JPH04214183A - 連続炉 - Google Patents
連続炉Info
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- JPH04214183A JPH04214183A JP40026790A JP40026790A JPH04214183A JP H04214183 A JPH04214183 A JP H04214183A JP 40026790 A JP40026790 A JP 40026790A JP 40026790 A JP40026790 A JP 40026790A JP H04214183 A JPH04214183 A JP H04214183A
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Landscapes
- Tunnel Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックの焼成、プ
ラスチックの乾燥、菓子の製造、食品の乾燥、等に使用
する連続炉に関する。
ラスチックの乾燥、菓子の製造、食品の乾燥、等に使用
する連続炉に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の連続炉では、ガス抜き帯で発生す
るガスを換気扇により一定して排出している。
るガスを換気扇により一定して排出している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、従来の連続
炉は以下の様な欠点がある。
炉は以下の様な欠点がある。
【0004】(あ)原料を密集して連続炉を通過させる
とガスが大量に発生し、換気が不十分になる。
とガスが大量に発生し、換気が不十分になる。
【0005】(い)常に換気能力を高めておくようにす
ると、ガス抜き帯を加熱する加熱手段のロスが増大する
。
ると、ガス抜き帯を加熱する加熱手段のロスが増大する
。
【0006】本発明の目的は、冗長性に優れる連続炉の
提供にある。
提供にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題の解決のため、
本発明は、入口近傍に位置し、炉内を第1加熱手段によ
り加熱して原料からガスを抜くガス抜き帯と、該ガス抜
き帯より後部に位置し、炉内を第2加熱手段により加熱
して、前記ガス抜き帯を通過した原料の乾燥や焼成を行
う加熱帯とを備え、前記ガス抜き帯に付設した排出手段
により前記ガスを炉外に排出する連続炉において、前記
排出手段は、前記ガスのガス濃度に基づいて排出能力が
調節される構成を採用した。
本発明は、入口近傍に位置し、炉内を第1加熱手段によ
り加熱して原料からガスを抜くガス抜き帯と、該ガス抜
き帯より後部に位置し、炉内を第2加熱手段により加熱
して、前記ガス抜き帯を通過した原料の乾燥や焼成を行
う加熱帯とを備え、前記ガス抜き帯に付設した排出手段
により前記ガスを炉外に排出する連続炉において、前記
排出手段は、前記ガスのガス濃度に基づいて排出能力が
調節される構成を採用した。
【0008】
【実施例】つぎに、本発明の一実施例を図1に基づき説
明する。
明する。
【0009】図1に示す如く、連続焼成炉Aは、ガス抜
き帯1、加熱帯2、冷却帯3を備え、ガス抜き帯1に付
設した排出手段4により排ガスを外部に排出する。また
、この連続焼成炉A(全長数十m)は、耐火物で成形さ
れ、駆動ドラム100、110にメッシュベルト120
(毎秒数十cmで駆動される)が掛け渡されて鋳る。 尚、原料5は図示左側の入口11から搬入され、製品5
0は図示右側の出口から搬出される。
き帯1、加熱帯2、冷却帯3を備え、ガス抜き帯1に付
設した排出手段4により排ガスを外部に排出する。また
、この連続焼成炉A(全長数十m)は、耐火物で成形さ
れ、駆動ドラム100、110にメッシュベルト120
(毎秒数十cmで駆動される)が掛け渡されて鋳る。 尚、原料5は図示左側の入口11から搬入され、製品5
0は図示右側の出口から搬出される。
【0010】ガス抜き帯1は、入口11近傍に位置する
。このガス抜き帯は、炉内が所定温度(入口100℃、
中央200℃、後部600℃)となるように温度調節器
(図示せず)付のニクロムヒータ12により加熱される
。
。このガス抜き帯は、炉内が所定温度(入口100℃、
中央200℃、後部600℃)となるように温度調節器
(図示せず)付のニクロムヒータ12により加熱される
。
【0011】加熱帯2は、ガス抜き帯1より後部に位置
し、ガス抜き帯1側に位置する余熱部21(温度120
0℃)と冷却帯3側に位置する焼成部22(温度160
0℃)からなり、エレマヒータ23により炉内を加熱し
て、ガス抜き帯1を通過した原料5の焼成を行う。
し、ガス抜き帯1側に位置する余熱部21(温度120
0℃)と冷却帯3側に位置する焼成部22(温度160
0℃)からなり、エレマヒータ23により炉内を加熱し
て、ガス抜き帯1を通過した原料5の焼成を行う。
【0012】冷却帯3は、自然冷却(強制空冷、水冷等
でも良い)により、加熱帯2を通過した製品50を室温
迄、冷却する。排出手段4は、シロッコファン41、排
ガスパイプ42、排気ダクト43、湿度センサ44、二
酸化炭素センサ45、ファン制御装置46を備える。
でも良い)により、加熱帯2を通過した製品50を室温
迄、冷却する。排出手段4は、シロッコファン41、排
ガスパイプ42、排気ダクト43、湿度センサ44、二
酸化炭素センサ45、ファン制御装置46を備える。
【0013】シロッコファン41は、ファン制御装置4
6により通電量を二段階に切り替えられる。これにより
、二段階の排出能力(回転数)が付与される。
6により通電量を二段階に切り替えられる。これにより
、二段階の排出能力(回転数)が付与される。
【0014】排ガスパイプ42は、ガス抜き帯1の四箇
所から纏められてシロッコファン41に連結されている
。
所から纏められてシロッコファン41に連結されている
。
【0015】排気ダクト43は、シロッコファン41と
排気口47とを連通している。温度センサ44は、入口
11近傍(100℃部位)に配設され、該場所における
排気ガス40中の二酸化炭素の濃度を測定する。
排気口47とを連通している。温度センサ44は、入口
11近傍(100℃部位)に配設され、該場所における
排気ガス40中の二酸化炭素の濃度を測定する。
【0016】ファン制御装置46は、湿度センサ44が
80%以上の相対湿度を検出するか、または、二酸化炭
素センサ45が2%以上の二酸化炭素の濃度を検出する
とシロッコファン41への通電量を所定時間の間(数分
)第二段階に変更する。
80%以上の相対湿度を検出するか、または、二酸化炭
素センサ45が2%以上の二酸化炭素の濃度を検出する
とシロッコファン41への通電量を所定時間の間(数分
)第二段階に変更する。
【0017】原料5は、アルミナ90重量%、珪素3.
3重量%、酸化カルシウム3重量%、酸化マグネシウム
3重量%からなるセラミック素材に、有機バインダーと
して、セルローズ3〜5重量%、パラフィン3〜5 重
量%、水0.5重量%を含有させて所定形状に成形した
ものである。尚、上記バインダーは、100℃〜300
℃のガス抜き帯1、および入口11近傍を満たす。
3重量%、酸化カルシウム3重量%、酸化マグネシウム
3重量%からなるセラミック素材に、有機バインダーと
して、セルローズ3〜5重量%、パラフィン3〜5 重
量%、水0.5重量%を含有させて所定形状に成形した
ものである。尚、上記バインダーは、100℃〜300
℃のガス抜き帯1、および入口11近傍を満たす。
【0018】つぎに、連続焼成炉Aの作用効果を述べる
。
。
【0019】(ア)排気が不十分で、排気ガス40中の
相対湿度が80%を越えるか、二酸化炭素の濃度が2%
を越えると、入口11近傍の原料5は排気ガス40を吸
収して塑性現象により自重で変形が起こり、原料5がガ
ス抜き帯1(200℃〜300℃)を移動する際、アル
ミナ造粒粒子間を広げる様に排気ガス40が放出される
為、キレが発生し、製品50の出来栄えが悪くなる。し
かし、本実施例では、上記の様な状態となると、シロッ
コファン41が所定時間の間、高速回転するので排気ガ
スは速やかに排出される。
相対湿度が80%を越えるか、二酸化炭素の濃度が2%
を越えると、入口11近傍の原料5は排気ガス40を吸
収して塑性現象により自重で変形が起こり、原料5がガ
ス抜き帯1(200℃〜300℃)を移動する際、アル
ミナ造粒粒子間を広げる様に排気ガス40が放出される
為、キレが発生し、製品50の出来栄えが悪くなる。し
かし、本実施例では、上記の様な状態となると、シロッ
コファン41が所定時間の間、高速回転するので排気ガ
スは速やかに排出される。
【0020】このため、原料5を密集して連続焼成炉A
を通過させて排気ガス40の発生量が多くなっても、排
気ガス40の充満に起因する製品50の悪化は起こらな
い。また、排ガスパイプ42や排気ダクト43がミスト
やカーボン等で詰まり気味となり、排気が悪くなっても
ガス抜き帯1に排気ガス40が充満しない。
を通過させて排気ガス40の発生量が多くなっても、排
気ガス40の充満に起因する製品50の悪化は起こらな
い。また、排ガスパイプ42や排気ダクト43がミスト
やカーボン等で詰まり気味となり、排気が悪くなっても
ガス抜き帯1に排気ガス40が充満しない。
【0021】(イ)シロッコファン41の高速回転時間
は、必要最小であるので、排気によりガス抜き帯1の温
度低下が起こらず、また、ニクロムヒータ12を加熱す
るためのエネルギーを著しく増大させなくても済む。
は、必要最小であるので、排気によりガス抜き帯1の温
度低下が起こらず、また、ニクロムヒータ12を加熱す
るためのエネルギーを著しく増大させなくても済む。
【0022】(ウ)排気ガス40中の、相対湿度と二酸
化炭素の濃度の両方でシロッコファン41の回転数制御
をしているので、どちらが多くなっても速やかに排気が
なされ、製品50の出来栄えが悪化しない。
化炭素の濃度の両方でシロッコファン41の回転数制御
をしているので、どちらが多くなっても速やかに排気が
なされ、製品50の出来栄えが悪化しない。
【0023】本発明は、上記実施例以外に、つぎの実施
態様を含む。
態様を含む。
【0024】a.排出手段の排出能力の調節は、ガスの
ガス濃度に基づいて連続的に成されても良い。
ガス濃度に基づいて連続的に成されても良い。
【0025】b.原料から複数のガスが発生する場合、
単一のガスのガス濃度に基づいて調節しても、複数のガ
スのガス濃度の基づいて調節しても良い。
単一のガスのガス濃度に基づいて調節しても、複数のガ
スのガス濃度の基づいて調節しても良い。
【0026】c.段階的に排出手段の排出能力を切り替
えている上記実施例の場合、時間経過により低能力に戻
しているが、ガス濃度が所定値置に低下したら低能力に
戻すという構成でも良い。
えている上記実施例の場合、時間経過により低能力に戻
しているが、ガス濃度が所定値置に低下したら低能力に
戻すという構成でも良い。
【0027】
【作用】第1加熱手段はガス抜き帯を加熱し、原料は、
このガス抜き帯でガスが抜かれる。
このガス抜き帯でガスが抜かれる。
【0028】第2加熱手段は加熱帯を加熱し、ガス抜き
帯を通過した原料の乾燥や焼成をこの加熱帯で行う。
帯を通過した原料の乾燥や焼成をこの加熱帯で行う。
【0029】排出手段は、ガス抜き帯のガスのガス濃度
に基づいて排出能力を上げるのでガス抜き帯にガスが充
満せず、製品への悪影響が防止できる。
に基づいて排出能力を上げるのでガス抜き帯にガスが充
満せず、製品への悪影響が防止できる。
【0030】
【発明の効果】原料の種類や処理量に起因してガスが大
量に発生しても、排出手段がガス濃度に基づいて排出能
力を上げるのでガス抜き帯にガスが充満せず、製品への
悪影響が防止できる。
量に発生しても、排出手段がガス濃度に基づいて排出能
力を上げるのでガス抜き帯にガスが充満せず、製品への
悪影響が防止できる。
【0031】ガスの発生が少ない時は、排出手段の排出
能力が下げられるので、ガス抜き帯を加熱する加熱手段
のエネルギーロスを防げる。
能力が下げられるので、ガス抜き帯を加熱する加熱手段
のエネルギーロスを防げる。
【0032】
【図1】本発明の一実施例である連続焼成炉の構造図で
ある。
ある。
1 ガス抜き帯
2 加熱帯
4 排出手段
5 原料
11 入口
12 ニクロムヒータ(第1加熱手段)23 エレ
マヒータ(第2加熱手段)40 排ガス(ガス) A 連続焼成炉(連続炉)
マヒータ(第2加熱手段)40 排ガス(ガス) A 連続焼成炉(連続炉)
Claims (1)
- 【請求項1】 入口近傍に位置し、炉内を第1加熱手
段により加熱して原料からガスを抜くガス抜き帯と、該
ガス抜き帯より後部に位置し、炉内を第2加熱手段によ
り加熱して、前記ガス抜き帯を通過した原料の乾燥や焼
成を行う加熱帯とを備え、前記ガス抜き帯に付設した排
出手段により前記ガスを炉外に排出する連続炉において
、前記排出手段は、前記ガスのガス濃度に基づいて排出
能力が調節されることを特徴とする連続炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40026790A JPH04214183A (ja) | 1990-12-04 | 1990-12-04 | 連続炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40026790A JPH04214183A (ja) | 1990-12-04 | 1990-12-04 | 連続炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04214183A true JPH04214183A (ja) | 1992-08-05 |
Family
ID=18510179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40026790A Pending JPH04214183A (ja) | 1990-12-04 | 1990-12-04 | 連続炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04214183A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6036827A (en) * | 1997-06-27 | 2000-03-14 | Lynntech, Inc. | Electrolyzer |
FR2829232A1 (fr) * | 2001-09-06 | 2003-03-07 | Air Liquide | Procede pour ameliorer le profil de temperature d'un four |
WO2008114335A1 (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-25 | Ibiden Co., Ltd. | 加熱炉及びハニカム構造体の製造方法 |
-
1990
- 1990-12-04 JP JP40026790A patent/JPH04214183A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6036827A (en) * | 1997-06-27 | 2000-03-14 | Lynntech, Inc. | Electrolyzer |
FR2829232A1 (fr) * | 2001-09-06 | 2003-03-07 | Air Liquide | Procede pour ameliorer le profil de temperature d'un four |
WO2003021174A1 (fr) * | 2001-09-06 | 2003-03-13 | L'air Liquide, Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede pour ameliorer le profil de temperature d'un four |
WO2008114335A1 (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-25 | Ibiden Co., Ltd. | 加熱炉及びハニカム構造体の製造方法 |
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