JPH04192351A - 半導体装置及びその形成方法 - Google Patents
半導体装置及びその形成方法Info
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- JPH04192351A JPH04192351A JP31975290A JP31975290A JPH04192351A JP H04192351 A JPH04192351 A JP H04192351A JP 31975290 A JP31975290 A JP 31975290A JP 31975290 A JP31975290 A JP 31975290A JP H04192351 A JPH04192351 A JP H04192351A
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
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-
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- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
Landscapes
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置に関し、特に、パワートランジス
タ等、単体構造の半導体装置に適用して有効な技術に関
するものである。
タ等、単体構造の半導体装置に適用して有効な技術に関
するものである。
レジンパワートランジスタ等、単体構造の半導体装置は
パワートランジスタを搭載し、た半導体ペレットを樹脂
(レジンパッケージノで気密封止する。
パワートランジスタを搭載し、た半導体ペレットを樹脂
(レジンパッケージノで気密封止する。
半導体ペレットは金属ヘッダ(フレーム)の表面に搭載
される。半導体ペレットの外部端子(ポンディングパッ
ド)はボンディングワイヤを介してリードのインナ一部
に電気的に接続される。半導体ペレットに搭載されるパ
ワートランジスタがバイポーラトランジスタの場合、金
属ヘッダの一端側からはコレクタリードが引出される。
される。半導体ペレットの外部端子(ポンディングパッ
ド)はボンディングワイヤを介してリードのインナ一部
に電気的に接続される。半導体ペレットに搭載されるパ
ワートランジスタがバイポーラトランジスタの場合、金
属ヘッダの一端側からはコレクタリードが引出される。
ベースリード、エミッタリードの夫々は、金属ヘッダ及
びコレクタリードと分離され、前記コレクタリードの両
側に夫々が配置される。
びコレクタリードと分離され、前記コレクタリードの両
側に夫々が配置される。
前記単体構造の半導体装置の樹脂はトランスファモール
ド法で形成される。このトランスファモールド法での樹
脂封止は次のとおり行われる。まず、金型の上型及び下
型で形成されるキャビティ内に金属ヘッダ及びその表面
に搭載された半導体ペレットを配置する。次に、前記金
型のキャビティ内に流動性樹脂を注入し、この流動性樹
脂を硬化する。この結果、金型のキャビティの形状に成
型された樹脂が形成され、この樹脂の内部には半導体ペ
レット等が気密封止される。
ド法で形成される。このトランスファモールド法での樹
脂封止は次のとおり行われる。まず、金型の上型及び下
型で形成されるキャビティ内に金属ヘッダ及びその表面
に搭載された半導体ペレットを配置する。次に、前記金
型のキャビティ内に流動性樹脂を注入し、この流動性樹
脂を硬化する。この結果、金型のキャビティの形状に成
型された樹脂が形成され、この樹脂の内部には半導体ペ
レット等が気密封止される。
単体構造の半導体装置は、前述のトランスファモールド
法に基づく樹脂封止の際、金属ヘッダの一端側(各リー
ド)を金型のダムで挟持し、金属ヘッダの他端側をヘッ
ダ押えピンで挟持する。ヘッダ押えピンは、金属ヘッダ
の一端側の挟持では片持ばり構造となり、樹脂封止の際
の金属ヘッダの他端側か上下に変動するので、これを防
止する目的で使用される。金属ヘッダの他端側の上下の
変動は、放熱板が取付けられる金属ヘッダの裏面側の樹
脂の厚さにばらつきを生じ、厚い場合には放熱性が低下
し、薄い場合には絶縁性が低下する。
法に基づく樹脂封止の際、金属ヘッダの一端側(各リー
ド)を金型のダムで挟持し、金属ヘッダの他端側をヘッ
ダ押えピンで挟持する。ヘッダ押えピンは、金属ヘッダ
の一端側の挟持では片持ばり構造となり、樹脂封止の際
の金属ヘッダの他端側か上下に変動するので、これを防
止する目的で使用される。金属ヘッダの他端側の上下の
変動は、放熱板が取付けられる金属ヘッダの裏面側の樹
脂の厚さにばらつきを生じ、厚い場合には放熱性が低下
し、薄い場合には絶縁性が低下する。
前記樹脂封止の際に使用されたヘッダ押えピンは樹脂の
硬化後に取外される。ヘッダ押えピンが取外されると、
樹脂から金属ヘッダの他端側の一部の表面が露出するの
で、この露出する領域には絶縁材が形成される。絶縁材
としては、例えば滴下(所謂ポツティング)技術で塗布
され、この後のベーク処理で硬化された樹脂系材料が使
用される。
硬化後に取外される。ヘッダ押えピンが取外されると、
樹脂から金属ヘッダの他端側の一部の表面が露出するの
で、この露出する領域には絶縁材が形成される。絶縁材
としては、例えば滴下(所謂ポツティング)技術で塗布
され、この後のベーク処理で硬化された樹脂系材料が使
用される。
本発明者は、前述の単体構造の半導体装置において、下
記の問題点を見呂した。
記の問題点を見呂した。
前述の単体構造の半導体装置は、トランスファモールド
法により形成された樹脂で金属ヘッダ及びその表面に搭
載された半導体ペレットを封止した後、この樹脂封止の
際に使用されるヘッダ押えピンを取外した領域に再度絶
縁材を形成する。このため、単体構造の半導体装置の樹
脂封止後の形成工程数が増加する。
法により形成された樹脂で金属ヘッダ及びその表面に搭
載された半導体ペレットを封止した後、この樹脂封止の
際に使用されるヘッダ押えピンを取外した領域に再度絶
縁材を形成する。このため、単体構造の半導体装置の樹
脂封止後の形成工程数が増加する。
また、この問題点を解決するために、トランスファモー
ルド法での樹脂封止の際にヘッダ押えピンを使用しない
ことが考えられる6しがしながら、ヘッダ押えピンを使
用しない場合、前述のように樹脂の金属ヘッダの裏面側
の厚さにばらつきを生しるので、単体構造の半導体装置
の信頼性が低下する。
ルド法での樹脂封止の際にヘッダ押えピンを使用しない
ことが考えられる6しがしながら、ヘッダ押えピンを使
用しない場合、前述のように樹脂の金属ヘッダの裏面側
の厚さにばらつきを生しるので、単体構造の半導体装置
の信頼性が低下する。
本発明の目的は、単体構造の半導体装置において、樹脂
封止後の形成工程数を低減すると共に、放熱性や絶縁耐
圧を向上し、信頼性を向上することが可能な技術を提供
することにある。
封止後の形成工程数を低減すると共に、放熱性や絶縁耐
圧を向上し、信頼性を向上することが可能な技術を提供
することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
金属ヘッダのリードの引呂し側の一端を金型で挟持し、
この金属ヘッダの他端側をヘッダ押えピンで挟持した状
態で、前記金属ヘッダ及びその表面に搭載される半導体
ペレットをトランスファモールド法で形成する樹脂で封
止する半導体装置において、前記金属ヘッダの他端側の
前記ヘッダ押えピンが当接する領域に絶縁体を形成し、
この絶縁体が形成された金属ヘッダを前記トランスファ
モールド法で形成された樹脂で封止する。前記絶縁体と
しては、アルマイト、エポキシ系樹脂等を使用する。
この金属ヘッダの他端側をヘッダ押えピンで挟持した状
態で、前記金属ヘッダ及びその表面に搭載される半導体
ペレットをトランスファモールド法で形成する樹脂で封
止する半導体装置において、前記金属ヘッダの他端側の
前記ヘッダ押えピンが当接する領域に絶縁体を形成し、
この絶縁体が形成された金属ヘッダを前記トランスファ
モールド法で形成された樹脂で封止する。前記絶縁体と
しては、アルマイト、エポキシ系樹脂等を使用する。
上述した手段によれば、前記半導体装置の金属ヘッダの
ヘッダ押えピンが当接する領域に予じめ絶縁体を形成し
、金属ヘッダが樹脂から露出しなくなるので、前記トラ
ンスファモールド法による樹脂の封止後に、再度、金属
ヘッダの露出する領域を埋込む工程を廃止でき、半導体
装置の樹脂の封止後の形成工程数を低減できる。また、
前記トランスファモールド法による樹脂の封止の際、金
属ヘッダの他端側をヘッダ押えピンで挟持するので、金
属ヘッダの他端側の上下の変動を低減し、金属ヘッダの
表面(半導体ペレットの搭載面)側、裏面側の夫々の樹
脂の厚さのばらつきを低減できる。この結果、前記半導
体装置の樹脂の金属ヘッダの裏面側の厚さが、厚くなる
ことによる放熱性の低下を低減し、又薄くなることによ
る111!a:耐圧の低下を低減できるので、半導体装
置の信頼性を向上できる。
ヘッダ押えピンが当接する領域に予じめ絶縁体を形成し
、金属ヘッダが樹脂から露出しなくなるので、前記トラ
ンスファモールド法による樹脂の封止後に、再度、金属
ヘッダの露出する領域を埋込む工程を廃止でき、半導体
装置の樹脂の封止後の形成工程数を低減できる。また、
前記トランスファモールド法による樹脂の封止の際、金
属ヘッダの他端側をヘッダ押えピンで挟持するので、金
属ヘッダの他端側の上下の変動を低減し、金属ヘッダの
表面(半導体ペレットの搭載面)側、裏面側の夫々の樹
脂の厚さのばらつきを低減できる。この結果、前記半導
体装置の樹脂の金属ヘッダの裏面側の厚さが、厚くなる
ことによる放熱性の低下を低減し、又薄くなることによ
る111!a:耐圧の低下を低減できるので、半導体装
置の信頼性を向上できる。
以下、本発明の構成について、レジンパワートランジス
タに本発明を適用した一実施例とともに説明する。
タに本発明を適用した一実施例とともに説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
本発明の一実施例である単体構造の半導体装置(レジン
パワートランジスタ)の構成を第1図(断面図)、第2
図(一部の樹脂を除いた平面図)及び第3図(平面図)
で示す。
パワートランジスタ)の構成を第1図(断面図)、第2
図(一部の樹脂を除いた平面図)及び第3図(平面図)
で示す。
第1図乃至第3図に示すように、単体構造の半導体装置
(レジンパワートランジスタ)lは、金属ヘッダ(フレ
ーム)2Aの表面に半導体ペレット3を搭載し、これら
を樹脂(レジン)6で封止する。
(レジンパワートランジスタ)lは、金属ヘッダ(フレ
ーム)2Aの表面に半導体ペレット3を搭載し、これら
を樹脂(レジン)6で封止する。
前記半導体ペレット3は単結晶珪素基板で形成される。
この半導体ペレット3にはパワートランジスタとしての
バイポーラトランジスタが搭載される。バイポーラトラ
ンジスタは、その詳細な構造を示していないが、単結晶
珪素基板をコレクタ@域として使用し、このコレクタ領
域の主面部にベース領域、このベース領域の主面部にエ
ミッタ領域の夫々を形成し、構成される。半導体ペレッ
ト3の表面側には図示しないがエミッタ領域に接続され
た外部端子(ポンディングパッド)及びベース領域に接
続された外部端子が配置される。
バイポーラトランジスタが搭載される。バイポーラトラ
ンジスタは、その詳細な構造を示していないが、単結晶
珪素基板をコレクタ@域として使用し、このコレクタ領
域の主面部にベース領域、このベース領域の主面部にエ
ミッタ領域の夫々を形成し、構成される。半導体ペレッ
ト3の表面側には図示しないがエミッタ領域に接続され
た外部端子(ポンディングパッド)及びベース領域に接
続された外部端子が配置される。
前記金属へラダ2Aは、前記半導体ペレット3を搭載し
、この半導体ペレット3に搭載されたバイポーラトラン
ジスタのコレクタ領域と電気的に接続される。第1図乃
至第3図に示すよう1.−1金属へラダ2Aの左側の一
端にはコレクタリード2Cが一体に構成され電気的に接
続される。コレクタリード2Cの上下両側の夫々にはエ
ミッタリード2E、ベースリード2Bの夫々が配置され
る。
、この半導体ペレット3に搭載されたバイポーラトラン
ジスタのコレクタ領域と電気的に接続される。第1図乃
至第3図に示すよう1.−1金属へラダ2Aの左側の一
端にはコレクタリード2Cが一体に構成され電気的に接
続される。コレクタリード2Cの上下両側の夫々にはエ
ミッタリード2E、ベースリード2Bの夫々が配置され
る。
エミッタリード2E、ベースリード2Bの夫々は金属へ
ラダ2Aと分離され配置される。このエミッタリード2
E、ベースリード2Bの夫々は、半導体ペレット3の外
部端子にボンディングワイヤ4を介して電気的に接続さ
れる。前記金属ヘッダ2A、コレクタリードZC,エミ
ッタリード2E。
ラダ2Aと分離され配置される。このエミッタリード2
E、ベースリード2Bの夫々は、半導体ペレット3の外
部端子にボンディングワイヤ4を介して電気的に接続さ
れる。前記金属ヘッダ2A、コレクタリードZC,エミ
ッタリード2E。
ベースリード2Bの夫々は厚さは異なるが同一のリード
フレームから切断される。このリードフレームは例えば
Cu又はCu系合金で形成される。
フレームから切断される。このリードフレームは例えば
Cu又はCu系合金で形成される。
前記金属へラダ2Aの中央部分には開口2Dが構成され
る。この間口2Dは単体構造の半導体装置1を金属ヘッ
ダ2Aの裏面側において金属性放熱板(図示しない)に
取付ける際の取付は穴(6A)を形成する目的で構成さ
れる。
る。この間口2Dは単体構造の半導体装置1を金属ヘッ
ダ2Aの裏面側において金属性放熱板(図示しない)に
取付ける際の取付は穴(6A)を形成する目的で構成さ
れる。
前記金属へラダ2Aの他端側の表面及び裏面、つまり、
後述するトランスファモールド法での樹脂封止の際に使
用されるヘッダ押えピン(10)が当接する領域には絶
縁体5が構成される。#@縁体5は基本的にトランスフ
ァモールド法で形成される樹脂6が形成される前におい
て金属へラダ2Aの他端側の表面及び裏面に形成される
。
後述するトランスファモールド法での樹脂封止の際に使
用されるヘッダ押えピン(10)が当接する領域には絶
縁体5が構成される。#@縁体5は基本的にトランスフ
ァモールド法で形成される樹脂6が形成される前におい
て金属へラダ2Aの他端側の表面及び裏面に形成される
。
絶縁体5は少なくともヘッダ押えピン(10)の当接面
積にトランスファモールド法での樹脂封止の際のヘッダ
押えピン(10)との位置ずれ量に対応する面積を付加
した面積(パターン)で構成される。
積にトランスファモールド法での樹脂封止の際のヘッダ
押えピン(10)との位置ずれ量に対応する面積を付加
した面積(パターン)で構成される。
つまり、絶縁体5は、ヘッダ押えピン(10)の当接面
積に比へて位置ずれ量に相当する分大きいサイズで構成
される。
積に比へて位置ずれ量に相当する分大きいサイズで構成
される。
絶縁体5は、基本的に絶縁性を有し、樹脂封止の際に溶
融しない耐熱性を有していればよいが、ヘッダ押えピン
(10)の当接の際に金属ヘッダ2Aに位置ブレを発生
させない目的で適度な硬度を有する材料を使用する。具
体的に、#@縁体5はアルマイトで形成する。絶縁体5
としてアルマイトを使用する場合、金属へラダ2Aに貼
り付けるために接着層例えば樹脂系接着剤を使用する。
融しない耐熱性を有していればよいが、ヘッダ押えピン
(10)の当接の際に金属ヘッダ2Aに位置ブレを発生
させない目的で適度な硬度を有する材料を使用する。具
体的に、#@縁体5はアルマイトで形成する。絶縁体5
としてアルマイトを使用する場合、金属へラダ2Aに貼
り付けるために接着層例えば樹脂系接着剤を使用する。
樹脂封止の際にアルマイトを保持できれば、樹脂封止後
には樹脂6でアルマイトを保持できるので、前述の接着
層は廃止できる。また、絶縁体5は、樹脂6(例えば、
後述するがエポキシ系樹脂を使用)との密着性や線膨張
係数を適合させる目的で、エポキシ系樹脂で形成しても
よい。絶縁体5としてエポキシ系樹脂を使用する場合、
板状のエポキシ系樹脂を金属へラダ2Aに貼り付けるか
、或は滴下技術で流動性エポキシ系樹脂を金属ヘッダ2
Aに塗布しこの後硬化させればよい。
には樹脂6でアルマイトを保持できるので、前述の接着
層は廃止できる。また、絶縁体5は、樹脂6(例えば、
後述するがエポキシ系樹脂を使用)との密着性や線膨張
係数を適合させる目的で、エポキシ系樹脂で形成しても
よい。絶縁体5としてエポキシ系樹脂を使用する場合、
板状のエポキシ系樹脂を金属へラダ2Aに貼り付けるか
、或は滴下技術で流動性エポキシ系樹脂を金属ヘッダ2
Aに塗布しこの後硬化させればよい。
前記樹脂6は前述の金属へラダ2A、その表面に搭載さ
れた半導体ベレット3等を気密封止する。
れた半導体ベレット3等を気密封止する。
この樹脂6はトランスファモールド法で形成される。樹
脂6としては例えばエポキシ系樹脂を使用する。樹脂6
の前記金属へラダ2Aの中央部分に形成された開口2D
に対応する位置には、金属性放熱板に取付ける際にビス
を通すための取付は穴(貫通穴)6Aが構成される。ま
た、樹脂6の金属へラダ2Aの他端側に形成された絶縁
体5に対応する位置には、ヘッダ押えピン(10)の使
用で形成される開口6Bが形成される。この開口6B内
には#@縁体5が露出するが、絶縁体5で金属ヘッダ2
Aの表面が被覆されているので、開口6Bからは金属ヘ
ッダ2Aの表面が露出しない。
脂6としては例えばエポキシ系樹脂を使用する。樹脂6
の前記金属へラダ2Aの中央部分に形成された開口2D
に対応する位置には、金属性放熱板に取付ける際にビス
を通すための取付は穴(貫通穴)6Aが構成される。ま
た、樹脂6の金属へラダ2Aの他端側に形成された絶縁
体5に対応する位置には、ヘッダ押えピン(10)の使
用で形成される開口6Bが形成される。この開口6B内
には#@縁体5が露出するが、絶縁体5で金属ヘッダ2
Aの表面が被覆されているので、開口6Bからは金属ヘ
ッダ2Aの表面が露出しない。
次に、前述の単体構造の半導体装置1の形成方法につい
て、第4図及び第5図(所定の形成工程での断面図)を
使用し、簡単に説明する。
て、第4図及び第5図(所定の形成工程での断面図)を
使用し、簡単に説明する。
まず、第4図に示すように、切断前のリードフレームの
枠体に連結された状態の金属ヘッダ2Aの表面に半導体
ペレット3を搭載し、ボンディングワイヤ4を形成する
。ボンディングワイヤ4は、半導体ペレット3の外部端
子とベースリード2Bとの間、前記外部端子とエミッタ
リード2Eとの間を夫々接続する。また、この金属へラ
ダ2Aの他端側の表面及び裏面には絶縁体5を形成する
。
枠体に連結された状態の金属ヘッダ2Aの表面に半導体
ペレット3を搭載し、ボンディングワイヤ4を形成する
。ボンディングワイヤ4は、半導体ペレット3の外部端
子とベースリード2Bとの間、前記外部端子とエミッタ
リード2Eとの間を夫々接続する。また、この金属へラ
ダ2Aの他端側の表面及び裏面には絶縁体5を形成する
。
この11体5は、トランスファモールド法での樹脂封止
前であれば、半導体ペレット3を金属へラダ2Aに搭載
する前或は後のいずれに形成してもよい。
前であれば、半導体ペレット3を金属へラダ2Aに搭載
する前或は後のいずれに形成してもよい。
次に、第5図に示すように、トランスファモールド法で
の樹脂封止を行う。まず、前記リードフレームの金属ヘ
ッダ2Aを金型の上型7及び下型8で形成されるキャビ
ティ9内に配置する。金属へラダ2Aの一端側のコレク
タリード2C,エミッタリード2E及びベースリード2
Bは金型のダム部で挟持され、金属ヘッダ2Aの他端側
は絶縁体5を介してヘッダ押えピン10で挟持される。
の樹脂封止を行う。まず、前記リードフレームの金属ヘ
ッダ2Aを金型の上型7及び下型8で形成されるキャビ
ティ9内に配置する。金属へラダ2Aの一端側のコレク
タリード2C,エミッタリード2E及びベースリード2
Bは金型のダム部で挟持され、金属ヘッダ2Aの他端側
は絶縁体5を介してヘッダ押えピン10で挟持される。
この後、金型のキャビティS内に流動性樹脂を注入し、
硬化することにより、前述の第1図乃至第3図に示す樹
脂6が成型され形成される。
硬化することにより、前述の第1図乃至第3図に示す樹
脂6が成型され形成される。
次に、前記金型及びヘッダ押えピン10を取外し、コレ
クタリード2C、エミッタリード2E、ベースリード2
Bの夫々をリードフレームの枠体から切り離す。この切
断工程により、前述の第1図乃至第3図に示す単体構造
の半導体装置1は完成する。
クタリード2C、エミッタリード2E、ベースリード2
Bの夫々をリードフレームの枠体から切り離す。この切
断工程により、前述の第1図乃至第3図に示す単体構造
の半導体装置1は完成する。
このように、金属ヘッダ2Aのリード(2C92E、2
B)の引出し側の一端を金型で挟持し。
B)の引出し側の一端を金型で挟持し。
この金属ヘッダ2Aの他端側をヘッダ押えピン10で挟
持した状態で、前記金属ヘッダ2A及びその表面に搭載
される半導体ペレット3をトランスファモールド法で形
成する樹脂6で封止する単体構造の半導体装置(レジン
パワートランジスタ)1において、前記金属ヘッダ2A
の他端側の前記ヘッダ押えピン10が当接する領域に絶
縁体5を形成し。
持した状態で、前記金属ヘッダ2A及びその表面に搭載
される半導体ペレット3をトランスファモールド法で形
成する樹脂6で封止する単体構造の半導体装置(レジン
パワートランジスタ)1において、前記金属ヘッダ2A
の他端側の前記ヘッダ押えピン10が当接する領域に絶
縁体5を形成し。
この絶縁体5が形成された金属へラダ2Aを前記トラン
スファモールド法で形成された樹脂6で封止する。前記
絶縁体5としてはアルマイト、エポキシ系樹脂等を使用
する。この構成により、前記単体構造の半導体装置lの
金属ヘッダ2Aのヘッダ押えピン10が当接する領域に
予じめ絶縁体5を形成し、金属ヘッダ2Aが樹脂6から
露出しなくなるので、前記トランスファモールド法によ
る樹脂6の封止後に、再度、金属へラダ2Aの露出する
領域を埋込む工程を廃止でき、単体構造の半導体装直重
の樹脂6の封止後の形成工程数を低減できる。また、前
記トランスファモールド法による樹脂6の封止の際、金
属ヘッダ2Aの他端側を/\ッダ押えピン10で挟持す
るので、金属へラダ2Aの他端側の上下の変動を低減し
、金属ヘッダ2人の表面(半導体ペレット3の搭載面)
側、裏面側の夫々の樹脂6の厚さのばらつきを低減でき
る99、二の結果、前記単体構造の半導体装置lの樹脂
6の金属ヘッダ2Aの裏面側の厚さが、厚くなることに
よる放熱性の低下を低減し、又薄くなることによる絶縁
耐圧の低下を低減できるので、単体構造の半導体装直重
の信頼性を向上できる。
スファモールド法で形成された樹脂6で封止する。前記
絶縁体5としてはアルマイト、エポキシ系樹脂等を使用
する。この構成により、前記単体構造の半導体装置lの
金属ヘッダ2Aのヘッダ押えピン10が当接する領域に
予じめ絶縁体5を形成し、金属ヘッダ2Aが樹脂6から
露出しなくなるので、前記トランスファモールド法によ
る樹脂6の封止後に、再度、金属へラダ2Aの露出する
領域を埋込む工程を廃止でき、単体構造の半導体装直重
の樹脂6の封止後の形成工程数を低減できる。また、前
記トランスファモールド法による樹脂6の封止の際、金
属ヘッダ2Aの他端側を/\ッダ押えピン10で挟持す
るので、金属へラダ2Aの他端側の上下の変動を低減し
、金属ヘッダ2人の表面(半導体ペレット3の搭載面)
側、裏面側の夫々の樹脂6の厚さのばらつきを低減でき
る99、二の結果、前記単体構造の半導体装置lの樹脂
6の金属ヘッダ2Aの裏面側の厚さが、厚くなることに
よる放熱性の低下を低減し、又薄くなることによる絶縁
耐圧の低下を低減できるので、単体構造の半導体装直重
の信頼性を向上できる。
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に
基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々変更可能であることは勿論である。
基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々変更可能であることは勿論である。
例えば、本発明は、MISFETをパワートランジスタ
として半導体ペレットに搭載する単体構造の半導体装置
に適用できる。
として半導体ペレットに搭載する単体構造の半導体装置
に適用できる。
また、本発明は、単体構造の半導体装置に限定されず、
トランスファモールド法で樹脂封止を行う半導体装置に
広く適用できる。
トランスファモールド法で樹脂封止を行う半導体装置に
広く適用できる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
単体構造の半導体装置において、樹脂封止後の形成工程
数を低減できると共に、放熱性や絶縁耐圧を向上し、信
頼性を向上できる。
数を低減できると共に、放熱性や絶縁耐圧を向上し、信
頼性を向上できる。
第1図は、本発明の一実施例である単体構造の半導体装
置の断面図。 第2図は、前記単体構造の半導体装置の一部の樹脂を除
いた平面図。 第3図は、前記単体構造の半導体装置の平面図、第4図
及び第5図は、前記単体構造の半導体装置の形成方法を
説明するための所定の工程における断面図である。 図中、1・・・単体構造の半導体装置、2A・・・金属
ヘッダ、2B、2C,2E・・・リード、2D、6B・
・・開口、3・・・半導体ペレット、4・・・ボンディ
ングワイヤ、5・・絶縁体、6・・・樹脂、6A・・・
取付は穴。 7・・・上型、8・・・下型、9・・・キャビティ、1
0・・・ヘッダ押えピンである。
置の断面図。 第2図は、前記単体構造の半導体装置の一部の樹脂を除
いた平面図。 第3図は、前記単体構造の半導体装置の平面図、第4図
及び第5図は、前記単体構造の半導体装置の形成方法を
説明するための所定の工程における断面図である。 図中、1・・・単体構造の半導体装置、2A・・・金属
ヘッダ、2B、2C,2E・・・リード、2D、6B・
・・開口、3・・・半導体ペレット、4・・・ボンディ
ングワイヤ、5・・絶縁体、6・・・樹脂、6A・・・
取付は穴。 7・・・上型、8・・・下型、9・・・キャビティ、1
0・・・ヘッダ押えピンである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、金属ヘッダのリードの引出し側の一端を金型で挟持
し、この金属ヘッダの他端側をヘッダ押えピンで挟持し
た状態で、前記金属ヘッダ及びその表面に搭載される半
導体ペレットをトランスファモールド法で形成する樹脂
で封止する半導体装置の形成方法において、前記金属ヘ
ッダの他端側の前記ヘッダ押えピンが当接する領域に絶
縁体を形成する工程と、この絶縁体が形成された金属ヘ
ッダを前記トランスファモールド法で形成された樹脂で
封止する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の
形成方法。 2、前記請求項1に記載された方法で金属ヘッダの他端
側に絶縁体が形成されたことを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31975290A JPH04192351A (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 半導体装置及びその形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31975290A JPH04192351A (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 半導体装置及びその形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04192351A true JPH04192351A (ja) | 1992-07-10 |
Family
ID=18113777
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31975290A Pending JPH04192351A (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 半導体装置及びその形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04192351A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0574662A3 (en) * | 1992-06-15 | 1994-05-25 | Motorola Inc | Insulated semiconductor package |
JP2003017517A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Sanyo Electric Co Ltd | 混成集積回路装置およびその製造方法 |
-
1990
- 1990-11-22 JP JP31975290A patent/JPH04192351A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0574662A3 (en) * | 1992-06-15 | 1994-05-25 | Motorola Inc | Insulated semiconductor package |
JP2003017517A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Sanyo Electric Co Ltd | 混成集積回路装置およびその製造方法 |
JP4614584B2 (ja) * | 2001-06-28 | 2011-01-19 | 三洋電機株式会社 | 混成集積回路装置およびその製造方法 |
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