JP2520711B2 - Electrophotographic photoreceptor - Google Patents
Electrophotographic photoreceptorInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及
び耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。特にCPC感
光体として性能の優れたものに関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, and more particularly to an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics and moisture resistance. In particular, it relates to a CPC photosensitive member having excellent performance.
(従来の技術) 電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは
適用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構
成をとる。(Prior Art) An electrophotographic photosensitive member has various configurations in order to obtain predetermined characteristics or according to the type of an applied electrophotographic process.
電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光
導電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備え
た感光体があり、広く用いられている。Typical electrophotographic photoconductors are a photoconductor having a photoconductive layer formed on a support and a photoconductor having an insulating layer on the surface thereof, which are widely used.
支持体と少なくとも1つの光導電層から構成される感
光体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯
電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画
像形成に用いられる。Photoreceptors composed of a support and at least one photoconductive layer are used for image formation by the most common electrophotographic processes, ie charging, imagewise exposure and development, and optionally transfer.
更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電
子写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に
近年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数千枚程度
の印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要
となってきている。Further, a method of using an electrophotographic photosensitive member as an offset original plate for direct plate making is widely used. Particularly in recent years, the direct electrophotographic lithographic printing plate has become important as a method for printing high-quality printed matter by printing several hundred to several thousand sheets.
電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する
結合剤は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結合
剤中への分散能力が優れるとともに、形成された記録体
層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層
の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰
が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮像時の湿度の
変化によってこれら特性を安定に保持していることが必
要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備
する必要がある。The binder used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film forming properties of itself and the ability to disperse the photoconductive powder in the binder, and the formed recording medium layer The adhesion to the substrate is good, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, low dark decay, large light decay, low pre-exposure fatigue, and changes in humidity during imaging. It is necessary to have various electrostatic characteristics, such as a need to stably maintain the characteristics, and excellent imaging properties.
古くから公知の樹脂として、例えばシリコーン樹脂
(特公昭34-6670号)、スチレン−ブタジエン樹脂(特
公昭35-1960号)、アルキッド樹脂、マレイン酸樹脂、
ポリアミド(特公昭35-11219号)、酢酸ビニル樹脂(特
公昭41-2425号)、酢酸ビニル共重合体(特公昭41-2426
号)、アクリル樹脂(特公昭35-11216号)、アクリル酸
エステル共重合体(例えば特公昭35-11219号、特公昭36
-8510号、特公昭41-13946号等)等が知られている。For example, silicone resins (Japanese Patent Publication No. 34-6670), styrene-butadiene resins (Japanese Patent Publication No. 35-1960), alkyd resins, maleic acid resins,
Polyamide (JP-B 35-11219), vinyl acetate resin (JP-B 41-2425), vinyl acetate copolymer (JP-B 41-2426)
No., acrylic resin (JP-B-35-11216), acrylate copolymer (for example, JP-B-35-11219, JP-B-36
No. -8510, Japanese Patent Publication No. 41-13946, etc.).
しかし、これらの樹脂を用いた電子写真感光材料にお
いては、1)光導電性粉体との親和性が不足し、塗工液
の分散性が不良となる、2)光導電層の帯電性が低い、
3)複写画像の画像部(特に網点再現性・解像力)の品
質が悪い、4)複写画像作成時の環境(例えば高温高
湿、低温低湿等)にその画質が影響されやすい、等のい
ずれかの問題があった。However, in the electrophotographic photosensitive materials using these resins, 1) the affinity for the photoconductive powder is insufficient and the dispersibility of the coating liquid becomes poor, and 2) the chargeability of the photoconductive layer is poor. Low,
3) Poor quality of the image portion (particularly halftone dot reproducibility / resolution) of the copied image; 4) The image quality is easily affected by the environment (for example, high temperature, high humidity, low temperature, low humidity, etc.) at the time of creating the copied image. There was a problem.
光導電層の静電特性の改良方法として種々の方法が提
案されており、その1つの方法として、例えば、芳香族
環又はフラン環にカルボキシル基又はニトロ基を含有す
る化合物、あるいはジカルボン酸の無水物を更に組合せ
て、光導電層に共存させる方法が特公昭42-6878号及び
特公昭45-3073号に開示されている。しかし、これらの
方法によって改良された感光材料でもその静電特性は充
分でなく、特に光減衰特性の優れたものは得られていな
い。そこでこの感光材料の感度不足を改良するために、
光導電層中に増感色素を多量に加える方法が従来とられ
てきたが、このような方法によって作製された感光材料
は、白色度が著しく劣化し、記録体としての品質低下を
生じ、場合によっては感光材料の暗減衰の劣化を起こ
し、充分な複写画像が得られなくなってしまうという問
題を有していた。Various methods have been proposed as a method for improving the electrostatic properties of the photoconductive layer. One of the methods is, for example, a compound containing a carboxyl group or a nitro group on an aromatic ring or a furan ring, or a dicarboxylic acid anhydride. Methods of further combining materials and coexisting in a photoconductive layer are disclosed in JP-B-42-6878 and JP-B-45-3073. However, even the photosensitive materials improved by these methods do not have sufficient electrostatic characteristics, and a material having particularly excellent light attenuation characteristics has not been obtained. Therefore, in order to improve the lack of sensitivity of this photosensitive material,
Conventionally, a method of adding a large amount of a sensitizing dye in a photoconductive layer has been adopted.However, a photosensitive material produced by such a method has a remarkable deterioration in whiteness and a decrease in quality as a recording medium. In some cases, the dark decay of the photosensitive material is deteriorated, and a sufficient copied image cannot be obtained.
一方、光導電層に用いる結着樹脂として樹脂の平均分
子量を調節して用いる方法が特開昭60-10254号に開示さ
れている。即ち、酸価4〜50のアクリル樹脂で平均分子
量が103〜104の分布の成分のものと、104〜2×105の分
布の成分のものを併用することにより、静電特性(特に
PPC感光体としての繰り返し再現性)、耐湿性等を改良
する技術が記載されている。On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-10254 discloses a method in which the average molecular weight of the resin is adjusted and used as the binder resin used in the photoconductive layer. That is, by using an acrylic resin having an acid value of 4 to 50 and a component having a distribution having an average molecular weight of 10 3 to 10 4 and a component having a distribution having a distribution of 10 4 to 2 × 10 5 , the electrostatic properties ( Especially
A technique for improving repetition reproducibility as a PPC photoreceptor), moisture resistance and the like is described.
更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究
が鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特
性と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用
の結着樹脂として、例えば、特公昭50-31011号では、フ
マル酸存在下で(メタ)アクリレート系モノマーと他の
モノマーと共重合させた、Mw1.8〜10×104でTg10〜80℃
の樹脂と、(メタ)アクリレート系モノマーとフマル酸
以外の他のモノマーとから成る共重合体とを併用したも
の、又特開昭53-54027号では、カルボン酸基をエステル
結合から少なくとも原子数7個離れて有する置換基をも
つ(メタ)アクリル酸エステルを含む三元共重合体を用
いるもの、又特開昭54-20735号・特開昭57-202544号で
は、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ートを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、又特開
昭58-68046号では、炭素数6〜12のアルキル基を置換基
とする(メタ)アクリル酸エステル及びカルボン酸含有
のビニルモノマーを含む3元共重合体を用いるもの等が
光導電層の不感脂化性の向上に効果があると記載されて
いる。Further, research on a lithographic printing plate precursor using an electrophotographic photosensitive member has been earnestly conducted, and a binder resin for a photoconductive layer which has both electrostatic properties as an electrophotographic photosensitive member and printing properties as a printing plate precursor. As, for example, in Japanese Examined Patent Publication No. 50-31011, (meth) acrylate-based monomer was copolymerized with other monomers in the presence of fumaric acid, Mw 1.8 ~ 10 × 10 4 Tg 10 ~ 80 ℃.
And a copolymer comprising a (meth) acrylate-based monomer and a monomer other than fumaric acid, and JP-A-53-54027 discloses that a carboxylic acid group has at least a number of atoms from an ester bond. In the case of using a terpolymer containing a (meth) acrylate ester having a substituent which is separated by 7 groups, JP-A-54-20735 and JP-A-57-202544 disclose acrylic acid and hydroxyethyl ( Use of a quaternary or pentameric copolymer containing (meth) acrylate, and JP-A-58-68046 discloses a (meth) acrylic ester and a carboxylic acid containing an alkyl group having 6 to 12 carbon atoms as a substituent. It is described that the use of a terpolymer containing a vinyl monomer is effective in improving the desensitizing property of the photoconductive layer.
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記した静電特性、耐湿特性に効果が
あるとされる樹脂であっても、現実に評価してみると特
に帯電性、暗電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導
電層の平滑性等に問題があり、実用上満足できるもので
はなかった。(Problems to be Solved by the Invention) However, even if the resin is said to be effective in the above-mentioned electrostatic properties and moisture resistance properties, particularly when it is actually evaluated, it is particularly chargeability, dark charge retention, and photosensitivity. However, there was a problem in the electrostatic characteristics as described above, the smoothness of the photoconductive layer, and the like, which were not practically satisfactory.
又、電子写真式平版印刷用原版として開発されたとす
る結着樹脂においても、現実に評価してみると前記の静
電特性、印刷物の地汚れ、等に問題があった。Further, even in the case of a binder resin which was developed as an electrophotographic planographic printing plate precursor, when actually evaluated, there were problems with the above-mentioned electrostatic characteristics, background contamination of printed matter, and the like.
本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する
課題を改良するものである。The present invention solves the above problems of the conventional electrophotographic photoreceptor.
本発明の目的は、静電特性(特に暗電荷保持性及び光
感度)が向上し、原画に対し忠実な複写画像を再現する
高画質の電子写真感光体を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a high-quality electrophotographic photoreceptor having improved electrostatic characteristics (particularly dark charge retention and photosensitivity) and reproducing a copied image faithful to an original image.
本発明の他の目的は、複写画像形成時の環境が低温低
湿あるいは高温高湿の如く変動した場合でも、鮮明で良
質な画像を有する電子写真感光体を提供することであ
る。Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having a clear and high-quality image even when the environment at the time of forming a copy image fluctuates such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity.
本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存度
の小さいCPC電子写真感光体を提供することである。Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics and low environmental dependency.
本発明の他の目的は、電子写真式平版印刷原版として
地汚れの発生を全く生じさせない印刷物を与える平版印
刷版を提供することである。It is another object of the present invention to provide a lithographic printing plate that provides a printed matter that does not cause background stain at all as an electrophotographic lithographic printing original plate.
本発明の他の目的は併用し得る増感色素の種類による
影響をうけにくい電子写真感光体を提供することにあ
る。Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that is hardly affected by the type of sensitizing dye that can be used in combination.
(課題を解決するための手段) 前記の課題は、無機光導電材料及び結着樹脂を少なく
とも含有する光導電層を有する電子写真感光体におい
て、該結着樹脂が下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び
下記樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有することを特徴
とする電子写真感光体により解決されることが見出され
た。(Means for Solving the Problems) The above-mentioned problem is solved in an electrophotographic photosensitive member having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following resins [A]. It has been found that the problem can be solved by an electrophotographic photoreceptor characterized by containing a seed and at least one of the following resins [B].
樹脂〔A〕 1×103〜2×104の重量平均分子量を有し、且つ、−
PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、 {Rは炭素数1〜10の炭化水素基又はOR′基(R′は炭
素数1〜10の炭化水素基を示す)を示す}、−SH基及び
フェノール性OH基の酸性基並びに環状酸無水物含有基の
うちの少なくとも1つの置換基を重合体主鎖の末端に結
合して成る樹脂。Resin [A] having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , and-
PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, {R represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or an OR 'group (R' represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), --SH group, acidic group such as phenolic OH group and cyclic acid A resin obtained by bonding at least one substituent of an anhydride-containing group to an end of a polymer main chain.
樹脂〔B〕 下記一般式(IIa)及び(IIb)で示される重合体成分
のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一方の
末端にのみ下記一般式(I)で示される重合性二重結合
基を結合して成る重量平均分子量2×104以下の一官能
性マクロモノマーと下記一般式(III)で示されるモノ
マーとから少なくとも成る共重合体である樹脂。Resin [B] The polymerizability represented by the following general formula (I) is present only at one end of the polymer main chain containing at least one polymer component represented by the following general formulas (IIa) and (IIb). A resin, which is a copolymer comprising at least a monofunctional macromonomer having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less formed by binding a double bond group and a monomer represented by the following general formula (III).
一般式(I) 〔式(I)中、Vは−COO−,−OCO−,−CH2OCO−,−
CH2COO−,−O−,−SO2−,−CO−, 又は を表わす(R1は水素原子又は炭化水素基を表わす)。
a1,a2は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−Z、又
は炭化水素を介した−COO−Z(Zは水素原子又は置換
されてもよい炭化水素基を示す)を表わす。〕 一般式(IIa) 一般式(IIb) 〔式(IIa)又は(IIb)中、X0は、式(I)中のVと同
一の内容を表わす。General formula (I) Wherein (I), V is -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO -, -
CH 2 COO -, - O - , - SO 2 -, - CO-, Or (R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group).
a 1 and a 2 may be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom,
Represents a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-Z, or -COO-Z via a hydrocarbon (Z represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted). ] General formula (IIa) General formula (IIb) [In formula (IIa) or (IIb), X 0 has the same meaning as V in formula (I).
Q0は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳
香族基を表わす。b1、b2は互いに同じでも異なってもよ
く、式(I)中のa1、a2と同一の内容を表わす。Q 0 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms. b 1 and b 2 may be the same as or different from each other, and have the same contents as a 1 and a 2 in the formula (I).
Qは−CN、−CONH2又は 表わし、ここでYは水素原子、ハロゲン原子、アルコキ
シ基又は−COOZ′(Z′はアルキル基、アラルキル基又
はアリール基を示す)を表わす。〕 一般式(III) (式(III)中、X1は、式(IIa)中のX0と同一の内容を
表わし、Q1は、式(IIa)中のQ0と同一の内容を表わ
す。c1,c2は互いに同じでも異なってもよく、式(I)
中のa1,a2と同一の内容を表わす。) 即ち、本発明に供される結着樹脂は、酸性基及び/又
は環状酸無水物含有基(以下本明細書中では特にことわ
らない限り酸性基の語の中に環状酸無水物含有基も含む
ものとする)を重合体主鎖に連結する側鎖には含有せず
に該主鎖の末端にのみ結合する低分子量の樹脂〔A〕
と、上記マクロモノマー(M)及び一般式(III)で示
されるモノマーを各々少なくとも1種含むクシ型共重合
体から成る樹脂〔B〕とから少なくとも構成される。Q is -CN, -CONH 2 or Where Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group or -COOZ '(Z' represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group). General formula (III) (In the formula (III), X 1 represents the same content as X 0 in the formula (IIa), and Q 1 represents the same content as Q 0 in the formula (IIa). C 1 , c 2 May be the same or different from each other and have the formula (I)
It has the same contents as a 1 and a 2 in the above . That is, the binder resin used in the present invention includes an acidic group and / or a cyclic acid anhydride-containing group (hereinafter, unless otherwise specified in the present specification, a cyclic acid anhydride-containing group is included in the term of acidic group). A resin having a low molecular weight [A] which does not contain in the side chain connecting to the polymer main chain but binds only to the end of the main chain.
And a resin [B] made of a comb-type copolymer containing at least one kind of each of the macromonomer (M) and the monomer represented by the general formula (III).
本発明では、樹脂中に含有される酸性基が重合体主鎖
の末端に結合した樹脂〔A〕は、重合体末端に結合され
る酸性基が無機光導電体の化学量論的な欠陥に吸着し、
且つ低分子量体であることから、光導電体の表面の被覆
性を向上させることで光導電体のトラップを補償すると
共に湿度特性を飛躍的に向上させる一方、光導電体の分
散が充分に行なわれ、凝集を抑制することが判った。そ
して樹脂〔B〕は、樹脂〔A〕を用いたことによる電子
写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕のみで
は不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるもの
である。In the present invention, in the resin [A] in which the acidic group contained in the resin is bonded to the terminal of the polymer main chain, the acidic group bonded to the terminal of the polymer causes a stoichiometric defect of the inorganic photoconductor. Adsorb,
In addition, since it is a low molecular weight substance, the trapping of the photoconductor is compensated by improving the coverage of the surface of the photoconductor and the humidity characteristics are dramatically improved, while the photoconductor is sufficiently dispersed. It was found that the aggregation was suppressed. The resin [B] does not hinder the high performance of the electrophotographic properties due to the use of the resin [A], and can sufficiently increase the mechanical strength of the photoconductive layer, which is insufficient with the resin [A] alone. It is.
また、本発明では、光導電体表面の平滑性が滑らかと
なる。電子写真式平版印刷原版として光導電層表面の平
滑性の粗い感光体を用いると、光導電体である無機粒子
と結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が存在する
状態で光導電層が形成されるため、不感脂化処理液によ
る不感脂化処理をしても非画像部の親水化が均一に充分
に行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を引き起こ
し、結果として印刷物の非画像部の地汚れを生じてしま
う。Moreover, in the present invention, the smoothness of the photoconductor surface is smooth. When a photoconductor having a rough surface of the photoconductive layer is used as the electrophotographic lithographic printing plate precursor, the dispersion state of the inorganic particles as the photoconductor and the binder resin is not appropriate, and the photoconductive layer is in a state where the aggregates are present. Since the layer is formed, even if the desensitizing treatment with the desensitizing solution is performed, the non-image area is not uniformly and sufficiently hydrophilized, causing the printing ink to adhere during printing, and as a result, the non-image The part will be soiled.
本発明における低分子量体の樹脂〔A〕のみを結着樹
脂として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に
吸着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性
及び静電特性において良好で、しかも地汚れのない画質
が得られ得るが、その膜強度がいまだ充分ではなく、耐
久性において満足すべき結果が得られない。Even when only the low molecular weight resin [A] in the present invention is used as the binder resin, the photoconductor and the binder resin are sufficiently adsorbed, and the surface of the particles can be coated. Although good image quality can be obtained with good electrostatic characteristics and no background contamination, the film strength is not yet sufficient, and satisfactory results in durability cannot be obtained.
本発明の樹脂を用いた場合に無機光導電体と結着樹脂
の吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電
層の膜強度が保持されるものである。When the resin of the present invention is used, the interaction between the adsorption and coating of the inorganic photoconductor and the binder resin is appropriately performed, and the film strength of the photoconductive layer is maintained.
更に、樹脂〔B〕は、該クシ型共重合体主鎖の片末端
にのみ−PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、−OH基、−SH
基及び (R″は炭化水素基を表わす)から選ばれる少なくとも
1つの酸性基を更に結合して成る樹脂(以下樹脂
〔B′〕と称することもある)であることが好ましい。Furthermore, the resin (B), said comb copolymer mainly at one end of the chain only -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -OH group, -SH
Group and (R ″ represents a hydrocarbon group), and is preferably a resin (hereinafter also referred to as a resin [B ′]) in which at least one acidic group selected from the group is further bonded.
樹脂〔B′〕を用いると、静電特性、特にD.R.R及びE
1/10がより良好となり、樹脂〔A〕を用いたことによる
優れた特性を全く妨げず、その効果は特に高温・高湿、
低温・低湿等の如き環境変化においても変動が殆んどな
く好ましい。更に、膜強度もより良好となり、耐刷性が
向上する。When the resin [B '] is used, the electrostatic properties, especially DRR and E
1/10 is better, does not hinder the excellent properties of using resin [A] at all, and its effect is particularly high temperature, high humidity,
It is preferable that there is almost no change even in environmental changes such as low temperature and low humidity. Further, the film strength is further improved, and the printing durability is improved.
樹脂〔A〕において、重量平均分子量は1×103〜2
×104、好ましくは3×103〜1×104、末端に結合され
る酸性基の存在割合は0.5〜15重量%、好ましくは1〜1
0重量%である。また、樹脂〔A〕のガラス転移点は好
ましくは−10℃〜100℃、より好ましくは−5℃〜80℃
である。In the resin [A], the weight average molecular weight is 1 × 10 3 to 2
× 10 4 , preferably 3 × 10 3 to 1 × 10 4 , the content of the acidic group bonded to the terminal is 0.5 to 15% by weight, preferably 1 to 1% by weight.
It is 0% by weight. The glass transition point of the resin [A] is preferably -10 ° C to 100 ° C, more preferably -5 ° C to 80 ° C.
Is.
樹脂〔A〕の分子量が1×103より小さくなると、皮
膜形成能が低下し十分な膜強度が保てない。一方分子量
が2×104より大きくなると電子写真特性(特に初期電
位、暗減衰保持率)が劣化するため好ましくない。特に
かかる高分子量体の場合に酸性基含有量が3%を越える
とかかる電子写真特性の劣化が著しく、オフセットマス
ターとして用いたときに地汚れが顕著となる。If the molecular weight of the resin [A] is less than 1 × 10 3 , the film-forming ability is reduced, and sufficient film strength cannot be maintained. On the other hand, when the molecular weight is larger than 2 × 10 4 , the electrophotographic characteristics (particularly, initial potential and dark decay retention) deteriorate, which is not preferable. In particular, in the case of such a high molecular weight product, when the content of the acidic group exceeds 3%, such deterioration of the electrophotographic characteristics is remarkable, and when used as an offset master, background stain becomes remarkable.
樹脂〔A〕における末端酸性基含有量が0.5重量%よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができない。一方該酸性基含有量が15重量%よりも多
いと、分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高
湿特性が低下し、更にオフセットマスターとして用いる
ときに地汚れが増大する。When the content of the terminal acidic group in the resin [A] is less than 0.5% by weight, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained. On the other hand, when the content of the acidic group is more than 15% by weight, the dispersibility decreases, the film smoothness and the high-humidity characteristics of the electrophotographic characteristics decrease, and the background stain increases when used as an offset master.
樹脂〔A〕は、前記した物性を有していれば従来公知
の樹脂のいずれでもよく、例えば、ポリエステル樹脂、
変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、オレフィン樹脂、
ポリカーボネート樹脂、アルカン酸ビニル樹脂、アルカ
ン酸アリル樹脂、変性ポリアミド樹脂、フェノール樹
脂、脂肪酸変性アルキド樹脂、アクリル樹脂等が用いら
れる。The resin [A] may be any of conventionally known resins as long as it has the above-mentioned physical properties. For example, a polyester resin,
Modified epoxy resin, silicone resin, olefin resin,
Polycarbonate resin, vinyl alkanoate resin, allyl alkanoate resin, modified polyamide resin, phenol resin, fatty acid modified alkyd resin, acrylic resin and the like are used.
更に具体的には、下記一般式(IV)で示される単量体
を共重合体成分として、その総量で30重量%以上含有す
る(メタ)アクリル系共重合体を樹脂〔A〕の例として
挙げることができる。More specifically, as an example of the resin [A], a (meth) acrylic copolymer containing a monomer represented by the following general formula (IV) as a copolymer component and containing 30% by weight or more in total is shown. Can be mentioned.
一般式(IV) 一般式(IV)において、Xは、水素原子、ハロゲン原
子(例えばクロロ原子、ブロモ原子)、シアノ基又は炭
素数1〜4のアルキル基を表わす。Tは、炭素数1〜18
の置換されていてもよいアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデ
シル基、テトラデシル基、2−メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基等)、炭素数2〜18の置換されていて
もよいアルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基、イ
ソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニ
ル基、オクテニル基等)、炭素数7〜12の置換されてい
てもよいアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル
基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、メチル
ベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい
シクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基等)、アリール基(例え
ば、フェニル基、トリル基、キシル基、メシチル基、ナ
フチル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)を表わす。General formula (IV) In the general formula (IV), X represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chloro atom or a bromo atom), a cyano group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. T has 1 to 18 carbon atoms
An optionally substituted alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, 2-methoxyethyl group) , 2-
Ethoxyethyl group, etc.), an optionally substituted alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms (eg, vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, etc.), and carbon number 7 To 12 optionally substituted aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc.), and optionally substituted cycloalkyl groups having 5 to 8 carbon atoms (eg, Cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, tolyl group, xyl group, mesityl group, naphthyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group,
Chlorophenyl group, dichlorophenyl group, etc.).
更に本発明の樹脂〔A〕は、前記した一般式(IV)の
単量体とともにこれら以外の他の単量体を共重合成分と
して含有してもよい。Further, the resin [A] of the present invention may contain, in addition to the monomer of the general formula (IV), a monomer other than these as a copolymerization component.
例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又はアリ
ルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、スチレン類、複素環ビニル類(例えば、ビニ
ルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、
ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾ
ール、ビニル−ジオキサン、ビニルキリン、ビニルチア
ゾール、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。特に酢
酸ビニル、酢酸アリル、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、スチレン類等は、膜強度向上の点から好まし
い成分である。For example, α-olefins, vinyl alkanoates or allyl esters, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, acrylamides, methacrylamides, styrenes, heterocyclic vinyls (for example, vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole,
Vinyl thiophene, vinyl imidazoline, vinyl pyrazole, vinyl-dioxane, vinyl kirin, vinyl thiazole, vinyl oxazine, etc.) and the like. Particularly, vinyl acetate, allyl acetate, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrenes and the like are preferable components from the viewpoint of improving the film strength.
また、本発明の樹脂〔A〕における主鎖末端に結合す
る酸性基において、好ましい酸性基は−PO3H2基、−SO3
H基、−COOH基、 環状酸無水物含有基を挙げることができる。Further, among the acidic groups bonded to the ends of the main chain in the resin [A] of the present invention, preferable acidic groups are —PO 3 H 2 groups and —SO 3 groups.
H group, -COOH group, Mention may be made of a cyclic acid anhydride-containing group.
において、Rは炭化水素基又はOR′(R′は炭化水素基
を表わす)を表わし、R及びR′は好ましくは炭素数1
〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2
−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、アリル
基、クロトリル基、ブテチル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、メ
チルベンジル基、クロロベンジル基、フロロベンジル
基、メトキシベンジル基等)、又は置換されてもよいア
リール基(例えば、フェニル基、トリル基、エチルフェ
ニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル基、フロ
ロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル−フ
ェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、
シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、アセチル
フェニル基、ブトキシフェニル基等)等を表わす。 In, R represents a hydrocarbon group or OR '(R' represents a hydrocarbon group), and R and R'preferably have 1 carbon atom.
To 22 aliphatic groups (e.g., methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl,
Dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2
-Methoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, allyl group, crotryl group, butethyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group Etc.) or an aryl group which may be substituted (eg, phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxy Phenyl group,
Cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.).
また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環
状酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水
物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカル
ボン酸無水物が挙げられる。The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride to be contained include an aliphatic dicarboxylic acid anhydride and an aromatic dicarboxylic acid anhydride. To be
脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無
水物環グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘ
キサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン
−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシクロ[2,2,
2]オクタンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これ
らの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のア
ルキル基等が置換されていてもよい。Examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride, succinic anhydride ring glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride Ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, 2,3-bicyclo [2,2,
2] octanedicarboxylic anhydride rings and the like, and these rings are substituted with, for example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, and alkyl groups such as methyl group, ethyl group, butyl group and hexyl group. Is also good.
又芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレン・ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン・ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル
基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(ア
ルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基
等)が置換されていてもよい。Examples of aromatic dicarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene / dicarboxylic acid anhydride ring, pyridine-dicarboxylic acid anhydride ring, thiophene / dicarboxylic acid anhydride ring, and the like. , For example, halogen atom such as chlorine atom, bromine atom, methyl group, ethyl group,
An alkyl group such as a propyl group and a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, and an alkoxycarbonyl group (eg, an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group) may be substituted.
樹脂〔A〕は、これらの共重合成分からなに共重合体
の主鎖の末端に該酸性基を結合させるように合成すれば
よい。具体的には、該酸性基又は後に変換して酸性基に
代えることのできる官能基を含有する重合開始剤を用い
る方法、あるいは該酸性基又は後に該酸性基に変換でき
る官能基を含有する連鎖移動剤を用いる方法、前記両者
を併用する方法、更には、アニオン重合法において停止
反応を利用し、該官能基を導入する方法等を用いて製造
することができる。The resin [A] may be synthesized from these copolymerization components so that the acidic group is bonded to the terminal of the main chain of the copolymer. Specifically, a method using a polymerization initiator containing the acidic group or a functional group that can be converted into an acidic group after conversion, or a chain containing the acidic group or a functional group that can be converted into the acidic group later It can be produced by a method using a transfer agent, a method using both of them, or a method using an end reaction in an anionic polymerization method to introduce the functional group.
例えば、P.Dreyfuss,R.P.Quirk,Encycl.Polym.Sci.En
g.7,551(1987)、V.Percec,Appl.Polym.Sci.285,95(1
985)、P.F.Rempp,E.Franta,Adv.Polym.Sci.58,1(198
4)、Y.Yamashita,J.Appl.Polym.Sci,Appl.Polym.Symp.
36,193(1981)、R.Asami,M.Takaki,Makromol.Chem,Sup
pl.12,163(1985)等の総説引例の合成方法によって製
造することができる。For example, P. Dreyfuss, RPQuirk, Encycl.Polym.Sci.En
g. 7 , 551 (1987), V. Percec, Appl. Polym. Sci. 285 , 95 (1
985), PFRempp, E.Franta, Adv.Polym.Sci. 58 , 1 (198
4), Y.Yamashita, J.Appl.Polym.Sci, Appl.Polym.Symp.
36 , 193 (1981), R. Asami, M. Takaki, Makromol. Chem, Sup
It can be produced by the synthetic method described in the review article such as pl. 12 , 163 (1985).
樹脂〔B〕は、前記した物性を満たし、一官能性マク
ロモノマー(M)と一般式(III)で示される単量体と
を少なくとも含有するクシ型の共重合体から成る樹脂で
ある事を特徴とする。The resin [B] is a resin which satisfies the above-mentioned physical properties and is composed of a comb-type copolymer containing at least the monofunctional macromonomer (M) and the monomer represented by the general formula (III). Characterize.
樹脂〔B〕は、好ましくは重量平均分子量が2×104
以上の、クシ型共重合体樹脂である。より好ましくは重
量平均分子量が5×104〜3×105である。The resin [B] preferably has a weight average molecular weight of 2 × 10 4
The above is a comb-type copolymer resin. More preferably, the weight average molecular weight is from 5 × 10 4 to 3 × 10 5 .
樹脂〔B〕のガラス移転点は好ましくは0℃〜120℃
の範囲、より好ましくは10℃〜90℃である。The glass transition point of the resin [B] is preferably 0 ° C to 120 ° C.
And more preferably from 10 ° C to 90 ° C.
一官能性マクロモノマー(M)は、一般式(I)で示
される重合性二重結合基を、一般式(IIa)又は(IIb)
で示される重合体成分を少なくとも1種含有する重合体
主鎖の一方の末端にのみ結合して成る、重量平均分子量
2×104以下のものである。The monofunctional macromonomer (M) is formed by adding a polymerizable double bond group represented by the general formula (I) to the general formula (IIa) or (IIb)
Having a weight-average molecular weight of 2 × 10 4 or less which is bonded to only one end of a polymer main chain containing at least one polymer component represented by the formula:
一般式(I)、(IIa)及び(IIb)において、a1,
a2、V、b1,b2、X0、Q0及びQに含まれる炭化水素基は
各々示された炭素数(未置換の炭化水素基としての)を
有するが、これら炭化水素基は置換基を有していてもよ
い。In the general formulas (I), (IIa) and (IIb), a 1 ,
The hydrocarbon groups contained in a 2 , V, b 1 , b 2 , X 0 , Q 0 and Q each have the indicated carbon number (as an unsubstituted hydrocarbon group). It may have a substituent.
マクロモノマー(M)を示す一般式(I)において、
Vは−COO−,−OCO−,−CH2OCO−,−CH2COO−,−O
−,−SO2−,−CO−, を表わす。ここでR1は、水素原子のほか、好ましい炭化
水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエ
チル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキ
シエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18
の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル
−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル
基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル
基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル
−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてい
てもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2
−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジ
ル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル
基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例
えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル
基、2−シクロペンチルエチル基等)又は、炭素数6〜
12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、
ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシル
フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル
基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等)があげられる。In the general formula (I) representing the macromonomer (M),
V is -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O
−, −SO 2 −, −CO−, Represents Here, in addition to a hydrogen atom, R 1 is preferably a hydrocarbon group which may be a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, a hexyl group). Group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2
-Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), having 4 to 18 carbon atoms.
Optionally substituted alkenyl groups (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2 -Hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group and the like, and optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group,
-Naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (E.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or C6-C6.
12 optionally substituted aromatic groups (for example, phenyl group,
Naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, decyloxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, bromophenyl Group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc.).
Vが を表わす場合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。
置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素
原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル
基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。V is When represented by, the benzene ring may have a substituent.
Examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group, Ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.).
a1及びa2は、互いに同じでも異なっていてもよく、好
ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、
臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COO−Z又は炭化水素を介したCOOZ(Zは、水
素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、アルケニル基、
アラルキル基、脂環式基又はアリール基を表わし、これ
らは置換されていてもよく、具体的には、上記R1につい
て説明したものと同様の内容を表わす)を表わす。a 1 and a 2 may be the same or different from each other, preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom,
Bromine atom, etc.), cyano group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), -COO-Z or COOZ through hydrocarbon (Z is a hydrogen atom) Or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group,
Represents an aralkyl group, an alicyclic group or an aryl group, which may be substituted, specifically, represent represent) the same contents as those described above R 1.
上記炭化水素を介して−COO−Z基における炭化水素
としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が
挙げられる。Examples of the hydrocarbon in the -COO-Z group through the above hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and the like.
更に好ましくは、一般式(I)において、Vは、−CO
O−,−OCO−,−CH2OCO−,−CH2COO−,−O−,−CO
NH−,−SO2NH−又は を表わす。a1,a2は互いに同じでも異なってもよく、水
素原子、メチル基、−COOZ又は−CH2COOZ(Zは、水素
原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)を表
わす。更により好ましくはa1,a2においていずれか一方
が必ず水素原子を表わす。More preferably, in the general formula (I), V is -CO
O -, - OCO -, - CH 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - CO
NH -, - SO 2 NH- or Represents a 1 and a 2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a methyl group, —COOZ or —CH 2 COOZ (Z is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.). Even more preferably, one of a 1 and a 2 always represents a hydrogen atom.
即ち、一般式(I)で表わされる重合性二重結合基と
して、具体的には、 等が挙げられる。That is, as the polymerizable double bond group represented by the general formula (I), specifically, Etc.
一般式(IIa)において、X0は式(I)中のVと同一の
内容を表わす。In formula (IIa), X 0 has the same meaning as V in formula (I).
b1,b2は互いに同じでも異なってもよく、式(I)中
のa1,a2と同一の内容を表わす。b 1 and b 2 may be the same or different and represent the same contents as a 1 and a 2 in the formula (I).
Q0は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳
香族基を表わす。Q 0 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms.
具体的には、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
−ヒドロキシルエチル基、2−メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、2−シアノエチル基、3−クロロプ
ロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、2−
テトラヒドロフリル基、2−チエニルエチル基、2−N,
N−ジメチルアミノエチル基、2−N,N−ジエチルアミノ
エチル基等)、炭素数5〜8のシクロアルキル基(例え
ばシクロヘプチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチ
ル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル
基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプ
ロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基、ジクロロベンジ
ル基、メチルベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル
基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、メト
キシベンジル基等)等の脂肪族基が挙げられる。Specifically, an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group,
Dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2
-Hydroxylethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-
Ethoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2- (trimethoxysilyl) ethyl group, 2-
Tetrahydrofuryl group, 2-thienylethyl group, 2-N,
N-dimethylaminoethyl group, 2-N, N-diethylaminoethyl group, etc.), cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms (eg, cycloheptyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, etc.), substitution having 7 to 12 carbon atoms An aralkyl group which may be represented (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group,
Aliphatic groups such as chlorobenzyl group, bromobenzyl group, dichlorobenzyl group, methylbenzyl group, chloro-methyl-benzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group and methoxybenzyl group).
更に炭素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例
えばフェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、ジクロロフェニル基、クロロ
−メチル−フェニル基、メトキシフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基
等)等の芳香族基が挙げられる。Further, an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, dichlorophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group). , Naphthyl group, chloronaphthyl group, etc.) and the like.
式(IIa)において好ましくは、X0は−COO−,−OCO
−,−CH2COO−,−CH2OCO−,−O−,−CO−,−CONH
−,−SO2NH−又は を表わす。In the formula (IIa), X 0 is preferably -COO-, -OCO
-, - CH 2 COO -, - CH 2 OCO -, - O -, - CO -, - CONH
−, −SO 2 NH− or Represents
b1,b2の好ましい例は、前記したa1,a2と同様の内容を
表わす。Preferred examples of b 1 and b 2 represent the same contents as those of a 1 and a 2 described above.
式(IIb)において、Qは−CN、−CONH2又は を表わし、Yは水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原
子、臭素原子等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基等)又は−COOR′(R′は好ましくは炭素数
1〜8のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基、又
はアリール基を表わす)を表わす。In the formula (IIb), Q represents —CN, —CONH 2 or Represents a hydrogen atom, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group,
Ethoxy group) or -COOR '(R' is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, or an aryl group).
マクロモノマー(M)は、式(IIa)又は(IIb)で示
される重合体成分を2種以上含有していてもよい。又式
(IIa)においてQ0が脂肪族基の場合、炭素数6〜12の
脂肪族基は、マクロモノマー(M)中の全重合体成分中
の20重量%を越えない範囲で用いることが好ましい。The macromonomer (M) may contain two or more polymer components represented by the formula (IIa) or (IIb). Further, when Q 0 is an aliphatic group in the formula (IIa), the aliphatic group having 6 to 12 carbon atoms should be used within a range not exceeding 20% by weight based on the total polymer components in the macromonomer (M). preferable.
更には、一般式(IIa)におけるX0が−COO−である場
合には、マクロモノマー(M)中の全重合体成分中、式
(IIa)で示される重合体成分が少なくとも30重量%以
上含有されることが好ましい。Further, when X 0 in the general formula (IIa) is —COO—, the polymer component represented by the formula (IIa) is at least 30% by weight or more in all the polymer components in the macromonomer (M). It is preferable to be contained.
又、マクロモノマー(M)において、式(IIa)及び
/又は(IIb)で示される重合体成分とともに共重合さ
れうる繰り返し単位に相当する単量体として、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン及びその誘導体(例えばビ
ニルトルエン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブ
ロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、N,N−ジメ
チルアミノメチルスチレン等)、複素環ビニル類(例え
ばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリ
ドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジ
オキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。Further, in the macromonomer (M), acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamides, methacryl, etc. may be used as a monomer corresponding to a repeating unit that can be copolymerized with the polymer component represented by the formula (IIa) and / or (IIb). Amides, styrene and derivatives thereof (eg vinyltoluene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, hydroxymethylstyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, etc.), heterocyclic vinyls (eg vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone) , Vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.) and the like.
本発明において供されるマクロモノマーは、上述の如
き、一般式(IIa)及び/又は(IIb)で示される繰返し
単位から成る重合体主鎖の一方の末端にのみ、一般式
(I)で示される重合性二重結合基が、直接結合する
か、あるいは、任意の連結基で結合された化学構造を有
するものである。式(I)成分と式(IIa)又は(IIb)
成分を連結する基としては、炭素−炭素結合(一重結合
あるいは二重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原
子としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、
ケイ素原子等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団
の任意の組合せで構成されるものである。The macromonomer used in the present invention is represented by the general formula (I) only at one end of the polymer main chain composed of the repeating units represented by the general formulas (IIa) and / or (IIb) as described above. The polymerizable double bond group has a chemical structure in which it is directly bonded or bonded with an arbitrary linking group. Formula (I) component and formula (IIa) or (IIb)
The group connecting the components, carbon-carbon bond (single bond or double bond), carbon-heteroatom bond (hetero atoms include, for example, oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom,
Silicon atom, etc.), and any combination of heteroatom-heteroatom bond atomic groups.
本発明のマクロモノマー(M)のうち好ましいものは
式(Va)又は(Vb)で示される如きものである。Preferred among the macromonomers (M) of the present invention are those represented by the formula (Va) or (Vb).
式(Va)又は(Vb)中、a1,a2,b1,b2,V,X0,Q0,Qは各
々、式(I)、式(IIa)及び式(IIb)において説明し
たものと同一の内容を表わす。 In formula (Va) or (Vb), a 1 , a 2 , b 1 , b 2 , V, X 0 , Q 0 , Q are respectively described in formula (I), formula (IIa) and formula (IIb). Indicates the same content as the one that was done.
Wは、単なる結合または、 〔R2,R3は、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシ
ル基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基等)等を示す〕、 CH=CH, −O−,−S−, −COO−,−SO2−, −NHCOO−,−NHCONH−, [R4は、水素原子、前記式(IIa)におけるQ0と同様の
内容を表わす炭化水素基を示す]等の原子団から選ばれ
た単独の連結基もしくは任意の組合せで構成された連結
基を表わす。W is a simple bond or [R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), cyano group, hydroxyl group, alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), etc. ], CH = CH, -O-, -S-, −COO−, −SO 2 −, -NHCOO-, -NHCONH-, [R 4 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having the same meaning as Q 0 in the above formula (IIa)] or a single linking group selected from atomic groups or a linking group composed of any combination. Represents
マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×104を
超えると、式(III)で示されるモノマーとの共重合性
が低下する。他方、分子量が小さすぎると感光層の電子
写真特性の向上効果が小さくなるので、1×103以上で
あることが好ましい。When the weight average molecular weight of the macromonomer (M) exceeds 2 × 10 4 , copolymerizability with the monomer represented by the formula (III) decreases. On the other hand, if the molecular weight is too small, the effect of improving the electrophotographic characteristics of the photosensitive layer becomes small, so 1 × 10 3 or more is preferable.
本発明のマクロモノマー(M)は、従来公知の合成方
法によって製造することができる。例えば、アニオン重
合あるいはカチオン重合によって得られるリビングポリ
マーの末端に種々の試薬を反応させてマクロマーとする
イオン重合法による方法、分子中に、カルボキシル基、
ヒドロキシル基、アミノ基等の反応性基を含有した重合
開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル重合し
て得られる末端反応性基結合のオリゴマーと種々の試薬
を反応させてマクロマーにするラジカル重合法による方
法、重付加あるいは重縮合反応により得られたオリゴマ
ーに上記ラジカル重合方法と同様にして、重合性二重結
合基を導入する重付加縮合法による方法等が挙げられ
る。The macromonomer (M) of the present invention can be produced by a conventionally known synthesis method. For example, a method by an ionic polymerization method of reacting various reagents to the end of a living polymer obtained by anionic polymerization or cationic polymerization to form a macromer, a carboxyl group in the molecule,
Using a polymerization initiator and / or a chain transfer agent containing a reactive group such as a hydroxyl group and an amino group, an oligomer having a terminal reactive group bond obtained by radical polymerization is reacted with various reagents to form a macromer. A method by a radical polymerization method, a method by a polyaddition condensation method in which a polymerizable double bond group is introduced into an oligomer obtained by a polyaddition or polycondensation reaction in the same manner as the above-mentioned radical polymerization method, and the like can be mentioned.
具体的には、P.Dreyfuss & R.P.Quirk,Encycl,Poly
m.Sci.Eng.,7,551(1987),P.F.Rempp E.Franta,Adu.,P
olym.Sci.58,1(1984),V.Percec,Appl.,Polym.Sci.,28
5,95(1984),R.Asami,M.TakaRi,Makvamol.Chem.Suppl.
12,163(1985),P.Rempp.etal,Makvamol,Chem.Suppl.8,
3(1984),川上雄資、化学工業、38,56(1987)、山下
雄也、高分子、31,988(1982),小林四郎、高分子、3
0,625(1981)、東村敏延、日本接着協会誌18,536(198
2)、伊藤浩一、高分子加工、35,262(1986)、東貴四
郎、津田隆、機能材料、1987No.10,5等の総説及びそれ
に引例の文献・特許等に記載の方法に従って合成するこ
とができる。Specifically, P.Dreyfuss & RPQuirk, Encycl, Poly
m.Sci.Eng., 7 , 551 (1987), PFRempp E.Franta, Adu., P
olym.Sci. 58 , 1 (1984), V.Percec, Appl., Polym.Sci., 28
5 , 95 (1984), R. Asami, M. TakaRi, Makvamol. Chem. Suppl.
12 , 163 (1985), P.Rempp.etal, Makvamol, Chem.Suppl. 8 ,
3 (1984), Kawakami press, chemical industry, 38, 56 (1987), Yuya Yamashita, polymeric, 31, 988 (1982), Shiro Kobayashi, polymer, 3
0, 625 (1981), Higashimura Satoshinobe, Journal of the Adhesion Society of Japan 18, 536 (198
2), Koichi Ito, polymer processing, 35, 262 (1986), AzumaTakashi Shiro, Takashi Tsuda, functional material, synthesized according to the method described in the review and its literature, patents, etc. references such as 1987 Nanba10,5 can do.
本発明のマクロモノマー(M)は、よく具体的には、
下記の化合物を例として挙げることができる。但し、本
発明の範囲は、これらに限定されるものではない。The macromonomer (M) of the present invention is specifically, specifically,
The following compounds may be mentioned as examples. However, the scope of the present invention is not limited to these.
前記したマクロモノマー(M)を共重合する単量体
は、一般式(III)で示される。式(III)において、
c1,c2は、互いに同じでも異なってもよく、式(I)のa
1,a2と同一の内容を表わす。X1は式(IIa)のX0と、Q1
は式(IIa)のQ0と各々同一の内容を表わす。 The monomer that copolymerizes the macromonomer (M) is represented by the general formula (III). In formula (III),
c 1 and c 2 may be the same or different from each other, and a in the formula (I)
1 represents a 2 same content as. X 1 is X 0 in formula (IIa) and Q 1
Represents the same contents as Q 0 in formula (IIa).
更に、本発明の樹脂〔B〕は、前記したマクロモノマ
ー(M)及び一般式(III)の単量体とともに、これら
以外の他の単量体を共重合成分として含有してもよい。Further, the resin [B] of the present invention may contain, in addition to the macromonomer (M) and the monomer of the general formula (III), other monomers other than these as a copolymerization component.
例えば、樹脂〔A〕で前記した式(IV)で表わされる
ビニル系化合物、α−オレフィン類、アクリロニトリ
ル、メタクリルニトリル、アクリルアミド、メタクリル
アミド、スチレン、ビニル基含有ナフタレン化合物(例
えばビニル−ナフタレン、1−イソペロペニルナフタリ
ン等)ビニル基含有複素環化合物(例えばビニルピリジ
ン、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニル−テ
トラヒドロフラン、ビニル−1,3−ジオキソラン、ビニ
ルイミダゾール、ビニルチアゾール、ビニルオキサゾリ
ン等)等の化合物が挙げられる。For example, the vinyl compound represented by the above formula (IV) in the resin [A], α-olefins, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, methacrylamide, styrene, vinyl group-containing naphthalene compound (for example, vinyl-naphthalene, 1- Compounds such as isoperopenylnaphthalene, etc.) vinyl group-containing heterocyclic compounds (for example, vinyl pyridine, vinyl pyrrolidone, vinyl thiophene, vinyl-tetrahydrofuran, vinyl-1,3-dioxolane, vinyl imidazole, vinyl thiazole, vinyl oxazoline, etc.) To be
樹脂〔B〕において、マクロマー(M)を繰り返し単
位とする共重合成分と、一般式(III)で示される単量
体を繰り返し単位とする共重合成分の組成比は、1〜90
/99〜10(重量組成比)であり、好ましくは5〜60/95〜
40重量組成比である。In the resin [B], the composition ratio of the copolymer component having a macromer (M) as a repeating unit and the copolymer component having a monomer represented by the general formula (III) as a repeating unit is 1 to 90.
/ 99 to 10 (weight composition ratio), preferably 5 to 60/95 to
40 weight composition ratio.
他の共重合成分として、「酸性基を含有するビニル系
化合物」を繰り返し単位として含有することができる
が、その場合、該酸性基含有共重合成分は共重合体中の
10重量%を越えない事が好ましい。As another copolymerization component, a “vinyl compound containing an acidic group” can be contained as a repeating unit. In that case, the acidic group-containing copolymerization component is contained in the copolymer.
It is preferable not to exceed 10% by weight.
該酸性基含有成分が10重量%を越えると、無機光導電
体粒子との相互作用が著しくなり、感光体表面の平滑性
が阻害され、結果として、電子写真特性(特に、帯電
性、暗中電荷保持性)が悪化してしまう。If the content of the acidic group-containing component exceeds 10% by weight, the interaction with the inorganic photoconductor particles becomes remarkable, and the smoothness of the photoreceptor surface is impaired. As a result, electrophotographic properties (particularly, chargeability, charge in the dark) (Retention) is deteriorated.
更に、本発明の好ましい態様として用いることのでき
る樹脂〔B′〕は、一般式(III)で示される繰り返し
単位を少なくとも1種及びマクロモノマー(M)で示さ
れる繰り返し単位を少なくとも1種含有する重合体主鎖
の片末端にのみ、−PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、−O
H基、SH基及びPO3R″H基から選ばれる少なくとも一つ
の酸性基を結合して成る重合体である。Further, the resin [B ′] that can be used as a preferred embodiment of the present invention contains at least one repeating unit represented by the general formula (III) and at least one repeating unit represented by the macromonomer (M). at one end of the polymer main chain only, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, -O
It is a polymer formed by bonding at least one acidic group selected from H group, SH group and PO 3 R ″ H group.
ここで、−PO3R″H基におけるR″に炭化水素基を表
わし、具体的には前記のRにて記載した炭化水素基を具
体例として挙げることができる。Here, a hydrocarbon group is represented by R ″ in the —PO 3 R ″ H group, and specific examples thereof include the hydrocarbon groups described above for R.
又、上記酸性基を重合体主鎖の片端に結合する場合に
は、重合体主鎖中にカルボキシル基、スルホ基、ヒドロ
キシル基、ホスホノ基の極性基を含有する共重合成分を
含有しないことが好ましい。樹脂〔B′〕において、上
記酸性基は重合体主鎖の一方の末端に直接結合するか、
あるいは任意の連結基を介して結合した化学構造を有す
る。When the acidic group is bonded to one end of the polymer main chain, the polymer main chain may not contain a copolymerization component containing a polar group such as a carboxyl group, a sulfo group, a hydroxyl group and a phosphono group. preferable. In the resin [B ′], the acidic group is directly bonded to one end of the polymer main chain,
Alternatively, it has a chemical structure linked via an arbitrary linking group.
結合基としては炭素−炭素結合(一重結合あるいは二
重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子としては
例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子
等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の任意の組
合せで構成されるものである。例えば、 (R5、R6は前記のR2、R3と同一の内容を表わす)、CH
=CH, −O−、−S−、 −COO−、−SO2−、 −NHCOO−、−NHCONH−、 (R7は、前記のR4と同一の内容を表わす)等の原子団か
ら選ばれた単独の連結基又は任意の組合せで構成された
連結基等が挙げられる。Examples of the bonding group include a carbon-carbon bond (single bond or double bond), a carbon-heteroatom bond (for example, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a silicon atom), and a heteroatom-heteroatom bond. It is composed of any combination of atomic groups. For example, (R 5 and R 6 represent the same contents as R 2 and R 3 above), CH
= CH, -O-, -S-, -COO -, - SO 2 -, -NHCOO-, -NHCONH-, (R 7 represents the same content as R 4 described above), and a single linking group selected from atomic groups or a linking group composed of any combination.
樹脂〔B′〕において重合体主鎖の片末端にのみに結
合する該酸性基の含有量は、樹脂〔B′〕100重量部当
り好ましくは0.1〜15重量%、より好ましくは0.5〜10重
量%である。0.1重量%未満では膜強度の向上効果が小
さくなり、15重量%以上では光導電体分散物の調整時に
光導電体が均一に分散されず、凝集が生じ、均一な塗膜
が形成されなくなる。In the resin [B '], the content of the acidic group bonded only to one end of the polymer main chain is preferably 0.1 to 15% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight per 100 parts by weight of the resin [B']. %. If the amount is less than 0.1% by weight, the effect of improving the film strength is small, and if the amount is 15% by weight or more, the photoconductor is not uniformly dispersed at the time of preparing the photoconductor dispersion, so that aggregation occurs, and a uniform coating film is not formed.
重合体主鎖の片末端にのみ特定の酸性基を結合して成
る本発明の樹脂〔B′〕は、従来公知のアニオン重合あ
るいはカチオン重合によって得られるリビングポリマー
の末端の種々の試薬を反応させる方法(イオン重合法に
よる方法)、分子中に特定の酸性基を含有した重合開始
剤及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合させる方
法(ラジカル重合法による方法)、あるいは以上の如き
イオン重合法もしくはラジカル重合法によって得られた
末端に反応性基含有の重合体を高分子反応によって本発
明の特定の酸性基に変換する方法等の合成法によって容
易に製造することができる。The resin [B '] of the present invention comprising a specific acidic group bonded to only one terminal of the polymer main chain is reacted with various reagents at the terminal of a living polymer obtained by conventionally known anionic or cationic polymerization. Method (method by ionic polymerization), method of radical polymerization using a polymerization initiator and / or chain transfer agent containing a specific acidic group in the molecule (method by radical polymerization), or ionic polymerization as described above Alternatively, it can be easily produced by a synthesis method such as a method of converting a polymer having a terminal reactive group obtained by a radical polymerization method into a specific acidic group of the present invention by a polymer reaction.
具体的には、P.Dreyfuss,R.P.Quirk,Encycl.Polym.Sc
i.Eng,7、551(1987)、中條善樹、山下雄也「染料と薬
品」、30、232(1985)、上田明、永井進「科学と工
業」60、57(1986)等の総説及びそれに引用の文献等に
記載の方法によって製造することができる。Specifically, P.Dreyfuss, RPQuirk, Encycl.Polym.Sc
Review articles such as i.Eng, 7 , 551 (1987), Yoshiki Chujo, Yuya Yamashita, "Dyes and Chemicals", 30 , 232 (1985), Akira Ueda, Susumu Nagai, "Science and Industry" 60 , 57 (1986), etc. It can be produced by the method described in the cited document or the like.
本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂〔B〕(〔B′〕も
含む)の使用量の割合は、使用する無機光導電材料の種
類、粒径、表面状態によって異なるが一般に樹脂〔A〕
と樹脂〔B〕の用いる割合は5〜80対95〜20(重量比)
であり、好ましくは10〜60対90〜40(重量比)である。The ratio of the amount of the resin [A] used in the present invention to the amount of the resin [B] (including [B ']) varies depending on the type, particle size and surface state of the inorganic photoconductive material used, but generally the resin [A]
And the ratio of resin [B] used is 5 to 80:95 to 20 (weight ratio)
And preferably 10 to 60 to 90 to 40 (weight ratio).
本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜
鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カド
ミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化
テルル、硫化鉛、等が挙げられる。Examples of the inorganic photoconductive material used in the present invention include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide and lead sulfide.
無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光
導電体100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重量部な
る割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で使用する。The total amount of the binder resin used for the inorganic photoconductive material is 10 to 100 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photoconductor.
本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤と
して併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀
彦、イメージング1973(No.8)第12頁、C.J.Young等,RC
A Review15,469(1954),清田航平等、電気通信学会論
文誌J 63-C(No.2),97(1980)、原崎勇次等、工業化
学雑誌66 78及び188(1963),谷忠昭,日本写真学会誌
35,208(1972)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジ
フェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、キサン
テン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例え
ば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタロシア
ニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられる。In the present invention, various dyes can be used together as a spectral sensitizer, if necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No.8) page 12, CJ Young et al., RC
A Review 15 , 469 (1954), Kouhei Kiyota, The Institute of Electrical Communication, J 63-C (No.2), 97 (1980), Yuji Harasaki, etc., Journal of Industrial Chemistry 66 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani. , Journal of the Photographic Society of Japan
35, 208 (1972) carbonium-based dyes review references such as, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (e.g., oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes And the like, and phthalocyanine dyes (which may contain metals).
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニル
メタン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素を中
心に用いたものとしては、特公昭51-452号、特開昭50-9
0334号、特開昭50-114227号、特開昭53-39130号、特開
昭53-82353号、米国特許第3,052,540号、米国特許第4,0
54,450号、特開昭57-16456号等に記載のものが挙げられ
る。More specifically, examples of those mainly using a carbonium dye, a triphenylmethane dye, a xanthene dye, and a phthalein dye are described in JP-B-51-452 and JP-A-50-9.
0334, JP-A-50-114227, JP-A-53-39130, JP-A-53-82353, U.S. Pat.No. 3,052,540, U.S. Pat.No. 4,0
54,450 and JP-A-57-16456.
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F.
M.Harmmar「The Cyanine Dyes and Related Compound
s」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許第3,047,384号、米国特許第3,110,591号、
米国特許第3,121,008号、米国特許第3,125,447号、米国
特許第3,128,179号、米国特許第3,132,942号、米国特許
第3,622,317号、米国特許第1,226,892号、英国特許第1,
309,274号、英国特許第1,405,898号、特公昭48-7814
号、特公昭55-18892号等に記載の色素が挙げられる。As polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes, F.
M. Harmmar `` The Cyanine Dyes and Related Compound
s '' and the like can be used, and more specifically, U.S. Pat.No. 3,047,384, U.S. Pat.No.3,110,591,
U.S. Patent 3,121,008, U.S. Patent 3,125,447, U.S. Patent 3,128,179, U.S. Patent 3,132,942, U.S. Patent 3,622,317, U.S. Patent 1,226,892, U.K. Patent 1,
No. 309,274, UK Patent No. 1,405,898, JP-B-48-7814
And the dyes described in JP-B-55-18892.
更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭47-840号、特開
昭47-44180号、特公昭51-41061号、特開昭49-5034号、
特開昭49-45122号、特開昭57-46245号、特開昭56-35141
号、特開昭57-157254号、特開昭61-26044号、特開昭61-
27551号、米国特許第3,619,154号、米国特許第4,175,95
6号、「Research Disclosure」1982年、216、第117〜11
8頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体は種
々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素によ
り変動しにくい点において優れている。更には、必要に
応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真感光
層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、前記
した総説:イメージング1973(No.8)第12頁等の総説引
例の電子受容性化合物(例えば、ハロゲン、ベンゾキノ
ン、クロラニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門
宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第
4章〜第6章:日本科学情報(株)出版部(1986年)の
総説引例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダートフ
ェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙
げられる。Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near-infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-47-840, JP-A-47-44180, JP-B-51-41061, Sho 49-5034,
JP-A-49-45122, JP-A-57-46245, JP-A-56-35141
No., JP-A-57-157254, JP-A-61-26044, JP-A-61-26044
27551, U.S. Pat.No. 3,619,154, U.S. Pat.No. 4,175,95
No. 6, "Research Disclosure", 1982, 216, Nos. 117-11
Those described on page 8 and the like can be mentioned. The photoconductor of the present invention is excellent in that the performance thereof hardly changes depending on the sensitizing dye even when various sensitizing dyes are used in combination. Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers can be used in combination. For example, the above-mentioned review articles: Electron accepting compounds (for example, halogen, benzoquinone, chloranil, acid anhydride, organic carboxylic acid, etc.) described in the review articles such as Imaging 1973 (No. 8), page 12, etc .; Recent Developments and Practical Applications of Photoconductive Materials and Photoconductors "Chapters 4 to 6: Polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p- And phenylenediamine compounds.
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではない
が、通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.0重量部
である。The addition amount of these various additives is not particularly limited, but is usually 0.0001 to 2.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photoconductor.
光導電層の厚さは1〜100μ、特には10〜50μが好適
である。The thickness of the photoconductive layer is preferably 1 to 100 μ, particularly 10 to 50 μ.
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷
発生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚
さは0.01〜1μ、特には0.05〜0.5μが好適である。When the photoconductive layer is used as the charge generation layer of the laminated type photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is preferably 0.01 to 1 μm, particularly preferably 0.05 to 0.5 μm.
感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主
目的として絶縁層を付設させる場合もある。この時は絶
縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プ
ロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設
定される。In some cases, an insulating layer is additionally provided for the purpose of protecting the photoreceptor and improving durability and dark decay characteristics. At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and the insulating layer provided when the photoconductor is used in a specific electrophotographic process is set to be relatively thick.
後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、10
〜50μに設定される。In the latter case, the thickness of the insulating layer is 5 to 70μ, especially 10
Set to ~ 50μ.
積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカル
バゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、ト
リフェニルメタン系色素などがある。電荷輸送層の厚さ
としては5〜40μ、特には10〜30μが好適である。Examples of the charge transport material for the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes and the like. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 μ, particularly 10 to 30 μ.
絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂として
は、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル
樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酸ビ共重合体樹脂、ポリ
アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポ
リエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコ
ン樹脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられ
る。Typical resins used for forming the insulating layer or the charge transport layer are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl chloride copolymer resin, Thermoplastic resins and curable resins such as polyacrylic resins, polyolefin resins, urethane resins, polyester resins, epoxy resins, melamine resins, and silicone resins are appropriately used.
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設け
ることができる。一般に云って電子写真感光層の支持体
は、導電性であることが好ましく、導電性支持体として
は、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチック
シート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導
電処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対
面)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目
的で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体
の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面
層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が
設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, for example, a substrate such as metal, paper or plastic sheet is impregnated with a low resistance substance as in the conventional case. Those which have been subjected to a conductive treatment, such as those which have been subjected to a conductivity treatment, those which are provided with conductivity on the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided), and have at least one layer coated for the purpose of preventing curling, Water-resistant adhesive layer provided on the surface of the body, at least one precoat layer provided on the surface layer of the support, if necessary, laminate of electroconductive plastic substrate onto which Al or the like is vapor-deposited on paper Those that have been made can be used.
具体的に、導電体基体あるいは導電化材料の例とし
て、坂本幸男,電子写真,14,(No.1),p2〜11(197
5)、森賀弘之,「入門特殊紙の化学」高分子刊行会(1
975),M.F.Hoover,J.Macromol.Sci.Chem.A−4(6),
第1327〜1417頁(1970)等に記載されているもの等を用
いる。Specifically, as an example of a conductor substrate or a conductive material, Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No. 1), p2-11 (197)
5), Hiroyuki Moriga, “Introduction to Special Paper Chemistry”, Polymer Society (1
975), MF Hoover, J. Macromol. Sci. Chem. A-4 (6),
Those described on pages 1327 to 1417 (1970) and the like are used.
(実施例) 以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容が
これらに限定されるものではない。(Examples) Examples of the present invention will be illustrated below, but the contents of the present invention are not limited thereto.
樹脂〔A〕の合成例1:樹脂〔A〕−1 ベンジルメタアクリレート95g及びトルエン200gの混
合溶液を窒素気流下90℃の温度に加温した後、4,4′−
アゾビス(4−シアノ吉草酸)(以下略号A.B.C.Vとす
る)5gを加え、10時間反応させた。Synthesis Example of Resin [A] 1: Resin [A] -1 A mixed solution of 95 g of benzyl methacrylate and 200 g of toluene was heated to a temperature of 90 ° C. under a nitrogen stream, and then 4,4′-
5 g of azobis (4-cyanovaleric acid) (hereinafter abbreviated as ABCV) was added and reacted for 10 hours.
得られた重合体〔A〕−1の重量平均分子量は8,300
であった。The weight average molecular weight of the obtained polymer [A] -1 was 8,300.
Met.
樹脂〔A〕の合成例2:樹脂〔A〕−2 エチルメタクリレート95g、チオグリコール酸5g、及
びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下75℃の温度に加
温した後、アゾビスイソブチロニトリル1.0gを加え8時
間反応させた。Synthesis Example 2 of Resin [A]: Resin [A] -2 A mixed solution of 95 g of ethyl methacrylate, 5 g of thioglycolic acid, and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream, and then azobisisobutyronitrile. 1.0g was added and it was made to react for 8 hours.
得られた重合体〔A〕−2の重量平均分子量は7800で
あった。The weight average molecular weight of the obtained polymer [A] -2 was 7,800.
樹脂〔A〕の合成例3〜8:樹脂〔A〕−3〜15 樹脂〔A〕の合成例2において用いたチオグリコール
酸を表−1の化合物に代えた他は、合成例2と同様の条
件にして各重合体〔A〕を合成した。Synthetic Examples 3 to 8 of Resin [A]: Resin [A] -3 to 15 The same as Synthetic Example 2 except that the thioglycolic acid used in Synthetic Example 2 of Resin [A] is replaced with the compound of Table-1. Each polymer [A] was synthesized under the conditions of.
樹脂〔A〕の合成例16:樹脂〔A〕−16n−プロピルメタ
クリレート95g及びテトラヒドロフラン200gの混合物を
窒素気流下70℃の温度に加温した後、4,4′−ア合ビス
(4−シアノ吉草酸クロライド)6gを加え10時間反応さ
せた。次に、温度10℃以下に冷却した後攪拌下にピリジ
ン3gを加え更に、グリコール酸4gおよびアセトン10mlの
混合溶液を温度が10℃を越えない様に滴下した。そのま
ま1時間反応させた後、温度20℃で4時間反応させた。 Synthesis Example 16 of Resin [A]: A mixture of 95 g of Resin [A] -16n-propylmethacrylate and 200 g of tetrahydrofuran was heated to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream, and then 4,4′-acylbis (4-cyano) was used. 6 g of valeric acid chloride) was added and reacted for 10 hours. Next, after cooling to a temperature of 10 ° C. or lower, 3 g of pyridine was added with stirring, and a mixed solution of 4 g of glycolic acid and 10 ml of acetone was added dropwise so that the temperature did not exceed 10 ° C. After reacting for 1 hour as it was, it was reacted for 4 hours at a temperature of 20 ° C.
反応混合物をメタノール2l中に再沈し、溶液をデカン
テーションで除去し、粘潤物を乾燥した。The reaction mixture was reprecipitated in 2 l of methanol, the solution was decanted off and the viscous material was dried.
得られた重合体の重量平均分子量は10,800であった。 The weight average molecular weight of the obtained polymer was 10,800.
樹脂〔A〕の合成例17〜27:樹脂〔A〕−17〜27 樹脂〔A〕の合成例2において用いたエチルメタクリ
レート及びチオグリコール酸を各々表−2の化合物に代
えた他は、合成例2と同様の条件に操作して各重合体
〔A〕を合成した。Synthesis Examples 17 to 27 of Resin [A]: Resins [A] -17 to 27 Synthesis was carried out except that the ethyl methacrylate and thioglycolic acid used in Synthesis Example 2 of Resin [A] were replaced with the compounds of Table 2 respectively. By operating under the same conditions as in Example 2, each polymer [A] was synthesized.
マクロモノマーの製造例1:M−1 メチルメタクリレート95g、チオグリコール酸5g及び
トルエン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら、
温度75℃に加温した。2,2′−アゾビス(シアノ吉草
酸)(略称A.C.V.)1.0gを加え、8時間反応した。次に
この反応溶液にグリシジルメタクリレート8g、N,N−ジ
メチルドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロキノ
ン0.5gを加え、温度100℃にて、12時間攪拌した。冷却
後この反応溶液をメタノール2l中に再沈し、白色粉末を
82g得た。重合体(M−1)の数平均分子量は6,500であ
った。 Production Example 1 of Macromonomer 1: A mixed solution of 95 g of M-1 methyl methacrylate, 5 g of thioglycolic acid, and 200 g of toluene was stirred under a nitrogen stream.
The temperature was raised to 75 ° C. 1.0 g of 2,2'-azobis (cyanovaleric acid) (abbreviated as ACV) was added and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate, 1.0 g of N, N-dimethyldodecylamine and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to the reaction solution, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C. for 12 hours. After cooling, the reaction solution was re-precipitated in 2 l of methanol, and a white powder was obtained.
82 g were obtained. The number average molecular weight of the polymer (M-1) was 6,500.
マクロモノマーの製造例2:M−2 メチルメタクリレート95g、チオグリコール酸5g及び
トルエン200gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら、温
度70℃に加温した。2,2′−アゾビス(イソブチルニト
リル)(略称A.I.B.N.)1.5gを加え、8時間反応した。
次にこの反応溶液に、グリシジルメタクリレート7.5g、
N,N−ジメチルドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハイ
ドロキノン0.8gを加え、温度100℃にて、12時間攪拌し
た。冷却後、この反応溶液をメタノール2l中に再沈し、
無色透明の粘稠物85gを得た。重合体(M−2)の数平
均分子量は2,400であった。Production Example 2 of Macromonomer: A mixed solution of 95 g of M-2 methyl methacrylate, 5 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to 70 ° C while stirring under a nitrogen stream. 1.5 g of 2,2'-azobis (isobutylnitrile) (abbreviation: AIBN) was added and reacted for 8 hours.
Next, to this reaction solution, 7.5 g of glycidyl methacrylate,
1.0 g of N, N-dimethyldodecylamine and 0.8 g of t-butylhydroquinone were added, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C. for 12 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in 2 l of methanol,
85 g of a colorless and transparent viscous substance was obtained. The number average molecular weight of the polymer (M-2) was 2,400.
マクロモノマーの製造例3:M−3 プロピルメタクリレート94g、2−メルカプトエタノ
ール6g、トルエン200gの混合溶液を窒素気流下温度70℃
に加温した。A.I.B.N.1.2gを加え、8時間反応した。Production Example 3 of Macromonomer: A mixed solution of 94 g of M-3 propyl methacrylate, 6 g of 2-mercaptoethanol and 200 g of toluene was heated to 70 ° C. under a nitrogen stream.
Was heated. 1.2 g of AIBN was added and reacted for 8 hours.
次にこの反応溶液を水浴中で冷却して温度20℃とし、
トリエチルアミン10.2gを加え、メタクリル酸クロライ
ド14.5gを温度25℃以下で攪拌下して滴下した。滴下後
そのまま1時間更に攪拌した。その後、t−ブチルハイ
ドロキノン0.5gを加え温度60℃に加温し、4時間攪拌し
た。冷却後、メタノール2l中に再沈し、無色透明な粘稠
物79gを得た。重合体(M−3)の数平均分子量は4,500
であった。The reaction solution is then cooled in a water bath to a temperature of 20 ° C,
Triethylamine (10.2 g) was added, and methacrylic acid chloride (14.5 g) was added dropwise with stirring at a temperature of 25 ° C. or lower. After dropping, the mixture was further stirred for 1 hour as it was. Thereafter, 0.5 g of t-butylhydroquinone was added, the mixture was heated to a temperature of 60 ° C, and stirred for 4 hours. After cooling, the precipitate was reprecipitated in 2 l of methanol to obtain 79 g of a colorless and transparent viscous substance. The number average molecular weight of the polymer (M-3) is 4,500.
Met.
マクロモノマーの製造例4:M−4 エチルメタクリレート95g及びトルエン200gの混合溶
液を窒素気流下に温度70℃に加温した。2,2′−アゾビ
ス(シアノヘプタノール)5gを加え、8時間反応した。Production Example 4 of Macromonomer: M-4 A mixed solution of 95 g of ethyl methacrylate and 200 g of toluene was heated to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream. 5 g of 2,2'-azobis (cyanoheptanol) was added and reacted for 8 hours.
冷却後、この反応液を水浴中で温度20℃とし、トリエ
チルアミン1.0g及びメタクリル酸無水物21gを加え1時
間攪拌した後、温度60℃で6時間攪拌した。After cooling, the reaction solution was brought to a temperature of 20 ° C. in a water bath, 1.0 g of triethylamine and 21 g of methacrylic anhydride were added, and the mixture was stirred for 1 hour and then at a temperature of 60 ° C. for 6 hours.
得られた反応物を冷却した後メタノール2l中に再沈
し、無色透明な粘稠物75gを得た。重合体(M−4)の
数平均分子量は6,200であった。The obtained reaction product was cooled and then reprecipitated in 2 l of methanol to obtain a colorless transparent viscous product (75 g). The number average molecular weight of the polymer (M-4) was 6,200.
マクロモノマーの製造例5:M−5 ベンジルメタクリレート93g、3−メルカプトプロピ
オン酸7g、トルエン170g及びイソプロパノール30gの混
合物を窒素気流下に温度70℃に加温し、均一溶液とし
た。A.I.B.N.2.0gを加え、8時間反応した。冷却後、メ
タノール2l中に再沈し、減圧下に温度50℃に加熱して、
溶媒を留去した。得られた粘稠物をトルエン200gに溶解
し、この混合溶液にグリシジルメタクリレート16g、N,N
−ジメチルドデシルメタクリレート1.0g及びt−ブチル
ハイドロキノン1.0gを加え温度110℃で10時間攪拌し
た。この反応溶液を再びメタノール2l中に再沈した。得
られた淡黄色の粘稠物(M−5)の数平均分子量は3,40
0であった。Production Example 5 of Macromonomer: M-5 A mixture of 93 g of benzyl methacrylate, 7 g of 3-mercaptopropionic acid, 170 g of toluene and 30 g of isopropanol was heated to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream to obtain a homogeneous solution. 2.0 g of AIBN was added and reacted for 8 hours. After cooling, reprecipitate in 2 l of methanol and heat to 50 ° C. under reduced pressure.
The solvent was distilled off. The obtained viscous substance was dissolved in 200 g of toluene, and glycidyl methacrylate 16 g, N, N
-Dimethyldodecyl methacrylate (1.0 g) and t-butylhydroquinone (1.0 g) were added, and the mixture was stirred at 110 ° C for 10 hours. The reaction solution was reprecipitated again in 2 l of methanol. The number average molecular weight of the obtained pale yellow viscous substance (M-5) was 3,40.
It was 0.
マクロモノマーの製造例6:M−6 プロピルメタクリレート95g、チオグリコール酸5g及
びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温
度70℃に加温した。A.I.B.N.1.0gを加え8時間反応し
た。次に反応溶液にグリシジルメタクリレート13g、N,N
−ジメチルドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロ
キノン1.0gを加え、温度110℃にて10時間攪拌した。冷
却後、この反応溶液をメタノール2l中に再沈し、白色粉
末を86g得た。重合体(M−6)の数平均分子量は3,500
であった。Production Example 6 of Macromonomer: A mixed solution of 95 g of M-6 propyl methacrylate, 5 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 1.0 g of AIBN was added and reacted for 8 hours. Next, glycidyl methacrylate 13 g, N, N
1.0 g of -dimethyldodecylamine and 1.0 g of t-butylhydroquinone were added, and the mixture was stirred at 110 ° C for 10 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in 2 l of methanol to obtain 86 g of a white powder. The number average molecular weight of the polymer (M-6) is 3,500.
Met.
マクロモノマーの製造例7:M−7 メチルメタクリレート40g、エチルメタクリレート54
g、2−メルカプトエチルアミン6g、トルエン150g及び
テトラヒドロフラン50gの混合物を窒素気流下攪拌しな
がら温度75℃に加温した。A.I.B.N.2.0gを加え8時間反
応した。次にこの反応溶液を水浴中温度20℃とし、これ
にメタクリル酸無水物23gを温度が25℃を越えない様に
して滴下し、その後そのまま更に1時間攪拌した。2,
2′−メチレンビス(6−t−ブチル−p−クレゾー
ル)0.5gを加え、温度40℃で3時間攪拌した。冷却後、
この溶液をメタノール2l中に再沈し、粘稠物83gを得
た。重合体(M−7)の数平均分子量は2,200であっ
た。Production example 7 of macromonomer: M-7 methyl methacrylate 40 g, ethyl methacrylate 54
g, a mixture of 6 g of 2-mercaptoethylamine, 150 g of toluene and 50 g of tetrahydrofuran were heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 2.0 g of AIBN was added and reacted for 8 hours. Next, the reaction solution was heated to a temperature of 20 ° C. in a water bath, and 23 g of methacrylic anhydride was added dropwise thereto so that the temperature did not exceed 25 ° C., and the mixture was further stirred for 1 hour. 2,
0.5 g of 2'-methylenebis (6-t-butyl-p-cresol) was added, and the mixture was stirred at a temperature of 40 ° C for 3 hours. After cooling,
This solution was reprecipitated in 2 l of methanol to obtain 83 g of a viscous substance. The number average molecular weight of the polymer (M-7) was 2,200.
マクロモノマーの製造例8:M−8 メチルメタクリレート95g、トルエン150g及びエタノ
ール150gの混合溶液を窒素気流下に温度75℃に加温し
た。A.C.V.5gを加え、8時間反応した。次に、グリシジ
ルアクリレート15g、N,N−ジメチルドデシルアミン1.0g
及び2,2′−メチレンビス−(6−t−ブチル−p−ク
レゾール)1.0gを加え温度100℃で15時間攪拌した。冷
却後、この反応液をメタノール2l中に再沈し、透明な粘
稠物83gを得た。重合体(M−8)の数平均分子量は3,6
00であった。Production Example 8 of Macromonomer A mixed solution of 95 g of M-8 methyl methacrylate, 150 g of toluene and 150 g of ethanol was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. ACV5g was added and reacted for 8 hours. Next, glycidyl acrylate 15 g, N, N-dimethyldodecylamine 1.0 g
Then, 1.0 g of 2,2'-methylenebis- (6-t-butyl-p-cresol) was added, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C for 15 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in 2 l of methanol to obtain 83 g of a transparent viscous material. The number average molecular weight of the polymer (M-8) is 3,6.
00.
マクロモノマーの製造例9〜18:M−9〜M−18 マクロモノマーの製造例3において、メタクリル酸ク
ロライドの代わりに、表−3の酸ハライド化合物を用い
た他は、製造例3と同様に操作して、それぞれマクロモ
ノマーM−9〜M−18を製造した。Production Examples 9 to 18 of Macromonomer: M-9 to M-18 The same as Production Example 3 except that the acid halide compound of Table 3 was used in place of the methacrylic acid chloride in Production Example 3 of the macromonomer. By operation, macromonomers M-9 to M-18 were produced, respectively.
尚、M−9〜M−18のマクロモノマーのNは4,000
〜5,000であった。The N of the macromonomers M-9 to M-18 is 4,000.
It was ~ 5,000.
マクロモノマーの製造例19〜27:M−19〜M−27 マクロモノマーの製造例2において、メチルメタクリ
レートの代わりに、表−4の単量体を用いた他は、製造
例2と同様に操作してマクロモノマー(M−19)〜(M
−27)を製造した。 Production Examples 19 to 27 of Macromonomer: M-19 to M-27 The same procedure as in Production Example 2 except that the monomers shown in Table 4 were used in place of methyl methacrylate in Production Example 2 of macromonomer. Macromonomer (M-19) ~ (M
-27) was produced.
樹脂〔B〕の製造例1:樹脂〔B〕−1 エチルメタクリレート70g、マクロモノマー(M−
1)30g及びトルエン150gの混合溶液を窒素気流下温度7
0℃に加温した。次に、A.I.B.N.0.5gを加え、4時間反
応し、更に、A.I.B.N.0.3gを加えて6時間反応させた。
得られた共重合体〔B〕−1の重量平均分子量は9.8×1
04でガラス転移点は72℃であった。 Production Example 1: Resin [B] -1 Resin [B] -1 70 g of ethyl methacrylate, macromonomer (M-
1) A mixed solution of 30 g and 150 g of toluene was heated under a nitrogen stream at a temperature of 7
Warmed to 0 ° C. Next, 0.5 g of AIBN was added and reacted for 4 hours. Further, 0.3 g of AIBN was added and reacted for 6 hours.
The weight average molecular weight of the obtained copolymer [B] -1 was 9.8 × 1.
0 Glass transition point 4 was 72 ° C..
樹脂〔B〕の製造例2〜15:樹脂〔B〕−2〜15 樹脂〔B〕の製造例1と同様の重合条件で、下記表−
5の樹脂〔B〕を製造した。各樹脂のWは8×104〜
1.5×105の範囲であった。 Production Examples 2 to 15 of Resin [B]: Resin [B] -2 to 15 Under the same polymerization conditions as in Production Example 1 of Resin [B], the following Table-
Resin [B] of No. 5 was produced. W of each resin is 8 × 10 4 ~
The range was 1.5 × 10 5 .
樹脂〔B〕の製造例16:樹脂〔B〕−16 エチルメタクリレート70g、マクロモノマー(M−
2)30g及びトルエン150g及びイソプロパノール50gの混
合溶液を窒素気流下温度70℃に加温した。次に、4,4′
−アゾビフ(4−シアノ吉草酸0.8gを加え、10時間反応
させた。得られた共重合体の重量平均分子量(W)は
9.8×104でガラス転移点は72℃であった。 Production Example 16 of Resin [B]: Resin [B] -16 Ethyl methacrylate 70 g, macromonomer (M-
2) A mixed solution of 30 g, 150 g of toluene and 50 g of isopropanol was heated to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream. Then 4,4 ′
-Azobif (0.8 g of 4-cyanovaleric acid was added and reacted for 10 hours. The weight average molecular weight ( W ) of the obtained copolymer was
The glass transition point was 72 ° C. at 9.8 × 10 4 .
〔B〕−16の組成式 樹脂〔B〕の製造例17〜24:樹脂〔B〕−17〜24 樹脂〔B〕の製造例16において、マクロモノマーM−
2の代わりに、下表−6のマクロモノマーを用いた他
は、該製造例16と同様に操作して、各樹脂〔B〕を製造
した。各樹脂のWは9×104〜1.2×105であった。Composition formula of [B] -16 Production Examples 17 to 24 of Resin [B]: Resin [B] -17 to 24 In Production Example 16 of Resin [B], the macromonomer M-
Each resin [B] was produced in the same manner as in Production Example 16, except that the macromonomer shown in Table 6 below was used instead of 2. The W of each resin was 9 × 10 4 to 1.2 × 10 5 .
樹脂〔B〕の製造例25〜31:樹脂〔B〕−25〜31 樹脂〔B〕の製造例16において、A.C.V.の代わりに、
下表−7のアゾビス系化合物を用いた他は、該製造例16
と同様に操作して、重合体を各々製造した。 Production Examples 25 to 31 of Resin [B]: Resin [B] -25 to 31 In Production Example 16 of Resin [B], instead of ACV,
Except that the azobis compound shown in Table 7 below was used,
In the same manner as in the above, polymers were each produced.
樹脂〔B〕の製造例32:〔B〕−32 ブチルメタクリレート80g、マクロモノマー(M−
8)20g、チオグリコール酸1.0g、トルエン100g及びイ
ソプロパノール50gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃
に加温した。1,1′アゾビス(シクロヘキサン−1−カ
ルボニトリル)(略称A.C.H.N.)0.5gを加え4時間攪拌
し、更にA.C.H.N.0.3gを加え4時間攪拌した。得られた
重合体のWは、8×104で、ガラス転移点は41℃であ
った。 Production example 32 of resin [B]: 80 g of [B] -32 butyl methacrylate, macromonomer (M-
8) A mixed solution of 20 g, 1.0 g of thioglycolic acid, 100 g of toluene and 50 g of isopropanol under a nitrogen stream at a temperature of 80 ° C.
Was heated. 0.5 g of 1,1 'azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) (abbreviated as ACHN) was added and stirred for 4 hours, and 0.3 g of ACHN was further added and stirred for 4 hours. The polymer obtained had a W of 8 × 10 4 and a glass transition point of 41 ° C.
樹脂〔B〕−32の組成 樹脂〔B〕の製造例33〜39:〔B〕−33〜〔B〕−39 樹脂〔B〕の製造例32において、チオグリコール酸の
代わりに下記表−8の化合物を用いた他は製造例32と同
様に操作して重合体を製造した。Composition of resin [B] -32 Production Examples 33 to 39 of Resin [B]: [B] -33 to [B] -39 Production Examples of Resin [B] except that the compounds of Table 8 below were used instead of thioglycolic acid. A polymer was produced in the same manner as in Example 32.
樹脂〔B〕の製造例40〜48:〔B〕−40〜48 樹脂〔B〕の製造例26と同様の重合条件で下記表−9
の共重合体を製造した。各樹脂のWは9.5×104〜1.2
×105の範囲であった。 Production Examples 40 to 48 of Resin [B]: [B] -40 to 48 Under the same polymerization conditions as in Production Example 26 of Resin [B], Table 9 below was used.
Was produced. W of each resin is 9.5 × 10 4 to 1.2
× 10 5 range.
樹脂〔B〕の製造例49〜56:〔B〕49〜56 樹脂〔B〕の製造例16におけると同様の重合条件で、
下記表−10の各樹脂を製造した。得られた各樹脂〔B〕
のWは9.5×104〜1.1×105であった。 Production Examples 49-56 of Resin [B]: [B] 49-56 Under the same polymerization conditions as in Production Example 16 of Resin [B],
Each resin shown in Table 10 below was produced. Each resin obtained [B]
Of W was 9.5 × 10 4 to 1.1 × 10 5 .
実施例1〜2及び比較例A〜D 実施例1 樹脂〔A〕の製造例1で製造した樹脂〔A〕−1を6g
(固形分量として)、樹脂〔B〕の製造例1で製造した
樹脂〔B〕−1を34g(固形分量として)、酸化亜鉛200
g、下記構造のシアニン色素〔A〕0.018g、無水フタル
酸0.05g及びトルエン300gの混合物をボールミル中で2
時間分散して、感光層形成物を調製し、これを導電処理
した紙に、乾燥付着量が22g/m2となる様に、ワイヤーバ
ーで塗布し、110℃で30秒間乾燥し、ついで暗所で20℃6
5%RHの条件下で24時間放置することにより、電子写真
感光材料を作製した。 Examples 1 and 2 and Comparative Examples A to D Example 1 6 g of resin [A] -1 produced in Production Example 1 of resin [A]
(As solid content), 34 g of resin [B] -1 produced in Production Example 1 of resin [B] (as solid content), zinc oxide 200
g, a mixture of 0.018 g of the cyanine dye [A] having the following structure, 0.05 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene in a ball mill.
And time dispersion, a photosensitive layer formation was prepared, which on conductive treated papers, as dry coverage is 22 g / m 2, was coated with a wire bar, and dried for 30 seconds at 110 ° C., and then the dark 20 ℃ 6
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by being left under a condition of 5% RH for 24 hours.
実施例2 実施例1において、樹脂〔B〕−1、34gの代わりに
樹脂〔B〕−16、34gを用いた他は、実施例1と同様に
操作して、電子写真感光材料を作製した。 Example 2 An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1, except that the resin [B] -16 and 34 g were used instead of the resin [B] -1 and 34 g. .
比較例A 実施例1において結着樹脂として用いた樹脂〔A〕−
1及び〔B〕−1の代わりに、樹脂〔A〕−1のみを40
g(固形分量として)用いる以外は実施例1と同様の操
作で電子写真感光材料Aを製造した。Comparative Example A Resin [A]-used as binder resin in Example 1
Instead of 1 and [B] -1, only resin [A] -1 was used for 40
An electrophotographic photosensitive material A was produced in the same manner as in Example 1 except that g (as solid content) was used.
比較例B 結着樹脂として、下記樹脂〔R〕−1のみを40g用い
る以外は実施例1と同様の操作で電子写真感光材料Bを
製造した。Comparative Example B An electrophotographic photosensitive material B was produced in the same manner as in Example 1, except that only 40 g of the following resin [R] -1 was used as the binder resin.
樹脂〔R〕−1 比較例C 結着樹脂として樹脂〔R〕−1、6g及び樹脂〔B〕−
1 34g(固形分量として)用いる以外は実施例1と同様
の操作で電子写真感光材料Cを作製した。Resin [R] -1 Comparative Example C Resin [R] -1, 6 g and Resin [B] -as the binder resin
An electrophotographic photosensitive material C was produced in the same manner as in Example 1 except that 1 34 g (as solid content) was used.
比較例D 結着樹脂として下記構造の樹脂〔R〕−2のみを40g
用いる以外は実施例1と同様の操作で電子写真感光材料
Dを製造した。Comparative Example D Only 40 g of resin [R] -2 having the following structure was used as a binder resin.
An electrophotographic photosensitive material D was produced in the same manner as in Example 1 except for using the same.
樹脂〔R〕−2 これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、膜強
度、静電特性、撮像性及び環境条件を30℃,80%RHとし
た時の静電特性撮像体を調べた。更に、これらの感光材
料をオフセットマスター用原版として用いた時の光導電
性の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層の水との接
触角で表わす)及び印刷性(地汚れ、耐刷性等)を調べ
た。Resin [R] -2 The film properties (surface smoothness), film strength, electrostatic properties, imaging properties of these photosensitive materials, and the electrostatic property imaging body when the environmental conditions were set to 30 ° C. and 80% RH were examined. Furthermore, when these photosensitive materials are used as a master plate for an offset master, the photoconductive desensitizing property (represented by the contact angle with water of the photoconductive layer after the desensitizing process) and printability (background stain, Printing durability).
以上の結果をまとめて、表−11に示す。 The above results are summarized in Table-11.
表−11に示した評価項目の実施の態様は以下の通りで
ある。 The embodiments of the evaluation items shown in Table 11 are as follows.
注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The photosensitive material obtained was measured for smoothness (sec / cc) under a condition of an air capacity of 1 cc using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.). It was measured.
注2)光導電層の機械的強度: 得られた感光材料表面をヘイドン−14型表面性試験材
(新東化学(株)製)を用いて荷重50g/cm2のものでエ
メリー紙(#1000)で1000回繰り返し探り摩耗粉を取り
除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め機械的強
度とした。Note 2) Mechanical strength of the photoconductive layer: The surface of the obtained photosensitive material was applied to an emery paper (#) with a load of 50 g / cm 2 using a Haydon-14 type surface test material (manufactured by Shinto Chemical Co., Ltd.). The abrasion powder was removed 1000 times repeatedly to remove the abrasion powder, and the remaining film rate (%) was determined from the weight loss of the photosensitive layer, and the resulting value was defined as the mechanical strength.
注3)静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペーパー
アナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライザー
SP-428型)を用いて−6kVで20秒間コロナ放電をさせた
後、10秒間放置し、この時の表面電位V10を測定した。
次いでそのまま暗中で90秒間静置した後の電位V100を測
定し、90秒間暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗
減衰保持率〔DRR(%)を(V90/V10)×100(%)で求
めた。Note 3) Electrostatic characteristics: A paper analyzer (Kawaguchi Electric Co., Ltd. paper analyzer) was applied to each photosensitive material in a dark room at a temperature of 20 ° C and 65% RH.
After the 20 seconds corona discharge -6kV with SP-428 type), allowed to stand for 10 seconds to measure the surface potential V 10 at this time.
Then measuring the potential V 100 after allowing to stand for 90 seconds in as dark, retention of potential after being 90 seconds dark decay, i.e., dark decay retention rate [DRR (%) of (V 90 / V 10) × 100 (%).
又コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電させ
た後、波長780nmの単色光で照射し、表面電位(V10)が
1/10に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E
1/10(erg/cm2)を算出する。After charging the surface of the photoconductive layer to -400 V by corona discharge, the surface potential (V 10 ) was changed by irradiation with monochromatic light with a wavelength of 780 nm.
Calculate the time to 1/10 decay and calculate the exposure E
Calculate 1/10 (erg / cm 2 ).
注4)撮像性: 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。次に
−5kVで帯電し、光源として2.8mW出力のガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長750nm)を用
いて、感光材料表面上で、64erg/cm2の照射量下、ピッ
チ25μm及びスキャニング速度300m/secのスピード露光
後、液体現像剤として、ELP-T(富士写真フィルム
(株)製)を用いて現像し、定着することで得られた複
写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。Note 4) Imaging: Each light-sensitive material was left for one day under the following environmental conditions. Next, charged at −5 kV, using a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 750 nm) with a 2.8 mW output as a light source, a pitch of 25 μm and a scanning speed on the surface of the photosensitive material under an irradiation dose of 64 erg / cm 2 Visually evaluate the copied image (fog, image quality) obtained by developing and fixing using ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a liquid developer after 300 m / sec speed exposure. did.
撮像時の環境条件は20℃65%RHと30℃80%RHで実施し
た。The environmental conditions during imaging were 20 ° C 65% RH and 30 ° C 80% RH.
注5)水との接触角: 各感光材料を不感肪化処理液ELP-EX(富士写真フィル
ム(株)製)を用いて、エッチングプロセッサーに1回
通して光導電層面を不感肪化処理した後、これに蒸留水
2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニオ
メーターで測定する。Note 5) Contact angle with water: Each photosensitive material was passed through an etching processor once using a desensitizing solution ELP-EX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) to desensitize the photoconductive layer surface. After that, a drop of distilled water (2 μl) is put on this, and the contact angle with the formed water is measured with a goniometer.
注6)耐刷性 各感光材料を上記注4)と同条件で製版してトナー画
像を形成し、上記注5)と同条件で不感肪化処理し、こ
れをオフセットマスターとして、オフセット印刷機(桜
井製作所(株)製オリバー52型)にかけ、印刷物の非画
像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷
できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐刷性が良好な
ことを表わす)。Note 6) Printing durability Each light-sensitive material is subjected to plate making under the same conditions as in Note 4) above to form a toner image, and is subjected to desensitization processing under the same conditions as in Note 5) above. (Oliver 52 type manufactured by Sakurai Mfg. Co., Ltd.) shows the number of prints that can be made without causing scumming in the non-image area of the printed matter and in the image quality of the image area (the higher the number of printed sheets, the better the printing durability. It means that).
表−11に示す様に従来公知の樹脂を用いた比較例Dの
みが感光層の平滑度、静電特性が著しく悪かった。As shown in Table-11, only the comparative example D using the conventionally known resin had remarkably poor smoothness and electrostatic characteristics of the photosensitive layer.
比較例B及びCは、環境条件が高温高湿(30度,80%R
H)となった場合に、静電特性が変動して低下し、特に9
0秒間のD.R.R.の悪化が著しくなった。これによりスキ
ャニング露光による実際の撮像性も複写画像の低下が見
られた。In Comparative Examples B and C, the environmental conditions were high temperature and high humidity (30 degrees, 80% R
H), the electrostatic characteristics fluctuate and decrease, especially 9
The DRR worsened for 0 seconds. As a result, the actual imageability due to the scanning exposure was reduced in the copied image.
比較例Aは比較例B,Cの様な環境条件の変化による静
電特性、撮像性の変化は殆んど見られず、更に常温常湿
時の静電特性を比較例Bと比べても優れていた。この事
は低出力の半導体レーザー光によるスキャニング露光方
式では極めて有効なものである。In Comparative Example A, almost no change in the electrostatic characteristics and imaging performance due to changes in environmental conditions as in Comparative Examples B and C was observed, and the electrostatic characteristics at room temperature and normal humidity were also compared with Comparative Example B. It was excellent. This is extremely effective in a scanning exposure method using a low-power semiconductor laser beam.
本発明の感光材料は、比較例Aと同等の静電特性及び
撮像性を有し、更に感光層の膜強度が著しく向上した。The photosensitive material of the present invention has the same electrostatic properties and image-capturing properties as Comparative Example A, and the film strength of the photosensitive layer is significantly improved.
これをオフセットマスター原版として用いた場合で
も、不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行
し、非画像部の水との接触角が15度以下と小さく充分に
親水化されている。実際に印刷して印刷物の地汚れを観
察しても、全く認められなかった。しかし、比較例Aの
場合は、光導電層の強度試験、及び耐刷試験を行なう
と、膜強度が充分でなく、耐久性に問題を生じた。Even when this is used as an offset master original plate, the desensitizing treatment with the desensitizing treatment liquid has proceeded sufficiently, and the contact angle with water of the non-image area is as small as 15 degrees or less, and it is sufficiently hydrophilized. When actually printed and observed the background stain of the printed matter, nothing was observed. However, in the case of Comparative Example A, when the strength test and the printing durability test of the photoconductive layer were performed, the film strength was not sufficient, and a problem occurred in durability.
又、本発明の感光材料において、結着樹脂〔B〕中に
極性基を含有した実施例2の方が、実施例1に比べ膜強
度がオフセットマスター原版としての耐刷枚数におい
て、更に特性を向上した。Further, in the light-sensitive material of the present invention, Example 2 in which the binder resin [B] contains a polar group has a film strength higher than that of Example 1 in terms of the number of printed sheets as an offset master original plate. Improved.
以上から、本発明の感光材料は、光導電層の平滑性、
膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好な
ものであった。From the above, the photosensitive material of the present invention has a smoothness of the photoconductive layer,
It was good in all respects of film strength, electrostatic properties and printability.
実施例3〜22 実施例1において樹脂〔A〕−1、6g及び樹脂〔B〕
−1、34gの代わりに下記表−12の樹脂〔A〕を各々6
g、樹脂〔B〕を各々34g用い、又、シアニン色素〔A〕
0.018gの代わりに、下記構造のシアニン色素〔B〕0.01
8gを用いた他は、実施例1と同様に操作して、各感光材
料を作製した。Examples 3 to 22 Resin [A] -1, 6 g and resin [B] in Example 1
-1 and 34 g each of resin [A] in Table 12 below 6
g, resin [B] using 34 g each, and cyanine dye [A]
Instead of 0.018 g, the cyanine dye of the following structure [B] 0.01
Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that 8 g was used.
実施例23〜36 実施例1において樹脂〔A〕−1、6g及び樹脂〔B〕
−1、34gの代わりに下記表−13の樹脂〔A〕を各々6
g、樹脂〔B〕を各々34g用い、又シアニン色素〔A〕0.
018gの代わりに、下記構造のメチン色素〔C〕0.016gを
用いた他は、実施例1と同様に操作して、各感光材料を
作製した。 Examples 23 to 36 In Example 1, resin [A] -1, 6 g and resin [B]
Each of the resin [A] in Table 13 below was replaced with 6
g, resin (B) 34 g each, and cyanine dye (A) 0.
Each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.016 g of the methine dye [C] having the following structure was used instead of 018 g.
実施例1と同様にして各特性を測定した。各感光材料
の平滑性及び膜強度は実施例1の試料とほぼ同等の特性
を示した。 Each characteristic was measured in the same manner as in Example 1. The smoothness and film strength of each light-sensitive material exhibited almost the same characteristics as those of the sample of Example 1.
本発明の各感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持
率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿の(30℃
80%RH)の過酷な条件においても、地カブリの発生のな
い鮮明な画像を得た。Each of the light-sensitive materials of the present invention is excellent in chargeability, dark charge retention rate, and photosensitivity, and the actual copied image is high temperature and high humidity (30 ° C.
Even under the harsh conditions of 80% RH, clear images were obtained with no background fog.
Claims (1)
含有する光導電層を有する電子写真感光体において、該
結着樹脂が下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び下記樹
脂〔B〕の少なくとも1種を含有することを特徴とする
電子写真感光体。 樹脂〔A〕 1×103〜2×104の重量平均分子量を有し、且つ、−PO
3H2基、−SO3H基、−COOH基、 {Rは炭素数1〜10の炭化水素基又はOR′基(R′は炭
素数1〜10の炭化水素基を示す)を示す}、−SH基及び
フェノール性OH基の酸性基並びに環状酸無水物含有基の
うちの少なくとも1つの置換基を重合体主鎖の末端に結
合して成る樹脂。 樹脂〔B〕 下記一般式(IIa)及び(IIb)で示される重合体成分の
うちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一方の末
端にのみ下記一般式(I)で示される重合性二重結合基
を結合して成る重量平均分子量2×104以下の一官能性
マクロモノマーと下記一般式(III)で示されるモノマ
ーとから少なくとも成る共重合体である樹脂。 一般式(I) 〔式(I)中、Vは−COO−,−OCO−,−CH2OCO−,−
CH2COO−,−O−,−SO2−,−CO−, 又は を表わす(R1は、水素原子又は炭化水素基を表わす)。
a1,a2は、互いに同じでも、異なってもよく、水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−Z
又は炭化水素を介した−COO−Z(Zは水素原子又は置
換されてもよい炭化水素基を示す)を表わす。〕 一般式(IIa) 一般式(IIb) 〔式(IIa)又は(IIb)中、X0は、式(I)中のVと同
一の内容を表わす。 Q0は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳香
族基を表わす。b1、b2は互いに同じでも異なってもよ
く、式(I)中のa1、a2と同一の内容を表わす。 Qは−CN、−CONH2又は 表わし、ここでYは水素原子、ハロゲン原子、アルコキ
シ基又は−COOZ′(Z′はアルキル基、アラルキル基又
はアリール基を示す)を表わす。〕 一般式(III) (式(III)中、X1は、式(IIa)中のX0と同一の内容を
表わし、Q1は、式(IIa)中のQ0と同一の内容を表わ
す。c1,c2は互いに同じでも異なってもよく、式(I)
中のa1,a2と同一の内容を表わす。) (2)樹脂〔B〕が、更に該共重合体主鎖の片末端にの
み−PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、−OH基、−SH基及
び (R″は炭化水素基を表わす)から選ばれる少なくとも
1つの酸性基を結合して成る樹脂である請求項(1)記
載の電子写真感光体。1. An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following resins [A] and at least the following resins [B]. An electrophotographic photoreceptor containing one kind. Resin [A] having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 and -PO
3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, {R represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or an OR 'group (R' represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), --SH group, acidic group such as phenolic OH group and cyclic acid A resin obtained by bonding at least one substituent of an anhydride-containing group to an end of a polymer main chain. Resin [B] The polymerizability represented by the following general formula (I) is present only at one end of the polymer main chain containing at least one polymer component represented by the following general formulas (IIa) and (IIb). A resin, which is a copolymer comprising at least a monofunctional macromonomer having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less formed by binding a double bond group and a monomer represented by the following general formula (III). General formula (I) Wherein (I), V is -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO -, -
CH 2 COO -, - O - , - SO 2 -, - CO-, Or (R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group).
a 1 and a 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, —COO—Z
Or -COO-Z via a hydrocarbon (Z represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted). ] General formula (IIa) General formula (IIb) [In formula (IIa) or (IIb), X 0 has the same meaning as V in formula (I). Q 0 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms. b 1 and b 2 may be the same as or different from each other, and have the same contents as a 1 and a 2 in the formula (I). Q is -CN, -CONH 2 or Where Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group or -COOZ '(Z' represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group). General formula (III) (In the formula (III), X 1 represents the same content as X 0 in the formula (IIa), and Q 1 represents the same content as Q 0 in the formula (IIa). C 1 , c 2 May be the same or different from each other and have the formula (I)
It has the same contents as a 1 and a 2 in the above . (2) The resin [B] further comprises a —PO 3 H 2 group, a —SO 3 H group, a —COOH group, a —OH group, a —SH group, and only at one end of the main chain of the copolymer. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the resin is a resin formed by bonding at least one acidic group selected from the group consisting of (R "represents a hydrocarbon group).
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