JPH04202082A - ブリッジマン結晶成長方法 - Google Patents
ブリッジマン結晶成長方法Info
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- JPH04202082A JPH04202082A JP33463190A JP33463190A JPH04202082A JP H04202082 A JPH04202082 A JP H04202082A JP 33463190 A JP33463190 A JP 33463190A JP 33463190 A JP33463190 A JP 33463190A JP H04202082 A JPH04202082 A JP H04202082A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 3
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はブリッジマン結晶成長方法に関し、微少重力
下などの自由液面で液体の温度差により生ずる表面張力
で引き起こされるマランゴニ対流(Marangon
I対流)を、融液に発生させる遠心力で相殺して抑制し
、微少重力下なとにおけるブリッジマン結晶成長の際の
結晶欠陥や偏析などを防止できるようにしたものである
。
下などの自由液面で液体の温度差により生ずる表面張力
で引き起こされるマランゴニ対流(Marangon
I対流)を、融液に発生させる遠心力で相殺して抑制し
、微少重力下なとにおけるブリッジマン結晶成長の際の
結晶欠陥や偏析などを防止できるようにしたものである
。
宇宙の微少重力環境を利用して地上では得られない高純
度の金属材料や高品質の半導体材料などの製造を目的と
する研究が種々行われており、その1つにブリッジマン
結晶成長法を用いた材料の製造がある。
度の金属材料や高品質の半導体材料などの製造を目的と
する研究が種々行われており、その1つにブリッジマン
結晶成長法を用いた材料の製造がある。
このブリッジマン結晶成長法では、第3図に示すように
、結晶成長用にカーボン、石英、ボロンナイトライドな
どを用いて略長円筒形のアンプル1を作り、このアンプ
ル1内に均一な結晶組織などを得ようとする材料を固体
化した状態で封入する。
、結晶成長用にカーボン、石英、ボロンナイトライドな
どを用いて略長円筒形のアンプル1を作り、このアンプ
ル1内に均一な結晶組織などを得ようとする材料を固体
化した状態で封入する。
この後、宇宙空間などの微少重力環境下で、温度勾配を
与えることができる加熱炉で、まず全体を加熱してアン
プル1内の材料を融解させ、次いで、加熱炉によって融
解した融液2に温度勾配を与えるべくアンプル1の長さ
方向の一端部から徐々に冷却を行って凝固させて結晶3
を成長させるようにしている。
与えることができる加熱炉で、まず全体を加熱してアン
プル1内の材料を融解させ、次いで、加熱炉によって融
解した融液2に温度勾配を与えるべくアンプル1の長さ
方向の一端部から徐々に冷却を行って凝固させて結晶3
を成長させるようにしている。
ところが、このようなブリッジマン結晶成長用のアンプ
ル1を用いて結晶3を成長させようとする場合、第4図
に第3図中の■部分を拡大して示すように、凝固時の体
積収縮によって融液2とアンプル1の側面との間に空隙
Sが生じ、このため融液2に自由液面Fが形成され、こ
の自由液面Fに発生ずる表面張力でマランゴニ対流Mが
生じてしまう。
ル1を用いて結晶3を成長させようとする場合、第4図
に第3図中の■部分を拡大して示すように、凝固時の体
積収縮によって融液2とアンプル1の側面との間に空隙
Sが生じ、このため融液2に自由液面Fが形成され、こ
の自由液面Fに発生ずる表面張力でマランゴニ対流Mが
生じてしまう。
すなわち、アンプル]内の材料を融解させた後、一端部
から冷却して凝固させる場合、表面張力は温度の高い融
液2側の液表面で小さく、低温の結晶3側の液表面で大
きくなるので、液分子は低温側に引っ張られて動き、表
面の分子が動くと内部の分子も徐々に引きずられて動き
たし、全体に流れが生じて対流現象となり、いわゆるマ
ランゴニ対流Mになってしまう。
から冷却して凝固させる場合、表面張力は温度の高い融
液2側の液表面で小さく、低温の結晶3側の液表面で大
きくなるので、液分子は低温側に引っ張られて動き、表
面の分子が動くと内部の分子も徐々に引きずられて動き
たし、全体に流れが生じて対流現象となり、いわゆるマ
ランゴニ対流Mになってしまう。
このようなマランゴニ対流Mが生じると、凝固面に温度
のムラが生じ、結晶3の結晶界面Pが曲面状になって、
成分の分布が場所によって異なったり、結晶3に方向性
かでるなと結晶組織の不均一が生じてしまう。
のムラが生じ、結晶3の結晶界面Pが曲面状になって、
成分の分布が場所によって異なったり、結晶3に方向性
かでるなと結晶組織の不均一が生じてしまう。
また、こうして得られたアンプル1内の結晶3は、中心
部か比較的均一になるに過ぎず、利用しようとしても中
心部分だけでは、非常に歩留まりが悪い。
部か比較的均一になるに過ぎず、利用しようとしても中
心部分だけでは、非常に歩留まりが悪い。
そこで、このようなマランゴニ対流を抑えるため種々の
提案がなされており、例えばアンプル1の端部にピスト
ンなどを設置し、ピストンを押すことによって結晶3の
凝固に伴って形成される空隙Sに融液2を満たすように
したり、アンプル1内に微粉末などを封入しておき、こ
の微粉末で空隙Sに生じる自由液面Fを覆うようにする
ものなどがある。
提案がなされており、例えばアンプル1の端部にピスト
ンなどを設置し、ピストンを押すことによって結晶3の
凝固に伴って形成される空隙Sに融液2を満たすように
したり、アンプル1内に微粉末などを封入しておき、こ
の微粉末で空隙Sに生じる自由液面Fを覆うようにする
ものなどがある。
このような提案によれば、マランゴニ対流を抑制できる
ものの、結晶成長の過程でアンプル内の材料とピストン
や微粉末が直接接触するため、得られる結晶等の品質に
悪い影響を与える恐れがあるという問題がある。
ものの、結晶成長の過程でアンプル内の材料とピストン
や微粉末が直接接触するため、得られる結晶等の品質に
悪い影響を与える恐れがあるという問題がある。
この発明はかかる従来技術の問題点に鑑みてなされたも
ので、微少重力下における発生が問題となり、結晶の成
長に悪影響を及ぼすマランゴニ対流を融液に直接接触す
ることなく抑制することができるブリッジマン結晶成長
方法を提供しようとするものである。
ので、微少重力下における発生が問題となり、結晶の成
長に悪影響を及ぼすマランゴニ対流を融液に直接接触す
ることなく抑制することができるブリッジマン結晶成長
方法を提供しようとするものである。
上記問題点を解決するためこの発明のブリッジマン結晶
成長方法は、ブリッジマン結晶成長用のアンプルをその
中心軸回りに回転して融液に遠心力を発生させてマラン
ゴニ対流を抑制するようにしたことを特徴とするもので
ある。
成長方法は、ブリッジマン結晶成長用のアンプルをその
中心軸回りに回転して融液に遠心力を発生させてマラン
ゴニ対流を抑制するようにしたことを特徴とするもので
ある。
このブリッジマン結晶成長方法によれば、ブリッジマン
結晶成長用のアンプルをその中心軸回りに回転してアン
プルの外部から融液に遠心力を発生させ、この遠心力と
自由液面に生じる表面張力とを相殺するようにしており
、アンプル内の材料と直接接触すること無くマランゴニ
対流を抑制して結晶成長を図り、品質の良い高純度の結
晶などを得ることができるようにしている。
結晶成長用のアンプルをその中心軸回りに回転してアン
プルの外部から融液に遠心力を発生させ、この遠心力と
自由液面に生じる表面張力とを相殺するようにしており
、アンプル内の材料と直接接触すること無くマランゴニ
対流を抑制して結晶成長を図り、品質の良い高純度の結
晶などを得ることができるようにしている。
以下、この発明の一実施例を図面を参照しながら詳細に
説明する。
説明する。
第1図及び第2図はこの発明のブリッジマン結晶成長方
法の一実施例にかかる概略断面図及び第1図中の■部分
の拡大断面図であり、第3図及び第4図と同一部分には
、同一符号を記しである。
法の一実施例にかかる概略断面図及び第1図中の■部分
の拡大断面図であり、第3図及び第4図と同一部分には
、同一符号を記しである。
このブリッジマン結晶成長方法では、略長円筒形のブリ
ッジマン結晶成長用のアンプル1内に均一な結晶組織な
どを得ようとする材料が固体化した状態で封入されてお
り、アンプル1の両端部が回転駆動装置4のチャック5
に取(=Jけられてその中心軸りの回りに回転できるよ
うにしである。
ッジマン結晶成長用のアンプル1内に均一な結晶組織な
どを得ようとする材料が固体化した状態で封入されてお
り、アンプル1の両端部が回転駆動装置4のチャック5
に取(=Jけられてその中心軸りの回りに回転できるよ
うにしである。
このような回転駆動装置4に取トIけられた結晶成長用
のアンプル1は温度勾配を与えることができる加熱炉で
、まず全体が加熱されてアンプル1内の材料が融解され
る。
のアンプル1は温度勾配を与えることができる加熱炉で
、まず全体が加熱されてアンプル1内の材料が融解され
る。
次いて、回転駆動装置4によってアンプル1をその中心
軸り回りに回転しながら、加熱炉によって融解した融液
2に温度勾配を与えるべくアンプル1の長さ方向の一端
部、例えば右端部から徐々に冷却して凝固させ、結晶3
を成長させる。
軸り回りに回転しながら、加熱炉によって融解した融液
2に温度勾配を与えるべくアンプル1の長さ方向の一端
部、例えば右端部から徐々に冷却して凝固させ、結晶3
を成長させる。
この結晶成長材料の凝固の始まる極初期の段階において
、凝固にともなう体積収縮で結晶3とアンプル1との間
に空隙Sが生じ、このため融液2に自由表面Fが形成さ
れ、この自由液面Fに温度差に基づく表面張力による流
れAが発生してマランゴニ対流Mが生じようとする。
、凝固にともなう体積収縮で結晶3とアンプル1との間
に空隙Sが生じ、このため融液2に自由表面Fが形成さ
れ、この自由液面Fに温度差に基づく表面張力による流
れAが発生してマランゴニ対流Mが生じようとする。
一方、アンプル1は回転駆動装置4によってその中心軸
り回りに回転されているので、アンプル1内の融液2に
回転にともなう遠心力が生じ、結晶界面Pに沿って遠心
力による流れBが発生する。
り回りに回転されているので、アンプル1内の融液2に
回転にともなう遠心力が生じ、結晶界面Pに沿って遠心
力による流れBが発生する。
この結果、融液2の自由液面Fに沿って結晶界面Pに向
かう方向の表面張力による流れAがアンプル]の放射方
向外側に向かう方向の遠心力による流れBによって打ち
消されるようになり、結晶界面Pの近傍の融液2の自由
な移動が出来ず、マランゴニ対流Mが抑制される。
かう方向の表面張力による流れAがアンプル]の放射方
向外側に向かう方向の遠心力による流れBによって打ち
消されるようになり、結晶界面Pの近傍の融液2の自由
な移動が出来ず、マランゴニ対流Mが抑制される。
そして、結晶成長材料の凝固にともなって結晶3が成長
すると、結晶界面Pが軸方向左側に移動するが、これに
ともなって空隙Sも移動するが、融液2に常に遠心力が
生じ、遠心力による流れBが発生するので、結晶界面P
の近傍のマランゴニ対流Mが抑制される。
すると、結晶界面Pが軸方向左側に移動するが、これに
ともなって空隙Sも移動するが、融液2に常に遠心力が
生じ、遠心力による流れBが発生するので、結晶界面P
の近傍のマランゴニ対流Mが抑制される。
このように結晶界面Pの近傍のマランゴニ対流Mが抑制
されると、結晶界面Pが平面状となることから、回転駆
動装置4によって発生させる遠心力の大きさは、結晶界
面Pが曲面状にならず、平面状になるように制御すれば
良く、予め計39でマランゴニ対流Mの大きさから回転
駆動装置4によって発生させる遠心力の大きさを求め、
この結果によって制御するようにすることもできる。
されると、結晶界面Pが平面状となることから、回転駆
動装置4によって発生させる遠心力の大きさは、結晶界
面Pが曲面状にならず、平面状になるように制御すれば
良く、予め計39でマランゴニ対流Mの大きさから回転
駆動装置4によって発生させる遠心力の大きさを求め、
この結果によって制御するようにすることもできる。
こうして結晶界面Pの近傍のマランゴニ対流Mが抑制さ
れると、結晶界面Pが平面状となり、成分の分布が均一
化し、結晶組織も均一化されることなる。
れると、結晶界面Pが平面状となり、成分の分布が均一
化し、結晶組織も均一化されることなる。
したがって、ブリッジマン結晶成長方法で得られた結晶
3は中心部分だけでなく、広く全体を利用することがで
き、歩留まりが向上する。
3は中心部分だけでなく、広く全体を利用することがで
き、歩留まりが向上する。
また、ブリッジマン結晶成長用のアンプル1内の材料と
直接接触するピストンや微粉末などを使用しないので、
得られる結晶3の品質を悪化させる恐れが全く無く、高
純度の結晶3を得ることができるとともに、アンプル1
を回転駆動するので、アンプル1の加熱や冷却を均一に
行なうこともできる。
直接接触するピストンや微粉末などを使用しないので、
得られる結晶3の品質を悪化させる恐れが全く無く、高
純度の結晶3を得ることができるとともに、アンプル1
を回転駆動するので、アンプル1の加熱や冷却を均一に
行なうこともできる。
なお、この発明は、上記実施例に限定するものでなく、
この発明の要旨を変更しない範囲で各構成要素に変更を
加えるようにしても良い。
この発明の要旨を変更しない範囲で各構成要素に変更を
加えるようにしても良い。
以上、一実施例とともに具体的に説明したようにこの発
明のブリッジマン結晶成長方法によれば、ブリッジマン
結晶成長用のアンプルをその中心軸回りに回転してアン
プルの外部から融液に遠心力を発生させるようにしたの
で、この遠心力と自由液面に生じる表面張力とを相殺す
ることができ、アンプル内の材料と直接接触すること無
くマランゴニ対流を抑制することができる。
明のブリッジマン結晶成長方法によれば、ブリッジマン
結晶成長用のアンプルをその中心軸回りに回転してアン
プルの外部から融液に遠心力を発生させるようにしたの
で、この遠心力と自由液面に生じる表面張力とを相殺す
ることができ、アンプル内の材料と直接接触すること無
くマランゴニ対流を抑制することができる。
したがって、結晶組織が均一で歩留まりの良いブリッジ
マン結晶を得ることができる。
マン結晶を得ることができる。
第1図及び第2図はこの発明のブリッジマン結晶成長方
法の一実施例にかかる概略断面図及び第1図中の■部分
の拡大断面図である。 第3図及び第4図は従来のブリッジマン結晶成長法及び
マランゴニ対流の説明図である。 1・・・ブリッジマン結晶成長用のアンプル、2・・・
融液、3・・・結晶、4・・・回転駆動装置、5・・・
チャック、F・・・自由表面、L・・・中心軸、M・・
・マランゴニ対流、P・・・結晶界面、S・・・空隙。 出願人 石川島播磨重工業株式会社
法の一実施例にかかる概略断面図及び第1図中の■部分
の拡大断面図である。 第3図及び第4図は従来のブリッジマン結晶成長法及び
マランゴニ対流の説明図である。 1・・・ブリッジマン結晶成長用のアンプル、2・・・
融液、3・・・結晶、4・・・回転駆動装置、5・・・
チャック、F・・・自由表面、L・・・中心軸、M・・
・マランゴニ対流、P・・・結晶界面、S・・・空隙。 出願人 石川島播磨重工業株式会社
Claims (1)
- ブリッジマン結晶成長用のアンプルをその中心軸回りに
回転して融液に遠心力を発生させてマランゴニ対流を抑
制するようにしたことを特徴とするブリッジマン結晶成
長方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33463190A JPH04202082A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | ブリッジマン結晶成長方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33463190A JPH04202082A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | ブリッジマン結晶成長方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04202082A true JPH04202082A (ja) | 1992-07-22 |
Family
ID=18279540
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33463190A Pending JPH04202082A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | ブリッジマン結晶成長方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04202082A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0819785A1 (en) * | 1996-07-15 | 1998-01-21 | Sumitomo Electric Industries, Limited | A method of suppressing convection in a fluid in a cylindrical vessel |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP33463190A patent/JPH04202082A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0819785A1 (en) * | 1996-07-15 | 1998-01-21 | Sumitomo Electric Industries, Limited | A method of suppressing convection in a fluid in a cylindrical vessel |
KR100228612B1 (ko) * | 1996-07-15 | 1999-11-01 | 구라우치 노리타카 | 원통형용기내의 유체대류 억제 방법 |
US6464781B2 (en) * | 1996-07-15 | 2002-10-15 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of suppressing convection in a fluid in a cylindrical vessel |
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