weight of the polymer (M-2) was 2,400.

マクロモノマー(MB)の製造例3:(M−3) プロピルメタクリレート94g、2−メルカプトエタノ
ール6g、トルエン200gの混合溶液を窒素気流下温度70℃
に加温した。A.I.B.N.1.2gを加え、8時間反応した。
Macromonomer (MB) Production Example 3: (M-3) Propyl Methacrylate 94g, 2-Mercaptoethanol 6g, Toluene 200g Mixed solution at 70 ° C under nitrogen stream
Was heated. 1.2 g of AIBN was added and reacted for 8 hours.

次に、この反応溶液を水浴中で冷却して温度20℃と
し、トリエチルアミン10.2gを加え、メタクリル酸クロ
ライド14.5gを温度25℃以下で撹拌下して滴下した。滴
下後そのまま1時間更に撹拌した。その後、t−ブチル
ハイドロキノン0.5gを加え温度60℃に加温し、4時間撹
拌した。冷却後、メタノール2中に再沈し、無色透明
な粘稠物79gを得た。重合体(M−3)の数平均分子量
は4.500であった。
Next, the reaction solution was cooled in a water bath to a temperature of 20 ° C., 10.2 g of triethylamine was added, and 14.5 g of methacrylic acid chloride was added dropwise with stirring at a temperature of 25 ° C. or lower. After the addition, the mixture was further stirred for 1 hour. Thereafter, 0.5 g of t-butylhydroquinone was added, the mixture was heated to a temperature of 60 ° C., and stirred for 4 hours. After cooling, the precipitate was reprecipitated in methanol 2 to obtain 79 g of a colorless and transparent viscous substance. The number average molecular weight of the polymer (M-3) was 4.500.

マクロモノマー(MB)の製造例4:(M−4) エチルメタクリレート95g及びトルエン200gの混合溶
液を窒素気流下に温度70℃に加温した。2,2′−アゾビ
ス(シアノヘプタノール)5gを加え、8時間反応した。
Production Example 4 of Macromonomer (MB): (M-4) A mixed solution of 95 g of ethyl methacrylate and 200 g of toluene was heated to 70 ° C. under a nitrogen stream. 5 g of 2,2'-azobis (cyanoheptanol) was added and reacted for 8 hours.

冷却後、この反応液を水浴中で温度20℃とし、トリエ
チルアミン1.0g及びメタクリル酸無水物21gを加え1時
間撹拌した後、温度60℃で6時間撹拌した。
After cooling, the temperature of the reaction solution was adjusted to 20 ° C. in a water bath, 1.0 g of triethylamine and 21 g of methacrylic anhydride were added, and the mixture was stirred for 1 hour and then at 60 ° C. for 6 hours.

得られた反応物を冷却した後メタノール2中に再沈
し、無色透明な粘稠物75gを得た。重合体(M−4)の
数平均分子量は6.200であった。
After cooling the obtained reaction product, it was reprecipitated in methanol 2 to obtain 75 g of a colorless and transparent viscous substance. The number average molecular weight of the polymer (M-4) was 6.200.

マクロモノマー(MB)の製造例5:(M−5) ベンジルメタクリレート93g、3−メルカプトプロピ
オン酸7g、トルエン170g及びイソプロパノール30gの混
合物を窒素気流下に温度70℃に加温し、均一溶液とし
た。A.I.B.N.2.0gを加え、8時間反応した。冷却後、メ
タノール2中に再沈し、減圧下に温度50℃に加熱し
て、溶媒を留去した。得られた粘稠物をトルエン200gに
溶解し、この混合溶液にグリシジルメタクリレート16
g、N,N−ジメチルドデシルメタクリレート1.0g及びt−
ブチルハイドロキノン1.0gを加え温度110℃で10時間撹
拌した。この反応溶液を再びメタノール2中に再沈し
た。得られた淡黄色の粘稠物(M−5)の数平均分子量
は3,400であった。
Production Example 5 of Macromonomer (MB): (M-5) A mixture of 93 g of benzyl methacrylate, 7 g of 3-mercaptopropionic acid, 170 g of toluene and 30 g of isopropanol was heated to 70 ° C. under a nitrogen stream to obtain a uniform solution. . 2.0 g of AIBN was added and reacted for 8 hours. After cooling, the precipitate was reprecipitated in methanol 2 and heated to 50 ° C. under reduced pressure to distill off the solvent. The obtained viscous substance was dissolved in 200 g of toluene, and glycidyl methacrylate 16 was added to the mixed solution.
g, N, N-dimethyldodecyl methacrylate 1.0 g and t-
1.0 g of butyl hydroquinone was added, and the mixture was stirred at 110 ° C. for 10 hours. This reaction solution was reprecipitated in methanol 2 again. The number average molecular weight of the obtained pale yellow viscous substance (M-5) was 3,400.

マクロモノマー(MB)の製造例6:(M−6) プロピルメタクリレート95g、チオグリコール酸5g及
びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下撹拌しながら温
度70℃に加温した。A.I.B.N.1.0gを加え8時間反応し
た。次に反応溶液にグリシジルメタクリレート13g、N,N
−ジメチルドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロ
キノン1.0gを加え、温度110℃にて10時間撹拌した。冷
却後、この反応溶液をメタノール2中に再沈し、白色
粉末を86g得た。重合体(M−6)の数平均分子量は3,5
00であった。
Production Example 6 of Macromonomer (MB): (M-6) A mixed solution of 95 g of propyl methacrylate, 5 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 1.0 g of AIBN was added and reacted for 8 hours. Next, glycidyl methacrylate 13 g, N, N
1.0 g of -dimethyldodecylamine and 1.0 g of t-butylhydroquinone were added, and the mixture was stirred at 110 ° C for 10 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in methanol 2 to obtain 86 g of a white powder. The number average molecular weight of the polymer (M-6) was 3,5
00.

マクロモノマー(MB)の製造例7:(M−7) メチルメタクリレート40g、エチルメタクリレート54
g、2−メルカプトエチルアミン6g、トルエン150g及び
テトラヒドロフラン50gの混合物を窒素気流下撹拌しな
がら温度75℃に加温した。A.I.B.N.2.0gを加え8時間反
応した。次にこの反応溶液を水浴中温度20℃とし、これ
にメタクリル酸無水物23gを温度が25℃を越えない様に
して滴下し、その後そのまま更に1時間撹拌した。2,
2′−メチレンビス(6−t−ブチル−p−クレゾー
ル)0.5gを加え、温度40℃で3時間撹拌した。冷却後、
この溶液をメタノール2中に再沈し、粘稠物83gを得
た。重合体(M−7)の数平均分子量は2,200であっ
た。
Production Example 7 of Macromonomer (MB): (M-7) 40 g of methyl methacrylate, 54 of ethyl methacrylate
g, a mixture of 6 g of 2-mercaptoethylamine, 150 g of toluene and 50 g of tetrahydrofuran were heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 2.0 g of AIBN was added and reacted for 8 hours. Next, the reaction solution was heated to a temperature of 20 ° C. in a water bath, and 23 g of methacrylic anhydride was added dropwise thereto so that the temperature did not exceed 25 ° C., followed by further stirring for 1 hour. 2,
0.5 g of 2'-methylenebis (6-t-butyl-p-cresol) was added, and the mixture was stirred at a temperature of 40 ° C for 3 hours. After cooling,
This solution was reprecipitated in methanol 2 to obtain 83 g of a viscous substance. The number average molecular weight of the polymer (M-7) was 2,200.

マクロモノマー(MB)の製造例8:(M−8) 2−クロロフェニルメタクリレート95g、トルエン150
g及びエタノール150gの混合溶液を窒素気流下に温度75
℃に加温した。A.C.V.5gを加え、8時間反応した。次
に、グリシジルアクリレート15g、N,N−ジメチルドデシ
ルアミン1.0g及び2,2′−メチレンビス−(6−t−ブ
チル−p−クレゾール)1.0gを加え温度100℃で15時間
撹拌した。冷却後、この反応液をメタノール2中に再
沈し、透明な粘稠物83gを得た。重合体(M−8)の数
平均分子量は3,600であった。
Production Example 8 of Macromonomer (MB): (M-8) 2-chlorophenyl methacrylate 95 g, toluene 150
g and ethanol 150 g in a nitrogen stream at a temperature of 75
Warmed to ° C. 5 g of ACV was added and reacted for 8 hours. Next, 15 g of glycidyl acrylate, 1.0 g of N, N-dimethyldodecylamine and 1.0 g of 2,2′-methylenebis- (6-t-butyl-p-cresol) were added, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C. for 15 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in methanol 2 to obtain 83 g of a transparent viscous substance. The number average molecular weight of the polymer (M-8) was 3,600.

マクロモノマー(MB)の製造例9〜18:(M−9)〜
(M−18) マクロモノマー(MB)の製造例3において、メタクリ
ル酸クロライドの代りに、下記表−2の酸ハライド化合
物を用いた他は、該製造例3と同様に操作して、それぞ
れマクロモノマー(M−9)〜(M−18)を製造した。
Macromonomer (MB) Production Examples 9-18: (M-9)-
(M-18) A macromonomer (MB) was prepared in the same manner as in Production Example 3 except that the acid halide compounds shown in Table 2 below were used instead of methacrylic acid chloride in Production Example 3. Monomers (M-9) to (M-18) were produced.

尚、(M−9)〜(M−18)のマクロモノマーの重量
平均分子量(w)は4.000〜5,000であった。
The weight average molecular weight (w) of the macromonomers (M-9) to (M-18) was 4.000 to 5,000.

マクロモノマー(MB)の製造例19〜27:(M−19)〜
(M−27) マクロモノマー(MB)の製造例2において、メチルメ
タクリレートの代わりに、下記表−3の単量体を用いた
他は、製造例2と同様に操作してマクロモノマー(M−
19)〜(M−27)を製造した。
Macromonomer (MB) Production Examples 19-27: (M-19)-
(M-27) A macromonomer (M-) was produced in the same manner as in Production Example 2 except that the monomers shown in Table 3 below were used instead of methyl methacrylate in Production Example 2 of macromonomer (MB).
19) to (M-27) were produced.

(樹脂〔B〕の製造例) 樹脂〔B〕の製造例1:樹脂〔B−1〕 エチルメタクリレート70g、マクロモノマー(M−
1)30g及びトルエン150gの混合溶液を窒素気流下温度7
0℃に加温した。次に、A.I.B.N.0.5gを加え、4時間反
応し、更に、A.I.B.N.0.3gを加えて6時間反応させた。
得られた共重合体〔B−1〕の重量平均分子量は9.8×1
04でガラス転移点は72℃であった。
(Production Example of Resin [B]) Production Example 1 of Resin [B] 1: Resin [B-1] 70 g of ethyl methacrylate, macromonomer (M-
1) A mixed solution of 30 g and 150 g of toluene was heated under a nitrogen stream at a temperature of 7
Warmed to 0 ° C. Next, 0.5 g of AIBN was added and reacted for 4 hours. Further, 0.3 g of AIBN was added and reacted for 6 hours.
The weight average molecular weight of the obtained copolymer [B-1] is 9.8 × 1
0 Glass transition point 4 was 72 ° C..

樹脂〔B〕の製造例2〜15:樹脂〔B−2〕〜〔B−1
5〕 樹脂〔B〕の製造例1と同様の重合条件で、下記表−
4の樹脂〔B〕を製造した。各樹脂のwは8×104
1.5×105の範囲であった。
Production Examples 2 to 15 of Resin [B]: Resins [B-2] to [B-1]
5] Under the same polymerization conditions as in Production Example 1 of Resin [B], the following Table-
Resin No. 4 [B] was produced. The w of each resin is 8 × 10 4 ~
The range was 1.5 × 10 5 .

樹脂〔B〕の製造例16:樹脂〔B−16〕 エチルメタクリレート70g、マクロモノマー(M−
2)30g及びトルエン150g及びイソプロパノール50gの混
合溶液を窒素気流下温度70℃に加温した。次に、4,4′
−アゾビス(4−シアノ吉草酸0.8gを加え、10時間反応
させた。得られた共重合体の重量平均分子量(w)は
9.8×104でガラス転移点は72℃であった。
Production Example 16 of Resin [B]: Resin [B-16] 70 g of ethyl methacrylate, macromonomer (M-
2) A mixed solution of 30 g, 150 g of toluene and 50 g of isopropanol was heated to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream. Next, 4,4 '
0.8 g of -azobis (4-cyanovaleric acid was added and reacted for 10 hours. The weight average molecular weight (w) of the obtained copolymer was
The glass transition point was 72 ° C. at 9.8 × 10 4 .

樹脂〔B〕の製造例17〜24:樹脂〔B−17〕〜〔B−2
4〕 樹脂〔B〕の製造例16において、マクロモノマー(M
−2)の代わりに、下記表−5のマクロモノマーを用い
た他は、該製造例16と同様に操作して、各樹脂〔B〕を
製造した。各樹脂のwは9×104〜1.2×105であっ
た。
Production Examples 17 to 24 of Resin [B]: Resins [B-17] to [B-2]
4] In Production Example 16 of Resin [B], the macromonomer (M
Each resin [B] was produced in the same manner as in Production Example 16 except that macromonomers shown in Table 5 below were used instead of -2). The w of each resin was 9 × 10 4 to 1.2 × 10 5 .

樹脂〔B〕の製造例25〜31:樹脂〔B−25〕〜〔B−3
1〕 樹脂〔B〕の製造例16において、A.C.V.の代わりに、
下記表−6のアゾビス系化合物を用いた他は、該製造例
16と同様に操作して、重合体を各々製造した。
Production Examples 25 to 31 of Resin [B]: Resins [B-25] to [B-3]
1] In Production Example 16 of Resin [B], instead of ACV,
The production examples except that the azobis compounds shown in Table 6 below were used.
By operating in the same manner as in 16, each polymer was produced.

樹脂〔B〕の製造例32:樹脂〔B−32〕 ブチルメタクリレート80g、マクロモノマー(M−
8)20g、チオグリコール酸1.0g、トルエン100g及びイ
ソプロパノール50gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃
に加温した。1,1′−アゾビス(シクロヘキサン−1−
カルボニトリル)(略称A.C.H.N.)0.5gを加え4時間撹
拌し、更にA.C.H.N.0.3g加え4時間撹拌した。得られた
重合体のwは8.0×104で、ガラス転移点は41℃であっ
た。
Production Example 32 of Resin [B]: Resin [B-32] 80 g of butyl methacrylate, macromonomer (M-
8) A mixed solution of 20 g, 1.0 g of thioglycolic acid, 100 g of toluene and 50 g of isopropanol was heated to 80 ° C. under a nitrogen stream.
Was heated. 1,1'-azobis (cyclohexane-1-
0.5 g of carbonitrile) (abbreviation ACHN) was added and stirred for 4 hours, and 0.3 g of ACHN was further added and stirred for 4 hours. The w of the obtained polymer was 8.0 × 10 4 and the glass transition point was 41 ° C.

樹脂〔B〕の製造例33〜39:樹脂〔B−33〕〜〔B−3
9〕 樹脂〔B〕の製造例32において、チオグリコール酸の
代わりに下記表−7の化合物を用いた他は該製造例32と
同様に操作して重合体を製造した。
Production Examples 33 to 39 of Resin [B]: Resins [B-33] to [B-3]
9] A polymer was produced in the same manner as in Production Example 32 of Resin [B] except that the compounds shown in Table 7 below were used instead of thioglycolic acid.

樹脂〔B〕の製造例40〜48:樹脂〔B−40〕〜〔B−4
8〕 樹脂〔B〕の製造例26と同様の重合条件で下記表−8
の共重合体を製造した。
Production Examples 40 to 48 of Resin [B]: Resins [B-40] to [B-4]
8] The following Table 8 was used under the same polymerization conditions as in Production Example 26 of Resin [B].
Was produced.

各樹脂のwは9.5×104〜1.2〜105の範囲であった。The w of each resin was in the range of 9.5 × 10 4 to 1.2 to 10 5 .

樹脂〔B〕の製造例49〜56:樹脂〔B−49〕〜〔B−5
6〕 樹脂〔B〕の製造例16におけると同様の重合条件で、
下記表−9の各樹脂を製造した。得られた各樹脂〔B〕
のwは9.5×104〜1.1×105であった。
Production Examples 49 to 56 of Resin [B]: Resins [B-49] to [B-5]
6] Under the same polymerization conditions as in Production Example 16 of resin [B],
The resins shown in Table 9 below were produced. Each resin obtained [B]
W was 9.5 × 10 4 to 1.1 × 10 5 .

実施例1及び比較例A〜C 樹脂〔A−2〕6g(固形分量として)、樹脂〔B−
1〕34g(固形分量として)、下記構造のシアニン色素
〔I〕0.018g、及びトルエン300gの混合物をボールミル
中で4時間分散して、感光層形成物を調製し、これを導
電処理した紙に、乾燥付着量25g/m2となる様に、ワイヤ
ーバーで塗布し、110℃で30秒間乾燥し、ついで暗所で2
0℃65%RHの条件下で24時間放置することにより、電子
写真感光材料を作製した。
Example 1 and Comparative Examples AC Resin [A-2] 6 g (as solid content), Resin [B-
1] A mixture of 34 g (as solid content), cyanine dye [I] of the following structure 0.018 g, and toluene 300 g was dispersed in a ball mill for 4 hours to prepare a photosensitive layer-forming material, which was applied to a conductive-treated paper. Then, apply it with a wire bar so that the dry adhesion amount becomes 25 g / m 2 , dry at 110 ° C for 30 seconds, and then 2 in the dark.
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by being left at 0 ° C. and 65% RH for 24 hours.

比較例A: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、下記構
造の樹脂〔R−1〕6g及びポリ(エチルメタクリレー
ト)(w2.4×105:樹脂〔R−2〕34gを用いる以外
は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製
した。
Comparative Example A: Instead of the binder resin used in Example 1, 6 g of resin [R-1] having the following structure and poly (ethyl methacrylate) (w2.4 × 10 5 : 34 g of resin [R-2] are used. An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.

比較例B: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、下記構
造の樹脂〔R−3〕6g及び樹脂〔R−2〕34gを用いる
以外は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料を
作製した。
Comparative Example B: The procedure of Example 1 was repeated, except that 6 g of the resin [R-3] and 34 g of the resin [R-2] having the following structure were used instead of the binder resin used in Example 1. A photographic light-sensitive material was prepared.

比較例C: 実施例1において用いた結着樹脂の代わりに、樹脂
〔R−3〕6g及び下記構造の樹脂〔R−4〕34gを用い
る以外は、実施例1と同様の操作で、電子写真感光材料
を作製した。
Comparative Example C: The procedure of Example 1 was repeated, except that 6 g of resin [R-3] and 34 g of resin [R-4] having the following structure were used instead of the binder resin used in Example 1. A photographic light-sensitive material was prepared.

これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特
性、撮像性及び環境条件を30度、80%RHとした時の撮像
性を調べた。更に、これらの感光材料をオフセットマス
ター用源版として用いた時の光導電性を不感脂化性(不
感脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わす)及び
印刷性(地汚れ、耐刷性等)を調べた。
The film properties (surface smoothness), electrostatic properties, image pick-up properties and image pick-up properties when the environmental conditions were 30 degrees and 80% RH were examined. Furthermore, the photoconductivity when these photosensitive materials are used as a source plate for an offset master is desensitized (expressed by the contact angle of the photoconductive layer after desensitization treatment with water) and printability (background stain). , Printing durability, etc.).

以上の結果をまとめて表−10に示す。 Table 10 summarizes the above results.

表−10に示した評価項目の実施の態様は以下の通りで
ある。
The modes of implementation of the evaluation items shown in Table 10 are as follows.

注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。
Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagaya Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc. It was measured.

注2)光導電層の機械的強度: 得られた感光材料面をヘイドン−14型表面性試験材
(新東化学(株)製)を用いて荷重60g/cm2のものでエ
メリー紙(#1000)で1000回繰り返し探り摩耗粉を取り
徐き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め機械的強
度とした。
Note 2) Mechanical strength of the photoconductive layer: The surface of the obtained light-sensitive material was coated with Haydon-14 type surface test material (manufactured by Shinto Chemical Co., Ltd.) under a load of 60 g / cm 2 and emery paper (# 1000) was repeated 1000 times to remove the abrasion powder, and the residual film rate (%) was calculated from the reduction in the weight of the photosensitive layer to obtain the mechanical strength.

注3)静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペーパー
アナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライザー
SP−428型)を用いて−6kVで20秒間コロナ放電させた
後、10秒間放置し、この時の表面電位V10を測定した。
次いでそのまま暗中で180秒間放置させた後の電位V180
を測定し、180秒間暗減衰させた後の電位の保持性、即
ち、暗減衰保持率〔DRR(%)〕を(V180/V10)×100
(%)で求めた。
Note 3) Electrostatic properties: Paper analyzer (Kawaguchi Electric Co., Ltd. paper analyzer) in a dark room at a temperature of 20 ° C and 65% RH.
After 20 seconds corona discharge -6kV with SP-428 type), allowed to stand for 10 seconds to measure the surface potential V 10 at this time.
Then the potential V 180 after being left for 180 seconds in it the dark
Of the potential after dark decay for 180 seconds, that is, the dark decay retention rate [DRR (%)] is (V 180 / V 10 ) × 100.
(%).

又コロナ放電により光導電層表面を−500Vに帯電させ
た後、波長785nmの単色光で照射し、表面電位(V10)が
1/10に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E
1/10(erg/cm2)を算出する。更にE1/10測定と同様に
コロナ放電により−500Vに帯電させた後、波長785nmの
単色光で照射し、表面電位(V10)が1/100に減衰するま
での時間を求め、これから露光量E1/100(erg/cm2)を
算出する。
After charging the surface of the photoconductive layer to −500 V by corona discharge, the surface is irradiated with monochromatic light having a wavelength of 785 nm, and the surface potential (V 10 ) is reduced.
The time required to decay to 1/10 is determined, and the exposure E
Calculate 1/10 (erg / cm 2 ). Furthermore, after charging to -500 V by corona discharge in the same manner as in E 1/10 measurement, irradiation with monochromatic light having a wavelength of 785 nm was performed, and the time until the surface potential (V 10 ) attenuated to 1/100 was determined. The quantity E 1/100 (erg / cm 2 ) is calculated.

注4)撮像性: 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。次に
−5kVで帯電し、光源として2.8mW出力のガリウム−アル
ミニウム−ヒ素、半導体レーザー(発振波長785nm)を
用いて、感光材料表面上で50erg/cm2の照射量下、ピッ
チμm及びスキャニング速度330m/secのスピード露光後
液体現像剤として、ELP−T(富士写真フイルム(株)
製)を用いて現像し、定着することで得られた複写画
像)カブリ、画像の画質)を目視評価した。
Note 4) Image-capturability: Each photosensitive material was allowed to stand for one day under the following environmental conditions. Next, gallium-aluminum-arsenic of 2.8 mW output and semiconductor laser (oscillation wavelength 785 nm) charged at −5 kV were used, and the pitch μm and scanning speed were applied on the surface of the photosensitive material under the irradiation amount of 50 erg / cm 2. ELP-T (Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a liquid developer after speed exposure of 330 m / sec
Image) and the image quality) of the copied image obtained by developing and fixing the image.

撮影時の環境条件は20℃65%RHと30℃80%RHで実施し
た。
The environmental conditions during shooting were 20 ° C 65% RH and 30 ° C 80% RH.

注5)水との接触角: 各感光材料を不感脂化処理液EPL−EX(富士写真フイ
ルム(株)製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用い
て、エッチングプロセッサーに1回通して光導電層面を
不感脂化処理した後、これに蒸留水2III−の水滴を乗
せ、形成された水との接触角をゴニオメーターで測定す
る。
Note 5) Contact angle with water: Each light-sensitive material was passed through an etching processor once using a desensitizing solution EPL-EX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) diluted twice with distilled water. After desensitizing the surface of the photoconductive layer with water, a drop of distilled water 2III- is placed on the surface, and the contact angle with the formed water is measured with a goniometer.

注6)耐刷性: 各感光材料を、上記注4)と同条件で、製版して、ト
ナー像を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理
し、これをオフセットマスターとして、オフセット印刷
機(桜井製作所(株)オリバー52型)にかけ、印刷物の
非該像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで
印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐刷性が良
好なことを表わす)。
Note 6) Printing durability: Each light-sensitive material is subjected to plate making under the same conditions as in Note 4) above to form a toner image, and desensitized under the same conditions as in Note 5) above, and this is used as an offset master. The number of sheets that can be printed on an offset printing machine (Oliver 52 type, Sakurai Seisakusho Co., Ltd.) without causing stains on the non-image area of the printed matter and on the image quality of the image area. It means that the property is good).

表−10に示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の
平滑性膜の強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像
も地カブリがなく複写画質も鮮明であった。このことは
光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を
被覆していることによるものと推定される。同様の理由
で、オフセットマスター原版として用いた場合でも不感
脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像
部の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親水化さ
れていることが判る。実際に診察して印刷物の地汚れを
観察しても地汚れは全く認められなかった。
As shown in Table-10, the light-sensitive material of the present invention was excellent in the strength and electrostatic property of the smooth film of the photoconductive layer, and the actual copied image was free of background fog and the copied image quality was clear. This is presumed to be due to the photoconductor and the binder resin being sufficiently adsorbed and covering the particle surface. For the same reason, even when used as an offset master master, the desensitizing treatment with the desensitizing solution proceeds sufficiently, the contact angle with water of the non-image area is as small as 10 degrees or less, and the hydrophilicity is sufficiently increased. You can see that Even when the printed matter was actually examined and the background stain was observed, no background stain was observed.

又、比較例A〜Cは、本発明の感光材料に比べると、
静電特性が低下してしまった。比較例Cは、膜強度が向
上し、静電特性においてもV10、D.R.R.、E1/10は、ほ
ぼ満足する値が得られた。しかし、E1/100値を見る
と、本発明の感光材料に比べ倍以上の大きな値となって
しまった。E1/100値は、実際の撮像性において、露光
後、非画像部(既に露光された部位)にどれだけの電位
が残っているかを示すものであり、この値が小さい程現
像後の非画像部の地汚れが生じなくなる事を示す。
Comparative Examples A to C are compared with the photosensitive material of the present invention.
The electrostatic characteristics have deteriorated. In Comparative Example C, the film strength was improved, and the values of V 10 , DRR, and E 1/10 were almost satisfactory in electrostatic characteristics. However, looking at the E 1/100 value, it was more than twice as large as that of the light-sensitive material of the present invention. The E 1/100 value indicates how much potential remains in the non-image area (exposed area) after exposure in the actual imaging performance. This indicates that background contamination of the image portion will not occur.

具体的には−10V以下の残留電位にすることが必要と
なり、即ち実際にはVR−10V以下とするために、どれだ
け露光量が必要となるかということで、半導体レーザー
光によるスキャンニング露光方式では、小さい露光量で
VRを−10V以下にすることは、複写機の光学系の設計上
(装置のコスト、光学系光路の精度等)非常に重要なこ
とである。
Specifically, it is necessary to set the residual potential to -10 V or less, that is, scanning with a semiconductor laser beam depends on how much exposure is required in order to actually make V R -10 V or less. With the exposure method, a small exposure
To the V R below -10V, the (cost of the device, the accuracy of an optical system an optical path) optical system design of the copying machine is very important.

以上の事より、露光照射量を少し少なくした装置で実
際に撮像すると、比較例Aは、D.R.R.が著しく低いた
め、満足な複写画像はえられなかった。比較例Bは、高
温・高湿の条件下でその画像の悪化が著しく、画像部の
濃度低下、細線・文字のカスレ等が発生し、又、非画像
部に地カブリが発生してしまった。比較例Cは、常温・
常湿条件下では、ほぼ満足する画像であったが、高温・
高湿条件下では、地カブリの発生、画像部の細線のカス
レ等が発生してしまった。又、オフセットマスター原版
として用いた場合でも、本発明の感光材料が1万枚以上
印刷できる印刷条件で、比較例A〜Cのいずれも、刷り
出しの印刷物から、非画像部の地汚れが発生してしまっ
た。これは、鮮明な複写画像が得られず、地カブリが不
感脂化処理でも除去できずに生じたものであった。
From the above, when an image was actually taken with an apparatus having a slightly reduced exposure dose, Comparative Example A had a remarkably low DRR, so that a satisfactory copied image could not be obtained. In Comparative Example B, the image was remarkably deteriorated under the conditions of high temperature and high humidity, the density of the image part was decreased, fine lines and letters were scraped, and the background fog was generated in the non-image part. . Comparative Example C is at room temperature
The image was almost satisfactory under normal humidity conditions, but at high temperatures and
Under high-humidity conditions, the occurrence of background fog and thin lines in the image area have occurred. Further, even when used as an offset master, under the printing conditions that the photosensitive material of the present invention can print 10,000 sheets or more, in each of Comparative Examples A to C, non-image area stains are generated from printed printouts. have done. This was because a clear copied image was not obtained, and ground fog could not be removed by the desensitizing treatment.

以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静
電特性及び印刷適性を満足する電子写真感光体が得られ
る。
As described above, an electrophotographic photosensitive member that satisfies electrostatic characteristics and printability only when the resin of the present invention is used is obtained.

実施例2〜17 実施例1において、樹脂〔A−7〕及び樹脂〔B−
1〕に代えて、下記表−11の各樹脂〔A〕及び樹脂
〔B〕に代えた他は、実施例1と同様に操作して、各電
子写真感光体を作製した。
Examples 2 to 17 In Example 1, the resin [A-7] and the resin [B-
1] was replaced with each of the resins [A] and [B] shown in Table 11 below, and the same operation as in Example 1 was carried out to produce each electrophotographic photosensitive member.

実施例1と同様にして静電特性を測定した。結果を表
−11に示す。
The electrostatic characteristics were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table-11.

又、オフセットマスター原版として用いて、実施例1
と同様にして印刷した所、いずれも1万枚以上印刷する
ことができた。
Example 1 was used as an offset master master.
When printing was performed in the same manner as described above, all of them could print 10,000 sheets or more.

以上から、本発明の各感光材料は光導電層の平滑性、
膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好な
ものであった。
From the above, each photosensitive material of the present invention, the smoothness of the photoconductive layer,
The film strength, electrostatic properties, and printability were all favorable.

さらに、樹脂〔A′〕を用いることにより静電特性が
さらに向上することが判った。
Furthermore, it was found that the use of the resin [A '] further improved electrostatic characteristics.

実施例18〜33 実施例1において結着樹脂として下記表−12の樹脂
〔A〕7.6g及び樹脂〔B〕34gに代え、又、シアニン色
素〔I〕0.02gの代わりに下記構造の色素〔II〕0.019g
に代えた他は、実施例1と同様の条件で電子写真感光材
料を作製した。
Examples 18 to 33 In Example 1, the binder resin was replaced by 7.6 g of resin [A] and 34 g of resin [B] shown in Table 12 below, and instead of 0.02 g of cyanine dye [I], a dye having the following structure [ II) 0.019g
An electrophotographic photosensitive material was produced under the same conditions as in Example 1 except that the above was changed to.

本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持
率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30
℃、80%RH)の過酷な条件においても、地カブリの発生
のない、鮮明な画像を与えた。
The photosensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity.
(80 ° C., 80% RH), a clear image without fog was obtained.

更に、これをオフセットマスターの原版として用いて
印刷した所、地カブリのない鮮明な画質の印刷物を1万
枚以上印刷できた。
Furthermore, when this was used as an offset master master, 10,000 or more printed materials with clear image quality without background fog could be printed.

実施例34及び35並びに比較例D 樹脂〔A−15〕(実施例34)又は樹脂〔A−20〕(実
施例35)のいずれか6.5g、樹脂〔B−16〕33.5g、酸化
亜鉛200g、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.04g、ブロ
ムフェノールブル−0.03g、無水フタル酸0.20g及びトル
エン300gの混合物をボールミル中で4時間分散して感光
層形成物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着
量が20g/m2となる様にワイヤーバーで塗布し、110℃で
1分間乾燥した。次いで暗所で20℃、65%RHの条件下で
24時間放置することにより各電子写真感光体を作製し
た。
Examples 34 and 35 and Comparative Example D 6.5 g of either resin [A-15] (Example 34) or resin [A-20] (Example 35), 33.5 g of resin [B-16], 200 g of zinc oxide. , Uranine 0.02 g, rose bengal 0.04 g, bromphenol bull-0.03 g, phthalic anhydride 0.20 g and toluene 300 g were dispersed in a ball mill for 4 hours to prepare a photosensitive layer-forming material, which was subjected to conductive treatment. Then, it was coated with a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g / m 2, and dried at 110 ° C. for 1 minute. Then, in the dark, at 20 ° C and 65% RH
Each electrophotographic photoreceptor was prepared by being left for 24 hours.

比較例D 実施例34において、樹脂〔A−2〕6.5g、樹脂〔B−
16〕33.5gの代わりに、樹脂〔R−3〕6.5g及び樹脂
〔R−4〕33.56gを用いた他は、実施例34と同様にし
て、感光材料を作製した。
Comparative Example D In Example 34, 6.5 g of resin [A-2] and 6.5 g of resin [B-
16] A light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 34 except that 6.5 g of resin [R-3] and 33.56 g of resin [R-4] were used instead of 33.5 g.

実施例1と同様に、各感光材料の各特性を調べた。そ
の結果を下記表−13にまとめた。
As in Example 1, each characteristic of each photosensitive material was examined. The results are summarized in Table 13 below.

上記の測定において、静電特性及び撮像性については
下記の操作に従った他は、実施例1と同様の操作で行な
った。
In the above measurement, the same operation as in Example 1 was performed, except that the following operation was performed for the electrostatic characteristics and the image capturing property.

注7)静電特性のE1/10及びE1/100の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電させた
後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で照射
し、表面電位(V10)が1/10又はE1/100に減衰するまで
の時間を求め、これから露光量E1/10又はE1/100(ル
ックス・秒)を算出する。
Note 7) Method for measuring E 1/10 and E 1/100 of electrostatic characteristics After charging the surface of the photoconductive layer to −400 V by corona discharge, irradiating the surface of the photoconductive layer with visible light having an illuminance of 2.0 lux. The time required for the surface potential (V 10 ) to decay to 1/10 or E 1/100 is determined, and the exposure amount E 1/10 or E 1/100 (lux seconds) is calculated from this.

注8)撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全
自動製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)製)でE
PL−Tをトナーとして用いて製版して得られた複写画像
(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像時の環境
条件は、20℃65%RH(I)と30℃80%RH(II)で実施し
た。但し、複写用の原稿(即ち、版下原稿)には、ほか
の原稿を切り抜いて、貼り込みを行なって作成したもの
を用いた。
Note 8) Imaging characteristics After each photosensitive material is left for one day and night under the following environmental conditions, E is used with a fully automatic plate making machine EPL-404V (Fuji Photo Film Co., Ltd.).
A copy image (fog, image quality) obtained by making a plate using PL-T as a toner was visually evaluated. Environmental conditions at the time of imaging were 20 ° C. and 65% RH (I) and 30 ° C. and 80% RH (II). However, a copy original (that is, a copy original) was prepared by cutting and pasting another original.

各感光材料において、光導電層の平滑性及び強度にお
いて、その差は認められなかった。しかし、静電特性に
おいて、比較例Dは、特に光感度E1/100の値が大きく
なった。本発明の感光材料の静電特性は良好であり、更
に、特定の置換基を有する樹脂〔A〕を用いた実施例35
は、非常に良好であり、特にE1/100の値が小さくなっ
た。
In each photosensitive material, no difference was observed in the smoothness and strength of the photoconductive layer. However, in Comparative Example D, the value of the light sensitivity E 1/100 was particularly large in the electrostatic characteristics. The photosensitive material of the present invention has good electrostatic characteristics, and furthermore, the photosensitive material of Example 35 using the resin [A] having a specific substituent was used.
Was very good, and the value of E 1/100 was particularly small.

実際の撮像性を調べて見ると、比較例Dは、複写画像
として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠(即
ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認められ
た。しかし、本発明のものは、いずれも、地汚れのな
い、鮮明な画像のものが得られた。
Investigation of the actual imaging performance revealed that in Comparative Example D, in addition to the original as a copy image, the frame of the cut and pasted portion (that is, the pasted trace) was recognized as background stain in the non-image portion. However, in each case of the present invention, clear images without background stains were obtained.

更に、これらをオフセット印刷用原版として不感脂化
処理して印刷した所、本発明のものはいずれも地汚れの
ない鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。しかし、比
較例Dは、上記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去
されず、刷り出しの印刷物から発生してしまった。
Further, when these were subjected to desensitization processing as an offset printing original plate and then printed, 10,000 sheets of clear images having no background stain were obtained in any of the present invention. However, in Comparative Example D, the sticking marks were not removed even by the desensitizing treatment, and were generated from the printed material.

以上のことより、本発明の感光材料のみが、良好な特
性を与えることができた。
As described above, only the photosensitive material of the present invention was able to give good characteristics.

実施例36〜49 実施例34において、樹脂〔A−15〕6.5g及び樹脂〔B
−16〕33.5gの代わりに、下記表−14の樹脂〔A〕6.5g
及び樹脂〔B〕33.5gを用いた他は、実施例34と同様に
して各感光材料を作製した。
Examples 36 to 49 In Example 34, the resin [A-15] 6.5 g and the resin [B
-16] Instead of 33.5g, resin [A] 6.5g in Table -14 below
Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 34 except that 33.5 g of the resin [B] was used.

本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(30℃、80%
RH)の過酷な条件においても地カブリの発生や細線飛び
の発生等のない鮮明な画像を与えた。
All photosensitive materials of the present invention are chargeable, dark charge retention,
Excellent light sensitivity, real copy image is high temperature and humidity (30 ℃, 80%
Even under severe conditions (RH), a clear image was obtained without occurrence of ground fogging or fine line skipping.

更にオフセットマスター原版として印刷した所、1万
枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が
得られた。
Further, when printing was performed as an offset master plate, a printed matter of clear image quality free of background stain was obtained even after printing 10,000 sheets.

実施例50及び51 樹脂〔A−14〕(実施例50)又は樹脂〔A−15〕(実
施例51)のいずれか6.5g、樹脂〔B−2〕33.5g、酸化
亜鉛200g、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.04g、ブロ
ムフェノールブルー0.03g、無水フタル酸0.20g及びトル
エン300gの混合物をボールミル中で3時間分散した。次
にこの分散物にグルタル酸0.6g(実施例50)又は1,6−
ヘキサンジオール0.5g(実施例51)を加え、更にボール
ミル中で10分間分散した。
Examples 50 and 51 6.5 g of either resin [A-14] (Example 50) or resin [A-15] (Example 51), resin [B-2] 33.5 g, zinc oxide 200 g, uranine 0.02 g. A mixture of 0.04 g of rose bengal, 0.03 g of bromphenol blue, 0.20 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 3 hours. Next, 0.6 g of glutaric acid (Example 50) or 1,6-
Hexanediol (0.5 g, Example 51) was added and further dispersed in a ball mill for 10 minutes.

これを導電処理した紙に、乾燥付着量が20g/m2となる
様にワイヤーバーで塗布し、110℃で1分間乾燥し、更
に120℃で1.5時間加熱した。次いで暗所20℃、65%RHの
条件下で24時間放置することにより各電子写真感光体を
作製した。
This was applied to a conductive treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g / m 2 , dried at 110 ° C. for 1 minute, and further heated at 120 ° C. for 1.5 hours. Then, each electrophotographic photosensitive member was produced by leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours.

これらの感光材料を実施例34と同様にして、静電特性
及び撮像性を調べたところ、良好な性能を示した。
When these photosensitive materials were examined for electrostatic properties and imaging properties in the same manner as in Example 34, they showed good performance.

更に、オフセット印刷用原版として印刷した所、1万
枚以上の印刷が可能となった。
Further, when printed as an original plate for offset printing, it is possible to print more than 10,000 sheets.

(発明の効果) 本発明によれば、過酷な条件下においても優れた静電
特性と機械的強度を有する電子写真感光体を得ることが
できる。また、本発明の感光体は、半導体レーザー光を
用いたスキャンニング露光方式に有効である。
(Effects of the Invention) According to the present invention, it is possible to obtain an electrophotographic photosensitive member having excellent electrostatic characteristics and mechanical strength even under severe conditions. Further, the photoreceptor of the present invention is effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】無機光導電材料及び結着樹脂を少なくとも
含有する光導電層を有する電子写真感光体において、該
結着樹脂が、下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び下記
樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有して成ることを特徴
とする電子写真感光体。 樹脂〔A〕; −PO3H2基、−COOH基、−SO3H基、フエノール性OH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基)を
示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少なくと
も1つの酸性基を含有する重合体成分を少なくとも1種
含有するAブロックと、下記一般式(I)で示される重
合体成分を少なくとも含有するBブロックとから構成さ
れるA・Bブロック共重合体のBブロックの重合体主鎖
の末端に重合性二重結合基を結合して成る一官能性マク
ロモノマーを少なくとも1種共重合成分として含有する
重量平均分子量1×103〜2×104のグラフト型共重合
体。 一般式(I) 〔式(I)中、a1及びa2はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。A1は−COO
−、−OCO−、 (l1、l2は1〜3の整数を表わす)、−O−、−SO
2−、−CO−、 −CONHCOO−、−CONHCONH−又は を表わす(ここでZ1は水素原子又は炭化水素基を表わ
す)。 R1は、炭化水素基を表わす。但しA1を表わす場合、R1は水素原子又は炭化水素基を表わ
す。〕 結着樹脂〔B〕; 下記一般式(IV a)及び(IV b)で示される重合体成分
のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一方の
末端にのみ下記一般式(III)で示される重合性二重結
合基を結合して成る重量平均分子量2×104以下の一官
能性マクロモノマーと下記一般式(V)で示されるモノ
マーとから少なくとも成る共重合体である樹脂。 一般式(III) 〔式(III)中、V0は−COO−、−OCO−、−CH2OCO−、
−CH2COO−、−O−、−SO2−、−CO−、−CONHCOO−、
−CONHCONH−、−CONHSO2−、 又は を表わす(P3は、水素原子又は炭化水素基を表わす)。 c1、c2は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−Z′又
は炭化水素を介した−COO−Z′(Z′は水素原子又は
置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わす。〕 一般式(IV a) 一般式(IV b) 〔式(IV a)又は(IV b)中、V1は、式(III)中のV0
と同一の内容を表わす。 Q1は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳香
族基を表わす。 d1、d2は、互いに同じでも異なってもよく、式(III)
中のc1、c2と同一の内容を表わす。 Q0は−CN、−CONH2又は を表わす。 ここでTは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アル
コキシ基又は−COOZ″(Z″はアルキル基、アラルキル
基又はアリール基を示す)を表わす。〕 一般式(V) 〔式(V)中、V2は、式(IV a)中のV1と同一の内容を
表わす。 Q2は、式(IV a)中のQ1と同一の内容を表わす。 e1、e2は互いに同じでも異なってもよく、式(III)中
のc1、c2と同一の内容を表わす。〕
1. An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following resins [A] and the following resin [B]: An electrophotographic photosensitive member comprising at least one kind. Resin (A); -PO 3 H 2 group, -COOH group, -SO 3 H groups, phenolic OH groups, At least one polymer component containing at least one acidic group selected from {R represents a hydrocarbon group or an --OR 'group (R' is a hydrocarbon group) and a cyclic acid anhydride-containing group is contained. A polymerizable double bond is added to the end of the polymer main chain of the B block of the A / B block copolymer composed of the A block and the B block containing at least the polymer component represented by the following general formula (I). A graft-type copolymer having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , containing at least one monofunctional macromonomer having a group bonded thereto as a copolymerization component. General formula (I) [In the formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. A 1 is −COO
−, −OCO−, (L 1 and l 2 represent an integer of 1 to 3), -O-, -SO
2- , -CO-, -CONHCOO-, -CONHCONH- or Wherein Z 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. R 1 represents a hydrocarbon group. Where A 1 is When R 1 represents R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Binder resin [B]; The following general formula (III) is provided only at one end of the polymer main chain containing at least one of the polymer components represented by the following general formulas (IV a) and (IV b). ) A resin which is a copolymer comprising at least a monofunctional macromonomer having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less and a monomer represented by the following general formula (V). . General formula (III) Wherein (III), V 0 is -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO-,
-CH 2 COO -, - O - , - SO 2 -, - CO -, - CONHCOO-,
−CONHCONH−, −CONHSO 2 −, Or (P 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group). c 1 and c 2 may be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom,
It represents a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-Z 'or a hydrocarbon-mediated -COO-Z' (Z 'represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group). General formula (IVa) General formula (IV b) [In the formula (IV a) or (IV b), V 1 is V 0 in the formula (III).
Represents the same content as. Q 1 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms. d 1 and d 2 may be the same or different from each other, and have the formula (III)
Represents the same content as c 1 and c 2 in . Q 0 is -CN, -CONH 2 or Represents Here, T represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group or -COOZ "(Z" represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group). General formula (V) [In the formula (V), V 2 represents the same content as V 1 in the formula (IV a). Q 2 has the same meaning as Q 1 in formula (IV a). e 1 and e 2 may be the same or different and represent the same contents as c 1 and c 2 in formula (III). ]
【請求項2】該樹脂〔A〕において、該マクロモノマー
(M)とともに下記一般式(II)で表わされる単量体を
少なくとも1種共重合成分として含有する事を特徴とす
る請求項(1)に記載の電子写真感光体。 一般式(II) 〔式(II)において、R2は炭化水素基を表わす。〕
2. The resin [A] contains at least one monomer represented by the following general formula (II) together with the macromonomer (M) as a copolymerization component (1). ) The electrophotographic photosensitive member according to [1]. General formula (II) [In the formula (II), R 2 represents a hydrocarbon group. ]
【請求項3】該樹脂〔A〕において、該マクロモノマー
(M)とともに、下記一般式(II a)及び一般式(II
b)で示される単量体のうちの少なくとも1種を共重合
成分として30重量%以上含有する事を特徴とする請求項
(2)記載の電子写真感光体。 一般式(II a) 一般式(II b) 〔式中、X1及びX2は互いに独立に、それぞれ水素原子、
炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−CO
Z3又は−COOZ3(Z3は各々炭素数1〜10の炭化水素基を
示す)を表わす。但し、X1とX2がともに水素原子を表わ
すことはない。 L1及びL2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合する、
単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす。〕
3. In the resin [A], together with the macromonomer (M), the following general formula (IIa) and general formula (II)
3. The electrophotographic photoreceptor according to claim 2, wherein at least one of the monomers represented by b) is contained as a copolymer component in an amount of 30% by weight or more. General formula (IIa) General formula (IIb) Wherein X 1 and X 2 are each independently a hydrogen atom,
Hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, chlorine atom, bromine atom, -CO
Z 3 or —COOZ 3 (Z 3 each represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms) is represented. However, X 1 and X 2 are never both represent a hydrogen atom. L 1 and L 2 each connect -COO- and a benzene ring,
It represents a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms. ]
【請求項4】樹脂〔B〕における該共重合体が、更に−
PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、−OH基、−SH基及び {R0は炭化水素基又は−OR0′(R0′は炭化水素基を示
す)基を表わす}から選ばれる少なくとも1つの酸性基
を該共重合体主鎖の片末端に結合して成ることを特徴と
する請求項(1)〜(3)のいずれかに記載の電子写真
感光体。
4. The copolymer in resin [B] further comprises-
PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -OH group, and -SH group At least one acidic group selected from {R 0 represents a hydrocarbon group or a --OR 0 ′ group (R 0 ′ represents a hydrocarbon group)} is bonded to one end of the main chain of the copolymer. The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims (1) to (3), wherein
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