JPH04200678A - 基板の処理装置 - Google Patents
基板の処理装置Info
- Publication number
- JPH04200678A JPH04200678A JP33016390A JP33016390A JPH04200678A JP H04200678 A JPH04200678 A JP H04200678A JP 33016390 A JP33016390 A JP 33016390A JP 33016390 A JP33016390 A JP 33016390A JP H04200678 A JPH04200678 A JP H04200678A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- tank
- cleaning
- transporting means
- exhaust port
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 34
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 14
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 9
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 8
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Prevention Of Fouling (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、液晶板などの基板を両面同時に洗浄するなど
の処理をする処理装置に関するものである。
の処理をする処理装置に関するものである。
（発明の背景）
液晶板などの製造過程においては、ガラス基板などの基
板に種々の液を塗布したり洗浄する工程がある。例えば
ガラス基板に透明電極を形成した後、赤のカラーモザイ
クを形成するためのフォトレジスト液を塗布し、乾燥し
、露光した後、不要なレジスト液を洗浄して除去してい
る。そして緑、青についても同様の処理を行うものであ
る。
板に種々の液を塗布したり洗浄する工程がある。例えば
ガラス基板に透明電極を形成した後、赤のカラーモザイ
クを形成するためのフォトレジスト液を塗布し、乾燥し
、露光した後、不要なレジスト液を洗浄して除去してい
る。そして緑、青についても同様の処理を行うものであ
る。
この他種々の塗布液を塗布したりまた洗浄したりしてい
る。
る。
このように基板を洗浄する場合に、基板を水平に搬送し
ながら、その上下両面に同時に洗浄液を噴霧してシャワ
ー洗浄することが考えられている。ここに通常用いられ
る搬送装置は、基板の左右両縁が当たる搬送ローラを備
え、このローラは基板より下方に位置するウオーム歯車
などの駆動系により駆動される。しかしウオーム歯車等
の駆動系やローラからは僅かではあるがゴミや不純物が
発生するから、これらのゴミや不純物が基板の面に付着
しないようにすることが必要になる。
ながら、その上下両面に同時に洗浄液を噴霧してシャワ
ー洗浄することが考えられている。ここに通常用いられ
る搬送装置は、基板の左右両縁が当たる搬送ローラを備
え、このローラは基板より下方に位置するウオーム歯車
などの駆動系により駆動される。しかしウオーム歯車等
の駆動系やローラからは僅かではあるがゴミや不純物が
発生するから、これらのゴミや不純物が基板の面に付着
しないようにすることが必要になる。
Ｃ発明の目的）
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、基
板の搬送手段から発生するゴミや不純物が基板に付着す
るのを防止して製品の歩留まりを向上させることができ
る基板の処理装置を提供することを目的とするものであ
る。
板の搬送手段から発生するゴミや不純物が基板に付着す
るのを防止して製品の歩留まりを向上させることができ
る基板の処理装置を提供することを目的とするものであ
る。
（発明の構成）
本発明によればこの目的は、水平に搬送される基板の処
理装置において、前記基板の搬送手段と、この搬送手段
を囲む処理槽と、前記搬送手段より下方から前記処理槽
内に開口する排気口とを備えることを特徴とする基板の
処理装置、により達成される。
理装置において、前記基板の搬送手段と、この搬送手段
を囲む処理槽と、前記搬送手段より下方から前記処理槽
内に開口する排気口とを備えることを特徴とする基板の
処理装置、により達成される。
またこの同一の目的は、水平に搬送される基板の上下両
面にそれぞれ洗浄液を噴霧する基板の処理装置において
、前記基板を載せる搬送口〜うの駆動系を前記基板より
も下方に配設した搬送手段と、前記基板の上下面に洗浄
液を噴霧する噴霧ノズルと、前記搬送手段および噴霧ノ
ズルを収容する洗浄槽と、前記基板より下方の前記洗浄
槽の側面に開口する排気口とを備えることを特徴とする
基板の処理装置、によっても達成される。
面にそれぞれ洗浄液を噴霧する基板の処理装置において
、前記基板を載せる搬送口〜うの駆動系を前記基板より
も下方に配設した搬送手段と、前記基板の上下面に洗浄
液を噴霧する噴霧ノズルと、前記搬送手段および噴霧ノ
ズルを収容する洗浄槽と、前記基板より下方の前記洗浄
槽の側面に開口する排気口とを備えることを特徴とする
基板の処理装置、によっても達成される。
（実施例）
第１図は本発明の一実施例を搬送方向に直交する平面で
断面した各部の配置図、第２図は同じく側面から見た各
部配置図である。
断面した各部の配置図、第２図は同じく側面から見た各
部配置図である。
これらの図で符号１０は処理槽としての洗浄槽であり、
この洗浄槽１０は基板１２の搬送方向に長く、その上面
は上方へ開閉可能な蓋板１０ａとなっている。洗浄槽１
０の底は排液口１４に向って低くなるように傾斜してい
る。洗浄槽１０の下方には洗浄液タンク１６が収容され
、洗浄槽１゜に噴霧された洗浄液は排液口１４に集めら
れてこのタンク１６に回収される。
この洗浄槽１０は基板１２の搬送方向に長く、その上面
は上方へ開閉可能な蓋板１０ａとなっている。洗浄槽１
０の底は排液口１４に向って低くなるように傾斜してい
る。洗浄槽１０の下方には洗浄液タンク１６が収容され
、洗浄槽１゜に噴霧された洗浄液は排液口１４に集めら
れてこのタンク１６に回収される。
洗浄槽１０内には、基板１２を第２図で右方向へ送る搬
送手段１８が収容されている。この搬送手段１８は、基
板１２の左右の下縁に接する多数のローラ２０と、これ
らローラ２０を保持するフレーム２２と、これらの各ロ
ーラ２ｏを回転駆動する駆動系としてのウオーム歯車２
４とを備える。ここにウオーム歯車２４は基板１２より
も下方に位置する。
送手段１８が収容されている。この搬送手段１８は、基
板１２の左右の下縁に接する多数のローラ２０と、これ
らローラ２０を保持するフレーム２２と、これらの各ロ
ーラ２ｏを回転駆動する駆動系としてのウオーム歯車２
４とを備える。ここにウオーム歯車２４は基板１２より
も下方に位置する。
２６．２８は一列に並べた複数の噴口を有する噴霧ノズ
ルである。これらのノズル２６．２８は基板１２を挟ん
で上下にほぼ対称となる位置にあって、基板１２を横断
する方向に長く配置されている。ノズル２６．２８には
洗浄液ポンプ３゜から洗浄液が圧送される。すなわちこ
のポンプ３ｏはタンク１６から洗浄液を吸い上げ、バイ
ブ３２によって各ノズル２６．２８に供給するものであ
る。
ルである。これらのノズル２６．２８は基板１２を挟ん
で上下にほぼ対称となる位置にあって、基板１２を横断
する方向に長く配置されている。ノズル２６．２８には
洗浄液ポンプ３゜から洗浄液が圧送される。すなわちこ
のポンプ３ｏはタンク１６から洗浄液を吸い上げ、バイ
ブ３２によって各ノズル２６．２８に供給するものであ
る。
３４ （３４ａ、３４ｂ、３４ｃ）は排気口であり、基
板１２よりも下方の洗浄槽１ｏの側面に開口している。
板１２よりも下方の洗浄槽１ｏの側面に開口している。
これらの排気口３４はそれぞれダクト３６ （３６ａ、
３６ｂ、３６ｃ）により集合ダクト３８に導かれ、さら
に図示しない排気ポンプに連通されている。この結果排
気ポンプは洗浄槽１０内に発生する洗浄液の霧を排気口
３４から吸い出して外へ排出する。ここに排気口３４は
基板１２より下方に位置するから、搬送手段１８のウオ
ーム歯車２４などから発生するゴミなどは基板１２の上
方へ舞い上がることがなく、基板１２の下方から直接排
気口３４に入り排出されることになる。このため基板１
２の表面にウオーム歯車２４などから発生するのゴミが
付着することがない。
３６ｂ、３６ｃ）により集合ダクト３８に導かれ、さら
に図示しない排気ポンプに連通されている。この結果排
気ポンプは洗浄槽１０内に発生する洗浄液の霧を排気口
３４から吸い出して外へ排出する。ここに排気口３４は
基板１２より下方に位置するから、搬送手段１８のウオ
ーム歯車２４などから発生するゴミなどは基板１２の上
方へ舞い上がることがなく、基板１２の下方から直接排
気口３４に入り排出されることになる。このため基板１
２の表面にウオーム歯車２４などから発生するのゴミが
付着することがない。
また各排気口３４のダクト３６にはそれぞれダンパ４０
（４０ａ、４０ｂ、４０ｃ）が設けられている。これ
らのダンパ４ｏはそれぞれ独立に開閉制御可能とされ、
各ダンパ４ｏの開度を設定することにより、洗浄槽ｌｏ
内の気流の状態を望ましい状態例えば均等にする。
（４０ａ、４０ｂ、４０ｃ）が設けられている。これ
らのダンパ４ｏはそれぞれ独立に開閉制御可能とされ、
各ダンパ４ｏの開度を設定することにより、洗浄槽ｌｏ
内の気流の状態を望ましい状態例えば均等にする。
この実施例では搬送手段１８の駆動系とじてウオーム歯
車２４を用いているが、本発明はこれに代えてチェーン
駆動としたものであってもよい。
車２４を用いているが、本発明はこれに代えてチェーン
駆動としたものであってもよい。
また本発明は、基板１２の両面を同時にシャワー洗浄す
るものだけでなく、ブラシ洗浄、超音波洗浄、キャビテ
ーション洗浄、液切り、乾燥などの種々の処理を、正面
同時にあるいは片面づつ行うものであってもよい。
るものだけでなく、ブラシ洗浄、超音波洗浄、キャビテ
ーション洗浄、液切り、乾燥などの種々の処理を、正面
同時にあるいは片面づつ行うものであってもよい。
（発明の効果）
請求項は）の発明は以上のように、水平に搬送される基
板よりも下方に位置する排気口から、処理槽内を排気す
るから、搬送手段の駆動系等から発生するゴミや不純物
などは基板より上方へ舞い上がることなく基板の下方か
ら直接排気口に排出されることになり、基板にゴミや不
純物が付着するのを防止することができる。このため製
品の歩留まりが向上する。
板よりも下方に位置する排気口から、処理槽内を排気す
るから、搬送手段の駆動系等から発生するゴミや不純物
などは基板より上方へ舞い上がることなく基板の下方か
ら直接排気口に排出されることになり、基板にゴミや不
純物が付着するのを防止することができる。このため製
品の歩留まりが向上する。
ここで排気口を複数も設けておき、各排気口のダクトに
それぞれ独立に開閉可能なダンパを設けた場合には、処
理槽内の気流を各ダンパの開度設定によって制御できる
（請求項（２））。
それぞれ独立に開閉可能なダンパを設けた場合には、処
理槽内の気流を各ダンパの開度設定によって制御できる
（請求項（２））。
また請求項（３）の発明によれば、両面を同時にシャワ
ー洗浄するものにおいて、前記請求項（１）の発明と同
様な効果が得られる。
ー洗浄するものにおいて、前記請求項（１）の発明と同
様な効果が得られる。
第１図は本発明の一実施例を搬送方向に直交する平面で
断面した各部の配置図、第２図は同じく側面から見た各
部配置図である。 １０・・・処理槽としての洗浄槽、 １２・・一基板、 １６・・−洗浄液タンク、 １８・・・搬送手段、 ２０・・・搬送ローラ、 ２４・・・駆動系としてのウオーム歯車、２６．２８・
・・噴霧ノズル、 ３４・・・排気口、 ３８・・・ダクト、４０・・・ダンパ。 特許出願人 株式会社 芝浦製作所
断面した各部の配置図、第２図は同じく側面から見た各
部配置図である。 １０・・・処理槽としての洗浄槽、 １２・・一基板、 １６・・−洗浄液タンク、 １８・・・搬送手段、 ２０・・・搬送ローラ、 ２４・・・駆動系としてのウオーム歯車、２６．２８・
・・噴霧ノズル、 ３４・・・排気口、 ３８・・・ダクト、４０・・・ダンパ。 特許出願人 株式会社 芝浦製作所
Claims (3)
- （１）水平に搬送される基板の処理装置において、前記
基板の搬送手段と、この搬送手段を囲む処理槽と、前記
搬送手段より下方から前記処理槽内に開口する排気口と
を備えることを特徴とする基板の処理装置。 - （２）前記排気口は複数設けられ、各排気口に連通する
ダクトにはそれぞれ独立に開閉制御可能なダンパが設け
られている請求項（１）の基板の処理装置。 - （３）水平に搬送される基板の上下両面にそれぞれ洗浄
液を噴霧する基板の処理装置において、 前記基板を載せる搬送ローラの駆動系を前記基板よりも
下方に配設した搬送手段と、前記基板の上下面に洗浄液
を噴霧する噴霧ノズルと、前記搬送手段および噴霧ノズ
ルを収容する洗浄槽と、前記基板より下方の前記洗浄槽
の側面に開口する排気口とを備えることを特徴とする基
板の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33016390A JPH04200678A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 基板の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33016390A JPH04200678A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 基板の処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04200678A true JPH04200678A (ja) | 1992-07-21 |
Family
ID=18229521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33016390A Pending JPH04200678A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 基板の処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04200678A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013202547A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| CN110369432A (zh) * | 2019-07-19 | 2019-10-25 | 创富东日(深圳)科技有限公司 | 非表面接触式玻璃清洗机 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5112950U (ja) * | 1974-07-16 | 1976-01-30 | ||
| JPS601489B2 (ja) * | 1977-04-28 | 1985-01-16 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | 駆動軸と自在継手との組合わせとその方法 |
| JPS63270486A (ja) * | 1987-11-28 | 1988-11-08 | Naniwa Seitei Kk | 帯状材の表面処理装置 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP33016390A patent/JPH04200678A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5112950U (ja) * | 1974-07-16 | 1976-01-30 | ||
| JPS601489B2 (ja) * | 1977-04-28 | 1985-01-16 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | 駆動軸と自在継手との組合わせとその方法 |
| JPS63270486A (ja) * | 1987-11-28 | 1988-11-08 | Naniwa Seitei Kk | 帯状材の表面処理装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013202547A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| CN110369432A (zh) * | 2019-07-19 | 2019-10-25 | 创富东日(深圳)科技有限公司 | 非表面接触式玻璃清洗机 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4495618B2 (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
| TWI228058B (en) | Substrate treatment apparatus and substrate washing method | |
| JP3070511B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
| CN101219427A (zh) | 基板处理装置 | |
| JP3777542B2 (ja) | ノズル装置及び塗布装置及び塗布方法 | |
| KR100812562B1 (ko) | 기판코팅시스템 | |
| KR20030039318A (ko) | 기판처리장치 | |
| JPH04200678A (ja) | 基板の処理装置 | |
| KR101160535B1 (ko) | 기판의 처리 장치 | |
| JP3526692B2 (ja) | 基板の液切り装置 | |
| KR100481156B1 (ko) | 건조장치 | |
| WO2002073672A1 (fr) | Dispositif de traitement de substrat | |
| KR100432053B1 (ko) | 건조장치 | |
| JP4213805B2 (ja) | 乾燥処理装置 | |
| JP4663919B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
| JP2001108977A (ja) | 液晶表示装置の製造装置およびその方法 | |
| JP2001035778A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2988828B2 (ja) | 基板の液切り乾燥装置 | |
| JPH08338686A (ja) | 基板乾燥方法及びその装置 | |
| JP3843252B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| KR100725038B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| KR20030083129A (ko) | 플라즈마를 이용한 ｔｆｔ－ｌｃｄ 세정방법 및 이를이용한 ｔｆｔ－ｌｃｄ제조장비 | |
| KR0133342B1 (ko) | 배기수단이 장착된 기판 세정장치 | |
| JPH1197407A (ja) | 基板乾燥装置 | |
| JPH11352448A (ja) | 基板処理装置 |