JPH0619147A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

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JPH0619147A
JPH0619147A JP4195899A JP19589992A JPH0619147A JP H0619147 A JPH0619147 A JP H0619147A JP 4195899 A JP4195899 A JP 4195899A JP 19589992 A JP19589992 A JP 19589992A JP H0619147 A JPH0619147 A JP H0619147A
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JP
Japan
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group
resin
polymer
block
weight
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Application number
JP4195899A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Kazuo Ishii
一夫 石井
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0619147A publication Critical patent/JPH0619147A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain the electrophotographic sensitive body improved in electrostatic characteristics and imaging characteristics, especially, superior in reproduction performance of an image high in precision using a liquid developing agent and imaging performance using a scanning exposure system using low-output laser beams. CONSTITUTION:The binder resin of the electrophotographic sensitive body contains at least one kind of a resin [A] of an AB block copolymer low in molecular weight comprising a block A having polar repeating units and a block B having repeating units each represented by formula I; and at least one kind of star type copolymer [B] high in molecular weight having at least 3 polymer chains each having repeating units each represented by formula II and a polar group on one of the terminals of each polymer chain. In formulae I and II, R<11> is a hydrocarbon group; each of a<1> and a<2> is H, halogen, cyano, or a hydrocarbon group: and R<3> is a hydrocarbon group.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor,
More specifically, it relates to an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics and moisture resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。電子写真感光体の代表的なもの
として、支持体上に光導電層が形成されている感光体及
び表面に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられて
いる。
2. Description of the Related Art Electrophotographic photoreceptors have various structures in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process applied. Typical electrophotographic photoconductors are a photoconductor having a photoconductive layer formed on a support and a photoconductor having an insulating layer on the surface thereof, which are widely used.

【0003】支持体と少なくとも1つの光導電層から構
成される感光体は、最も一般的な電子写真プロセスによ
る、即ち帯電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転
写による画像形成に用いられる。更には、ダイレクト製
版用のオフセット原版として電子写真感光体を用いる方
法が広く実用されている。特に近年、ダイレクト電子写
真平版は数百枚から数千枚程度の印刷枚数で高画質の印
刷物を印刷する方式として重要となってきている。こう
した状況の中で、電子写真感光体の光導電層を形成する
ために使用する結着樹脂は、それ自体の成膜性および光
導電性粉体の結着樹脂への分散能力が優れるとともに、
形成された記録体層の基材に対する接着性が良好であ
り、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減
衰が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少なく、且
つ、撮影時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保
持していることが必要である等の各種の静電特性および
優れた撮像性を具備する必要がある。
Photoreceptors composed of a support and at least one photoconductive layer are used for image formation by the most common electrophotographic processes, ie charging, imagewise exposure and development, and optionally transfer. Further, a method of using an electrophotographic photosensitive member as an offset original plate for direct plate making is widely used. Particularly in recent years, the direct electrophotographic lithographic printing plate has become important as a method for printing high-quality printed matter by printing several hundred to several thousand sheets. In such a situation, the binder resin used for forming the photoconductive layer of the electrophotographic photosensitive member has excellent film-forming property of itself and dispersibility in the binder resin of the photoconductive powder,
The formed recording layer has good adhesion to the substrate, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, small dark decay, large light decay, little pre-exposure fatigue, and shooting It is necessary to have various electrostatic characteristics such as being required to stably maintain these characteristics due to changes in humidity with time, and excellent image pickup properties.

【0004】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。無機光導電材料、
分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層において、結着樹脂の化学構造によって、平滑性のみ
ならず静電特性が大きく影響を受けることが判ってき
た。特に静電特性において、暗中電荷保持率(D.R.
R.)や光感度が大きく左右される。
Further, research on a lithographic printing original plate using an electrophotographic photosensitive member has been earnestly conducted, and a photoconductive layer for a photoconductive layer having both electrostatic characteristics as an electrophotographic photosensitive member and printing characteristics as a printing original plate has been made. Binder resin is required. Inorganic photoconductive material,
It has been found that, in the photoconductive layer containing at least the spectral sensitizing dye and the binder resin, not only the smoothness but also the electrostatic properties are greatly affected by the chemical structure of the binder resin. Especially in the electrostatic characteristics, the charge retention ratio in the dark (D.R.
R. ) And light sensitivity are greatly affected.

【0005】これに対し、酸性基を含有する比較的低分
子量(103 〜104 程度)の樹脂を結着樹脂として用
いる事で、平滑性及び静電特性を良化する技術が種々検
討されている。例えば、特開昭63−217354号に
は酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在す
る樹脂、同64−70761号には重合体主鎖の片末端
に酸性基を結合して成る樹脂、特開平2−67563
号、同2−236561号、同2−238458号、同
2−236562号及び同2−247656号等には酸
性基をグラフト型共重合体の主鎖末端に結合して成る樹
脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部に含有
する樹脂、同3−181948号には酸性基をブロック
で含有するAB型ブロック共重合体等がそれぞれ記載さ
れている。これらは、該低分子量の樹脂が、光導電体の
分散を充分に行ない光導電体同志の凝集を抑制する効果
を有すること及び光導電体と分光増感色素との吸着を疎
外しないで該無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に
吸着するとともに光導電体の表面をゆるやかに且つ充分
に被覆していることによると推定される。
On the other hand, various techniques for improving smoothness and electrostatic characteristics have been studied by using a resin having a relatively low molecular weight (about 10 3 to 10 4 ) containing an acidic group as a binder resin. ing. For example, JP-A No. 63-217354 discloses a resin in which an acidic group-containing polymerization component is randomly present in the polymer main chain, and JP-A No. 64-70761 has an acidic group bonded to one end of the polymer main chain. Resin, JP-A-2-67563
Nos. 2,236,561, 2,238,458, 2,236,562, and 2,247,656, etc., each have a resin or an acidic group formed by bonding an acidic group to the end of the main chain of the graft copolymer. Resins contained in the graft portion of the graft type copolymer, and JP-A No. 3-181948 describe AB type block copolymers containing an acidic group as a block. These are such that the low molecular weight resin has an effect of sufficiently dispersing the photoconductor and suppressing the aggregation of the photoconductors, and the inorganic substance without alienating the adsorption between the photoconductor and the spectral sensitizing dye. It is presumed that this is due to the fact that the photoconductor is sufficiently adsorbed to the stoichiometric defects and the surface of the photoconductor is covered gently and sufficiently.

【0006】更に、これらの低分子量の樹脂のみでは不
充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるために、
中〜高分子量の他の樹脂を併用する技術が種々検討され
ている。例えば、特開平2−68561号にはポリマー
間に架橋構造を形成する熱硬化性樹脂、特開平2−68
562号には一部が架橋構造を有する樹脂、特開平2−
69759号には酸性基をグラフト型共重合体の主鎖末
端に結合して成る樹脂が記載されている。また、特定の
中〜高分子量の樹脂を用いることで、環境が著しく変動
した場合においても比較的安定した性能を維持する技術
が検討され、例えば特開平3−29954号、同3−7
7954号、同3−92861号及び同3−53257
号には酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部の末端
に結合する樹脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラ
フト部に含有する樹脂が記載されている。更に、特開平
3−206464号及び同4−25849号によれば、
酸性基含有のAブロックと酸性基非含有のBブロックか
ら成るABブロック型共重合体をグラフト部に含有する
グラフト型共重合体を用いる事で、環境の変化や半導体
レ−ザ−光を用いたスキャニング露光方式を用いた場合
においても比較的高い性能を維持することが明らかにな
った。
Further, in order to make the mechanical strength of the photoconductive layer sufficient by using only these low molecular weight resins,
Various techniques of using other resins of medium to high molecular weight in combination have been studied. For example, JP-A-2-68561 discloses a thermosetting resin which forms a crosslinked structure between polymers, and JP-A-2-6856.
No. 562, a resin partially having a cross-linked structure, disclosed in JP-A-2-
No. 69759 describes a resin having an acidic group bonded to the end of the main chain of a graft copolymer. Further, by using a specific medium to high molecular weight resin, a technique for maintaining relatively stable performance even when the environment is remarkably changed has been studied. For example, JP-A-3-29954 and 3-7.
7954, 3-92861 and 3-53257.
JP-A No. 1994-237 describes a resin that binds an acidic group to the end of the graft portion of the graft copolymer or a resin that contains an acidic group in the graft portion of the graft copolymer. Further, according to JP-A-3-206464 and 4-25849,
By using a graft type copolymer having an AB block type copolymer consisting of an acidic group-containing A block and an acidic group-free B block in the graft portion, environmental changes and semiconductor laser light can be used. It was revealed that the comparatively high performance was maintained even when the scanning exposure method was used.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の酸性基を含有する種々の低分子量の樹脂、更にこれら
の樹脂に種々の中〜高分子量の樹脂を組み合わせて用い
ても、環境が高温・高湿から低温・低湿まで著しく変動
した場合における安定した性能の維持においてはいまだ
不充分であることが判った。半導体レーザー光を用いた
スキャンニング露光方式では、従来の可視光による全面
同時露光方式に比べ、露光時間が長くなり、また露光強
度にも制約があることから、静電特性、特に暗電荷保持
特性、光感度に対して、より高い性能が要求される。
However, even if various low molecular weight resins containing these acidic groups, and further various medium to high molecular weight resins are used in combination with these resins, the environment is high and high temperature. It has been found that it is still insufficient to maintain stable performance when the humidity significantly changes from low temperature to low humidity. The scanning exposure method that uses a semiconductor laser beam has a longer exposure time than the conventional simultaneous full-exposure method that uses visible light, and also has a limited exposure intensity, so electrostatic characteristics, especially dark charge retention characteristics, are used. In terms of photosensitivity, higher performance is required.

【0008】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合,従来の感光体で実際に試験してみる
と、上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特
にE1/2 とE1/10との差が大きく複写画像の階調が軟調
となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが困難
となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、又、
オフセットマスターとして印刷しても、印刷物に印刷原
稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。
Particularly, in the electrophotographic lithographic printing plate precursor, when a scanning exposure method using a semiconductor laser beam is adopted, when actually tested with a conventional photoconductor, the above electrostatic characteristics are sufficiently obtained. This is not satisfactory, and especially the difference between E 1/2 and E 1/10 is large, the gradation of the copied image becomes soft, and it becomes difficult to reduce the residual potential after exposure, causing fog in the copied image. Became noticeable, and again
Even when printing as an offset master, a problem such as a print original sticking mark on the printed matter appeared.

【0009】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。従来公知の技術において
は、低分子量の樹脂と併用する中〜高分子量の樹脂によ
って、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が
低下することがあり、実際に前記した様なこれら公知の
樹脂の組合せで用いた光導電層を有する電子写真感光体
は、前述の様な高精細な画像(特に連続階調画像)の忠
実な複写画像の再現性あるいは、低出力のレーザー光を
用いたスキャンニング露光方式による撮像性に対して、
問題を生じ得ることが明らかになった。
Further, in recent years, it has been desired to realize a technique for faithfully reproducing not only a copy image of an image composed of line drawings and halftone dots but also a high-definition image composed of continuous gradations by using a liquid developer. However, the above-mentioned known technology has not been able to sufficiently satisfy these demands. In the conventionally known technology, the medium to high molecular weight resin used in combination with the low molecular weight resin may lower the electrostatic properties of the high performance of the low molecular weight resin. The electrophotographic photosensitive member having a photoconductive layer used in combination with a known resin is capable of reproducing a faithful copy image of a high-definition image (especially continuous tone image) as described above or a low-output laser beam. For the imaging ability by the scanning exposure method used,
It became clear that it could cause problems.

【0010】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。
The present invention is to improve the problems of the above-described conventionally known electrophotographic photoreceptors. An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having a clear and high-quality image which constantly maintains good electrostatic characteristics even when the environment for forming a copied image changes such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. Is to provide.

【0011】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいCPC電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。本発明の更なる目的は、電子写真
式平版印刷原版として、静電特性(特に暗電荷保持性及
び光感度)に優れ、原画(特に高精細な連続階調画像)
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することであ
る。
Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photosensitive member which is excellent in electrostatic characteristics and has little environmental dependence. Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member effective for a scanning exposure system using a semiconductor laser beam. A further object of the present invention is as an electrophotographic lithographic printing original plate, which is excellent in electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity) and has an original image (particularly a high-definition continuous tone image).
Reproduces a copy image that is faithful to, and does not generate spot stains as well as uniform stains on the entire printed matter.
Another object is to provide a lithographic printing original plate having excellent printing durability.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電材
料、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び下記樹脂
〔B〕の少なくとも1種を各々含有して成る事を特徴と
する電子写真感光体により達成されることが見出され
た。
The above object is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye and a binder resin, wherein the binder resin is ] And at least one of the following resins [B] are respectively contained in the electrophotographic photosensitive member.

【0013】樹脂〔A〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、−P
3 2 基、−COOH基、−SO3 H基、フェノール
性OH基、−P(=O)(OH)R1 {R1 は炭化水素基
又は−OR2 (R2 は炭化水素基を示す)基を示す}基
及び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも1つ
の極性基を含有する少なくとも1つの重合体成分から成
るAブロックと下記一般式(I)で示される重合体成分
を少なくとも含有するBブロックとから構成されるAB
ブロック共重合体。
Resin [A] has a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , and -P
O 3 H 2 group, -COOH group, -SO 3 H group, a phenolic OH group, -P (= O) (OH ) R 1 {R 1 is a hydrocarbon group or -OR 2 (R 2 is a hydrocarbon group A group consisting of at least one polymer group containing at least one polar group selected from the group consisting of (1) and a cyclic acid anhydride-containing group, and a polymer component represented by the following general formula (I) AB comprising at least a B block containing
Block copolymer.

【0014】[0014]

【化5】 [Chemical 5]

【0015】〔式(I)中、R11は炭化水素基を表
す。〕 樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(II)で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て少なくとも30重量%以上含有する高分子鎖が、有機
分子中に少なくとも3個結合して成るスター型共重合体
で、且つ該各高分子鎖の有機分子に結合した反対側の主
鎖の末端に、−PO3 2 基、−COOH基、−SO3
H基、−P(=O)(OH)R1 〔R1 は上記と同じ内容
を表す〕基及び環状酸無水物含有基から選ばれた基を少
なくとも1種結合して成る樹脂。
[In the formula (I), R 11 represents a hydrocarbon group. Resin [B] A polymer chain having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 to 1 × 10 6 and containing at least 30% by weight of a repeating unit represented by the following general formula (II) as a polymer component, at least three bound star copolymer comprising in the organic molecule and a main chain terminal of the opposite side attached to the organic molecule of the respective polymer chains, -PO 3 H 2 group, -COOH group, -SO 3
A resin formed by bonding at least one group selected from an H group, a -P (= O) (OH) R 1 [R 1 represents the same as the above] group, and a cyclic acid anhydride-containing group.

【0016】[0016]

【化6】 [Chemical 6]

【0017】〔式(II)中、a1 、a2 は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。R
12は炭化水素基を表す。好ましくは、a1 が水素原子、
2 がメチル基の場合である。〕
[In the formula (II), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R
12 represents a hydrocarbon group. Preferably, a 1 is a hydrogen atom,
This is the case where a 2 is a methyl group. ]

【0018】即ち、本発明の結着樹脂は、上記特定の極
性基含有成分を含有するAブロックと上記一般式(I)
で示される重合体成分を含有するBブロックとの低分子
量AB型ブロック共重合体(樹脂〔A〕)と、上記一般
式(II)で示される重合体成分を少なくとも含有し、且
つ高分子鎖の片末端に上記特定の極性基を結合して成る
高分子鎖を有機分子中に少なくとも3個結合して成る高
分子量スター型共重合体(樹脂〔B〕)とから少なくと
も構成される。
That is, the binder resin of the present invention comprises an A block containing the above-mentioned specific polar group-containing component and the above general formula (I).
A low molecular weight AB type block copolymer (resin [A]) with a B block containing a polymer component represented by the following formula, and a polymer chain containing at least the polymer component represented by the general formula (II) above. And a high molecular weight star-type copolymer (resin [B]) having at least three polymer chains each having one of the above-mentioned specific polar groups bonded to the organic molecule.

【0019】種々検討の結果、前述の如く、公知の低分
子量の極性基含有樹脂を中〜高分子量の樹脂と併用する
公知の技術においては、併用する中〜高分子量の樹脂に
より、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が
低下してしまうことのあることが判った。そして、これ
らの中〜高分子量樹脂が、該光導電層中で、光導電体、
分光増感色素及び低分子量の樹脂同志の相互作用に更に
適切に相互作用させることも、予想以上に重要な原因で
あることが明らかになってきた。
As a result of various studies, as described above, in the known technique of using a known low molecular weight polar group-containing resin in combination with a medium to high molecular weight resin, depending on the medium to high molecular weight resin used in combination, It was found that the high-performance electrostatic properties of the resin may deteriorate. And, these medium to high molecular weight resins are photoconductors in the photoconductive layer,
It has been revealed that the more appropriate interaction with the interaction between the spectral sensitizing dye and the resin having a low molecular weight is more important than expected.

【0020】かかる検討を重ねた結果、極性基を含有す
る低分子量の樹脂〔A〕と併用すべき中〜高分子量の樹
脂として、本発明に従う極性基を片末端に結合して成る
高分子鎖を少なくとも3個有機分子中に有するスター型
共重合体を用いることにより、前記課題が有効に解決さ
れることが見出されたものである。この事は、本発明の
結着樹脂〔A〕及び〔B〕の相乗効果により、光導電体
粒子が充分に分散され且つ凝縮しない状態で存在し、更
に分光増感色素が光導電体粒子表面に充分に吸着されて
いること及び光導電体表面の余分な活性サイトを結着樹
脂が充分に吸着してトラップを補償していること等によ
るものと推定される。
As a result of repeated studies, a polymer chain having a polar group according to the present invention bonded to one end as a medium to high molecular weight resin to be used in combination with a low molecular weight resin [A] containing a polar group. It has been found that the above problems can be effectively solved by using a star-type copolymer having at least 3 in the organic molecule. This is due to the synergistic effect of the binder resins [A] and [B] of the present invention, in which the photoconductor particles are sufficiently dispersed and not condensed, and the spectral sensitizing dye is added to the surface of the photoconductor particles. It is presumed that this is due to the fact that the binder resin is sufficiently adsorbed on the photoconductor and that the binder resin sufficiently adsorbs the extra active sites on the surface of the photoconductor to compensate the trap.

【0021】即ち、特定の極性基をブロックで含有する
低分子量体の樹脂〔A〕は、光導電体粒子に充分吸着し
て該粒子を均一に分散し、その高分子鎖が非常に短いこ
とにより凝集を抑制すること、又、分光増感色素の吸着
疎外を起こさないこと等の重要な作用を有する。又、本
発明の特定の極性基を片末端に結合して成る高分子鎖を
含むスター型共重合体を用いる事で、静電特性(特に光
感度)及び撮像性(特に連続階調画像の再現性)が向上
し、且つ光導電層の機械的強度が充分に保持された。
That is, the low molecular weight resin [A] containing a specific polar group in a block is sufficiently adsorbed to the photoconductor particles to uniformly disperse the particles, and the polymer chain is very short. Has an important effect of suppressing aggregation and preventing adsorption of the spectral sensitizing dye. In addition, by using a star-type copolymer containing a polymer chain in which a specific polar group is bonded to one end of the present invention, electrostatic properties (especially photosensitivity) and image pickup property (especially continuous tone images) Reproducibility) was improved and the mechanical strength of the photoconductive layer was sufficiently retained.

【0022】これは、詳細は不明であるが、この樹脂の
重合体成分ブロックがスター型に規制された事による高
分子鎖間の絡み合い効果の向上とともに、更に高分子鎖
の末端に極性基を結合している事から、光導電体と適切
に相互作用することによると考えられる。更には本発明
において、樹脂〔B〕として、有機分子に結合する高分
子鎖が上記一般式(II)で示される繰り返し単位を重合
体成分として少なくとも含有するAブロックと上記特定
の極性基のうちから選択される少なくとも1種の極性基
を有する重合体成分を少なくとも1種含有するBブロッ
クとから構成されるAB型ブロックで構成される樹脂で
あることが好ましい(以降、この樹脂を特に樹脂
〔B’〕と称する。)。これは、この樹脂〔B’〕の高
分子鎖の片末端の極性基及びこれに隣接するBブロック
の部分が光導電体粒子と樹脂〔A〕よりも弱く相互作用
しつつ、且つ分光増感色素が光導電体粒子と充分に吸着
できる環境を形成すること、及びAブロックの部分の高
分子鎖間の絡み合い効果等によるものと考えられる。
Although the details are not clear, the effect of entanglement between polymer chains due to the star-shaped regulation of the polymer component block of this resin is improved, and polar groups are further added to the ends of the polymer chains. It is believed that it is due to the proper interaction with the photoconductor because it is bonded. Further, in the present invention, as the resin [B], among the A block containing at least the repeating unit represented by the general formula (II) as a polymer component, the polymer chain that binds to the organic molecule, and the specific polar group It is preferable that the resin is composed of an AB type block composed of a B block containing at least one polymer component having at least one polar group selected from B '].). This is because the polar group at one end of the polymer chain of this resin [B '] and the portion of the B block adjacent thereto interact weaker than the photoconductor particles with the resin [A], and the spectral sensitization is performed. It is considered that this is due to the formation of an environment in which the dye can be sufficiently adsorbed with the photoconductor particles, the entanglement effect between the polymer chains in the A block portion, and the like.

【0023】このことにより、公知の併用された中〜高
分子量の樹脂に比べて静電特性がより良化する。
As a result, the electrostatic characteristics are improved as compared with the known medium to high molecular weight resins used in combination.

【0024】この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用
色素として特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシ
アニン系顔料で特に顕著な効果を示した。一方、光導電
体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感
光体を従来公知のダイレクト刷版として用いた場合には
優れた撮像性とともに著しく良好な保水性を示す。
This effect was particularly remarkable with polymethine dyes or phthalocyanine pigments which are particularly effective as dyes for spectral sensitization from near infrared to infrared light. On the other hand, when the electrophotographic photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as the photoconductor is used as a conventionally known direct printing plate, it exhibits excellent image pick-up property and remarkably good water retention.

【0025】即ち、電子写真感プロセスを経て複写画像
を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理
液により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷
用原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に
優れた印刷用原版としての性能を示すものである。本発
明の感光体を不感脂化処理すると、非画像部の親水化が
充分になされ、保水性が向上することから印刷枚数が飛
躍的に向上した。これは、上記した酸化亜鉛粒子が均一
に分散されていること及び酸化亜鉛粒子表面に存在する
結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化処理液との不感脂
化反応が疎外されず迅速に且つ効果的に進行することに
よるものと考えられる。
That is, the photoconductor of the present invention, on which a copied image is formed through an electrophotographic process, is desensitized by chemically treating the non-image area with a conventionally known desensitizing treatment liquid to prepare a printing original plate. Shows excellent performance as an original plate for printing when it is printed by offset printing. When the photosensitizer of the present invention was desensitized, the non-image area was sufficiently hydrophilized and the water retention property was improved, resulting in a dramatic increase in the number of printed sheets. This is because the zinc oxide particles are uniformly dispersed and the presence state of the binder resin present on the surface of the zinc oxide particles is appropriate and the desensitizing reaction with the desensitizing treatment liquid is not alienated and quickly. It is considered that this is due to effective progress.

【0026】更には本発明において、低分子量の樹脂
〔A〕として、下記一般式(Ia)及び一般式(Ib)
で示される、2位に、及び/又は2位と6位に特定の置
換基を有するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含
有する、特定の置換基をもつメタクリレート成分と酸性
基成分とを含有する樹脂〔A〕(以降この低分子量体を
とくに樹脂〔AA〕と称する)であることが好ましい。
Further, in the present invention, the low molecular weight resin [A] is represented by the following general formula (Ia) and general formula (Ib).
Containing a benzene ring or a naphthalene ring having a specific substituent at the 2-position, and / or a 2-position and a 6-position, and a methacrylate component having a specific substituent and an acidic group component. It is preferable that the resin [A] (hereinafter, this low molecular weight substance is particularly referred to as resin [AA]).

【0027】[0027]

【化7】 [Chemical 7]

【0028】[0028]

【化8】 [Chemical 8]

【0029】〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA
2 は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜10
の炭化水素基、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素
原子)、シアノ基、−COR4 又は−COOR4 (R4
は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表し、B1
びB2 はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合する、
単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす。〕上
記特定の樹脂〔AA〕を用いると樹脂〔A〕の場合より
もより一層電子写真特性(特にV10、D.R.R、E
1/10)の向上が達成できる。
[In the formulas (Ia) and (Ib), A 1 and A
2 are each independently a hydrogen atom and a carbon number of 1-10.
Hydrocarbon group, halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom), cyano group, —COR 4 or —COOR 4 (R 4
Represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and B 1 and B 2 respectively bond —COO— and a benzene ring.
It represents a single bond or a connecting group having 1 to 4 connecting atoms. ] When the above-mentioned specific resin [AA] is used, the electrophotographic characteristics (particularly V 10 , DRR, E) are further improved as compared with the case of the resin [A].
1/10 ) improvement can be achieved.

【0030】この事の理由は不明であるが、1つの理由
として、メタクリレートのエステル成分である、オルト
位に置換基を有する平面性のベンゼン環又はナフタレン
環の効果により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマ
ー分子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考
えられる。
The reason for this is not clear, but one reason is that due to the effect of a planar benzene ring or naphthalene ring having a substituent at the ortho position, which is an ester component of methacrylate, the zinc oxide interface in the film is affected. It is considered that the arrangement of these polymer molecular chains in 1 is appropriately performed.

【0031】以下に、本発明の結着樹脂について詳しく
説明する。まず、本発明の樹脂〔A〕について説明す
る。樹脂〔A〕の重量平均分子量は1×103 〜2×1
4 、好ましくは2×103 〜1×104 であり、樹脂
〔A〕のガラス転移点は好ましくは−10℃〜100℃
の範囲のものが好ましいが、より好ましくは−5℃〜8
5℃である。
The binder resin of the present invention will be described in detail below. First, the resin [A] of the present invention will be described. The weight average molecular weight of the resin [A] is 1 × 10 3 to 2 × 1.
0 4 , preferably 2 × 10 3 to 1 × 10 4 , and the glass transition point of the resin [A] is preferably −10 ° C. to 100 ° C.
It is preferably in the range of, but more preferably -5 ° C to 8
It is 5 ° C.

【0032】樹脂〔A〕の分子量が1×103 より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、
一方分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂
であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感
光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下
での暗減衰保持率及び光感度の変動が多少大きくなり、
安定した複写画像が得られるという本発明の効果が薄れ
てしまう。
When the molecular weight of the resin [A] is less than 1 × 10 3 , the film forming ability is deteriorated and sufficient film strength cannot be maintained.
On the other hand, when the molecular weight is more than 2 × 10 4 , even in the case of the resin of the present invention, particularly in a photoreceptor using a near infrared to infrared spectral sensitizing dye, high temperature / high humidity, low temperature / low humidity under severe conditions. Fluctuations in dark decay retention rate and light sensitivity at
The effect of the present invention that a stable copy image is obtained is diminished.

【0033】樹脂〔A〕におけるAB型ブロック共重合
体での特定の極性基含有成分の重合体成分量は、共重合
体〔A〕100重量部当り好ましくは0.5〜20重量
部、より好ましくは3〜15重量部の割合で含有され
る。
The amount of the specific polar group-containing component in the AB type block copolymer of the resin [A] is preferably 0.5 to 20 parts by weight, more preferably 0.5 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the copolymer [A]. It is preferably contained in a proportion of 3 to 15 parts by weight.

【0034】樹脂〔A〕における極性基含有量が0.5
重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができない。一方、該極性基含有量が20重
量%よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性
が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高湿特性が低下
し、更にオフセットマスターとして用いるときに地汚れ
が増大する。
The content of polar groups in the resin [A] is 0.5
If the amount is less than wt%, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained. On the other hand, when the content of the polar group is more than 20% by weight, the dispersibility of the low molecular weight compound is lowered, the film smoothness and the high humidity property of the electrophotographic properties are deteriorated, and further when used as an offset master. The dirt on the ground increases.

【0035】次に、樹脂〔A〕であるAB型ブロック共
重合体のAブロックを構成する特定の極性基を含有する
重合成分について、更に具体的に説明する。該極性基と
しては、−PO3 2 基、−SO3 H基、−COOH
基、フェノール性OH基、−P(=O)(OH)R1 基及
び環状酸無水物含有基が挙げられ、好ましくは、−SO
3 H基、−COOH基、−P(=O)(OH)R1 基及び
フェノール性OH基が挙げられる。
Next, the polymerization component containing a specific polar group constituting the A block of the AB type block copolymer which is the resin [A] will be described more specifically. The polar group, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH
Group, a phenolic OH group, a -P (= O) (OH) R 1 group and a cyclic acid anhydride-containing group, and preferably -SO.
3 H group, -COOH group, -P (= O) (OH) R 1 group and phenolic OH group are mentioned.

【0036】ここで、−P(=O)(OH)R1 は、下記
化9で表わされる基を示し、ここにおいて該R1 は炭化
水素基又は−OR2 基(R2 は炭化水素基を表す)を表
し、R1 は好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデ
シル基、プロペニル基、メトキシメチル基、エトキシメ
チル基、2−エトキシエチル基,2−クロロエチル基、
2−ブロムエチル基、2−メトキシエチル基、2−フロ
ロエチル基、3−クロロプロピル基、3−メトキシプロ
ピル基、3−エトキシプロピル基、2−メトキシブチル
基、アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキ
シル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロ
ピル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基等)又は置換されても
よいアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、エチ
ルフェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル
基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メ
チル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェ
ニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、
アセチルフェニル基、ブトキシフェニル基等)等を表わ
し、R2 はR1 と同一の内容を表す。
Here, -P (= O) (OH) R 1 represents a group represented by the following chemical formula 9, wherein R 1 is a hydrocarbon group or an -OR 2 group (R 2 is a hydrocarbon group. R 1 is preferably an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, Propenyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-chloroethyl group,
2-bromoethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-fluoroethyl group, 3-chloropropyl group, 3-methoxypropyl group, 3-ethoxypropyl group, 2-methoxybutyl group, allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl Group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.) or an aryl group which may be substituted (eg, phenyl group, tolyl group, ethylphenyl) Group, propylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group,
Acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.) and R 2 has the same content as R 1 .

【0037】[0037]

【化9】 [Chemical 9]

【0038】フェノール性OH基としては、ヒドロキシ
フェノール又はヒドロキシフェニル基を置換基として含
有するメタクリル酸エステルもしくはアミド類を例とし
て挙げることができる。
Examples of the phenolic OH group include methacrylic acid esters or amides containing a hydroxyphenol or hydroxyphenyl group as a substituent.

【0039】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。
The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and the cyclic acid anhydride to be contained is an aliphatic dicarboxylic acid anhydride or an aromatic dicarboxylic acid anhydride. Things can be mentioned.

【0040】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物、、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロぺンタン−1,2−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物
環、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物環、
2,3−ビシクロ〔2.2.2〕オクタジカルボン酸無
水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチ
ル基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されていても
よい。
Examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride include:
Succinic anhydride, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexene-1,2- Dicarboxylic acid anhydride ring,
2,3-bicyclo [2.2.2] octadicarboxylic acid anhydride ring and the like can be mentioned, and these rings are, for example, chlorine atom,
A halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group and a hexyl group may be substituted.

【0041】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基(アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic acid anhydride ring, pyridine-dicarboxylic acid anhydride ring, thiophene-dicarboxylic acid anhydride ring, and the like. These rings are
For example, chlorine atom, halogen atom such as bromine atom, methyl group, ethyl group, propyl group, alkyl group such as butyl group,
Hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (as the alkoxy group, for example, methoxy group,
Ethoxy group etc.) may be substituted.

【0042】以上の如き「特定の極性基を含有する重合
体成分」としては、例えば一般式(I)で示される繰り
返し単位に相当する単量体と共重合し得る該極性基を含
有するビニル系化合物であればいずれでもよく、例え
ば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック〔基礎
編〕」培風館(1986年刊)等に記載されている。具
体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロ
モ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シ
アノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β
−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル
酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸
半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類
(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン
酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4
−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン
酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼ
ンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基
又はアリル基の半エステル誘導体及びこれらのカルボン
又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換
基中に該極性基を含有する化合物等が挙げられる。
The "polymer component containing a specific polar group" as described above is, for example, a vinyl group-containing vinyl group copolymerizable with a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I). Any compound may be used as long as it is a system compound, and is described, for example, in "Polymer Data Handbook [Basic Edition]", edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form,
α- (2-amino) methyl, α-chloro, α-bromo, α-fluoro, α-tributylsilyl, α-cyano, β-chloro, β-bromo, α-chloro- β
-Methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half-esters, itaconic acid half-amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg 2-pentenoic acid, 2-methyl- 2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4
-Ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half-esters, maleic acid half-amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, vinyl groups of dicarboxylic acids or allyl. Examples thereof include a half-ester derivative of a group, an ester derivative of a carboxylic acid or a sulfonic acid thereof, and a compound having the polar group in the substituent of an amide derivative.

【0043】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、b1 は−H、−CH3 、−Cl、−B
r、−CN、−CH2 COOCH3 又は−CH2 COO
Hを示し、b2 は−H又は−CH3 を示し、fは2〜1
8の整数を示し、gは1〜12の整数を示し、hは1〜
4の整数を示す。
The polar group-containing copolymerization component is exemplified below. Here, b 1 is -H, -CH 3, -Cl, -B
r, -CN, -CH 2 COOCH 3 or -CH 2 COO
Indicates H, b 2 represents -H or -CH 3, f is 2 to 1
8 is an integer, g is an integer of 1 to 12, and h is 1 to
Indicates an integer of 4.

【0044】[0044]

【化10】 [Chemical 10]

【0045】[0045]

【化11】 [Chemical 11]

【0046】[0046]

【化12】 [Chemical 12]

【0047】[0047]

【化13】 [Chemical 13]

【0048】[0048]

【化14】 [Chemical 14]

【0049】上記の如き特定の極性基を含有する重合成
分は該Aブロック中に2種以上含有されていてもよく、
その場合における該2種以上の極性基含有成分は該Aブ
ロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の
いずれの態様で含有されていてもよい。
Two or more kinds of the polymerization component containing a specific polar group as described above may be contained in the A block,
In that case, the two or more kinds of polar group-containing components may be contained in the A block in any mode of random copolymerization or block copolymerization.

【0050】また、該極性基を含有しない成分がAブロ
ック中に含まれていてもよく、該成分の例としては、B
ブロック中に含有され得る成分と同様のもの、例えば後
述の一般式(I)、(II)又は(III)で示される成分あ
るいはその他の成分として挙げられたもの等が挙げられ
る。かかる極性基非含有成分の含有量はAブロック中好
ましくは0〜50重量%、より好ましくは0〜20重量
%であるが、かかる極性基非含有成分がAブロック中に
含まれないことが最も好ましい。
A component which does not contain the polar group may be contained in the A block, and examples of the component include B.
The same as the components that can be contained in the block, for example, the components represented by the general formula (I), (II) or (III) described below or the components listed as other components can be mentioned. The content of such a polar group-free component in the A block is preferably 0 to 50% by weight, more preferably 0 to 20% by weight, but it is most preferable that such a polar group-free component is not contained in the A block. preferable.

【0051】次にAB型ブロック共重合体である樹脂
〔A〕において、Bブロック成分を構成する重合成分に
ついて詳しく説明する。Bブロック成分は、少なくとも
一般式(I)で示されるメタクリレート成分を含有し、
該式(I)のメタクリレート成分は好ましくはBブロッ
ク成分中、30〜100重量%、より好ましくは50〜
100重量%含有される。
Next, the polymerization component constituting the B block component in the resin [A] which is an AB type block copolymer will be described in detail. The B block component contains at least a methacrylate component represented by the general formula (I),
The methacrylate component of the formula (I) is preferably 30 to 100% by weight, more preferably 50 to 100% by weight in the B block component.
100% by weight is contained.

【0052】一般式(I)で示される繰り返し単位にお
いて、R11の炭化水素基は置換されていてもよい。R11
は好ましくは炭素数1〜18の置換されていてもよい炭
化水素基を表わす。置換基としては上記該AB型ブロッ
ク共重合体のAブロックを構成する重合成分に含有され
る前記極性基以外の置換基であればいずれでもよく、例
えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子等)、−OZ1 、−COO−Z1 、−OCOZ
1 (Z1 は炭素数1〜22のアルキル基を表わし、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシ
ル基、オクタデシル基等である)等の置換基が挙げられ
る。好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜18の置
換されてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、
オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチ
ル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエ
チル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基
等)、炭素数4〜18の置換されてもよいアルケニル基
(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニ
ル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル
基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセ
ニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7
〜12の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベン
ジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフ
チルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベン
ジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジ
メトキシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されても
よい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロ
ヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基等)又
は炭素数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例え
ば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、
プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェ
ニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エ
トキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシ
フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、
ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニ
ル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボ
ニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセ
トアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデ
シロイルアミドフェニル基等)等があげられる。
In the repeating unit represented by the general formula (I), the hydrocarbon group of R 11 may be substituted. R 11
Is preferably an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. The substituent may be any substituent other than the polar group contained in the polymerization component constituting the A block of the AB type block copolymer, and examples thereof include a halogen atom (for example, a fluorine atom and a chlorine atom). ,
A bromine atom), - OZ 1, -COO- Z 1, -OCOZ
1 (Z 1 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a hexadecyl group, and an octadecyl group.) And the like. The preferred hydrocarbon group is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group,
Octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group,
Octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), which may be substituted with 4 to 18 carbon atoms. Alkenyl group (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4- Methyl-2-hexenyl group), carbon number 7
To 12 optionally substituted aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group) , A methoxybenzyl group, a dimethylbenzyl group, a dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (for example, a cyclohexyl group, a 2-cyclohexylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, etc.) or Optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group,
Propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group,
Bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group and the like).

【0053】R11の炭化水素基において、R11が脂肪族
基の場合には好ましくは炭素数1〜5の炭化水素基を式
(I)で表わされる成分中の60重量%以上含有するこ
とが好ましい。
[0053] In the hydrocarbon groups R 11, R 11 may contain preferably in the case of an aliphatic group or 60% by weight of the component represented a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms in formula (I) Is preferred.

【0054】更に、該樹脂〔A〕において、Bブロック
成分を構成する一般式(I)で示される繰り返し単位の
一部又は全部が前記一般式(Ia)及び一般式(Ib)
で示される、2位に、及び/又は2位と6位に特定の置
換基を有するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含
有する、特定の置換基をもつメタクリレート成分である
ことが好ましい。従ってBブロック成分中下記一般式
(Ia)及び(Ib)から選択される少なくとも1つの
繰り返し単位がBブロック中30重量%以上、特に50
〜100重量%含有されることが好ましい。
Further, in the resin [A], a part or all of the repeating unit represented by the general formula (I) constituting the B block component is represented by the general formula (Ia) and the general formula (Ib).
It is preferable that the methacrylate component having a specific substituent has a benzene ring or an unsubstituted naphthalene ring having a specific substituent at the 2-position and / or the 2-position and the 6-position shown by. Therefore, at least one repeating unit selected from the following general formulas (Ia) and (Ib) in the B block component is 30% by weight or more, particularly 50 or more, in the B block.
It is preferable that the content is ˜100 wt%.

【0055】式(Ia)において、好ましいA1 及びA
2 として、互いに独立に各々水素原子、ハロゲン原子
(例えば、塩素原子及び臭素原子)及びシアノ基の外
に、炭素数1〜10の炭化水素基として、好ましくは炭
素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、炭素数7〜9のアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロ
ピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、ブロ
モベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル
基、クロロメチルベンジル基)及びアリール基(例えば
フェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフェニル
基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基)、並びに−COR4 及び−COOR4 (好
ましいR4 としては上記の炭素数1〜10の好ましい炭
化水素基として記載したものを挙げることができる)を
挙げることができる。但し、A1 とA2 がともに水素原
子を表わすことはない。
In formula (Ia), preferred A 1 and A
As 2 are each a hydrogen atom independently of one another, a halogen atom (e.g., chlorine atom and bromine atom) outside and a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms ( For example, methyl group, ethyl group,
Propyl group, butyl group, aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloromethyl group A benzyl group) and an aryl group (for example, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a bromophenyl group, a methoxyphenyl group, a chlorophenyl group, a dichlorophenyl group), and -COR 4 and -COOR 4 (preferred R 4 has the above carbon number. 1 to 10 may be mentioned). However, neither A 1 nor A 2 represents a hydrogen atom.

【0056】式(Ia)及び(Ib)において、B1
びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結合
又は−(CH2 a −(aは1〜3の整数を表す)、−
CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO−、−(CH2
O)b −(bは1又は2の整数を表す)、−CH2 CH
2 O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基であり、よ
り好ましくは単結合又は結合原子数1〜2個の連結基を
挙げることができる。
In the formulas (Ia) and (Ib), B 1 and B 2 are each a single bond connecting —COO— and the benzene ring or — (CH 2 ) a — (a represents an integer of 1 to 3). ,-
CH 2 OCO -, - CH 2 CH 2 OCO -, - (CH 2
O) b - (b represents an integer of 1 or 2), - CH 2 CH
A connecting group having 1 to 4 connecting atoms such as 2 O- and the like, more preferably a single bond or a connecting group having 1 to 2 connecting atoms can be mentioned.

【0057】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(I
a)又は(Ib)で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。
The formula (I) used in the resin [A] of the present invention is
Specific examples of the repeating unit represented by a) or (Ib) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this.

【0058】[0058]

【化15】 [Chemical 15]

【0059】[0059]

【化16】 [Chemical 16]

【0060】[0060]

【化17】 [Chemical 17]

【0061】[0061]

【化18】 [Chemical 18]

【0062】更に、この樹脂〔A〕において、一般式
(I)及び極性基含有成分以外の成分として、前記一般
式(II)で示される単量体が好ましい。
Further, in the resin [A], the monomer represented by the general formula (II) is preferable as the component other than the general formula (I) and the polar group-containing component.

【0063】一般式(II)で示される重合体成分におい
て、a1 及びa2 は各々水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)、シアノ基又は炭素数1〜4
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等)等を表す。特に、a1 が水素原子を表
し、a2 がメチル基を表す場合が好ましい。
In the polymer component represented by the general formula (II), a 1 and a 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, etc.), a cyano group or a carbon number of 1 to 4
Represents an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.) and the like. Particularly, it is preferable that a 1 represents a hydrogen atom and a 2 represents a methyl group.

【0064】R12は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。更に具体的なR12
としては、前記式(I)で記載したR11と同様のものを
挙げることができる。
R 12 represents a hydrocarbon group, specifically an alkyl group, an aralkyl group or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring. is there. More specific R 12
Examples of the same include the same as R 11 described in the above formula (I).

【0065】また、樹脂〔A〕において、前記の特定の
極性基を含有する重合成分から成るAブロックとは別に
構成される該Bブロックにおいて、前記式(I){好ま
しくは(Ia)、(Ib)}又は前記式(II)で示され
る繰り返し単位は2種以上含有されていてもよく、更に
これら以外の他の重合成分を含有していてもよい。極性
基を含有しないBブロックにおいて2種以上の重合成分
が含有される場合には、該ABブロック共重合成分は該
Bブロック中においてランダム共重合又はブロック共重
合のいずれの態様で含有されていてもよいが、ランダム
に含有されることが好ましい。但し、ブロックBにおい
ては、ブロックAで含有される特定の極性基含有成分を
含有しないことを特徴とする。
In the resin [A], in the B block which is formed separately from the A block composed of the polymerization component containing the specific polar group, the formula (I) (preferably (Ia), ( Ib)} or the repeating unit represented by the formula (II) may be contained in two or more kinds, and may further contain other polymerization component other than these. When two or more polymerization components are contained in the B block containing no polar group, the AB block copolymerization component is contained in the B block in any of random copolymerization and block copolymerization modes. Although it may be contained, it is preferably contained at random. However, the block B is characterized by not containing the specific polar group-containing component contained in the block A.

【0066】前記した式(I)又は(II)で示される繰
り返し単位から選ばれた重合成分とともにBブロック中
に含有され得る他の重合成分は、これらと共重合する成
分であればいずれでもよい。
The other polymerization component which can be contained in the B block together with the polymerization component selected from the repeating units represented by the above formula (I) or (II) may be any component as long as it is a component copolymerized with them. .

【0067】例えば下記一般式(III)で示される繰り返
し単位が挙げられる。
For example, a repeating unit represented by the following general formula (III) can be mentioned.

【0068】[0068]

【化19】 [Chemical 19]

【0069】〔式(III)中、V1 は−COO−、−OC
O−、−(CH2 i OCO−、−(CH2 i COO
−、−O−、−SO2 −、−CON(R22)−、−SO
2 N(R22)−、−CO−、−CONHCOO−、−C
ONHCONH−又は−C6 4 −を表わす(ここで、
iは1〜3の整数を表わし、R22は水素原子又は炭化水
素を表わす)。R13は炭化水素基を表わす。d1 及びd
2 は、互いに同じでも異なってもよく、前記式(II)中
のa1 、a2 とそれぞれ同一の内容を表わす。〕ここ
で、R22は水素原子のほか、好ましい炭化水素基として
は、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
プチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル
基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換
されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−
プロペニル基、2−ブテニル基、2−ぺンテニル基、3
−メチル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−
ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘ
キセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいア
ラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチル
エチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロぺンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12の置換
されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボキシフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等)が挙げられる。
[In the formula (III), V 1 Is -COO-, -OC
O-,-(CH 2 ) i OCO-,-(CH 2 ) i COO
-, -O-, -SO 2 -, -CON (R twenty two )-,-SO
2 N (R twenty two )-, -CO-, -CONHCOO-, -C
ONHCONH- or -C 6 H Four Represents- (where
i represents an integer of 1 to 3 and R twenty two Is hydrogen atom or carbonized water
Represents the prime). R 13 Represents a hydrocarbon group. d 1 And d
2 May be the same or different from each other, and in the above formula (II)
Of a 1 , A 2 And have the same contents respectively. 〕here
And R twenty two Is a hydrogen atom or a preferable hydrocarbon group.
Is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg,
For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl
Group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroene group
Cyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2
-Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl
Group, 3-bromopropyl group, etc.), substituted with 4 to 18 carbon atoms
Optionally alkenyl groups (eg 2-methyl-1-
Propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3
-Methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-
Hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-he
Xenyl group, etc.), an alkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted.
Aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-
Phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthyl
Ethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methyl
Rubenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group
Group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.),
An alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example,
Chlorohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclohexyl group
(Clopentylethyl group, etc.) or substitution of 6 to 12 carbon atoms
Optionally aromatic groups (eg phenyl, naphthyl)
Group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, buty
Ruphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl
Group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoki
Cyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl
Group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyano
Phenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonyl
Phenyl group, ethoxycarboxyphenyl group, butoxy
Carbonylphenyl group, acetamidophenyl group, pro
Pioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group
Etc.) can be mentioned.

【0070】V1 が−C6 4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等)等が挙げられる。
[0070] V 1 is -C 6 H 4 - may represent a benzene ring may have a substituent. As the substituent, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.) and the like.

【0071】R13は、炭化水素基を表わし、好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜22の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−
メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、
3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メ
チル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−ヘキ
セニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロぺ
ンチルエチル基等)、炭素数6〜12の置換されてもよ
い芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル
基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙
げられる。
R 13 represents a hydrocarbon group, and a preferable hydrocarbon group is an optionally substituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group). , Hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group,
3-bromopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-perenyl group). Ntenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), and optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group). Group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon number 5 to 8 optionally substituted alicyclic groups (eg, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc. An optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, Ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, A propioamidophenyl group, a dodecyloylamidophenyl group, etc.).

【0072】更に好ましくは、一般式(III)において、
1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO−、−
CH2 COO−、−O−、−CONH−、−SO2 NH
−又は−C6 4 −を表わす。
More preferably, in the general formula (III),
V 1 is -COO-, -OCO-, -CH 2 OCO-,-.
CH 2 COO -, - O - , - CONH -, - SO 2 NH
- or -C 6 H 4 - represents a.

【0073】更に含有され得るこれら以外の繰り返し単
位を構成する共重合成分として、例えば一般式(I)で
説明した以外の置換基を含有するメタクリル酸エステル
類、アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類に加
え、α−オレフィン類、カルボン酸ビニル又はアリル酸
エステル類(例えばカルボン酸として、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸
等)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニル
エーテル類、イタコン酸エステル類(例えばジメチルエ
ステル、ジエチルエステル等)、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン類(例えばスチレン、ビニ
ルトルエン、クロロスチレン、ヒドロキシスチレン、
N,N−ジメチルアミノメチルスチレン、メトキシカル
ボニルスチレン、メタンスルホニルオキシスチレン、ビ
ニルナフタレン等)、ビニルスルホン含有化合物、ビニ
ルケトン含有化合物、複素環ビニル類(例えばビニルピ
ロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニ
ルチオフェン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾー
ル、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルテトラ
ゾール、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
As the copolymerization component constituting the repeating unit other than these, which may be further contained, for example, methacrylic acid esters, acrylic acid esters, crotonic acid esters containing substituents other than those explained in the general formula (I). In addition, α-olefins, vinyl carboxylates or allyl esters (for example, as carboxylic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, Itaconic acid esters (eg, dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (eg, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, etc.)
N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.), vinylsulfone-containing compound, vinylketone-containing compound, heterocyclic vinyls (eg vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, Vinyl imidazoline, vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl quinoline, vinyl tetrazole, vinyl oxazine and the like).

【0074】本発明の樹脂〔A〕で用いられるABブロ
ック共重合体は、従来公知の重合反応法によって製造す
ることができる。具体的には、該特定の極性基を含有す
る重合体成分に相当する単量体において該極性基を予め
保護した官能基としておき、有機金属化合物(例えばア
ルキルリチウム類、リチウムジイソプロピルアミド、ア
ルキルマグネシウムハライド類等)もしくはヨウ化水素
/ヨウ素系等によるイオン重合反応、ポルフィリン金属
錯体を触媒とする光重合反応又はグループ移動重合反応
等の公知のいわゆるリビング重合反応でABブロック共
重合体を合成した後、極性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応又は光分解反応
等によって脱保護反応を行ない、極性基を形成させる方
法が挙げられる。その1つの例を下記の反応スキーム
(1)に示した。
The AB block copolymer used in the resin [A] of the present invention can be produced by a conventionally known polymerization reaction method. Specifically, in the monomer corresponding to the polymer component containing the specific polar group, the polar group is preliminarily protected as a functional group, and an organometallic compound (eg, alkyllithium, lithium diisopropylamide, alkylmagnesium) is used. After synthesizing an AB block copolymer by a known so-called living polymerization reaction such as an ionic polymerization reaction with a halide or the like) or a hydrogen iodide / iodine system, a photopolymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst, or a group transfer polymerization reaction A method of forming a polar group by performing a deprotection reaction on a functional group having a protected polar group by a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, a photodecomposition reaction, or the like. One example thereof is shown in the following reaction scheme (1).

【0075】[0075]

【化20】 [Chemical 20]

【0076】これらは、例えば、P.Lutz、P.M
asson etal、Polym.Bull.
.,79(1984)、B.C.Anderson、
G.D.Andrews etal、Macromol
ecules、14、1601(1981)、K.Ha
tada、K.Ute.etal、Polym.J.
、977(1985)、18、1037(198
6)、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366
(1987)、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、
、189(1989)、M.Kuroki、T.Ai
da、J.Am.Chem.Soc.109、4737
(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、
、300(1985)、D.Y.Sogah、W.
R.Hertleretal.Macromolecu
les、20、1473(1987)等に記載の合成方
法に従って容易に合成することができる。
These are, for example, P.P. Lutz, P.M. M
asson et al, Polym. Bull. 1
2 . 79 (1984), B.I. C. Anderson,
G. D. Andrews et al, Macromol
ecules, 14 , 1601 (1981), K.S. Ha
tada, K .; Ute. et al, Polym. J. 1
7 , 977 (1985), 18 , 1037 (198)
6), Koichi Right Hand, Koichi Hatada, Polymer Processing, 36 , 366
(1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Transactions on Polymers, 4
6 , 189 (1989), M.S. Kuroki, T .; Ai
da, J. Am. Chem. Soc. 109 , 4737
(1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 4.
3 , 300 (1985), D.I. Y. Sogah, W.C.
R. Herretaltal. Macromolecule
It can be easily synthesized according to the synthetic method described in Les, 20 , 1473 (1987) and the like.

【0077】更に、ABブロック共重合体は、極性基を
保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント基
を含有する化合物及び/又はザンテート基を含有する化
合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって合
成することもできる。例えば、大津隆行、高分子、
,248(1988)、檜森俊一、大津隆一、Pol
ym.Rep.Jap.37.3508(1988)、
特開昭64−111号、特開昭64−26619号、東
信行等、Polymer Preprints、Jap
an、36、(6)、1511(1987)、M.Ni
wa、N.Higashi、etal、J.Macro
mol.Sci.Chem.A24(5)、567(1
987)等に記載の合成方法に従って合成することがで
きる。
Further, the AB block copolymer uses a monomer in which a polar group is not protected, and is irradiated with light by using a compound containing a disiocarbament group and / or a compound containing a xanthate group as an initiator. It can also be synthesized by performing a polymerization reaction below. For example, Takayuki Otsu, Polymer, 3
7 , 248 (1988), Shunichi Hinomori, Ryuichi Otsu, Pol
ym. Rep. Jap. 37 . 3508 (1988),
JP-A-64-111, JP-A-64-26619, Nobuyuki Higashi, Polymer Preprints, Japan
an, 36 , (6), 1511 (1987), M.A. Ni
wa, N.W. Higashi, et al. Macro
mol. Sci. Chem. A24 (5), 567 (1
987) and the like.

【0078】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。
例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談社刊
(1977年)、T.W.Greene、「Prote
ctive Groups in Organic S
ynthesis」,John Wiley & So
ns(1981年)、J.F.W.McOmie、「P
rotective Groups in Organ
ic Chemistry」Plenum Pres
s、(1973年)等の総説に詳細に記載されている方
法を適宜選択して行なうことができる。
Regarding protection of a specific polar group with a protecting group and elimination of the protecting group (deprotection reaction) of the present invention,
This can be easily performed by utilizing the conventionally known knowledge.
For example, various descriptions are given in the above cited document, and further,
Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymer" published by Kodansha Co., Ltd. (1977), T.S. W. Greene, "Prote
ctive Groups in Organic S
"Thesis", John Wiley & So
ns (1981), J. F. W. McOmie, "P
Protective Groups in Organ
ic Chemistry "Plenum Pres
s, (1973) and the like, which are described in detail in the review article, can be appropriately selected and performed.

【0079】更には、ブロックAはブロックBのいずれ
かの部分を含有するアゾビス化合物(即ち、高分子アゾ
ビス開始剤)を合成し、これを開始剤として、他の一方
のブロックを形成するに相当する単量体類をラジカル重
合反応で合成する方法を用いることもできる。
Further, the block A is equivalent to synthesizing an azobis compound (that is, a high molecular weight azobis initiator) containing any part of the block B and using this as an initiator to form the other block. It is also possible to use a method of synthesizing the above-mentioned monomers by radical polymerization reaction.

【0080】具体的には、上田明、永井進、高分子論文
集、44、469(1987)、上田明、大阪市立工業
研究所報告、84(1989)等に記載された方法で合
成することができる。
Specifically, it should be synthesized by the method described in Akira Ueda, Susumu Nagai, Kobunshi Shinbun, 44 , 469 (1987), Akira Ueda, Osaka Municipal Industrial Research Institute Report, 84 (1989) and the like. You can

【0081】本反応を利用して合成する場合には、高分
子アゾビス開始剤の合成のし易さ及びブロック化の重合
反応の規則性等から該高分子開始剤の重量平均分子量
は、2×104 以下が好ましい。
In the case of synthesizing using this reaction, the weight average molecular weight of the polymer azobis initiator is 2 × because of the ease of synthesis of the polymer azobis initiator and the regularity of the polymerization reaction of blocking. It is preferably 10 4 or less.

【0082】以上のことから、本反応で合成する場合、
ブロックA含有の高分子開始剤を用いる方法が好まし
い。例えば下記に示す様な反応スキーム(2)で反応す
ることができる。
From the above, when synthesizing by this reaction,
A method using a block A-containing polymer initiator is preferable. For example, the reaction can be carried out according to the reaction scheme (2) shown below.

【0083】[0083]

【化21】 [Chemical 21]

【0084】次に本発明の樹脂〔B〕について説明す
る。樹脂〔B〕は、前記一般式(II)で示される重合体
成分を少なくとも30重量%以上含有する高分子鎖が、
有機分子中に少なくとも3個結合して成るスター型共重
合体であり且つ該各高分子鎖の有機分子に結合した反対
側の主鎖の末端に、上記樹脂〔A〕に含有される特定の
極性基と同様の基から選ばれた少なくとも1つの極性基
を結合して成るスター型共重合体である。
Next, the resin [B] of the present invention will be described. The resin [B] has a polymer chain containing at least 30% by weight of the polymer component represented by the general formula (II),
It is a star-type copolymer having at least three bonds in an organic molecule, and at the end of the main chain on the opposite side of each polymer chain bonded to the organic molecule, the specific polymer contained in the resin [A] is added. It is a star-type copolymer formed by bonding at least one polar group selected from the same groups as the polar groups.

【0085】更に好ましくは、樹脂〔B〕のスターを構
成する高分子鎖が、前記一般式(II)で示される重合体
成分を30重量%以上含有するAブロックと、樹脂
〔B〕において示される特定の極性基から選択される少
なくとも一種の極性基を含有する重合体成分を少なくと
も含有するBブロックとから構成されるAB型ブロック
高分子鎖で、BブロックのAブロックと結合する反対側
の末端に上記特定の極性基を結合してなる高分子鎖から
成るものである(樹脂〔B’〕)。
More preferably, the polymer chain constituting the star of the resin [B] is represented by the A block containing 30% by weight or more of the polymer component represented by the general formula (II) and the resin [B]. An AB type block polymer chain composed of a B block containing at least a polymer component containing at least one polar group selected from the specific polar groups It is composed of a polymer chain having the above-mentioned specific polar group bonded to the terminal (resin [B ']).

【0086】即ち、該重合体を模式的に示すと下記化2
2の如くなる。
That is, the polymer is schematically shown below.
It becomes like 2.

【0087】[0087]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0088】〔ここで、Xは有機分子を表し、(A)は
Aブロックを、(B)はBブロックを表し、(A)−
(B)は高分子鎖を表す。−Wは、特定の極性基を表わ
す。〕また、かかる樹脂〔B〕のスターを構成する高分
子鎖は、有機分子中に含まれる上限は多くても15個、
通常10個程度である。樹脂〔B〕の重量平均分子量は
2×104 〜1×106 、好ましくは3×104 〜5×
105 である。樹脂〔B〕の分子量が2×104 より小
さくなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保て
ず、また分子量が1×106 より大きくなると本発明の
樹脂〔B〕の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程
度の電子特性になってしまう。
[Where X represents an organic molecule, (A) represents an A block, (B) represents a B block, and (A)-
(B) represents a polymer chain. -W represents a specific polar group. Further, the polymer chain constituting the star of the resin [B] has an upper limit of 15 in the organic molecule at most,
Usually, it is about 10. The weight average molecular weight of the resin [B] is 2 × 10 4 to 1 × 10 6 , preferably 3 × 10 4 to 5 ×.
It is 10 5 . When the molecular weight of the resin [B] is less than 2 × 10 4 , the film forming ability is lowered and sufficient film strength cannot be maintained, and when the molecular weight is more than 1 × 10 6 , the effect of the resin [B] of the present invention is obtained. The amount is reduced, and the electronic characteristics are the same as those of conventionally known resins.

【0089】該樹脂〔B〕のガラス転移点は、−10℃
〜100℃の範囲のものが好ましいが、より好ましくは
0℃〜90℃である。本発明のスター型共重合体(樹脂
〔B〕)の高分子鎖を構成する各成分は以下の特徴を有
する。
The glass transition point of the resin [B] is −10 ° C.
The temperature is preferably in the range of -100 to 100 ° C, more preferably 0 to 90 ° C. Each component constituting the polymer chain of the star type copolymer (resin [B]) of the present invention has the following characteristics.

【0090】高分子鎖に少なくとも含有される前記一般
式(II)で示される繰り返し単位で示される重合体成分
は、好ましくは30〜100重量%、より好ましくは5
0〜100重量%含有される。又、樹脂〔B’〕の高分
子鎖のAブロックにおいても、上記重合体成分の存在量
は、Aブロックの全重合体成分中の好ましくは30〜1
00重量%より好ましくは50〜100重量%である。
The polymer component represented by the repeating unit represented by the general formula (II) contained in at least the polymer chain is preferably 30 to 100% by weight, more preferably 5% by weight.
It is contained in an amount of 0 to 100% by weight. Also, in the A block of the polymer chain of the resin [B ′], the amount of the polymer component present is preferably 30 to 1 in all polymer components of the A block.
It is preferably 50 to 100% by weight, more preferably 00 to 100% by weight.

【0091】また、本発明樹脂〔B’〕におけるAブロ
ックにおいては、Bブロックで含有される特定の極性基
含有成分を含有しないことを特徴する。
Further, the A block in the resin [B '] of the present invention is characterized by not containing the specific polar group-containing component contained in the B block.

【0092】一般式(II)の成分の具体的内容について
は、樹脂〔A〕で説明したものと同様のものに準じる。
更に他に含有され得る重合体成分としては、例えば、樹
脂〔A〕のところで記載した一般式(III)で示される成
分が挙げられる。
The specific contents of the component of the general formula (II) are the same as those described for the resin [A].
Examples of other polymer components that can be contained include the components represented by the general formula (III) described in the resin [A].

【0093】更には、式(III) に示される重合体成分と
ともに含有され得る重合体成分として、該式(III)の重
合体成分と共重合しうる他の繰り返し単位に相当する単
量体、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、
複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニルイミダ
ゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニル
ピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジン等)
等が挙げられる。これら他の単量体は高分子鎖中の全重
合体成分100重量部中20重量部を超えない範囲で用
いられる。
Further, as a polymer component which can be contained together with the polymer component represented by the formula (III), a monomer corresponding to another repeating unit copolymerizable with the polymer component represented by the formula (III), For example, acrylonitrile, methacrylonitrile,
Heterocyclic vinyls (eg vinyl pyridine, vinyl imidazole, vinyl pyrrolidone, vinyl thiophene, vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl oxazine, etc.)
Etc. These other monomers are used within a range not exceeding 20 parts by weight based on 100 parts by weight of all polymer components in the polymer chain.

【0094】また、本発明の樹脂〔B〕における、高分
子鎖末端に結合する極性基の含有量は樹脂〔B〕中0.
01〜15重量%、好ましくは0.05〜8重量%であ
る。該極性基含有量が0.01重量%よりも少ないと初
期電位が低くて充分な画像濃度を得ることができない。
一方、該極性基含有量が15重量%よりも多いと、光導
電体粒子の分散性が低下し、高温高湿での膜平滑度及び
電子写真特性が低下し、更にオフセットマスターとして
用いるときに地汚れが増大するため、好ましくない。
The content of the polar group bonded to the polymer chain end in the resin [B] of the present invention is 0.
It is 01 to 15% by weight, preferably 0.05 to 8% by weight. When the polar group content is less than 0.01% by weight, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained.
On the other hand, when the polar group content is more than 15% by weight, the dispersibility of the photoconductor particles is lowered, the film smoothness at high temperature and high humidity and the electrophotographic characteristics are lowered, and when used as an offset master. It is not preferable because the amount of soiling increases.

【0095】又、本発明の樹脂〔B〕は、各高分子鎖の
主鎖の末端に、前記の特定の極性基から選ばれた極性基
の少なくとも1種を、結合して成るものであり、該特定
の極性基は、該高分子鎖の主鎖に、直接結合してもよい
し、任意の連結基を介して結合してもよい。特定の極性
基としては、前記樹脂〔A〕で説明したと同様の内容の
極性基が具体的な例として挙げられる。
The resin [B] of the present invention comprises at least one polar group selected from the above-mentioned specific polar groups bonded to the end of the main chain of each polymer chain. The specific polar group may be directly bonded to the main chain of the polymer chain, or may be bonded via an arbitrary linking group. Specific examples of the specific polar group include polar groups having the same contents as those described in the resin [A].

【0096】連結する基としては、例えば炭素−炭素結
合(一重結合あるいは二重結合)、炭素−ヘテロ原子結
合(ヘテロ原子としては例えば、酸素原子、イオウ原
子、窒素原子、ケイ素原子等)、ヘテロ原子−ヘテロ原
子結合の原子団の任意の組合せで構成されるものであ
る。即ち、具体的には、単なる結合または−C(Z4
(Z4 )−〔Z4 は同じでも異なってもよく、水素原
子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基等)等を示
す〕、−(CH=CH)−、−C6 10−、−C6 4
−、−O−、−S−、−CO−、−N(Z5 )−、−C
OO−、−C(=S)−、−Si(Z5 2 −、−SO
2 −、−CON(Z 5 )−、−SO2 N(Z5 )−、−
NHCOO−、−NHCONH−、−C(Z5
(Z5 )−〔Z5 はそれぞれ水素原子、前記一般式
(I)におけるR11と同様の内容を表わす炭化水素基等
を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基もしくは
任意の組合せで構成された連結基を表わす。
The group to be linked is, for example, a carbon-carbon bond.
Compound (single bond or double bond), carbon-heteroatom bond
(As a hetero atom, for example, oxygen atom, sulfur atom
Child, nitrogen atom, silicon atom, etc.), hetero atom-hetero atom
Composed of any combination of atomic groups of child bonds
It That is, specifically, a mere bond or -C (ZFour)
(ZFour)-[ZFourCan be the same or different,
Child, halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, odor)
Elementary atom, etc.), cyano group, hydroxyl group, alkyl group
(Eg, methyl, ethyl, propyl, etc.)
],-(CH = CH)-, -C6HTen-, -C6HFour
-, -O-, -S-, -CO-, -N (ZFive)-, -C
OO-, -C (= S)-, -Si (ZFive)2-, -SO
2-, -CON (Z Five)-,-SO2N (ZFive)-,-
NHCOO-, -NHCONH-, -C (ZFive)
(ZFive)-[ZFiveAre each a hydrogen atom,
R in (I)11Hydrocarbon groups, etc. that have the same contents as
A single linking group selected from atomic groups such as
It represents a linking group composed of any combination.

【0097】また、樹脂〔B〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、前
記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
分の総量に対し10重量%〜50重量%であることが好
ましい。樹脂〔B〕における該総量が樹脂〔A〕のそれ
の10重量%未満であると、電子写真特性(特に暗中電
荷保持率、光感度)の低下が著しく、膜強度も低下す
る。また、50重量%を超えると、分散の均一化が不充
分となり、電子写真特性が低下し、オフセット原版とし
ては保水性が低下する。
In the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in all the copolymers is the specific polar group-containing polymer component contained in the resin [A]. It is preferably 10% by weight to 50% by weight with respect to the total amount. If the total amount of the resin [B] is less than 10% by weight of that of the resin [A], the electrophotographic properties (especially the charge retention in the dark and the photosensitivity) are significantly deteriorated, and the film strength is also decreased. On the other hand, if it exceeds 50% by weight, the homogenization of dispersion becomes insufficient, the electrophotographic characteristics are deteriorated, and the water retention property is lowered as an offset original plate.

【0098】次にABブロック・スター型共重合体であ
る樹脂〔B’〕がAB型ブロックの高分子鎖を構成する
Bブロック成分について詳しく説明する。ブロックBを
構成する特定の極性基を含有する重合成分の具体例とし
ては、前記した樹脂〔A〕の特定の極性基を含有する重
合体成分と同様のものを挙げることができる。
Next, the B block component in which the resin [B '] which is an AB block / star type copolymer constitutes the polymer chain of the AB type block will be described in detail. Specific examples of the polymer component containing a specific polar group that constitutes the block B include the same as the polymer component containing a specific polar group of the resin [A] described above.

【0099】上記の如き特定の極性基を含有する重合成
分は該Bブロック中に2種以上含有されていてもよく、
その場合における該2種以上の極性基含有成分は該Bブ
ロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の
いずれの態様で含有されていてもよい。
Two or more kinds of polymerization components containing a specific polar group as described above may be contained in the B block,
In that case, the two or more kinds of polar group-containing components may be contained in the B block in any mode of random copolymerization or block copolymerization.

【0100】また、上記極性基含有の重合体成分以外の
重合体成分をBブロック中に含有していてもよく、かか
る重合体成分としては好ましくは前記一般式(I)、
(II)及び(III) の繰り返し単位に相当する重合体成
分、更にはその他の成分として記載したものと同様のも
のが挙げられる。樹脂〔B’〕における特定の極性基含
有成分の含有量は、樹脂〔B’〕の全重合成分100重
量部当り好ましくは0.05〜15重量部、より好まし
くは0.1〜5重量部の割合で含有される。
Further, a polymer component other than the above polar group-containing polymer component may be contained in the B block, and such polymer component is preferably the above-mentioned general formula (I),
Examples thereof include polymer components corresponding to the repeating units of (II) and (III), and the same as those described as other components. The content of the specific polar group-containing component in the resin [B '] is preferably 0.05 to 15 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total polymerization components of the resin [B']. It is contained in the ratio of.

【0101】結着樹脂〔B’〕における極性基含有量が
0.05重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な
画像濃度を得ることができず、該極性基含有量が15重
量%よりも多いと、分散性が低下し、膜平滑度及び電子
写真特性の高温高湿が低下し、更にオフセットマスター
として用いるときに地汚れが増大するため、好ましくな
い。
When the content of the polar group in the binder resin [B '] is less than 0.05% by weight, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained, and the content of the polar group is 15% by weight. If the amount is larger than the above range, the dispersibility is lowered, the high temperature and high humidity of the film smoothness and the electrophotographic characteristics are lowered, and further, the background stain is increased when it is used as an offset master, which is not preferable.

【0102】本発明の樹脂〔B’〕においてABブロッ
クで構成される高分子鎖のBブロック中に含有される特
定の極性基の種類と高分子鎖の末端に結合する極性基の
種類は、同じでも異なってもよい。また、本発明の樹脂
〔B’〕において、共重合成分として含有される極性基
と、重合体主鎖の片末端に結合された極性基の存在割合
は、本発明の光導電層を構成する他の結着樹脂、分光増
感色素、化学増感剤あるいはそれ以外の添加剤の種類・
量によって異なり、その割合は任意に調節することが好
ましい。重要なことは、両者の極性基の総量が0.05
〜15重量%の範囲の内で使用されることである。
In the resin [B ′] of the present invention, the kind of the specific polar group contained in the B block of the polymer chain composed of the AB block and the kind of polar group bonded to the end of the polymer chain are It may be the same or different. In the resin [B ′] of the present invention, the proportion of the polar group contained as a copolymerization component and the polar group bonded to one end of the polymer main chain constitutes the photoconductive layer of the present invention. Types of other binder resins, spectral sensitizing dyes, chemical sensitizers or other additives
It depends on the amount, and it is preferable to adjust the ratio arbitrarily. The important thing is that the total amount of both polar groups is 0.05
It is to be used within the range of 15% by weight.

【0103】本発明の樹脂〔B’〕において重要なこと
は、樹脂〔B’〕全成分量100重量部における、該特
定の極性基含有置換成分の存在割合が、上記のように
0.05〜15重量%の範囲内であることであり、更に
該樹脂〔B’〕において、樹脂〔B’〕の高分子鎖成分
中と主鎖片末端の両者に存在する場合は、上記存在割合
の範囲内で任意に分割されるものである。
What is important in the resin [B ′] of the present invention is that the ratio of the specific polar group-containing substitution component present in the resin [B ′] in 100 parts by weight is 0.05% as described above. It is within the range of 15 to 15% by weight, and in the resin [B ′], when it is present in both the polymer chain component of the resin [B ′] and one end of the main chain, the above-mentioned abundance ratio is It is arbitrarily divided within the range.

【0104】好ましくは、高分子鎖成分中の存在割合
は、末端成分中のそれを1.0とすると0.1〜1.0
の比である。
Preferably, the abundance ratio in the polymer chain component is 0.1 to 1.0, where 1.0 is that in the terminal component.
Is the ratio of

【0105】一方樹脂〔B’〕においてAブロックとB
ブロックの全重合体成分の重量比は、全重合体100重
量部中、Aブロックの存在割合は、好ましくは50〜9
5重量%、より好ましくは、60〜90重量%である。
又、該ブロック高分子鎖においてブロックAの方がブロ
ックBより重量平均分子量が大きい事が好ましい。
On the other hand, in resin [B '], A block and B block
The weight ratio of all the polymer components of the block is such that the proportion of the A block present in 100 parts by weight of the total polymer is preferably 50 to 9
It is 5% by weight, more preferably 60 to 90% by weight.
Further, in the block polymer chain, it is preferable that the block A has a larger weight average molecular weight than the block B.

【0106】一方、本発明に従う、高分子鎖を少なくと
も3本以上結合して成る有機分子としては、該分子の分
子量が1000以下のものであれば特に限定されるもの
ではない。例をあげれば、化23等の3価の炭化水素残
基が挙げられる。
On the other hand, the organic molecule according to the present invention formed by binding at least three polymer chains is not particularly limited as long as the molecular weight of the molecule is 1,000 or less. Examples include trivalent hydrocarbon residues such as Chemical formula 23.

【0107】[0107]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0108】(ここで、( )内は繰り返し単位を表
す。r1 〜r4 は水素原子又は炭化水素基を表す。但し
1 及びr2 又はr3 及びr4 のうち少なくとも1つは
高分子鎖に連結する。)これらの有機残基は単独又はこ
れらの任意の組み合わせの構成からなり、組み合わせの
場合は、−O−、−S−、−N(r7 )−、−CO−、
−CS−、−COO−、−CON(r7 )−、−SO2
−、−SO2 N(r7 )−(ここでr7はそれぞれ水素
原子又は炭化水素基を表す),−NHCOO−、−NH
CONH−,酸素原子、イオウ原子、窒素原子等のヘテ
ロ原子含有の複素環基(例えば、チオフェン環、ピリジ
ン環、ピラン環、イミダゾ−ル環、ベンゾイミダゾ−ル
環、フラン環、ピペリジン環、ピラジン環、ピロ−ル
環、ピペラジン環等)等の結合単位の組み合わせを含ん
でいてもよい。
[0108] (wherein, in () .r 1 ~r 4 which represents a repeating unit represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Provided that at least one of r 1 and r 2 or r 3 and r 4 are high These organic residues are constituted alone or in any combination thereof, and in the case of a combination, —O—, —S—, —N (r 7 ) —, —CO—,
-CS -, - COO -, - CON (r 7) -, - SO 2
-, - SO 2 N (r 7) - ( wherein each represent r 7 hydrogen atom or a hydrocarbon group), - NHCOO -, - NH
A heterocyclic group containing a hetero atom such as CONH-, oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom (eg, thiophene ring, pyridine ring, pyran ring, imidazole ring, benzimidazole ring, furan ring, piperidine ring, pyrazine) Ring, pyrrole ring, piperazine ring, etc.) and the like.

【0109】他の該高分子鎖を結合する有機分子として
は、下記化24と上記結合単位との組み合わせから構成
されるものが挙げられる。しかしながら、本発明に従う
有機分子の具体例としては、これらに限定されるもので
はない。
Examples of other organic molecules which bond the polymer chains include those composed of a combination of the following chemical formula 24 and the above-mentioned bonding unit. However, specific examples of the organic molecule according to the present invention are not limited to these.

【0110】[0110]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0111】本発明のスター型共重合体〔B〕は、従来
公知の重合反応法によって製造することができる。具体
的には、該特定の極性基を含有する重合体成分に相当す
る単量体において該極性基を予め保護した官能基として
おき、有機金属化合物(例えばアルキルリチウム類、リ
チウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネシウムハ
ライド類等)もしくはヨウ化水素/ヨウ素系等によるイ
オン重合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とする光重
合反応又はグループ移動重合反応等の公知のいわゆるリ
ビング重合反応でABブロック共重合体を重合反応した
後、停止反応時に、特定の極性基を直接導入するかある
いは、該極性基を結合できる官能基を導入した後極性基
を化学結合させる。その後、重合体成分中の極性基を保
護した官能基を加水分解反応、加水素分解反応、酸化分
解反応又は光分解反応等によって脱保護反応を行ない、
極性基を形成させる方法が挙げられる。
The star copolymer [B] of the present invention can be produced by a conventionally known polymerization reaction method. Specifically, in the monomer corresponding to the polymer component containing the specific polar group, the polar group is preliminarily protected as a functional group, and an organometallic compound (eg, alkyllithium, lithium diisopropylamide, alkylmagnesium) is used. Halides, etc.) or ionic polymerization reaction with hydrogen iodide / iodine system, photopolymerization reaction using porphyrin metal complex as catalyst, group transfer polymerization reaction, or other known so-called living polymerization reaction to polymerize the AB block copolymer. After that, during the termination reaction, a specific polar group is directly introduced, or a functional group capable of binding the polar group is introduced, and then the polar group is chemically bonded. Thereafter, a deprotection reaction is carried out by a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, a photolysis reaction or the like of the functional group which protects the polar group in the polymer component,
The method of forming a polar group is mentioned.

【0112】これらは、例えば、P.Lutz、P.M
asson etal、Polym.Bull.
.,79(1984)、B.C.Anderson、
G.D.Andrews etal、Macromol
ecules、14、1601(1981)、K.Ha
tada、K.Ute.etal、Polym.J.
、977(1985)、18、1037(198
6)、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366
(1987)、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、
、189(1989)、M.Kuroki、T.Ai
da、J.Am.Chem.Soc.109、4737
(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、
、300(1985)、D.Y.Sogah、W.
R.Hertleretal.Macromolecu
les、20、1473(1987)等に記載の合成方
法に従って容易に合成することができる。
These are, for example, P.M. Lutz, P.M. M
asson et al, Polym. Bull. 1
2 . 79 (1984), B.I. C. Anderson,
G. D. Andrews et al, Macromol
ecules, 14 , 1601 (1981), K.S. Ha
tada, K .; Ute. et al, Polym. J. 1
7 , 977 (1985), 18 , 1037 (198)
6), Koichi Right Hand, Koichi Hatada, Polymer Processing, 36 , 366
(1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Transactions on Polymers, 4
6 , 189 (1989), M.S. Kuroki, T .; Ai
da, J. Am. Chem. Soc. 109 , 4737
(1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 4.
3 , 300 (1985), D.I. Y. Sogah, W.C.
R. Herretaltal. Macromolecule
It can be easily synthesized according to the synthetic method described in Les, 20 , 1473 (1987) and the like.

【0113】更に、ABブロック共重合体は、極性基を
保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント基
を含有する化合物及び/又はザンテート基を含有する化
合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって合
成することもできる。例えば樹脂〔A〕の合成法のとこ
ろで記載した文献に従って合成することができる。
Further, the AB block copolymer is prepared by using a monomer in which a polar group is not protected and using a compound containing a dithiocarbament group and / or a compound containing a xanthate group as an initiator. It can also be synthesized by performing a polymerization reaction below. For example, it can be synthesized according to the literature described in the method of synthesizing resin [A].

【0114】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。
例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
樹脂〔A〕の合成法のところで記載した総説に詳細に記
載されている方法を適宜選択して行なうことができる。
The protection of the specific polar group of the present invention with a protective group and the elimination of the protective group (deprotection reaction) are as follows:
This can be easily performed by utilizing the conventionally known knowledge.
For example, various descriptions are given in the above cited document, and further,
The method described in detail in the review article described in the method of synthesizing resin [A] can be appropriately selected and performed.

【0115】本発明の光導電層に供される結着樹脂とし
て、本発明の樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。
但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂10
0重量部中30重量部を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしま
う。
As the binder resin used for the photoconductive layer of the present invention, the above-mentioned known resins for inorganic photoconductors may be used in combination with the resins [A] and [B] of the present invention.
However, the proportion of these other resins used is the total amount of the binder resin 10
A range not exceeding 30 parts by weight in 0 parts by weight is preferable. If this ratio is exceeded, the effect of the present invention will be significantly reduced.

【0116】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。
Typical other resins that can be used in combination are, for example, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-methacrylate copolymer, methacrylate copolymer, acrylate copolymer. , Vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, alkyd resin, silicone resin, epoxy resin, epoxy ester resin, polyester resin and the like.

【0117】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」1973(No.8)第9
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
10章、C.H.C.出版(1985年刊)、D.D.
Tatt、S.C.Heidecker、Tappi、
49(No.10)、439(1966)、E.S.B
altazzi、R.G.Blanclotte et
al、Photo.Sci.Eng.16(No.
5)、354(1972)、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌18(No.2)、
28(1980)、特公昭50−31011号、特開昭
53−54027号、同54−20735号、同57−
202544号、同58−68046号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。
Specifically, Ryuji Shibata, Jiro Ishiwata, "Polymer," Vol. 17, 278 (1968), Harumi Miyamoto.
Hidehiko Takei "Imaging" 1973 (No.8) 9th
Pp. Koichi Nakamura, "Practical Technology of Binders for Insulating Materials," Chapter 10, C.I. H. C. Published (1985), D.M. D.
Tatt, S. C. Heidecker, Tappi,
49 (No. 10), 439 (1966), E.I. S. B
Altazzi, R.A. G. Blanklotte et
al, Photo. Sci. Eng. 16 (No.
5), 354 (1972), Nguyen Chan Kae, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, The Electrophotographic Society of Japan 18 (No. 2),
28 (1980), JP-B-50-31011, JP-A-53-54027, JP-A-54-20735, and JP-A-57-57.
The resins disclosed in JP-A-202544 and JP-A-58-68046 are cited.

【0118】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体100重量部に対して、1
0重量部〜100重量部であることが好ましく、より好
ましくは15重量部〜50重量部である。
The total amount of the binder resin used in the photoconductive layer of the present invention is 1 with respect to 100 parts by weight of the inorganic photoconductor.
The amount is preferably 0 to 100 parts by weight, more preferably 15 to 50 parts by weight.

【0119】本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用割
合は、樹脂〔A〕/樹脂〔B〕の重量比で0.05〜
0.6/0.95〜0.40であることが好ましく、よ
り好ましくは0.10〜0.50/0.90〜0.50
である。
The resin [A] and the resin [B] of the present invention are used in an amount of 0.05 to 0.05 by weight ratio of resin [A] / resin [B].
It is preferably 0.6 / 0.95 to 0.40, more preferably 0.10 to 0.50 / 0.90 to 0.50.
Is.

【0120】結着樹脂の総量比が10重量部以下となる
と、光導電層の膜強度が維持できなくなる。又100重
量部以上になると、静電特性が低下し、実際の撮像性に
おいても複写画像の悪化を生じてしまう。
When the total amount ratio of the binder resin is 10 parts by weight or less, the film strength of the photoconductive layer cannot be maintained. On the other hand, when the amount is 100 parts by weight or more, the electrostatic characteristics are deteriorated and the copy image is deteriorated in the actual image pickup property.

【0121】又、本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使
用割合において樹脂〔A〕の重量比が0.05以下にな
ると、静電特性向上の効果が薄れてしまう。一方0.6
以上になると光導電層の膜強度が充分維持できなくなる
場合(特に電子写真式平版印刷用原版として)が生じ
る。
When the weight ratio of the resin [A] to the resin [A] and the resin [B] of the present invention is 0.05 or less, the effect of improving the electrostatic characteristics is diminished. On the other hand, 0.6
If the above is the case, the film strength of the photoconductive layer cannot be sufficiently maintained (particularly as an electrophotographic lithographic printing plate precursor).

【0122】本発明に使用する無機光導電材料として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。
Examples of the inorganic photoconductive material used in the present invention include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide and lead sulfide.

【0123】本発明に使用する分光増感色素としては、
必要に応じて各種の色素を単独又は併用して用いる。例
えば、宮本晴視、武井英彦、イメージング1973(N
o.8)第12頁、C.J.Young等、RCA R
eview 15、469(1054)、清田航平等、
電気通信学会論文誌J63C(No.2)、97
(1980)、原崎勇次等、工業科学雑誌66 78及
び188(1963)、谷忠昭、日本写真学会誌35
208(1972)等の総説引例のカーボニウム系色
素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、
キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素
(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタ
ロシアニン色素(金属を含有してもよい)等が挙げられ
る。
The spectral sensitizing dye used in the present invention includes
If necessary, various dyes are used alone or in combination. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (N
o. 8) Page 12, C.I. J. Young et al., RCA R
view 15 , 469 (1054), Kouhei Kiyota,
IEICE Transactions J63 - C (No. 2 ), 97
(1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Science Magazines 66 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 35 ,
Carbon dioxide dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, such as 208 (1972)
Examples thereof include xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (eg, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain a metal), and the like.

【0124】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−45
2号、特開昭50−90334号、同50−11422
7号、同53−39130号、同53−82353号、
米国特許第3,052,540号、同4,054,45
0号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙げ
られる。
More specifically, as those mainly containing carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes, Japanese Patent Publication No. 51-45 is available.
2, JP-A-50-90334 and JP-A-50-11422.
No. 7, No. 53-39130, No. 53-82353,
US Pat. Nos. 3,052,540 and 4,054,45
No. 0, those described in JP-A-57-16456, and the like.

【0125】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F.M.Harmmer 「The Cyani
neDyes and Related Compou
nd」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第3,047,384号、同3,11
0,591号、同3,121,008号、同3,12
5,447号、同3,128,179号、同3,13
2,942号、同3,622,317号、英国特許第
1,226,892号、同1,309,274号、同
1,405,898号、特公昭48−7814号、同5
5−18892号等に記載の色素が挙げられる。
Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes include F.I. M. Harmmer "The Cyani
neDyes and Related Compou
The dyes described in "nd" and the like can be used, and more specifically, U.S. Pat. Nos. 3,047,384 and 3,11.
0,591, 3,121,008, 3,12
5,447, 3,128,179 and 3,13
2,942, 3,622,317, British Patents 1,226,892, 1,309,274, 1,405,898, Japanese Patent Publication Nos. 48-7814, 5
Examples thereof include dyes described in No. 5-18892.

【0126】更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭4
7−840号、同47−44180号、特公昭51−4
1061号、特開昭49−5034号、同49−451
22号、同57−46245号、同56−35141
号、同57−157254号、同61−26044号、
同61−27551号、米国特許第3,619,154
号、同4,175,956号、「Research D
isclosure」1982年、216、第117〜
118頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動しにくい点において優れている。更には、必
要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真
感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、
前記した総説:イメージング1973(No.8)第1
2頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第4章〜第6章・日本科学情報(株)出版部
(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、p−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。
Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing a near-infrared region to an infrared region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A No. 4 (1994)-
No. 7-840, No. 47-44180, and Japanese Patent Publication No. 51-4
1061, JP-A-49-5034, and JP-A-49-451.
No. 22, No. 57-46245, No. 56-35141.
No. 57-157254, No. 61-26044,
No. 61-27551, U.S. Pat. No. 3,619,154.
No. 4,175,956, "Research D
isclosure ", 1982, 216, 117-
Examples thereof include those described on page 118. The photoconductor of the present invention is excellent in that the performance thereof hardly changes depending on the sensitizing dye even when various sensitizing dyes are used in combination. Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers can be used in combination. For example,
Review Article: Imaging 1973 (No. 8) No. 1
Electron-accepting compounds (eg halogen, benzoquinone, chloranil, organic carboxylic acid anhydrides, etc.) in the review article on page 2 etc., Hiroshi Komon, et al., "Recent Developments and Commercialization of Photoconductive Materials and Photoconductors" Chapter 4 to Chapter 6 ・ Polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds and the like, which are cited as reference articles of the Japanese Scientific Information Co., Ltd. Publishing Department (1986).

【0127】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
001〜2.0重量部である。光導電層の厚さは1〜1
00μ、特に10〜50μが好適である。
The addition amount of these various additives is not particularly limited, but usually 0.0 to 100 parts by weight of the photoconductor.
001 to 2.0 parts by weight. The photoconductive layer has a thickness of 1 to 1.
00μ, particularly 10 to 50μ is suitable.

【0128】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは0.01〜1μ、特に0.05〜0.5
μが好適である。
When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of the laminated type photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1 μm, particularly 0.05 to 0. 5
μ is preferred.

【0129】感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の
改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
In some cases, an insulating layer may be additionally provided for the purpose of protecting the photoreceptor and improving durability and dark decay characteristics.
At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and the insulating layer provided when the photoconductor is used in a specific electrophotographic process is set to be relatively thick.

【0130】後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70
μ、特には、10〜50μに設定される。積層型感光体
の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバゾール、オキ
サゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリフェニルメタ
ン系色素などがある。電荷輸送層の厚さとしては5〜4
0μ、特には10〜30μが好適である。
In the latter case, the insulating layer has a thickness of 5 to 70.
μ, particularly 10 to 50 μ. Examples of the charge transport material for the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes and the like. The thickness of the charge transport layer is 5 to 4
0 μ, particularly 10 to 30 μ is preferable.

【0131】絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体
樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及び効果性樹脂が適宜
用いられる。
Typical resins used for forming the insulating layer or charge transport layer are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin,
Vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride vinyl chloride copolymer resin, polyacrylic resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, epoxy resin, melamine resin, silicone resin thermoplastic resin and effective resin are appropriately used. .

【0132】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基本に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基本の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, just as in the conventional case, for example, metal, paper, plastic sheet or the like is basically impregnated with a low resistance substance. Conductive treated by, for example, the basic back surface (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) to have conductivity, and at least one layer coated for the purpose of preventing curling,
Paper having a water-resistant adhesive layer provided on the surface of the support, paper having at least one precoat layer provided on the surface layer of the support, if necessary, and electroconductive plastic substrate having Al vapor deposited thereon. Those laminated to can be used.

【0133】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、14(No.
1)、P2〜11(1975)、森賀弘之、「入門特殊
紙の化学」高分子刊行会(1975)、M.F.Hoo
ver,J.Macromol.Sci.Chem.A
−4(6)、第1327〜第1417頁(1970)等
に記載されているもの等を用いる。
Specifically, as an example of the conductive substrate or the conductive material, Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14 (No.
1), P2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to Special Paper Chemistry", Polymer Publishing (1975), M.M. F. Hoo
ver., J. Macromol. Sci. Chem. A
-4 (6), 1327 to 1417 (1970) and the like are used.

【0134】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はPPC方式お
よびCPC方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。
The electrophotographic photosensitive member of the present invention can be used in applications utilizing any conventionally known electrophotographic process. That is, the photoconductor of the present invention can be used for both PPC and CPC recording systems, and
As the developer, any combination of a dry developer and a liquid developer can be used.

【0135】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる(例えば、滝
沢九郎、「写真工業」33、34(1975年)、安西
正保、「電子通信学会技術研究報告」77、17(19
77年)等に記載の方法)。
In particular, since it is possible to form a copy image of a high-definition original faithfully, the effect of the present invention is more exerted when it is used in combination with a liquid developer. Also, by combining with a color developer, not only black and white copy images,
It can also be applied to color reproduction images (for example, Kuro Takizawa, “Photo Industry” 33 , 34 (1975), Masayasu Anzai, “Technical Research Report of the Institute of Electronics and Communication Engineers” 77 , 17 (19).
1977) etc.).

【0136】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸化
チタンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで用
いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等に用
いることができる。
Further, it is also effective in a system used for other purposes using the electrophotographic process in recent years. For example, the photoconductor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor is used as an offset lithographic printing plate precursor and is made of photoconductive zinc oxide or photoconductive titanium oxide which is pollution-free and has a good whiteness. The photoconductor can be used as an underprinting material used in an offset printing process, a color group, or the like.

【0137】[0137]

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 〔樹脂〔A〕の合成〕 樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 エチルメタクリレート95g及びテトラヒドロフラン2
00gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−20
℃に冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.
5gを加え12時間反応した。更に、この混合溶液に、
トリフェニルメチルメタクリレート5g及びテトラヒド
ロフラン5gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気した
後添加し、更に8時間反応した。この混合物を0℃にし
た後、メタノール10mlを加え30分間反応し、重合を
停止させた。得られた重合体溶液を攪拌下にて温度30
℃とし、これに30%塩化水素エタノール溶液3mlを加
え1時間攪拌した。次に、減圧下に反応混合物を全体量
が半分になるまで溶媒を留去した後、石油エーテル1リ
ットル中に再沈した。
EXAMPLES Examples of the present invention will be illustrated below, but the contents of the present invention are not limited thereto. [Synthesis of Resin [A]] Synthesis Example 1 of Resin [A] 1: [A-1] 95 g of ethyl methacrylate and tetrahydrofuran 2
Thoroughly degas the mixed solution of 00g under a nitrogen stream, and
Cooled to ° C. 1,1-diphenylbutyllithium 1.
5 g was added and reacted for 12 hours. Furthermore, in this mixed solution,
A mixed solution of 5 g of triphenylmethyl methacrylate and 5 g of tetrahydrofuran was thoroughly degassed under a nitrogen stream and added, and the mixture was further reacted for 8 hours. After this mixture was heated to 0 ° C., 10 ml of methanol was added and reacted for 30 minutes to terminate the polymerization. The resulting polymer solution was stirred at a temperature of 30
The temperature was adjusted to 0 ° C., 3 ml of a 30% hydrogen chloride ethanol solution was added thereto, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, the solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure until the total amount was halved, followed by reprecipitation in 1 liter of petroleum ether.

【0138】沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重
合体の重量平均分子量(Mw)8.5×103 で収量7
0gであった。
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer obtained by collecting the precipitate and drying it under reduced pressure was 8.5 × 10 3 , and the yield was 7
It was 0 g.

【0139】[0139]

【化25】 [Chemical 25]

【0140】樹脂〔A〕の合成例2:〔A−2〕 n−ブチルメタクリレート46g、( テトラフェニルポ
ルフィナート) アルミニウムメチル0.5g及び塩化メ
チレン60gの混合溶液を窒素気流下にて温度30℃と
した。これに300W−キセノンランプ光をガラスフィ
ルターを通して25cmの距離から光照射し、12時間反
応した。この混合物に更に、ベンジルメタクリレート4
gを加え、同様に8時間光照射した後、この反応混合物
にメタノール3gを加えて30分間攪拌し反応を停止さ
せた。次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25
℃で1時間接触還元反応を行なった。
Synthesis Example 2 of Resin [A]: [A-2] A mixed solution of 46 g of n-butyl methacrylate, (tetraphenylporphinato) aluminum methyl 0.5 g and 60 g of methylene chloride was heated at 30 ° C. under a nitrogen stream. And This was irradiated with 300 W-xenon lamp light from a distance of 25 cm through a glass filter and reacted for 12 hours. This mixture was further mixed with benzyl methacrylate 4
After irradiating with light for 8 hours in the same manner, 3 g of methanol was added to this reaction mixture and stirred for 30 minutes to stop the reaction. Then Pd-C was added to the reaction mixture at a temperature of 25
The catalytic reduction reaction was carried out at 0 ° C for 1 hour.

【0141】不溶物を濾別した後石油エーテル500ml
中に再沈し、沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合体
のMw9.3×103 、収量33gであった。
After filtering off the insoluble matter, 500 ml of petroleum ether
The precipitate was collected and dried. The polymer obtained had Mw of 9.3 × 10 3 and a yield of 33 g.

【0142】[0142]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0143】樹脂〔A〕の合成例3:〔A−3〕 2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリレート90g
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に充分に
脱気し0℃に冷却した。次いで1,1−ジフェニル−3
−メチルペンチルリチウム2.5gを加え、6時間攪拌
した。更にこの混合物に4−ビニルフェニルオキシトリ
メチルシラン10gを加え6時間攪拌した後、メタノー
ル3gを加えて30分間攪拌した。
Synthesis Example 3 of resin [A]: [A-3] 90 g of 2-chloro-6-methylphenyl methacrylate
A mixed solution of toluene and 200 g of toluene was thoroughly degassed under a nitrogen stream and cooled to 0 ° C. Then 1,1-diphenyl-3
-Methylpentyllithium (2.5 g) was added, and the mixture was stirred for 6 hours. Further, 10 g of 4-vinylphenyloxytrimethylsilane was added to this mixture and stirred for 6 hours, then 3 g of methanol was added and stirred for 30 minutes.

【0144】次にこの反応混合物に30%塩化水素エタ
ノール溶液10gを加え25℃で1時間攪拌した後、石
油エーテル1リットル中に再沈し捕集した沈澱物をジエ
チルエーテル300mlで2回洗浄し乾燥した。得られた
重合体のMw7.8×103、収量58gであった。
Then, 10 g of 30% hydrogen chloride ethanol solution was added to this reaction mixture, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 1 hour, then reprecipitated in 1 liter of petroleum ether and the collected precipitate was washed twice with 300 ml of diethyl ether. Dried. The obtained polymer Mw was 7.8 × 10 3 , and the yield was 58 g.

【0145】[0145]

【化27】 [Chemical 27]

【0146】樹脂〔A〕の合成例4:〔A−4〕 フェニルメタクリレート95g、ベンジルN,N−ジエ
チルジチオカーバメート4.8gの混合物を、窒素気流
下に容器に密閉し、温度60℃に加温した。これに、4
00Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフィルタ
ーを通して、10時間光照射し光重合した。
Synthesis Example 4 of resin [A]: [A-4] A mixture of 95 g of phenyl methacrylate and 4.8 g of benzyl N, N-diethyldithiocarbamate was sealed in a container under a nitrogen stream and heated to 60 ° C. Warmed. To this, 4
Photopolymerization was carried out by irradiating with a 00W high pressure mercury lamp from a distance of 10 cm through a glass filter for 10 hours.

【0147】これにアクリル酸5g及びメチルエチルケ
トン180gを加えた後窒素置換し再び10時間光照射
した。得られた反応物をヘキサン1.5リットルに再
沈、捕集し乾燥した。得られた重合体はMw9.5×1
3 、収量68gであった。
Acrylic acid (5 g) and methyl ethyl ketone (180 g) were added thereto, the atmosphere was replaced with nitrogen, and light was again irradiated for 10 hours. The obtained reaction product was reprecipitated in 1.5 liters of hexane, collected, and dried. The polymer obtained has a Mw of 9.5 × 1.
0 3 and the yield was 68 g.

【0148】[0148]

【化28】 [Chemical 28]

【0149】樹脂〔A〕の合成例5〜19:〔A−5〕
〜〔A−18〕 前記樹脂〔A〕の合成例1と同様にして下記表−Aに示
す樹脂〔A〕を合成した。各樹脂のMwは6×103
9.5×103 であった。
Synthesis Examples 5 to 19 of Resin [A]: [A-5]
~ [A-18] A resin [A] shown in Table A below was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 of the resin [A]. Mw of each resin is 6 × 10 3 ~
It was 9.5 × 10 3 .

【0150】[0150]

【表1】 [Table 1]

【0151】[0151]

【表2】 [Table 2]

【0152】[0152]

【表3】 [Table 3]

【0153】樹脂〔A〕の合成例19〜23:〔A−1
9〕〜〔A−23〕 前記樹脂〔A〕の合成例4と同様にして下記表−Bに示
す樹脂〔A〕を合成した。各樹脂のMwは8×103
1×104 であった。
Synthesis Examples 19 to 23 of Resin [A]: [A-1
9] to [A-23] Resin [A] shown in Table B below was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 4 of resin [A]. Mw of each resin is 8 × 10 3 ~
It was 1 × 10 4 .

【0154】[0154]

【表4】 [Table 4]

【0155】〔樹脂〔B〕の合成〕 樹脂〔B〕の合成例:〔B−1〕 メチルメタクリレート74g及び下記構造の開始剤〔I
−1〕12.4gの混合物を、窒素気流下に温度50℃
に加温した。この溶液に400Wの高圧水銀灯で10c
mの距離からガラスフィルターを通して5時間光照射し
光重合した。
[Synthesis of Resin [B]] Synthesis Example of Resin [B]: [B-1] 74 g of methyl methacrylate and an initiator of the following structure [I]
-1] 12.4 g of the mixture was heated at a temperature of 50 ° C under a nitrogen stream.
Warmed to. 10c of this solution with 400W high pressure mercury lamp
Photopolymerization was performed by irradiating with light from a distance of m through a glass filter for 5 hours.

【0156】この重合物に、テトラヒドロフラン100
gを加えて溶解し、更にメチルアクリレート25g及び
アクリル酸1.0gを加えた後、窒素気流下に再び温度
50℃に加温した。
Tetrahydrofuran 100 was added to this polymer.
g was added and dissolved, 25 g of methyl acrylate and 1.0 g of acrylic acid were further added, and then the mixture was heated again to a temperature of 50 ° C. under a nitrogen stream.

【0157】[0157]

【化29】 [Chemical 29]

【0158】次に、上記と同様にして、光照射を10時
間行なった後、得られた反応物をメタノール2リットル
中に再沈し、沈澱物を捕集し乾燥して、収量78gで重
量平均分子量(Mw:Mwはポリスチレン換算によるG
PC法による値)6×104の重合体を得た。
Then, after irradiating with light for 10 hours in the same manner as above, the reaction product obtained was reprecipitated in 2 liters of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a weight of 78 g. Average molecular weight (Mw: Mw is G in terms of polystyrene)
A value of 6 × 10 4 by PC method was obtained.

【0159】[0159]

【化30】 [Chemical 30]

【0160】樹脂〔B〕の合成例2:〔B−2〕 メチルメタクリレート50.3g、メチルアクリレート
24.7g、下記構造の開始剤〔I−2〕8.0g及び
テトラヒドロフラン75gの混合物を窒素気流下に温度
50℃に加温した。この溶液に、合成例1と同条件で6
時間光照射し光重合した。
Synthesis Example 2 of Resin [B]: [B-2] A mixture of 50.3 g of methyl methacrylate, 24.7 g of methyl acrylate, 8.0 g of an initiator [I-2] having the following structure and 75 g of tetrahydrofuran was used as a nitrogen stream. Warmed to a temperature of 50 ° C below. In this solution, 6 under the same conditions as in Synthesis Example 1
It was irradiated with light for an hour and photopolymerized.

【0161】[0161]

【化31】 [Chemical 31]

【0162】この重合物に、メチルメタクリレート23
g、アクリロニトリル2.0g及びテトラヒドロフラン
25gの混合溶液を加えた後、窒素気流下に再び温度6
0℃に加温し、上記と同様にして、12時間光照射し光
重合した。得られた反応物をメタノール1.5リットル
中に再沈し、沈澱物を捕集乾燥して、収量75gでMw
1.2×105 の重合体を得た。
Methyl methacrylate 23 was added to this polymer.
g, acrylonitrile (2.0 g) and tetrahydrofuran (25 g) were added, and the temperature was adjusted to 6
The mixture was heated to 0 ° C. and subjected to light irradiation for 12 hours to carry out photopolymerization in the same manner as above. The obtained reaction product was reprecipitated in 1.5 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to give a yield of 75 g and a Mw.
1.2 × 10 5 polymer was obtained.

【0163】[0163]

【化32】 [Chemical 32]

【0164】樹脂〔B〕の合成例3〜10:〔B−3〕
〜〔B−10〕 メチルメタクリレート65g及び下記表−Cの開始剤各
0.008モルの混合物を、樹脂〔B〕の合成例1と同
様にして光重合反応を行なった。
Synthesis Examples 3 to 10 of Resin [B]: [B-3]
~ [B-10] A mixture of 65 g of methyl methacrylate and 0.008 mol of each initiator shown in Table C below was subjected to a photopolymerization reaction in the same manner as in Synthesis Example 1 of Resin [B].

【0165】次にこれにテトラヒドロフラン100gを
加えて溶解し、更に、メチルアクリレート32.2g、
N−ビニルピロリドン2.0g及びメタクリル酸0.8
gを加えた後、合成例1と同様に、光重合及び再沈を行
なった。得られた重合体のMwは8×104 〜1.0×
105 の範囲であった。
Next, 100 g of tetrahydrofuran was added to and dissolved in this, and further, 32.2 g of methyl acrylate,
N-vinylpyrrolidone 2.0 g and methacrylic acid 0.8
After adding g, photopolymerization and reprecipitation were performed in the same manner as in Synthesis Example 1. The Mw of the obtained polymer was 8 × 10 4 to 1.0 ×.
It was in the range of 10 5 .

【0166】[0166]

【表5】 [Table 5]

【0167】[0167]

【表6】 [Table 6]

【0168】[0168]

【表7】 [Table 7]

【0169】樹脂〔B〕の合成例11〜16:〔B−1
1〕〜〔B−16〕 樹脂〔B〕の合成例1において、メチルメタクリレー
ト、メチルアクリレート及びアクリル酸の代わりに、表
−Dに記載の重合成分に相当する各単量体を用いた他
は、合成例1と同様の条件で操作して各重合体を得た。
得られた重合体のMwは5×104 〜6×104 の範囲
であった。
Synthesis Examples 11 to 16 of Resin [B]: [B-1
1] to [B-16] In Synthesis Example 1 of Resin [B], instead of methyl methacrylate, methyl acrylate and acrylic acid, each monomer corresponding to the polymerization component shown in Table-D was used. Each polymer was obtained by operating under the same conditions as in Synthesis Example 1.
The Mw of the obtained polymer was in the range of 5 × 10 4 to 6 × 10 4 .

【0170】[0170]

【表8】 [Table 8]

【0171】[0171]

【表9】 [Table 9]

【0172】樹脂〔B〕の合成例17〜23:〔B−1
7〕〜〔B−23〕 メチルメタクリレート63.6g、メチルアクリレート
31.4g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート5
g、下記表−Eの開始剤を(1×10-3)モル及びテト
ラヒドロフラン100gの混合溶液を、合成例1と同様
にして光照射を8時間行なった。得られた重合体をメタ
ノール1.5リットル中に再沈し、沈澱物を濾集・乾燥
して、各重合体を70〜80g得た。又、得られた重合
体のMwは、8×104 〜10×104 の範囲であっ
た。
Synthesis Examples 17 to 23 of Resin [B]: [B-1
7] to [B-23] Methyl methacrylate 63.6 g, methyl acrylate 31.4 g, 2-hydroxyethyl methacrylate 5
g, a mixed solution of (1 × 10 −3 ) mol of the initiator shown in Table E below and 100 g of tetrahydrofuran was irradiated in the same manner as in Synthesis Example 1 for 8 hours. The obtained polymer was reprecipitated in 1.5 liter of methanol, and the precipitate was collected by filtration and dried to obtain 70 to 80 g of each polymer. The Mw of the obtained polymer was in the range of 8 × 10 4 to 10 × 10 4 .

【0173】[0173]

【表10】 [Table 10]

【0174】[0174]

【表11】 [Table 11]

【0175】[0175]

【表12】 [Table 12]

【0176】樹脂〔B〕の合成例24〜28:〔B−2
4〕〜〔B−28〕 下記表−Fの重合体成分に相当する単量体及び前記開始
剤〔I−2〕15.4gの混合物を、窒素気流下温度4
0℃に加温し、以下の操作を合成例1と同様にして、光
照射し、5時間重合させた。
Synthesis Examples 24 to 28 of Resin [B]: [B-2
4] to [B-28] A mixture of a monomer corresponding to the polymer component shown in the following Table-F and 15.4 g of the above initiator [I-2] was added at a temperature of 4 under a nitrogen stream.
The mixture was heated to 0 ° C., and the following operations were carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 to irradiate with light and polymerize for 5 hours.

【0177】固形物を取り出し、テトラヒドロフラン1
00gに溶解した後、メチルアクリレート19.5g及
びアクリル酸0.5gを加え、更に窒素気流下温度50
℃に加温し、上記と同様にして光照射して重合させた。
得られた反応物をメタノール1リットル中に再沈し、沈
澱物を捕集・乾燥した。各重合体の収量は65〜75g
で、Mwは9×104 〜1.2×105 であった。
The solid substance was taken out, and tetrahydrofuran 1
After dissolving in 00 g, 19.5 g of methyl acrylate and 0.5 g of acrylic acid were added, and the temperature was further increased under a nitrogen stream at 50
The mixture was heated to ° C and irradiated with light in the same manner as above to polymerize.
The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. Yield of each polymer is 65-75g
The Mw was 9 × 10 4 to 1.2 × 10 5 .

【0178】[0178]

【表13】 [Table 13]

【0179】樹脂〔B〕の合成例29〜35:〔B−2
9〕〜〔B−35〕 メチルメタクリレート57g、メチルアクリレート28
g及び下記構造の開始剤〔I−18〕1.3gの混合物
を、窒素気流下温度40℃に加温後、以下の操作を合成
例1と同様にして、光照射し4時間重合させた。
Synthesis Examples 29 to 35 of Resin [B]: [B-2
9] to [B-35] 57 g of methyl methacrylate, 28 of methyl acrylate
g and a mixture of 1.3 g of an initiator [I-18] having the following structure were heated to a temperature of 40 ° C. under a nitrogen stream, and then the following operation was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 to perform light irradiation for polymerization for 4 hours. .

【0180】[0180]

【化33】 [Chemical 33]

【0181】固形物を、テトラヒドロフラン100gに
溶解した後、下記表−Gの重合成分に相当する各単量体
を加え、更に窒素気流下温度50℃に加温し、上記と同
様にして光照射して重合させた。得られた反応物をメタ
ノール1リットル中に再沈し、沈澱物を捕集・乾燥し
た。各重合体の収量は70〜80gで、Mwは9×10
4 〜1.1×105 の範囲であった。
After dissolving the solid substance in 100 g of tetrahydrofuran, each monomer corresponding to the polymerization components shown in Table G below was added, and the mixture was further heated to 50 ° C. under a nitrogen stream and irradiated with light in the same manner as above. And polymerized. The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. The yield of each polymer is 70 to 80 g, and the Mw is 9 × 10.
It was in the range of 4 to 1.1 × 10 5 .

【0182】[0182]

【表14】 [Table 14]

【0183】[0183]

【表15】 [Table 15]

【0184】実施例1並びに比較例1〜3 樹脂〔A−5〕6g(固形分量として)、樹脂〔B−
1〕34g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛20
0g、下記構造のメチン色素〔I〕0.018g、無水
フタル酸0.3g及びトルエン300gの混合物をホモ
ジナイザー(日本精機(株)製)中、回転数6×103
rpmで6分間分散して、感光層形成物を調製し、これ
を導電処理した紙に、乾燥付着量が25g/m2 となる
様に、ワイヤーバーで塗布し、110℃で10秒間乾燥
し、ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で24時
間放置することにより、電子写真感光材料を作製した。
Example 1 and Comparative Examples 1 to 6 Resin [A-5] 6 g (as solid content), Resin [B-
1] 34 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 20
0 g, a mixture of 0.018 g of methine dye [I] having the following structure, 0.3 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.), the rotation speed was 6 × 10 3.
A photosensitive layer-formed product was prepared by dispersing at rpm for 6 minutes, and applied to a conductive-treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g / m 2, and dried at 110 ° C. for 10 seconds. Then, by leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours, an electrophotographic photosensitive material was produced.

【0185】[0185]

【化34】 [Chemical 34]

【0186】比較例1:実施例1において、樹脂〔B−
1〕34gの代わりに下記構造の樹脂〔R−1〕34g
を用いた他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光
材料を作製した。
Comparative Example 1: In Example 1, the resin [B-
1] 34 g of resin [R-1] having the following structure instead of 34 g
An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that was used.

【0187】[0187]

【化35】 [Chemical 35]

【0188】比較例2:実施例1において、樹脂〔B−
1〕34gの代わりに下記構造の樹脂〔R−2〕34g
とした他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光材
料を作製した。
Comparative Example 2: In Example 1, the resin [B-
1] 34 g of resin [R-2] having the following structure instead of 34 g
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that.

【0189】[0189]

【化36】 [Chemical 36]

【0190】比較例3:実施例1において、樹脂〔B−
1〕34gの代わりに下記構造の樹脂〔R−3〕34g
とした他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光材
料を作製した。
Comparative Example 3: In Example 1, the resin [B-
1] 34 g of resin [R-3] having the following structure instead of 34 g
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that.

【0191】[0191]

【化37】 [Chemical 37]

【0192】これらの感光材料については、静電特性、
撮像性及び環境条件(20℃、65%RH)及び(30
℃、80%RH)とした時の撮像性を調べた。以上の結
果を表−Hに示す。
For these photosensitive materials, the electrostatic characteristics,
Imaging and environmental conditions (20 ° C, 65% RH) and (30
The image pick-up property when the temperature was 80 ° C. and 80% RH was examined. The above results are shown in Table-H.

【0193】[0193]

【表16】 [Table 16]

【0194】表−Hに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注1)静電特性:温度20℃、65%RHの暗室中で、
各感光材料にペーパーアナライザー(川口電機(株)製
ペーパーアナライザーSP−428型)を用いて−6k
Vで20秒間コロナ放電させた後、10秒間放置し、こ
の時の表面電位V10を測定した。次いでそのまま暗中で
90秒間静置させた後の電位V100 を測定し、90秒間
暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率
〔DRR(%)〕を(V100/V10)×100(%)で
求めた。
Embodiments of the evaluation items shown in Table-H are as follows. Note 1) Electrostatic characteristics: In a dark room at a temperature of 20 ° C and 65% RH,
-6k using a paper analyzer (Paper Analyzer SP-428 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.) for each light-sensitive material
After corona discharge for 20 seconds at V, the surface potential V 10 at this time was measured after standing for 10 seconds. Then, the potential V 100 after standing still in the dark for 90 seconds was measured, and the potential retention after dark decay for 90 seconds, that is, the dark decay retention rate [DRR (%)] was calculated as (V 100 / V 10 ) × 100 (%).

【0195】又コロナ放電により光導電層表面を−40
0Vに帯電させた後、該光導電層表面をガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長780nm)
光で照射し、表面電位(V10)が1/10に減衰するま
での時間を求め、これから露光量E1/10(erg/cm
2 )を算出する。又、同様に表面電位(V10)が1/1
00に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E
1/100 (erg/cm2)を算出する。測定時の環境条
件は、20℃、65%RH(I)と30℃、80%RH
(II)で行なった。 注2)撮像性:各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放
置した後、各感光材料を−6kVで帯電し、光源として
2.8mW出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体
レーザー(発振波長780nm)を用いて、感光材料表
面上で64erg/cm2 の照射量下、ピッチ25μm
及びスキャニング速度300m/secのスピード露光
後液体現像剤として、ELP−T(富士写真フイルム
(株)製)を用いて現像し、イソパラフィンアイソパー
G(エッソ化学(株)製)溶媒のリンス液で洗浄後定着
することで得られた複写画像(カブリ、画像の画質)を
目視評価した。
Further, the surface of the photoconductive layer was -40 by corona discharge.
After being charged to 0 V, the surface of the photoconductive layer was gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm).
The time until the surface potential (V 10 ) is attenuated to 1/10 by irradiation with light is obtained. From this, the exposure amount E 1/10 (erg / cm
2 ) is calculated. Similarly, the surface potential (V 10 ) is 1/1
The time until it decays to 00 is calculated, and from this, the exposure amount E
Calculate 1/100 (erg / cm 2 ). Environmental conditions at the time of measurement are 20 ° C, 65% RH (I) and 30 ° C, 80% RH
(II). Note 2) Imaging property: After leaving each light-sensitive material for 1 day under the following environmental conditions, each light-sensitive material is charged at −6 kV, and a 2.8 mW output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm) is used as a light source. With a pitch of 25 μm on the surface of the photosensitive material under an irradiation amount of 64 erg / cm 2.
After speed exposure at a scanning speed of 300 m / sec, ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as a liquid developer, and was developed with a rinse solution of isoparaffin Isopar G (manufactured by Esso Kagaku). The copied image (fog, image quality) obtained by fixing after washing was visually evaluated.

【0196】撮像時の環境条件は20℃65%RH
(I)と30℃80%RH(II)で実施した。表−Hに
示す様に、本発明の感光材料は、静電特性が良好で、実
際の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であっ
た。一方、比較例1〜3は、光感度(E1/10及びE
1/100 )の低下が生じ、実際の複写画像でも細線・文字
等のカスレや、リンス処理した後でも微かな地カブリが
除去されずに残存してしまった。
Environmental conditions at the time of imaging are 20 ° C. and 65% RH
(I) and 30 ° C. 80% RH (II). As shown in Table-H, the light-sensitive material of the present invention had good electrostatic characteristics, and the actual copied image had no background fog and the copied image quality was clear. On the other hand, Comparative Examples 1 to 3 are photosensitivity (E 1/10 and E 1
1/100 ), and even in the actual copied image, fine lines, letters, etc., and slight background fog remained even after the rinsing process.

【0197】又、静電特性とは一致しないが、複写原稿
の連続階調部分の中間濃度でのムラの発生が生じてしま
った。本発明の感光体と比較例の感光体とではE1/100
値が大きく異なる。E1/100値は、実際の撮像性におい
て、露光後、非画像部(既に露光された部位)にどれだ
けの電位が残っているかを示すものであり、この値が小
さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくなる事を示
す。
Further, although it does not match the electrostatic characteristic, unevenness occurs in the intermediate density of the continuous tone portion of the copy document. The photoreceptor of the present invention and the photoreceptor of the comparative example have E 1/100
The values differ greatly. The E 1/100 value indicates how much potential remains in the non-image portion (exposed portion) after exposure in the actual image pickup property. It indicates that the image area is free from background stains.

【0198】具体的には−10V以下の残留電位にする
ことが必要となり、即ち実際にはVR −10V以下とす
るために、どれだけ露光量が必要となるかということ
で、半導体レーザー光によるスキャンニング露光方式で
は、小さい露光量でVR を−10V以下にすることは、
複写機の光学系の設計上(装置のコスト、光学系光路の
精度等)非常に重要なことである。
Specifically, it is necessary to set the residual potential to −10 V or less, that is, how much exposure amount is required to set V R −10 V or less. In the scanning exposure method according to ( 3), setting VR to −10 V or less with a small exposure amount is
This is very important in designing the optical system of the copying machine (cost of the device, accuracy of optical path of optical system, etc.).

【0199】以上の事より、本発明の樹脂を用いた場合
にのみ静電特性及び撮像性を満足する電子写真感光体が
得られ、特に半導体レーザー光スキャニング露光方式の
感光体システムに優位になることが明らかとなった。 実施例2 樹脂〔A−23〕5g(固形分量として)、樹脂〔B−
2〕35g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛20
0g、下記構造のメチン色素(II)0.020g、N−
ヒドロキシマレインイミド0.20g及びトルエン30
0gの混合物を、実施例1と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。
From the above, an electrophotographic photosensitive member satisfying the electrostatic characteristics and the image pick-up property can be obtained only when the resin of the present invention is used, and it is particularly advantageous for a semiconductor laser light scanning exposure type photosensitive system. It became clear. Example 2 5 g of resin [A-23] (as solid content), resin [B-
2] 35 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 20
0 g, 0.020 g of methine dye (II) having the following structure, N-
Hydroxymaleinimide 0.20 g and toluene 30
An electrophotographic light-sensitive material was produced by operating 0 g of the mixture in the same manner as in Example 1.

【0200】[0200]

【化38】 [Chemical 38]

【0201】この感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、
静電特性、撮像性及び環境条件を30℃、80%RHと
した時の静電特性、撮像性を調べた。更に、電子写真式
平版印刷用原版として用いた時の印刷性を調べた。
The film properties (surface smoothness) of this photosensitive material,
The electrostatic characteristics, the imaging characteristics, and the electrostatic characteristics and the imaging characteristics were examined when the environmental conditions were 30 ° C. and 80% RH. Furthermore, the printability when used as an original plate for electrophotographic lithographic printing was examined.

【0202】[0202]

【表17】 [Table 17]

【0203】表−Iに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注3)表面層の平滑性:得られた感光材料は、ベック平
滑度試験機(熊谷理工(株)製)を用い、空気容量1c
cの条件にて、その平滑度(sec/cc)を測定し
た。 注4)水との接触角:各感光材料を不感脂化処理液EP
L−EX(富士写真フイルム(株)製)を蒸留水で2倍
に稀釈した溶液を用いて、エッチングプロセッサーに1
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメーターで測定する。 注5)耐刷性:前記注2)の撮像性と同条件にして、製
版して、トナー画像を形成し、上記注4)と同条件で不
感脂化処理し、これをオフセットマスターとして、オフ
セット印刷機(桜井製作所(株)製オリバー52型)に
かけ、印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問
題が生じないで印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い
程、耐刷性が良好なことを表わす。)表−Iに示す様
に、本発明の感光材料は、静電特性が良好で、実際の複
写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であった。ま
た、光導電層の平滑性膜の機械的強度を調べたところ良
好であった。このことは光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、且つ、粒子表面を被覆していることによるものと
推定される。同様の理由で、オフセットマスター原版と
して用いた場合でも不感脂化処理液による不感脂化処理
が充分に進行し、非画像部の水との接触角が10度以下
と小さく、充分に親水化されていることが判る。実際に
印刷して印刷物の地汚れを観察しても地汚れは全く認め
られず、鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。
Embodiments of the evaluation items shown in Table-I are as follows. Note 3) Smoothness of surface layer: The photosensitive material obtained was measured using a Beck's smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) with an air capacity of 1 c.
The smoothness (sec / cc) was measured under the condition of c. Note 4) Contact angle with water: Each photosensitive material is desensitized EP
A solution of L-EX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) diluted with distilled water by a factor of 2 was used for an etching processor.
After passing through the surface of the photoconductive layer to desensitize it, a drop of distilled water (2 μl) is placed on the surface, and the contact angle with the formed water is measured with a goniometer. Note 5) Printing durability: Under the same conditions as in Note 2) above, plate making was performed to form a toner image, and desensitization was performed under the same conditions as Note 4) above, and this was used as an offset master. Shows the number of sheets that can be printed on an offset printing machine (Oliver 52 type, manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.) without causing scumming in the non-image area of the printed matter and in the image quality of the image area. As shown in Table I, the light-sensitive material of the present invention had good electrostatic characteristics, and the actual copied image was free of background fog and the copied image quality was clear. The mechanical strength of the smooth film of the photoconductive layer was examined and found to be good. It is presumed that this is because the photoconductor and the binder resin are sufficiently adsorbed and the particle surface is covered. For the same reason, even when it is used as an offset master original plate, the desensitizing treatment with the desensitizing treatment solution proceeds sufficiently, the contact angle with water of the non-image area is as small as 10 degrees or less, and it is sufficiently hydrophilized. You can see that Even when the print was actually printed and the print stain was observed, the print stain was not recognized at all, and 10,000 prints with clear image quality were obtained.

【0204】以上のことは、本発明の樹脂〔A〕と樹脂
〔B〕が適切に酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処
理液による不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い
状態を形成している事及び樹脂〔B〕の働きによる膜強
度の著しい向上を達成していることを示すものである。 実施例3〜24 実施例2において、樹脂〔A−23〕及び樹脂〔B−
2〕に代えて、下記表−Jの各樹脂〔A〕及び各樹脂
〔B〕に代えた他は、実施例1と同様に操作して、各電
子写真感光体を作製した。
From the above, the resin [A] and the resin [B] of the present invention properly interact with the zinc oxide particles, and the desensitizing reaction by the desensitizing treatment liquid easily and easily proceeds. It shows that the state is formed and that the film strength is remarkably improved by the action of the resin [B]. Examples 3 to 24 In Example 2, the resin [A-23] and the resin [B-
Each electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that each resin [A] and each resin [B] in Table-J below were used instead of 2].

【0205】実施例2と同様にして静電特性を測定し
た。
The electrostatic characteristics were measured in the same manner as in Example 2.

【0206】[0206]

【表18】 [Table 18]

【0207】又、これらの感光材料の実際の撮像性を調
べた所、細線・文字の再現性良好で中間調のムラの発生
もなく、地カブリの全くない鮮明な複写画像のものが得
られた。
Further, when the actual image pick-up property of these light-sensitive materials was examined, it was possible to obtain a clear copy image having good reproducibility of fine lines / characters, no unevenness of halftone and no background fog. It was

【0208】又、オフセットマスター原版として用い
て、実施例2と同様にして印刷した所、いずれも少なく
とも1万枚以上印刷することができた。以上から、本発
明の各感光材料は光導電層の平滑性、膜強度、静電特性
及び印刷性の全ての点において良好なものであった。
When used as an offset master original plate and printed in the same manner as in Example 2, at least 10,000 or more sheets could be printed. From the above, each of the light-sensitive materials of the present invention was good in all aspects of smoothness, film strength, electrostatic properties and printability of the photoconductive layer.

【0209】さらに、樹脂〔AA〕を用いることにより
静電特性がさらに向上することが判った。 実施例25〜28 実施例1において用いた、メチン色素〔I〕の代わりに
下記表−Kの色素に代えた他は、実施例1と同様の条件
で電子写真感光材料を作製した。
Furthermore, it was found that the electrostatic characteristics were further improved by using the resin [AA]. Examples 25 to 28 Electrophotographic photosensitive materials were produced under the same conditions as in Example 1 except that the methine dye [I] used in Example 1 was replaced with the dyes shown in Table K below.

【0210】[0210]

【表19】 [Table 19]

【0211】[0211]

【表20】 [Table 20]

【0212】本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗
電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高
湿の(30℃、80%RH)の過酷な条件においても、
地カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。 実施例29及び30並びに比較例4 樹脂〔A−19〕(実施例29)又は樹脂〔A−7〕
(実施例30)のいずれか6g、樹脂〔B−25〕34
g、酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、下記構造
のメチン色素〔VII 〕0.03g、下記構造のメチン色
素〔VIII〕0.03g、p−ヒドロキシ安息香酸0.1
8g及びトルエン300gの混合物をホモジナイザー中
で回転数7×103 r.p.m.で5分間分散して感光
層形成物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着
量が22g/m2 となる様にワイヤーバーで塗布し、1
10℃で20秒間乾燥した。次いで暗所で20℃、65
%RHの条件下で24時間放置することにより各電子写
真感光体を作製した。
The light-sensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention rate, and photosensitivity, and the actual copied images can be produced even under severe conditions of high temperature and high humidity (30 ° C., 80% RH).
It gave a clear image with no background fog. Examples 29 and 30 and Comparative Example 4 Resin [A-19] (Example 29) or Resin [A-7]
Any 6 g of (Example 30), resin [B-25] 34
g, zinc oxide 200 g, uranine 0.02 g, methine dye [VII] 0.03 g having the following structure, methine dye [VIII] 0.03 g having the following structure, p-hydroxybenzoic acid 0.1
A mixture of 8 g and 300 g of toluene was rotated in a homogenizer at a rotation speed of 7 × 10 3 r. p. m. For 5 minutes to prepare a photosensitive layer-formed product, which was coated on a conductive-treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 22 g / m 2 and 1
It was dried at 10 ° C. for 20 seconds. Then in the dark at 20 ℃, 65
Each electrophotographic photosensitive member was produced by leaving it under a condition of% RH for 24 hours.

【0213】[0213]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0214】[0214]

【化40】 [Chemical 40]

【0215】比較例4 実施例29において、樹脂〔B−25〕34gの代わり
に、下記構造の樹脂〔R−4〕34gを用いた他は、実
施例29と同様にして、感光材料を作製した。
Comparative Example 4 A photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 29 except that 34 g of resin [R-4] having the following structure was used instead of 34 g of resin [B-25] in Example 29. did.

【0216】実施例1と同様に、各感光材料の各特性を
調べた。その結果を下記表−Lにまとめた。
In the same manner as in Example 1, each characteristic of each photosensitive material was examined. The results are summarized in Table-L below.

【0217】[0217]

【化41】 [Chemical 41]

【0218】[0218]

【表21】 [Table 21]

【0219】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例1と同様の
操作で行なった。 注6)静電特性のE1/10及びE1/100 の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で
照射し、表面電位(V10)が1/10又は1/100に
減衰するまでの時間を求め、これから露光量E1/10又は
1/100 (ルックス・秒)を算出する。 注7)撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)
製)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られ
た複写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮
像時の環境条件は、20℃65%RH(I)と30℃8
0%RH(II)で実施した。但し、複写用の原稿(即
ち、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込
みを行なって作成したものを用いた。
In the above measurement, the same operations as in Example 1 were carried out except that the electrostatic characteristics and the image pickup properties were in accordance with the following operations. Note 6) Method for measuring E 1/10 and E 1/100 of electrostatic characteristics After charging the surface of the photoconductive layer to −400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer was exposed to visible light with an illuminance of 2.0 lux. After irradiation, the time until the surface potential (V 10 ) is attenuated to 1/10 or 1/100 is obtained, and from this, the exposure amount E 1/10 or E 1/100 (lux seconds) is calculated. Note 7) Imaging property After leaving each light-sensitive material for 1 day under the following environmental conditions, fully automatic plate-making machine EPL-404V (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Manufactured by EPL-T as a toner, and a copy image (fog, image quality of the image) obtained by plate making was visually evaluated. The environmental conditions at the time of imaging are 20 ° C 65% RH (I) and 30 ° C 8
Performed at 0% RH (II). However, the original for copying (that is, the original copy) was prepared by cutting out and pasting other originals.

【0220】各感光材料において、光導電層の平滑性に
おいて、その差は認められなかった。しかし、静電特性
において、比較例4は、特に光感度E1/100 の値が大き
く、これは高温、高湿になるとより一層助長され、劣化
してしまった。本発明の感光材料の静電特性は良好であ
り、更に、特定の置換基を有する樹脂〔AA〕を用いた
実施例30は、非常に良好であり、特にE1/100 の値が
小さくなった。
No difference was observed in the smoothness of the photoconductive layer in each light-sensitive material. However, in the electrostatic characteristics, Comparative Example 4 had a particularly large value of the photosensitivity E 1/100 , which was further promoted and deteriorated at high temperature and high humidity. The photosensitive material of the present invention has good electrostatic characteristics, and Example 30 using the resin [AA] having a specific substituent is very good, and particularly, the value of E 1/100 is small. It was

【0221】実際の撮像性を調べて見ると、比較例4
は、複写画像として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ
部分の枠(即ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとし
て認められた。しかし、本発明のものは、いずれも、地
汚れのない、鮮明な画像のものが得られた。
Examination of the actual image pickup property shows that Comparative Example 4
In addition to the original as a copy image, the frame (that is, the trace of pasting) of the part cut out and stuck was recognized as the background stain of the non-image part. However, in all cases of the present invention, clear images having no background stain were obtained.

【0222】更に、これらをオフセット印刷用原版とし
て不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはいずれ
も地汚れのない鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。
しかし、比較例4は、上記の貼り込み跡が、不感脂化処
理でも除去されず、刷り出しの印刷物から発生してしま
った。
Further, when these were subjected to desensitization treatment as offset printing original plates and printed, all of the present invention produced 10,000 printed matters with clear image quality without scumming.
However, in Comparative Example 4, the above-mentioned sticking mark was not removed even by the desensitizing treatment, and was generated from the printed matter printed out.

【0223】以上のことより、本発明の感光材料のみ
が、良好な特性を与えることができた。 実施例31 樹脂〔A−21〕5g及び樹脂〔B−30〕35g、酸
化亜鉛200g、ウラニン0.02g、ローズベンガル
0.04g、ブロムフェノールブルー0.03g、無水
フタル酸0.40g及びトルエン300gの混合物を、
実施例29と同様に以下操作して感光材料を作成した。
From the above, only the light-sensitive material of the present invention could give good characteristics. Example 31 5 g of resin [A-21] and 35 g of resin [B-30], 200 g of zinc oxide, 0.02 g of uranine, 0.04 g of rose bengal, 0.03 g of bromphenol blue, 0.40 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene. A mixture of
A light-sensitive material was prepared by the same procedure as in Example 29.

【0224】本発明の感光材料を、実施例29と同様に
操作して各性能を調べた所、いずれも帯電性、暗電荷保
持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の
(30℃、80%RH)の過酷な条件においても、地カ
ブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。
The light-sensitive material of the present invention was operated in the same manner as in Example 29, and its performances were examined. All were excellent in chargeability, dark charge retention rate and photosensitivity, and the actual copied image was high temperature and high humidity. (30 ° C., 80% RH), even under severe conditions, a clear image with no background fog was provided.

【0225】更に、これをオフセットマスターの原版と
して用いて印刷した所、1万枚の所でも鮮明な画質の印
刷物を得た。 実施例32〜43 実施例31において、樹脂〔A−21〕5g及び樹脂
〔B−30〕35gの代わりに、下記表−Mの樹脂
〔A〕6g及び樹脂〔B〕34gを用いた他は、実施例
31と同様にして各感光材料を作製した。
Further, when this was used as an original plate of an offset master and printed, a printed matter having clear image quality was obtained even at 10,000 sheets. Examples 32 to 43 In Example 31, except that 5 g of resin [A-21] and 35 g of resin [B-30] were replaced with 6 g of resin [A] and 34 g of resin [B] shown in Table M below. Each light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 31.

【0226】[0226]

【表22】 [Table 22]

【0227】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
(30℃、80%RH)の過酷な条件においても地カブ
リの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与え
た。
The light-sensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention rate, and photosensitivity, and actual copy images also cause background fog even under severe conditions of high temperature and high humidity (30 ° C., 80% RH). It gave a clear image without the occurrence of fine line skipping.

【0228】更にオフセットマスター原版として印刷し
た所、1万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質
の印刷物が得られた。
Further, when printing was carried out as an offset master original plate, a printed matter of clear image quality without generation of scumming was obtained even after printing 10,000 sheets.

【0229】[0229]

【発明の効果】本発明によれば、静電特性(とくに厳し
い条件下での静電特性)に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。式(Ia)又は(I
b)で示される特定のメタクリレート成分を含有する繰
り返し単位を本発明の樹脂に用いることにより、更に静
電特性が向上する。
According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor having a clear and high-quality image excellent in electrostatic characteristics (especially electrostatic characteristics under severe conditions) and further having excellent mechanical strength. Can be obtained. In particular, it is effective for a scanning exposure method using semiconductor laser light. Formula (Ia) or (I
By using the repeating unit containing the specific methacrylate component represented by b) in the resin of the present invention, the electrostatic characteristics are further improved.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 無機光導電材料、分光増感色素及び結着
樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感
光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔A〕の少なく
とも1種及び下記樹脂〔B〕の少なくとも1種を各々含
有して成ることを特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔A〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、−P
3 2 基、−COOH基、−SO3 H基、フェノール
性OH基、−P(=O)(OH)R1 {R1 は炭化水素基
又は−OR2 (R2 は炭化水素基を示す)基を示す}基
及び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも1つ
の極性基を含有する少なくとも1つの重合体成分から成
るAブロックと下記一般式(I)で示される重合体成分
を少なくとも含有するBブロックとから構成されるAB
ブロック共重合体。 【化1】 〔式(I)中、R11は炭化水素基を表す。〕 樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(II)で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て少なくとも30重量%以上含有する高分子鎖が、有機
分子中に少なくとも3個結合して成るスター型共重合体
で、且つ該各高分子鎖の有機分子に結合した反対側の主
鎖の末端に、−PO3 2 基、−COOH基、−SO3
H基、−P(=O)(OH)R1 〔R1 は上記と同じ内容
を表す〕基及び環状酸無水物含有基から選ばれた基を少
なくとも1種結合して成る樹脂。 【化2】 〔式(II)中、a1 、a2 は各々水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基又は炭化水素基を表す。R12は炭化水素基
を表す。〕
1. An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following resins [A] and the following: An electrophotographic photoreceptor comprising at least one resin [B]. Resin [A] having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 ,
O 3 H 2 group, -COOH group, -SO 3 H group, a phenolic OH group, -P (= O) (OH ) R 1 {R 1 is a hydrocarbon group or -OR 2 (R 2 is a hydrocarbon group A group consisting of at least one polymer group containing at least one polar group selected from the group consisting of (1) and a cyclic acid anhydride-containing group, and a polymer component represented by the following general formula (I) AB comprising at least a B block containing
Block copolymer. [Chemical 1] [In the formula (I), R 11 represents a hydrocarbon group. Resin [B] A polymer chain having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 to 1 × 10 6 and containing at least 30% by weight of a repeating unit represented by the following general formula (II) as a polymer component, at least three bound star copolymer comprising in the organic molecule and a main chain terminal of the opposite side attached to the organic molecule of the respective polymer chains, -PO 3 H 2 group, -COOH group, -SO 3
A resin formed by bonding at least one group selected from an H group, a -P (= O) (OH) R 1 [R 1 represents the same as the above] group, and a cyclic acid anhydride-containing group. [Chemical 2] [In the formula (II), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 12 represents a hydrocarbon group. ]
【請求項2】 上記樹脂〔A〕が、一般式(I)で示さ
れる共重合体成分として下記一般式(Ia)及び下記一
般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタクリレー
ト成分のうちの少なくとも1つを含有することを特徴と
する請求項1記載の電子写真感光体。 【化3】 【化4】 〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA2 は互いに独
立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、−COR4 又は−COOR4 (R
4 は炭素数1〜10の炭化水素基を表す)を表し、B1
及びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結
合又は連結原子数1〜4個の連結基を表す。〕
2. The above-mentioned resin [A] is one of the aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formula (Ia) and general formula (Ib) as a copolymer component represented by the general formula (I). The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, further comprising at least one. [Chemical 3] [Chemical 4] [In formulas (Ia) and (Ib), A 1 and A 2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, —COR 4 or —COOR 4 (R
4 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and B 1
And B 2 each represent a single bond or a connecting group having 1 to 4 connecting atoms for connecting —COO— and the benzene ring. ]
【請求項3】 上記樹脂〔B〕において、有機分子に結
合する高分子鎖が、上記一般式(II)で示される繰り返
し単位を重合体成分として少なくとも含有するAブロッ
クと上記樹脂〔B〕で示される特定の極性基のうちから
選択される少なくとも1種の極性基を有する重合体成分
を少なくとも1種含有するBブロックとから構成される
AB型ブロックで構成され、且つAブロックの片末端は
有機分子に結合し、他の末端はBブロックに結合する事
を特徴とする請求項1又は2記載の電子写真感光体。
3. In the resin [B], the polymer chain that binds to an organic molecule comprises an A block containing at least the repeating unit represented by the general formula (II) as a polymer component and the resin [B]. It is composed of an AB type block composed of a B block containing at least one polymer component having at least one polar group selected from the specific polar groups shown, and one end of the A block is The electrophotographic photosensitive member according to claim 1 or 2, wherein the electrophotographic photosensitive member is bound to an organic molecule and the other end is bound to a B block.
【請求項4】 上記樹脂〔B〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、上
記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
分の総量に対し10重量%〜50重量%であることを特
徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電子写真感光
体。
4. In the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in all the copolymers is the specific polar group-containing polymer contained in the resin [A]. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the content is 10% by weight to 50% by weight based on the total amount of the components.
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