JPH04200731A

JPH04200731A - 飽和器

Info

Publication number: JPH04200731A
Application number: JP33422390A
Authority: JP
Inventors: Hiromi Ishimaru; 石丸　紘美; Shinichi Nakayama; 真一中山
Original assignee: Fujikura Ltd
Current assignee: Fujikura Ltd
Priority date: 1990-11-30
Filing date: 1990-11-30
Publication date: 1992-07-21

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】【産業上の利用分野】

本発明は、気相気体中に一定割合で原料ガスなどを混合
させる飽和器に関するものである。

【従来の技術】

従来、ＶＡＤ法による光ファイバの製造やＣＶＤ法によ
る薄膜の製造にあたっては、キャリアガスなどのガス気
流中に原料ガスを一定の割合で安定して混合（バブリン
グ）する必要がある。この混合は、一般に飽和器（バブラー）により行ってい
る。このとき、密閉系である飽和器から供給される原料ガス
の成分は、飽和器内の液面の高さに大きく左右される。このため、従来、一定の安定した原料ガス成分を得るた
め、例えば第２図に示した如き、二段バブリング法が提
案されている。この二段バブリング法では、別々の槽１，２が２つに分
かれており、先ず、第１の槽（液相過飽和種）１に供給
されたキャリアガスなどの気相気体（気流）ＧＩは、こ
の必要とする飽和温度より高めに設定された槽１に充填
した原料液相３中を通ることによって、原料ガスが飽和
混合され、いわば過飽和の状態となって、次の適切な温
度に設定された第２の槽（凝縮槽）２の液相３を通る際
、原料ガスの過飽和分が凝縮され、適正な飽和濃度のガ
スＧ２となって、安定した原料供給が行われるようにな
っている。

【発明が解決しようとする課題】

しかしながら、上記従来の装置では、図示のように２つ
の槽１，２が別々に分かれているため、各種１，２の液
相３，３が必ずしも同等の割合で減少するわけではなく
、原料供給の時期選択が困難で、各種１，２の液面高さ
が大きく相違するようになると、安定した成分の原料供
給は期待できないという欠点があった。本発明は、このような従来の実情に鑑みてなされたもの
である。

【課題を解決するための手段】

か＼る課題に対処する本発明の特徴とする点は、同一密
閉室内を２室に分け、一方の第１室中には液相用液体を
充填すると共に、他方の第２室は前記第１室の液面より
上方に設け、前記第１室内には当該室内の液面上方と液
中底面を開口させた半隔壁を設け、この半隔壁の前記第
２室とは反対側の第１室側には気相用気体を供給し、該
室中の液相により飽和された気相用気体を前記液面上方
の開口を通じて前記第２室に導き、この第２室で凝縮さ
れた液体は前記第１室の半隔壁の第２室側に戻し、前記
液中底面の開口を通じて移動させ、前記第１室中の液面
が常に半隔壁の左右で同一高さに維持される飽和器にあ
る。

【作用】

このように本発明の飽和器は、実質的に１槽からなり、
第２室で凝縮した液体は、第１室に戻り、しかも、半隔
壁により液面は常に同一高さに維持されるため、安定し
た原料ガスの供給が容易に行える。

【実施例】

第１図は本発明に係る飽和器の一実施例を示したもので
ある。本飽和器１１では、同一密閉室内を第１室（液相過飽和
槽）１２と第２室（気相凝縮槽）１３に分け、この第１
室１２は外装に加熱保温手段１４を設けた恒温槽とし、
その槽内には、例えば光フアイバ母材製造用原料などの
液相用液体１５が充填してあり、この液中には、配管１
６を通じてキャリアガスなどの気相気体Ｇｌが導入され
るようになっている。一方、上記第２室１３は、少なくとも第１室１２の液面
より高い上方に設けてあり、その底面１３ａは第１室１
２側に向けて傾斜面としである。また、第２室１３の一部（天井面）には凝縮器（コンデ
ンサ）１７が設置してあり、ここで、凝縮された原料ガ
スを含むキャリアガスは、配管１８を通じて送り出され
るようになっている。また、上記第１室１２内には、この室内の液面上方と液
中底面を開口させた半隔壁１９を設け、液中に供給され
た気相気体Ｇ＋　は、液面上方の開口２０ａを通じて第
２室１３に導かれ、また、第２室１３で凝縮された滴下
液体は、傾斜底面１３ａを通じて第１室１２の液中に落
下供給され、さらに、液中底面の開口２０ｂを通じて半
隔壁１９の反対側に移動するようになっている。しかして、本発明の飽和器１１では、第１室１２に導入
された気相気体Ｇ、は、必要最適温度に加熱保温された
充填液体１５中に入り、この液体１５の蒸発ガスにより
、気相気体Ｇｌに要求される飽和濃度に比較して高い濃
度の過飽和状態で混合（バブリング）される。このバブリングされた気相気体Ｇ１は、液面上方の開口
２０ａを通じて第２室１３に導かれる。この第２室１３では、必要最適温度に設定された凝縮器
１７と接触し、上記気相気体Ｇ、の過飽和分が凝縮され
、露結滴下して、最適な飽和濃度のガスＧ２となって、
外部に送り出される。この第２室１３で凝縮した滴下液体は、傾斜底面１３ａ
を通じて第１室１２の液中に落下供給される。この落下
は、傾斜底面１３ａの傾斜により、極めてスムーズに行
われる。また、落下時、例えば液面が振動などしても、
半隔壁１９により、バブリングを行っている半隔壁１９
の反対側の液面には、全く悪影響を与えることがない。さらに、また、滴下供給された液体は、液中底面の開口
２０ｂを通じて半隔壁１９の反対側に移るため、第１室
中の液面は、常に半隔壁１９の左右で同一高さに自動的
に維持される。したがって、液相用液体１５の供給時期
の管理が容易に行える。なお、上記実施例では、第２室１３の底面１３ａを傾斜
底面としたが、本発明は、これに限定されない。また、
第２室１３の凝縮器１７は、内蔵方式に限定されず、場
合によっては省略することも可能である。

【発明の効果】

以上の説明から明らかなように、本発明によれば、次の
ような優れた効果が得られる。（１）、液相過飽和槽の第１室と気相凝縮槽の第２室と
が実質的に同一の密閉室として構成され、液相用液体が
循環する方式であるため、従来の二段バブリング法のよ
うに別々の槽に液体を供給する煩わしさが解消される。（２）、液相過飽和槽の第１室の液面は、室内の液面上
方と液中底面を開口させた半隔壁により、常に半隔壁の
左右で同一高さに維持されるため、極めて安定した成分
濃度のガスが得られる。したがって、高精度で安定した成分濃度の原料ガス供給
が必要とされる、ＶＡＤ法による光ファイバの製造やＣ
ＶＤ法による薄膜の製造にあったで最適の飽和器が得ら
れる。（３）、また、上記のように半隔壁により、液面の高さ
が同一高さに維持されることから、液体供給の時期選択
が容易に行え、管理が楽である。（４）、さらに、この半隔壁により、第２室側からの凝
縮液体の滴下により、液面に振動が発生したとしても、
バブリング槽側には悪影響を及ぼさないため、この点か
らも、安定したバブリングが得られる。（５）、また、第２室側の底面を傾斜底面としておけば
、凝縮液体のスムーズな落下が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る飽和器の一実施例を示した概略縦
断面図、第２回は従来の二段バブリング法の装置系を示
した概略説明図である。図中、１１・・・・飽和器、１２・・・・第１室、１３・・・・第２室、１３ａ・・・底面、１５・・・・液相用液体、１７・・・・凝縮器、１９・・・・半隔壁、第　　１１ｉ！ｉｔ第　　２　　図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）同一密閉室内を２室に分け、一方の第１室中には
液相用液体を充填すると共に、他方の第２室は前記第１
室の液面より上方に設け、前記第１室内には当該室内の
液面上方と液中底面を開口させた半隔壁を設け、この半
隔壁の前記第２室とは反対側の第１室側には気相用気体
を供給し、該室中の液相により飽和された気相用気体を
前記液面上方の開口を通じて前記第２室に導き、この第
２室で凝縮された液体は前記第１室の半隔壁の第２室側
に戻し、前記液中底面の開口を通じて移動させ、前記第
１室中の液面が常に半隔壁の左右で同一高さに維持され
ることを特徴とする飽和器。
（２）前記第２室の底面を、前記第１室側に向かって傾
斜させたことを特徴とする請求項１記載の飽和器。
（３）前記第２室に凝縮器を内蔵させたことを特徴とす
る請求項１または２記載の飽和器。