JPH04198009A - 炭化珪素粉末の製造方法 - Google Patents

炭化珪素粉末の製造方法

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JPH04198009A
JPH04198009A JP2326206A JP32620690A JPH04198009A JP H04198009 A JPH04198009 A JP H04198009A JP 2326206 A JP2326206 A JP 2326206A JP 32620690 A JP32620690 A JP 32620690A JP H04198009 A JPH04198009 A JP H04198009A
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JP
Japan
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gas
powder
sic
arc
hydrocarbon
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Pending
Application number
JP2326206A
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English (en)
Inventor
Yasuhiko Sakaguchi
泰彦 阪口
Matao Araya
荒谷 復夫
Masato Ishizaki
正人 石崎
Tetsuo Kawahara
哲郎 河原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は炭化珪素(以下SiCと記載する)粉末の製造
方法に係り、特に、高純度のSiC粉末を安価に製造す
ることができる方法に関する。
〔従来の技術〕
SiCは高硬度材料や耐熱セラミックスとして注目され
ており、このような用途に対してSiCは一般に焼結体
として利用されており、焼結用原料としては高純度の微
粉状のSiCが要求されている。
従来、SiC粉末の製造方法としては、炭素(C)原料
と珪石等をアジソン炉等の抵抗加熱方式により高温下で
反応させ、得られたSiC塊を粉砕・分級する方法や、
特開昭63−147812号公報に開示されたような、
二酸化珪素粉末と炭素粉末とをプラズマフレーム中に導
入することにより反応させて、SiC粉末を製造する方
法が知られている。
アジソン炉を用いる方法では、製造されるSiCが塊状
であるためこれを粉砕する必要がある。しかし、この粉
砕工程ではSiCが多大な汚染を受けるために、高純度
SiCを得ることが困難であった。さらに、粉砕しなけ
ればならないので安価に微粉を製造することも極めて難
しいという問題があった。
また、特開昭63−147812号公報の方法では、原
料の炭素の二酸化珪素に対するモル比を2.5〜3.5
の範囲で混合した粉末を用いるので、SiCの製造を安
定して行うには両粉末を均一に混合する装置が必要とな
り、コストが大となり、また、混合を行うときに装置か
らの汚染があり、高純度SiCを得るのが難しいという
問題があった。また安価な炭素粉末は純度が99,9%
位で、高純度SiC粉末の製造には使用し得ない。
[発明が解決しようとする課題1 本発明は、上記従来技術の問題点を解決し、高純度かつ
粉末状のSiCを安価に製造する方法を提供しようとす
るものである。
[課題を解決するための手段1 本発明は前記課題を解決するために、黒鉛製の中空アー
ク電極の中空部を通して、二酸化珪素粉末を炭化水素ガ
スと不活性ガスとの混合ガスで搬送して電極間のアーク
火点に導入し、該炭化水素の熱分解により生成した炭素
と二酸化珪素とを反応させることを特徴とする炭化珪素
粉末の製造方法を提供するものである。
[作用] SiCの生成反応は、 SiO2+3C−ISiC+2CO(1)という反応式
で進行する。
SiCの生成反応は1530℃以上で進行するが、アー
ク電極の先端でアークを発生させると、電極先端の温度
が2000℃以上となり、電極内あるいは電極先端部で
(1)式の反応が進みSiCが生成する。しかし、この
方法ではアーク電極が炭素源となるので、常時C/5i
02モル比2゜5〜3.5で炭素電極が消耗し、また、
電極の純度がSiCの純度に大きく影響する。
このため、特開昭63−147812号公報に開示され
た炭素粉末を同時に吹込む方法があるが、この方法では
前述したようなコストや純度面で問題である。
そこで本発明では、搬送ガスに炭化水素ガスと不活性ガ
スの混合ガスを用いる。
炭化水素ガスは、例えばプロパンガス、ブタンガスが用
いられ、プロパンガスの場合には800℃で次式の如(
、 C3H8−3C+4H2(2) 炭素と水素とに熱分解する。この反応は(1)式の反応
より低い温度領域で起こるのでプロパンガスは中空電極
内で炭素を生成し、アーク火点に吹込まれるこの炭素が
(1)式の反応炭素源として二酸化珪素と反応しSiC
を生成する。また、この炭素の一部は中空電極の内面に
付着し、電極内部での電極と二酸化珪素との反応を抑制
する働きをする。この結果、炭素粉末を吹込んだときに
比べ黒鉛電極の消耗及びこれによる不純物の混入を低減
することができる。
プロパンガス等の炭化水素ガスは、粉末状C原料に比し
て高純度のものを安価に入手することができ、SiCの
純度を向上させるとともに製造コストを低減させること
ができる。
本発明における不活性ガスとしてはAr。
He、H2、Coなどの炭化珪素に対し不活性なガスが
使用される。
また、この方法で得られるSiCの粒径は吹込む二酸化
珪素の粒径に依存し、粒径の小さい二酸化珪素を用いれ
ば得られる粉末SiCの粒径は小さくなり、生成したS
iCを粉砕する必要がなく製造コストを低減させること
ができる。
〔実施例〕
第1図は本発明の〜実施例に用いられたSiC製造装置
の系統図である。
SiC反応装置1内に1対の中空黒鉛製アーク電極2を
挿入する。原料となる二酸化珪素粉末は貯蔵タンク4に
貯蔵され、切出装置5によって所定量供給される。切出
装置を出た二酸化珪素を、搬送ガス9として炭化水素ガ
スとArガスとの混合ガスを用いて気体輸送し、画電極
の中空部7を通してアーク火点3に導入する。炭化水素
ガスは電極の中空部で熱分解し、一部は電極内面に付着
し、残りはアーク火点部に導入される。導入された二酸
化珪素粉末は熱分解により生成した炭素や黒鉛電極2と
アーク火点部の熱によって反応し、S i C粉として
反応装置内に吹込まれる。生成したSiC粉末は排ガス
10とともに反応装置外へ排出され、集塵袋Wt8で捕
集される。
本装置を用いてSiC粉末を製造した実施例及び比較例
を示す。共通した製造条件は次の通りである。
黒鉛製中空アーク電極 外径70mm アーク電力      70kW 二酸化珪素      平均粒径1100Ii供給速度
6kg/hr 比較例1 搬送ガスにArガスのみを用いた。
Ar供給量      3Nm’/hrアーク電極消耗
量   C/Si02 モル比 2.9 SiC製造量     3.5kg/hrSiC中不純
物    AJ2 : 3ppmCa:3ppm Fe : 20ppm TL:3ppm 比較例2 搬送ガスにArガスのみを用い、炭素粉末を二酸化珪素
粉末に混合した。
炭素粉末供給量    C/SiO2 モル比 2 Ar供給量      3Nrri″/ h rアーク
電極消耗量   C/SiO2 モル比 1.4 SiC製造量     3.3 k g / h rS
iC中不純物    AJ2 : 10ppmCa :
 20ppm Fe : 100100 pp:8ppm 実施例 搬送ガスにプロパンとArの混合ガスを用いた。
プロパンガス供給量  1.5N耐/ h rAr供給
量      1.5 Nrd/ h rアーク電極消
耗量   C/5i02 モル比 1.1 SiC製造量     3.4 k g / h rS
iC中不純物    Fe : 8ppm他の元素 :lppm以下 得られたSiC粉末は粒径100μmで、粉砕が不要な
高純度のSiC粉末が得られた。また、アーク電極の消
耗量は本発明のときにもっとも低減できた。
[発明の効果] 本発明により、従来技術の問題点が解決され高純度かつ
低コストでSiC粉末を容易に製造できるようになった
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の実施例に用いられたSiC製造装置を
示す系統図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 黒鉛製の中空アーク電極の中空部を通して、二酸化
    珪素粉末を炭化水素ガスと不活性ガスとの混合ガスで搬
    送して電極間のアーク火点内に導入し、該炭化水素の熱
    分解により生成した炭素と二酸化珪素とを反応させるこ
    とを特徴とする炭化珪素粉末の製造方法。
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