JPH04206994A - Fabrication of multilayer ceramic composite board - Google Patents
Fabrication of multilayer ceramic composite boardInfo
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 88
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 57
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 25
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 19
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 16
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 14
- 239000002990 reinforced plastic Substances 0.000 claims description 8
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 abstract description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 14
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 8
- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 4
- YZMYIEIUAMDKKT-UHFFFAOYSA-N methanol;trimethoxy(propyl)silane Chemical compound OC.CCC[Si](OC)(OC)OC YZMYIEIUAMDKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 Zugerai l- Chemical compound 0.000 description 2
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- ZDZYGYFHTPFREM-UHFFFAOYSA-N 3-[3-aminopropyl(dimethoxy)silyl]oxypropan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](OC)(OC)OCCCN ZDZYGYFHTPFREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- CLYWMXVFAMGARU-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCC1=CC=CC=C1 CLYWMXVFAMGARU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はセラミック複合銅張積層板を用いた耐熱衝撃性
に優れたセラミック複合多層板の製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic composite multilayer board with excellent thermal shock resistance using a ceramic composite copper clad laminate.
[従来の技術]
最近、電子機器の小型化、高性能化の進歩に伴い、それ
に用いられるプリンI・配線板は高多層化あるいは回路
幅の短縮による高密度化が進められている。[Prior Art] Recently, with the progress of miniaturization and higher performance of electronic devices, the printed circuit boards and wiring boards used therein are becoming more dense by increasing the number of layers or shortening the circuit width.
従来多層板の製造方法としては、主にガラス布基)1工
ポキシ樹脂銅張積層板又はガラス布基祠ポリイミド樹脂
銅張積層板を用い、これらの銅張積層板の銅を内層とし
て使用するため〜エツチングにより回路パターンを形成
した後、その−にに多層化接着用プリプレグを介して片
面銅張積層板又は銅箔を接着し、しかる後基準穴によっ
て内層の回路パターンとの位置合わぜをして外層の回路
パターンを形成していく方法か用いられている。Conventional methods for producing multilayer boards have mainly used glass cloth-based one-piece poxy resin copper-clad laminates or glass cloth-based polyimide resin copper-clad laminates, and the copper of these copper-clad laminates is used as the inner layer. After forming a circuit pattern by etching, a single-sided copper-clad laminate or copper foil is bonded to it via a multilayer adhesive prepreg, and then aligned with the inner layer circuit pattern using reference holes. A method is used in which the circuit pattern on the outer layer is formed by
ところが、多層板は更に高多層化、高密度化の傾向の要
求が強くなってきており、このような要求に対してガラ
ス布ノ、(祠エポキン樹脂又はカラス布基利ポリイミド
樹脂からなる銅張積層板を用いる従来の多層板の製造方
法では、多層化工程におけるエツチング、多層化プレス
、ソルダーレジスト形成工程なとにおいて、銅張積層板
の・」法の変化又は寸法変化是のばらつきか大きいため
に各層間の回路パターンの位置すれが起こりやすく、そ
のために多層板の製造歩留りが悪くなり、必ずしも生産
性がよいものではない。したかって、銅張積層板として
寸法安定性のよいものを用いて多層板を製造する方法が
強く要求されてきている。また、更に部品の基板への表
面実装か進み、部品との接続信頼性を確保するために、
低熱膨張の基板を有する銅張積層板を用いて部品との接
続信頼性の高い多層板を製造するこのができる方法に対
する要求も強くなってきている。However, there is a growing demand for multi-layered boards with higher multilayers and higher densities, and in response to these demands, glass cloth (copper clad made of Epoquin resin or glass cloth-based polyimide resin) has become stronger. In the conventional manufacturing method of multilayer boards using laminates, there are large variations in the method or dimensional changes of copper-clad laminates during the etching, multilayer pressing, and solder resist forming processes in the multilayer process. However, the position of the circuit pattern between each layer tends to be misaligned, which reduces the manufacturing yield of the multilayer board and does not necessarily improve productivity. There is a strong demand for a method for manufacturing multilayer boards.In addition, surface mounting of components on substrates is progressing, and in order to ensure reliability of connection with components,
There is also an increasing demand for a method that can manufacture a multilayer board with high reliability of connection to components using a copper-clad laminate having a substrate with low thermal expansion.
一方、寸法安定性の向上、低熱膨張化の図られた銅張積
層板としては、セラミック複合銅張積層板が提案されて
いる(特開昭61−152742号公報)。これは銅箔
とガラス布基祠エポキシ樹脂又はカラス布基利ポリイミ
ド樹脂なとの強化プラスチック層との間にセラミック溶
射層を設けたものである。銅箔に接してセラミック溶射
層を有するために従来の銅張積層板に比べて熱膨張係数
が低く、耐電圧性も良好である。また、その他に銅箔引
き剥がし強さや表面硬度なども良好である。On the other hand, as a copper-clad laminate with improved dimensional stability and low thermal expansion, a ceramic composite copper-clad laminate has been proposed (Japanese Unexamined Patent Publication No. 152742/1983). This is a material in which a ceramic sprayed layer is provided between a copper foil and a reinforced plastic layer such as a glass cloth-based epoxy resin or a glass cloth-based polyimide resin. Since it has a ceramic sprayed layer in contact with the copper foil, it has a lower coefficient of thermal expansion and better voltage resistance than conventional copper-clad laminates. In addition, the copper foil peel strength and surface hardness are also good.
更に従来のセラミック基板とは異なり、ガラス布基拐エ
ポキシ樹脂等を用いた銅張積層板と同様のドリル加工、
スルーホール形成などの工法が可能である特長を有する
。Furthermore, unlike conventional ceramic substrates, drilling process similar to that of copper-clad laminates using glass cloth-based epoxy resin, etc.
It has the feature that construction methods such as through-hole formation are possible.
[発明が解決しようとする課題]
上記のセラミック複合銅張積層板を用いて多層板を作製
すると、熱膨張係数が低いために多層化工程における寸
法変化が格段に少なくなる。また、基板自体の熱膨張係
数か低くなるために、部品との接続信頼性も大きく向上
する。[Problems to be Solved by the Invention] When a multilayer board is produced using the above-mentioned ceramic composite copper-clad laminate, dimensional changes in the multilayering process are significantly reduced due to the low coefficient of thermal expansion. Furthermore, since the coefficient of thermal expansion of the board itself is lowered, the reliability of connection with components is greatly improved.
このようにセラミック複合銅張積層板を多層板に適用す
ると、種々の特性が改良される。ところが、耐熱衝撃性
、特に吸湿時の耐熱衝撃性は改善されない。すなわち吸
湿時のはんだデイツプなどの熱衝撃により、多層化接着
に用いたプリプレグ層とエツチングにより露出したセラ
ミック層との界面か剥離しやすい傾向がある。したがっ
て、より基板への部品実装時の信頼性を向上させるため
には、このプリプレグ層とセラミック層との界面剥離を
防止するよう更に改良することが必要である。When a ceramic composite copper-clad laminate is applied to a multilayer board in this way, various properties are improved. However, the thermal shock resistance, especially the thermal shock resistance upon moisture absorption, is not improved. That is, the interface between the prepreg layer used for multilayer adhesion and the ceramic layer exposed by etching tends to peel off due to thermal shock caused by the solder dip during moisture absorption. Therefore, in order to further improve the reliability when mounting components on a board, it is necessary to further improve the method to prevent interfacial peeling between the prepreg layer and the ceramic layer.
本発明はかかる問題点を解決するために、セラミック複
合銅張積層板を用いて、吸湿時にも高い耐熱衝撃性を有
するセラミック複合積層板を容易に製造することのでき
るセラミック複合積層板の製造方法を提供しようとする
ものである。In order to solve these problems, the present invention provides a method for manufacturing a ceramic composite laminate that uses a ceramic composite copper-clad laminate to easily manufacture a ceramic composite laminate that has high thermal shock resistance even when moisture is absorbed. This is what we are trying to provide.
[課題を解決するための手段]
本発明は、銅箔と強化プラスチック層との間にセラミッ
ク溶射層を有するセラミック複合銅張積層板を用いてこ
のセラミック複合4利1(積層板の銅箔をエツチングし
て回路パターンを形成し、エツチングにより露出したセ
ラミック溶射層の表面をシランカップリング剤で処理し
た後、回路パターンを形成された銅箔上に多層化接着用
プリプレグを介して銅張積層板又は銅箔を接着して多層
化することを特徴とするセラミック複合多層板の製造方
法を提供するものである。[Means for Solving the Problems] The present invention uses a ceramic composite copper-clad laminate having a ceramic sprayed layer between the copper foil and the reinforced plastic layer, and After etching to form a circuit pattern and treating the surface of the ceramic sprayed layer exposed by etching with a silane coupling agent, the circuit pattern is placed on the copper foil via a multilayer adhesive prepreg to form a copper-clad laminate. Alternatively, the present invention provides a method for producing a ceramic composite multilayer board, characterized in that the multilayered ceramic composite board is formed by bonding copper foil.
本発明のセラミック複合多層板の製造方法ではセラミッ
ク複合銅張積層板を用いる。In the method for manufacturing a ceramic composite multilayer board of the present invention, a ceramic composite copper-clad laminate is used.
セラミック複合銅張積層板は銅箔と強化プラスチック層
との間にセラミック溶射層を有するものである。A ceramic composite copper-clad laminate has a ceramic sprayed layer between a copper foil and a reinforced plastic layer.
セラミック複合銅張積層板の銅箔としては、厚み18μ
m〜105μmのものが好ましい。The thickness of the copper foil for the ceramic composite copper clad laminate is 18μ.
Preferably, the thickness is from m to 105 μm.
強化プラスチック層としては、通常カラス布基祠エポキ
シ樹脂又はガラス布基(4ポリイミド樹脂か好適である
。強化プラスチック層の厚みとしては、0.05mm
〜1.6mmか好ましい。The reinforced plastic layer is usually made of glass cloth-based epoxy resin or glass cloth-based (4 polyimide resin is preferred.The thickness of the reinforced plastic layer is 0.05 mm.
~1.6 mm is preferred.
上記銅箔と強化プラスチック層との間のセラミック溶射
層の+3質としては、アルミナ、ムライト、スピネル、
チタニア、ジルコン、シリカ、ツージェライl−、マグ
ネシア、ジルコニア、カルシアなとが好適に用いられる
。これらの中でも特に、熱放散性の点からはアルミナか
好適であり、また、ドリル加工性の点からはコージェラ
イトか好適である。セラミック溶射層の厚みとしては、
15μm〜200μmか好ましい。The +3 qualities of the ceramic sprayed layer between the copper foil and the reinforced plastic layer include alumina, mullite, spinel,
Titania, zircon, silica, Zugerai l-, magnesia, zirconia, and calcia are preferably used. Among these, alumina is particularly suitable from the viewpoint of heat dissipation, and cordierite is particularly suitable from the viewpoint of drill workability. The thickness of the ceramic sprayed layer is:
The thickness is preferably 15 μm to 200 μm.
このようなセラミック複合銅張積層板は、銅箔面にセラ
ミックを溶射してセラミック溶射層を形成した後、セラ
ミック溶射層−Lに強化プラスチック層を熱圧成形して
形成することができる。Such a ceramic composite copper-clad laminate can be formed by thermally spraying ceramic onto a copper foil surface to form a ceramic sprayed layer, and then hot-pressing a reinforced plastic layer on the ceramic sprayed layer -L.
本発明では、1・、記のセラミック複合銅張積層板を用
い、このセラミック複合銅張積層板の銅箔をエツチング
して回路パターンを形成した後、エツチングにより露出
したセラミック溶射層の表面をシランカップリング剤で
処理する。In the present invention, the ceramic composite copper clad laminate described in 1. is used, and after etching the copper foil of the ceramic composite copper clad laminate to form a circuit pattern, the surface of the ceramic sprayed layer exposed by the etching is etched with silane. Treat with coupling agent.
エツチングにより露出したセラミック溶射層の表面をシ
ランカップリング剤で処理する方法としては、セラミッ
ク溶射層のエツチングにより露出した表面だけをシラン
カップリング剤で処理する方法でも、セラミック複合銅
張積層板の表面全体をシランカップリング剤で処理する
ことによりセラミック溶射層のエツチングにより露出し
た表面を処理する方法でもよい。具体的には例えば、セ
ラミック複合銅張積層板の表面の銅箔をエツチングして
回路パターンを形成した後、セラミック複合銅張積層板
をシランカップリング剤溶液に浸漬した後乾燥する方法
、回路パターンを形成したセラミック複合銅張積層板の
表面にハケ、スポンジローラー等によりシランカップリ
ング剤溶液を塗布した後乾燥する方法、回路パターンを
形成したセラミック複合銅張積層板の表面にシランカッ
プリング剤溶液をスプレーで塗布する方法なとが挙げら
れる。The surface of the ceramic sprayed layer exposed by etching can be treated with a silane coupling agent. It is also possible to treat the surface exposed by etching the ceramic sprayed layer by treating the entire surface with a silane coupling agent. Specifically, for example, a method of etching the copper foil on the surface of a ceramic composite copper-clad laminate to form a circuit pattern, and then immersing the ceramic composite copper-clad laminate in a silane coupling agent solution and then drying the circuit pattern. A method in which a silane coupling agent solution is applied to the surface of a ceramic composite copper-clad laminate with a circuit pattern formed thereon by applying a silane coupling agent solution using a brush, a sponge roller, etc., and then dried. One method is to apply it with a spray.
−7=
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロルシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、γ−ベンジルアミノプロピルトリメ
トキシシラン
ス(βーメI・キシ)シラン、γーグリシドキシプロピ
ルトリメ1〜キシシラン、N−β(アミノエチル)−γ
ーアミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノ
エチル)−γーアミノプロピルメチルジメトキシンラン
、γークロロプロピルトリメトキシシラン
かできる。-7= As a silane coupling agent, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-benzylaminopropyltrimethoxysilane (β-me I xy) silane, γ-glyside Xypropyl trime 1-xysilane, N-β (aminoethyl)-γ
-aminopropyltrimethoxysilane, N-β(aminoethyl)-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ-chloropropyltrimethoxysilane.
これらのシランカップリング剤は必要に応じ溶剤により
希釈して使用することができる。シランカップリング剤
を希釈する溶剤としては水、メタノール、エタノール等
又はこれらの混合物を用いることかできる。These silane coupling agents can be used after being diluted with a solvent if necessary. As a solvent for diluting the silane coupling agent, water, methanol, ethanol, etc., or a mixture thereof can be used.
セラミック溶射層の表面のシランカップリング剤による
処理は、例えば、γークリシトキシプロピルトリメトキ
シシラン
液を用いる場合、この溶液にセラミック複合銅張積層板
を子分〜3分間浸漬した後50〜]. O O 0Cで
30分〜5時間乾燥して行うことが好ましい。The surface of the ceramic sprayed layer is treated with a silane coupling agent, for example, when using a γ-crisitoxypropyltrimethoxysilane solution, the ceramic composite copper-clad laminate is immersed in this solution for 3 minutes and then heated for 50 minutes. .. It is preferable to dry at 0 O 0 C for 30 minutes to 5 hours.
このようにしてエツチングにより露出したセラミック溶
射層の表面をシランカップリング剤で処理した後、この
シランカップリング剤で処理されたセラミック溶射層が
多層化接着用プリプレグと接41″1されるように、回
路パターンを形成された銅箔」二に多層化接着用プリプ
レグを介して銅張積層板又は銅箔を接着して多層化し、
セラミック複合多層板を製造することができる。After the surface of the ceramic sprayed layer exposed by etching is treated with a silane coupling agent, the ceramic sprayed layer treated with the silane coupling agent is brought into contact with the multilayer adhesive prepreg. , a copper foil with a circuit pattern formed thereon, which is then multilayered by adhering a copper clad laminate or copper foil through a multilayer adhesive prepreg;
Ceramic composite multilayer plates can be manufactured.
多層化接着用プリプレグを介して銅張積層板又は銅箔を
接着する方法としては、回路パターンを形成された銅箔
」二に多層化接着用プリプレグ、銅張積層板又は銅箔を
順に積層して熱圧成形することにより接着する方法が好
ましい。A method for bonding a copper clad laminate or copper foil via a multilayer adhesive prepreg is to sequentially laminate a multilayer adhesive prepreg, a copper clad laminate, or a copper foil on a copper foil on which a circuit pattern has been formed. A method of bonding by hot-pressing molding is preferred.
多層化接着用プリプレグとしては、通常の多層板の多層
化に使用されるものを好適に使用することかできる。具
体的には例えば、ガラス布基祠エポキシ樹脂プリプレグ
、あるいはカラス布基材ポリイミF樹脂プリプレグか挙
げられる。多層化接着用プリプレグの厚みとしては、0
.05mm〜02mmが好ましい。As the prepreg for multilayer adhesion, those used for the multilayering of ordinary multilayer boards can be suitably used. Specifically, for example, a glass cloth base epoxy resin prepreg or a glass cloth base polyimide resin prepreg may be mentioned. The thickness of the prepreg for multilayer adhesive is 0.
.. 05 mm to 02 mm is preferable.
接着される銅箔の厚みとしては、5μm〜70μmが好
ましい。The thickness of the copper foil to be bonded is preferably 5 μm to 70 μm.
接着された銅箔又は銅張積層板の銅箔には、適宜基準穴
なとにより内層の回路パターンとの位置合せをしてエツ
チングにより回路パターンを形成することか好ましい。It is preferable to form a circuit pattern on the bonded copper foil or the copper foil of a copper-clad laminate by etching the circuit pattern by properly aligning it with the circuit pattern on the inner layer using reference holes or the like.
[作用]
セラミック複合銅張積層板のセラミック溶射層は、銅箔
面上に溶射によって形成されたものであるため、気孔率
7〜20体積%の多孔質層である。[Function] The ceramic sprayed layer of the ceramic composite copper-clad laminate is formed on the copper foil surface by thermal spraying, and therefore is a porous layer with a porosity of 7 to 20% by volume.
したがって、これに多層化接着用プリプレグを接着する
と、その気孔にプリプレグの樹脂が含浸する。更に銅箔
をエツチングして露出し多層化接着用プリプレグと接着
されるセラミック溶射層の表面は、銅箔の組化面がその
まま転写された微細な凹凸をもつ粗面である。このよう
にセラミック溶射層に樹脂が含浸されること及びセラミ
ック溶射層の表面がアンカー効果を発揮できる微細な粗
面であることから、元来異種祠料であるセラミックと樹
脂の密着性は極めて低いものであるにもかかわらず、セ
ラミック複合多層板ではセラミック溶射層と多層化接着
用プリプレグ間が高い密着性を有している。しかし、吸
湿するとその密着性は低下してしまう。Therefore, when a prepreg for multilayer adhesive is bonded to this, the resin of the prepreg is impregnated into the pores. Furthermore, the surface of the ceramic sprayed layer exposed by etching the copper foil and bonded to the prepreg for multilayer adhesive is a rough surface with fine irregularities, to which the assembled surface of the copper foil is directly transferred. Because the ceramic sprayed layer is impregnated with resin and the surface of the ceramic sprayed layer is a finely rough surface that can exert an anchoring effect, the adhesion between ceramic and resin, which are originally dissimilar abrasive materials, is extremely low. Despite this, the ceramic composite multilayer board has high adhesion between the ceramic sprayed layer and the multilayer adhesive prepreg. However, when it absorbs moisture, its adhesion deteriorates.
このため、本発明ではエツチングにより露出したセラミ
ック溶射層の表面、すなわち多層化接着用プリプレグと
接着されるセラミック溶射層の表面をシランカップリン
グ剤で処理することによって、シランカップリング剤が
セラミックとプリプレグの樹脂の間をつなぐ作用をする
ことを利用し、セラミック溶射層と多層化接着用プリプ
レグ間の密着性の大幅な向上を実現している。このため
、得られるセラミック複合多層板の吸湿時の耐熱衝撃性
が向上し、吸湿時のはんだデイツプによるセラミック溶
射層と多層化接着用プリプレグとの界面剥削が防止され
る。Therefore, in the present invention, the surface of the ceramic sprayed layer exposed by etching, that is, the surface of the ceramic sprayed layer to be bonded to the prepreg for multilayer adhesive, is treated with a silane coupling agent, so that the silane coupling agent can bond between the ceramic and the prepreg. By utilizing the bonding effect between the resins, we have achieved a significant improvement in the adhesion between the ceramic sprayed layer and the multilayer adhesive prepreg. Therefore, the thermal shock resistance of the resulting ceramic composite multilayer board upon moisture absorption is improved, and peeling of the interface between the ceramic sprayed layer and the multilayer adhesive prepreg due to the solder dip upon moisture absorption is prevented.
[実施例] 以1ζ、実施例を挙げて本発明を更に説明する。[Example] Hereinafter, the present invention will be further explained with reference to Examples.
実施例]。Example].
第1図に示す積層構成を有するセラミック複合多層板を
製造した。すなわち、板厚0,4.mmのガラス布基材
エポキシ樹脂ベース3の両側に厚み100μmのアルミ
ナ溶射層2及び厚み35μn〕の銅箔1をイjするセラ
ミック複合銅張積層板(MCL −CE−67,1−1
立化成工業昨)製)を用い、この銅箔1にエツチングレ
ジストを形成した後、エツチングして回路パターンを形
成後エツチングレジストを除去した。次いでこのセラミ
ック複合銅張積層板をγ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン(A−187、日本ユニカー製)の3重量
%メタノール溶液に2分間浸漬後、10分間風乾した後
、70’Cで2時間乾燥することによりエツチングによ
り露出したアルミナ溶射層の表面をシランカップリング
剤により処理した。次いで、このセラミック複合銅張積
層板の回路パターンを形成された銅箔1上にエポキシ樹
脂からなる多層化接着用プリプレグ(日立化成]−業(
株)製)5を介して銅箔4(厚さ18μm)を積層し熱
圧成形して接着して多層化し、セラミック複合4層板を
製造した。A ceramic composite multilayer plate having the laminated structure shown in FIG. 1 was manufactured. That is, plate thickness 0, 4. Ceramic composite copper clad laminate (MCL-CE-67,1-1) with a 100 μm thick alumina sprayed layer 2 and a 35 μm thick copper foil 1 on both sides of a glass cloth base material epoxy resin base 3 of 100 mm thick.
An etching resist was formed on the copper foil 1 using a copper foil (manufactured by Rikkasei Kogyo), and after etching was performed to form a circuit pattern, the etching resist was removed. Next, this ceramic composite copper-clad laminate was immersed in a 3% methanol solution of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (A-187, manufactured by Nippon Unicar) for 2 minutes, air-dried for 10 minutes, and then dried at 70°C for 2 minutes. After drying for a while, the surface of the alumina sprayed layer exposed by etching was treated with a silane coupling agent. Next, on the copper foil 1 on which the circuit pattern of this ceramic composite copper-clad laminate was formed, a prepreg for multilayer adhesive made of epoxy resin (Hitachi Chemical Co., Ltd.) was applied.
Copper foil 4 (thickness: 18 μm) was laminated with a copper foil 4 (thickness: 18 μm) interposed in a layer (manufactured by Co., Ltd.) 5, followed by hot-press molding and adhesion to form a multilayer ceramic composite board.
得られたセラミック複合4層板の表面の銅箔を全面エツ
チングした。同様のものを4個製造し、プレッシャーク
ツカー試験機に投入して121°012気圧の条件でそ
れぞれ1.2.3.4時間吸湿処理後、260℃のはん
だ槽中にデイツプしたところ、いずれのセラミック複合
4層板においても層間剥n1によるふくれの発生は全く
みられなかった。The copper foil on the surface of the resulting ceramic composite four-layer board was etched over the entire surface. Four similar products were manufactured, put into a pressure soldering tester, subjected to moisture absorption treatment for 1, 2, and 3.4 hours under the conditions of 121°, 012 atm, and then dipped in a soldering bath at 260°C. No blistering caused by delamination n1 was observed in the four-layer ceramic composite board.
比較例1
実施例と同様の構成でシランカップリング剤処理を行イ
つすにセラミック複合4層板を作製し、同様の試験を行
ったところ、プレッシャークツカー処理1時間のものは
ふくれの発生はみられなかったが、2時間以上の処理を
行ったものでははんだ槽デイツプ後、11yちにプリプ
レグ層とセラミック層界面が1llJIfl L、ふく
れが生じた。Comparative Example 1 A ceramic composite 4-layer board was prepared with the same configuration as in Example and treated with a silane coupling agent, and the same test was conducted, and it was found that no blistering occurred after 1 hour of pressure-packing treatment. However, in the case where the process was carried out for 2 hours or more, the interface between the prepreg layer and the ceramic layer was blistered 11 years after dipping into the solder bath.
[発明の効果]
本発明のセラミック複合多層板の製造方法によれば、セ
ラミック複合銅張積層板を用いて寸法安定性に優れ、低
熱膨張係数でしかも吸湿時の耐熱衝撃性に優れたセラミ
ック複合多層板を得ることができ、今後用に要求が厳し
くなることが予想される多層板の高多層化、高密度化に
対応することができる。[Effects of the Invention] According to the method for producing a ceramic composite multilayer board of the present invention, a ceramic composite copper-clad laminate is used to produce a ceramic composite that has excellent dimensional stability, a low coefficient of thermal expansion, and excellent thermal shock resistance when absorbing moisture. It is possible to obtain a multilayer board, and it is possible to meet the demands for higher multilayers and higher densities of multilayer boards, which are expected to become more demanding in the future.
第1図は本発明の実施例で製造したセラミック複合4層
板の積層構成を示す断面模式図である。
符号の説明
] 銅 2 アルミナ溶射層3 ガラス布
7i!; 4,1エポキシ樹脂ベース4 銅箔
5 多層化接着用プリプレグFIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the laminated structure of a four-layer ceramic composite plate manufactured in an example of the present invention. Explanation of symbols] Copper 2 Alumina sprayed layer 3 Glass cloth 7i! ; 4,1 epoxy resin base 4 Copper foil 5 Prepreg for multilayer adhesive
Claims (3)
層を有するセラミック複合銅張積層板を用いてこのセラ
ミック複合銅張積層板の銅箔をエッチングして回路パタ
ーンを形成し、エッチングにより露出したセラミック溶
射層の表面をシランカップリング剤で処理した後、回路
パターンを形成された銅箔上に多層化接着用プリプレグ
を介して銅張積層板又は銅箔を接着して多層化すること
を特徴とするセラミック複合多層板の製造方法。1. Using a ceramic composite copper clad laminate having a ceramic sprayed layer between the copper foil and the reinforced plastic layer, the copper foil of this ceramic composite copper clad laminate is etched to form a circuit pattern, and the ceramic sprayed exposed by the etching is After the surface of the layer is treated with a silane coupling agent, a copper-clad laminate or copper foil is bonded onto the copper foil on which a circuit pattern is formed via a multilayer adhesive prepreg to form a multilayer. A method for manufacturing a ceramic composite multilayer board.
ージェライトを主体とするセラミック溶射層である請求
項1記載のセラミック複合多層板の製造方法。2. 2. The method for manufacturing a ceramic composite multilayer board according to claim 1, wherein the ceramic sprayed layer of the ceramic composite copper-clad laminate is a ceramic sprayed layer mainly composed of cordierite.
ルミナを主体とするセラミック溶射層である請求項1記
載のセラミック複合多層板の製造方法。3. 2. The method for manufacturing a ceramic composite multilayer board according to claim 1, wherein the ceramic sprayed layer of the ceramic composite copper clad laminate is a ceramic sprayed layer mainly containing alumina.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33936590A JPH04206994A (en) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | Fabrication of multilayer ceramic composite board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33936590A JPH04206994A (en) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | Fabrication of multilayer ceramic composite board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04206994A true JPH04206994A (en) | 1992-07-28 |
Family
ID=18326780
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP33936590A Pending JPH04206994A (en) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | Fabrication of multilayer ceramic composite board |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH04206994A (en) |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP33936590A patent/JPH04206994A/en active Pending
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