JPH04227771A - 陰極電着性組成物およびその使用方法 - Google Patents
陰極電着性組成物およびその使用方法Info
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
- C09D5/4488—Cathodic paints
- C09D5/4492—Cathodic paints containing special additives, e.g. grinding agents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は明色導電性顔料を含む陰
極電着性組成物に関する。本発明の導電性顔料はカ−ボ
ンブラックを含まない。この顔料はアンチモン含有酸化
錫微結晶の2次元導電性ネットワ−ク(網状体)を有す
るものであって、アモルファスシリカまたはシリカ含有
物質と特異な結び付きにて存在する。
極電着性組成物に関する。本発明の導電性顔料はカ−ボ
ンブラックを含まない。この顔料はアンチモン含有酸化
錫微結晶の2次元導電性ネットワ−ク(網状体)を有す
るものであって、アモルファスシリカまたはシリカ含有
物質と特異な結び付きにて存在する。
【0002】
【従来の技術】電着により、導電性基板をコ−ティング
することは、周知であり、重要な工業的方法である。例
えば、電着は自動車工業で、基材にプライマ−を施す場
合に広く使われている。
することは、周知であり、重要な工業的方法である。例
えば、電着は自動車工業で、基材にプライマ−を施す場
合に広く使われている。
【0003】この方法において、導電性物品は一つの電
極としてフィルム形成ポリマ−の水性エマルジョンから
なるコ−ティング組成物中に浸漬される。電流はこの物
品と、この水性エマルジョンと電気的に接触させた対電
極との間に流され、その通電は所望のコ−ティングが、
この物品に形成されるまで続けられる。この電気的回路
において、コ−ティングされるべき物品は陰極であり、
上記対電極は陽極である。
極としてフィルム形成ポリマ−の水性エマルジョンから
なるコ−ティング組成物中に浸漬される。電流はこの物
品と、この水性エマルジョンと電気的に接触させた対電
極との間に流され、その通電は所望のコ−ティングが、
この物品に形成されるまで続けられる。この電気的回路
において、コ−ティングされるべき物品は陰極であり、
上記対電極は陽極である。
【0004】陰極電着浴に用いられる樹脂組成物も当業
界において公知である。これらの樹脂は一般に、長鎖化
され、窒素付加されたポリエポキシド樹脂から製造され
る。この窒素付加は一般にアミン化合物との反応により
おこなわれる。一般に、これらの樹脂は架橋剤と混合さ
れ、ついで酸により塩に変換され、通常、主エマルジョ
ンと呼ばれる水性エマルジョンに形成される。
界において公知である。これらの樹脂は一般に、長鎖化
され、窒素付加されたポリエポキシド樹脂から製造され
る。この窒素付加は一般にアミン化合物との反応により
おこなわれる。一般に、これらの樹脂は架橋剤と混合さ
れ、ついで酸により塩に変換され、通常、主エマルジョ
ンと呼ばれる水性エマルジョンに形成される。
【0005】この主エマルジョンは、コ−ティング現場
にて、電着浴の形成のため、顔料ペ−スト、凝集溶媒、
水およびその他の添加剤と混合される。この電着浴は陽
極を含む絶縁タンクに収納される。このコ−ティングさ
れるべき物品は陰極とされ、電着浴を収容するタンク内
を通過させる。コ−ティングの厚みは、浴の特性、電気
的操業特性、浸漬時間等の条件に依存する。
にて、電着浴の形成のため、顔料ペ−スト、凝集溶媒、
水およびその他の添加剤と混合される。この電着浴は陽
極を含む絶縁タンクに収納される。このコ−ティングさ
れるべき物品は陰極とされ、電着浴を収容するタンク内
を通過させる。コ−ティングの厚みは、浴の特性、電気
的操業特性、浸漬時間等の条件に依存する。
【0006】このコ−ティングされた物品は所定時間の
浸漬ののち、浴から除去され、脱イオン水ですすがれた
のち、コ−ティング層がオ−ブンで適当温度でキュアさ
れ、架橋される。
浸漬ののち、浴から除去され、脱イオン水ですすがれた
のち、コ−ティング層がオ−ブンで適当温度でキュアさ
れ、架橋される。
【0007】陰極電着性組成物、コ−ティング浴、陰極
電着方法については、米国特許、第3,922,253
;第4,419,467;第4,137,140;およ
び第4,468,307に開示されている。
電着方法については、米国特許、第3,922,253
;第4,419,467;第4,137,140;およ
び第4,468,307に開示されている。
【0008】陰極電着は自動車工業で広く使われている
が、その理由は、腐食保護性能に優れ、一般に塗布され
難い凹んだ部分に対する被覆性がよく、ボイド、垂れ、
流れのない均一な厚みのフィルムが形成され、労力も少
なく、環境への放出も少なく、作業者への付着も少ない
などの利点を有するからである。通常の工業的方法で得
られる陰極電着フィルムは、キュアののちは導電性でな
い。
が、その理由は、腐食保護性能に優れ、一般に塗布され
難い凹んだ部分に対する被覆性がよく、ボイド、垂れ、
流れのない均一な厚みのフィルムが形成され、労力も少
なく、環境への放出も少なく、作業者への付着も少ない
などの利点を有するからである。通常の工業的方法で得
られる陰極電着フィルムは、キュアののちは導電性でな
い。
【0009】しかし、導電性の電着フィルムは多くの理
由から有利である。たとえば、導電性フィルムは、最初
の電着層の上にさらに電着コ−ティングを行うことを可
能とする。この再電着コ−ティングは、従来の陰極電着
システムがフィルム堆積量に事実上の制限あること、キ
ュア時にフィルムが鋭利なエッジ部から引き剥がれ、エ
ッジ部の耐蝕性を減少させるなどの問題があることから
、有意義なものとなる。すなわち、フィルム堆積量を増
大し、エッジ部の被覆性を改良する一つの方法は、この
再電着コ−ティングによってなし得る。
由から有利である。たとえば、導電性フィルムは、最初
の電着層の上にさらに電着コ−ティングを行うことを可
能とする。この再電着コ−ティングは、従来の陰極電着
システムがフィルム堆積量に事実上の制限あること、キ
ュア時にフィルムが鋭利なエッジ部から引き剥がれ、エ
ッジ部の耐蝕性を減少させるなどの問題があることから
、有意義なものとなる。すなわち、フィルム堆積量を増
大し、エッジ部の被覆性を改良する一つの方法は、この
再電着コ−ティングによってなし得る。
【0010】しかし、この再電着コ−ティングを可能と
するには、最初のコ−ティングが再電着コ−ティングを
可能ならしめるに十分な導電性を有することである。未
キュア、非導電性電着フィルムに対して、再電着をおこ
なうことも可能である。しかし、好ましい方法ではない
。この”ウエット−オン−ウエット”再電着法ではエッ
ジ部の被覆性を改良することはできない。
するには、最初のコ−ティングが再電着コ−ティングを
可能ならしめるに十分な導電性を有することである。未
キュア、非導電性電着フィルムに対して、再電着をおこ
なうことも可能である。しかし、好ましい方法ではない
。この”ウエット−オン−ウエット”再電着法ではエッ
ジ部の被覆性を改良することはできない。
【0011】導電性の電着フィルムは、電着フィルム上
への静電的スプレ−の移動効率を改良し得る点からも有
利である。これは、同じ量の被覆を得るのに、より少な
い量のペイントで済み、大気汚染を減少させることを可
能とする。
への静電的スプレ−の移動効率を改良し得る点からも有
利である。これは、同じ量の被覆を得るのに、より少な
い量のペイントで済み、大気汚染を減少させることを可
能とする。
【0012】導電性の電着フィルムを得るため、従来は
電着組成物に導電性粉体が用いられていた。従来用いら
れている導電性粉体の例としては、カ−ボンブラック、
グラファイトまたは貴金属粉がある。しかし、貴金属粉
は陰極電着には適していない。なぜならば、これらはそ
の比重のため、浴中および被電着物品の水平表面で沈積
しやすいからである。
電着組成物に導電性粉体が用いられていた。従来用いら
れている導電性粉体の例としては、カ−ボンブラック、
グラファイトまたは貴金属粉がある。しかし、貴金属粉
は陰極電着には適していない。なぜならば、これらはそ
の比重のため、浴中および被電着物品の水平表面で沈積
しやすいからである。
【0013】カ−ボンブラックおよびグラファイトは、
その黒色のため、黒色または暗色の場合のみにしか用い
ることができないという制限がある。暗色においては、
その暗色電着プライマ−を被覆するために、トップコ−
ト層をより厚くする必要がある。
その黒色のため、黒色または暗色の場合のみにしか用い
ることができないという制限がある。暗色においては、
その暗色電着プライマ−を被覆するために、トップコ−
ト層をより厚くする必要がある。
【0014】カ−ボンブラックおよびグラファイトを用
いた場合の、その他の不利な点は比較的低い顔料濃度(
5/100以下の顔料/バインダ−比)でしか使用でき
ないことである。なぜならば、より高い濃度では、フィ
ルムの外観が好ましくなくなる(例えば、オレンジピ−
ルを生じさせる)。
いた場合の、その他の不利な点は比較的低い顔料濃度(
5/100以下の顔料/バインダ−比)でしか使用でき
ないことである。なぜならば、より高い濃度では、フィ
ルムの外観が好ましくなくなる(例えば、オレンジピ−
ルを生じさせる)。
【0015】このように、低い顔料濃度でカ−ボンブラ
ックを用いたときの問題は、焼成時に鋭利なエッジ部分
からの流出が大きいため、このエッジ部の被覆が不十分
となることである。
ックを用いたときの問題は、焼成時に鋭利なエッジ部分
からの流出が大きいため、このエッジ部の被覆が不十分
となることである。
【0016】陰極電着組成物において必要なことは、導
電性フィルムを形成することができ、このフィルムが明
色であり、高い顔料/バインダ−比を可能としエッジ部
の良好な被覆を可能にし得ることである。
電性フィルムを形成することができ、このフィルムが明
色であり、高い顔料/バインダ−比を可能としエッジ部
の良好な被覆を可能にし得ることである。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明は、
このようなことを可能とし得る陰極電着組成物を提供す
ることを目的とする。
このようなことを可能とし得る陰極電着組成物を提供す
ることを目的とする。
【0018】本発明により、カ−ボンブラック以外のあ
る種の顔料が、導電性を有し、色が明るく、高い顔料/
バインダ−比で用いることができ、良好なエッジ部の被
覆を与えることができることが見出だされた。
る種の顔料が、導電性を有し、色が明るく、高い顔料/
バインダ−比で用いることができ、良好なエッジ部の被
覆を与えることができることが見出だされた。
【0019】すなわち、この顔料は、アンチモン含有酸
化錫微結晶の2次元導電性ネットワ−クであって、アモ
ルファスシリカまたはシリカ含有物質と特異な結び付き
にて存在するものである。この顔料は、従来の導電性顔
料では不可能な、導電性電着プライマ−の広範な色範囲
(パステル色、飽和色、白色)を可能とする。
化錫微結晶の2次元導電性ネットワ−クであって、アモ
ルファスシリカまたはシリカ含有物質と特異な結び付き
にて存在するものである。この顔料は、従来の導電性顔
料では不可能な、導電性電着プライマ−の広範な色範囲
(パステル色、飽和色、白色)を可能とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】前述のように、電着浴に
用いられる主エマルジョンの殆どは、アミン付加物で、
架橋剤と混合され、ついで酸により塩に変換され、水溶
性物質に形成されたものである。
用いられる主エマルジョンの殆どは、アミン付加物で、
架橋剤と混合され、ついで酸により塩に変換され、水溶
性物質に形成されたものである。
【0021】本発明の導電性顔料は種々の陰極電着バイ
ンダ−樹脂に使用可能である。しかし、好ましいバイン
ダ−樹脂は従来の典型的なエポキシ−アミン付加物であ
る。この好ましい樹脂は公知の第一ヒドロキシ含有樹脂
である。これについては、米国特許No.4,397,
990;4,419,467に記載されている。
ンダ−樹脂に使用可能である。しかし、好ましいバイン
ダ−樹脂は従来の典型的なエポキシ−アミン付加物であ
る。この好ましい樹脂は公知の第一ヒドロキシ含有樹脂
である。これについては、米国特許No.4,397,
990;4,419,467に記載されている。
【0022】上記バインダ−樹脂に対する好ましい架橋
剤は従来公知のものでよい(ここに開示されている導電
性顔料は種々の架橋剤に対し使用可能である)。その例
としては、脂肪族、芳香族イソシアネ−ト、例えば、ヘ
キサメチレンジイソシアネ−ト、トルレンジイソシアネ
−ト、メチレンジフェニルジイソシアネ−ト等である。 これらのイソシアネ−トはブロッキング剤、例えばオキ
シム、アルコ−ル、カプロラクタムであって、イソシア
ネ−ト官能価(すなわち、架橋官能価)をブロッキング
するものと予備反応される。
剤は従来公知のものでよい(ここに開示されている導電
性顔料は種々の架橋剤に対し使用可能である)。その例
としては、脂肪族、芳香族イソシアネ−ト、例えば、ヘ
キサメチレンジイソシアネ−ト、トルレンジイソシアネ
−ト、メチレンジフェニルジイソシアネ−ト等である。 これらのイソシアネ−トはブロッキング剤、例えばオキ
シム、アルコ−ル、カプロラクタムであって、イソシア
ネ−ト官能価(すなわち、架橋官能価)をブロッキング
するものと予備反応される。
【0023】加熱により、このブロッキング剤は分離し
、架橋が生じる。これらイソシアネ−ト架橋剤およびブ
ロッキング剤は公知であり、米国特許No.4,419
,467に開示されている。
、架橋が生じる。これらイソシアネ−ト架橋剤およびブ
ロッキング剤は公知であり、米国特許No.4,419
,467に開示されている。
【0024】硬化触媒、例えば錫触媒は通常、組成物中
に存在させており、公知である。具体例としては、酸化
ジブチル錫(DBTO)およびジブチル錫ラウレ−トで
ある。使用量は、一般に樹脂全体に対し0.05−1重
量%である。カチオン性樹脂およびブロックドイソシア
ネ−ト架橋剤は電着組成物中における主樹脂成分であり
、通常、固形分の約30−50重量%、存在させる。
に存在させており、公知である。具体例としては、酸化
ジブチル錫(DBTO)およびジブチル錫ラウレ−トで
ある。使用量は、一般に樹脂全体に対し0.05−1重
量%である。カチオン性樹脂およびブロックドイソシア
ネ−ト架橋剤は電着組成物中における主樹脂成分であり
、通常、固形分の約30−50重量%、存在させる。
【0025】本発明の導電性顔料は硬化された電着フィ
ルムであって、導電性を有し、導電性付与のためのカ−
ボンブラックを用いていないため暗色ではない。さらに
、無色のもの、トップコ−トと同色のもの、通常のフィ
ルム厚みのトップコ−トにより容易に隠蔽し得る明色の
組成物とすることができる。
ルムであって、導電性を有し、導電性付与のためのカ−
ボンブラックを用いていないため暗色ではない。さらに
、無色のもの、トップコ−トと同色のもの、通常のフィ
ルム厚みのトップコ−トにより容易に隠蔽し得る明色の
組成物とすることができる。
【0026】このトップコ−トは別の電着層(すなわち
、再電着)、または静電的に施されたスプレ−であって
もよい。そのほか、公知のトップコ−トシステム(顔料
を添加した、または添加しないモノコ−トまたはベ−ス
コ−ト/クレアコ−ト)を適用することもできる。
、再電着)、または静電的に施されたスプレ−であって
もよい。そのほか、公知のトップコ−トシステム(顔料
を添加した、または添加しないモノコ−トまたはベ−ス
コ−ト/クレアコ−ト)を適用することもできる。
【0027】本発明の導電性顔料は組成物中にペ−スト
の形で導入される。この顔料ペ−ストは顔料を粉砕ベヒ
クル、その他の任意の成分、例えば湿潤剤、表面活性剤
、脱気泡剤に分散、粉砕することにより作られる。顔料
粉砕ベヒクルは公知である。粉砕の後における顔料の粒
径はヘグマングラインディングゲ−ジで約8−7とすべ
きである。過剰な粉砕は浴の安定性、フィルム外観、フ
ィルムの導電性に悪影響を与えるから避けなければなら
ない。
の形で導入される。この顔料ペ−ストは顔料を粉砕ベヒ
クル、その他の任意の成分、例えば湿潤剤、表面活性剤
、脱気泡剤に分散、粉砕することにより作られる。顔料
粉砕ベヒクルは公知である。粉砕の後における顔料の粒
径はヘグマングラインディングゲ−ジで約8−7とすべ
きである。過剰な粉砕は浴の安定性、フィルム外観、フ
ィルムの導電性に悪影響を与えるから避けなければなら
ない。
【0028】導電性顔料とともに、補助顔料を用い、フ
ィルムに着色を付与したり、耐蝕性を高めてもよい。本
発明で用いられる補助顔料の例は、二酸化チタン、塩基
性ケイ酸鉛、クロム酸ストロンチウム、カ−ボンブラッ
ク、酸化鉄、粘土等である。表面積、油吸収性の大きい
顔料は慎重に使用すべきである。なぜならば、これらは
合着、流れに対し悪影響を与える虞があるからである。
ィルムに着色を付与したり、耐蝕性を高めてもよい。本
発明で用いられる補助顔料の例は、二酸化チタン、塩基
性ケイ酸鉛、クロム酸ストロンチウム、カ−ボンブラッ
ク、酸化鉄、粘土等である。表面積、油吸収性の大きい
顔料は慎重に使用すべきである。なぜならば、これらは
合着、流れに対し悪影響を与える虞があるからである。
【0029】全導電性顔料対樹脂重量比は重要である。
硬化されたフィルムを再電着のため導電性にするのに必
要な導電性顔料の最小量は、0.1:1、より好ましく
は0.15:1、最も好ましくは0.2:1(顔料:樹
脂重量比)である。これよりも導電性顔料が多い場合は
、フィルムの外観が悪くなり、電着タンクでの沈積が多
くなる。
要な導電性顔料の最小量は、0.1:1、より好ましく
は0.15:1、最も好ましくは0.2:1(顔料:樹
脂重量比)である。これよりも導電性顔料が多い場合は
、フィルムの外観が悪くなり、電着タンクでの沈積が多
くなる。
【0030】硬化された電着フィルムの導電性の測定は
、通常の方法、例えばランスバ−グによる”スプレイア
ビリティ・メ−タ(No.236)を用いて行われる。 このメ−タはランスバ−グ単位(Ru)により65−1
65のスケ−ルで目盛られている(なお、非導電性基板
に静電的にスプレ−するのに必要な最小の読みは125
である。すなわち、3.2×108 オ−ムに相当する
)。
、通常の方法、例えばランスバ−グによる”スプレイア
ビリティ・メ−タ(No.236)を用いて行われる。 このメ−タはランスバ−グ単位(Ru)により65−1
65のスケ−ルで目盛られている(なお、非導電性基板
に静電的にスプレ−するのに必要な最小の読みは125
である。すなわち、3.2×108 オ−ムに相当する
)。
【0031】しかし、導電性基板(最初の電着工程に必
要)においては、このランスバ−グのメ−タは、再電着
または静電的スプレ−に必要な硬化フィルムの最小導電
性の下限を判定するのには、感度は不十分であることが
見出だされた。
要)においては、このランスバ−グのメ−タは、再電着
または静電的スプレ−に必要な硬化フィルムの最小導電
性の下限を判定するのには、感度は不十分であることが
見出だされた。
【0032】上述のように、最初の電着フィルム上に再
電着するのに必要な最小導電性顔料対バインダ−比が存
在することが見出だされた。しかし、現在用いられてい
る静電的方式の電圧での静電的スプレ−においては、硬
化された電着フィルムの導電性は、通常の厚みのフィル
ムでは比較的重要でない(すなわち、硬化されたフィル
ムは導電性である必要はないかも知れない)。しかし、
より厚いフィルムまたは小さい静電的スプレ−電圧にお
いては、硬化された電着フィルムの導電性は重要となる
。
電着するのに必要な最小導電性顔料対バインダ−比が存
在することが見出だされた。しかし、現在用いられてい
る静電的方式の電圧での静電的スプレ−においては、硬
化された電着フィルムの導電性は、通常の厚みのフィル
ムでは比較的重要でない(すなわち、硬化されたフィル
ムは導電性である必要はないかも知れない)。しかし、
より厚いフィルムまたは小さい静電的スプレ−電圧にお
いては、硬化された電着フィルムの導電性は重要となる
。
【0033】本発明の顔料は、アンチモン含有酸化錫微
結晶の2次元導電性ネットワ−クであって、アモルファ
スシリカまたはシリカ含有物質と特異な結び付きにて存
在するものである。このアンチモン含有酸化錫微結晶は
アモルファスシリカまたはシリカ含有物質の表面におい
て、高密度の2次元導電性ネットワ−クである。このシ
リカまたはシリカ含有物質は基板であり、このネットワ
−クは、結晶のほぼ均一な層からなり、各結晶が隣接す
る結晶に対し導電通路を形成する。
結晶の2次元導電性ネットワ−クであって、アモルファ
スシリカまたはシリカ含有物質と特異な結び付きにて存
在するものである。このアンチモン含有酸化錫微結晶は
アモルファスシリカまたはシリカ含有物質の表面におい
て、高密度の2次元導電性ネットワ−クである。このシ
リカまたはシリカ含有物質は基板であり、このネットワ
−クは、結晶のほぼ均一な層からなり、各結晶が隣接す
る結晶に対し導電通路を形成する。
【0034】酸化錫微結晶の層は通常、厚みが約5−2
0nmであり、この酸化錫層の厚みの10−10,00
0倍の大きさの粒子の表面を覆っている。したがって、
この結晶は2次元において連続的導電層の一部をなして
いる。
0nmであり、この酸化錫層の厚みの10−10,00
0倍の大きさの粒子の表面を覆っている。したがって、
この結晶は2次元において連続的導電層の一部をなして
いる。
【0035】シリカ基板は実質的にいかなる形状でもよ
い。フレ−ク状、中空シェルの形の場合、シリカ基板の
一側にのみ2次元導電性ネットワ−クが形成されている
ときも満足な結果を得ることができる。しかし、一般に
は、シリカ基板の露出表面の実質的全てが、この結晶層
で被覆されているときに最良の結果が得られる。このシ
リカ基板のシリカ含有物質は、金属シリケ−ト、シリカ
含有ガラス、またはSiO4 単位の共有結合ネットワ
−クを有する物質であってもよい。
い。フレ−ク状、中空シェルの形の場合、シリカ基板の
一側にのみ2次元導電性ネットワ−クが形成されている
ときも満足な結果を得ることができる。しかし、一般に
は、シリカ基板の露出表面の実質的全てが、この結晶層
で被覆されているときに最良の結果が得られる。このシ
リカ基板のシリカ含有物質は、金属シリケ−ト、シリカ
含有ガラス、またはSiO4 単位の共有結合ネットワ
−クを有する物質であってもよい。
【0036】顔料は、アンチモン含有酸化錫[SnO2
(Sb)]微結晶の2次元導電性ネットワ−クで被覆
された無定形シリカの造粒体からなる粉体である。最終
の粒子は一般に数十ミクロンないしサブミクロンの大き
さのもので、薄いペイントフィルムのマトリックス内で
導電性ネットワ−クを形成し得るものである。
(Sb)]微結晶の2次元導電性ネットワ−クで被覆
された無定形シリカの造粒体からなる粉体である。最終
の粒子は一般に数十ミクロンないしサブミクロンの大き
さのもので、薄いペイントフィルムのマトリックス内で
導電性ネットワ−クを形成し得るものである。
【0037】無定形シリカの造粒体は、針状、小板状、
球状、樹木状、不規則な球状のものなど、任意のもので
よい。これらはアンチモン含有酸化錫の付着のため広い
表面を提供する。
球状、樹木状、不規則な球状のものなど、任意のもので
よい。これらはアンチモン含有酸化錫の付着のため広い
表面を提供する。
【0038】好ましい顔料の一つの形態として、無定形
シリカが厚みが約20nm以下の薄いシェルまたは小板
状のものが存在する。この顔料はベヒクル中に分散され
たとき、一般に透明であり、ペイント中での顔料の一成
分としての存在が色および関連する特性に殆ど影響を与
えない。この導電性顔料を製造する方法は、以下の工程
からなる。 (A)無定形ヒドロキシル化シリカまたは活性シリカ含
有物質の基板を用意する工程、 (B)この基板に、本質的にアンチモンおよび錫の水和
酸化物からなる被覆層を適用する工程、および(C)こ
の被覆基板を酸素含有雰囲気にて400−900℃の範
囲の温度で焼成する工程、とからなる。
シリカが厚みが約20nm以下の薄いシェルまたは小板
状のものが存在する。この顔料はベヒクル中に分散され
たとき、一般に透明であり、ペイント中での顔料の一成
分としての存在が色および関連する特性に殆ど影響を与
えない。この導電性顔料を製造する方法は、以下の工程
からなる。 (A)無定形ヒドロキシル化シリカまたは活性シリカ含
有物質の基板を用意する工程、 (B)この基板に、本質的にアンチモンおよび錫の水和
酸化物からなる被覆層を適用する工程、および(C)こ
の被覆基板を酸素含有雰囲気にて400−900℃の範
囲の温度で焼成する工程、とからなる。
【0039】ヒドロキシル化基板表面へのアンチモンお
よび錫の水和酸化物からなる被覆層の適用は、加水分解
可能なSnおよびSb塩の水溶液を、pH約1.5−3
.5、好ましくはpH2.0にて、シリカ含有スラリ−
に添加することによりおこなうことができる。この被覆
されたシリカ基板の焼成により、SnO2 (Sb)コ
−ティング層の結晶相が完成され、これにより組成物の
各粒子の所望の導電性が付与される。
よび錫の水和酸化物からなる被覆層の適用は、加水分解
可能なSnおよびSb塩の水溶液を、pH約1.5−3
.5、好ましくはpH2.0にて、シリカ含有スラリ−
に添加することによりおこなうことができる。この被覆
されたシリカ基板の焼成により、SnO2 (Sb)コ
−ティング層の結晶相が完成され、これにより組成物の
各粒子の所望の導電性が付与される。
【0040】顔料の形成方法の一つとして、無定形ヒド
ロキシル化シリカまたは活性シリカ含有物質の基板は、
細粒状のコア物質を活性シリカでコ−ティングし、つい
でこのシリカコ−ティングを実質的に害することなくコ
ア物質を除去することにより形成される。このように作
られた基板は中空シリカ粒子からなり、実質的に半透明
であり、ほぼコア物質の形状をなしている。この目的の
ため、シリカコ−ティングは十分に薄くし、光を反射し
ないようにする。すなわち、通常、約250nmより薄
くする。殆どの用途において、約5−20nmの厚みが
好ましい。活性シリカはケイ酸ナトリウムまたはケイ酸
カリの水溶液を鉱酸、たとえば硫酸、塩酸で徐々に中和
することにより、容易に製造することができる。
ロキシル化シリカまたは活性シリカ含有物質の基板は、
細粒状のコア物質を活性シリカでコ−ティングし、つい
でこのシリカコ−ティングを実質的に害することなくコ
ア物質を除去することにより形成される。このように作
られた基板は中空シリカ粒子からなり、実質的に半透明
であり、ほぼコア物質の形状をなしている。この目的の
ため、シリカコ−ティングは十分に薄くし、光を反射し
ないようにする。すなわち、通常、約250nmより薄
くする。殆どの用途において、約5−20nmの厚みが
好ましい。活性シリカはケイ酸ナトリウムまたはケイ酸
カリの水溶液を鉱酸、たとえば硫酸、塩酸で徐々に中和
することにより、容易に製造することができる。
【0041】活性シリカ含有物質は、反応溶液中に他の
成分を含めることにより、任意のコア物質にコ−ティン
グとして適用することができる。たとえば、ケイ酸ナト
リウムまたはケイ酸カリとともにホウ酸ナトリウムを添
加することにより、シリカ−ボリアコ−ティングを得る
ことができる。このようなコ−ティングは、コ−ティン
グ表面がヒドロキシル化シリカ官能価を有する限り基板
として有効である。
成分を含めることにより、任意のコア物質にコ−ティン
グとして適用することができる。たとえば、ケイ酸ナト
リウムまたはケイ酸カリとともにホウ酸ナトリウムを添
加することにより、シリカ−ボリアコ−ティングを得る
ことができる。このようなコ−ティングは、コ−ティン
グ表面がヒドロキシル化シリカ官能価を有する限り基板
として有効である。
【0042】シリカ含有基板に存在する他の成分が基板
表面上のヒドロキシル基の保持を抑制する場合は、その
のちのSnO2 (Sb)コ−ティングは完全に付着し
なくなり、したがって、効果的でない。導電性顔料は、
コア物質が除去されないで、無定形シリカまたはシリカ
含有物質のシェルでカプセル化された状態に保たれた状
態でもよい。
表面上のヒドロキシル基の保持を抑制する場合は、その
のちのSnO2 (Sb)コ−ティングは完全に付着し
なくなり、したがって、効果的でない。導電性顔料は、
コア物質が除去されないで、無定形シリカまたはシリカ
含有物質のシェルでカプセル化された状態に保たれた状
態でもよい。
【0043】コア物質の適当な例はTiO2 、マイカ
、カオリン、タルク、BaSO4 である。いずれの場
合も、シリカコ−ティングはコア物質との結合性がよく
、約5−20nmの均一被覆層を形成させる。好ましい
コア物質は、TiO2 およびマイカである。本発明の
導電性顔料については、1989年8月2日に米国に出
願された出願番号No.07/386,765に、さら
に詳述されている。
、カオリン、タルク、BaSO4 である。いずれの場
合も、シリカコ−ティングはコア物質との結合性がよく
、約5−20nmの均一被覆層を形成させる。好ましい
コア物質は、TiO2 およびマイカである。本発明の
導電性顔料については、1989年8月2日に米国に出
願された出願番号No.07/386,765に、さら
に詳述されている。
【0044】本発明のコ−ティング組成物は、他の任意
の成分、例えば湿潤剤、表面活性剤、脱気泡剤を含むも
のであってもよい。湿潤剤、表面活性剤の例としては、
アルキルイミダゾリン(”Amine C”、Cib
a−Geigy社製)、アルキノ−ル(”Surfyn
ol 104”、Air Productsand
Chemicals社製)などがある。これらの任意の
成分は、固体樹脂に対し約0−20重量%含めることが
できる。
の成分、例えば湿潤剤、表面活性剤、脱気泡剤を含むも
のであってもよい。湿潤剤、表面活性剤の例としては、
アルキルイミダゾリン(”Amine C”、Cib
a−Geigy社製)、アルキノ−ル(”Surfyn
ol 104”、Air Productsand
Chemicals社製)などがある。これらの任意の
成分は、固体樹脂に対し約0−20重量%含めることが
できる。
【0045】可塑化剤も、流れを促進するから任意の成
分である。その例は、高沸点水含浸性物質、例えばノニ
ルフェノ−ルまたはビスフェノ−ルAのエチレンまたは
プロピレンオキシド付加物である。可塑化剤は、通常、
固体樹脂に対し約0−15重量%含めることができる。
分である。その例は、高沸点水含浸性物質、例えばノニ
ルフェノ−ルまたはビスフェノ−ルAのエチレンまたは
プロピレンオキシド付加物である。可塑化剤は、通常、
固体樹脂に対し約0−15重量%含めることができる。
【0046】本発明の電着性コ−ティング組成物は、水
性媒体に分散させて用いられる。ここで、分散とは2相
の半透明または不透明水性樹脂システムであり、樹脂が
分散相をなし、水が連続相を形成している。樹脂相の平
均粒径は約0.1−10ミクロン、好ましくは5ミクロ
ン以下である。
性媒体に分散させて用いられる。ここで、分散とは2相
の半透明または不透明水性樹脂システムであり、樹脂が
分散相をなし、水が連続相を形成している。樹脂相の平
均粒径は約0.1−10ミクロン、好ましくは5ミクロ
ン以下である。
【0047】この樹脂状製品の水性媒体における濃度は
、特に制限はないが、通常、水が大部分を占めていれば
よい。この水性分散体は通常、約3−50重量%、好ま
しくは5−40重量%の固体樹脂を含有している。この
水性樹脂濃度は、さらに全固体重量に対し、10−30
%の水で稀釈してもよい。
、特に制限はないが、通常、水が大部分を占めていれば
よい。この水性分散体は通常、約3−50重量%、好ま
しくは5−40重量%の固体樹脂を含有している。この
水性樹脂濃度は、さらに全固体重量に対し、10−30
%の水で稀釈してもよい。
【0048】水の他に、この水性媒体は凝集溶媒を含ん
でいてもよい。有用な凝集溶媒の例としては、炭化水素
、アルコ−ル、エステル、エ−テル、ケトンである。 好ましい凝集溶媒はアルコ−ル、ポリオ−ルおよびケト
ンである。具体的な例としてはエチレングリコ−ルのモ
ノブチルおよびモノヘキシルエ−テルおよびプロピレン
グリコ−ルのフェニルエ−テルである。凝集溶媒の量は
それほど限定的ではないが、通常、固体樹脂の総重量に
基づいて、0−15重量%、好ましくは約0.5−5重
量%である。
でいてもよい。有用な凝集溶媒の例としては、炭化水素
、アルコ−ル、エステル、エ−テル、ケトンである。 好ましい凝集溶媒はアルコ−ル、ポリオ−ルおよびケト
ンである。具体的な例としてはエチレングリコ−ルのモ
ノブチルおよびモノヘキシルエ−テルおよびプロピレン
グリコ−ルのフェニルエ−テルである。凝集溶媒の量は
それほど限定的ではないが、通常、固体樹脂の総重量に
基づいて、0−15重量%、好ましくは約0.5−5重
量%である。
【0049】
【実施例】例A
バックボーン樹脂の調製
第1(primary )ヒドロキシ含有樹脂を米国特
許第4,397,990号カラム10の例1(b)に従
い次に述べるようにして調製した。
許第4,397,990号カラム10の例1(b)に従
い次に述べるようにして調製した。
【0050】エチレングリコールモノブチルエーテル(
161g)中のエポキシ樹脂Epon1001(商標)
(289.2g;0.6エポキシ当量)の溶液に、ジエ
タノールアミン(21.0g;0.2モル),3−(N
,N−ジメチルアミノ)プロピルアミン(10.2g;
0.1モル)および1,6−ジアミノヘキサンとCar
duraE−10(商標)との付加物(61.6g;付
加物0.1モル)を添加した。(Cardura E−
10(商標)は、シェル化学社から得られるC10酸の
グリシジルエステルである。)この付加物は、1,6−
ジアミノヘキサン(116g;1モル)をCardur
a E−10(500g;2モル)と80℃で3時間反
応することにより調製したものである。エポキシ樹脂E
pon1001とアミンとの該混合物を初め85℃−9
0℃で撹拌下4時間その後120℃で1時間加熱するこ
とにより反応させた。エポキシ含量はその後0であった
。グラム固体当たりの理論アミンミリ当量は1.57;
理論ヒドロキシ含量0.47当量/100g、そして理
論固体70.3%であった。 例B 導電性TiO2 練り顔料(millbase)の調製
練り顔料を次の通り調製した:
161g)中のエポキシ樹脂Epon1001(商標)
(289.2g;0.6エポキシ当量)の溶液に、ジエ
タノールアミン(21.0g;0.2モル),3−(N
,N−ジメチルアミノ)プロピルアミン(10.2g;
0.1モル)および1,6−ジアミノヘキサンとCar
duraE−10(商標)との付加物(61.6g;付
加物0.1モル)を添加した。(Cardura E−
10(商標)は、シェル化学社から得られるC10酸の
グリシジルエステルである。)この付加物は、1,6−
ジアミノヘキサン(116g;1モル)をCardur
a E−10(500g;2モル)と80℃で3時間反
応することにより調製したものである。エポキシ樹脂E
pon1001とアミンとの該混合物を初め85℃−9
0℃で撹拌下4時間その後120℃で1時間加熱するこ
とにより反応させた。エポキシ含量はその後0であった
。グラム固体当たりの理論アミンミリ当量は1.57;
理論ヒドロキシ含量0.47当量/100g、そして理
論固体70.3%であった。 例B 導電性TiO2 練り顔料(millbase)の調製
練り顔料を次の通り調製した:
【0051】* シリカで被覆されたTiO2 コアを
包含する顔料粒子。該シリカはアンチモン含有錫酸化物
クリスタリット(crystallites)の2次元
ネットワークに関連する。この導電顔料は1989年8
月2日提出の米国特許出願番号07/386,765の
例6および後記の例Gに概ね記載するようにして調製さ
れる。
包含する顔料粒子。該シリカはアンチモン含有錫酸化物
クリスタリット(crystallites)の2次元
ネットワークに関連する。この導電顔料は1989年8
月2日提出の米国特許出願番号07/386,765の
例6および後記の例Gに概ね記載するようにして調製さ
れる。
【0052】乳酸を上記樹脂に添加し約5分良く混合し
た。脱イオン水をその後ゆっくり撹拌下添加し中和され
た樹脂を乳化する。導電顔料をそれから撹拌下ゆっくり
添加し混合ブルックフィールド粘度計で測定して前混合
粘度(premix viscosity )59K
rebs単位のスラリーを調製した。このスラリーをそ
の後サンドミルでヘグマングラインディングゲージ(H
egman grinding gauge )8から
7まで粉砕した。これにより50.0%固体(37.5
0%顔料,12.50樹脂 非揮発)および顔料対バ
インダ比3/1の練り顔料を得た。 例C 架橋剤の調製 トルエンジイソシアネート型架橋剤を次に述べるように
して調製した:
た。脱イオン水をその後ゆっくり撹拌下添加し中和され
た樹脂を乳化する。導電顔料をそれから撹拌下ゆっくり
添加し混合ブルックフィールド粘度計で測定して前混合
粘度(premix viscosity )59K
rebs単位のスラリーを調製した。このスラリーをそ
の後サンドミルでヘグマングラインディングゲージ(H
egman grinding gauge )8から
7まで粉砕した。これにより50.0%固体(37.5
0%顔料,12.50樹脂 非揮発)および顔料対バ
インダ比3/1の練り顔料を得た。 例C 架橋剤の調製 トルエンジイソシアネート型架橋剤を次に述べるように
して調製した:
【0053】リン酸および80,20トルエンジイソシ
アネートを撹拌機、凝縮器を備え、加熱および/または
冷却および混合可能な反応フラスコに投入した。ブトキ
シエトキシエタノールを、ゆっくり3時間にわたり撹拌
下、発熱温度最高70℃に保持して添加した。投入が終
了したときそれを65−70℃に保持し、30分毎にイ
ソシアネートのパーセントが11.9から12.9にな
るまでサンプリングした。
アネートを撹拌機、凝縮器を備え、加熱および/または
冷却および混合可能な反応フラスコに投入した。ブトキ
シエトキシエタノールを、ゆっくり3時間にわたり撹拌
下、発熱温度最高70℃に保持して添加した。投入が終
了したときそれを65−70℃に保持し、30分毎にイ
ソシアネートのパーセントが11.9から12.9にな
るまでサンプリングした。
【0054】この明細が達成されたときジブチル錫ジラ
ウレートを添加し混合した。そしてトリメチルプロパン
をゆっくり3時間にわたり添加した。バッチの温度はこ
の投入の終りでは120℃まで上がった。温度をフリー
イソシアネートのパーセントがゼロになるまで120℃
に維持した。これが達成されたとき、ブタノールをゆっ
くり添加しそれからメチルイソブチルケトンを添加した
。反応物を70℃に冷却し温度を約70℃に保持して濾
過した。最終組成物は74−76%固体であり、0パー
セントのフリーイソシアネート、および25℃で40−
60秒粘度を有した。 例D 酸化ジブチル錫ペ−ストの調製 酸化ジブチル錫ペ−ストを下記の通りに調製した。
ウレートを添加し混合した。そしてトリメチルプロパン
をゆっくり3時間にわたり添加した。バッチの温度はこ
の投入の終りでは120℃まで上がった。温度をフリー
イソシアネートのパーセントがゼロになるまで120℃
に維持した。これが達成されたとき、ブタノールをゆっ
くり添加しそれからメチルイソブチルケトンを添加した
。反応物を70℃に冷却し温度を約70℃に保持して濾
過した。最終組成物は74−76%固体であり、0パー
セントのフリーイソシアネート、および25℃で40−
60秒粘度を有した。 例D 酸化ジブチル錫ペ−ストの調製 酸化ジブチル錫ペ−ストを下記の通りに調製した。
【0055】乳酸は、混合しながらバックボ−ン樹脂に
添加した。次に、脱イオン水を混合しながら徐々に添加
して乳化させた。次いで、酸化ジブル錫を撹拌しながら
徐々に添加してスラリ−を調製した。その後、このスラ
リ−をステンレス鋼磨砕機中で13時間処理した。これ
により、色素対バインダ−比が 3/1 に対応する、
30%DBTOおよび10%樹脂固体からなる40%固
体ペ−ストが得られた。 例 E 導電性マイカ練り顔料の調製 練り顔料を以下の通りに調製した。
添加した。次に、脱イオン水を混合しながら徐々に添加
して乳化させた。次いで、酸化ジブル錫を撹拌しながら
徐々に添加してスラリ−を調製した。その後、このスラ
リ−をステンレス鋼磨砕機中で13時間処理した。これ
により、色素対バインダ−比が 3/1 に対応する、
30%DBTOおよび10%樹脂固体からなる40%固
体ペ−ストが得られた。 例 E 導電性マイカ練り顔料の調製 練り顔料を以下の通りに調製した。
【0056】** マイカ核を有し、シリカでコ−ト
された色素粒子。このシリカは、アンチモン含有酸化錫
微結晶と結合している。この導電性色素は、1989年
8月 2日に出願された米国特許出願 No.07/
386,765 の例12、および下記の例Hに一般的
に記載されているように調製される。
された色素粒子。このシリカは、アンチモン含有酸化錫
微結晶と結合している。この導電性色素は、1989年
8月 2日に出願された米国特許出願 No.07/
386,765 の例12、および下記の例Hに一般的
に記載されているように調製される。
【0057】乳酸は、約 5分間、上記樹脂に添加し、
完全に混合した。次いで、脱イオン水を混合しながら徐
々に添加し、中和した樹脂を乳化した。次に、導電性色
素を撹拌しながら徐々に添加し、ブルックフィ−ルド粘
度計を用いた測定で75クレブス単位(Krebs U
nits )のプレミックス粘度を有するスラリ−を作
成した。その後、このスラリ−を、 8ないし7のヘグ
マン・グラインディング・ゲ−ジ(Hegmangri
nding gauge )が得られるまで、サンドミ
ルで粉砕した。これにより、50.0%固体( 37.
50%色素、 12.50%樹脂非揮発成分)で色素対
バインダ−比が 3/1 の練り顔料が得られた。 例F
完全に混合した。次いで、脱イオン水を混合しながら徐
々に添加し、中和した樹脂を乳化した。次に、導電性色
素を撹拌しながら徐々に添加し、ブルックフィ−ルド粘
度計を用いた測定で75クレブス単位(Krebs U
nits )のプレミックス粘度を有するスラリ−を作
成した。その後、このスラリ−を、 8ないし7のヘグ
マン・グラインディング・ゲ−ジ(Hegmangri
nding gauge )が得られるまで、サンドミ
ルで粉砕した。これにより、50.0%固体( 37.
50%色素、 12.50%樹脂非揮発成分)で色素対
バインダ−比が 3/1 の練り顔料が得られた。 例F
【0058】(A)18リットルの撹拌したポリエチレ
ンビ−カ−において、水 3リットルを水酸化ナトリウ
ムを用いて pH 10とした。硅酸ナトリウムのスト
ック溶液を調製し、ろ過して不溶物を除去した。このス
トック溶液はSiO2 /Na2 Oモル比が3.25
/1 であり、溶液 1リットル当り 398gのSi
O2 を含有している。この溶液65mlを18リット
ルビ−カ−に仕込んだ。その後、水 1リットルに予備
分散したBaCO3 1350gを添加してスラリ−を
形成させた。
ンビ−カ−において、水 3リットルを水酸化ナトリウ
ムを用いて pH 10とした。硅酸ナトリウムのスト
ック溶液を調製し、ろ過して不溶物を除去した。このス
トック溶液はSiO2 /Na2 Oモル比が3.25
/1 であり、溶液 1リットル当り 398gのSi
O2 を含有している。この溶液65mlを18リット
ルビ−カ−に仕込んだ。その後、水 1リットルに予備
分散したBaCO3 1350gを添加してスラリ−を
形成させた。
【0059】このスラリ−を、蒸気を導入することによ
り90℃に30分加熱し、その後の pHは 9.7で
あった。次いで、硅酸ナトリウム溶液および硫酸溶液を
、スラリ−を激しく撹拌し、 pH を 9.0に保ち
ながら、3 時間にわたって同時に添加した。上述の硅
酸ナトリウム・ストック溶液 342mlを水で 60
0mlに希釈することにより硅酸ナトリウム溶液を調製
した。96%H2 SO4 69gを水で 600ml
に希釈することにより硫酸溶液を調製した。 硅酸ナトリウム溶液の全てをスラリ−に添加した。 p
H を 9.0に維持するに十分な硫酸を添加した。同
時添加が終了した後、このスラリ−を90℃で30分間
分解して得られたシリカ被覆BaCO3 粒子をろ過に
より単離し、水で洗浄して可溶塩を除去し、 120℃
の温度で一晩乾燥させた。乾燥粉末1485gを回収し
た。
り90℃に30分加熱し、その後の pHは 9.7で
あった。次いで、硅酸ナトリウム溶液および硫酸溶液を
、スラリ−を激しく撹拌し、 pH を 9.0に保ち
ながら、3 時間にわたって同時に添加した。上述の硅
酸ナトリウム・ストック溶液 342mlを水で 60
0mlに希釈することにより硅酸ナトリウム溶液を調製
した。96%H2 SO4 69gを水で 600ml
に希釈することにより硫酸溶液を調製した。 硅酸ナトリウム溶液の全てをスラリ−に添加した。 p
H を 9.0に維持するに十分な硫酸を添加した。同
時添加が終了した後、このスラリ−を90℃で30分間
分解して得られたシリカ被覆BaCO3 粒子をろ過に
より単離し、水で洗浄して可溶塩を除去し、 120℃
の温度で一晩乾燥させた。乾燥粉末1485gを回収し
た。
【0060】(B) 3リットルの撹拌したガラスフラ
スコにおいて、上記(A)において調製した粉末 25
0gを水 1リットルに分散させ、得られたスラリ−を
90℃の温度に加熱した。次いで、pHを 2.0に下
げ、BaCO3 材を溶解したスラリ−に、公称37%
HCl 164mlを徐々に添加した。次に、水にSn
Cl4 ・5H2 Oを溶解し、公称37%HClにS
nCl3 を溶解することによりSnCl4 /SbC
l3/HClストック溶液を調製した。これらを、Sb
1部に対してSnO2 が10部である等量を与える
比率で合わせ、水で希釈して 0.215gSnO2
/mlおよび0.0215 gSb/mlである等量を
含有する溶液を得た。
スコにおいて、上記(A)において調製した粉末 25
0gを水 1リットルに分散させ、得られたスラリ−を
90℃の温度に加熱した。次いで、pHを 2.0に下
げ、BaCO3 材を溶解したスラリ−に、公称37%
HCl 164mlを徐々に添加した。次に、水にSn
Cl4 ・5H2 Oを溶解し、公称37%HClにS
nCl3 を溶解することによりSnCl4 /SbC
l3/HClストック溶液を調製した。これらを、Sb
1部に対してSnO2 が10部である等量を与える
比率で合わせ、水で希釈して 0.215gSnO2
/mlおよび0.0215 gSb/mlである等量を
含有する溶液を得た。
【0061】その後、このSn/Sb/HCl溶液 2
56mlを、スラリ−の pH を 2.0に維持する
に十分な10%NaOHと同時に、 2時間にわたって
スラリ−に添加した。このスラリ−を、pH=2.0
および90℃の温度で30分間分解し、得られた粒子を
ろ過し、洗浄して可溶塩を除去し、 120℃の温度で
一晩乾燥させた。次いで、粉末を含む乾燥させた粒子を
、空気中において 750℃で 2時間焼成した。乾燥
粉末 106gを回収した。
56mlを、スラリ−の pH を 2.0に維持する
に十分な10%NaOHと同時に、 2時間にわたって
スラリ−に添加した。このスラリ−を、pH=2.0
および90℃の温度で30分間分解し、得られた粒子を
ろ過し、洗浄して可溶塩を除去し、 120℃の温度で
一晩乾燥させた。次いで、粉末を含む乾燥させた粒子を
、空気中において 750℃で 2時間焼成した。乾燥
粉末 106gを回収した。
【0062】最終粉末生成物は、 5オ−ムの乾燥粉末
抵抗を有していた。X線蛍光分析により、この粉末は、
Sn(SnO2 として)46%、Si(SiO2 と
して)22%、Ba(BaOとして)18%、およびS
b(Sb2 O3 として) 4%を有していることが
見出された。電子顕微鏡下での検査により、この粉末は
中空のシリカシェルからなり、このシリカの表面上に均
一な2次元ネットワ−クを形成する、アンチモンがド−
プされた酸化錫微結晶を有することが見出された。この
試料を、25/100 の顔料/バインダ−配合量で試
験塗料担体と配合し、試験表面に塗布した。得られた乾
燥塗膜は、 140ランスブルク単位(Ransbur
g units)の表面伝導度を示した。 例G 導電性顔料の製造(TiO2 )
抵抗を有していた。X線蛍光分析により、この粉末は、
Sn(SnO2 として)46%、Si(SiO2 と
して)22%、Ba(BaOとして)18%、およびS
b(Sb2 O3 として) 4%を有していることが
見出された。電子顕微鏡下での検査により、この粉末は
中空のシリカシェルからなり、このシリカの表面上に均
一な2次元ネットワ−クを形成する、アンチモンがド−
プされた酸化錫微結晶を有することが見出された。この
試料を、25/100 の顔料/バインダ−配合量で試
験塗料担体と配合し、試験表面に塗布した。得られた乾
燥塗膜は、 140ランスブルク単位(Ransbur
g units)の表面伝導度を示した。 例G 導電性顔料の製造(TiO2 )
【0063】(A)撹拌された18リットルのポリエチ
レンビーカ内で、6.8m2 の表面積を有する純度9
7%のルチルチタニア粉末を水6リットル中に分散させ
た。NaOHでpHを10.0にした。例Fのケイ酸ナ
トリウム貯蔵液 454ml(これは1989年8月
2日に出願された米国特許出願第07/386,765
号の例1に対応する)を、この撹拌スラリーに添加した
。スチームの直接導入により、該スラリーを90℃で1
時間半加熱した。次いで、pHが7に達するまで、10
%硫酸を2時間かけて徐々に添加した。このスラリーを
90℃且つpH7で更に1時間半保持し、得られたシリ
カ被覆されたチタニア粒子を濾別し、洗浄して可溶性塩
を除去し、120 ℃の温度で一晩乾燥した。3108
gの粉末が回収された。
レンビーカ内で、6.8m2 の表面積を有する純度9
7%のルチルチタニア粉末を水6リットル中に分散させ
た。NaOHでpHを10.0にした。例Fのケイ酸ナ
トリウム貯蔵液 454ml(これは1989年8月
2日に出願された米国特許出願第07/386,765
号の例1に対応する)を、この撹拌スラリーに添加した
。スチームの直接導入により、該スラリーを90℃で1
時間半加熱した。次いで、pHが7に達するまで、10
%硫酸を2時間かけて徐々に添加した。このスラリーを
90℃且つpH7で更に1時間半保持し、得られたシリ
カ被覆されたチタニア粒子を濾別し、洗浄して可溶性塩
を除去し、120 ℃の温度で一晩乾燥した。3108
gの粉末が回収された。
【0064】(B)高速ミキサーを用い、上記(A)で
調整された粉末 100gを水1リットル中に分散した
。このスラリーを、撹拌された3リットルのガラスフラ
スコに移し、炭酸バリウム粉末 200gを添加した。 次いで、スラリーを90℃に加熱し、塩酸の添加により
pHを 2.0に調整した。次に、10%のNaOH溶
液を添加することによりpHを2.0 に維持しつつ、
197 mlのSnCl4 /SbCl3 /HCl溶
液を2時間に亘ってスラリーに添加した。該SnCl4
/SbCl3 /HCl溶液は例Fで調整されたもの
で(1989年 8月 2日に出願された米国特許出願
番号07/386,765号の例1に対応する)、0.
254gSnO2 /ml 、0.0262g Sb/
ml 当量を含有している。 この同時添加の終了後、該スラリーは更に1時間半だけ
90℃、pH2.0 に保持された。
調整された粉末 100gを水1リットル中に分散した
。このスラリーを、撹拌された3リットルのガラスフラ
スコに移し、炭酸バリウム粉末 200gを添加した。 次いで、スラリーを90℃に加熱し、塩酸の添加により
pHを 2.0に調整した。次に、10%のNaOH溶
液を添加することによりpHを2.0 に維持しつつ、
197 mlのSnCl4 /SbCl3 /HCl溶
液を2時間に亘ってスラリーに添加した。該SnCl4
/SbCl3 /HCl溶液は例Fで調整されたもの
で(1989年 8月 2日に出願された米国特許出願
番号07/386,765号の例1に対応する)、0.
254gSnO2 /ml 、0.0262g Sb/
ml 当量を含有している。 この同時添加の終了後、該スラリーは更に1時間半だけ
90℃、pH2.0 に保持された。
【0065】得られた粒子を濾過し、洗浄して塩類を除
去し、120 ℃の温度で一晩乾燥した。次いで、この
粉末を600 ℃の空気中で2時間か焼した。155g
の粉末が回収された。この乾燥粉末の比抵抗は3オーム
であった。X線蛍光分析によると、該粉末は32%のS
n(SnO2 として)、 4%Si(SiO2 とし
て)、 4%Sb(Sb2 O3 として)および60
%Ti(TiO2 として)を含有していた。
去し、120 ℃の温度で一晩乾燥した。次いで、この
粉末を600 ℃の空気中で2時間か焼した。155g
の粉末が回収された。この乾燥粉末の比抵抗は3オーム
であった。X線蛍光分析によると、該粉末は32%のS
n(SnO2 として)、 4%Si(SiO2 とし
て)、 4%Sb(Sb2 O3 として)および60
%Ti(TiO2 として)を含有していた。
【0066】粉末を電子顕微鏡で試験することによって
、チタニア粒子はシリカで被覆されていること、および
該シリカ表面は微結晶酸化錫で被覆されていることが明
らかになった。アンチモン含有酸化錫の結晶は、シリカ
表面に二次元ネットワークとして均一に分散されていた
。この粉末の等電点は 3.1と測定された。窒素吸着
によると、表面積は15.4m2 /g、平均孔径は9
nmであった。X線回折のライン幅拡大によって、酸化
錫結晶の寸法は15nmと決定された。トランスミッシ
ョン電子顕微鏡によって、アンチモン含有酸化錫微結晶
の平均寸法は9nmと決定された。最終製品は、3.2
オームの乾燥粉末抵抗を有していた。 例H 導電性顔料の製造(マイカ核)
、チタニア粒子はシリカで被覆されていること、および
該シリカ表面は微結晶酸化錫で被覆されていることが明
らかになった。アンチモン含有酸化錫の結晶は、シリカ
表面に二次元ネットワークとして均一に分散されていた
。この粉末の等電点は 3.1と測定された。窒素吸着
によると、表面積は15.4m2 /g、平均孔径は9
nmであった。X線回折のライン幅拡大によって、酸化
錫結晶の寸法は15nmと決定された。トランスミッシ
ョン電子顕微鏡によって、アンチモン含有酸化錫微結晶
の平均寸法は9nmと決定された。最終製品は、3.2
オームの乾燥粉末抵抗を有していた。 例H 導電性顔料の製造(マイカ核)
【0067】(A)8.7 m2 /gの表面積を有す
る湿式粉砕されたムスコバイトマイカ(Muscovi
te mica)を、0.8 %のトリエタノールアミ
ンと共に、2000mlの蒸留水中に分散させた。プロ
セス温度を90℃に上昇させ、残りの水性加工の間この
温度を保持した。20%NaOHでpHを10.0にし
、50gの3.29比硅酸カルシウム(25%SiO2
)を2分間に亘ってスラリーに添加した。次いで、2
0%HClを2時間に亘ってスラリーに添加し、pHを
8.0 にした。
る湿式粉砕されたムスコバイトマイカ(Muscovi
te mica)を、0.8 %のトリエタノールアミ
ンと共に、2000mlの蒸留水中に分散させた。プロ
セス温度を90℃に上昇させ、残りの水性加工の間この
温度を保持した。20%NaOHでpHを10.0にし
、50gの3.29比硅酸カルシウム(25%SiO2
)を2分間に亘ってスラリーに添加した。次いで、2
0%HClを2時間に亘ってスラリーに添加し、pHを
8.0 にした。
【0068】更に、20%HClでpHを7.0 に調
節し、スラリーを30分間撹拌した。次に、20%HC
lでpHを2.0 に調節し、220gのCaCl2
を5分間に亘って浴中に添加した。220 mlのSn
Cl4 溶液(0.045gSnO2 /ml)および
42mlのSbCl3 溶液(0.235gSb/ml
)を一緒に混合し、20%NaOHの添加でpHを2.
0 に維持しながら、これを2時間に亘ってスラリーに
添加した。該スラリーを、30分間に亘って90℃且つ
pH2に維持した。次いでこれを濾過し、可溶性塩類を
含まないように洗浄し、120 ℃で12時間乾燥した
。
節し、スラリーを30分間撹拌した。次に、20%HC
lでpHを2.0 に調節し、220gのCaCl2
を5分間に亘って浴中に添加した。220 mlのSn
Cl4 溶液(0.045gSnO2 /ml)および
42mlのSbCl3 溶液(0.235gSb/ml
)を一緒に混合し、20%NaOHの添加でpHを2.
0 に維持しながら、これを2時間に亘ってスラリーに
添加した。該スラリーを、30分間に亘って90℃且つ
pH2に維持した。次いでこれを濾過し、可溶性塩類を
含まないように洗浄し、120 ℃で12時間乾燥した
。
【0069】この乾燥生成物を、75℃で2時間か焼し
た。X線蛍光分析によると、該粉末は33.1%のSn
(SnO2 として)、4.0 %Sb(Sb2 O3
として)、31.2%Si(SiO2 として)、2
2.0%Al(Al2 O3 として)および6.3
%K(K2O3 として)を含有することが分かった。 X線回折のライン幅拡大によると、酸化錫の平均結晶寸
法は7nmであった。例I導電性被覆塗料浴の製造(マ
イカ核) 下記のような陽極電気被覆塗料浴を調製した:
た。X線蛍光分析によると、該粉末は33.1%のSn
(SnO2 として)、4.0 %Sb(Sb2 O3
として)、31.2%Si(SiO2 として)、2
2.0%Al(Al2 O3 として)および6.3
%K(K2O3 として)を含有することが分かった。 X線回折のライン幅拡大によると、酸化錫の平均結晶寸
法は7nmであった。例I導電性被覆塗料浴の製造(マ
イカ核) 下記のような陽極電気被覆塗料浴を調製した:
【007
0】乳酸をバックボーン樹脂と混合した。この混合物に
、導電性TiO2 ミルベース、DBTOペースト及び
脱イオン水を撹拌しながらこの順序で添加した。 これによって、50/100 の顔料/バインダ比と、
20%の固形分を有する80%の中和塗料浴が製造され
た。電気被覆に先立って、溶媒を蒸発させるために、こ
の浴は開放容器内で約24時間撹拌された。浴のpHは
5.3 であり、1900マイクロムホー/cm(mi
cro mho’s/cm)の導電性を有していた。
0】乳酸をバックボーン樹脂と混合した。この混合物に
、導電性TiO2 ミルベース、DBTOペースト及び
脱イオン水を撹拌しながらこの順序で添加した。 これによって、50/100 の顔料/バインダ比と、
20%の固形分を有する80%の中和塗料浴が製造され
た。電気被覆に先立って、溶媒を蒸発させるために、こ
の浴は開放容器内で約24時間撹拌された。浴のpHは
5.3 であり、1900マイクロムホー/cm(mi
cro mho’s/cm)の導電性を有していた。
【0071】この浴を85°Fに加熱し、直流225
ボルトを用いることにより2分間、リン酸亜鉛処理され
た冷間圧延鋼パネルを陽極的に電気被覆した。リンスし
た後、これらパネルを 325°Fのオーブン中で30
分間キュアさせることにより、厚さ 0.8〜1.1
ミルの硬化被膜が得られた。ランスブルグ噴霧可能メー
タ(Ransburg Sprayability M
eter )、#236 型を用いて測定したところ、
これら被膜は約 160ランスブルグ単位の導電性を有
していた。 例II 例Iのパネルの再電着
ボルトを用いることにより2分間、リン酸亜鉛処理され
た冷間圧延鋼パネルを陽極的に電気被覆した。リンスし
た後、これらパネルを 325°Fのオーブン中で30
分間キュアさせることにより、厚さ 0.8〜1.1
ミルの硬化被膜が得られた。ランスブルグ噴霧可能メー
タ(Ransburg Sprayability M
eter )、#236 型を用いて測定したところ、
これら被膜は約 160ランスブルグ単位の導電性を有
していた。 例II 例Iのパネルの再電着
【0072】例Iで被覆し、濯ぎ、及び焼付けして、0
.8〜1.1ミルのフィルム形成を有する、燐酸亜鉛処
理した冷間圧延鋼パネルの若干を例Iと同一の導電性塗
料浴に浸漬し、225ボルトDCを用いて2分間カソー
ド的に再電着した。濯いだ後、これらのパネルを325
°F炉で30分間硬化して、全硬化フィルム形成が1.
6〜2.2ミルとなった。これらの再電着フィルムは、
硬化後、Ransburg Sprayability
meter, Model 236で測定すると約1
50ランスバーグ単位の導電性を有していた。
.8〜1.1ミルのフィルム形成を有する、燐酸亜鉛処
理した冷間圧延鋼パネルの若干を例Iと同一の導電性塗
料浴に浸漬し、225ボルトDCを用いて2分間カソー
ド的に再電着した。濯いだ後、これらのパネルを325
°F炉で30分間硬化して、全硬化フィルム形成が1.
6〜2.2ミルとなった。これらの再電着フィルムは、
硬化後、Ransburg Sprayability
meter, Model 236で測定すると約1
50ランスバーグ単位の導電性を有していた。
【0073】例Iで電着したパネル及び例IIで再電着
したパネルを切断して、冷間圧延鋼基体及び鋼基体の面
、端及び裏を被覆する電着塗料フィルムの断面を露出さ
せた。この断面を90倍に拡大して写真をとり、沈着し
たフィルムの厚みを種々の点、特に面−エッジ結合部及
び裏−エッジ結合部に形成される鋭利なエッジ部分で測
定した。これらの結果は、米国特許第 4,397,9
90号及び第 4,419,467号明細書に一般に記
載されたタイプの通常の市販のワンコートカソード電着
処方で電着したパネルと比較した。これらの写真からは
、導電性顔料を含まない通常のワンコートカソード電着
処方に比較して、例I及びIIのパネル端のフィルム被
覆が肉眼でかつ測定できる増加を示していた。
したパネルを切断して、冷間圧延鋼基体及び鋼基体の面
、端及び裏を被覆する電着塗料フィルムの断面を露出さ
せた。この断面を90倍に拡大して写真をとり、沈着し
たフィルムの厚みを種々の点、特に面−エッジ結合部及
び裏−エッジ結合部に形成される鋭利なエッジ部分で測
定した。これらの結果は、米国特許第 4,397,9
90号及び第 4,419,467号明細書に一般に記
載されたタイプの通常の市販のワンコートカソード電着
処方で電着したパネルと比較した。これらの写真からは
、導電性顔料を含まない通常のワンコートカソード電着
処方に比較して、例I及びIIのパネル端のフィルム被
覆が肉眼でかつ測定できる増加を示していた。
【0074】通常の市販の電着塗料フィルムは鋭利な端
の厚さが0.148ミル〜0.394ミルであるのに対
し、鋭利な端の厚さがワンコート導電性フィルムでは0
.197ミル〜0.738ミルで、2−コート又は再電
着導電性フィルムでは0.641ミル〜1.130ミル
であった。 例III 例Iのパネルの再電着 例Iのパネルの若干を米国特許第 4,397,990
号及び第 4,419,467号明細書に記載され開示
された通常の市販のカソード塗料浴を用いて再電着した
。
の厚さが0.148ミル〜0.394ミルであるのに対
し、鋭利な端の厚さがワンコート導電性フィルムでは0
.197ミル〜0.738ミルで、2−コート又は再電
着導電性フィルムでは0.641ミル〜1.130ミル
であった。 例III 例Iのパネルの再電着 例Iのパネルの若干を米国特許第 4,397,990
号及び第 4,419,467号明細書に記載され開示
された通常の市販のカソード塗料浴を用いて再電着した
。
【0075】例Iで被覆し、濯ぎ、及び焼付けして、0
.8〜1.1ミルの硬化フィルム形成を有する、燐酸亜
鉛処理した冷間圧延鋼パネルを(上述した)通常の市販
のカソード電着浴に浸漬し、250ボルトDCを用いて
2分間再電着した。濯いだ後、これらのパネルを325
°F炉で30分間焼付けて、全フィルム形成が2.0〜
2.3ミルとなった。 例VI 電着塗料浴の調製
.8〜1.1ミルの硬化フィルム形成を有する、燐酸亜
鉛処理した冷間圧延鋼パネルを(上述した)通常の市販
のカソード電着浴に浸漬し、250ボルトDCを用いて
2分間再電着した。濯いだ後、これらのパネルを325
°F炉で30分間焼付けて、全フィルム形成が2.0〜
2.3ミルとなった。 例VI 電着塗料浴の調製
【0076】この乳酸をバックボーン樹脂と混合した。
これに、導電性顔料ミルベース、DBTOペースト及び
脱イオン水を順に加えて混合した。固体分20%及び3
0/100の顔料対バインダー比の80%中和塗料浴が
得られた。この浴を24時間開放容器中で撹拌して電着
前に溶剤を蒸発させた。浴の pHは5.6で、伝導度
は2050マイクロmho’s/cmであった。この浴
を85°Fに加熱し、燐酸亜鉛処理した冷間圧延鋼パネ
ルを175ボルトDCを用いて2分間カソード電着した
。次いでパネルを325°F炉で30分間焼付けて、硬
化フィルム形成が0.8〜1.1ミル厚みとなった。こ
れらのフィルムは、Ransburg Sprayab
ility meter,Model 236で測定す
ると約150ランスバーグ単位の導電性を有した。
脱イオン水を順に加えて混合した。固体分20%及び3
0/100の顔料対バインダー比の80%中和塗料浴が
得られた。この浴を24時間開放容器中で撹拌して電着
前に溶剤を蒸発させた。浴の pHは5.6で、伝導度
は2050マイクロmho’s/cmであった。この浴
を85°Fに加熱し、燐酸亜鉛処理した冷間圧延鋼パネ
ルを175ボルトDCを用いて2分間カソード電着した
。次いでパネルを325°F炉で30分間焼付けて、硬
化フィルム形成が0.8〜1.1ミル厚みとなった。こ
れらのフィルムは、Ransburg Sprayab
ility meter,Model 236で測定す
ると約150ランスバーグ単位の導電性を有した。
Claims (11)
- 【請求項1】 (a)架橋性樹脂、(b)架橋剤、お
よび(c)顔料からなる陰極電着性組成物であって、該
顔料が、アモルファスシリカまたはシリカ含有酸化錫微
結晶を含み、アンチモンを該酸化錫に対し1ないし30
重量%を含む導電性顔料であることを特徴とする陰極電
着性組成物。 - 【請求項2】 該導電性顔料が、アモルファスシリカ
またはシリカ含有物質の造粒体、または不活性核物質に
アモルファスシリカまたはシリカ含有物質をコ−ティン
グした造粒体であって、これにアンチモン含有酸化錫微
結晶の2次元導電性ネットワ−クを表面コ−ティングし
たものである請求項1に記載の陰極電着性組成物。 - 【請求項3】 該造粒体がアモルファスシリカまたは
シリカ含有物質の中空シェルからなるものである請求項
2に記載の陰極電着性組成物。 - 【請求項4】 該シリカ含有物質が、金属シリケ−ト
、シリカ含有ガラス、およびSiO4 単位を含む共有
結合ネットワ−クを有するものの中から選ばれるもので
ある請求項2に記載の陰極電着性組成物。 - 【請求項5】 該シリカ含有物質が、シリカ−ボリア
である請求項4に記載の陰極電着性組成物。 - 【請求項6】 不活性核物質がTiO2 またはマイ
カである請求項2に記載の陰極電着性組成物。 - 【請求項7】 架橋性樹脂がエポキシ−アミン付加物
である請求項1に記載の陰極電着性組成物。 - 【請求項8】 架橋剤がブロックドポリイソシアネ−
トである請求項1に記載の陰極電着性組成物。 - 【請求項9】 (a)フィルム形成ポリマ−を有する
を、金属基板上に陰極電着する工程と、(b)この電着
された金属基板を焼成して該フィルム形成ポリマ−を硬
化させる工程と、 (c)さらに、このフィルム形成ポリマ−を硬化させた
基板に、第2の陰極電着性組成物を再び電着する工程と
、 を具備してなり、該第1の陰極電着性組成物が、アモル
ファスシリカまたはシリカ含有酸化錫微結晶を含み、ア
ンチモンを該酸化錫に対し1ないし30重量%を含む導
電性顔料を含有することを特徴とする陰極電着方法。 - 【請求項10】 該導電性顔料が、アモルファスシリ
カまたはシリカ含有物質の造粒体、または不活性核物質
にアモルファスシリカまたはシリカ含有物質をコ−ティ
ングした造粒体であって、これにアンチモン含有酸化錫
微結晶の2次元導電性ネットワ−クを表面コ−ティング
したものであることを特徴とする請求項9に記載の陰極
電着方法。 - 【請求項11】 不活性核物質がTiO2 またはマ
イカであることを特徴とする請求項10に記載の陰極電
着方法。
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