JPH04204603A - 真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法 - Google Patents
真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法Info
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- JPH04204603A JPH04204603A JP33463090A JP33463090A JPH04204603A JP H04204603 A JPH04204603 A JP H04204603A JP 33463090 A JP33463090 A JP 33463090A JP 33463090 A JP33463090 A JP 33463090A JP H04204603 A JPH04204603 A JP H04204603A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、波長が２００ ｎｍより短い真空紫外光領
域用の多層膜ミラーの製法に関し、２つの透明な光学結
晶を用いる従来法では製作できなかったこの波長領域の
多層膜ミラーを作ることを可能としたものである。
域用の多層膜ミラーの製法に関し、２つの透明な光学結
晶を用いる従来法では製作できなかったこの波長領域の
多層膜ミラーを作ることを可能としたものである。
近年、直径か１０ｍ以下の比較的小型の粒子加速器とし
てシンクロトロンか開発されつつあり、このシンクロト
ロンからの放射光（ＳＯＲ光）の利用分野の一つに赤外
・可視からＸ線に至る広い範囲の連続スペクトルを持つ
ＳＯＲ光を利用する真空紫外光領域の分光研究なとかあ
り、従来の安定した連続光源を得ることかできないとい
う問題が解決され、飛躍的な発展を遂げている。
てシンクロトロンか開発されつつあり、このシンクロト
ロンからの放射光（ＳＯＲ光）の利用分野の一つに赤外
・可視からＸ線に至る広い範囲の連続スペクトルを持つ
ＳＯＲ光を利用する真空紫外光領域の分光研究なとかあ
り、従来の安定した連続光源を得ることかできないとい
う問題が解決され、飛躍的な発展を遂げている。
このような真空紫外光領域は、可視・紫外光領域に比べ
て空気によって強く吸収されることから光源を含む光学
系を真空中に置かねばならす、しかも１１００ｎ以下の
真空紫外光を透過させる窓材かないこともあり、光学系
を透過式のものでなく反射光学系で構成しなければなら
ないことも多い。
て空気によって強く吸収されることから光源を含む光学
系を真空中に置かねばならす、しかも１１００ｎ以下の
真空紫外光を透過させる窓材かないこともあり、光学系
を透過式のものでなく反射光学系で構成しなければなら
ないことも多い。
この反射光学系を高効率にするには、反射率の高いミラ
ーが必要であり、高反射率のミラーとして多層膜ミラー
か良く知られている。
ーが必要であり、高反射率のミラーとして多層膜ミラー
か良く知られている。
現在、この真空紫外光領域以外での多層膜ミラ−は、２
種類の光学結晶を繰返し重ねて多層に形成し、上の層で
反射されずに透過した光を次の層で反射させることを縁
り返して反射率を高めるようにしている。
種類の光学結晶を繰返し重ねて多層に形成し、上の層で
反射されずに透過した光を次の層で反射させることを縁
り返して反射率を高めるようにしている。
ところが、真空紫外光領域については、従来と同様の２
種類の光学結晶を繰返し重ねて多層に形成する方法で、
多層膜ミラーを製作することが出来ないという問題かあ
る。
種類の光学結晶を繰返し重ねて多層に形成する方法で、
多層膜ミラーを製作することが出来ないという問題かあ
る。
一方、この真空紫外光領域での反射率が高いとされるミ
ラーにアルミニウムなどの金属膜を用いるものかあるが
、アルミニウムの均一な膜を蒸着法で作ろうとしても最
低１０ｎｍ程度の厚さか必要であり、この厚さの金属膜
では、上の層を透過する光のほとんどが吸収されてしま
い、多層膜ミラーにしても次の層からの反射による反射
効率の向上が図れないという問題かある。
ラーにアルミニウムなどの金属膜を用いるものかあるが
、アルミニウムの均一な膜を蒸着法で作ろうとしても最
低１０ｎｍ程度の厚さか必要であり、この厚さの金属膜
では、上の層を透過する光のほとんどが吸収されてしま
い、多層膜ミラーにしても次の層からの反射による反射
効率の向上が図れないという問題かある。
この発明は、前記従来技術における問題点を解決して、
真空紫外光領域における高反射率の多層膜ミラーを作る
ことかできる真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法を
提供しようとするものである。
真空紫外光領域における高反射率の多層膜ミラーを作る
ことかできる真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法を
提供しようとするものである。
この発明の真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法は、
真空紫外光領域用の多層膜ミラーを製作するに際し、透
明な光学結晶表面に高反射率の金属材料を均一な蒸着膜
となる厚さまで成膜したのち、この蒸着膜を削って超薄
膜の反射層を形成し、前記光学結晶膜と前記反射層を繰
返し形成して多層にするようにしたことを特徴とするも
のである。
真空紫外光領域用の多層膜ミラーを製作するに際し、透
明な光学結晶表面に高反射率の金属材料を均一な蒸着膜
となる厚さまで成膜したのち、この蒸着膜を削って超薄
膜の反射層を形成し、前記光学結晶膜と前記反射層を繰
返し形成して多層にするようにしたことを特徴とするも
のである。
Ｃ作 用〕
この発明の真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法によ
れば、Ｍ ｇ Ｆ やＣａ Ｆ ２なとのふり化物な
どの透明の光学結晶にアルミニウムなとの金属材料で例
えば］０ｎｒｒｌ程度の均一な蒸着膜が出来る厚さまで
成膜し、この均一な蒸着膜をイオンビームの照射なとて
削って０．５〜２ ｎｍ程度の超薄膜の反射層を作るよ
うにしており、透明光学結晶と金属材料の超薄膜の反射
層の繰返し成膜による多層膜ミラ〜とすることで、真空
紫外光領域においても、反射層を透過する光の吸収を極
力抑え、反射効率の向上を図るようにしている。
れば、Ｍ ｇ Ｆ やＣａ Ｆ ２なとのふり化物な
どの透明の光学結晶にアルミニウムなとの金属材料で例
えば］０ｎｒｒｌ程度の均一な蒸着膜が出来る厚さまで
成膜し、この均一な蒸着膜をイオンビームの照射なとて
削って０．５〜２ ｎｍ程度の超薄膜の反射層を作るよ
うにしており、透明光学結晶と金属材料の超薄膜の反射
層の繰返し成膜による多層膜ミラ〜とすることで、真空
紫外光領域においても、反射層を透過する光の吸収を極
力抑え、反射効率の向上を図るようにしている。
したがって、真空紫外光領域の分光研究や自由電子レー
ザーの高効率な反射系として利用することができる。
ザーの高効率な反射系として利用することができる。
以下、この発明の一実施例を図面を参照しなから詳細に
説明する。
説明する。
第１図は、この発明の真空紫外光領域用の多層膜ミラー
の製法の一実施例にかかる工程図である。
の製法の一実施例にかかる工程図である。
この真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法では、アル
ミニウムなどの高反射率の金属材料であってもその厚さ
を０５〜２ ｎｍ程度に薄くすることができれば、真空
紫外光領域の光の透過の際の吸収を極力減らすことがで
きる反射膜にてき、多層膜ミラーへの適用が可能となる
という考えに基づくものである。
ミニウムなどの高反射率の金属材料であってもその厚さ
を０５〜２ ｎｍ程度に薄くすることができれば、真空
紫外光領域の光の透過の際の吸収を極力減らすことがで
きる反射膜にてき、多層膜ミラーへの適用が可能となる
という考えに基づくものである。
しかし、アルミニウムなどの金属材料の薄膜を均一に成
膜する方法の１つとして蒸着法があるが、既に説明した
ように、最低でも１０ｎｍ程度の厚さがなければ、母材
上に島状に金属材料が蒸着され、均一な反射膜とするこ
とかできない。
膜する方法の１つとして蒸着法があるが、既に説明した
ように、最低でも１０ｎｍ程度の厚さがなければ、母材
上に島状に金属材料が蒸着され、均一な反射膜とするこ
とかできない。
そこで、この発明の真空紫外光領域用の多層膜ミラーの
製法では、次のようにして多層膜ミラー１０が作られる
。
製法では、次のようにして多層膜ミラー１０が作られる
。
■ ます、ＭｇＦ２やＣａ Ｆ ２なとのぶつ化物など
の透明の光学結晶１をＣＶＤ法等によって成膜する。
の透明の光学結晶１をＣＶＤ法等によって成膜する。
この透明な光学結晶１の厚さは、多層膜ミラー１０の１
層を構成する光学結晶１の厚さと反射層２の厚さの合計
か反射すべき真空紫外光領域の波長λの約］／２となる
ようにし、透過して次の層の反射層２て反射した光と位
相が合うようにする。
層を構成する光学結晶１の厚さと反射層２の厚さの合計
か反射すべき真空紫外光領域の波長λの約］／２となる
ようにし、透過して次の層の反射層２て反射した光と位
相が合うようにする。
したがって、波長λが１７０ｎｍの真空紫外光を対象と
する場合には、合計の厚さを約８５ｎｍとすればよい。
する場合には、合計の厚さを約８５ｎｍとすればよい。
■ この光学結晶１の表面にアルミニウムなとの金属材
料を蒸着して行き、光学結晶表面に島状に金属か付着し
た後、次第に成長して厚さが均一となる最低でも１０ｎ
ｍ程度の厚さまで蒸着膜３を成膜する。
料を蒸着して行き、光学結晶表面に島状に金属か付着し
た後、次第に成長して厚さが均一となる最低でも１０ｎ
ｍ程度の厚さまで蒸着膜３を成膜する。
■ この後、均一に成膜された金属の蒸着膜３を極力薄
くなるまで削り、その厚さを０．５〜２ｎｍ程度、好ま
し、５＜は０５〜ｌ ｎｍにする。
くなるまで削り、その厚さを０．５〜２ｎｍ程度、好ま
し、５＜は０５〜ｌ ｎｍにする。
この金属の蒸着膜３を削るには、例えばイオンビーム４
を照射することで行われる。
を照射することで行われる。
このイオンビーム４による研削は、蒸着されたアルミニ
ウムの蒸着膜３の酸化を防止する必要があり、例えばア
ルゴンイオンビームを用い、加速エネルギーを３ Ｃ１
Ｏｅ Ｖ、イオン電流１５Ａ等と［−で蒸着膜′３に斜
めに照射し、その照射時間を制御することて研削量を調
整する。
ウムの蒸着膜３の酸化を防止する必要があり、例えばア
ルゴンイオンビームを用い、加速エネルギーを３ Ｃ１
Ｏｅ Ｖ、イオン電流１５Ａ等と［−で蒸着膜′３に斜
めに照射し、その照射時間を制御することて研削量を調
整する。
■ こうし、て透明な光学結晶］」二に約０５〜２ｎＩ
１１の均一な金属材料を蒸着・研削した反射層２を成膜
して１層目のミラー５か作られる。
１１の均一な金属材料を蒸着・研削した反射層２を成膜
して１層目のミラー５か作られる。
（■ このような１層［１のミラー５か作られたのち、
上記■ 透明な光学結晶１のＣＶＤによる成膜、（２）
金属材料の均一な膜厚さとなるまでの蒸着膜３の成膜
、■・蒸着膜３の研削による超薄膜としての反射層２の
形成、ｒ７４； ２層［１１のミラー６の完成を縁返
し、３層［１以降のミラー７、・・・を形成することで
多層膜ミラー１０とする。
上記■ 透明な光学結晶１のＣＶＤによる成膜、（２）
金属材料の均一な膜厚さとなるまでの蒸着膜３の成膜
、■・蒸着膜３の研削による超薄膜としての反射層２の
形成、ｒ７４； ２層［１１のミラー６の完成を縁返
し、３層［１以降のミラー７、・・・を形成することで
多層膜ミラー１０とする。
この多層膜ミラー１０の層数は、各層のミラー５．６．
７の反射層２による真空紫外光領域の光の透過の際の吸
収程度によって定まり、最も下の反射層２て反射した光
か反射率の向上に寄与するかとうかにより決められ、例
えばアルミニウムの蒸着膜３による反射層２を用いる場
合には、各層の反射層２の厚さの８計か約５〜１０ｎｍ
程度で限界と考えられる。
７の反射層２による真空紫外光領域の光の透過の際の吸
収程度によって定まり、最も下の反射層２て反射した光
か反射率の向上に寄与するかとうかにより決められ、例
えばアルミニウムの蒸着膜３による反射層２を用いる場
合には、各層の反射層２の厚さの８計か約５〜１０ｎｍ
程度で限界と考えられる。
このようにして作られた真空紫外光領域用の多層膜ミラ
ー１０では、第１図中に示すように、最上層に反射層２
を配置した状態や逆に最上層に光学結晶１を配置した状
態で使用される。
ー１０では、第１図中に示すように、最上層に反射層２
を配置した状態や逆に最上層に光学結晶１を配置した状
態で使用される。
そして、真空紫外光領域の光か入射すると、最十層のミ
ラー７（５〉の反射層２て反射されると同時に、透過し
た光か次のミラー６（６）の反射層２て反射され、さら
に透過した光が次のミラー５（７）の反射層２て反射さ
れる。
ラー７（５〉の反射層２て反射されると同時に、透過し
た光か次のミラー６（６）の反射層２て反射され、さら
に透過した光が次のミラー５（７）の反射層２て反射さ
れる。
したかって、入射した光に対して、各層の反射層Ｒて反
射した反射光か反射効率に寄＋１．、従来無かった真空
紫外光領域の高反射率の多層膜ミラー Ｉ ＣＩとなる
。
射した反射光か反射効率に寄＋１．、従来無かった真空
紫外光領域の高反射率の多層膜ミラー Ｉ ＣＩとなる
。
なお、上記実施例では、透明な光学結晶としてＭｇＦ
やＣａ Ｆ ２なとのぶつ化物を例に説明しま たか、他のぶつ化物やぶつ化物以外の透明結晶を用いる
ようにしても良く、成膜法もＣＶＤ法に限らず他の方法
でも良い。
やＣａ Ｆ ２なとのぶつ化物を例に説明しま たか、他のぶつ化物やぶつ化物以外の透明結晶を用いる
ようにしても良く、成膜法もＣＶＤ法に限らず他の方法
でも良い。
また、反射層についても反射すべき光の波長によって金
属材料の反射率か異なることから、波長に応して金属材
料を変えるようにすれば良く、アルミニウムのほか金な
ども使用できる。
属材料の反射率か異なることから、波長に応して金属材
料を変えるようにすれば良く、アルミニウムのほか金な
ども使用できる。
さらに、この発明の要旨を変更しない範囲で、各構成要
素に変更を加えるようにしても良い。
素に変更を加えるようにしても良い。
以Ｌ−実施例とともに、具体的に説明したように、この
発明の真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法によれば
、透明の光学結晶に金属相ス」て均一な蒸着膜か出来る
厚さまで成膜し、この均一な蒸着膜を削って超薄膜の反
射層を作るようにしたので、透明光学結晶と金、属材料
の反射層との繰返して多層膜ミラーをつくる二とかでき
真空紫外光領域においても、反射層をスｊ過する先の吸
収を極力抑え、高反射効率の多層膜ミラーとすることが
できる。
発明の真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法によれば
、透明の光学結晶に金属相ス」て均一な蒸着膜か出来る
厚さまで成膜し、この均一な蒸着膜を削って超薄膜の反
射層を作るようにしたので、透明光学結晶と金、属材料
の反射層との繰返して多層膜ミラーをつくる二とかでき
真空紫外光領域においても、反射層をスｊ過する先の吸
収を極力抑え、高反射効率の多層膜ミラーとすることが
できる。
したかって、真空紫外光領域の分光研究や自由電子レー
サー等の高効率な反射系として利用することかできる。
サー等の高効率な反射系として利用することかできる。
第１図は、この発明の真空紫外光領域用の多層膜ミラー
の製法の一実施例にかかる工程図である。 １・・透明な光学結晶、２・超薄膜の反射層、３・金属
材料の均一な蒸着膜、４・・イオンビーム、５．６．７
・各層のミラー、 １０・真空紫外光領域の多層膜ミラー。 出願人 石川島播磨重工業株式会社 代理人 坂 本 徹ｒ−、”−６゜
１□７１、名、（；ゴ−
の製法の一実施例にかかる工程図である。 １・・透明な光学結晶、２・超薄膜の反射層、３・金属
材料の均一な蒸着膜、４・・イオンビーム、５．６．７
・各層のミラー、 １０・真空紫外光領域の多層膜ミラー。 出願人 石川島播磨重工業株式会社 代理人 坂 本 徹ｒ−、”−６゜
１□７１、名、（；ゴ−
Claims (1)
- 真空紫外光領域用の多層膜ミラーを製作するに際し、透
明な光学結晶表面に高反射率の金属材料を均一な蒸着膜
となる厚さまで成膜したのち、この蒸着膜を削って超薄
膜の反射層を形成し、前記光学結晶膜と前記反射層を繰
返し形成して多層にするようにしたことを特徴とする真
空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33463090A JPH04204603A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33463090A JPH04204603A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04204603A true JPH04204603A (ja) | 1992-07-27 |
Family
ID=18279528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33463090A Pending JPH04204603A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 真空紫外光領域用の多層膜ミラーの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04204603A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001041155A1 (fr) | 1999-11-29 | 2001-06-07 | Tohoku Techno Arch Co., Ltd. | Element optique tel que miroir de reflexion a film multicouche, procede de production correspondant et dispositif utilisant un tel element |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP33463090A patent/JPH04204603A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001041155A1 (fr) | 1999-11-29 | 2001-06-07 | Tohoku Techno Arch Co., Ltd. | Element optique tel que miroir de reflexion a film multicouche, procede de production correspondant et dispositif utilisant un tel element |
| EP1152435A1 (en) * | 1999-11-29 | 2001-11-07 | Tohoku Techno Arch Co., Ltd. | Optical element such as multilayer film reflection mirror, production method therefor and device using it |
| EP1152435A4 (en) * | 1999-11-29 | 2007-02-28 | Tohoku Techno Arch Co Ltd | OPTICAL ELEMENT SUCH AS MULTILAYER FILM REFLECTION MIRRORS, METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF AND THEREOF USED DEVICE |
| US7474733B1 (en) | 1999-11-29 | 2009-01-06 | Nikon Corporation | Optical element such as multilayer film reflection mirror, production method therefor and device using it |
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