JPH0421813A - 光ビーム走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体レーザ等の光ビームを集光して走査す
るために用いられる光ビーム走査装置に関するものであ
る。

従来の技術 従来、光ビーム走査装置として、一般には特開昭６２−
２８７０８号公報に記載された構成が知られている。以
下、第２図及び第３図を参照しながら従来の光ビーム走
査装置について説明する。

第２図は従来例における光ビーム走査装置を示２１＼−
ノ す側面図である。第２図において、２１は円板状のホロ
グラムスキャナであり、モータ（図示省略）の駆動によ
シ軸２２を中心として回転する。２３は半導体レーザ、
２４は収差補正用ホログラムレンズである。

そして、半導体レーザ２３から出射した発散球面波２５
は、収益補正用ホログラムレンズ２４に入射する。収差
補正用ホログラムレンズ２４で回析された回折波２６は
、軸２２を中心として回転する円板状のホログラムスキ
ャナ２１１にビーム径ＤＨで入射する。ホログラムスキ
ャナ２１からの収束球面波である回折波２７は、フォト
コンドラム′（図示省略）である投影面上の結像点２８
に結像し、ホログラムスキャナ２１の回転によシ走査が
行われる。

以上のような構成において、収差補正用ホログラムレン
ズ２４は、適切な回折角に設定され、半導体レーザ２３
の縦モードの波長のホッピングに対して結像点２８がず
れないように設定される。

第３図はモードホッピングによる影響を防止す３・＼−
７ るための光ビーム走査装置の具体的な設計例を示してい
る。直線走査ホログラムスキャナ２１の設計パラメータ
として、作製時の２つの発散球面波光源Ａ１およびＡ２
ｔでのホログラムスキャナ２１からの距離ｆｎｔ＝＝ｆ
　［２：１２５．７ｍｍ、中心軸２２からホログラム入
射点Ｐまでの半径Ｒ＝４０ｍ、ホログラム入射点Ｐから
２つの光源Ａ１およびＡ２までのｙ座標上の距離Ｒ＝４
０闘、ホログラム入射角θ１＝４７．２５°に定め、　
ホログラム作製用に波長３２５　ｎ　ｍのＨｅＣｄレー
ザ、再生用に波長７８７ｎｍの半導体レーザを用いるこ
とを仮定して設言１している。

ここで、ホログラムレンズ２４の中心回折角を６４．２
８°とすれば、モードホッピングの影響を最小限に抑制
した光ビーム走査装置を提供することができる。

発明が解決しようとする課題 しかし、以上のような従来例の構成では、再生用レーザ
光のホログラムレンズに対する入射角は０°に限定され
ているため、ホログラムレンズの回折効率を十分に大き
な値にすることが不可能であるという課題を有していた
。

本発明は、上記のような従来技術の課題を解決するもの
であり、回折効率が最大で、かつ再生用レーザ光の波長
の変動があっても、その影響を小さくすることができる
ようにした光ビーム走査装置を提供することを目的とす
るものである。

課題を解決するだめの手段 上記目的を達成するため、本発明の技術的解決手段は、
少なくとも再生用レーザ光を出射するレーザ光源と、入
射する光ビームを回折するホログラムとを（＋ｉｉｉえ
、上記ホログラムが」二記再生用レーザ光の波長よシも
長い波長のレーザ光を用いて作製されたものである。

そして、上記ホログラムの作製に際し、計算機により設
計する場合において、再生用レーザ光の波長よりも長い
波長のレーザ光を想定してホログラムを設計することが
できる。

作　　　用 本発明は、上記構成によシ、再生用レーザ光の５ベー／ 波長が変動しても、作製用レーザ光の波長に比較し、そ
の比率が小さく、再生用レーザ光の波長変動の影響を受
けにくくなる。

実施例 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。

第１図は本発明の一実施例における光ビーム走査装置を
示す斜視図である。

第１図において、１は円板状のホログラムスキャナであ
り、モータ（図示省略）の駆動によシ軸２を中心として
回転する円板３の外周部にホログラム４が複数組（図示
例では８組）配置されている。５は半導体等のレーザ光
源、６はフォトコンドラムの投影面である。

そして、レーザ光源５から出射した再生用レーザ光７は
軸２を中心にして回転するホログラム４にビーム径ＤＨ
で入射する。ホログラム４からの収束波である回折波８
は投影面６上の結像点９に結像し、ホログラムスキャナ
１の回転に伴い、走査が行われる。

６ページ 以上の構成において、ホログラム４は、再生用レーザ光
７の波長よりも長い波長のレーザ光で作製されている。

今、ホログラム４の位相伝達関数をｕＨ（ｘ。

ｙ）、入射、回折波の位相をグＩＮ（Ｘ、）’）、ｐｏ
ＵＴ（ｘ、’／　）とすると、次式の関係がある。

〆ＯＵＴ　（Ｘ、　　ｙ　）＝〆Ｈ（Ｘ、ｙ）＋（Ｘ、
ｙ）・・・（１） ここで、再生用レーザ光７の波長をλｃ１作製用レーザ
光の波長をλとすると、ｙＸＮ（ｘ、ｙ）とｏｎ（ｘ、
ｙ）は次のように表わすことができる。

２π ｙＩＨ（ｘｔ　ｙ　）−７−ｆｕ　（ｘｓ　ｙ　）　　
　　　・・・（２）２π ダＩＮ（ｘｔ　　ｙ　）−−ｆＩＮ　（ｚ、　　ｙ　）
　　　　　・・・（３）λＣ したがって、回折波の方向を決める光線単位ベクトルＳ
は次式で表わすことができる。

λＣ ８−２、ｇｒａｄ　０ＯＵＴ λＣ ７ｇｒａｄ　ｆＨ＋ｇｒａｄ　ｆ　ＩＮ・・・（４） ７・＼−７ 上式（４）より、再生用レーザ光７の波長λＣが変動し
たとき、作製用レーザ光の波長λに対する比率が十分小
さければ、その波長変動による影響を無視することがで
きる。すなわち、再生用レーザ光７の波長λＣよりも、
作製用レーザ光の波長λを長くすることにより、再生用
レーザ光７の波長λＣが変動しても、その影響の少ない
光ビーム走査装置を構成することが可能となる。

以１−においては、ホログラム４が１枚の場合において
説明したが、ホログラム４が１枚以上の場合についても
全く同様であるので、その説明を省略する。

発明の効果 以上述べたように本発明によれば、ホログラムを再生用
レーザ光の波長よシも長い波長のレーザ光を用いて作製
しているので、再生用レーザ光の波長が変動しても、作
製用レーザ光の波長に比較し、その比率が小さく、再生
用レーザ光の波長変動の影響を小さくすることができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における光ビーム走査装置を
示す斜視図、第２図は従来例における光ビーム走査装置
を示す側面図、第３図は同光ビーム走査装置の具体的な
設計例を示す図である。 １・・・ホログラムスキャナ、４・・・ホログラム、５
・・・光源、６・・・投影面、７・・・再生用レーザ光
。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 少なくとも再生用レーザ光を出射するレーザ光源と、入
   射する光ビームを回折するホログラムとを備え、上記ホ
   ログラムが上記再生用レーザ光の波長よりも長い波長の
   レーザ光を用いて作製されたことを特徴とする光ビーム
   走査装置。