JPH04358156A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

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JPH04358156A
JPH04358156A JP15952391A JP15952391A JPH04358156A JP H04358156 A JPH04358156 A JP H04358156A JP 15952391 A JP15952391 A JP 15952391A JP 15952391 A JP15952391 A JP 15952391A JP H04358156 A JPH04358156 A JP H04358156A
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formula
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栄一 加藤
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the electrophotographic sensitive body which is improved in electrostatic characteristics and characteristic and has the excellent reproducibility of highly fine images by using a liquid developer in particular and the excellent image pickup characteristic by a scanning exposing system using a low-output laser beam. CONSTITUTION:This photosensitive body contains a is a low-mol.wt. copolymer of a macromer bonded with the group of formula II at one terminal of the main chain of a polymer contg. the component of formula I and the monomer equiv. to the formula I and is further bonded with a polar group at the terminal of the main chain or a resin A2 contg. this group in the macromer component and a resin B of a high-mol.wt. AB block copolymer of an A block contg. a polar group and the B block contg. the component of the formula I as a binder resin. [In the formula I, a<1>, a<2> denote hydrogen, halogen, cyano group or hydrocarbon group; R<3> denotes a hydrocarbon group; in the formula II, G denotes a bivalent combination group; b<1>, b<2> denote hydrogen, halogen, cyano group, hydrocarbon group,-COOR<12>(R<12>; hydrocarbon group)].

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor.
Specifically, the present invention relates to an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic properties and moisture resistance.

【0002】0002

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。
2. Description of the Related Art Electrophotographic photoreceptors have various configurations in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process to which they are applied.

【0003】電子写真感光体の代表的なものとして、支
持体上に光導電層が形成されている感光体及び表面に絶
縁層を備えた感光体があり、広く用いられている。支持
体と少なくとも1つの光導電層から構成される感光体は
、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電、画
像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像形成
に用いられる。
Typical electrophotographic photoreceptors include photoreceptors having a photoconductive layer formed on a support and photoreceptors having an insulating layer on the surface, which are widely used. Photoreceptors, consisting of a support and at least one photoconductive layer, are used for imaging by most common electrophotographic processes, ie, charging, imagewise exposure and development, and optionally transfer.

【0004】更には、ダイレクト製版用のオフセット原
版として電子写真感光体を用いる方法が広く実用されて
いる。特に近年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から
数千枚程度の印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式
として重要となってきている。こうした状況の中で、電
子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結着
樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着樹
脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度の変
化によってこれら特性を安定に保持していることが必要
である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備す
る必要がある。
Furthermore, a method of using an electrophotographic photoreceptor as an offset master plate for direct plate making is widely used. Particularly in recent years, direct electrophotographic lithography has become important as a method for printing high-quality printed matter on the order of several hundred to several thousand sheets. Under these circumstances, the binder resin used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film-forming properties and the ability to disperse photoconductive powder into the binder resin. The formed recording layer has good adhesion to the base material, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, low dark decay, large light decay, little pre-exposure fatigue, and is easy to photograph. It is necessary to have various electrostatic properties and excellent imaging performance, such as the need to maintain these properties stably depending on changes in humidity.

【0005】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。
Furthermore, research is being carried out on lithographic printing original plates using electrophotographic photoreceptors, and a photoconductive layer material that has both the electrostatic properties of an electrophotographic photoreceptor and the printing properties of a printing original plate has been developed. A binder resin is required.

【0006】無機光導電材料、分光増感色素及び結着樹
脂を少なくとも含有する光導電層において、結着樹脂の
化学構造によって、平滑性のみならず静電特性が大きく
影響を受けることが判ってきた。特に静電特性において
、暗中電荷保持率(D.R.R.)や光感度が大きく左
右される。
It has been found that in a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye, and a binder resin, not only smoothness but also electrostatic properties are greatly affected by the chemical structure of the binder resin. Ta. In particular, in terms of electrostatic properties, the dark charge retention rate (D.R.R.) and photosensitivity are greatly affected.

【0007】これに対し、特開昭63−217354号
、同64−70761号、特開平2−67563号及び
同2−247656号等に記載の技術によれば、酸性基
含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在する低分子
量の樹脂、重合体主鎖の片末端に酸性基を結合して成る
低分子量の樹脂あるいは酸性基を重合体主鎖の片末端に
結合して成る低分子量のグラフト型共重合体の樹脂、酸
性基をグラフト部に含有する低分子量のグラフト型共重
合体の樹脂等を結着樹脂として用いる事で平滑性及び静
電特性を良化できる様になった。これらは、該低分子量
の樹脂が、光導電体の分散を充分に行ない光導電体同志
の凝集を抑制する効果を有すること及び光導電体と分光
増感色素との吸着を疎外しないで該無機光導電体の化学
量論的な欠陥に充分に吸着するとともに光導電体の表面
をゆるやかに且つ充分に被覆していることによると推定
される。
On the other hand, according to the techniques described in JP-A-63-217354, JP-A-64-70761, JP-A-2-67563 and JP-A-2-247656, the acidic group-containing polymerization component is a polymer. A low molecular weight resin that exists randomly in the main chain, a low molecular weight resin that has an acidic group bonded to one end of the polymer main chain, or a low molecular weight resin that has an acidic group bonded to one end of the polymer main chain. It has become possible to improve smoothness and electrostatic properties by using a graft copolymer resin, a low molecular weight graft copolymer resin containing an acidic group in the graft portion, etc. as a binder resin. These low molecular weight resins have the effect of sufficiently dispersing the photoconductor and suppressing aggregation of the photoconductors, and the inorganic resin does not interfere with the adsorption of the photoconductor and the spectral sensitizing dye. This is presumed to be due to sufficient adsorption to the stoichiometric defects of the photoconductor and a loose and sufficient coating of the surface of the photoconductor.

【0008】その作用機構により、無機光導電体の化学
量論的な欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域をも
つ事から比較的安定した無機光導電体、分光増感色素及
び樹脂同志の相互作用が保たれると推論される。
Due to its mechanism of action, the inorganic photoconductor, spectral sensitizing dye, and resin are relatively stable because they have a sufficient adsorption area even if the stoichiometric defect portion of the inorganic photoconductor varies slightly. It is inferred that peer interaction is preserved.

【0009】そして、これらの低分子量の樹脂のみでは
不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるために
、中〜高分子量の他の樹脂を併用する技術あるいは硬化
性基を含有した樹脂を併用して成膜後に硬化する技術等
が特開昭64−564号、同63−220149号、同
63−220148号、特開平1−280761号、同
1−116643号、同1−169455号、同1−2
11766号、同2−34859号、同2−53064
号、同2−56558号、特願平1−163796号、
同1−212994号、同1−229379号、同1−
189245号等に記載されている。
[0009] In order to make the mechanical strength of the photoconductive layer sufficient, which is insufficient with these low molecular weight resins alone, a technique of using other medium to high molecular weight resins in combination or a resin containing a curable group has been developed. Techniques for curing after film formation by using in combination are disclosed in JP-A-64-564, JP-A-63-220149, JP-A-63-220148, JP-A-1-280761, JP-A-1-116643, and JP-A-1-169455. , 1-2
No. 11766, No. 2-34859, No. 2-53064
No. 2-56558, Japanese Patent Application No. 1-163796,
No. 1-212994, No. 1-229379, No. 1-
It is described in No. 189245, etc.

【0010】0010

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の樹脂又は樹脂の組合せを用いても、環境が高温・高湿
から低温・低湿まで著しく変動した場合における安定し
た性能の維持においてはいまだ不充分であることが判っ
た。半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
では、従来の可視光による全面同時露光方式に比べ、露
光時間が長くなり、また露光強度にも制約があることか
ら、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対して、
より高い性能が要求される。
[Problem to be Solved by the Invention] However, even if these resins or combinations of resins are used, it is still insufficient to maintain stable performance when the environment changes significantly from high temperature and high humidity to low temperature and low humidity. I found out something. The scanning exposure method using semiconductor laser light requires longer exposure time than the conventional simultaneous exposure method using visible light across the entire surface, and there are restrictions on the exposure intensity, so electrostatic properties, especially dark charge retention properties , for light sensitivity,
Higher performance is required.

【0011】特に、電子写真式平版印刷用原版において
、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式を
採用した場合,従来の感光体で実際に試験してみると、
上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特にE
1/2 とE1/10との差が大きく複写画像の階調が
軟調となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが
困難となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、
又、オフセットマスターとして印刷しても、印刷物に印
刷原稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。
[0011] In particular, when a scanning exposure method using semiconductor laser light is adopted in an original plate for electrophotographic planographic printing, actual tests using a conventional photoreceptor show that
The above electrostatic properties are not fully satisfactory, especially E
The difference between 1/2 and E1/10 is large, and the gradation of the copied image becomes soft, and furthermore, it becomes difficult to reduce the residual potential after exposure, resulting in noticeable fogging of the copied image.
Further, even when printing as an offset master, problems such as pasting marks of the printed original appear on the printed matter.

【0012】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。
Furthermore, in recent years, there has been a desire to realize a technology that faithfully reproduces not only copies of images consisting of line drawings and halftone dots, but also high-definition images consisting of continuous gradation using liquid developers. However, the above-mentioned known techniques could not fully satisfy these demands.

【0013】従来公知の技術においては、低分子量の樹
脂と併用する中〜高分子量の樹脂によって、上記低分子
量の樹脂で高性能化された静電特性が低下することがあ
り、実際に前記した様なこれら公知の樹脂の組合せで用
いた光導電層を有する電子写真感光体は、前述の様な高
精細な画像(特に連続階調画像)の忠実な複写画像の再
現性あるいは、低出力のレーザー光を用いたスキャンニ
ング露光方式による撮像性に対して、問題を生じ得るこ
とが明らかになった。
In conventionally known techniques, medium to high molecular weight resins that are used in combination with low molecular weight resins may deteriorate the electrostatic properties that have been improved by the low molecular weight resins, and in fact the above-mentioned An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer using a combination of these known resins has the advantage of achieving faithful reproduction of high-definition images (particularly continuous-tone images) as described above, or of low-output images. It has become clear that problems may arise in imaging performance using a scanning exposure method using laser light.

【0014】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。
The present invention is intended to improve the problems of conventionally known electrophotographic photoreceptors as described above. An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that always maintains stable and good electrostatic properties and produces clear, high-quality images even when the environment during copy image formation changes such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. The goal is to provide the following.

【0015】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいCPC電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。
Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photoreceptor that has excellent electrostatic properties and less environmental dependence. Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that is effective in a scanning exposure method using semiconductor laser light.

【0016】本発明の更なる目的は、電子写真式平版印
刷原版として、静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度
)に優れ、原画(特に高精細な連続階調画像)に対して
忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面一様な地
汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、また耐刷
性の優れた平版印刷原版を提供することである。
A further object of the present invention is to use an electrophotographic lithographic printing original plate that has excellent electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity) and is faithful to original images (particularly high-definition continuous tone images). To provide a lithographic printing original plate which reproduces a copy image, does not cause not only uniform background smearing on the entire surface of printed matter but also dotted smearing, and has excellent printing durability.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電材
料、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂が
、下記樹脂〔A1 〕及び樹脂〔A2 〕のうちの少な
くとも1種並びに下記樹脂〔B〕のうちの少なくとも1
種を含有して成ることを特徴とする電子写真感光体によ
り達成されることが見出された。 樹脂〔A1 〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、
下記一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分
として30重量%以上含有する重合体主鎖の一方の末端
にのみ下記一般式(II)で示される重合性二重結合基
を結合して成る重量平均分子量2×104 以下の一官
能性マクロモノマー(M1 )と、該一般式(I)で示
される繰り返し単位に相当するモノマーとから少なくと
も成る共重合体であって、且つ該共重合体主鎖の片末端
に−PO3 H2 、−SO3 H、−COOH、−P
(=O)(OH)R1 〔R1 は炭化水素基又は−O
R2 (R2 は炭化水素基を表す)を表す〕及び環状
酸無水物基から選択される少なくとも1種の極性基を結
合して成る樹脂。 樹脂〔A2 〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、
下記一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分
として30重量%以上及び上記樹脂〔A1 〕で示しさ
れる特定の極性基から選択される少なくとも一種の極性
基を含有する重合体成分を1〜50重量%含有する重合
体主鎖の一方の末端にのみ下記一般式(II)で示され
る重合性二重結合基を結合して成る重量平均分子量2×
104 以下の一官能性マクロモノマー(M2 )と、
該一般式(I)で示される繰り返し単位に相当するモノ
マーとから少なくとも成る共重合体である樹脂。
[Means for Solving the Problems] The above object is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye, and a binder resin, wherein the binder resin is the following resin [A1]. ] and at least one of the resins [A2] and at least one of the following resins [B]
It has been found that this can be achieved by an electrophotographic photoreceptor characterized by containing seeds. Resin [A1] has a weight average molecular weight of 1 x 103 to 2 x 104,
A polymerizable double bond group represented by the following general formula (II) is bonded only to one end of the main chain of a polymer containing 30% by weight or more of repeating units represented by the following general formula (I) as a polymer component. A copolymer consisting of at least a monofunctional macromonomer (M1) having a weight average molecular weight of 2 x 104 or less, and a monomer corresponding to a repeating unit represented by the general formula (I), -PO3 H2, -SO3 H, -COOH, -P at one end of the combined main chain
(=O)(OH)R1 [R1 is a hydrocarbon group or -O
R2 (R2 represents a hydrocarbon group)] and a cyclic acid anhydride group. Resin [A2] has a weight average molecular weight of 1 x 103 to 2 x 104,
A polymer component containing 30% by weight or more of repeating units represented by the following general formula (I) as a polymer component and at least one polar group selected from the specific polar groups represented by the resin [A1] above. A weight average molecular weight 2× consisting of a polymerizable double bond group represented by the following general formula (II) bound only to one end of a polymer main chain containing 1 to 50% by weight.
104 or less monofunctional macromonomer (M2),
A resin which is a copolymer comprising at least a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I).

【0018】[0018]

【化5】 〔式(I)中、a1 、a2 は各々水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。R3 は炭化
水素基を表す。好ましくは、a1 が水素原子、a2 
がメチル基の場合である。〕
embedded image [In formula (I), a1 and a2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group. R3 represents a hydrocarbon group. Preferably, a1 is a hydrogen atom, a2
is the case of a methyl group. ]

【0019】[0019]

【化6】 〔式(II)中、G1 は−COO−、−OCO−、−
CH2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−S
O2 −、−CO−、−CONR11−、−SO2 N
R11−(ここでR11は水素原子又は炭化水素基を表
わす)、−CONHCOO−、−CONHCONH−又
は−C6 H4 −を表わす。
[In formula (II), G1 is -COO-, -OCO-, -
CH2 OCO-, -CH2 COO-, -O-, -S
O2-, -CO-, -CONR11-, -SO2N
R11- (here R11 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group), -CONHCOO-, -CONHCONH- or -C6H4-.

【0020】b1 及びb2 は、互いに同じでも異な
ってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、
炭化水素基、−COOR12又は炭化水素を介した−C
OOR12(ここでR12は置換されてもよい炭化水素
基を表す)を表す。〕 樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、
上記樹脂〔A1 〕で示される特定の極性基のうちから
選択される少なくとも1種の極性基を含有する重合体成
分を少なくとも1種含有するAブロックと上記樹脂〔A
1 〕で示される一般式(I)で示される重合体成分を
少なくとも含有するBブロックとから構成されるABブ
ロック共重合体。
b1 and b2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group,
-C via hydrocarbon group, -COOR12 or hydrocarbon
OOR12 (here, R12 represents an optionally substituted hydrocarbon group). ] Resin [B] has a weight average molecular weight of 2 x 104 to 1 x 106,
The A block containing at least one kind of polymer component containing at least one kind of polar group selected from the specific polar groups shown in the above resin [A1] and the above resin [A]
An AB block copolymer comprising a B block containing at least a polymer component represented by the general formula (I).

【0021】即ち、本発明の結着樹脂は、上記マクロモ
ノマー(M1 )と上記一般式(I)に相当するモノマ
ーとを含有する共重合体の片末端に特定の極性基を結合
して成る樹脂〔A1 〕及び/又は特定の極性基含有成
分を含有する上記マクロモノマー(M2 )と上記一般
式(I)に相当するモノマーとを含有する共重合体であ
る樹脂〔A2 〕(以下、マクロモノマー(M1 )及
び(M2 )をマクロモノマー(M)と総称し、樹脂〔
A1 〕及び〔A2 〕を樹脂〔A〕と総称することも
ある)と、上記特定の極性基含有成分を含有するAブロ
ックと上記式(I)で示される重合体成分を含有するB
ブロックとのABブロック共重合体である樹脂〔B〕と
から少なくとも構成される。
That is, the binder resin of the present invention is formed by bonding a specific polar group to one end of a copolymer containing the above macromonomer (M1) and a monomer corresponding to the above general formula (I). Resin [A1] and/or resin [A2] which is a copolymer containing the above macromonomer (M2) containing a specific polar group-containing component and a monomer corresponding to the above general formula (I) (hereinafter referred to as macromonomer) Monomers (M1) and (M2) are collectively called macromonomers (M), and resin [
A1] and [A2] may be collectively referred to as resin [A]), an A block containing the above specific polar group-containing component, and B containing a polymer component represented by the above formula (I).
The resin [B] is an AB block copolymer with the block.

【0022】種々検討の結果、前述の如く、公知の低分
子量の極性基含有樹脂を中〜高分子量の樹脂と併用する
技術においては、併用する中〜高分子量の樹脂により、
上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が低下し
てしまうことのあることが判った。そして、これらの中
〜高分子量樹脂が、該光導電層中で、光導電体、分光増
感色素及び低分子量の樹脂同志の相互作用に更に適切に
相互作用させることも、予想以上に重要な原因であるこ
とが明らかになってきた。
As a result of various studies, as mentioned above, in the technique of using a known low molecular weight polar group-containing resin in combination with a medium to high molecular weight resin, the medium to high molecular weight resin used in combination,
It has been found that the electrostatic properties improved by the low molecular weight resin described above may deteriorate. It is also more important than expected that these medium to high molecular weight resins can interact more appropriately with the photoconductor, spectral sensitizing dye, and low molecular weight resins in the photoconductive layer. It has become clear that this is the cause.

【0023】かかる検討を重ねた結果、極性基を含有す
る低分子量の樹脂〔A〕と併用すべき中〜高分子量の樹
脂として、本発明に従う極性基含有のブロックAと極性
基非含有のブロックBとを有するABブロック共重合体
を用いることにより、前記課題が有効に解決されること
が見出されたものである。
As a result of repeated studies, we found that the polar group-containing block A according to the present invention and the polar group-free block were selected as medium to high molecular weight resins to be used in combination with the low molecular weight resin [A] containing polar groups. It has been found that the above problem can be effectively solved by using an AB block copolymer having B.

【0024】この事は、本発明の結着樹脂〔A〕及び〔
B〕の相乗効果により、光導電体粒子が充分に分散され
且つ凝縮しない状態で存在し、更に分光増感色素が光導
電体粒子表面に充分に吸着されていること及び光導電体
表面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分に吸着してト
ラップを補償していること等によるものと推定される。
[0024] This means that the binder resin [A] and [
Due to the synergistic effect of [B], the photoconductor particles are sufficiently dispersed and exist in a non-condensed state, and the spectral sensitizing dye is sufficiently adsorbed on the surface of the photoconductor particles, and the excess on the photoconductor surface is This is presumed to be due to the fact that the binding resin sufficiently adsorbs the active sites and compensates for the trapping.

【0025】即ち、特定の極性基を含有する低分子量の
グラフト型共重合体の樹脂〔A〕は、光導電体粒子に充
分吸着して該粒子を均一に分散し、その高分子鎖が非常
に短いことにより凝集を抑制すること、又、分光増感色
素の吸着疎外を起こさないこと等の重要な作用を有する
That is, the low molecular weight graft copolymer resin [A] containing a specific polar group sufficiently adsorbs to the photoconductor particles and uniformly disperses the particles, and the polymer chains are extremely It has important effects such as suppressing aggregation due to its short length and preventing adsorption and alienation of spectral sensitizing dyes.

【0026】又、本発明の特定の極性基を含有するブロ
ックAとそれを含まないブロックBとで構成された中〜
高分子量のABブロック共重合体を用いることで光導電
層の機械的強度が充分に保持された。これは、この樹脂
のブロックAの部分が光導電体粒子に対する相互作用が
樹脂〔A〕よりも弱いものであること及びブロックBの
部分同志の高分子鎖間の絡み合い効果等によるものと考
えられる。
[0026] Furthermore, a medium to
By using the high molecular weight AB block copolymer, the mechanical strength of the photoconductive layer was sufficiently maintained. This is thought to be due to the fact that the interaction of the block A part of this resin with the photoconductor particles is weaker than that of the resin [A], and the entanglement effect between the polymer chains of the block B part. .

【0027】更には、公知の併用された中〜高分子量の
樹脂に比べて静電特性がより良化する効果を有すること
は光導電体粒子と相互作用をもつブロックA部分が極性
基を有することから分光増感色素の吸着疎外を抑制する
働きをしているものと考えられる。
Furthermore, the fact that the electrostatic properties are more improved than the known medium to high molecular weight resins used in combination is that the block A portion that interacts with the photoconductor particles has a polar group. Therefore, it is thought that it functions to suppress the adsorption and alienation of spectral sensitizing dyes.

【0028】この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用
色素として特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシ
アニン系顔料で特に顕著な効果を示した。一方、光導電
体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感
光体を従来公知のダイレクト刷版として用いた場合には
優れた撮像性とともに著しく良好な保水性を示す。
This effect was particularly remarkable with polymethine dyes or phthalocyanine pigments, which are particularly effective as dyes for spectral sensitization of near-infrared to infrared light. On the other hand, when the electrophotographic photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor is used as a conventionally known direct printing plate, it exhibits excellent imaging properties and extremely good water retention.

【0029】即ち、電子写真感プロセスを経て複写画像
を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理
液により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷
用原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に
優れた印刷用原版としての性能を示すものである。
That is, the photoreceptor of the present invention, on which a copy image has been formed through an electrophotographic process, is chemically treated to desensitize the non-image areas using a conventionally known desensitizing treatment liquid, and this is used as a printing original plate. It shows excellent performance as a printing original plate when printed by offset printing.

【0030】本発明の感光体を不感脂化処理すると、非
画像部の親水化が充分になされ、保水性が向上すること
から印刷枚数が飛躍的に向上した。これは、上記した酸
化亜鉛粒子が均一に分散されていること及び酸化亜鉛粒
子表面に存在する結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化
処理液との不感脂化反応が疎外されず迅速に且つ効果的
に進行することによるものと考えられる。
When the photoreceptor of the present invention was desensitized, the non-image area was sufficiently made hydrophilic and the water retention property was improved, resulting in a dramatic increase in the number of prints. This is because the above-mentioned zinc oxide particles are uniformly dispersed and the binder resin present on the surface of the zinc oxide particles is in an appropriate state, so that the desensitization reaction with the desensitization treatment solution does not occur and is rapid. This is thought to be due to the effective progression of the disease.

【0031】更には本発明では、低分子量の樹脂〔A〕
において、マクロモノマ−中に含有される一般式(I)
及び/又はマクロモノマ−と共重合する一般式(I)と
して、下記一般式(Ia)及び一般式(Ib)で示され
る、2位に、及び/又は2位と6位に、特定の置換基を
有するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含有する
、特定の置換基をもつメタクリレート成分を含有する樹
脂(以降この低分子量体をとくに樹脂〔AA〕と称する
)であることが好ましい。
Furthermore, in the present invention, a low molecular weight resin [A]
In, the general formula (I) contained in the macromonomer
and/or as the general formula (I) copolymerized with the macromonomer, a specific substituent at the 2-position and/or at the 2-position and the 6-position shown in the following general formula (Ia) and general formula (Ib). The resin is preferably a resin containing a methacrylate component having a specific substituent, which contains a benzene ring or an unsubstituted naphthalene ring (hereinafter, this low molecular weight product is particularly referred to as resin [AA]).

【0032】[0032]

【化7】[C7]

【0033】[0033]

【化8】 〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA2 は互い
に独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜10の炭化水
素基、塩素原子、臭素原子、−COR4 又は−COO
R4 (ここでR4 は炭素数1〜10の炭化水素基を
示す)を表す。
[Formula (Ia) and (Ib), A1 and A2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, -COR4 or -COO
R4 (here, R4 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms).

【0034】B1 及びB2 はそれぞれ−COO−と
ベンゼン環を結合する、単結合又は連結原子数1〜4個
の連結基を表わす。〕上記特定の樹脂〔AA〕を用いる
と樹脂〔A〕の場合よりもより一層電子写真特性(特に
V10、D.R.R、E1/10)の向上が達成できる
B1 and B2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms, which connects -COO- to the benzene ring. ] When the above-mentioned specific resin [AA] is used, electrophotographic properties (particularly V10, D.R.R., and E1/10) can be further improved than in the case of resin [A].

【0035】この事の理由は不明であるが、1つの理由
として、メタクリレートのエステル成分である、オルト
位に置換基を有する平面性のベンゼン環又はナフタレン
環の効果により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマ
ー分子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考
えられる。
The reason for this is unknown, but one reason is that the zinc oxide interface in the film is caused by the effect of the planar benzene ring or naphthalene ring having a substituent at the ortho position, which is the ester component of methacrylate. This is thought to be due to proper alignment of these polymer molecular chains.

【0036】以下に、本発明の結着樹脂について詳しく
説明する。まず、本発明の樹脂〔A〕について説明する
。樹脂〔A〕は、一般式(I)で示される重合体成分に
相当する単量体と一官能性マクロモノマー(M)とを少
なくとも含有するグラフト型共重合体であり、更に特定
の極性基を該重合体の主鎖の片末端(樹脂〔A1 〕)
あるいはグラフト部分中(樹脂〔A2 〕)に各々含有
することを特徴とする重量平均分子量1×103 〜2
×104 の低分子量の樹脂である。
The binder resin of the present invention will be explained in detail below. First, the resin [A] of the present invention will be explained. The resin [A] is a graft copolymer containing at least a monomer corresponding to the polymer component represented by the general formula (I) and a monofunctional macromonomer (M), and further contains a specific polar group. at one end of the main chain of the polymer (resin [A1])
Alternatively, the weight average molecular weight of each contained in the graft portion (resin [A2]) is 1 x 103 to 2.
*104 It is a low molecular weight resin.

【0037】樹脂〔A〕の分子量が1×103 より小
さくなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず
、一方分子量が2×104 より大きくなると本発明の
樹脂であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用い
た感光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条
件下での暗減衰保持率及び光感度の変動が多少大きくな
り、安定した複写画像が得られるいとう本発明の効果が
薄れてしまう。
When the molecular weight of the resin [A] is less than 1×10 3 , the film-forming ability decreases and sufficient film strength cannot be maintained, whereas when the molecular weight is greater than 2×10 4 , even the resin of the present invention In particular, for photoreceptors using near-infrared to infrared spectral sensitizing dyes, fluctuations in dark decay retention and light sensitivity become somewhat large under harsh conditions of high temperature, high humidity, low temperature and low humidity, resulting in stable copying. When an image is obtained, the effect of the present invention is diminished.

【0038】樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは−
30℃〜110℃、より好ましくは−20℃〜90℃で
ある。樹脂〔A〕における一般式(I)の繰り返し単位
に相当する重合体成分の存在割合は樹脂〔A〕中30重
量%以上、好ましくは50重量%以上であり、極性基を
含有する成分の総量は、樹脂〔A〕中0.5〜15重量
%、好ましくは1〜10重量%である。
The glass transition point of the resin [A] is preferably -
The temperature is 30°C to 110°C, more preferably -20°C to 90°C. The proportion of the polymer component corresponding to the repeating unit of general formula (I) in the resin [A] is 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more in the resin [A], and the total amount of components containing polar groups is 0.5 to 15% by weight, preferably 1 to 10% by weight in resin [A].

【0039】樹脂〔A〕における極性基含有量が0.5
重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができない。一方、該極性基含有量が15重
量%よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性
が低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに
地汚れが増大する。
[0039] The polar group content in resin [A] is 0.5
If it is less than % by weight, the initial potential will be low and sufficient image density will not be obtained. On the other hand, if the polar group content is more than 15% by weight, the dispersibility decreases no matter how low the molecular weight is, and furthermore, background smudge increases when used as an offset master.

【0040】樹脂〔A〕におけるマクロモノマー(M)
の含有量は、樹脂〔A〕中1〜70重量%、好ましくは
5〜50重量%である。マクロモノマー(M)に相当す
る共重合成分が1重量%未満では、グラフト型共重合体
の特徴が失われ、静電特性(特に暗中電荷保持率、感度
)の低下が生じ、またオフセット印刷用原版として用い
たときに保水性も低下する。該含有量が70重量%を超
えると、グラフト型共重合体の共重合性が充分に進行し
にくくなり、その結果として上記のような静電特性及び
保水性の低下が生じる。
Macromonomer (M) in resin [A]
The content of is 1 to 70% by weight, preferably 5 to 50% by weight in the resin [A]. If the copolymerization component corresponding to the macromonomer (M) is less than 1% by weight, the characteristics of the graft type copolymer will be lost, the electrostatic properties (especially dark charge retention, sensitivity) will decrease, and it will be difficult to use for offset printing. Water retention is also reduced when used as an original plate. When the content exceeds 70% by weight, it becomes difficult for the copolymerization of the graft copolymer to proceed sufficiently, resulting in the deterioration of electrostatic properties and water retention as described above.

【0041】次に樹脂〔A〕の共重合体中に30重量%
以上含有される、前記一般式(I)で示される繰り返し
単位を更に説明する。a1 及びa2 は各々水素原子
、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子)、シアノ
基又は炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基等)等を表す。
Next, 30% by weight in the copolymer of resin [A]
The repeating units represented by the general formula (I) contained above will be further explained. a1 and a2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom), a cyano group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.).

【0042】R3 は炭化水素基を表し、具体的にはア
ルキル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましく
はベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基で
あるアラルキル基又は芳香族基である。
R3 represents a hydrocarbon group, specifically an alkyl group, an aralkyl group or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring. .

【0043】更に、R3 は好ましくは炭素数1〜18
の置換されていてもよい炭化水素基を表わす。置換基と
しては樹脂〔A〕における上記該極性基含有の重合体成
分に含有される前記極性基以外の置換基であればいずれ
でもよく、例えば、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、
塩素原子、臭素原子等)、−OR5 、−COOR5 
、−OCOR5 (R5 は炭素数1〜22のアルキル
基を表わし、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等である)等の
置換基が挙げられる。好ましい炭化水素基としては、炭
素数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基
、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メト
キシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3−
ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換されても
よいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニ
ル基、2−ブテニル基、2−ぺンテニル基、3−メチル
−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−ヘキセニ
ル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル
基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル
基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニル
プロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基
、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジ
ル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチ
ルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5〜
8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキシ
ル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロぺンチ
ルエチル基等)又は炭素数6〜12の置換されてもよい
芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基
、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基
、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシ
フェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基
、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロ
ロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、
アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフ
ェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフ
ェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)等があげ
られる。
Furthermore, R3 preferably has 1 to 18 carbon atoms.
represents an optionally substituted hydrocarbon group. The substituent may be any substituent other than the polar group contained in the polar group-containing polymer component of the resin [A], such as a halogen atom (e.g. fluorine atom,
chlorine atom, bromine atom, etc.), -OR5, -COOR5
, -OCOR5 (R5 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, etc.). Preferred hydrocarbon groups include optionally substituted alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms (for example,
Methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group,
Hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-
bromopropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 4 to 18 carbon atoms (e.g., 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group) group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group) , 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon number 5 ~
8 optionally substituted alicyclic groups (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or optionally substituted aromatic groups having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, Bromophenyl group, cyanophenyl group,
acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group,
(ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecoylamidophenyl group, etc.).

【0044】R3 の示す炭化水素基において、R3 
が脂肪族基の場合には好ましくは炭素数1〜5の炭化水
素基を式(I)で表わされる成分中の60重量%以上含
有することが好ましい。
In the hydrocarbon group represented by R3, R3
When is an aliphatic group, it is preferable that the component represented by formula (I) preferably contains 60% by weight or more of a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.

【0045】このような置換基R3 を有する成分であ
る一般式(I)の繰り返し単位において、より好ましく
は前記一般式(Ia)及び/又は一般式(Ib)で示さ
れる繰り返し単位の重合体成分が挙げられる。
[0045] Among the repeating units of general formula (I) which are components having such a substituent R3, polymer components of repeating units represented by general formula (Ia) and/or general formula (Ib) are more preferable. can be mentioned.

【0046】式(Ia)において、好ましいA1 及び
A2 として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及
び臭素原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素基として
、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、炭素数7〜9の
アラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベン
ジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、クロロメチルベンジル基)及びアリール
基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモ
フェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基)、並びに−COR4 及び−CO
OR4 (好ましいR4 としては上記の炭素数1〜1
0の好ましい炭化水素基として記載したものを挙げるこ
とができる)を挙げることができる。
In formula (Ia), preferred A1 and A2 are, independently of each other, a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom, as well as a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms. Alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3-
phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloromethylbenzyl group) and aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group) , chlorophenyl group,
dichlorophenyl group), and -COR4 and -CO
OR4 (preferably R4 has 1 to 1 carbon atoms as described above)
Examples of preferable hydrocarbon groups include those described above.

【0047】式(Ia)及び(Ib)において、B1 
及びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単
結合又は−(CH2 )a −(aは1〜3の整数を表
す)、−CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO
−、−(CH2 )b −(bは1又は2の整数を表す
)、−CH2 CH2 O−等の如き連結原子数1〜4
個の連結基であり、より好ましくは単結合又は結合原子
数1〜2個の連結基を挙げることができる。
In formulas (Ia) and (Ib), B1
and B2 are each a single bond connecting -COO- and a benzene ring, or -(CH2)a- (a represents an integer of 1 to 3), -CH2OCO-, -CH2CH2OCO
-, -(CH2)b - (b represents an integer of 1 or 2), -CH2CH2O-, etc., with 1 to 4 connected atoms
, and more preferably a single bond or a linking group having 1 to 2 bonded atoms.

【0048】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(Ia
)又は(Ib)で示される繰り返し単位の具体例を以下
に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定されるも
のではない。また、以下の(a−1)〜(a−20)に
おいて、cは1〜4の整数、dは0又は1〜3の整数、
eは1〜3の整数、R6 はいずれも−CcH2c+1
又は−(CH2 )d −C6 H5 (ただし、c、
dは上記と同じ)を表し、D1 及びD2 は同じでも
異なってもよく、水素原子、−Cl、−Br、−Iのい
ずれかを表す。
Formula (Ia) used in the resin [A] of the present invention
) or (Ib) are listed below. However, the scope of the present invention is not limited thereto. In addition, in the following (a-1) to (a-20), c is an integer of 1 to 4, d is 0 or an integer of 1 to 3,
e is an integer from 1 to 3, R6 is -CcH2c+1
or -(CH2)d-C6H5 (however, c,
d is the same as above), and D1 and D2 may be the same or different and represent a hydrogen atom, -Cl, -Br, or -I.

【0049】[0049]

【化9】[Chemical formula 9]

【0050】[0050]

【化10】[Chemical formula 10]

【0051】[0051]

【化11】[Chemical formula 11]

【0052】[0052]

【化12】[Chemical formula 12]

【0053】[0053]

【化13】 次に低分子量の樹脂〔A〕が含有する極性基について説
明する。該極性基は、−PO3 H2 、−SO3 H
、−COOH、−P(=O)(OH)R1 −及び環状
酸無水物含有基から少なくとも1種選ばれるものである
ことが好ましい。
embedded image Next, the polar groups contained in the low molecular weight resin [A] will be explained. The polar group is -PO3 H2, -SO3 H
, -COOH, -P(=O)(OH)R1 -, and a cyclic acid anhydride-containing group.

【0054】ここで、−P(=O)(OH)R1 は、
下記化14で表わされる基を示し、ここにおいて該R1
 は炭化水素基又は−OR2 基(R2 は炭化水素基
を表す)を表し、具体的にはR1 は炭素数1〜6の置
換されていてもよい炭化水素基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2
−ブロムエチル基、2−フロロエチル基、3−クロロプ
ロピル基、3−メトキシプロピル基、2−メトキシブチ
ル基、ベンジル基、フェニル基、プロペニル基、メトキ
シメチル基、エトキシメチル基、2−エトキシエチル基
)等であり、R2 はR1 と同一の内容を表す。
Here, -P(=O)(OH)R1 is
Indicates a group represented by the following chemical formula 14, where the R1
represents a hydrocarbon group or -OR2 group (R2 represents a hydrocarbon group), specifically R1 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group). group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2
-bromoethyl group, 2-fluoroethyl group, 3-chloropropyl group, 3-methoxypropyl group, 2-methoxybutyl group, benzyl group, phenyl group, propenyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-ethoxyethyl group) etc., and R2 represents the same content as R1.

【0055】[0055]

【化14】 また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
embedded image The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic anhydride, aromatic dicarboxylic acid anhydride, Examples include anhydrides.

【0056】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物、、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロぺンタン−1,2−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環
、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2
,3−ビシクロ〔2.2.2〕オクタジカルボン酸無水
物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、臭
素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル
基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されていてもよ
い。
Examples of aliphatic dicarboxylic anhydrides include:
Succinic anhydride, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2- Dicarboxylic anhydride ring, 2
, 3-bicyclo[2.2.2]octadicarboxylic acid anhydride rings, etc., and these rings include, for example, halogen atoms such as chlorine atoms and bromine atoms, methyl groups, ethyl groups, butyl groups, hexyl groups, etc. The alkyl group, etc. may be substituted.

【0057】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒ
ドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボ
ニル基(アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エ
トキシ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, pyridine-dicarboxylic anhydride ring, thiophene-dicarboxylic anhydride ring, etc. These rings are
For example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (alkoxy groups include, for example, methoxy group, ethoxy groups) etc. may be substituted.

【0058】樹脂〔A1 〕の場合には、該極性基は重
合体主鎖の末端に結合されて含有される。該極性基の含
有量は、特に限定的ではないが、0.5〜15重量%で
あることが好ましい。該極性基は重合体主鎖の末端に直
接結合してもよいし、連結基を介して結合してもよい。 かかる連結基としては、いずれの結合する基でもよいが
、例えば具体的に挙げるとすれば、−CR21R22−
〔ここでR21、R22は同じでも異なっていてもよく
、各々水素原子、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子等
)、OH基、シアノ基、アルキル基(メチル基、エチル
基、2−クロロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)、アラルキル基(
ベンジル基、フェネチル基等)、フェニル基等を表す〕
、−(CHR21−CHR22)−、−C6 H10−
、−C6 H4 −、−O−、−S−、−NR23−〔
ここでR23は水素原子又は炭化水素基{炭化水素基と
して具体的には炭素数1〜12の炭化水素基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−メトキシエ
チル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、ベ
ンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、フェニル
基、トリル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基
、ブチルフェニル基等)が挙げられる}を表す〕、−C
O−、−COO−、−OCO−、−CONR23−、−
SO2 NR23−、−SO2 −、−NHCONH−
、−NHCOO−、−NHSO2−、−CONHCOO
−、−CONHCONH−、複素環(ヘテロ原子として
O、S、N等を少なくとも一種含有する5もしくは6員
環又はこれらの縮合環であればいずれでもよく、例えば
チオフェン環、ピリジン環、フラン環、イミダゾール環
、ピペリジン環、モルホリン環等が挙げられる)又は−
Si R24R25〔ここでR24、R25は同じでも
異なっていてもよく、各々炭化水素基又は−OR26(
ここでR26は炭化水素基を表す)を表す。 これらの炭化水素基としては、R23で挙げたものと同
様のものを挙げることができる〕等の結合基の単独又は
これらの2以上の組合せにより構成された連結基等が挙
げられる。
In the case of resin [A1], the polar group is contained and bonded to the end of the polymer main chain. The content of the polar group is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 15% by weight. The polar group may be directly bonded to the end of the polymer main chain or may be bonded via a linking group. Such a linking group may be any bonding group, but specific examples include -CR21R22-
[Here, R21 and R22 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (chlorine atom, bromine atom, etc.), an OH group, a cyano group, an alkyl group (methyl group, ethyl group, 2-chloroethyl group, 2-hydroxyethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl group (
(benzyl group, phenethyl group, etc.), phenyl group, etc.]
, -(CHR21-CHR22)-, -C6 H10-
, -C6 H4 -, -O-, -S-, -NR23-[
Here, R23 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group {specifically, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group) , dodecyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, benzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, butylphenyl group, etc.) ], −C
O-, -COO-, -OCO-, -CONR23-, -
SO2 NR23-, -SO2-, -NHCONH-
, -NHCOO-, -NHSO2-, -CONHCOO
-, -CONHCONH-, heterocycle (any 5- or 6-membered ring containing at least one of O, S, N, etc. as a heteroatom, or a condensed ring thereof, such as a thiophene ring, a pyridine ring, a furan ring, imidazole ring, piperidine ring, morpholine ring, etc.) or -
Si R24R25 [Here, R24 and R25 may be the same or different, and each represents a hydrocarbon group or -OR26 (
Here, R26 represents a hydrocarbon group. Examples of these hydrocarbon groups include those similar to those listed for R23.

【0059】一方、樹脂〔A2 〕の場合には、上記極
性基は一官能性マクロモノマー(M2 )中における重
合体成分中に含有される。樹脂〔A2 〕における極性
基を含有する共重合成分は、例えば一般式(I)〔一般
式(Ia)、(Ib)も含む〕で示される繰り返し単位
に相当する単量体と共重合し得る該極性基を含有するビ
ニル系化合物であればいずれでもよく、例えば、高分子
学会編「高分子データ・ハンドブック〔基礎編〕」培風
館(1986年刊)等に記載されている。具体的には、
アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例えばα
−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α−(2−
アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−
フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β
−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ
体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン
酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、
クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−
ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテ
ン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2−
オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類
、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、
ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニル
ホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の
半エステル誘導体及びこれらのカルボン又はスルホン酸
のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該極性基
を含有する化合物等が挙げられる。
On the other hand, in the case of resin [A2], the above polar group is contained in the polymer component in the monofunctional macromonomer (M2). The copolymerization component containing a polar group in the resin [A2] can be copolymerized, for example, with a monomer corresponding to a repeating unit represented by general formula (I) [including general formulas (Ia) and (Ib)]. Any vinyl compound containing the polar group may be used, and is described in, for example, "Polymer Data Handbook [Basic Edition]" edited by the Society of Polymer Science and Technology, Baifukan (1986). in particular,
Acrylic acid, α- and/or β-substituted acrylic acid (e.g. α
-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-(2-
amino) methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-
Fluoro body, α-tributylsilyl body, α-cyano body, β
-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides,
Crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-
Pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-
octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid,
Half ester derivatives of vinyl or allyl groups of vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acids, and ester derivatives and amide derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, compounds containing said polar group in the substituent group etc.

【0060】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、b1 はH又はCH3 を示し、b2
 はH、CH3 又はCHCOOCH3 を示し、R7
 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R8 は炭素数
1〜6のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し
、fは1〜3の整数を示し、gは2〜11の整数を示し
、hは1〜11の整数を示し、iは2〜4の整数を示し
、jは2〜10の整数を示す。
Examples of copolymerizable components containing polar groups are shown below. Here, b1 represents H or CH3, and b2
represents H, CH3 or CHCOOCH3, R7
represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a benzyl group, or a phenyl group, f represents an integer of 1 to 3, and g represents an integer of 2 to 11. , h represents an integer of 1 to 11, i represents an integer of 2 to 4, and j represents an integer of 2 to 10.

【0061】[0061]

【化15】[Chemical formula 15]

【0062】[0062]

【化16】[Chemical formula 16]

【0063】[0063]

【化17】[Chemical formula 17]

【0064】[0064]

【化18】[Chemical formula 18]

【0065】[0065]

【化19】[Chemical formula 19]

【0066】[0066]

【化20】[C20]

【0067】[0067]

【化21】[C21]

【0068】[0068]

【化22】[C22]

【0069】[0069]

【化23】[C23]

【0070】[0070]

【化24】[C24]

【0071】[0071]

【化25】[C25]

【0072】[0072]

【化26】 また、本発明ではマクロモノマー中に極性基を含有する
樹脂〔A2 〕が、更に上記極性基のなかのいずれか少
なくとも一種を重合体主鎖の末端に結合していてもよい
(かかる樹脂を特に樹脂〔A12〕と呼ぶこともある)
embedded image In the present invention, the resin [A2] containing a polar group in the macromonomer may further have at least one of the above polar groups bonded to the terminal of the polymer main chain ( Such resin is sometimes referred to as resin [A12])
.

【0073】樹脂〔A12〕において、マクロモノマー
における共重合成分として含有される極性基と、重合体
主鎖の片末端に結合される極性基とは同じでも異なって
いてもよく、またその存在割合は、本発明の光導電層を
構成する他の結着樹脂、分光増感色素、化学増感剤又は
それ以外の添加剤の種類、量によって異なり、その割合
は任意に調節することが好ましい。重要なことは、両者
の極性基の総量が0.5〜15重量%の範囲内で使用さ
れることである。
In the resin [A12], the polar group contained as a copolymerization component in the macromonomer and the polar group bonded to one end of the polymer main chain may be the same or different, and their abundance ratio varies depending on the type and amount of other binder resins, spectral sensitizing dyes, chemical sensitizers, or other additives constituting the photoconductive layer of the present invention, and it is preferable to adjust the ratio arbitrarily. What is important is that the total amount of both polar groups is used within the range of 0.5 to 15% by weight.

【0074】更に、発明のグラフト型共重合樹脂の共重
合成分として供せられる、一官能性マクロモノマー(M
)について詳述する。一官能性マクロモノマー(M1 
)は、一般式(II)で示される重合性二重結合基を、
前記一般式(I)〔一般式(Ia)及び(Ib)も含む
〕で示される重合体成分のうちの少なくとも一種を含有
する重合体主鎖の一方の末端にのみ結合してなる、重量
平均分子量2×104 以下のものであり、マクロモノ
マー(M2)は、上記マクロモノマー(M1 )の繰り
返し単位である重合体成分として更に前記したと同様の
特定の極性基を含有する重合体成分のうちの少なくとも
一種を含有するものである。
Furthermore, a monofunctional macromonomer (M
) will be explained in detail. Monofunctional macromonomer (M1
) is a polymerizable double bond group represented by general formula (II),
A weight average compound formed by bonding only to one end of a polymer main chain containing at least one of the polymer components represented by the above general formula (I) [including general formulas (Ia) and (Ib)] The macromonomer (M2) has a molecular weight of 2 x 104 or less, and the macromonomer (M2) is a polymer component that is a repeating unit of the macromonomer (M1) and further contains a specific polar group as described above. It contains at least one of the following.

【0075】[0075]

【化27】 〔式(II)中、G1 は−COO−、−OCO−、−
CH2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−S
O2 −、−CO−、−CONR11−、−SO2 N
R11−(ここでR11は水素原子又は炭化水素基を表
わす)、−CONHCOO−、−CONHCONH−又
は−C6 H4 −を表わす。
[In formula (II), G1 is -COO-, -OCO-, -
CH2 OCO-, -CH2 COO-, -O-, -S
O2-, -CO-, -CONR11-, -SO2N
R11- (here R11 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group), -CONHCOO-, -CONHCONH- or -C6H4-.

【0076】b1 及びb2 は、互いに同じでも異な
ってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、
炭化水素基、−COOR12又は炭化水素を介した−C
OOR12(ここでR12は置換されてもよい炭化水素
基を表す)を表す。〕マクロモノマー(M)の重量平均
分子量が2×104 を越えると、式(I)に相当する
単量体との共重合性が低下するため好ましくない。他方
重量平均分子量が小さすぎると、感光層の電子写真特性
の向上効果が小さくなるため、1×103以上であるこ
とが好ましい。
b1 and b2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group,
-C via hydrocarbon group, -COOR12 or hydrocarbon
OOR12 (here, R12 represents an optionally substituted hydrocarbon group). ] If the weight average molecular weight of the macromonomer (M) exceeds 2×10 4 , copolymerizability with the monomer corresponding to formula (I) decreases, which is not preferable. On the other hand, if the weight average molecular weight is too small, the effect of improving the electrophotographic properties of the photosensitive layer will be reduced, so it is preferably 1×10 3 or more.

【0077】該重合性二重結合基を片末端に結合してな
る一官能性マクロモノマー(M)の繰り返し単位を構成
する重合体成分として、一般式(I)、(Ia)及び/
又は(Ib)で表される成分が挙げられ、その含有量は
マクロモノマー中30重量%以上、好ましくは50重量
%以上である。
The polymer components constituting the repeating unit of the monofunctional macromonomer (M) having the polymerizable double bond group bonded to one end thereof include general formulas (I), (Ia) and/or
or (Ib), and its content is 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more in the macromonomer.

【0078】これらの一般式(I)、(Ia)及び(I
b)で表される重合体成分の具体的記載は前記したマク
ロモノマーと共重合し得る共重合成分として記載した通
りであり、具体例としても、前記と同様の物が挙げられ
る。樹脂〔A〕において、樹脂〔A〕の共重合体成分と
して含まれる式(I)の成分と、マクロモノマー(M)
中の重合成分として含まれる式(I)の成分とは同じで
も異なっていてもよい。
These general formulas (I), (Ia) and (I
The specific description of the polymer component represented by b) is as described above as a copolymerization component that can be copolymerized with the macromonomer, and specific examples thereof include the same ones as above. In the resin [A], the component of formula (I) contained as a copolymer component of the resin [A] and the macromonomer (M)
The component of formula (I) contained as a polymerization component therein may be the same or different.

【0079】更にマクロモノマー(M)中の重合体成分
として上記以外の他の重合体成分を含有していてもよく
、例えば重合し得る他の繰り返し単位に相当する単量体
として、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アク
リルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン及びその
誘導体(例えばビニルトルエン、クロロスチレン、ブロ
モスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、N,N−ジメ
チルアミノメチルスチレン等)、複素環ビニル類(例え
ばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリ
ドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジ
オキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
Furthermore, the macromonomer (M) may contain other polymer components other than those mentioned above. For example, as monomers corresponding to other polymerizable repeating units, acrylonitrile, methacrylate, etc. lonitrile, acrylamides, methacrylamides, styrene and its derivatives (e.g. vinyltoluene, chlorostyrene, bromostyrene, hydroxymethylstyrene, N,N-dimethylaminomethylstyrene, etc.), heterocyclic vinyls (e.g. vinylpyridine, vinyl imidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.).

【0080】これら他の単量体が含有される場合には、
マクロモノマー(M)の全重合体成分中1〜30重量%
であることが好ましい。また、マクロモノマー(M2 
)において更に含有される特定の極性基含有成分は、マ
クロモノマー中好ましくは1〜50重量%、より好まし
くは3〜30重量%である。
[0080] When these other monomers are contained,
1 to 30% by weight of the macromonomer (M) in the total polymer components
It is preferable that In addition, macromonomer (M2
) The specific polar group-containing component further contained in the macromonomer is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 3 to 30% by weight.

【0081】一方、一般式(II)において、炭化水素
基の具体的内容は、一般式(I)におけるR3 で記載
した炭化水素基の内容と同様である。G1 が−C6 
H4 −を表わす場合、ベンゼン環は置換基を有しても
よい。置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子
、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシ
メチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エト
キシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられ
る。
On the other hand, in the general formula (II), the specific content of the hydrocarbon group is the same as that described for R3 in the general formula (I). G1 is -C6
When representing H4-, the benzene ring may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms (e.g., chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl groups (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy groups (e.g., methoxy group, ethoxy group, propioxy group, butoxy group, etc.).

【0082】b1 及びb2 は互いに同じでも異なっ
ていてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例
えば塩素原子、臭素原子)、シアノ基、炭素数1〜4の
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等)、−COOR12又は炭化水素を介した−
COOR12(R12は好ましくは炭素数1〜18のア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又は
アリール基を表し、これらは置換されていてもよく、具
体的には上記R3 にて説明したと同様のものを挙げる
ことができる。
b1 and b2 may be the same or different, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group). , propyl group,
(butyl group, etc.), -COOR12 or - via hydrocarbon
COOR12 (R12 preferably represents an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, or aryl group having 1 to 18 carbon atoms, and these may be substituted, specifically as explained in R3 above. Something similar to this can be mentioned.

【0083】上記炭化水素を介した−COOR12基に
おける炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、
プロピレン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式
(II)において、G1 は−COO−、−OCO−、
−CH2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−
CONH−、−SO2 NH−又は−C6 H4 −を
表し、b1 及びb2 は互いに同じでも異なっていて
もよく、各々水素原子、メチル基、−COOR12又は
−CH2 COOR12〔R12はより好ましくは炭素
数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)を表す〕を表す。 更に好ましくはb1 及びb2 においていずれか一方
が水素原子を表す。
The hydrocarbon group in the -COOR12 group via the hydrocarbon mentioned above includes a methylene group, an ethylene group,
Examples include propylene group. More preferably, in general formula (II), G1 is -COO-, -OCO-,
-CH2 OCO-, -CH2 COO-, -O-, -
CONH-, -SO2 NH- or -C6 H4 -, b1 and b2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a methyl group, -COOR12 or -CH2 COOR12 [R12 is more preferably a carbon number of 1 to 6 alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.)]. More preferably, one of b1 and b2 represents a hydrogen atom.

【0084】本発明に供されるマクロモノマーは、上記
の如き一般式(I)、(Ia)及び/又は(Ib)で示
される繰り返し単位、及びマクロモノマー(M2 )の
場合には更に特定の極性基を含有する繰り返し単位から
少なくともなるランダムな重合体主鎖の一方の末端にの
み、一般式(II)で示される重合性二重結合基が直接
結合するか或いは任意の連結基で結合された化学構造を
有するものである。
The macromonomer used in the present invention includes repeating units represented by general formulas (I), (Ia) and/or (Ib) as described above, and in the case of the macromonomer (M2), more specific repeating units. A polymerizable double bond group represented by the general formula (II) is bonded directly to only one end of a random polymer main chain consisting of at least repeating units containing a polar group, or is bonded by an arbitrary linking group. It has a chemical structure.

【0085】式(II)成分と重合体成分部分とを連結
する連結基としては、炭素ー炭素結合(単結合又は二重
結合)、炭素ーヘテロ原子結合及びヘテロ原子ーヘテロ
原子結合(上記においてヘテロ原子としては、例えば酸
素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等)の原子
団の任意の組合せで構成されるものである。
The linking group connecting the formula (II) component and the polymer component moiety is a carbon-carbon bond (single bond or double bond), a carbon-heteroatom bond, and a heteroatom-heteroatom bond (in the above, heteroatom For example, it is composed of any combination of atomic groups such as oxygen atoms, sulfur atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, etc.

【0086】更に具体的な連結基としては、前記樹脂〔
A1 〕において重合体主鎖と極性基とを連結する連結
基として記載したものと同様のものを挙げることができ
、これらの連結基のうちの単独又は二以上の連結基の組
合せである。
More specific linking groups include the resin [
A1] The same linking groups as those described in [A1] for linking the polymer main chain and the polar group can be mentioned, and these linking groups may be used alone or in combination of two or more linking groups.

【0087】本発明に供されるマクロモノマー(M)は
、従来公知の合成方法によって製造することができる。 具体的には、分子中にカルボキシル基、カルボキシハラ
イド基、ヒドロキシル基、アミノ基、ハロゲン原子、エ
ポキシ基等の反応性基を含有する重合開始剤及び/又は
連鎖移動剤を用いてラジカル重合して得られる末端反応
性基結合のオリゴマーと種々の試薬を反応させてマクロ
マーにするラジカル重合法による方法等により合成され
る。
The macromonomer (M) used in the present invention can be produced by a conventionally known synthesis method. Specifically, radical polymerization is performed using a polymerization initiator and/or chain transfer agent containing a reactive group such as a carboxyl group, a carboxyhalide group, a hydroxyl group, an amino group, a halogen atom, or an epoxy group in the molecule. It is synthesized by a method such as a radical polymerization method by reacting the obtained oligomer with terminal reactive group bonding with various reagents to form a macromer.

【0088】具体的には、P.Dreyfuss  a
nd  R.P.Quirk、Encycl.Poly
m.Sci.Eng.、7、551(1987)、P.
F.Rempp、E.Franta、Adu.Poly
m.Sci,58、1(1984)、川上雄資、化学工
業、38、56(1987)、山下雄也、高分子、31
、988(1982)、小林四郎、高分子、30、伊藤
浩一、高分子加工、35、262(1986)、東貴四
郎、津田隆、機能材料、1987、No.10、5等の
総説及びそれに引例の文献、特許等に記載の方法にした
がって合成することができる。
Specifically, P. Dreyfuss a
nd R. P. Quirk, Encycle. Poly
m. Sci. Eng. , 7, 551 (1987), P.
F. Rempp, E. Franta, Adu. Poly
m. Sci, 58, 1 (1984), Yuji Kawakami, Chemical Industry, 38, 56 (1987), Yuya Yamashita, Polymer, 31
, 988 (1982), Shiro Kobayashi, Polymers, 30, Koichi Ito, Polymer Processing, 35, 262 (1986), Kishiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987, No. It can be synthesized according to the methods described in reviews such as No. 10, No. 5, and the literature and patents cited therein.

【0089】但し、本発明のマクロモノマー(M2 )
は、その繰り返し単位の成分として前記極性基を含有す
ることから、合成上、例えば次の配慮をして合成される
。その一つの方法としては、例えば反応式(A)で示さ
れる様に、該極性基を保護した官能基の形で含有する単
量体を用いて上記の方法でラジカル重合及び末端反応性
基を導入するものである。
However, the macromonomer (M2) of the present invention
contains the above-mentioned polar group as a component of its repeating unit, so it is synthesized with the following considerations in mind, for example. As one method, for example, as shown in reaction formula (A), a monomer containing the polar group in the form of a protected functional group is used to carry out radical polymerization and terminal reactive group formation by the above method. This is to be introduced.

【0090】[0090]

【化28】 本発明のマクロモノマー(M2 )中にランダムに含有
される該極性基の保護反応及び脱保護反応(例えば加水
分解反応、加水素分解反応、酸化分解反応等)について
は、従来公知の方法により行うことができる。具体的に
は、J.F.W.McOmie、「Protectiv
e  Groups  in  OrganicChe
mistry」Plenum  Press(1973
)、T.W.Greene、「Protective 
 Groups  in  Organic  Syn
thesis」、John  Wiley  and 
 Sous(1981)、小田良平「高分子ファインケ
ミカル」講談社(1976)、岩倉義男、栗田恵輔「反
応性高分子」講談社(1977)、G.Berner 
 etal、J.Radiation  Curing
、1986、No.10、p10、特開昭62−212
669号、同62−286064号、同62−2104
75号、同62−195684号、同62−25847
6号、同63−260439号、特願昭62−2205
20号、同62−226692号等に記載の方法を用い
て合成することができる。
embedded image The protection reaction and deprotection reaction (for example, hydrolysis reaction, hydrogenolysis reaction, oxidative decomposition reaction, etc.) of the polar groups randomly contained in the macromonomer (M2) of the present invention are known in the art. This can be done by the following method. Specifically, J. F. W. McOmie, “Protective
e Groups in OrganicChe
mistry” Plenum Press (1973
), T. W. Greene, “Protective
Groups in Organic Syn
John Wiley and
Sous (1981), Ryohei Oda "Polymer Fine Chemicals" Kodansha (1976), Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita "Reactive Polymers" Kodansha (1977), G. Berner
etal, J. Radiation Curing
, 1986, No. 10, p10, JP-A-62-212
No. 669, No. 62-286064, No. 62-2104
No. 75, No. 62-195684, No. 62-25847
No. 6, No. 63-260439, patent application No. 62-2205
It can be synthesized using the method described in No. 20, No. 62-226692, and the like.

【0091】他の一つの方法としては、例えば反応式(
B)で示される様に、前記のようにしてオリゴマーを合
成した後、オリゴマーの片末端に結合した特定の反応性
基とオリゴマー中に含有される該極性基の反応性の差を
利用して、特定の反応性基とのみ反応する重合性二重結
合基含有の試薬と反応させることで合成する方法である
As another method, for example, the reaction formula (
As shown in B), after synthesizing the oligomer as described above, it is possible to synthesize the oligomer by utilizing the difference in reactivity between the specific reactive group bonded to one end of the oligomer and the polar group contained in the oligomer. , is a method of synthesis by reacting with a reagent containing a polymerizable double bond group that reacts only with a specific reactive group.

【0092】[0092]

【化29】 反応式(B)に示したように、各特定の官能基の組合せ
についての具体例を下記表ー1に示す。しかし、本発明
はこれらに限定されるものではなく、重要なことは通常
の有機化学反応における反応の選択性を利用することで
、オリゴマー中の該極性基を保護することなくマクロモ
ノマー化が達成されればよいものである。
embedded image As shown in reaction formula (B), specific examples of combinations of specific functional groups are shown in Table 1 below. However, the present invention is not limited thereto, and the important thing is that macromonomerization can be achieved without protecting the polar groups in the oligomer by utilizing the reaction selectivity in ordinary organic chemical reactions. It would be good if it were done.

【0093】[0093]

【表1】 用いることのできる連鎖移動剤としては、例えば該極性
基又は後に該極性基に誘導しうる置換基含有のメルカプ
ト化合物(例えばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チ
オサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メル
カプトプロピオン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−
メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メルカプトニ
コチン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)カルバ
モイル〕プロピオン酸、3−〔N−(2−メルカプトエ
チル)アミノ〕プロピオン酸、N−(3−メルカプトプ
ロピオニル)アラニン、2−メルカプトエタンスルホン
酸、3−メルカプトプロパンスルホン酸、4−メルカプ
トブタンスルホン酸、2−メルカプトエタノール、3−
メルカプト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプ
ト−2−プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノー
ル、メルカプトフェノール、2−メルカプトエチルアミ
ン、2−メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−3
−ピリジノール等)又はこれらのメルカプト化合物の酸
化体であるジスルフィド化合物、あるいは上記極性基又
は置換基含有のヨード化アルキル化合物(例えばヨード
酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノール、2
−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンスルホ
ン酸等)等が挙げられる。好ましくはメルカプト化合物
である。
[Table 1] Chain transfer agents that can be used include, for example, mercapto compounds containing the polar group or a substituent that can later be induced into the polar group (for example, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid). , 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N-(2-
Mercaptopropionyl) glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3-[N-(2-mercaptoethyl)carbamoyl]propionic acid, 3-[N-(2-mercaptoethyl)amino]propionic acid, N-(3-mercaptopropionyl) ) Alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 3-
Mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-propanol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mercaptoimidazole, 2-mercapto-3
-pyridinol, etc.) or disulfide compounds which are oxidized products of these mercapto compounds, or iodized alkyl compounds containing the above polar groups or substituents (e.g. iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanol, etc.)
-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, etc.). Preferred is a mercapto compound.

【0094】用いることのできる特定の反応性基含有の
重合開始剤としては、例えば、2,2’−アゾビス(2
−シアノプロパノール)、2,2’−アゾビス(2−シ
アノペンタノール)、4,4’−アゾビス(4−シアノ
吉草酸)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸クロ
ライド)、2,2’−アゾビス〔2−(5−メチル−2
−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕、2,2’−ア
ゾビス〔2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジ
ン−2−イル)プロパン〕、2,2’−アゾビス{2−
〔1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−
2−イル〕プロパン}、2,2’−アゾビス〔2−メチ
ル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド〕
等又はこれらの誘導体等が挙げられる。
Specific reactive group-containing polymerization initiators that can be used include, for example, 2,2'-azobis(2
-cyanopropanol), 2,2'-azobis(2-cyanopentanol), 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid), 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid chloride), 2, 2'-azobis[2-(5-methyl-2
-imidazolin-2-yl)propane], 2,2'-azobis[2-(3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl)propane], 2,2'-azobis{2-
[1-(2-hydroxyethyl)-2-imidazoline-
2-yl]propane}, 2,2'-azobis[2-methyl-N-(2-hydroxyethyl)propionamide]
or derivatives thereof.

【0095】これらの連鎖移動剤又は重合開始剤は、各
々全単量体に対して好ましくは0.1〜15重量%、よ
り好ましくは0.5〜10重量%である。
The amount of these chain transfer agents or polymerization initiators is preferably 0.1 to 15% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, based on the total monomers.

【0096】本発明のマクロモノマー(M)は、具体的
に下記の化合物を例として挙げることができる。但し、
マクロモノマー(M1 )は、以下の具体例に極性基含
有成分を含まないものとして同様のものが挙げられる。
The macromonomer (M) of the present invention can be specifically exemplified by the following compounds. however,
The macromonomer (M1) may be similar to the following specific example as one that does not contain a polar group-containing component.

【0097】また、以下の各例において、e1 は−H
又は−CH3 を示し、e2 、e3 又はe4 は各
々−H、−CH3 又は−CH2 COOCH3 を示
し、R10は−Ck H2k+1(kは1〜18の整数
を示す)、−CH2 C6 H5 、−C6 H4(E
1 )(E2)、(E1 、E2 は各々−H、−Cl
、−Br、−CH3 又は−COOCH3 を示す)、
−C10H7 又は−CH2 −C10H7 を示し、
F1 は−CN、−OCOCH3 、−CONH2 又
は−C6 H5 を示し、F2 は−Cl、−Br、−
CN又は−OCH3 を示し、lは2〜18の整数を示
し、mは2〜12の整数を示し、nは2〜4の整数を示
す。
Furthermore, in each of the following examples, e1 is -H
or -CH3, e2, e3 or e4 each represent -H, -CH3 or -CH2COOCH3, R10 is -Ck H2k+1 (k represents an integer from 1 to 18), -CH2 C6 H5, -C6 H4 (E
1) (E2), (E1 and E2 are -H and -Cl, respectively)
, -Br, -CH3 or -COOCH3),
-C10H7 or -CH2 -C10H7,
F1 represents -CN, -OCOCH3, -CONH2 or -C6H5, and F2 represents -Cl, -Br, -
CN or -OCH3, l represents an integer of 2 to 18, m represents an integer of 2 to 12, and n represents an integer of 2 to 4.

【0098】[0098]

【化30】[C30]

【0099】0099

【化31】[Chemical formula 31]

【0100】[0100]

【化32】[C32]

【0101】[0101]

【化33】[Chemical formula 33]

【0102】[0102]

【化34】[C34]

【0103】[0103]

【化35】 また、本発明の樹脂〔A〕は、前記した一般式(I)及
びマクロモノマー(M)に相当する単量体とともにこれ
ら以外の単量体を更なる共重合成分として含有してもよ
い。
[Chemical Formula 35] In addition, the resin [A] of the present invention contains monomers corresponding to the general formula (I) and the macromonomer (M) described above, as well as monomers other than these as further copolymerization components. You can.

【0104】このような他の共重合成分としては、例え
ば一般式(I)で説明した以外の置換基を含有するメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン
酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビ
ニル又はアリル酸エステル類(例えばカルボン酸として
、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフ
タレンカルボン酸等)、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル類(
例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等)、アク
リルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類(例え
ばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒドロ
キシスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレン
、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホニルオキ
シスチレン、ビニルナフタレン等)、ビニルスルホン含
有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類(
例えばビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミ
ダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、ビ
ニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、
ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等)等が挙げら
れる。但し、これら他の単量体は、樹脂〔A〕の共重合
体中20重量%を越えないことが好ましい。
Examples of such other copolymerization components include, for example, methacrylic esters, acrylic esters, and crotonic esters containing substituents other than those described in general formula (I), as well as α-olefins. esters, vinyl carboxylates or allyl esters (for example, carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalene carboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic esters (
(e.g. dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (e.g. styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N,N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinyl naphthalene, etc.), vinyl sulfone-containing compounds, vinyl ketone-containing compounds, heterocyclic vinyls (
For example, vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline,
vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.). However, it is preferable that the amount of these other monomers does not exceed 20% by weight in the copolymer of resin [A].

【0105】本発明に供される樹脂〔A〕において、重
合体主鎖の末端に上記極性基を結合してなる樹脂〔A1
 〕又は樹脂〔A12〕を合成するには、少なくとも前
記したマクロモノマー(M)と一般式(I)に相当する
単量体との重合反応時に、該極性基又はこれに誘導でき
る特定の反応基を分子中に含有した重合開始剤又は連鎖
移動剤を併用することで達成される。
[0105] In the resin [A] used in the present invention, the resin [A1
] or resin [A12], at least the polar group or a specific reactive group that can be derived therefrom during the polymerization reaction of the macromonomer (M) described above and the monomer corresponding to general formula (I). This can be achieved by using a polymerization initiator or a chain transfer agent containing in the molecule.

【0106】具体的には、マクロモノマーの合成におい
て前記した様に片末端反応結合のオリゴマーの方法と同
様にして得ることができる。次に本発明の樹脂〔B〕に
ついて説明する。
Specifically, it can be obtained in the same manner as the method for oligomers with reactive bonding at one end as described above in the synthesis of macromonomers. Next, the resin [B] of the present invention will be explained.

【0107】樹脂〔B〕はABブロック共重合体であり
、ブロック共重合体〔B〕における特定の極性基含有成
分の重合体成分量は、共重合体〔B〕中好ましくは0.
1〜5重量%、より好ましくは0.2〜3重量%の割合
で含有される。
The resin [B] is an AB block copolymer, and the amount of the specific polar group-containing component in the block copolymer [B] is preferably 0.
It is contained in a proportion of 1 to 5% by weight, more preferably 0.2 to 3% by weight.

【0108】結着樹脂〔B〕における極性基含有量が0
.1重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像
濃度を得ることができず、該極性基含有量が5重量%よ
りも多いと、分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特
特性の高温高湿が低下し、更にオフセットマスターとし
て用いるときに地汚れが増大するため、好ましくない。
[0108] The polar group content in the binder resin [B] is 0
.. If it is less than 1% by weight, the initial potential will be low and sufficient image density cannot be obtained, and if the polar group content is more than 5% by weight, dispersibility will decrease and film smoothness and electrophotographic properties will deteriorate. This is undesirable because the characteristics of high temperature and high humidity are reduced, and when used as an offset master, background smudge increases.

【0109】また  、樹脂〔B〕において、全共重合
体中に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が
前記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有総量の
10〜50重量%であることが好ましい。
In addition, in the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in the entire copolymer is 10 to 10% of the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in the resin [A]. Preferably it is 50% by weight.

【0110】樹脂〔B〕における該総量が樹脂〔A〕の
それの10重量%未満であると、電子写真特性(特に暗
中電荷保持率、光感度)の低下が著しく、膜の強度も低
下する。また、50重量%を越えると、分散の均一化が
不充分となり、電子写真特性が低下し、オフセット原版
としては保水性が低下する。
[0110] If the total amount in resin [B] is less than 10% by weight of that in resin [A], the electrophotographic properties (particularly charge retention in the dark and photosensitivity) will be significantly reduced, and the strength of the film will also be reduced. . Moreover, if it exceeds 50% by weight, uniformity of dispersion becomes insufficient, electrophotographic properties deteriorate, and water retention as an offset original plate deteriorates.

【0111】共重合体〔B〕の重量平均分子量は2×1
04 〜1×106 、好ましくは3×104 〜5×
105 である。樹脂〔B〕の分子量が2×104 よ
り小さくなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保
てず、また分子量が1×106 より大きくなると本発
明の樹脂〔B〕の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と
同程度の電子特性になってしまう。
[0111] The weight average molecular weight of copolymer [B] is 2×1
04 to 1×106, preferably 3×104 to 5×
It is 105. When the molecular weight of the resin [B] is smaller than 2 x 104, the film forming ability is reduced and sufficient film strength cannot be maintained, and when the molecular weight is larger than 1 x 106, the effect of the resin [B] of the present invention is reduced. However, the electronic properties are comparable to those of conventionally known resins.

【0112】該樹脂〔B〕のガラス転移点は、−10℃
〜100℃の範囲のものが好ましいが、より好ましくは
0℃〜90℃である。本発明のABブロック共重合体(
樹脂〔B〕)のAブロックを構成する特定の極性基を含
有する重合成分の具体例としては、前記した樹脂〔A〕
における特定の極性基を含有する重合体成分と同様のも
のを挙げることができる。
[0112] The glass transition point of the resin [B] is -10°C
The temperature range is preferably 100°C to 100°C, more preferably 0°C to 90°C. AB block copolymer of the present invention (
As a specific example of the polymerization component containing a specific polar group constituting the A block of resin [B]), the above-mentioned resin [A]
The same polymer components as those containing specific polar groups can be mentioned.

【0113】上記の如き特定の極性基を含有する重合体
成分は該Aブロック中に2種以上含有されていてもよく
、その場合における該2種以上の極性基含有成分は該A
ブロック中においてランダム共重合又はブロック共重合
のいずれの態様で含有されていてもよい。
[0113] Two or more kinds of polymer components containing specific polar groups as described above may be contained in the A block, and in this case, the two or more kinds of polar group-containing components are the same as the A block.
It may be contained in the block in either random copolymerization or block copolymerization.

【0114】また、上記極性基含有の重合体成分以外の
重合体成分をブロックA中に含有していてもよく、かか
る重合体成分としては好ましくは下記一般式(III)
の繰り返し単位に相当する重合体成分が挙げられる。
[0114] Further, the block A may contain a polymer component other than the above polar group-containing polymer component, and such polymer component is preferably represented by the following general formula (III).
A polymer component corresponding to the repeating unit of is mentioned.

【0115】[0115]

【化36】 〔式(III)中、X1 は−COO−、−OCO−、
−(CH2 )p −OCO−、−(CH2 )p −
COO−(pは1〜3の整数を表わす)、−O−、−S
O2 −、−CO−、−CON−Q2 −、−SO2 
N−Q2 −、−CONHCOO−、−CONHCON
H−又は−C6 H4−を表わす(ここでQ2 は水素
原子又は炭化水素基を表わす)。
embedded image [In formula (III), X1 is -COO-, -OCO-,
-(CH2)p-OCO-, -(CH2)p-
COO- (p represents an integer of 1 to 3), -O-, -S
O2 -, -CO-, -CON-Q2 -, -SO2
N-Q2-, -CONHCOO-, -CONHCON
It represents H- or -C6H4- (where Q2 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group).

【0116】Q1 は炭化水素基を表わす。m1 及び
m2 は、互いに同じでも異なってもよく、前記式(I
)中のa1 、a2 とそれぞれ同一の内容を表わす。 〕ここで、Q2 は水素原子のほか、好ましい炭化水素
基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチ
ル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシ
エチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18
の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル
−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ぺンテニル
基、3−メチル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基
、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−
2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されても
よいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナ
フチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基
、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベン
ジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等
)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば
、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2
−シクロぺンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12の
置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、
ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブ
トキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シ
アノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボ
ニルフェニル基、エトキシカルボキシフェニル基、ブト
キシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、
プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニ
ル基等)が挙げられる。
Q1 represents a hydrocarbon group. m1 and m2 may be the same or different from each other, and m1 and m2 may be the same or different from each other, and
) respectively represent the same content as a1 and a2. ] Here, in addition to a hydrogen atom, Q2 is preferably a hydrocarbon group such as an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group). group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-
chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), carbon number 4-18
An optionally substituted alkenyl group (e.g., 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group) group, 2-hexenyl group, 4-methyl-
2-hexenyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromo benzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group) base, 2
-cyclopentylethyl group, etc.), or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group,
Butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group group, ethoxycarboxyphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group,
propioamidophenyl group, dodecoylamidophenyl group, etc.).

【0117】X1 が−C6 H4 −を表わす場合、
ベンゼン環は置換基を有してもよい。置換基としては、
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキ
シ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基
、ブトキシ基等)等が挙げられる。
[0117] When X1 represents -C6H4-,
The benzene ring may have a substituent. As substituents,
Halogen atoms (e.g. chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy groups (e.g. methoxy group, ethoxy group, propioxy group) , butoxy group, etc.).

【0118】Q1 は、炭化水素基を表わし、好ましい
炭化水素基としては、炭素数1〜22の置換されてもよ
いアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基
、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル
基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メ
トキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3
−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換されて
もよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペ
ニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチ
ル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−ヘキセ
ニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニ
ル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキ
ル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメ
チルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5
〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキ
シル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロぺン
チルエチル基等)、炭素数6〜12の置換されてもよい
芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基
、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基
、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシ
フェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基
、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロ
ロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、
アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフ
ェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフ
ェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙げら
れる。
Q1 represents a hydrocarbon group, and preferred hydrocarbon groups include optionally substituted alkyl groups having 1 to 22 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3
-bromopropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 4 to 18 carbon atoms (e.g., 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group), group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group) , 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon number 5
~8 optionally substituted alicyclic groups (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.), optionally substituted aromatic groups having 6 to 12 carbon atoms (e.g., Phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group , bromophenyl group, cyanophenyl group,
acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group,
(ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecoylamidophenyl group, etc.).

【0119】更に好ましくは、一般式(III)におい
て、X1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OC
O−、−CH2 COO−、−O−、−CONH−、−
SO2 NH−又は−C6 H4 −を表わす。
More preferably, in general formula (III), X1 is -COO-, -OCO-, -CH2OC
O-, -CH2 COO-, -O-, -CONH-, -
Represents SO2 NH- or -C6 H4 -.

【0120】更には、式(III)に示される重合体成
分とともに該Aブロック中に含有され得る重合体成分と
して、該式(III)の重合体成分と共重合しうる他の
繰り返し単位に相当する単量体、例えばアクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル、複素環ビニル類(例えばビニ
ルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、
ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサ
ン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。これら他の
単量体はAブロックの全重合体成分100重量部中20
重量部を超えない範囲で用いられる。
Furthermore, as a polymer component that can be contained in the A block together with the polymer component represented by formula (III), a polymer component corresponding to another repeating unit that can be copolymerized with the polymer component of formula (III) is also added. monomers such as acrylonitrile, methacrylonitrile, heterocyclic vinyls (such as vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone,
vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.). These other monomers are contained in an amount of 20 parts by weight in 100 parts by weight of the total polymer components of the A block.
It is used within a range not exceeding parts by weight.

【0121】次にABブロック共重合体〔B〕において
、Bブロック成分を構成する重合成分について詳しく説
明する。Bブロック成分は、少なくとも前記一般式(I
)で示される繰り返し単位で示される重合体成分を含有
し、該式(I)で示される成分は好ましくBブロック成
分中、30〜100重量%、より好ましくは50〜10
0重量%含有される。
Next, in the AB block copolymer [B], the polymerization components constituting the B block component will be explained in detail. The B block component has at least the general formula (I
), and the component represented by formula (I) preferably accounts for 30 to 100% by weight, more preferably 50 to 10% by weight of the B block component.
Contains 0% by weight.

【0122】一般式(I)の成分の具体的内容について
は、樹脂〔A〕で説明したと同様のものに準じる。他に
含有され得る重合体成分としては、前記ブロックAで含
有され得る一般式(III)で示される成分又はその他
の成分として記載したものと同様のものが挙げられる。 但し、ブロックBにおいては、ブロックAで含有される
特定の極性基含有成分を含有しないことを特徴とする。
The specific contents of the components of general formula (I) are the same as those explained for resin [A]. Other polymer components that may be contained include the same components as those described as the component represented by general formula (III) or other components that may be contained in block A. However, block B is characterized in that it does not contain the specific polar group-containing component contained in block A.

【0123】本発明のABブロック共重合体〔B〕は、
従来公知の重合反応法によって製造することができる。 具体的には、該特定の極性基を含有する重合体成分に相
当する単量体において該極性基を予め保護した官能基と
しておき、有機金属化合物(例えばアルキルリチウム類
、リチウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネシウ
ムハライド類等)もしくはヨウ化水素/ヨウ素系等によ
るイオン重合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とする
光重合反応又はグループ移動重合反応等の公知のいわゆ
るリビング重合反応でABブロック共重合体を合成した
後、極性基を保護した官能基を加水分解反応、加水素分
解反応、酸化分解反応又は光分解反応等によって脱保護
反応を行ない、極性基を形成させる方法が挙げられる。 その1つの例を下記の反応スキーム(1)に示した。
The AB block copolymer [B] of the present invention is:
It can be produced by a conventionally known polymerization reaction method. Specifically, in the monomer corresponding to the polymer component containing the specific polar group, the polar group is previously protected as a functional group, and an organometallic compound (for example, alkyl lithiums, lithium diisopropylamide, alkyl magnesium After synthesizing an AB block copolymer using a known so-called living polymerization reaction such as an ionic polymerization reaction using a hydrogen iodide/iodine system (halides, etc.), a photopolymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst, or a group transfer polymerization reaction. , a method of forming a polar group by deprotecting a functional group with a protected polar group by a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, a photolysis reaction, etc. can be mentioned. One example is shown in reaction scheme (1) below.

【0124】[0124]

【化37】 これらは、例えば、P.Lutz、P.Masson 
 etal、Polym.Bull.12.,79(1
984)、B.C.Anderson、G.D.And
rews  etal、Macromolecules
、14、1601(1981)、K.Hatada、K
.Ute.etal、Polym.J.17、977(
1985)、18、1037(1986)、右手浩一、
畑田耕一、高分子加工、36、366(1987)、東
村敏延、沢本光男、高分子論文集、46、189(19
89)、M.Kuroki、T.Aida、J.Am.
Chem.Soc.109、4737(1987)、相
田卓三、井上祥平、有機合成化学、43、300(19
85)、D.Y.Sogah、W.R.Hertler
etal.Macromolecules、20、14
73(1987)等に記載の合成方法に従って容易に合
成することができる。
embedded image These include, for example, P. Lutz, P. Masson
etal, Polym. Bull. 12. ,79(1
984), B. C. Anderson, G. D. And
rews etal, Macromolecules
, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K.
.. Ute. etal, Polym. J. 17,977(
1985), 18, 1037 (1986), Koichi Migitari,
Koichi Hatada, Polymer Processing, 36, 366 (1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Collection of Polymer Papers, 46, 189 (19
89), M. Kuroki, T. Aida, J. Am.
Chem. Soc. 109, 4737 (1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Organic Synthetic Chemistry, 43, 300 (19
85), D. Y. Sogah, W. R. Hertler
etal. Macromolecules, 20, 14
73 (1987) and others.

【0125】更に、ABブロック共重合体〔B〕は、極
性基を保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメ
ント基を含有する化合物及び/又はザンテート基を含有
する化合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行な
って合成することもできる。例えば、大津隆行、高分子
、37,248(1988)、檜森俊一、大津隆一、P
olym.Rep.Jap.37.3508(1988
)、特開昭64−111号、特開昭64−26619号
、東信行等、Polymer  Preprints、
Japan、36、(6)、1511(1987)、M
.Niwa、N.Higashi、etal、J.Ma
cromol.Sci.Chem.A24(5)、56
7(1987)等に記載の合成方法に従って合成するこ
とができる。
Furthermore, the AB block copolymer [B] uses a monomer with its polar group unprotected and uses a compound containing a dithiocarbament group and/or a compound containing a xanthate group as an initiator. It can also be synthesized by performing a polymerization reaction under light irradiation. For example, Takayuki Otsu, Kobunshi, 37, 248 (1988), Shunichi Himori, Ryuichi Otsu, P.
olym. Rep. Jap. 37.3508 (1988
), JP-A-64-111, JP-A-64-26619, Higashi Nobuyuki et al., Polymer Preprints,
Japan, 36, (6), 1511 (1987), M
.. Niwa, N. Higashi, etal, J. Ma
cromol. Sci. Chem. A24(5), 56
7 (1987) and others.

【0126】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。 例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談社刊
(1977年)、T.W.Greene、「Prote
ctive  Groups  in  Organi
c  Synthesis」,John  Wiley
  &  Sons(1981年)、J.F.W.Mc
Omie、「Protective  Groups 
 in  OrganicChemistry」Ple
num  Press、(1973年)等の総説に詳細
に記載されている方法を適宜選択して行なうことができ
る。
[0126] Regarding the protection of a specific polar group of the present invention with a protecting group and the removal of the protecting group (deprotection reaction),
This can be easily done using conventionally known knowledge. For example, there are various descriptions in the cited documents, and furthermore,
Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymer" Kodansha Co., Ltd. (1977), T. W. Greene, “Prote
Active Groups in Organi
John Wiley
& Sons (1981), J. F. W. Mc
Omie, “Protective Groups
in Organic Chemistry”Ple
num Press, (1973) and the like can be suitably selected.

【0127】更には、ブロックAはブロックBのいずれ
かの部分を含有するアゾビス化合物(即ち、高分子アゾ
ビス開始剤)を合成し、これを開始剤として、他の一方
のブロックを形成するに相当する単量体類をラジカル重
合反応で合成する方法を用いることもできる。
Furthermore, block A is equivalent to synthesizing an azobis compound containing any part of block B (that is, a polymeric azobis initiator) and using this as an initiator to form the other block. A method of synthesizing monomers by radical polymerization reaction can also be used.

【0128】具体的には、上田明、永井進、高分子論文
集、44、469(1987)、上田明、大阪市立工業
研究所報告、84  (1989)等に記載された方法
で合成することができる。
[0128] Specifically, it can be synthesized by the method described in Akira Ueda, Susumu Nagai, Collection of Kobunshi Ronsen, 44, 469 (1987), Akira Ueda, Osaka City Industrial Research Institute Report, 84 (1989), etc. Can be done.

【0129】本反応を利用して合成する場合には、高分
子アゾビス開始剤の合成のし易さ及びブロック化の重合
反応の規則性等から、該高分子開始剤の重量平均分子量
は2×104 以下が好ましい。一方、本発明の樹脂〔
B〕は、ブロックBの方がブロックAよりも高分子鎖が
長い方が好ましい。
When synthesizing using this reaction, the weight average molecular weight of the polymeric azobis initiator is 2 104 or less is preferable. On the other hand, the resin of the present invention [
B], it is preferable that block B has a longer polymer chain than block A.

【0130】以上のことから、本反応で合成する場合、
ブロックA含有の高分子開始剤を用いる方法が好ましい
。例えば下記に示す様な反応スキーム(2)で反応する
ことができる。
From the above, when synthesized by this reaction,
A method using a block A-containing polymeric initiator is preferred. For example, the reaction can be carried out using the reaction scheme (2) shown below.

【0131】[0131]

【化38】 本発明の光導電層に供される結着樹脂として、本発明の
樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕以外に前記した無機光導電体
用の公知の樹脂を併用することもできる。但し、これら
の他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂100重量部中3
0重量%を越えない範囲が好ましい。この割合を越える
と、本発明の効果は著しく低下してしまう。
[Chemical Formula 38] As the binder resin provided for the photoconductive layer of the present invention, in addition to the resin [A] and resin [B] of the present invention, the above-mentioned known resins for inorganic photoconductors can also be used in combination. . However, the proportion of these other resins used is 3 out of 100 parts by weight of the total binder resin.
Preferably, it does not exceed 0% by weight. If this ratio is exceeded, the effect of the present invention will be significantly reduced.

【0132】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合体
、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アルキ
ド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエス
テル樹脂、ポリエステル樹脂等である。
Typical examples of other resins that can be used in combination include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-methacrylate copolymer, methacrylate copolymer, and acrylate copolymer. , vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, alkyd resin, silicone resin, epoxy resin, epoxy ester resin, polyester resin, etc.

【0133】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分子
」第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視・武
井英彦「イメージング」1973(No.8)第9頁、
中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第10
章、C.H.C.出版(1985年刊)、D.D.Ta
tt、S.C.Heidecker、Tappi、49
(No.10)、439(1966)、E.S.Bal
tazzi、R.G.Blanclotte  eta
l、Photo.Sci.Eng.16(No.5)、
354(1972)、グエン・チャン・ケー、清水  
勇、井上英一、電子写真学会誌18(No.2)、28
(1980)、特公昭50−31011号、特開昭53
−54027号、同54−20735号、同57−20
2544号、同58−68046号各号公報等に開示の
樹脂が挙げられる。
Specifically, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwata, "Polymer" Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto and Hidehiko Takei, "Imaging", 1973 (No. 8), p. 9,
Edited by Koichi Nakamura "Practical technology of binders for insulating materials" No. 10
Chapter, C. H. C. Publishing (1985), D. D. Ta
tt, S. C. Heidecker, Tappi, 49
(No. 10), 439 (1966), E. S. Bal
tazzi, R. G. Blanclotte eta
l, Photo. Sci. Eng. 16 (No. 5),
354 (1972), Nguyen Tranh Khe, Shimizu
Isamu, Eiichi Inoue, Journal of the Electrophotography Society 18 (No. 2), 28
(1980), JP-B No. 50-31011, JP-A-53
-54027, 54-20735, 57-20
Examples include resins disclosed in Publications No. 2544 and No. 58-68046.

【0134】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体100重量部に対して、1
0重量部〜100重量部であることが好ましく、より好
ましくは15重量部〜50重量部である。
The total amount of binder resin used in the photoconductive layer of the present invention is 1 part by weight based on 100 parts by weight of the inorganic photoconductor.
It is preferably 0 parts by weight to 100 parts by weight, more preferably 15 parts by weight to 50 parts by weight.

【0135】本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用割
合は、樹脂〔A〕/樹脂〔B〕の重量比で0.05〜0
.8/0.95〜0.20であることが好ましく、より
好ましくは0.10〜0.50/0.90〜0.50で
ある。
[0135] The ratio of resin [A] and resin [B] used in the present invention is 0.05 to 0 in weight ratio of resin [A]/resin [B].
.. The ratio is preferably 8/0.95 to 0.20, more preferably 0.10 to 0.50/0.90 to 0.50.

【0136】結着樹脂の総量比が10重量部以下となる
と、光導電層の膜強度が維持できなくなる。又100重
量部以上になると、静電特性が低下し、実際の撮像性に
おいても複写画像の悪化を生じてしまう。
If the total amount of the binder resin is less than 10 parts by weight, the film strength of the photoconductive layer cannot be maintained. If the amount exceeds 100 parts by weight, the electrostatic properties will deteriorate, resulting in deterioration of copied images in actual imaging performance.

【0137】又、本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使
用割合において樹脂〔A〕の重量比が0.05以下にな
ると、静電特性向上の効果が薄れてしまう。一方0.8
以上になると光導電層の膜強度が充分維持できなくなる
場合(特に電子写真式平版印刷用原版として)が生じる
[0137] Furthermore, in the ratio of resin [A] and resin [B] used in the present invention, if the weight ratio of resin [A] is less than 0.05, the effect of improving electrostatic properties will be diminished. On the other hand, 0.8
If this is the case, the film strength of the photoconductive layer may not be maintained sufficiently (especially as an original plate for electrophotographic lithographic printing).

【0138】本発明に使用する無機光導電材料としては
、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、
炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、
セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。
Inorganic photoconductive materials used in the present invention include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide,
Cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide,
Examples include tellurium selenide and lead sulfide.

【0139】本発明に使用する分光増感色素としては、
必要に応じて各種の色素を単独又は併用して用いる。例
えば、宮本晴視、武井英彦、イメージング1973(N
o.8)第12頁、C.J.Young等、RCA  
Review  15、469(1054)、清田航平
等、電気通信学会論文誌J63  −C(No.2)、
97(1980)、原崎勇次等、工業科学雑誌6678
及び188(1963)、谷忠昭、日本写真学会誌35
、208(1972)等の総説引例のカーボニウム系色
素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、
キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素
(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタ
ロシアニン色素(金属を含有してもよい)等が挙げられ
る。
Spectral sensitizing dyes used in the present invention include:
Various dyes may be used alone or in combination as necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (N
o. 8) Page 12, C. J. Young et al., R.C.A.
Review 15, 469 (1054), Wataru Kiyota, Transactions of the Institute of Electrical Communication Engineers J63-C (No. 2),
97 (1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Science Magazine 6678
and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 35
Carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, cited in reviews such as , 208 (1972), etc.
Examples include xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (for example, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain metals), and the like.

【0140】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−45
2号、特開昭50−90334号、同50−11422
7号、同53−39130号、同53−82353号、
米国特許第3,052,540号、同4,054,45
0号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙げ
られる。
More specifically, as for those mainly using carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes, Japanese Patent Publication No. 51-45
No. 2, JP-A-50-90334, JP-A No. 50-11422
No. 7, No. 53-39130, No. 53-82353,
U.S. Patent Nos. 3,052,540 and 4,054,45
Examples include those described in No. 0, JP-A-57-16456, and the like.

【0141】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F.M.Harmmer  「The  Cya
nineDyes  and  Related  C
ompound」等に記載の色素類が使用可能であり、
更に具体的には、米国特許第3,047,384号、同
3,110,591号、同3,121,008号、同3
,125,447号、同3,128,179号、同3,
132,942号、同3,622,317号、英国特許
第1,226,892号、同1,309,274号、同
1,405,898号、特公昭48−7814号、同5
5−18892号等に記載の色素が挙げられる。
Polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, and rhodacyanine dyes include F. M. Hammer “The Cya”
nine Dyes and Related C
It is possible to use the pigments described in ".
More specifically, U.S. Pat. No. 3,047,384, U.S. Pat.
, No. 125,447, No. 3,128,179, No. 3,
132,942, British Patent No. 3,622,317, British Patent No. 1,226,892, British Patent No. 1,309,274, British Patent No. 1,405,898, Japanese Patent Publication No. 48-7814, British Patent No. 5
Examples include dyes described in No. 5-18892 and the like.

【0142】更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭4
7−840号、同47−44180号、特公昭51−4
1061号、特開昭49−5034号、同49−451
22号、同57−46245号、同56−35141号
、同57−157254号、同61−26044号、同
61−27551号、米国特許第3,619,154号
、同4,175,956号、「Research  D
isclosure」1982年、216、第117〜
118頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動しにくい点において優れている。更には、必
要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真
感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、
前記した総説:イメージング1973(No.8)第1
2頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等)、小門宏等、「細菌の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第4章〜第6章・日本科学情報(株)出版部
(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、p−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。
Furthermore, as a polymethine dye that spectrally sensitizes in the near-infrared to infrared light region with a long wavelength of 700 nm or more, JP-A No. 4
No. 7-840, No. 47-44180, Special Publication No. 51-4
No. 1061, JP-A-49-5034, JP-A No. 49-451
No. 22, No. 57-46245, No. 56-35141, No. 57-157254, No. 61-26044, No. 61-27551, U.S. Patent No. 3,619,154, No. 4,175,956 , “Research D.
isclosure” 1982, 216, No. 117~
Examples include those described on page 118. The photoreceptor of the present invention is excellent in that its performance does not easily vary depending on the sensitizing dye, even when various sensitizing dyes are used together. Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers can be used in combination. for example,
Review mentioned above: Imaging 1973 (No. 8) No. 1
Electron-accepting compounds (e.g., halogens, benzoquinones, chloranil, acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.) cited in reviews such as page 2, Hiroshi Komon et al., “Development and practical application of bacterial photoconductive materials and photoreceptors,” Vol. Examples include polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, and p-phenylenediamine compounds cited in Chapters 4 to 6 of the review published by Nihon Kagaku Information Co., Ltd. (1986).

【0143】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
001〜2.0重量部である。光導電層の厚さは1〜1
00μ、特に10〜50μが好適である。
The amount of these various additives added is not particularly limited, but is usually 0.0 parts by weight per 100 parts by weight of the photoconductor.
001 to 2.0 parts by weight. The thickness of the photoconductive layer is 1 to 1
00μ, especially 10 to 50μ is suitable.

【0144】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは0.01〜1μ、特に0.05〜0.5
μが好適である。
When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of a photoreceptor with a stacked charge generation layer and charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1μ, particularly 0.05 to 0.0μ. 5
μ is preferred.

【0145】感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の
改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もある。 この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
[0145] In some cases, an insulating layer is added mainly for the purpose of protecting the photoreceptor, improving durability, dark decay characteristics, etc. At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and when the photoreceptor is used for a specific electrophotographic process, the insulating layer provided is set to be relatively thick.

【0146】後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ
、特には、10〜50μに設定される。積層型感光体の
電荷輸送材料としてはポリビニルカルバゾール、オキサ
ゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリフェニルメタン
系色素などがある。電荷輸送層の厚さとしては5〜40
μ、特には10〜30μが好適である。
In the latter case, the thickness of the insulating layer is 5 to 70 μm.
In particular, it is set to 10 to 50μ. Charge transport materials for the laminated photoreceptor include polyvinylcarbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes, and the like. The thickness of the charge transport layer is 5 to 40
μ, particularly 10 to 30 μ is suitable.

【0147】絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体
樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及び効果性樹脂が適宜
用いられる。
Typical resins used for forming the insulating layer or charge transport layer include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin,
Thermoplastic resins and effective resins such as vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride acid vinyl copolymer resin, polyacrylic resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, epoxy resin, melamine resin, and silicone resin are used as appropriate. .

【0148】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基本に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基本の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support for the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive.As the electrically conductive support, for example, metal, paper, plastic sheet, etc. are basically impregnated with a low-resistance substance, just as in the conventional case. Those that have been subjected to conductive treatment such as by applying a conductive coating, those that have been coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back side of the base (the opposite side to the side on which the photosensitive layer is provided) and preventing curling, etc.
One in which a water-resistant adhesive layer is provided on the surface of the support, one in which at least one or more pre-coated layer is provided on the surface layer of the support as required, and one in which the conductive plastic substrate is vapor-deposited with Al, etc. You can use a laminated one.

【0149】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、14(No.1)
、P2〜11(1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の
化学」高分子刊行会(1975)、M.F.Hoove
r,J.Macromol.Sci.Chem.A−4
(6)、第1327〜第1417頁(1970)等に記
載されているもの等を用いる。
[0149] Specifically, as an example of a conductive substrate or a conductive material, see Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14 (No. 1).
, P2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introductory Chemistry of Special Papers" Kobunshi Publishing (1975), M. F. Hoove
r, J. Macromol. Sci. Chem. A-4
(6), pages 1327 to 1417 (1970), etc. are used.

【0150】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はPPC方式お
よびCPC方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。
The electrophotographic photoreceptor of the present invention can be used in applications using all conventionally known electrophotographic processes. That is, the photoreceptor of the present invention can be used for both the PPC method and the CPC method, and
As the developer, any combination of a dry developer or a liquid developer can be used.

【0151】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる(例えば、滝
沢九郎、「写真工業」33、34(1975年)、安西
正保、「電子通信学会技術研究報告77、17(197
7年)等に記載の方法)。
In particular, since it is possible to form a high-definition faithful copy image of the original, the effects of the present invention are more effectively achieved when used in combination with a liquid developer. In addition, by combining it with a color developer, it is possible to produce not only black and white copies, but also
It can also be applied to color copies (for example, Kuro Takizawa, "Photography Industry" 33, 34 (1975), Masayasu Anzai, "IEICE Technical Research Report 77, 17 (1975),
7 years) etc.).

【0152】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸化
チタンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで用
いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等に用
いることができる。
[0152] Furthermore, it is also effective in systems for other uses using recent electrophotographic processes. For example, the photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor can be used as an original plate for offset lithographic printing, and can also be used as a photoconductive zinc oxide or photoconductive titanium oxide, which is non-polluting and has good whiteness. The photoreceptor can be used as a marking material for a printing plate or a color proof used in an offset printing process.

【0153】[0153]

〔マクロモノマー(M)の合成〕[Synthesis of macromonomer (M)]

マクロモノマーの合成例1:(MM−1)メチルメタク
リレート75g、メチルアクリレート25g、チオグリ
コール酸5g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素
気流下攪拌しながら、温度75℃に加温した。2,2′
−アゾビスイソブチロニトリル(略称A.I.B.N.
)1.0gを加え、8時間反応した。次にこの反応溶液
にグリシジルメタクリレート8g、N,N−ジメチルド
デシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロキノン0
.5gを加え、温度100℃にて12時間攪拌した。冷
却後この反応溶液をn−ヘキサン2リットル中に再沈し
、白色粉末を82g得た。重合体の重量平均分子量(M
w)は3.8×103 であった。
Macromonomer Synthesis Example 1: (MM-1) A mixed solution of 75 g of methyl methacrylate, 25 g of methyl acrylate, 5 g of thioglycolic acid, and 200 g of toluene was heated to 75° C. with stirring under a nitrogen stream. 2,2'
-Azobisisobutyronitrile (abbreviated as A.I.B.N.
) 1.0 g was added and reacted for 8 hours. Next, this reaction solution was added with 8 g of glycidyl methacrylate, 1.0 g of N,N-dimethyldodecylamine, and 0 g of t-butylhydroquinone.
.. 5 g was added and stirred at a temperature of 100°C for 12 hours. After cooling, this reaction solution was reprecipitated into 2 liters of n-hexane to obtain 82 g of white powder. Weight average molecular weight of the polymer (M
w) was 3.8×103.

【0154】[0154]

【化39】 マクロモノマーの合成例2:(MM−2)ブチルメタク
リレート90g、メタアクリル酸10g、2−メルカプ
トエタノール4g、テトラヒドロフラン200gの混合
溶液を窒素気流下温度70℃に加温した。 A.I.B.N.  1.2gを加え、8時間反応した
embedded image Synthesis Example 2 of Macromonomer (MM-2) A mixed solution of 90 g of butyl methacrylate, 10 g of methacrylic acid, 4 g of 2-mercaptoethanol, and 200 g of tetrahydrofuran was heated to 70° C. under a nitrogen stream. A. I. B. N. 1.2 g was added and reacted for 8 hours.

【0155】次に反応溶液を水浴中で冷却して温度20
℃とし、トリエチルアミン10.2gを加え、メタクリ
ル酸クロライド14.5gを温度25℃以下で攪拌して
滴下した。滴下後そのまま1時間更に攪拌した。その後
、t−ブチルハイドロキノン0.5gを加え温度60℃
に加温し、4時間攪拌した。冷却後、水1リットル中に
攪拌しながら滴下し(約10分間)、そのまま1時間攪
拌して静置後、水をデカンテーションで除去した。水で
の洗浄を更に2回行なった後、テトラヒドロフラン10
0mlに溶解し、石油エーテル2リットル中に再沈した
。沈澱物をデカンテーションで捕集し、減圧下に乾燥し
た。得られた粘稠物の収量は65gでMw3.3×10
3 であった。
Next, the reaction solution was cooled in a water bath to a temperature of 20
℃, 10.2 g of triethylamine was added, and 14.5 g of methacrylic acid chloride was added dropwise with stirring at a temperature of 25° C. or lower. After the dropwise addition, the mixture was further stirred for 1 hour. Then, 0.5g of t-butylhydroquinone was added and the temperature was 60°C.
and stirred for 4 hours. After cooling, the mixture was added dropwise to 1 liter of water while stirring (about 10 minutes), stirred for 1 hour and allowed to stand, and then the water was removed by decantation. After two more washes with water, 10 ml of tetrahydrofuran
0 ml and reprecipitated into 2 liters of petroleum ether. The precipitate was collected by decantation and dried under reduced pressure. The yield of the obtained viscous material was 65 g, Mw 3.3 x 10
It was 3.

【0156】[0156]

【化40】 マクロモノマーの合成例3:(MM−3)ベンジルメタ
クリレート95g、2−ホスホノエチルメタクリレート
5g、2−アミノエチルメルカプタン6g及びテトラヒ
ドロフラン200gの混合物を、窒素気流下攪拌下に温
度70℃に加温した。
embedded image Synthesis Example 3 of Macromonomer: (MM-3) A mixture of 95 g of benzyl methacrylate, 5 g of 2-phosphonoethyl methacrylate, 6 g of 2-aminoethyl mercaptan, and 200 g of tetrahydrofuran was heated at a temperature of 70° C. with stirring under a nitrogen stream. It was heated to

【0157】A.I.B.N.  1.5gを加え4時
間反応させ、更にA.I.B.N.0.5gを加え4時
間反応させた。次に、この反応溶液を温度20℃に冷却
し、アクリル酸無水物10gを加えて温度20〜25℃
で1時間攪拌した。次にt−ブチルハイドロキノン1.
0gを加え温度50〜60℃で4時間攪拌した。冷却後
、水1リットル中に攪拌しながら、この反応混合物を約
10分間で滴下し、そのまま1時間攪拌した後静置して
、水をデカンテーションで除去した。水での洗浄を更に
2回繰り返した後、テトラヒドロフラン100mlに溶
解し、石油エーテル2リットル中に再沈した。沈澱物を
デカンテーションで捕集し、減圧下に乾燥した。得られ
た粘稠物の収量は70gでMw6×103 であった。
A. I. B. N. 1.5g was added and reacted for 4 hours, and then A. I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours. Next, this reaction solution was cooled to a temperature of 20°C, 10g of acrylic anhydride was added, and the temperature was 20-25°C.
The mixture was stirred for 1 hour. Next, t-butylhydroquinone 1.
0 g was added and stirred at a temperature of 50 to 60°C for 4 hours. After cooling, the reaction mixture was added dropwise to 1 liter of water while stirring over about 10 minutes, and after stirring for 1 hour, the mixture was allowed to stand, and the water was removed by decantation. After repeating the washing with water two more times, it was dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran and reprecipitated in 2 liters of petroleum ether. The precipitate was collected by decantation and dried under reduced pressure. The yield of the viscous material obtained was 70 g, and the Mw was 6 x 103.

【0158】[0158]

【化41】 マクロモノマーの合成例4:(MM−4)2−クロロフ
ェニルメタクリレート90g、下記構造(I)の単量体
10g、チオグリコール酸4g及びトルエン200gの
混合溶液を、窒素気流下温度70℃に加温した。A.I
.B.N.  1.5gを加え5時間反応し、更にA.
I.B.N.  0.5gを加え4時間反応した。次に
グリシジルメタクリレート12.4g、N,N−ジメチ
ルドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロキノ
ン1.5gを加え温度110℃で8時間反応した。冷却
後この反応混合物をp−トルエンスルホン酸3g、90
vol%テトラヒドロフラン水溶液100mlに溶液を
加え、温度30〜35℃で1時間攪拌した。 水/エタノール〔(1/3)容積地〕混合溶液2リット
ル中に、上記混合物を再沈し、デカンテーションで沈澱
物を捕集した。この沈澱物をテトラヒドロフラン200
mlに溶解しn−ヘキサン2リットル中に再沈し、粉末
58gを得た。Mwは7.6×103 であった。
Synthesis Example 4 of Macromonomer: (MM-4) A mixed solution of 90 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 10 g of the monomer having the following structure (I), 4 g of thioglycolic acid, and 200 g of toluene was heated at 70°C under a nitrogen atmosphere. Warmed to ℃. A. I
.. B. N. 1.5g was added and reacted for 5 hours, and then A.
I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours. Next, 12.4 g of glycidyl methacrylate, 1.0 g of N,N-dimethyldodecylamine, and 1.5 g of t-butylhydroquinone were added and reacted at a temperature of 110° C. for 8 hours. After cooling, the reaction mixture was mixed with 3 g of p-toluenesulfonic acid, 90
The solution was added to 100 ml of vol% tetrahydrofuran aqueous solution and stirred at a temperature of 30 to 35°C for 1 hour. The above mixture was reprecipitated into 2 liters of a water/ethanol [(1/3) volume] mixed solution, and the precipitate was collected by decantation. This precipitate was mixed with 200 g of tetrahydrofuran.
ml and reprecipitated in 2 liters of n-hexane to obtain 58 g of powder. Mw was 7.6×103.

【0159】[0159]

【化42】[C42]

【0160】[0160]

【化43】 マクロモノマーの合成例5:(MM−5)2,6−ジク
ロロフェニルメタクリレート95g、3−(2′−ニト
ロベンジルオキシスルホニル)プロピルメタクリレート
5g、トルエン150g及びイソプロピルアルコール5
0gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃に加温した。 2,2′−アゾビス(2−シアノ吉草酸)(略称:A.
C.V.)5.0gを加え5時間反応し、更にA.C.
V.  1.0gを加えて4時間反応した。 冷却後、メタノール2リットル中にこの反応物を再沈し
、粉末を濾集し、減圧乾燥した。上記粉末50g、グリ
シジルメタクリレート14g、N,N−ジメチルデシル
アミン0.6g、t−ブチルハイドロキノン1.0g及
びトルエン100gの混合物を温度110℃で10時間
攪拌した。室温に冷却後80Wの高圧水銀灯にて、この
混合物を攪拌下に1時間光照射した。その後反応混合物
をメタノール1リットル中に再沈し、粉末を濾集・減圧
乾燥した。収量34gでMw7.3×103 であった
embedded image Macromonomer synthesis example 5: (MM-5) 95 g of 2,6-dichlorophenyl methacrylate, 5 g of 3-(2'-nitrobenzyloxysulfonyl)propyl methacrylate, 150 g of toluene, and 5 g of isopropyl alcohol.
0 g of the mixed solution was heated to a temperature of 80° C. under a nitrogen stream. 2,2'-azobis(2-cyanovaleric acid) (abbreviation: A.
C. V. ) was added and reacted for 5 hours, and further A. C.
V. 1.0 g was added and reacted for 4 hours. After cooling, the reaction product was reprecipitated into 2 liters of methanol, and the powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. A mixture of 50 g of the above powder, 14 g of glycidyl methacrylate, 0.6 g of N,N-dimethyldecylamine, 1.0 g of t-butylhydroquinone, and 100 g of toluene was stirred at a temperature of 110° C. for 10 hours. After cooling to room temperature, the mixture was irradiated with light for 1 hour under stirring using an 80 W high-pressure mercury lamp. Thereafter, the reaction mixture was reprecipitated into 1 liter of methanol, and the powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. The yield was 34 g and the Mw was 7.3 x 103.

【0161】[0161]

【化44】 マクロモノマーの合成例6:(MM−6)エチルメタク
リレート80g、N−ビニルピロリドン5g、トリメチ
ルシリルメタクリレート29g、β−メルカプトエタノ
ール3g及びテトラヒドロフラン200gの混合溶液を
、窒素気流下攪拌しながら温度70℃に加温した。これ
にA.I.B.N.  1gを加え4時間反応し、更に
A.I.B.N.  0.5gを加え4時間反応した。 この反応混合物を冷却し、温度25℃に設定した後メタ
クリル酸6.6 gを加え、これにジカルボキシルカル
ボンジイミド(D.C.C.)8g、4−(N,N−ジ
メチルアミノ)ピリジン0.2g及び塩化メチレン20
gの混合溶液を温度25〜30℃で滴下し、更にそのま
ま4時間攪拌した。次にこの反応混合物にギ酸10gを
加え1時間攪拌した。析出した不溶物を濾別した後、濾
液をメタノール1リットル中に再沈し油状物を濾集した
。更に、この油状物をテトラヒドロフラン200gに溶
解し、不溶物を濾別後再びメタノール1リットル中に再
沈し、油状物を捕集し乾燥した。収量65gでMw7×
103 であった。
Synthesis Example 6 of Macromonomer: (MM-6) A mixed solution of 80 g of ethyl methacrylate, 5 g of N-vinylpyrrolidone, 29 g of trimethylsilyl methacrylate, 3 g of β-mercaptoethanol, and 200 g of tetrahydrofuran was heated while stirring under a nitrogen stream. It was heated to 70°C. A. I. B. N. 1 g was added and reacted for 4 hours, and then A. I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours. After cooling the reaction mixture and setting the temperature to 25°C, 6.6 g of methacrylic acid was added, and to this was added 8 g of dicarboxylcarbondiimide (D.C.C.) and 4-(N,N-dimethylamino)pyridine. 0.2g and methylene chloride 20
A mixed solution of g was added dropwise at a temperature of 25 to 30°C, and the mixture was further stirred for 4 hours. Next, 10 g of formic acid was added to this reaction mixture and stirred for 1 hour. After filtering out the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated into 1 liter of methanol, and the oily matter was collected by filtration. Furthermore, this oily substance was dissolved in 200 g of tetrahydrofuran, and after filtering off insoluble matter, it was reprecipitated again in 1 liter of methanol, and the oily substance was collected and dried. Yield 65g, Mw 7x
It was 103.

【0162】[0162]

【化45】 〔樹脂〔A〕の合成〕 樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 ベンジルメタクリレート70g、マクロモノマー(MM
−1)30g、トルエン150g及びイソプロパノール
50gの混合溶液を、窒素気流下に温度80℃に加温し
た。これにA.C.V.  5gを加え4時間反応させ
、更にA.C.V.0.5gを加え4時間反応させた。 得られた共重合体の重量平均分子量(Mw)は1.0×
104 であった。
[Synthesis of resin [A]] Synthesis example 1 of resin [A]: [A-1] 70 g of benzyl methacrylate, macromonomer (MM
-1) A mixed solution of 30 g of toluene, 150 g of toluene, and 50 g of isopropanol was heated to a temperature of 80° C. under a nitrogen stream. To this A. C. V. 5g was added and reacted for 4 hours, and then A. C. V. 0.5 g was added and reacted for 4 hours. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained copolymer was 1.0×
It was 104.

【0163】[0163]

【化46】 樹脂〔A〕の合成例2:〔A−2〕 2−クロロフェニルメタクリレート80g、下記構造に
相当するマクロモノマー(Mw5×103 )20g、
β−メルカプトプロピオン酸3g及びトルエン200g
の混合溶液を窒素気流下に温度75℃に加温した。これ
に、A.I.B.N.  1.5gを加え4時間反応し
、更に0.5gを加え4時間反応させた。得られた共重
合体のMwは8.8×103 であった。
[Chemical formula 46] Synthesis example 2 of resin [A]: [A-2] 80 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 20 g of a macromonomer (Mw 5 x 103) corresponding to the following structure,
β-mercaptopropionic acid 3g and toluene 200g
The mixed solution was heated to a temperature of 75° C. under a nitrogen stream. In addition to this, A. I. B. N. 1.5 g was added and reacted for 4 hours, and further 0.5 g was added and reacted for 4 hours. The Mw of the obtained copolymer was 8.8 x 103.

【0164】[0164]

【化47】 樹脂〔A〕の合成例3〜9:〔A−3〕〜〔A−9〕樹
脂〔A〕の合成例において、2−クロロメタクリレート
80g、マクロモノマー20gの代わりに、下記表−A
に相当する各単量体及びマクロモノマーに代えた他は樹
脂〔A〕の合成例2と同様にして各共重合体を製造した
。各重合体のMwは7.5×103 〜9×103 の
範囲であった。
[Chemical Formula 47] Synthesis Examples 3 to 9 of Resin [A]: [A-3] to [A-9] In the Synthesis Examples of Resin [A], instead of 80 g of 2-chloromethacrylate and 20 g of macromonomer, the following table was used. -A
Each copolymer was produced in the same manner as in Synthesis Example 2 of Resin [A] except that the corresponding monomers and macromonomers were replaced. The Mw of each polymer was in the range of 7.5 x 103 to 9 x 103.

【0165】又、用いた各マクロモノマーのMwは3.
5×103 〜5×103 の範囲であった。
[0165] The Mw of each macromonomer used was 3.
It was in the range of 5×10 3 to 5×10 3 .

【0166】[0166]

【表2】[Table 2]

【0167】[0167]

【表3】 樹脂〔A〕の合成例10:〔A−10〕ベンジルメタク
リレート70g、マクロモノマー(MM−4)30g及
びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流下温度80
℃に加温した。2,2′−アゾビスバレロニトリル(A
.I.V.N.)8gを加え3時間反応し、更にA.I
.V.N.  1gを加えて4時間反応した。
[Table 3] Synthesis Example 10 of Resin [A]: [A-10] A mixed solution of 70 g of benzyl methacrylate, 30 g of macromonomer (MM-4) and 200 g of toluene was heated at a temperature of 80 g under a nitrogen stream.
Warmed to ℃. 2,2'-azobisvaleronitrile (A
.. I. V. N. ) was added and reacted for 3 hours, and then A. I
.. V. N. 1 g was added and reacted for 4 hours.

【0168】得られた重合体のMwは8.5×103 
であった。
Mw of the obtained polymer is 8.5×103
Met.

【0169】[0169]

【化48】 樹脂〔A〕の合成例11:〔A−11〕2−クロロフェ
ニルメタクリレート60g、マクロモノマー(MM−2
)35g、2−メトキシエチルメタクリレート5g、オ
クタデシルメタクリレート3g及びトルエン200gの
混合溶液を窒素気流下温度75℃に加温した。A.I.
B.N.  1.0gを加え3時間反応し、更に、A.
I.B.N.  0.5gを加え3時間反応する操作を
2回続けた。
Synthesis Example 11 of Resin [A]: [A-11] 60 g of 2-chlorophenyl methacrylate, macromonomer (MM-2
), 5 g of 2-methoxyethyl methacrylate, 3 g of octadecyl methacrylate, and 200 g of toluene were heated to 75° C. under a nitrogen stream. A. I.
B. N. 1.0 g was added and reacted for 3 hours, and then A.
I. B. N. The operation of adding 0.5 g and reacting for 3 hours was repeated twice.

【0170】冷却後、エーテル1リットル中にこの反応
物を再沈し、沈澱物を捕集・乾燥し、Mw6.5×10
3 の粘稠物を63g得た。
After cooling, the reaction product was reprecipitated in 1 liter of ether, the precipitate was collected and dried, and the Mw was 6.5×10
63g of the viscous material of No. 3 was obtained.

【0171】[0171]

【化49】 樹脂〔A〕の合成例12〜19:〔A−12〕〜〔A−
19〕 樹脂〔A〕の合成例11において、各単量体及びマクロ
モノマーの代わりに下記表−Bに示される重合成分に相
当する各単量体及びマクロモノマーに代えた他は、該合
成例11と同様にして反応して、各重合体を製造した。
[Chemical formula 49] Synthesis examples 12 to 19 of resin [A]: [A-12] to [A-
19] Synthesis Example 11 of Resin [A] except that each monomer and macromonomer were replaced with each monomer and macromonomer corresponding to the polymerization components shown in Table-B below. Each polymer was produced by reacting in the same manner as in No. 11.

【0172】各共重合体のMwは6×103 〜8×1
03 の範囲であった。
Mw of each copolymer is 6×103 to 8×1
It was in the range of 0.03.

【0173】[0173]

【表4】[Table 4]

【0174】[0174]

【表5】 樹脂〔A〕の合成例20:〔A−20〕2−クロロフェ
ニルメタクリレート70g、マクロモノマー(MM−3
)30g、チオグリコール酸3.0g及びトルエン15
0gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃に加温した。 A.I.B.N.  1.0gを加え4時間反応し、後
A.I.B.N.  0.5gを加え2時間、更にA.
I.B.N.  0.3gを加え3時間反応した。
[Table 5] Synthesis example 20 of resin [A]: [A-20] 70 g of 2-chlorophenyl methacrylate, macromonomer (MM-3
) 30g, thioglycolic acid 3.0g and toluene 15
0 g of the mixed solution was heated to a temperature of 80° C. under a nitrogen stream. A. I. B. N. 1.0g was added and reacted for 4 hours, and then A. I. B. N. Add 0.5g and continue for 2 hours.
I. B. N. 0.3g was added and reacted for 3 hours.

【0175】得られた共重合体のMwは8.5×103
 であった。
Mw of the obtained copolymer is 8.5×103
Met.

【0176】[0176]

【化50】 樹脂〔A〕の合成例21〜28:〔A−21〕〜〔A−
28〕 樹脂〔A〕の合成例20と同様にして、下記表−Cに示
す成分に相当する単量体60g、マクロモノマー40g
及びメルカプト化合物0.04モルを用いて重合反応を
行なった。
[Chemical formula 50] Synthesis examples 21 to 28 of resin [A]: [A-21] to [A-
28] In the same manner as in Synthesis Example 20 of Resin [A], 60 g of monomer and 40 g of macromonomer corresponding to the components shown in Table-C below were added.
A polymerization reaction was carried out using 0.04 mol of a mercapto compound.

【0177】得られた共重合体のMwは6×103 〜
9×103 であった。
[0177] The Mw of the obtained copolymer is 6 x 103 ~
It was 9×103.

【0178】[0178]

【表6】[Table 6]

【0179】[0179]

【表7】[Table 7]

【0180】[0180]

【表8】 本発明の樹脂〔A〕の合成例29:〔A−29〕2−ク
ロロ−6−メチルフェニルメタクリレート60g、マク
ロモノマー(MM−4)25g、メチルアクリレート1
5g、トルエン150g及びイソプロパノール50gの
混合溶液を窒素気流下温度80℃に加温した。 A.C.V.  5gを加え5時間反応し更にA.C.
V.  1.0gを加え4時間反応した。得られた共重
合体のMwは9.8×103 であった。
[Table 8] Synthesis example 29 of resin [A] of the present invention: [A-29] 60 g of 2-chloro-6-methylphenyl methacrylate, 25 g of macromonomer (MM-4), 1 methyl acrylate
A mixed solution of 5g of toluene, 150g of toluene, and 50g of isopropanol was heated to 80°C under a nitrogen stream. A. C. V. 5g was added and reacted for 5 hours, and then A. C.
V. 1.0 g was added and reacted for 4 hours. The Mw of the obtained copolymer was 9.8 x 103.

【0181】[0181]

【化51】 〔樹脂〔B〕の合成〕 樹脂〔B〕の合成例1:〔B−1〕 メチルメタクリレート100g及びテトラヒドロフラン
200gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−2
0℃に冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム0
.8gを加え12時間反応した。更に、この混合溶液に
メチルアクリレート60g、トリフェニルメチルメタク
リレート6g及びテトラヒドロフラン5gの混合溶液を
窒素気流下に充分に脱気した後添加し、更に8時間反応
した。この混合物を0℃にした後、メタノール10ml
を加え30分間反応し、重合を停止させた。得られた重
合体溶液を各下にて温度30℃とし、これに30%塩化
水素エタノール溶液3mlを加え1時間攪拌した。次に
、減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶媒を
留去した後、石油エーテル1リットル中に再沈した。
[Synthesis of Resin [B]] Synthesis Example 1 of Resin [B]: [B-1] A mixed solution of 100 g of methyl methacrylate and 200 g of tetrahydrofuran was thoroughly degassed under a nitrogen stream, and -2
Cooled to 0°C. 1,1-diphenylbutyllithium 0
.. 8 g was added and reacted for 12 hours. Further, a mixed solution of 60 g of methyl acrylate, 6 g of triphenylmethyl methacrylate, and 5 g of tetrahydrofuran was added to this mixed solution after sufficient degassing under a nitrogen stream, and the mixture was reacted for further 8 hours. After bringing the mixture to 0°C, add 10ml of methanol.
was added and reacted for 30 minutes to stop the polymerization. The resulting polymer solution was brought to a temperature of 30° C. under each condition, and 3 ml of a 30% hydrogen chloride ethanol solution was added thereto and stirred for 1 hour. Next, the solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure until the total volume was reduced to half, and then reprecipitated into 1 liter of petroleum ether.

【0182】沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重
合体は、Mw7.3×104 で収量73gであった。
[0182] The precipitate was collected and dried under reduced pressure to obtain a polymer, which had an Mw of 7.3 x 104 and a yield of 73 g.

【0183】[0183]

【化52】 樹脂〔B〕の合成例2:〔B−2〕 メチルメタクリレート70g、メチルアクリレート30
g、(テトラフェニルポルフィナート)アルミニウムメ
チル0.5g及び塩化メチレン60gの混合溶液を窒素
気流下にて温度30℃とした。これに300W−キセノ
ンランプ光をガラスフィルターを通して25cmの距離
から光照射し、12時間反応した。この混合物に更に、
メチルアクリレート60g及びベンジルメタクリレート
3.2gを加え、同様に8時間光照射した後、この反応
混合物にメタノール3gを加えて30分間攪拌し反応を
停止させた。次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温
度25℃で1時間接触還元反応を行なった。
[Chemical formula 52] Synthesis example 2 of resin [B]: [B-2] 70 g of methyl methacrylate, 30 g of methyl acrylate
A mixed solution of 0.5 g of aluminum methyl (tetraphenylporphinate), and 60 g of methylene chloride was brought to a temperature of 30° C. under a nitrogen stream. This was irradiated with 300 W xenon lamp light from a distance of 25 cm through a glass filter, and reacted for 12 hours. In addition to this mixture,
After adding 60 g of methyl acrylate and 3.2 g of benzyl methacrylate and irradiating with light for 8 hours, 3 g of methanol was added to the reaction mixture and stirred for 30 minutes to stop the reaction. Next, Pd-C was added to this reaction mixture, and a catalytic reduction reaction was carried out at a temperature of 25° C. for 1 hour.

【0184】不溶物を濾別した後石油エーテル500m
l中に再沈し、沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合
体は収量133gでMw8×104 であった。
After filtering out insoluble matter, 500 m of petroleum ether
The precipitate was collected and dried. The obtained polymer had a yield of 133 g and a Mw of 8 x 104.

【0185】[0185]

【化53】 樹脂〔B〕の合成例3:〔B−3〕 エチルメタクリレート100g及びトルエン200gの
混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し0℃に冷却した。 次いで1,1−ジフェニル−3−メチルペンチルリチウ
ム2.5gを加え、6時間攪拌した。更にこの混合物に
メチルメタクリレート60g及び4−ビニルフェニルオ
キシトリメチルシラン46gを加え6時間攪拌した後、
メタノール3gを加えて30分間攪拌した。
embedded image Synthesis Example 3 of Resin [B]: [B-3] A mixed solution of 100 g of ethyl methacrylate and 200 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to 0°C. Then, 2.5 g of 1,1-diphenyl-3-methylpentyllithium was added and stirred for 6 hours. Further, 60 g of methyl methacrylate and 46 g of 4-vinylphenyloxytrimethylsilane were added to this mixture and stirred for 6 hours.
3 g of methanol was added and stirred for 30 minutes.

【0186】次にこの反応混合物に30%塩化水素エタ
ノール溶液10gを加え25℃で1時間攪拌した後、メ
タノール1リットル中に再沈し捕集した沈澱物をメタノ
ール300mlで2回洗浄し乾燥した。得られた重合体
は、収量127gでMw6.5×104 であった。
Next, 10 g of a 30% hydrogen chloride ethanol solution was added to this reaction mixture, and the mixture was stirred at 25° C. for 1 hour. The precipitate was reprecipitated into 1 liter of methanol and the collected precipitate was washed twice with 300 ml of methanol and dried. . The obtained polymer had a yield of 127 g and a Mw of 6.5 x 104.

【0187】[0187]

【化54】 樹脂〔B〕の合成例4:〔B−4〕 メチルメタクリレート67g、ベンジルN,N−ジエチ
ルジチオカーバメート6.4gの混合物を、窒素気流下
に容器に密閉し、温度50℃に加温した。これに、40
0Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフィルタ
ーを通して、6時間光照射し光重合した。
[Chemical formula 54] Synthesis example 4 of resin [B]: [B-4] A mixture of 67 g of methyl methacrylate and 6.4 g of benzyl N,N-diethyldithiocarbamate was sealed in a container under a nitrogen stream and heated to a temperature of 50°C. Warmed. For this, 40
Light was irradiated for 6 hours using a 0W high-pressure mercury lamp from a distance of 10 cm through a glass filter for photopolymerization.

【0188】これにメチルアクリレート32g、アクリ
ル酸1g及びメチルエチルケトン180gを加えた後窒
素置換し、再び10時間光照射した。得られた反応物を
メタノール1.5リットルに再沈、捕集し乾燥した。得
られた重合体は、70gでMw5.5×104 であっ
た。
After adding 32 g of methyl acrylate, 1 g of acrylic acid, and 180 g of methyl ethyl ketone, the mixture was purged with nitrogen and irradiated with light for 10 hours again. The obtained reaction product was reprecipitated in 1.5 liters of methanol, collected and dried. The resulting polymer weighed 70 g and had a Mw of 5.5 x 104.

【0189】[0189]

【化55】 樹脂〔B〕の合成例5:〔B−5〕 メチルメタクリレート50g、エチルメタクリレート2
5g及びベンジルイソプルザンテート1.0gの混合物
を窒素気流下に容器に密閉し、温度50℃に加温した。 これに400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラ
スフィルターを通して6時間光照射し光重合した。
[Chemical formula 55] Synthesis example 5 of resin [B]: [B-5] Methyl methacrylate 50 g, ethyl methacrylate 2
A mixture of 5 g and 1.0 g of benzyl isoprusanthate was sealed in a container under a nitrogen stream and heated to a temperature of 50°C. This was irradiated with light from a 10 cm distance through a glass filter for 6 hours using a 400 W high-pressure mercury lamp for photopolymerization.

【0190】この重合物をテトラヒドロフランで濃度4
0%の溶液にし、これにメチルアクリレート22gを加
えて窒素置換し、再び10時間光照射した。次にこの混
合物に2−(2′−カルボキシエチル)カルボニルオキ
シエチルメタクリレート3gを加えて再び窒素置換し再
び8時間光照射した。
[0190] This polymer was diluted with tetrahydrofuran to a concentration of 4.
A 0% solution was made, 22 g of methyl acrylate was added thereto, the atmosphere was replaced with nitrogen, and the mixture was irradiated with light for 10 hours again. Next, 3 g of 2-(2'-carboxyethyl)carbonyloxyethyl methacrylate was added to this mixture, the atmosphere was again purged with nitrogen, and the mixture was again irradiated with light for 8 hours.

【0191】得られた反応物を、メタノール2リットル
に再沈し、捕集した粉末を乾燥した。得られた重合体は
収量63gでMw6×104 であった。
The obtained reaction product was reprecipitated in 2 liters of methanol, and the collected powder was dried. The obtained polymer had a yield of 63 g and a Mw of 6 x 104.

【0192】[0192]

【化56】 樹脂〔B〕の合成例6:〔B−6〕 エチルアクリレート97g、メタクリル酸3g、2−メ
ルカプトエタノール2g及びテトラヒドロフラン200
gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度60℃に加
温した。これに、2,2′−アゾビスイソバレロニトリ
ル(A.I.V.N.)1.0gを加え4時間反応し、
更にA.I.V.N.0.5gを加え4時間反応した。
Synthesis Example 6 of Resin [B]: [B-6] 97 g of ethyl acrylate, 3 g of methacrylic acid, 2 g of 2-mercaptoethanol, and 200 g of tetrahydrofuran.
The mixed solution of g was heated to 60° C. with stirring under a nitrogen stream. To this, 1.0 g of 2,2'-azobisisovaleronitrile (A.I.V.N.) was added and reacted for 4 hours.
Furthermore, A. I. V. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours.

【0193】この反応混合物を温度20℃にした後、4
,4′−アゾビス(シアノ吉草酸)8.6g、ジシクロ
ヘキシルジカルボジイミド12g、4−(N,N−ジメ
チル)ピリジル0.2g及びテトラヒドロフラン30g
の混合溶液を1時間で滴下した。そのまま更に2時間攪
拌した後、85%ギ酸水溶液を5g加えて更に30分間
攪拌した。次に析出した結晶を濾別後、濾液を温度25
℃で溶媒を減圧下に留去した。得られた重合体のMwは
6.3×103 であった。
After bringing the reaction mixture to a temperature of 20°C, 4
, 8.6 g of 4'-azobis(cyanovaleric acid), 12 g of dicyclohexyldicarbodiimide, 0.2 g of 4-(N,N-dimethyl)pyridyl, and 30 g of tetrahydrofuran.
A mixed solution of was added dropwise over 1 hour. After further stirring for 2 hours, 5 g of 85% formic acid aqueous solution was added and further stirred for 30 minutes. Next, after separating the precipitated crystals by filtration, the filtrate was collected at a temperature of 25
The solvent was distilled off under reduced pressure at °C. The Mw of the obtained polymer was 6.3 x 103.

【0194】[0194]

【化57】 メチルメタクリレート70g及びトルエン170gの混
合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度70℃に加温した
。これに、上記重合体30gをトルエン30gに溶解し
た溶液を予かじめ窒素置換した後加えて、8時間反応し
た。
embedded image A mixed solution of 70 g of methyl methacrylate and 170 g of toluene was heated to 70° C. with stirring under a nitrogen stream. A solution prepared by dissolving 30 g of the above polymer in 30 g of toluene was added to the solution after previously purging with nitrogen, and the mixture was reacted for 8 hours.

【0195】得られた重合体をメタノール2リットル中
に再沈し、捕集した粉末を乾燥した。得られた重合体は
収量72gでMw4×104 であった。
The obtained polymer was reprecipitated in 2 liters of methanol, and the collected powder was dried. The yield of the obtained polymer was 72 g, and the Mw was 4 x 104.

【0196】[0196]

【化58】 樹脂〔B〕の合成例7〜16:〔B−7〕〜〔B−16
〕 樹脂〔B〕の合成例3と同様の反応方法で、下記表−D
に示す樹脂〔B〕を合成した。  得られた各重合体の
Mwは5×104 〜9×104の範囲であった。
[Chemical formula 58] Synthesis examples 7 to 16 of resin [B]: [B-7] to [B-16
] Using the same reaction method as in Synthesis Example 3 of Resin [B], the following Table-D
Resin [B] shown below was synthesized. The Mw of each of the obtained polymers was in the range of 5 x 104 to 9 x 104.

【0197】[0197]

【表  9】[Table 9]

【0198】[0198]

【表10】[Table 10]

【0199】[0199]

【表11】 樹脂〔B〕の合成例17〜23:〔B−17〕〜〔B−
23〕 樹脂〔B〕の合成例6と同様の反応方法で、下記表−E
に示す樹脂〔B〕を合成した。得られた各重合体のMw
は4×104 〜8×104 の範囲であった。
[Table 11] Synthesis examples 17 to 23 of resin [B]: [B-17] to [B-
23] Using the same reaction method as in Synthesis Example 6 of Resin [B], the following Table-E
Resin [B] shown below was synthesized. Mw of each polymer obtained
was in the range of 4 x 104 to 8 x 104.

【0200】[0200]

【表12】[Table 12]

【0201】[0201]

【表13】 実施例1並びに比較例1及び2 樹脂〔A−2〕6g(固形分量として)、樹脂〔B−1
〕34g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛200
g下記構造のシアニン色素〔I〕0.018g無水フタ
ル酸0.45g及びトルエン300gの混合物をホモジ
ナイザー(日本精機(株)製)中、回転数6×103 
rpmで10分間分散して、感光層形成物を調製し、こ
れを導電処理した紙に、乾燥付着量が22g/m2 と
なる様に、ワイヤーバーで塗布し、110℃で10秒間
乾燥し、ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で2
4時間放置することにより、電子写真感光材料を作製し
た。
[Table 13] Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 Resin [A-2] 6 g (as solid content), Resin [B-1
] 34g (as solid content), photoconductive zinc oxide 200
g A mixture of 0.018 g of cyanine dye [I] having the following structure, 0.45 g of phthalic anhydride, and 300 g of toluene was heated in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at a rotation speed of 6 x 103.
rpm for 10 minutes to prepare a photosensitive layer-forming product, which was coated on electrically conductive treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 22 g/m2, and dried at 110°C for 10 seconds. Then, in a dark place at 20°C and 65% RH,
By leaving it for 4 hours, an electrophotographic light-sensitive material was produced.

【0202】[0202]

【化59】 比較例1:実施例1において、樹脂〔B−1〕34gの
代わりに下記構造の樹脂〔R−1〕34gを用いた他は
、実施例1と同様に操作して電子写真感光材料を作製し
た。
Comparative Example 1: Electrophotography was carried out in the same manner as in Example 1, except that 34 g of resin [R-1] having the following structure was used instead of 34 g of resin [B-1]. A photosensitive material was produced.

【0203】[0203]

【化60】 比較例2:実施例1において、樹脂〔B−1〕34gの
代わりに下記構造の樹脂〔R−2〕34gとした他は、
実施例1と同様に操作して電子写真感光材料を作製した
Comparative Example 2: Example 1 except that 34 g of resin [R-2] having the following structure was used instead of 34 g of resin [B-1].
An electrophotographic material was prepared in the same manner as in Example 1.

【0204】[0204]

【化61】 これらの感光材料については、静電特性、撮像性及び環
境条件(20℃、65%RH)及び(30℃、80%R
H)とした時の撮像性を調べた。
[Chemical formula 61] These photosensitive materials have electrostatic properties, imaging properties, and environmental conditions (20°C, 65% RH) and (30°C, 80% RH).
H) The imaging performance was investigated.

【0205】以上の結果を表−Fに示す。The above results are shown in Table F.

【0206】[0206]

【表14】 表−Fに示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。 注1)静電特性:温度20℃、65%RHの暗室中で、
各感光材料にペーパーアナライザー(川口電機(株)製
ペーパーアナライザーSP−428型)を用いて−6k
Vで20秒間コロナ放電させた後、10秒間放置し、こ
の時の表面電位V10を測定した。次いでそのまま暗中
で90秒間静置させた後の電位V100 を測定し、9
0秒間暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保
持率〔DRR(%)〕を(V100 /V10)×10
0(%)で求めた。
[Table 14] The implementation mode of the evaluation items shown in Table-F is as follows. Note 1) Electrostatic properties: In a dark room at a temperature of 20°C and 65% RH.
-6k using a paper analyzer (Paper Analyzer SP-428 model manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.) for each photosensitive material.
After performing corona discharge at V for 20 seconds, it was left to stand for 10 seconds, and the surface potential V10 at this time was measured. Next, the potential V100 was measured after leaving it to stand still in the dark for 90 seconds.
The retention of the potential after dark decay for 0 seconds, that is, the dark decay retention rate [DRR (%)] is (V100 /V10) x 10
It was calculated as 0 (%).

【0207】又コロナ放電により光導電層表面を−40
0Vに帯電させた後、該光導電層表面をガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長780nm)
光で照射し、表面電位(V10)が1/10に減衰する
までの時間を求め、これから露光量E1/10(erg
/cm2 )を算出する。又、同様の表面電位(V10
)が1/100に減衰するまでの時間を求め、これから
露光量E1/100 (erg/cm2 )を算出する
。測定時の環境条件は、20℃、65%RH(I)と3
0℃、80%RH(II)で行なった。 注2)撮像性:各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放
置した後、各感光材料を−6kVで帯電し、光源として
2.8mW出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素、半導
体レーザー(発振波長780nm)を用いて、感光材料
表面上で64erg/cm2 の照射量下、ピッチ25
μm及びスキャニング速度300m/secのスピード
露光後液体現像剤として、ELP−T(富士写真フイル
ム(株)製)を用いて現像し、イソパラフィンアイソパ
ーG(エッソ化学(株)製)溶媒のリンス液で洗浄後定
着することが得られた複写画像(カブリ、画像の画質)
を目視評価した。
[0207] Furthermore, the surface of the photoconductive layer is heated to -40 by corona discharge.
After charging to 0V, the surface of the photoconductive layer is heated with a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength: 780 nm).
Irradiate with light, find the time until the surface potential (V10) attenuates to 1/10, and calculate the exposure amount E1/10 (erg
/cm2). Also, similar surface potential (V10
) is attenuated to 1/100, and the exposure amount E1/100 (erg/cm2) is calculated from this. The environmental conditions at the time of measurement were 20°C, 65% RH (I), and 3
The test was carried out at 0° C. and 80% RH (II). Note 2) Imaging properties: After leaving each photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, each photosensitive material was charged at -6 kV, and a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm) with a 2.8 mW output was used as a light source. ) with a pitch of 25 on the surface of the photosensitive material under an irradiation dose of 64 erg/cm2.
After exposure at a scanning speed of 300 m/sec, the liquid developer was developed using ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), and the rinse solution of isoparaffin Isopar G (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) solvent was used. Copied images that were obtained after being washed and fixed (fogging, image quality)
was visually evaluated.

【0208】撮像時の環境条件は20℃65%RH(I
)と30℃80%RH(II)で実施した。表−Fに示
す様に、本発明の感光材料は、静電特性が良好で、実際
の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であった。 一方、比較例1、2は、光感度(E1/10及びE1/
100 )の低下が生じ、実際の複写画像でも微かな細
線・文字等のカスレや、リンス処理した後でも地カブリ
が除去されずに残存してしまった。
[0208] The environmental conditions during imaging were 20°C, 65% RH (I
) and 30°C and 80% RH (II). As shown in Table F, the photosensitive material of the present invention had good electrostatic properties, and the actual copied images had no background fog and the quality of the copied images was clear. On the other hand, Comparative Examples 1 and 2 have photosensitivity (E1/10 and E1/10).
100), and even in actual copied images, faint fading of thin lines and letters, and background fog remained unremoved even after rinsing.

【0209】又、静電特性とは一致しないが、複写原稿
の連続階調部分の中間濃度でのムラの発生が生じてしま
った。本発明の感光体と比較例の感光体とではE1/1
00 値が大きく異なる。E1/100 値は、実際の
撮像性において、露光後、非画像部(既に露光された部
位)にどれだけの電位が残っているかを示すものであり
、この値が小さい程現像後の非画像部の地汚れが生じな
くなる事を示す。
[0209]Also, although not consistent with the electrostatic characteristics, unevenness occurred in the intermediate density of the continuous tone portion of the copied original. E1/1 between the photoreceptor of the present invention and the photoreceptor of the comparative example
00 Values are significantly different. In actual imaging performance, the E1/100 value indicates how much potential remains in the non-image area (already exposed area) after exposure, and the smaller the value, the more the non-image after development. Indicates that scumming will no longer occur in the area.

【0210】具体的には−10V以下の残留電位にする
ことが必要となり、即ち実際にはVR −10V以下と
するために、どれだけ露光量が必要となるかということ
で、半導体レーザー光によるスキャンニング露光方式で
は、小さい露光量でVR を−10V以下にすることは
、複写機の光学系の設計上(装置のコスト、光学系光路
の精度等)非常に重要なことである。
[0210] Specifically, it is necessary to make the residual potential below -10V, that is, how much exposure is required to actually make VR below -10V? In the scanning exposure method, it is very important to reduce the VR to −10 V or less with a small exposure amount in terms of the design of the optical system of the copying machine (device cost, precision of the optical system optical path, etc.).

【0211】以上のことより、本発明の樹脂を用いた場
合にのみ静電特性及び撮像性を満足する電子写真感光体
が得られ、特に半導体レーザー光スキャニング露光方式
の感光体システムに優位になることが明らかとなった。 実施例2 樹脂〔A−10〕5g(固形分量として)、樹脂〔B−
2〕35g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛20
0g、下記構造のメチン色素(II)0.020g、N
−ヒドロキシマレインイミド0.20g及びトルエン3
00gの混合物を、実施例1と同様に操作して、電子写
真感光材料を作製した。
[0211] From the above, it is possible to obtain an electrophotographic photoreceptor that satisfies electrostatic properties and imaging performance only when the resin of the present invention is used, which is particularly advantageous for photoreceptor systems using semiconductor laser light scanning exposure method. It became clear that Example 2 Resin [A-10] 5g (as solid content), resin [B-
2] 35g (as solid content), photoconductive zinc oxide 20
0g, methine dye (II) with the following structure 0.020g, N
- 0.20 g of hydroxymaleimide and 3 toluene
00g of the mixture was operated in the same manner as in Example 1 to produce an electrophotographic light-sensitive material.

【0212】[0212]

【化62】 この感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性、撮
像性及び環境条件を30℃、80%RHとした時の静電
特性、撮像性を調べた。更に、電子写真式平版印刷用原
版として用いた時の印刷性を調べた。これらの結果を表
−Gに示す。
embedded image The film properties (surface smoothness), electrostatic properties, imaging properties, and environmental conditions of this photosensitive material were 30° C. and 80% RH. The electrostatic properties and imaging properties were investigated. Furthermore, the printability when used as an original plate for electrophotographic planographic printing was investigated. These results are shown in Table-G.

【0213】[0213]

【表15】 表−Gに示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。 注3)表面層の平滑性:得られた感光材料は、ベック平
滑度試験機(熊谷理工(株)製)を用い、空気容量1c
cの条件にて、その平滑度(sec/cc)を測定した
。 注4)水との接触角:各感光材料を不感脂化処理液EP
L−EX(富士写真フイルム(株)製)を蒸留水を2倍
に稀釈した溶液を用いて、エッチングプロセッサーに1
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメーターで測定する。 注5)耐刷性:前記注2)の撮像性と同条件にして、製
版して、トナー画像を形成し、上記注4)と同条件で不
感脂化処理し、これをオフセットマスターとして、オフ
セット印刷機(桜井製作所(株)製オリバー52型)に
かけ、印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問
題が生じないで印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い
程、耐刷性が良好なことを表わす。)表−Gに示す様に
、本発明の感光材料は、光導電層の平滑性膜の機械的強
度及び静電特性が良好で、実際の複写画像も地カブリが
なく複写画質も鮮明であった。このことは光導電体と結
着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を被覆している
ことによるものと推定される。同様の理由で、オフセッ
トマスター原版として用いた場合でも不感脂化処理液に
よる不感脂化処理が充分に進行し、非画像部の水との接
触角が10度以下と小さく、充分に親水化されているこ
とが判る。実際に印刷して印刷物の地汚れを観察しても
地汚れは全く認められず、鮮明な画質の印刷物が1万枚
得られた。
[Table 15] The implementation aspects of the evaluation items shown in Table-G are as follows. Note 3) Smoothness of surface layer: The obtained photosensitive material was measured using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) with an air capacity of 1 c.
The smoothness (sec/cc) was measured under the conditions of c. Note 4) Contact angle with water: Desensitizing treatment liquid EP for each photosensitive material
Using a solution prepared by diluting L-EX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) twice with distilled water, apply it to an etching processor.
After the surface of the photoconductive layer is desensitized by passing it through, a drop of 2 μl of distilled water is placed on it, and the contact angle with the water formed is measured using a goniometer. Note 5) Printing durability: Make a plate under the same conditions as the imaging performance in Note 2) above to form a toner image, desensitize it under the same conditions as Note 4) above, and use this as an offset master. This indicates the number of sheets that can be printed using an offset printing machine (Oliver Model 52 manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.) without causing problems with background stains in non-image areas or image quality in image areas (the higher the number of sheets printed, the longer the printing durability As shown in Table G, the photosensitive material of the present invention has good mechanical strength and electrostatic properties of the smooth film of the photoconductive layer, and there is no ground fog in actual copied images. The quality of the copied image was also clear. This is presumed to be due to the photoconductor and the binder resin being sufficiently adsorbed and covering the particle surface. For the same reason, even when used as an offset master original, the desensitizing treatment with the desensitizing treatment liquid progresses sufficiently, and the contact angle with water in the non-image area is as small as 10 degrees or less, making it sufficiently hydrophilic. It can be seen that When actually printing and observing the background smear on the printed matter, no background smudge was observed, and 10,000 printed matter with clear image quality were obtained.

【0214】以上のことは、本発明の樹脂〔A〕と樹脂
〔B〕が適切に酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処
理液による不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い
状態を形成している事及び樹脂〔B〕の働きによる膜強
度の著しい向上を達成していることを示すものである。 実施例3〜18 実施例2において、樹脂〔A−10〕及び樹脂〔B−2
〕に代えて、下記表−Hの各樹脂〔A〕及び各樹脂〔B
〕に代えた他は、実施例1と同様に操作して、各電子写
真感光体を作製した。
[0214] The above means that the resin [A] and resin [B] of the present invention interact appropriately with the zinc oxide particles, and the desensitization reaction by the desensitization treatment liquid can easily and sufficiently proceed. This shows that a remarkable improvement in film strength has been achieved due to the formation of this condition and the action of resin [B]. Examples 3 to 18 In Example 2, resin [A-10] and resin [B-2]
] Instead of each resin [A] and each resin [B] in Table-H below
] Each electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example 1, except that

【0215】実施例2と同様にして静電特性を測定した
。結果を表−Hに併せて示す。
[0215] Electrostatic properties were measured in the same manner as in Example 2. The results are also shown in Table H.

【0216】[0216]

【表16】 又、これらの感光材料の実際の操作性を調べた所、細線
・文字の再現性良好で中間調のムラの発生もなく、地カ
ブリの全くない鮮明な複写画像のものが得られた。
[Table 16] Furthermore, when we investigated the actual operability of these photosensitive materials, we were able to obtain clear reproduced images with good reproducibility of fine lines and characters, no unevenness in halftones, and no background fog. It was done.

【0217】又、オフセットマスター原版として用いて
、実施例2と同様にして印刷した所、いずれも少なくと
も1万枚以上印刷することができた。以上から、本発明
の各感光材料は光導電層の平滑性、膜強度、静電特性及
び印刷性の全ての点において良好なものであった。
[0217] Furthermore, when printing was performed in the same manner as in Example 2 using the original offset master plate, at least 10,000 sheets or more could be printed in each case. From the above, each of the photosensitive materials of the present invention was good in all respects of the smoothness of the photoconductive layer, film strength, electrostatic properties, and printability.

【0218】さらに、樹脂〔AA〕を用いることにより
静電特性がさらに向上することが判った。 実施例19〜22 実施例1において用いた、メチン色素〔I〕の代わりに
下記表−Iの色素に代えた他は、実施例1と同様の条件
で電子写真感光材料を作製した。
Furthermore, it was found that the electrostatic properties were further improved by using resin [AA]. Examples 19 to 22 Electrophotographic materials were produced under the same conditions as in Example 1, except that the methine dye [I] used in Example 1 was replaced with the dyes shown in Table I below.

【0219】[0219]

【表17】[Table 17]

【0220】[0220]

【表18】 本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30℃
、80%RH)の過酷な条件においても、地カブリの発
生のない、鮮明な画像を与えた。 実施例23及び24並びに比較例3 樹脂〔A−1〕(実施例23)又は樹脂〔A−2〕(実
施例24)のいずれか6.5g、樹脂〔B−8〕33.
5g、酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、下記構
造のメチン色素〔VII 〕0.03g、下記構造のメ
チン色素〔VIII〕0.03g、p−ヒドロキシ安息
香酸0.18g及びトルエン300gの混合物をホモジ
ナイザー中で回転数7×103 r.p.m.で10分
間分散して感光層形成物を調整し、これを導電処理した
紙に、乾燥付着量が20g/m2 となる様にワイヤー
バーで塗布し、110℃で20秒間乾燥した。次いで暗
所で20℃、65%RHの条件下で24時間放置するこ
とにより各電子写真感光体を作製した。
[Table 18] The photosensitive materials of the present invention all have chargeability, dark charge retention,
It has excellent light sensitivity, and the actual copied images can be used even in high temperature and high humidity conditions (30℃).
, 80% RH), it provided clear images without background fog. Examples 23 and 24 and Comparative Example 3 6.5 g of either resin [A-1] (Example 23) or resin [A-2] (Example 24), resin [B-8] 33.
5 g, 200 g of zinc oxide, 0.02 g of uranine, 0.03 g of methine dye [VII] with the following structure, 0.03 g of methine dye [VIII] with the following structure, 0.18 g of p-hydroxybenzoic acid, and 300 g of toluene in a homogenizer. Inside rotation speed 7×103 r. p. m. The photosensitive layer was dispersed for 10 minutes to prepare a photosensitive layer-formed product, which was coated on electrically conductive treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g/m 2 and dried at 110° C. for 20 seconds. Next, each electrophotographic photoreceptor was prepared by leaving it for 24 hours in a dark place at 20° C. and 65% RH.

【0221】[0221]

【化63】[C63]

【0222】[0222]

【化64】 比較例3 実施例23において、樹脂〔B−2〕    gの代わ
りに、下記構造の樹脂〔R−3〕    gを用いた他
は、実施例23と同様にして、感光材料を作製した。
Comparative Example 3 A photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 23, except that resin [R-3] g having the following structure was used instead of resin [B-2] g. Created.

【0223】実施例1と同様に、各感光材料の各特性を
調べた。その結果を下記表−Jにまとめた。
[0223] In the same manner as in Example 1, the characteristics of each photosensitive material were investigated. The results are summarized in Table J below.

【0224】[0224]

【化65】[C65]

【0225】[0225]

【表19】 上記の測定において、静電特性及び撮像性については下
記の操作に従った他は、実施例1と同様の操作で行なっ
た。 注6)静電特性のE1/10及びE1/100 の測定
方法コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電
させた後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視
光で照射し、表面電位(V10)が1/10又はE1/
100 に減衰するまでの時間を求め、これから露光量
E1/10又はE1/100 (ルックス・秒)を算出
する。 注7)撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)製
)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られた
複写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像
時の環境条件は、20℃65%RH(I)と30℃80
%RH(II)で実施した。但し、複写用の原稿(即ち
、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込み
を行なって作成したものを用いた。
[Table 19] In the above measurements, the electrostatic properties and imaging properties were performed in the same manner as in Example 1, except that the following operations were followed. Note 6) Method for measuring electrostatic properties E1/10 and E1/100 After the surface of the photoconductive layer was charged to -400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer was irradiated with visible light at an illuminance of 2.0 lux. , the surface potential (V10) is 1/10 or E1/
The time required for the light to attenuate to 100 is determined, and the exposure amount E1/10 or E1/100 (lux/second) is calculated from this. Note 7) Imaging properties After each photosensitive material was left for one day and night under the following environmental conditions, it was obtained by making a plate using a fully automatic plate making machine EPL-404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using EPL-T as a toner. The copied images (fogging, image quality) were visually evaluated. The environmental conditions during imaging were 20°C, 65% RH (I) and 30°C, 80°C.
%RH(II). However, the manuscript for copying (ie, the draft manuscript) was created by cutting out and pasting other manuscripts.

【0226】各感光材料において、光導電層の平滑性及
び強度において、その差は認められなかった。しかし、
静電特性において、比較例3は、特に光感度E1/10
0 の値が大きく、これは高温、高湿になるとより一層
助長され、劣化してしまった。本発明の感光材料の静電
特性は良好であり、更に、特定の置換基を有する樹脂〔
A〕を用いた実施例24は、非常に良好であり、特にE
1/100 の値が小さくなった。
No difference was observed in the smoothness and strength of the photoconductive layer among the photosensitive materials. but,
In terms of electrostatic properties, Comparative Example 3 particularly has a photosensitivity E1/10.
The value of 0 was large, and this was further exacerbated by high temperature and high humidity, resulting in deterioration. The electrostatic properties of the photosensitive material of the present invention are good, and the resin having a specific substituent [
Example 24 using E
The value of 1/100 has become smaller.

【0227】実際の撮像性を調べて見ると、比較例3は
、複写画像として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部
分の枠(即ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして
認められた。しかし、本発明のものは、いずれも、地汚
れのない、鮮明な画像のものが得られた。
[0227] When examining the actual imaging performance, in Comparative Example 3, in addition to the original as a copy image, the frame of the cut out and pasted part (that is, the pasting trace) was recognized as background stains in the non-image area. Ta. However, in all cases of the present invention, clear images without background stains were obtained.

【0228】更に、これらをオフセット印刷用原版とし
て不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはいずれ
も地汚れのない鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。 しかし、比較例3は、上記の貼り込み跡が、不感脂化処
理でも除去されず、刷り出しの印刷物から発生してしま
った。
Furthermore, when these were desensitized and printed as offset printing original plates, 10,000 prints with clear image quality and no background smear were obtained for all of the products of the present invention. However, in Comparative Example 3, the above-mentioned pasting marks were not removed even with the desensitization treatment, and were generated from the printed matter.

【0229】以上のことより、本発明の感光材料のみが
、良好な特性を与えることができた。 実施例25 樹脂〔A−22〕5g及び樹脂〔B−11〕35g、酸
化亜鉛200g、ウラニン0.02g、ローズベンガル
0.04g、ブロムフェノールブルー0.03g、無水
フタル酸0.40g及びトルエン300gの混合物を、
実施例23と同様に以下操作して感光材料を作製した。
From the above, only the photosensitive material of the present invention was able to provide good characteristics. Example 25 5 g of resin [A-22] and 35 g of resin [B-11], 200 g of zinc oxide, 0.02 g of uranine, 0.04 g of rose bengal, 0.03 g of bromophenol blue, 0.40 g of phthalic anhydride, and 300 g of toluene. a mixture of
A photosensitive material was produced by the following operations in the same manner as in Example 23.

【0230】本発明の感光材料を、実施例23と同様に
操作して各性能を調べた所、いずれも帯電性、暗電荷保
持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(
30℃、80%RH)の過酷な条件においても、地カブ
リの発生のない、鮮明な画像を与えた。
[0230] The photosensitive materials of the present invention were operated in the same manner as in Example 23, and their respective properties were examined. All of them had excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual copied images were also stable at high temperatures and high humidity. of(
Even under harsh conditions (30° C., 80% RH), clear images without background fog were provided.

【0231】更に、これをオフセットマスターの原版と
して用いて印刷した所、1万枚の所でも鮮明な画質の印
刷物を得た。 実施例26〜37 実施例25において、樹脂〔A−22〕5g及び樹脂〔
B−11〕35gの代わりに、下記表−Kの樹脂〔A〕
5g及び樹脂〔B〕35gを用いた他は、実施例23と
同様にして各感光材料を作製した。
Furthermore, when printing was performed using this as an original plate for an offset master, prints with clear image quality were obtained even after printing 10,000 sheets. Examples 26 to 37 In Example 25, 5 g of resin [A-22] and resin [
B-11] Instead of 35g, use the resin [A] in Table-K below.
Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 23, except that 5 g of resin [B] and 35 g of resin [B] were used.

【0232】[0232]

【表20】 本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、光
感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(30℃、80
%RH)の過酷な条件においても地カブリの発生のない
鮮明な画像を与えた。
Table 20 All of the photosensitive materials of the present invention have excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual copied images are also produced at high temperatures and high humidity (30°C, 80°C).
%RH), it provided clear images without background fog.

【0233】更にオフセットマスター原版として印刷し
た所、1万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質
の印刷物が得られた。更に、特定のアリール基を置換基
とするメタクリレートを含有する樹脂〔A〕の感光体は
より良好な性能を示した。
[0233] Furthermore, when printing was performed as an offset master original plate, printed matter with clear image quality and no scumming was obtained even after printing 10,000 sheets. Furthermore, the photoreceptor of resin [A] containing methacrylate having a specific aryl group as a substituent showed better performance.

【0234】[0234]

【発明の効果】本発明によれば、静電特性(とくに厳し
い条件下での静電特性)に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。
Effects of the Invention According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor is provided which has excellent electrostatic properties (especially electrostatic properties under severe conditions), has clear and high-quality images, and also has excellent mechanical strength. can be obtained. It is particularly effective for scanning exposure methods using semiconductor laser light.

【0235】式(Ia)又は(Ib)で示される特定の
メタクリレート成分を含有する繰り返し単位を本発明の
樹脂に用いることにより、更に静電特性が向上する。
By using a repeating unit containing a specific methacrylate component represented by formula (Ia) or (Ib) in the resin of the present invention, the electrostatic properties are further improved.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  無機光導電材料、分光増感色素及び結
着樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真
感光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔A1 〕及
び樹脂〔A2 〕のうちの少なくとも1種並びに下記樹
脂〔B〕のうちの少なくとも1種を含有して成ることを
特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔A1 〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、
下記一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分
として30重量%以上含有する重合体主鎖の一方の末端
にのみ下記一般式(II)で示される重合性二重結合基
を結合して成る重量平均分子量2×104 以下の一官
能性マクロモノマー(M1 )と、該一般式(I)で示
される繰り返し単位に相当するモノマーとから少なくと
も成る共重合体であって、且つ該共重合体主鎖の片末端
に−PO3 H2 、−SO3 H、−COOH、−P
(=O)(OH)R1 〔R1 は炭化水素基又は−O
R2 (R2 は炭化水素基を表す)を表す〕及び環状
酸無水物基から選択される少なくとも1種の極性基を結
合して成る樹脂。 樹脂〔A2 〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、
下記一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分
として30重量%以上及び上記樹脂〔A1 〕で示しさ
れる特定の極性基から選択される少なくとも一種の極性
基を含有する重合体成分を1〜50重量%含有する重合
体主鎖の一方の末端にのみ下記一般式(II)で示され
る重合性二重結合基を結合して成る重量平均分子量2×
104 以下の一官能性マクロモノマー(M2 )と、
該一般式(I)で示される繰り返し単位に相当するモノ
マーとから少なくとも成る共重合体である樹脂。 【化1】 〔式(I)中、a1 、a2 は各々水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。R3 は炭化
水素基を表す。〕 【化2】 〔式(II)中、G1 は−COO−、−OCO−、−
CH2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−S
O2 −、−CO−、−CONR11−、−SO2 N
R11−(ここでR11は水素原子又は炭化水素基を表
わす)、−CONHCOO−、−CONHCONH−又
は−C6 H4 −を表わす。b1 及びb2 は、互
いに同じでも異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基、炭化水素基、−COOR12又は炭化
水素を介した−COOR12(ここでR12は置換され
てもよい炭化水素基を表す)を表す。〕 樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、
上記樹脂〔A1 〕で示される特定の極性基のうちから
選択される少なくとも1種の極性基を含有する重合体成
分を少なくとも1種含有するAブロックと上記樹脂〔A
1 〕で示される一般式(I)で示される重合体成分を
少なくとも含有するBブロックとから構成されるABブ
ロック共重合体。
Claim 1. An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye, and a binder resin, wherein the binder resin is one of the following resins [A1] and [A2]. An electrophotographic photoreceptor comprising at least one of the above resins and at least one of the following resins [B]. Resin [A1] has a weight average molecular weight of 1 x 103 to 2 x 104,
A polymerizable double bond group represented by the following general formula (II) is bonded only to one end of the main chain of a polymer containing 30% by weight or more of repeating units represented by the following general formula (I) as a polymer component. A copolymer consisting of at least a monofunctional macromonomer (M1) having a weight average molecular weight of 2 x 104 or less, and a monomer corresponding to a repeating unit represented by the general formula (I), -PO3 H2, -SO3 H, -COOH, -P at one end of the combined main chain
(=O)(OH)R1 [R1 is a hydrocarbon group or -O
R2 (R2 represents a hydrocarbon group)] and a cyclic acid anhydride group. Resin [A2] has a weight average molecular weight of 1 x 103 to 2 x 104,
A polymer component containing 30% by weight or more of repeating units represented by the following general formula (I) as a polymer component and at least one polar group selected from the specific polar groups represented by the resin [A1] above. A weight average molecular weight 2× consisting of a polymerizable double bond group represented by the following general formula (II) bound only to one end of a polymer main chain containing 1 to 50% by weight.
104 or less monofunctional macromonomer (M2),
A resin which is a copolymer comprising at least a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I). [In formula (I), a1 and a2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group. R3 represents a hydrocarbon group. ] [Formula (II), G1 is -COO-, -OCO-, -
CH2 OCO-, -CH2 COO-, -O-, -S
O2-, -CO-, -CONR11-, -SO2N
R11- (here R11 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group), -CONHCOO-, -CONHCONH- or -C6H4-. b1 and b2 may be the same or different, and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COOR12, or -COOR12 via a hydrocarbon (here, R12 is an optionally substituted hydrocarbon group) represents). ] Resin [B] has a weight average molecular weight of 2 x 104 to 1 x 106,
The A block containing at least one kind of polymer component containing at least one kind of polar group selected from the specific polar groups shown in the above resin [A1] and the above resin [A]
An AB block copolymer comprising a B block containing at least a polymer component represented by the general formula (I).
【請求項2】  上記樹脂〔A2 〕が、更に上記樹脂
〔A1 〕で示される特定の極性基のうちから選択され
る少なくとも1種の極性基を共重合体主鎖の末端に結合
して成ることを特徴とする請求項1記載の電子写真感光
体。
2. The resin [A2] further has at least one polar group selected from the specific polar groups shown in the resin [A1] bonded to the end of the copolymer main chain. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, characterized in that:
【請求項3】  上記樹脂〔A1 〕又は〔A2 〕が
、一般式(I)で示される重合体成分として下記一般式
(Ia)及び下記一般式(Ib)で示されるアリール基
含有のメタクリレート成分のうちの少なくとも1つを含
有することを特徴とする請求項1又は2記載の電子写真
感光体。 【化3】 【化4】 〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA2 は互い
に独立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、
塩素原子、−COR4 又は−COOR4 (ここでR
4 は炭素数1〜10の炭化水素基を表す)を表し、B
1 及びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合す
る単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表す。〕
3. The resin [A1] or [A2] is a methacrylate component containing an aryl group represented by the following general formula (Ia) or the following general formula (Ib) as a polymer component represented by the general formula (I). The electrophotographic photoreceptor according to claim 1 or 2, characterized in that it contains at least one of the following. [Formula (Ia) and (Ib), A1 and A2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms,
Chlorine atom, -COR4 or -COOR4 (where R
4 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and B
1 and B2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects -COO- and the benzene ring. ]
【請求項4】  上記樹脂〔B〕において、全共重合体
中に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、
上記樹脂〔A1 〕及び〔A2 〕中に含有される特定
の極性基含有成分の総量に対し10重量%〜50重量%
であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載
の電子写真感光体。
4. In the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in the entire copolymer is
10% to 50% by weight based on the total amount of specific polar group-containing components contained in the above resins [A1] and [A2]
The electrophotographic photoreceptor according to any one of claims 1 to 3, characterized in that:
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