JPH042126A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH042126A JPH042126A JP10406690A JP10406690A JPH042126A JP H042126 A JPH042126 A JP H042126A JP 10406690 A JP10406690 A JP 10406690A JP 10406690 A JP10406690 A JP 10406690A JP H042126 A JPH042126 A JP H042126A
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- cleaning
- cleaned
- wafer
- semiconductor wafer
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 10
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 39
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
被洗浄物と収納治具との接触部に生じる障害の発生を防
止する洗浄装置に関し、 簡単且つ容易に設けることが可能なウェーハ支持台を洗
浄槽の底面に設けることにより、洗浄工程中に半導体ウ
ェーハとウェーハキャリアの収納溝とが接触しないよう
にすることが可能な洗浄装置の提供を目的とし、 洗浄液を導入する洗浄液導入口を下部に備え、被洗浄物
を収納する収納治具を吊着するハンガーを支持するハン
ガー支持部を上部に設けた洗浄槽内において、前記被洗
浄物を前記洗浄液導入口から導入した洗浄液で洗浄する
洗浄装置において、前記収納治具の前記被洗浄物を挿入
する収納溝と、前記被洗浄物との間に空隙を形成する支
持台を前記洗浄槽の底面に設けるよう構成する。
止する洗浄装置に関し、 簡単且つ容易に設けることが可能なウェーハ支持台を洗
浄槽の底面に設けることにより、洗浄工程中に半導体ウ
ェーハとウェーハキャリアの収納溝とが接触しないよう
にすることが可能な洗浄装置の提供を目的とし、 洗浄液を導入する洗浄液導入口を下部に備え、被洗浄物
を収納する収納治具を吊着するハンガーを支持するハン
ガー支持部を上部に設けた洗浄槽内において、前記被洗
浄物を前記洗浄液導入口から導入した洗浄液で洗浄する
洗浄装置において、前記収納治具の前記被洗浄物を挿入
する収納溝と、前記被洗浄物との間に空隙を形成する支
持台を前記洗浄槽の底面に設けるよう構成する。
本発明は、被洗浄物と収納治具との接触部に生じる障害
の発生を防止する洗浄装置に関するものである。
の発生を防止する洗浄装置に関するものである。
被洗浄物、例えば半導体ウェーハを収納する収納治具、
例えばウェーハキャリアと半導体ウエーハとが接触して
いる接触部において、洗浄が完全に行われない障害が発
生し、半導体ウェーハの品質を低下させている。
例えばウェーハキャリアと半導体ウエーハとが接触して
いる接触部において、洗浄が完全に行われない障害が発
生し、半導体ウェーハの品質を低下させている。
以上のような状況から洗浄工程において被洗浄物と収納
治具との接触部に生じる障害の発生を防止することが可
能な洗浄装置が要望されている。
治具との接触部に生じる障害の発生を防止することが可
能な洗浄装置が要望されている。
１１ａから導入されて槽内を矢印にて示すように上方向
に向けて流れて洗浄槽１１の上縁部からオーバーフロー
して排出される。
に向けて流れて洗浄槽１１の上縁部からオーバーフロー
して排出される。
洗浄工程中において半導体ウェーハ４はウェーハキャリ
ア３の収納溝３ａに収納されたままの状態で洗浄されて
いる。
ア３の収納溝３ａに収納されたままの状態で洗浄されて
いる。
従来のデイツプ方式で洗浄液をオーバーフローさせる半
導体ウェーハの洗浄装置について第４図。
導体ウェーハの洗浄装置について第４図。
第５図により詳細に説明する。
第４図は従来の洗浄装置の構造を示す図である。
図に示すように、半導体ウェーハ４は石英或いはＰＦＡ
からなるウェーハキャリア３に収納され、ウェーハキャ
リア３はハンガー１２によって洗浄槽１１の上部に設け
たハンガー支持部１１ｂで吊着されている。
からなるウェーハキャリア３に収納され、ウェーハキャ
リア３はハンガー１２によって洗浄槽１１の上部に設け
たハンガー支持部１１ｂで吊着されている。
半導体ウェーハ４は第５図（ｂ）に示すように、ウェー
ハキャリア３の収納溝３ａに挿入されている。
ハキャリア３の収納溝３ａに挿入されている。
洗浄液は洗浄槽１１の下部に設けた洗浄液導入口〔発明
が解決しようとする課題〕 以上説明した従来の洗浄装置は、第５図に示すように洗
浄工程中において半導体ウェーハ４はウェーハキャリア
３の収納溝３ａに挿入されたままの状態で洗浄されてい
るので、この半導体ウェーハ４と収納溝３ａとの間に前
工程で付着した残留薬品が付着しており、洗浄終了後に
おいてもこの薬品が半導体ウェーハ４に付着して残留し
、次工程に悪影響を及ぼすという問題点があった。
が解決しようとする課題〕 以上説明した従来の洗浄装置は、第５図に示すように洗
浄工程中において半導体ウェーハ４はウェーハキャリア
３の収納溝３ａに挿入されたままの状態で洗浄されてい
るので、この半導体ウェーハ４と収納溝３ａとの間に前
工程で付着した残留薬品が付着しており、洗浄終了後に
おいてもこの薬品が半導体ウェーハ４に付着して残留し
、次工程に悪影響を及ぼすという問題点があった。
本発明は以上のような状況から、簡単且つ容易に設ける
ことが可能なウェーハ支持台を洗浄槽の底面に設けるこ
とにより、洗浄工程中に半導体ウェーハとウェーハキャ
リアの収納溝とが接触しないようにすることが可能な洗
浄装置の提供を目的としたものである。
ことが可能なウェーハ支持台を洗浄槽の底面に設けるこ
とにより、洗浄工程中に半導体ウェーハとウェーハキャ
リアの収納溝とが接触しないようにすることが可能な洗
浄装置の提供を目的としたものである。
本発明の洗浄装置は、洗浄液を導入する洗浄液導入口を
下部に備え、被洗浄物を収納する収納治具を吊着するハ
ンガーを支持するハンガー支持部を上部に設けた洗浄槽
内において、この被洗浄物を洗浄液導入口から導入した
洗浄液で洗浄する洗浄装置において、この収納治具の被
洗浄物を挿入する収納溝と、この被洗浄物との間に空隙
を形成する支持台をこの洗浄槽の底面に設けるよう構成
する。
下部に備え、被洗浄物を収納する収納治具を吊着するハ
ンガーを支持するハンガー支持部を上部に設けた洗浄槽
内において、この被洗浄物を洗浄液導入口から導入した
洗浄液で洗浄する洗浄装置において、この収納治具の被
洗浄物を挿入する収納溝と、この被洗浄物との間に空隙
を形成する支持台をこの洗浄槽の底面に設けるよう構成
する。
即ち本発明においては、被洗浄物を収納治具の収納溝に
挿入して収納し、ハンガーで収納治具を吊着して洗浄槽
内の洗浄液中にデイツプして被洗浄物を洗浄する場合に
、洗浄槽の底面に支持台を設けているから、第３図に示
すように被洗浄物がこの支持台で支持されて収納治具の
収納溝と接触しなくなるので、この部分に薬品が残存す
ることがなくなり、被洗浄物の品質低下を防止すること
が可能となる。
挿入して収納し、ハンガーで収納治具を吊着して洗浄槽
内の洗浄液中にデイツプして被洗浄物を洗浄する場合に
、洗浄槽の底面に支持台を設けているから、第３図に示
すように被洗浄物がこの支持台で支持されて収納治具の
収納溝と接触しなくなるので、この部分に薬品が残存す
ることがなくなり、被洗浄物の品質低下を防止すること
が可能となる。
以下第１図〜第３図により本発明の一実施例のデイツプ
方式で洗浄液をオーバーフローさせる半導体ウェーハの
洗浄装置について詳細に説明する。
方式で洗浄液をオーバーフローさせる半導体ウェーハの
洗浄装置について詳細に説明する。
第１図は本発明による一実施例の洗浄装置の構造を示す
図、第２図は第１図のＡ−Ａ矢視図、第３図は第１図の
Ｂ−Ｂ断面図である。
図、第２図は第１図のＡ−Ａ矢視図、第３図は第１図の
Ｂ−Ｂ断面図である。
第１図に示すように、半導体ウェーハ４は石英或いはＰ
ＦＡからなるウェーハキャリア３に収納され、ウェーハ
キャリア３はハンガー２によって洗浄槽１の上部に設け
たハンガー支持部１ｂで吊着されるが、洗浄槽１の底面
にウェーハ支持台１ｃが設けられているので半導体ウェ
ーハ４はこのウェーハ支持台１ｃの上に載置されて、第
３図に示すようにウェーハキャリア３の収納溝３８の底
面と接触しなくなる。
ＦＡからなるウェーハキャリア３に収納され、ウェーハ
キャリア３はハンガー２によって洗浄槽１の上部に設け
たハンガー支持部１ｂで吊着されるが、洗浄槽１の底面
にウェーハ支持台１ｃが設けられているので半導体ウェ
ーハ４はこのウェーハ支持台１ｃの上に載置されて、第
３図に示すようにウェーハキャリア３の収納溝３８の底
面と接触しなくなる。
洗浄液は洗浄槽１の下部に設けた洗浄液導入口１ａから
導入されて槽内を矢印にて示すように上方向に向けて流
れて洗浄槽１の上縁部からオーバーフローして排出され
る。
導入されて槽内を矢印にて示すように上方向に向けて流
れて洗浄槽１の上縁部からオーバーフローして排出され
る。
このように洗浄工程中において半導体ウェーハ４がウェ
ーハキャリア３の収納溝３ａと接触しない状態で洗浄さ
れるので、この部分に残存している薬品が洗浄液によっ
て充分に洗浄されるようになる。
ーハキャリア３の収納溝３ａと接触しない状態で洗浄さ
れるので、この部分に残存している薬品が洗浄液によっ
て充分に洗浄されるようになる。
なお、洗浄工程中にハンガー支持部１ｂを上下してウェ
ーハキャリア３の収納溝３ａ内に半導体ウェーハ４を何
度か挿入すると、この部分の薬品をより一層洗浄され易
くすることが可能となる。
ーハキャリア３の収納溝３ａ内に半導体ウェーハ４を何
度か挿入すると、この部分の薬品をより一層洗浄され易
くすることが可能となる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、極めて
簡単な構造のウェーハ支持台を設けることにより、被洗
浄物と収納治具との間に残存する薬品などを確実に洗浄
することが可能となる利点があり、著しい信頼性向上の
効果が期待できる洗浄装置の提供が可能である。
簡単な構造のウェーハ支持台を設けることにより、被洗
浄物と収納治具との間に残存する薬品などを確実に洗浄
することが可能となる利点があり、著しい信頼性向上の
効果が期待できる洗浄装置の提供が可能である。
第１図は本発明による一実施例の洗浄装置の構造を示す
図、 第２図は第１図のＡ−Ａ矢視図、 第３図は第１図のＢ−Ｂ断面図、 第４図は従来の洗浄装置の構造を示す図、第５図は従来
の洗浄装置の問題点を説明する図、である。 図において、 １は洗浄槽、 １ａは洗浄液導入口、１ｂはハ
ンガー支持部、１ｃはウェーハ支持台、２はハンガー
３はウェーハキャリア、３ａは収納溝、
４は半導体ウェーハ、を示す。 第１図のＡ−Ａ矢視図 第２図 本発明による一実施例の洗浄装置の構造を示す間第１図 第１図のＢ−Ｂ断面図 ｆｓ３図 従来の洗浄装置の構造を示す図 第 図 （ａｌ 正 面 図 従来の洗浄装置の問題点を説明する同 第 図
図、 第２図は第１図のＡ−Ａ矢視図、 第３図は第１図のＢ−Ｂ断面図、 第４図は従来の洗浄装置の構造を示す図、第５図は従来
の洗浄装置の問題点を説明する図、である。 図において、 １は洗浄槽、 １ａは洗浄液導入口、１ｂはハ
ンガー支持部、１ｃはウェーハ支持台、２はハンガー
３はウェーハキャリア、３ａは収納溝、
４は半導体ウェーハ、を示す。 第１図のＡ−Ａ矢視図 第２図 本発明による一実施例の洗浄装置の構造を示す間第１図 第１図のＢ−Ｂ断面図 ｆｓ３図 従来の洗浄装置の構造を示す図 第 図 （ａｌ 正 面 図 従来の洗浄装置の問題点を説明する同 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 洗浄液を導入する洗浄液導入口（１ａ）を下部に備え
、被洗浄物（４）を収納する収納治具（３）を吊着する
ハンガー（２）を支持するハンガー支持部（１ｂ）を上
部に設けた洗浄槽（１）内において、前記被洗浄物（４
）を前記洗浄液導入口（１ａ）から導入した洗浄液で洗
浄する洗浄装置において、 前記収納治具（３）の前記被洗浄物（４）を挿入する収
納溝（３ａ）と、前記被洗浄物（４）との間に空隙を形
成する支持台（１ｃ）を前記洗浄槽（１）の底面に設け
たことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10406690A JPH042126A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10406690A JPH042126A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH042126A true JPH042126A (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=14370795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10406690A Pending JPH042126A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH042126A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120308346A1 (en) * | 2011-06-03 | 2012-12-06 | Arthur Keigler | Parallel single substrate processing system loader |
-
1990
- 1990-04-18 JP JP10406690A patent/JPH042126A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120308346A1 (en) * | 2011-06-03 | 2012-12-06 | Arthur Keigler | Parallel single substrate processing system loader |
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