JPH04192242A - 熱陰極 - Google Patents

熱陰極

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JPH04192242A
JPH04192242A JP2324101A JP32410190A JPH04192242A JP H04192242 A JPH04192242 A JP H04192242A JP 2324101 A JP2324101 A JP 2324101A JP 32410190 A JP32410190 A JP 32410190A JP H04192242 A JPH04192242 A JP H04192242A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cathode
thermal
hot
section
electron
Prior art date
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Pending
Application number
JP2324101A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Ebara
健一 江原
Junichi Matsumura
松村 純一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
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Publication date
Application filed by Denki Kagaku Kogyo KK filed Critical Denki Kagaku Kogyo KK
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Solid Thermionic Cathode (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、X線を利用する装置のX線発生用熱陰極及び
イオン注入機などの中和用電子源の熱陰極など均一の帯
状の電子流を必要とする装置に用いられる熱陰極に関す
るものである。
(従来技術) X線は真空中で高速電子流を銅、モリブデンなどの金属
ターゲットに衝突させることによって発生させる。電子
源は高温の金属から放射される熱電子か利用され、通常
タングステン・フィラメントをコイル状に加工した熱陰
極か用いられている。
(文献二日本電子機械工業会編、電波新聞社1980年
発行[総合電子部品ハンドブック」117〜124頁) また、超LSIの製造プロセスにおける不純物注入工程
においてはイオンビームを利用した技術か一般化しつつ
ある。この注入工程では不純物をイオン化し加速してウ
ェハーに注入する。この時ウェハーに注入されたイオン
によってウェハーかチャージアップするのを防止するた
めに同時に中和用として電子流も照射される。
その電子源にタングステン・フィラメントを帯状に加工
した熱陰極か用いられている。
(発明が解決しようとする課題) しかし、従来の熱陰極は必要な量の熱電子を放射させる
ためにタングステン・フィラメントの温度を高くしなけ
ればならず、タングステン・フィラメントの消耗が激し
くその寿命か短かいという問題かあった。
そのため、仕事関数か小さく低い温度で熱電子を放射て
きる六ホウ化ランタンを熱陰極として用いることか考え
られた(特開平2−204952)。
しかしなから、六ホウ化ランタンはせい性材料であるた
めに取り扱いが難かしく、熱膨張、熱収縮に対しては弱
いという欠点かあった。従って、熱膨張、熱収縮に対し
て強い構造とするため必要とする熱電子放出面形状部分
か熱歪を吸収てきるよう曲線部分の集合体で形成せざる
を得す均一な帯状(長方形)の電子流か得られないとい
う問題かあった。
本発明は上記の問題を解決し、電子源の消耗か少なくま
た、熱膨張、熱収縮に対しても強い構造でかつ均一の帯
状の電子流を発生できる熱陰極を提供することを目的と
する。
(課題を解決するための手段) すなわち、本発明は以下を要旨とするものである。
電子源かホウ化ランタンで構成されている熱陰極におい
て、該熱陰極か単独又は複数の直線部からなる熱電子放
出面と熱歪を吸収する部分から構成されてなることを特
徴とする熱陰極。
以下、さらに本発明について詳しく説明する。
六ホウ化ランタンは焼結体か用いられる。この焼結体は
純度99.5%以上の六ホウ化ランタン原料粉を用いて
、ホットプレス焼結、常圧焼結によって製造できるか、
純度99.8%以上の六ホウ化ランタン原料粉を用いて
ホットプレス成形により得られた焼結体は熱電子放出性
、耐熱衝撃性にすぐれ、その寿命は特に良好である。
本発明の熱陰極は陰極の先端面に位置する熱電子放出部
と熱歪吸収部から構成されている。熱電子は六ホウ化ラ
ンタンからなる陰極全体から放出されるか、以下、先端
面に位置し使用目的のために効率的に熱電子か放出され
る部分を熱電子放出部という。この熱電子放出部は前述
したLSI製造用イオンビームの中和用等の用途に必要
な熱電子量や必要な形状の電子流を得るために、適した
単独又は複数の、直線部からなっている。単独というの
は例えば第1図に示すように熱電子放出部1が単独の直
線部からなっていて、その直線部の中間に熱歪を吸収す
るための蛇行部を含まないような形状のものを意味する
。これに対し、複数というのは第2図に示すように直線
部lの途中に蛇行部2を含むような場合を意味する。直
線部とは必ずしも完全な直線を意味するものではなく、
多少アーチ状でもよい。
その電子放出部は放出面か平坦面であることか好ましい
。従って、直線部の断面形状は正方形又は長方形か好ま
しいか、へ角形、楕円形のような形状であってもよく、
帯状の熱電子を放射てきればこれらの形状に限定される
ものではない。
本発明において重要な構成をなす熱歪を吸収する部分と
は熱電子放出部をはじめ熱陰極に生じる熱歪を吸収し、
陰極を構成している六ホウ化ランタン焼結体が破損する
のを防ぐ働きをするので、使用方法に応じて、種々の形
状をとることができる。
たとえば、熱電子放出部から導通のための金属端子まで
の距離か10mm以下の場合は六ホウ化ランタンフィラ
メントの形状は第1図に示すとおり、熱電子放出部1で
ある直線部の両端に平行して熱歪吸収部である蛇行部2
を設けた形状にしたものか適している。又熱電子放出部
か20[[Lln以上の場合には第2図に示すとおり、
熱電子放出部1を複数の直線部に分け、その直線部の間
に垂直方向に熱歪吸収部である蛇行部分2を設けた六ホ
ウ化ランタンフィラメント形状にすることによって、よ
り熱膨張、熱収縮に対して強くなり、ヒートサイクル(
熱膨張、熱収縮のくり返しサイクル)か多い場合、ある
いは激しい場合に適している。
また熱電子放出部の長さが短い場合にはその途中に垂直
方向に蛇行部分を設けても設けなくてもどちらでもよい
か第5図に示すように六ホウ化ランタンフィラメント形
状は熱電子放出部lの両端に垂直方向に蛇行部2を設け
た形状か適している。
熱電子放出部は蛇行していると電子流の均一性か悪(な
るのて、できるだけ直線部分か多い方か望ましい。
(実施例1) 第2図は、焼結体の六ホウ化ランタンを電子源とし、装
置に簡単に取り付は可能なように組立てた熱陰極である
。六ホウ化ランタンフィラメントは六ホウ化ランタンの
焼結体の厚さ1.5−の板をワイヤーカット放電加工法
により切断し、熱電子放出部lと熱歪吸収部(蛇行部)
2を形成したものである。六ホウ化ランタンフィラメン
トlの脚の部分を金属電極3A、 3Bにネジ4A、 
4Bを用いて固定した。なお、あらかじめ金属電極3A
と3Bは碍子6に金属棒5A、5Bを用いて固定してお
いた。
この熱陰極を第4図に示す通りイオン注入装置の中和用
電子源装置に熱電子放出部の直線部分かターゲット7に
向かうように装着した。
この中和用電子源装置を排気口8から5X10−7To
rrに排気後、上記六ホウ化ランタンフィラメントに電
流32A S電圧2.1■を入力し、温度1450°C
に加熱した。熱電子放出部l (面積26mm x 1
.5 mm )から電子流9を300mA引き出し、タ
ーゲット7に照射し、2次電子流10(約100mA)
を発生させ、その2次電子流10をイオンビーム11と
同時に試料12に照射し、チャージアップを防止した。
この熱陰極は3000時間使用可能であった。また、電
源の0N−OFFを400回以上くり返してもフィラメ
ントは断線することはなかった。
(実施例2) 六ホウ化ランタンの焼結体の厚さ1.0mmの板をワイ
ヤーカット放電加工法により切断して断面1、0mm 
X 0.9mmになるようにした。この六ホウ化ランタ
ンフィラメントを第5図(平面図)及び第6図(正面図
)に示すように組立てた。第6図において六ホウ化ラン
タンフィラメントの脚の部分を金属電極13A、13B
にネジ4A、4Bを用いて固定した。なお、あらかじめ
金属電極13Aと13Bは碍子6にネジ14A、 14
Bを用いて固定しておいた。
この熱陰極を第7図に示すように六ホウ化ランタンフィ
ラメントの熱電子放出部1をX線管のターゲット15に
向けてX線管に固定した。
X線管を排気口8からl x 1O−7Torrに排気
後、上記熱陰極に電流24A1電圧3.1vを入力し、
1550°Cに加熱し、熱電子放出部lから電子流9を
450mA引出しウェネルト電極16で電子流を集束さ
せてターゲット15に照射し、X線流17を発生させた
この熱陰極は2500時間使用可能であった。X線管の
使用中、電子流9の均一性は良く、六ホウ化ランタンの
蒸発は極めて少なく電源の0N−OFFを300回以上
くり返してもフィラメントは断線することはなかった。
(発明の効果) 以上説明したようにこの発明は、熱陰極に六ホウ化ラン
タンを利用することにより、熱陰極の長寿命化が達成で
き、しかも必要とする電子流を熱電子放出部を直線にす
ることによってより均一性のよい帯状の電子流を形成す
ることかてき、また熱電子放出部と熱歪を吸収する蛇行
部から構成した構造にすることて熱膨張、熱収縮に対し
ても強くなり、均一性のよい帯状の電子流を必要とする
電子源に適したものとなる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図は本発明の実施例を示す。第1
図、第2図は正面図、第3図は第2図で示すものの平面
図である。第4図はイオン注入装置の中和用電子源の略
図であり、本発明の熱陰極の使用方法を示すものである
。第5図、第6図はそれぞれ本発明の別の実施例の平面
図と正面図である。第7図はX線管の略図であり、本発
明の熱陰極の使用方法を示すものである。 l−六ホウ化ランタン熱電子放出部 2−六ホウ化ランタン熱歪吸収部(蛇行部)3A、3B
 −一金属電極    4A、 4B −ネジ5A、5
B−金属棒     6 碍子7−ターゲット    
 8.排気口 9 電子流       10−2次電子流11  イ
オンビーム    12−試料13A、 13B  −
金属電極   14A、 14B  ネジ15−ターゲ
ット     16  ウェネルト電極17−X線流 特許出願人 電気化学工業株式会社 第1図 〜/1 第2図 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 電子源が六ホウ化ランタンで構成されている熱陰極にお
    いて、該熱陰極が単独又は複数の直線部からなる熱電子
    放出部と熱歪を吸収する部分から構成されてなることを
    特徴とする熱陰極。
JP2324101A 1990-11-27 1990-11-27 熱陰極 Pending JPH04192242A (ja)

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JP2324101A JPH04192242A (ja) 1990-11-27 1990-11-27 熱陰極

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JP2324101A JPH04192242A (ja) 1990-11-27 1990-11-27 熱陰極

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011043353A1 (ja) * 2009-10-08 2011-04-14 株式会社 アルバック 電子銃用フィラメント及びその製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011043353A1 (ja) * 2009-10-08 2011-04-14 株式会社 アルバック 電子銃用フィラメント及びその製造方法
CN102576635A (zh) * 2009-10-08 2012-07-11 株式会社爱发科 电子枪用灯丝及其制造方法
JP5236814B2 (ja) * 2009-10-08 2013-07-17 株式会社アルバック 電子銃用フィラメント及びその製造方法
KR101372915B1 (ko) * 2009-10-08 2014-03-11 가부시키가이샤 알박 전자총용 필라멘트 및 이의 제조 방법
TWI459434B (zh) * 2009-10-08 2014-11-01 Ulvac Inc 電子槍用的燈絲及其製造方法

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